WO2014020927A1 - マスクの構造 - Google Patents

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pyroelectric
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mask
pyroelectric sensor
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沙知 南
修平 宮永
敬 村田
勢至 宮澤
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    • G02B5/208—Filters for use with infrared or ultraviolet radiation, e.g. for separating visible light from infrared and/or ultraviolet radiation

Definitions

  • the present invention relates to a structure of a mask applied to a pyroelectric sensor.
  • the present invention relates to a mask structure that can be applied to a detection surface of a dual-type pyroelectric sensor in order to increase detection sensitivity of a moving object.
  • Patent Document 1 is known as a conventional technique for applying a mask to a pyroelectric sensor.
  • the detection area is set and adjusted by applying a mask to the lens of the pyroelectric sensor.
  • the pyroelectric sensor uses the pyroelectric effect of an element called a pyroelectric material (hereinafter referred to as “pyroelectric element”) such as ferroelectric ceramics.
  • pyroelectric element such as ferroelectric ceramics.
  • the pyroelectric effect is a slight change in thermal energy such as infrared rays emitted from animals, human bodies, etc. (hereinafter simply referred to as “human bodies, etc.”). Electric charges are induced on the surface of the pyroelectric body, generating electromotive force. It is a phenomenon.
  • the moving body includes a human body that emits infrared rays.
  • the operation principle of the pyroelectric element 91 will be described with reference to FIGS.
  • the polarization of the pyroelectric element 91 subjected to the polarization treatment is stable at a constant temperature T [° C.].
  • T constant temperature
  • positive and negative floating charges are attracted to each polarization (minus surface and plus surface), and there is no potential difference between the upper surface and the lower surface of the pyroelectric element 91.
  • FIG. 3 is a circuit diagram of the dual type pyroelectric sensor 90.
  • two pyroelectric elements 91R and 91L having different polarities are arranged on the detection surface.
  • Two pyroelectric elements 91R and 91L are connected in series with opposite polarities.
  • the difference between the outputs of the two pyroelectric elements 91R and 91L is used as the output of the pyroelectric sensor 90. Therefore, it has the following characteristics. (1) When the moving body moves in a direction (arrangement direction) across the two pyroelectric elements 91R and 91L, an alternating voltage change is sequentially generated in the + and-directions.
  • the output voltage of the sensor circuit can be increased.
  • external light such as sunlight is input to the two pyroelectric elements 91R and 91L at the same time, since they are connected in opposite polarities, they cancel each other and do not generate an output. For this reason, malfunction can be prevented.
  • it is strong against environmental changes such as vibration and temperature.
  • Such a dual type pyroelectric sensor 90 is generally used in combination with a highly condensing Fresnel lens.
  • a product that has been downsized in combination with a mask having an opening pattern such as punching metal instead of a Fresnel lens has been commercialized.
  • FIG. 4 is an external view of the mask 93 attached to the lower part of the liquid crystal display
  • FIG. 5 is a schematic view of an opening pattern of the mask 93
  • FIG. 6 is a dead zone 82 (mask) when the moving body 81 crosses the pyroelectric sensor 80.
  • 7A shows the positional relationship between the dead zone 82 and the two pyroelectric elements 91R and 91L when the moving body 81 is located in front of the pyroelectric sensor 80.
  • FIG. 7B shows the positional relationship between the moving body 81 and the pyroelectric element.
  • FIG. 7C shows the positional relationship between the dead zone 82 and the two pyroelectric elements 91R and 91L when moved in the x direction (left direction) with respect to the sensor 80.
  • FIG. 7C shows the movement of the dead zone 82 from FIG. 7A to FIG. Shows the output image.
  • FIG. 6 FIG. 7A and FIG. 7B, for simplification, the opening pattern and the irradiated portion are not shown in a circular shape but are displayed as a region where the opening pattern and the irradiated portion exist.
  • the detection sensitivity to the movement of the moving body 81 can be increased by arbitrarily creating the dead zone 82 where the infrared rays do not hit the two pyroelectric elements 91R and 91L by the mask. Assuming that the area of each pyroelectric element 91R, 91L is Total 90% for convenience, in FIG. 7B, the irradiation range of the pyroelectric element 91R increases by 30%, the irradiation range of the pyroelectric element 91L decreases by 30%, and the difference is 60 %. By using this difference, the detection sensitivity can be increased.
  • a liquid crystal display may be used in a landscape (the long side is horizontal and the short side is vertical) or in a portrait (the short side is horizontal and the long side is vertical).
  • a landscape the long side is horizontal and the short side is vertical
  • a portrait the short side is horizontal and the long side is vertical.
  • the present invention provides a mask structure for a dual-type pyroelectric sensor capable of accurately detecting the movement of a moving object in the direction perpendicular to the arrangement direction of the two pyroelectric elements. Objective.
  • the structure of the mask applied to the detection surface of the dual-type pyroelectric sensor in order to increase the detection sensitivity of the moving object is a sheet portion that blocks infrared rays. And an opening pattern made of through holes formed in the sheet portion.
  • the arrangement direction of the two pyroelectric elements of the pyroelectric sensor on the detection surface is defined as the x direction
  • the direction perpendicular to the x direction on the detection surface is defined as the y direction
  • the movement of the moving body in each of the x direction and the y direction is The opening pattern is formed so that the ratio of the infrared irradiation range to the two pyroelectric elements changes.
  • 7A shows the positional relationship between the dead zone and the two pyroelectric elements when the moving object is located in front of the pyroelectric sensor
  • FIG. 7B shows the case where the moving object moves in the x direction (left direction) with respect to the pyroelectric sensor.
  • FIG. 7C shows the positional relationship between the dead zone and the two pyroelectric elements
  • FIG. 7C shows the output image of the dead zone moving from FIG. 7A to FIG. 7B
  • FIG. 8A is an external view of a mask according to the first embodiment
  • FIG. 8B is a diagram showing a dimension example of an opening pattern of the mask. Schematic of the structure containing the opening pattern of the mask which concerns on 1st embodiment.
  • FIG. 10A shows the positional relationship between the dead zone of the opening pattern of the mask and the two pyroelectric elements according to the first embodiment when the moving object is located in front of the pyroelectric sensor
  • FIG. 10A shows the positional relationship between the dead zone of the opening pattern of the mask and the two pyroelectric elements according to the first embodiment when the moving object is located in front of the pyroelectric sensor
  • FIG. 10A shows the positional relationship between the dead zone of the opening pattern
  • FIG. 10B shows the moving object with respect to the pyroelectric sensor.
