WO2013172151A1 - 含フッ素エラストマーおよびその加硫性組成物 - Google Patents

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前田　満
正嗣 工藤
英人 行木
森　邦彦
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Nok株式会社
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Definitions

  • the present invention relates to a fluorine-containing elastomer and a vulcanizable composition thereof. More specifically, the present invention relates to a fluorine-containing elastomer used as a vulcanization molding material for a sealing material used for plasma irradiation and the like and a vulcanizable composition thereof.
  • Seals for semiconductor manufacturing equipment are used as seals in processing chambers for processing such as etching or forming thin films on the surface of semiconductor wafers such as silicon wafers. And low dust generation (low dust generation from the seal) is required.
  • silicon wafer etching plasma irradiation is performed in an oxygen or CF 4 atmosphere, etc., so that a gas such as oxygen or halogen is excited, and as a result, the seal for semiconductor manufacturing equipment is likely to deteriorate. There are defects such as the surface becoming brittle, degrading materials and embrittled materials being scattered and adhering to the silicon wafer.
  • reinforcing agents such as carbon black, silica and titanium oxide are blended as fillers in order to improve normal physical properties such as mechanical strength and compression set.
  • polyol vulcanization and amine vulcanization that vulcanize the fluorine-containing elastomer composition containing them, it is a metal compound such as Mg, Pb, Ca, Al, Zn other than the vulcanizing agent. It is necessary to mix an acid agent as a filler. Since these inorganic fillers cause generation of particles, in order to reduce the generation amount, it is conceivable that the inorganic filler is not used.
  • a fluorine-containing elastomer that does not contain an inorganic filler not only makes it difficult to obtain normal physical property values and compression set values necessary as a sealing material, but also deteriorates kneadability during compounding. Even when inorganic fillers are not used, the deteriorated sealing material itself may cause particle generation, so the fluorine-containing elastomer itself that forms the sealing material also reduces the amount of particles generated, in other words. There is a need for improved plasma resistance.
  • valve when used for gate valve applications, if the adhesiveness to metal is strong, the valve may not open or the sealing material may fall off when the valve is opened. It is also required to be sticky.
  • cyano group-containing perfluoroelastomers having excellent heat resistance with respect to use requirements at high temperatures such as 300 ° C. are used.
  • cyano group-containing perfluoroelastomers (fluorinated elastomers) and their vulcanizing agents that exhibit excellent heat resistance in a high-temperature environment of such a semiconductor manufacturing apparatus those described below have been conventionally proposed.
  • the fluorine-containing elastomer used in this case is (A) tetrafluoroethylene 45 to 75 mol%, (B) perfluoro (lower alkyl vinyl ether) or perfluoro (lower alkoxy lower alkyl vinyl ether) 54.8 to 20 mol% and ( C) Perfluoro unsaturated nitrile compounds having a copolymer composition of 0.2 to 5 mol% are used, and in each example, (A) :( B) :( C) molar ratio is 63.5: Those having a copolymer composition of 34.9: 1.6 or 68.8: 30.0: 1.2 are used as fluorine-containing elastomers (Patent Document 2).
  • the fluorine-containing elastomer used here includes (A) tetrafluoroethylene 45 to 75 mol%, (B) perfluoro (lower alkyl vinyl ether) or perfluoro (lower alkoxy lower alkyl vinyl ether) 50 to 25 mol%, and (C ) Perfluorounsaturated nitrile compounds having a copolymer composition of 0.1 to 5 mol% are used.
  • the fluorine-containing elastomer described in Patent Document 2 has a cyano group that undergoes a crosslinking reaction with a bisamidoxime compound as a vulcanizing agent, and the fluorine-containing elastomer composition containing the vulcanizing agent is a roll.
  • workability such as kneadability
  • the permanent set value has been measured, it cannot be said that it has sufficient heat resistance to withstand use at a high temperature such as 300 ° C. used in a semiconductor manufacturing apparatus as seen from the compression set value at 300 ° C.
  • this vulcanizate is used under plasma irradiation conditions, and even when used under high temperature conditions such as 300 ° C.
  • a fluorine-containing elastomer composition that suppresses weight loss due to irradiation and exhibits excellent heat resistance under high temperature conditions of 300 ° C.
  • This fluorine-containing elastomer composition can form an effective sealing material for semiconductor manufacturing equipment by vulcanization molding using a bisamidoxime compound as a vulcanizing agent.
  • the obtained sealing material exhibits excellent heat resistance even without containing inorganic fillers such as carbon black and silica, and is indicated by compression set values at 300 ° C. or higher, specifically 300 ° C. and 315 ° C. It shows good high temperature heat resistance. For this reason, sealing materials such as O-rings can maintain good sealing properties even under high temperature conditions of 300 ° C. or higher.
  • this fluorine-containing elastomer composition does not contain an inorganic filler, even if it is used under plasma irradiation conditions, there is no generation of fine particles containing metal elements, and weight loss due to this is suppressed. It is suitably used for semiconductor manufacturing