  • FIG. 10C shows the positional relationship between the dead zone of the opening pattern of the mask according to the first embodiment and the two pyroelectric elements when moving in the x direction (left direction).
  • FIG. 10C shows the positional relationship between the dead zone of the opening pattern of the mask according to the first embodiment and the two pyroelectric elements when moving in the x direction (left direction).
  • FIG. 13A shows the positional relationship between the dead zone of the opening pattern 112A and the two pyroelectric elements when the moving object is located in front of the pyroelectric sensor
  • FIG. 13B shows the x direction (left direction) with respect to the pyroelectric sensor
  • FIG. 13C shows the insensitivity of the opening pattern 112A when the moving object moves in the y direction (upward) with respect to the pyroelectric sensor.
  • 15A shows the positional relationship between the dead zone of the opening pattern 112B and the two pyroelectric elements when the moving object is located in front of the pyroelectric sensor, and FIG.
  • FIG. 15B shows the x direction (left direction) of the moving object with respect to the pyroelectric sensor.
  • FIG. 15C shows the insensitiveness of the aperture pattern 112B when the moving object moves in the y direction (upward) with respect to the pyroelectric sensor.
  • the figure which shows the schematic of the structure containing 112 C of opening patterns. 17A shows the positional relationship between the dead zone of the opening pattern 112C and the two pyroelectric elements when the moving object is located in front of the pyroelectric sensor
  • FIG. 17B shows the x direction (left direction) of the moving object with respect to the pyroelectric sensor.
  • 17C shows the positional relationship between the dead zone of the opening pattern 112C and the two pyroelectric elements when the moving body moves in the y direction (upward) with respect to the pyroelectric sensor.
  • 19A shows the positional relationship between the dead zone of the opening pattern 112D and the two pyroelectric elements when the moving object is located in front of the pyroelectric sensor
  • FIG. 19B shows the x direction (left direction) of the moving object with respect to the pyroelectric sensor.
  • FIG. 19C shows the positional relationship between the insensitive zone of the opening pattern 112D and the two pyroelectric elements when moving to the position, and FIG. 19C shows the insensitiveness of the opening pattern 112D when the moving object moves in the y direction (upward) with respect to the pyroelectric sensor.
  • 20A and 20B show a modification example in which the plurality of through holes forming the opening pattern are not circular, and FIGS. 20C and 20D show that the plurality of through holes forming the opening pattern are not four or more but two focus holes.
  • FIG. 20F show a modification when the plurality of through holes forming the opening pattern are not point-symmetric with respect to the center of the pyroelectric sensor, and FIG. 20G shows an opening.
  • the figure which shows the modification in case the number of the through-holes which form a pattern is one.
  • FIG. 8A is an external view of the mask 110
  • FIG. 8B is an example of dimensions of the opening pattern 112 of the mask 110.
  • the mask 110 includes a sheet portion 111 that blocks infrared rays, an opening pattern 112 including a plurality of through holes formed in the sheet portion 111, and an attachment portion 113.
  • the structure of the mask includes a sheet portion 111 and an opening pattern 112.
  • the mask 110 is formed by punching a metal plate (punching metal).
  • the arrangement direction of the two pyroelectric elements of the pyroelectric sensor is the x direction on the detection surface of the pyroelectric sensor, and the direction perpendicular to the x direction is the y direction on the detection surface.
  • the aperture pattern 112 is provided with a sufficient inclination with respect to the conventional aperture pattern, so that the ratio of the irradiation range of the two pyroelectric elements 91R and 91L changes with respect to the movement of the moving body in each of the x direction and the y direction. It is formed as follows.
  • the ratio may not change.
  • the center of the pyroelectric sensor means a point where the pyroelectric element 91R and the pyroelectric element 91L arranged on the detection surface are point-symmetric, and “the opening pattern is the center of the pyroelectric sensor”.
  • the opening pattern is line symmetric with respect to the x ′ axis and the y ′ axis slid to the formation surface of the opening pattern in the z direction.
  • the ratio of the irradiation range of the two pyroelectric elements 91R and 91L does not change with respect to the movement of the moving body in the y direction.
  • the opening pattern 112 is formed to be asymmetric with respect to the x-direction axis and the y-direction axis passing through the center of the pyroelectric sensor. Further, the opening pattern is formed so that the area ratio of the opening pattern divided into two by the x-direction axis (x′-axis) and the y-direction axis (y′-axis) is the same.
  • the opening pattern is point-symmetric with respect to the center of the pyroelectric sensor.
  • point symmetry with respect to the center of the pyroelectric sensor means “point symmetry with respect to the point o ′ that the center of the pyroelectric sensor is slid in the z direction to the opening pattern formation surface”.
  • the opening pattern 112 includes eight through holes 112-1 to 112-8.
  • the three through holes 112-1 to 112-3 constitute a first through hole row extending in the y direction
  • the three through holes 112-5 to 112-7 constitute a second through hole row extending in the y direction.
  • the through hole 112-4 is disposed on the side of the first through hole row where the second through hole row is not provided.
  • the through hole 112-8 is disposed on the side of the second through hole row where the first through hole row is not provided.
  • the two through holes 112-2 and 112-7 form a row extending in the x direction
  • the two through holes 112-3 and 112-6 form a row extending in the x direction.
  • the three through holes 112-4, 112-1, and 112-2 are arranged at the positions of the vertices of an equilateral triangle.
  • the three through holes 112-8, 112-5 and 112-6 are arranged at the positions of the vertices of the equilateral triangle.
  • the three through holes 112-1 to 112-3 are arranged at equal intervals in order and constitute a first through hole row extending in the y direction.
  • the three through holes 112-5 to 112-7 are formed so as to be point-symmetric with respect to the center of the pyroelectric sensor, and constitute the second through hole row. To do.
  • the through holes 112-2 and 112-7 are adjacent in the x direction, and the through holes 112-3 and 112-6 are adjacent in the x direction.
  • the through hole 112-4 is formed outside the first through hole row when viewed from the center of the pyroelectric sensor.
  • the three through holes 112-4, 112-1, and 112-2 are arranged at the positions of the vertices of the regular triangle.
  • the through hole 112-8 is formed to be symmetric with respect to the through hole 112-4 with respect to the center of the pyroelectric sensor.
  • the distance between the first through hole row and the second through hole row in the x direction is 0.5 mm
  • the diameter of each through hole is 0.5 mm
  • the distance between the centers of the through holes forming the apex of the equilateral triangle is 0. 9 mm.
  • Pyroelectric elements include PZT (lead zirconate titanate) pyroelectric ceramics.
  • PZT pyroelectric ceramics are ceramics in a solid solution of lead titanate (PvTiO3) and lead zirconate (PbZrO3).
  • FIG. 9 shows a schematic diagram of the structure including the opening pattern 112.
  • FIG. 10 shows the position of the dead zone 102 caused by the opening pattern 112
  • FIG. 10A shows the positional relationship between the dead zone 102 and the two pyroelectric elements 91R and 91L when the moving object is located in front of the pyroelectric sensor.
  • 10B shows the positional relationship between the dead zone 102 and the two pyroelectric elements 91R and 91L when the moving object moves in the x direction (left direction) with respect to the pyroelectric sensor
  • FIG. 10C shows the moving object with respect to the pyroelectric sensor.
  • the positional relationship between the dead zone 102 and the two pyroelectric elements 91R and 91L when moved in the y direction (upward) is shown.
  • the irradiated part is displayed not as a circular shape but as an area where the irradiated part exists.
  • the irradiation range of the pyroelectric element 91R is increased by 22.5%
  • the irradiation range of the pyroelectric element 91L is decreased by 30%
  • the difference is 52.5%
  • the irradiation range of the pyroelectric element 91R is increased by 30%
  • the irradiation range of the pyroelectric element 91L is decreased by 30%, and the difference is 60%.
  • FIG. 11 are values when the dead zone changes in an ideal shape and the moving body moves at an ideal distance as shown in FIG. 10 and FIGS. It is a value exemplified for conceptually explaining the relationship between the opening pattern and its dead zone, and does not necessarily match the actual irradiation range ratio. Therefore, the dimensions shown in FIG. 8B are not necessarily the values shown in FIG. Also, in designing the actual mask structure, assuming that the dead zone changes ideally and the moving body moves, FIG. 9 and FIGS. 12, 14, and FIG. An opening pattern as shown in FIGS. 16 and 18 is designed. For example, when a good balance between the sensitivity in the x direction and the y direction is required, an opening pattern as shown in FIG. 9 is designed.
  • the opening pattern is not limited to the opening pattern 112 described above, and two pyroelectric elements are provided for moving the moving body in each of the x direction and the y direction by providing an inclination with respect to the conventional opening pattern. It is only necessary to form an opening pattern so that the ratios of the irradiation ranges of 91R and 91L are changed, thereby making it possible to detect the movement of the moving body in the x direction and the y direction. For example, it is not necessary to be symmetric with respect to the axis in the x direction and the axis in the y direction passing through the center of the pyroelectric sensor.
  • FIG. 14, FIG. 16 and FIG. 18 show schematic views of structures including opening patterns 112A, 112B, 112C and 112D of the mask 110, respectively.
  • FIG. 13, FIG. 15, FIG. 17, and FIG. 19 show the positions of the dead zones 102A, 102B, 102C, and 102D with respect to the position of the moving object, respectively.
  • the dead zones 102A, 102B, 102C, and 102D are generated by the opening patterns 112A, 112B, 112C, and 112D, respectively.
  • FIG. 13A, FIG. 15A, FIG. 17A and FIG. 19A show the positional relationship between the dead zones 102A, 102B, 102C and 102D and the two pyroelectric elements 91R and 91L when the moving body is located in front of the pyroelectric sensor. .
  • FIG. 19B show dead zones 102A, 102B, 102C, and 102D and two pyroelectric elements 91R when the moving body moves in the x direction (left direction) with respect to the pyroelectric sensor.
  • the positional relationship with 91L is shown.
  • FIG. 13C, FIG. 15C, FIG. 17C, and FIG. 19C show dead zones 102A, 102B, 102C, and 102D2 and two pyroelectric elements 91R when the moving body moves in the y direction (upward) with respect to the pyroelectric sensor.
  • the positional relationship with 91L is shown.
  • the pyroelectric sensor detects the movement of the moving body in the x and y directions in any case. You can see that In particular, when it is desired to increase the detection sensitivity in the y direction, the opening pattern 112C is effective. Further, when it is desired to maintain the same level of detection sensitivity as that of the related art with respect to the movement of the moving body in the x direction, the opening pattern 112D is used, or the pyroelectric elements 91R and 91L and the opening pattern 112 are rotated by 90 degrees. It is good to use. When the detection sensitivity in both directions is combined, the opening pattern 112 is the most excellent.
  • the plurality of through holes forming the opening pattern are not necessarily circular and may be appropriately changed. For example, a modification is shown in FIGS. 20A and 20B.
  • the number of through holes forming the opening pattern is not necessarily four or more, and may correspond to two pyroelectric elements, and may be changed as appropriate. For example, a modification is shown in FIGS. 20C and 20D.
  • the plurality of through holes forming the opening pattern are not necessarily point-symmetric with respect to the center of the pyroelectric sensor, and may be appropriately changed. For example, a modification is shown in FIGS. 20E and 20F.
  • the through holes forming the opening pattern do not necessarily need to be composed of a plurality, but may be composed of one through hole, and may be changed as appropriate.
  • FIG. 20G shows a modification. In short, it is only necessary to form the opening pattern so that the ratio of the infrared irradiation range to the two pyroelectric elements changes with respect to the movement of the moving body in each of the x direction and the y direction.
  • the through-hole forming the opening pattern is not limited as long as it penetrates the sheet portion 111 and allows infrared rays to pass therethrough, and is not necessarily inside the mask 110 (the side on which the two pyroelectric elements are arranged). ) And the outside need not communicate.
  • a film or the like that transmits infrared rays may be bonded to the sheet portion to close the through hole.
  • the mask 110 is formed by punching a metal plate. However, infrared rays are transmitted so that an opening pattern including through holes is formed in a film that transmits infrared rays. You may print the sheet

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Abstract

【課題】二つの焦電素子の配列方向及び配列方向に対し垂直の方向において、動体の動きを精度良く検知することができるデュアルタイプの焦電センサのためのマスクの構造を提供する。 【解決手段】動体の検知感度を高めるためにデュアルタイプの焦電センサの検知面にかけられるマスクの構造は、赤外線を遮断するシート部と、そのシート部に形成された貫通孔からなる開口パターンとを含む。検知面における焦電センサの二つの焦電素子の配設方向をｘ方向とし、検知面におけるｘ方向に垂直の方向をｙ方向とし、ｘ方向及びｙ方向それぞれの動体の動きに対して、二つの焦電素子に対する赤外線の照射範囲の割合が変化するように開口パターンが形成されている。

Description

マスクの構造
　本発明は、焦電センサにかけられるマスクの構造に関する。特に、動体の検知感度を高めるためにデュアルタイプの焦電センサの検知面にかけられるマスクの構造に関する。
　焦電センサにマスクをかける従来技術として特許文献１が知られている。特許文献１では焦電センサのレンズにマスクをかけることで検知エリアを設定調節している。
　焦電センサは、強誘電体セラミックスのような焦電体と言われる素子（以下「焦電素子」という）の焦電効果を利用する。焦電効果とは、動物や人体等（以下、単に「人体等」という）が放射する赤外線のような僅かな熱エネルギーの変化で、焦電体の表面に電荷が誘起され、起電力を発生する現象である。なお、動体とは、赤外線を放射する人体等を含む。
　図１及び図２を用いて焦電素子９１の動作原理を説明する。図１に示すように、分極処理を施した焦電素子９１の分極は一定の温度Ｔ［℃］において安定している。この状態では、静電気の性質により、各分極（マイナス面及びプラス面）にはそれぞれ正及び負の浮遊電荷が吸引され、焦電素子９１の上面と下面との間に電位差はない。
　焦電素子９１の赤外線が入射する側には図示しない黒化膜があり、赤外線が入射すると、黒化膜でその赤外線エネルギーを熱エネルギーに変換し、焦電素子９１に温度変化ΔＴ［℃］を生じさせる。焦電素子９１の分極には温度依存性があるため、図２のように、温度変化によって焦電素子９１内部の分極の大きさが変化する。このとき、浮遊電荷による表面電荷は、分極の変化ほど早く温度変化に対応できないので、素子表面では、一時的に分極変化した分だけ電荷が存在する。この電荷による起電力によって電流が流れる。
　次にデュアルタイプの焦電センサ９０について説明する。図３はデュアルタイプの焦電センサ９０の回路図を示す。デュアルタイプの焦電センサ９０は、極性の異なる二つの焦電素子９１Ｒ，９１Ｌが検知面に配置される。二つの焦電素子９１Ｒ，９１Ｌが逆極性で直列に接続されている。二つの焦電素子９１Ｒ，９１Ｌの出力の差分を焦電センサ９０の出力とする。そのため、以下のような特徴がある。（１）二つの焦電素子９１Ｒ，９１Ｌを横切る方向（配設方向）に動体が移動すると、順次、＋、－の方向に交流的な電圧変化が発生する。このため、センサ回路の出力電圧が大きくとれる。（２）太陽光等の外光が二つの焦電素子９１Ｒ，９１Ｌに同時に入力した場合、逆極性に接続されているため、互いに打ち消し合って出力を発生しない。このため、誤作動を防げる。（３）その他、振動や温度等の周囲の環境変化に対して強い。
　このようなデュアルタイプの焦電センサ９０は、集光性の高いフレネルレンズと組合せて使用されることが一般的である。しかし、比較的近距離の検知では、フレネルレンズの代わりにパンチングメタルのような開口パターンを持つマスクと組合せて小型化を実現したものが製品化されている。
　図４は液晶ディスプレイの下部に取り付けられたマスク９３の外観図を、図５はマスク９３の開口パターンの概略図を、図６は動体８１が焦電センサ８０を横切る場合の不感地帯８２（マスクの影）の変化を、図７Ａは動体８１が焦電センサ８０の正面に位置する場合の不感地帯８２と二つの焦電素子９１Ｒ，９１Ｌとの位置関係を、図７Ｂは動体８１が焦電センサ８０に対してｘ方向（左方向）に移動した場合の不感地帯８２と二つの焦電素子９１Ｒ，９１Ｌとの位置関係を、図７Ｃは図７Ａから図７Ｂへの不感地帯８２の移動による出力のイメージを示す。ただし、図６、図７Ａ及び図７Ｂにおいて、簡略化のため、開口パターン及び照射部分を円形状ではなく、開口パターン及び照射部分が存在する領域として表示している。
　このようにマスクにより二つの焦電素子９１Ｒ，９１Ｌに赤外線が当たらない不感地帯８２を任意に作り出すことで動体８１の動きに対する検知感度を高めることができることが知られている。各焦電素子９１Ｒ，９１Ｌの面積を便宜上Ｔｏｔａｌ９０％とすると、図７Ｂにおいて、焦電素子９１Ｒの照射範囲が３０％増加し、焦電素子９１Ｌの照射範囲が３０％減少し、その差分は６０％となる。この差分を用いることで検知感度を高めることができる。
特開平１０－１６２２５６号公報
　しかしながら、従来技術は、ｙ方向に動体が動いた場合、図７Ｄに示すように、二つの焦電素子９１Ｒ，９１Ｌに照射される赤外線の量は変わらないため、動体の動きを検知できない。つまり、二つの焦電素子９１Ｒ，９１Ｌの配列方向（ｘ方向）に対して、動体の動きを検知することはできるが、配列方向に対し垂直の方向（ｙ方向）に対する動体の動きを検知することはできない。
　例えば、液晶ディスプレイは、ランドスケープ（長辺を水平に、短辺を垂直にした状態）で利用することもあれば、ポートレート（短辺を水平に、長辺を垂直にした状態）で利用することもある。液晶ディスプレイが何れの状態で利用されていても、利用者の動きを精度良く検知しようと思うと、二つの焦電センサ（ランドスケープ用の焦電センサとポートレート用の焦電センサ）を取り付けるか、もしくは、機械的に焦電センサを９０度回転させるための機構等を取り付ける必要がある。
　本発明は、二つの焦電素子の配列方向及び配列方向に対し垂直の方向において、動体の動きを精度良く検知することができるデュアルタイプの焦電センサのためのマスクの構造を提供することを目的とする。
　上記の課題を解決するために、本発明の第一の態様によれば、動体の検知感度を高めるためにデュアルタイプの焦電センサの検知面にかけられるマスクの構造は、赤外線を遮断するシート部と、そのシート部に形成された貫通孔からなる開口パターンとを含む。検知面における焦電センサの二つの焦電素子の配設方向をｘ方向とし、検知面におけるｘ方向に垂直の方向をｙ方向とし、ｘ方向及びｙ方向それぞれの動体の動きに対して、二つの焦電素子に対する赤外線の照射範囲の割合が変化するように開口パターンが形成されている。
　本発明に係るマスクの構造を利用すれば、デュアルタイプの焦電センサで二つの焦電素子の配列方向及び配列方向に対し垂直の方向において、動体の動きを精度良く検知することができるという効果を奏する。
一定の温度Ｔ［℃］における焦電素子の状態を示す図。 温度変化によって焦電素子内部の分極の大きさが変化した状態を示す図。 デュアルタイプの焦電センサの回路図。 液晶ディスプレイの下部に取り付けられたマスクの外観図。 マスクの開口パターンの概略図。 動体が焦電センサを横切る場合の不感地帯の変化を示す図。 図７Ａは動体が焦電センサの正面に位置する場合の不感地帯と二つの焦電素子との位置関係を、図７Ｂは動体が焦電センサに対してｘ方向（左方向）に移動した場合の不感地帯と二つの焦電素子との位置関係を、図７Ｃは図７Ａから図７Ｂへの不感地帯の移動による出力のイメージを、図７Ｄは動体が焦電センサに対してｙ方向（上方向）に移動した場合の不感地帯と二つの焦電素子との位置関係を示す図 図８Ａは第一実施形態に係るマスクの外観図を、図８Ｂはマスクの開口パターンの寸法例を示す図。 第一実施形態に係るマスクの開口パターンを含む構造の概略図。 図１０Ａは動体が焦電センサの正面に位置する場合の第一実施形態に係るマスクの開口パターンの不感地帯と二つの焦電素子との位置関係を、図１０Ｂは動体が焦電センサに対してｘ方向（左方向）に移動した場合の第一実施形態に係るマスクの開口パターンの不感地帯と二つの焦電素子との位置関係を、図１０Ｃは動体が焦電センサに対してｙ方向（上方向）に移動した場合の第一実施形態に係るマスクの開口パターンの不感地帯と二つの焦電素子との位置関係を示す図。 各開口パターンにおける動体の移動に伴う照射範囲の変化を示す図。 開口パターン１１２Ａを含む構造の概略図を示す図。 図１３Ａは動体が焦電センサの正面に位置する場合の開口パターン１１２Ａの不感地帯と二つの焦電素子との位置関係を、図１３Ｂは動体が焦電センサに対してｘ方向（左方向）に移動した場合の開口パターン１１２Ａの不感地帯と二つの焦電素子との位置関係を、図１３Ｃは動体が焦電センサに対してｙ方向（上方向）に移動した場合の開口パターン１１２Ａの不感地帯と二つの焦電素子との位置関係を示す図。 開口パターン１１２Ｂを含む構造の概略図を示す図。 図１５Ａは動体が焦電センサの正面に位置する場合の開口パターン１１２Ｂの不感地帯と二つの焦電素子との位置関係を、図１５Ｂは動体が焦電センサに対してｘ方向（左方向）に移動した場合の開口パターン１１２Ｂの不感地帯と二つの焦電素子との位置関係を、図１５Ｃは動体が焦電センサに対してｙ方向（上方向）に移動した場合の開口パターン１１２Ｂの不感地帯と二つの焦電素子との位置関係を示す図。 開口パターン１１２Ｃを含む構造の概略図を示す図。 図１７Ａは動体が焦電センサの正面に位置する場合の開口パターン１１２Ｃの不感地帯と二つの焦電素子との位置関係を、図１７Ｂは動体が焦電センサに対してｘ方向（左方向）に移動した場合の開口パターン１１２Ｃの不感地帯と二つの焦電素子との位置関係を、図１７Ｃは動体が焦電センサに対してｙ方向（上方向）に移動した場合の開口パターン１１２Ｃの不感地帯と二つの焦電素子との位置関係を示す図。 開口パターン１１２Ｄを含む構造の概略図を示す図。 図１９Ａは動体が焦電センサの正面に位置する場合の開口パターン１１２Ｄの不感地帯と二つの焦電素子との位置関係を、図１９Ｂは動体が焦電センサに対してｘ方向（左方向）に移動した場合の開口パターン１１２Ｄの不感地帯と二つの焦電素子との位置関係を、図１９Ｃは動体が焦電センサに対してｙ方向（上方向）に移動した場合の開口パターン１１２Ｄの不感地帯と二つの焦電素子との位置関係を示す図。 図２０Ａ及び図２０Ｂは開口パターンを形成する複数の貫通孔が円形状でない場合の変形例を、図２０Ｃ及び図２０Ｄは開口パターンを形成する複数の貫通孔が四つ以上でなく、二つの焦電素子に対応するものである場合の変形例を、図２０Ｅ及び図２０Ｆは開口パターンを形成する複数の貫通孔が焦電センサの中心に対し点対称でない場合の変形例を、図２０Ｇは開口パターンを形成する貫通孔が一つである場合の変形例を示す図。
　以下、本発明の実施形態について説明する。なお、以下の説明に用いる図面では、同じ機能を持つ構成部には同一の符号を記し、重複説明を省略する。
＜第一実施形態＞
　第一実施形態に係るマスク１１０の構造を含む焦電センサについて説明する。
　図８Ａはマスク１１０の外観図を、図８Ｂはマスク１１０の開口パターン１１２の寸法例を示す。
　マスク１１０は、赤外線を遮断するシート部１１１と、そのシート部１１１に形成された複数の貫通孔からなる開口パターン１１２と取付部１１３とからなる。マスクの構造は、シート部１１１と開口パターン１１２とを含む。
　例えば、マスク１１０は、金属板に対して打ち抜き加工を施すことによって成型される（パンチングメタル）。
　焦電センサの検知面上において焦電センサの二つの焦電素子の配設方向をｘ方向とし、検知面上においてｘ方向に垂直の方向をｙ方向とする。開口パターン１１２は、従来の開口パターンに対して十分な傾斜を設けることにより、ｘ方向及びｙ方向それぞれの動体の動きに対して、二つの焦電素子９１Ｒ，９１Ｌの照射範囲の割合が変化するように形成されている。
　開口パターンが、焦電センサの中心を通るｘ方向の軸及びｙ方向の軸に関して対称である場合、ｘ方向またはｙ方向の動体の動きに対して二つの焦電素子９１Ｒ，９１Ｌの照射範囲の割合が変化しない場合がある。ここで「焦電センサの中心」とは検知面上に配置された焦電素子９１Ｒと焦電素子９１Ｌとが点対称となるような点を意味し、「開口パターンが、焦電センサの中心を通るｘ方向の軸及びｙ方向の軸に関して対称である」とは「ｘ方向及びｙ方向に対して垂直の方向をｚ方向とし、焦電センサの中心を通るｘ方向及びｙ方向の軸を、ｚ方向に開口パターンの形成面までそれぞれスライドさせたｘ’軸及びｙ’軸に対して、開口パターンが線対称」であることを意味する。例えば、マスク９３の開口パターンでは、ｙ方向の動体の動きに対して二つの焦電素子９１Ｒ，９１Ｌの照射範囲の割合が変化しない。そのため、開口パターン１１２は、焦電センサの中心を通るｘ方向の軸及びｙ方向の軸に関して非対称となるように形成される。またｘ方向の軸（ｘ’軸）及びｙ方向の軸（ｙ’軸）により二つに分割される開口パターンの面積比が同一となるように開口パターンが形成される。
　例えば、開口パターンは、焦電センサの中心に対し点対称である。ここで、「焦電センサの中心に対し点対称」とは、「焦電センサの中心をｚ方向に開口パターンの形成面までスライドさせた点ｏ’に対し点対称」であることを意味する。
　本実施形態では、開口パターン１１２は、八つの貫通孔１１２－１～１１２－８からなる。
　三つの貫通孔１１２－１～１１２－３はｙ方向に延伸する第一貫通孔列を構成し、三つの貫通孔１１２－５～１１２－７はｙ方向に延伸する第二貫通孔列を構成する。貫通孔１１２－４は、第一貫通孔列の、第二貫通孔列がない側に配置される。貫通孔１１２－８は、第二貫通孔列の、第一貫通孔列がない側に配置される。二つの貫通孔１１２－２及び１１２－７はｘ方向に延伸する列を形成し、二つの貫通孔１１２－３及び１１２－６はｘ方向に延伸する列を形成する。三つの貫通孔１１２－４、１１２－１及び１１２－２は、正三角形の頂点の位置に配置されている。三つの貫通孔１１２－８、１１２－５及び１１２－６は、正三角形の頂点の位置に配置されている。
　言い換えると、三つの貫通孔１１２－１～１１２－３は、順に等間隔に並べられ、ｙ方向に延伸する第一貫通孔列を構成する。三つの貫通孔１１２－５～１１２－７は、それぞれ焦電センサの中心に対し、三つの貫通孔１１２－１～１１２－３の点対称となるように形成され、第二貫通孔列を構成する。貫通孔１１２－２及び１１２－７はｘ方向において隣接し、貫通孔１１２－３及び１１２－６はｘ方向において隣接する。貫通孔１１２－４は、焦電センサの中心から見て、第一貫通孔列の外側に形成される。そして、三つの貫通孔１１２－４、１１２－１及び１１２－２は、正三角形の頂点の位置に配置されている。貫通孔１１２－８は、焦電センサの中心に対し、貫通孔１１２－４の点対称となるように形成される。
　例えば、第一貫通孔列と第二貫通孔列とのｘ方向における距離は０．５ｍｍ、各貫通孔の直径は０．５ｍｍ、正三角形の頂点を成す貫通孔の中心間の距離は０．９ｍｍである。これらの距離や直径は、シート部１１１と焦電素子との距離（例えば、１．１ｍｍ）や、焦電素子の位置、大きさ等により適宜設定すればよい。なお、焦電素子としてはＰＺＴ（lead zirconate titanate：チタン酸ジルコン酸鉛）系焦電体セラミックス等がある。ＰＺＴ系焦電体セラミックスは、チタン酸鉛（ＰｖＴｉＯ３）とジルコン酸鉛（ＰｂＺｒＯ３）の固溶体になっているセラミックスである。
　図９は、開口パターン１１２を含む構造の概略図を示す。図１０は開口パターン１１２によって生じる不感地帯１０２の位置を表し、図１０Ａは動体が焦電センサの正面に位置する場合の不感地帯１０２と二つの焦電素子９１Ｒ，９１Ｌとの位置関係を、図１０Ｂは動体が焦電センサに対してｘ方向（左方向）に移動した場合の不感地帯１０２と二つの焦電素子９１Ｒ，９１Ｌとの位置関係を、図１０Ｃは動体が焦電センサに対してｙ方向（上方向）に移動した場合の不感地帯１０２と二つの焦電素子９１Ｒ，９１Ｌとの位置関係を示す。ただし、簡略化のため、照射部分を円形状ではなく、照射部分が存在する領域として表示している。
　マスク１１０の開口パターン１１２に上述の形状とすることで、図１１に示すように、ｘ方向及びｙ方向それぞれの動体の移動に対して、二つの焦電素子９１Ｒ，９１Ｌの照射範囲の割合が変化する。図１０Ｂにおいて、焦電素子９１Ｒの照射範囲が２２．５％増加し、焦電素子９１Ｌの照射範囲が３０％減少し、その差分は５２．５％となる。また、図１０Ｃにおいて、焦電素子９１Ｒの照射範囲が３０％増加し、焦電素子９１Ｌの照射範囲が３０％減少し、その差分は６０％となる。従来技術とほぼ変わらないｘ方向の検知感度を可能としつつ、従来技術ではできなかったｙ方向の検知が可能となる。また、焦電素子９１Ｒ，９１Ｌ及びマスク１１０の開口パターン１１２を９０度回転させて取り付ければ、従来技術と変わらないｘ方向の検知感度で、従来技術ではできなかったｙ方向の検知が可能となる。
　ただし、図１１の数値は、図１０や後述する図１３、図１５、図１７及び図１９のように不感地帯が理想的な形状で変化し、動体が理想的な距離で動いたときの数値であり、開口パターンとその不感地帯との関係を概念的に説明するために例示した値であって実際の照射範囲の割合とは必ずしも一致しない。よって、図８Ｂ記載の寸法としても必ずしも図１１の数値とはならない。また、実際のマスクの構造の設計においては、理想的に不感地帯が変化し、動体が移動すると想定して、要求される仕様に合うように、図９や後述する図１２、図１４、図１６及び図１８のような開口パターンを設計する。例えば、ｘ方向とｙ方向の感度のバランスが良いものを要求される場合には、図９のような開口パターンを設計する。
＜効果＞
　このような構成のマスクの構造を利用すれば、デュアルタイプの焦電センサでｘ方向及びｙ方向において、動体の動きを精度良く検知することができる。
＜その他の変形例＞
　本発明は上記の実施形態及び変形例に限定されるものではない。例えば、開口パターンは上述の開口パターン１１２に限定されるものではなく、従来の開口パターンに対して傾斜を設けることにより、ｘ方向及びｙ方向それぞれの動体の移動に対して、二つの焦電素子９１Ｒ，９１Ｌの照射範囲の割合が変化するように開口パターンを形成し、これによってｘ方向及びｙ方向の動体の動きを検知可能とすればよい。例えば、焦電センサの中心を通るｘ方向の軸及びｙ方向の軸に関して対称でなく、焦電センサの中心に対し点対称であればよい。
　図１２、図１４、図１６及び図１８は、それぞれマスク１１０の開口パターン１１２Ａ、１１２Ｂ、１１２Ｃ及び１１２Ｄを含む構造の概略図を示す。
　図１３、図１５、図１７及び図１９は、それぞれ動体の位置に対する不感地帯１０２Ａ、１０２Ｂ、１０２Ｃ及び１０２Ｄの位置を表す。なお、不感地帯１０２Ａ、１０２Ｂ、１０２Ｃ及び１０２Ｄは、それぞれ開口パターン１１２Ａ、１１２Ｂ、１１２Ｃ及び１１２Ｄによって生じる。図１３Ａ、図１５Ａ、図１７Ａ及び図１９Ａは、それぞれ動体が焦電センサの正面に位置する場合の不感地帯１０２Ａ、１０２Ｂ、１０２Ｃ及び１０２Ｄと二つの焦電素子９１Ｒ，９１Ｌとの位置関係を示す。図１３Ｂ、図１５Ｂ、図１７Ｂ及び図１９Ｂは、それぞれ動体が焦電センサに対してｘ方向（左方向）に移動した場合の不感地帯１０２Ａ、１０２Ｂ、１０２Ｃ及び１０２Ｄと二つの焦電素子９１Ｒ，９１Ｌとの位置関係を示す。図１３Ｃ、図１５Ｃ、図１７Ｃ及び図１９Ｃは、それぞれ動体が焦電センサに対してｙ方向（上方向）に移動した場合の不感地帯１０２Ａ、１０２Ｂ、１０２Ｃ及び１０２Ｄ２と二つの焦電素子９１Ｒ，９１Ｌとの位置関係を示す。
　図１１、図１３、図１５、図１７及び図１９から開口パターン１１２Ａ、１１２Ｂ、１１２Ｃ及び１１２Ｄを用いれば、何れの場合も、焦電センサはｘ方向及びｙ方向の動体の動きを検知することができることが分かる。特に、ｙ方向の検知感度を上げたい場合には、開口パターン１１２Ｃが有効である。また、ｘ方向の動体の動きに関して、従来技術と同程度の検知感度を維持したい場合には、開口パターン１１２Ｄを利用するか、または、焦電素子９１Ｒ，９１Ｌ及び開口パターン１１２を９０度回転させて用いるとよい。両方向に対する検知感度を総合すると、開口パターン１１２が最も優れている。
　なお、開口パターンを形成する複数の貫通孔は、必ずしも円形状である必要はなく、適宜変更すればよい。例えば、図２０Ａ、図２０Ｂに変形例を示す。
　また、開口パターンを形成する複数の貫通孔は、必ずしも四つ以上である必要はなく、二つの焦電素子に対応すればよく、適宜変更すればよい。例えば、図２０Ｃ、図２０Ｄに変形例を示す。
　また、開口パターンを形成する複数の貫通孔は、必ずしも焦電センサの中心に対し点対称である必要はなく、適宜変更すればよい。例えば、図２０Ｅ、図２０Ｆに変形例を示す。
　さらに、開口パターンを形成する貫通孔は、必ずしも複数からなる必要はなく、一つの貫通孔からなるものでもよく、適宜変更すればよい。例えば、図２０Ｇに変形例を示す。要は、ｘ方向及びｙ方向それぞれの動体の動きに対して、二つの焦電素子に対する赤外線の照射範囲の割合が変化するように開口パターンが形成されていればよい。
　また、開口パターンを形成する貫通孔は、シート部１１１を貫通するものであって、赤外線を通過させるためのものであればよく、必ずしもマスク１１０の内側（二つの焦電素子が配置される側）と外側とを連通する必要はない。例えば、赤外線を透過するフィルム等をシート部に貼合し、貫通孔を塞いでもよい。
　また、本実施形態では、金属板に対して打ち抜き加工を施すことによってマスク１１０を成型しているが、赤外線を透過するフィルム等に、貫通孔からなる開口パターンが形成されるように、赤外線を遮断するシート部を印刷してもよい。
　その他、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更が可能である。
　１１０ マスク
　１１１ シート部
　１１２、１１２Ａ、１１２Ｂ、１１２Ｃ、１１２Ｄ   開口パターン
　１１２－１～１１２－８      貫通孔
　１１３ 取付部

Claims (5)

  1. 　動体の検知感度を高めるためにデュアルタイプの焦電センサの検知面にかけられるマスクの構造であって、
    　赤外線を遮断するシート部と、そのシート部に形成された貫通孔からなる開口パターンとを含み、
    　前記検知面における前記焦電センサの二つの焦電素子の配設方向をｘ方向とし、前記検知面におけるｘ方向に垂直の方向をｙ方向とし、ｘ方向及びｙ方向それぞれの動体の動きに対して、二つの焦電素子に対する赤外線の照射範囲の割合が変化するように前記開口パターンが形成されていること、
    　を特徴とするマスクの構造。
  2. 　請求項１記載のマスクの構造であって、
    　前記焦電センサの中心を通るｘ方向の軸に関して、前記開口パターンは非対称であり、ｘ方向の軸により二つに分割される開口パターンの面積比が同一であること、
    　を特徴とするマスクの構造。
  3. 　請求項１または２記載のマスクの構造であって、
    　前記焦電センサの中心を通るｙ方向の軸に関して、前記開口パターンは非対称であり、ｙ方向の軸により二つに分割される開口パターンの面積比が同一であること、
    　を特徴とするマスクの構造。
  4. 　請求項１から３の何れかに記載のマスクの構造であって、
    　前記開口パターンは、前記焦電センサの中心に対し点対称であること、
    　を特徴とするマスクの構造。
  5. 　請求項４記載のマスクの構造であって、
    　前記開口パターンは、
    　ｙ方向に延伸する第一貫通孔列を構成する第一貫通孔、第二貫通孔及び第三貫通孔と、
    　ｙ方向に延伸する第二貫通孔列を構成する第五貫通孔、第六貫通孔及び第七貫通孔と、
    　前記第一貫通孔列の、前記第二貫通孔列がない側に配置された第四貫通孔と、
    　前記第二貫通孔列の、前記第一貫通孔列がない側に配置された第八貫通孔とを含み、
    　前記第二貫通孔及び第七貫通孔は、ｘ方向に延伸する列を形成し、
    　前記第三貫通孔及び第六貫通孔は、ｘ方向に延伸する列を形成し、
    　前記第四貫通孔、前記第一貫通孔及び前記第二貫通孔は、正三角形の頂点の位置に配置されており、
    　前記第八貫通孔、前記第五貫通孔及び前記第六貫通孔は、正三角形の頂点の位置に配置されていること、
    　を特徴とするマスクの構造。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2520321A (en) * 2013-11-18 2015-05-20 Melexis Technologies Nv Infrared sensor with limitation aperture

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20170167923A1 (en) * 2015-12-15 2017-06-15 Honeywell International Inc. Ceiling mounted motion detector with pir signal enhancement
CN111783660B (zh) * 2020-07-01 2023-11-10 业成科技（成都）有限公司 眼动追踪装置及应用其的电子装置

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5912075U (ja) * 1982-07-14 1984-01-25 株式会社堀場製作所 移動物検知用赤外線検出器
JPH02278131A (ja) * 1989-04-19 1990-11-14 Nippon Ceramic Co Ltd 焦電型赤外線検出器
JPH04346037A (ja) * 1991-05-24 1992-12-01 Daishinku Co 焦電型赤外線センサ
JPH05203500A (ja) * 1992-01-25 1993-08-10 Horiba Ltd 焦電型赤外線検出器の素子構造
JPH0741430U (ja) * 1993-12-27 1995-07-21 株式会社チノー 放射検出器
JPH10162256A (ja) 1996-11-28 1998-06-19 Matsushita Electric Works Ltd 防犯システム
WO1999041575A1 (fr) * 1998-02-13 1999-08-19 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Element detecteur a infrarouge, et unite capteur a infrarouge et detecteur a infrarouge utilisant ledit element detecteur
JP2002310789A (ja) * 2001-04-17 2002-10-23 Nikon Corp 光強度計測方法、光強度計測装置、投影露光装置
JP2013044586A (ja) * 2011-08-23 2013-03-04 Nippon Ceramic Co Ltd 焦電型赤外線検出装置

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4425501A (en) * 1981-03-30 1984-01-10 Honeywell Inc. Light aperture for a lenslet-photodetector array
JPS5912075A (ja) 1982-07-14 1984-01-21 株式会社日立製作所 マンコンベアの欄干
SU1315827A1 (ru) * 1984-06-28 1987-06-07 Предприятие П/Я М-5394 Растровый фотометр
JPH04160324A (ja) * 1990-10-23 1992-06-03 Nippon Ceramic Co Ltd 焦電型赤外線検出器
JPH05164608A (ja) * 1991-12-17 1993-06-29 Horiba Ltd 焦電型赤外線検出器
JPH0741430A (ja) 1993-02-25 1995-02-10 Hiroyuki Sumi 抗線溶物質
JPH0915040A (ja) * 1995-07-01 1997-01-17 Horiba Ltd 焦電型赤外線検出器
KR100404743B1 (ko) * 2001-05-03 2003-11-07 김영호 적외선 센서와 공간필터를 이용한 미세 동작 감지장치
CN101782661B (zh) * 2009-09-22 2012-07-25 奥泰斯电子(东莞)有限公司 调节红外幕帘探测器灵敏度的方法及一种红外幕帘探测器
CN102564601A (zh) * 2010-12-22 2012-07-11 精工爱普生株式会社 热式光检测装置、电子设备、热式光检测器及其制造方法
JP5226883B2 (ja) * 2011-02-01 2013-07-03 Ｎｅｃトーキン株式会社 焦電型赤外線センサ

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5912075U (ja) * 1982-07-14 1984-01-25 株式会社堀場製作所 移動物検知用赤外線検出器
JPH02278131A (ja) * 1989-04-19 1990-11-14 Nippon Ceramic Co Ltd 焦電型赤外線検出器
JPH04346037A (ja) * 1991-05-24 1992-12-01 Daishinku Co 焦電型赤外線センサ
JPH05203500A (ja) * 1992-01-25 1993-08-10 Horiba Ltd 焦電型赤外線検出器の素子構造
JPH0741430U (ja) * 1993-12-27 1995-07-21 株式会社チノー 放射検出器
JPH10162256A (ja) 1996-11-28 1998-06-19 Matsushita Electric Works Ltd 防犯システム
WO1999041575A1 (fr) * 1998-02-13 1999-08-19 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Element detecteur a infrarouge, et unite capteur a infrarouge et detecteur a infrarouge utilisant ledit element detecteur
JP2002310789A (ja) * 2001-04-17 2002-10-23 Nikon Corp 光強度計測方法、光強度計測装置、投影露光装置
JP2013044586A (ja) * 2011-08-23 2013-03-04 Nippon Ceramic Co Ltd 焦電型赤外線検出装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2520321A (en) * 2013-11-18 2015-05-20 Melexis Technologies Nv Infrared sensor with limitation aperture

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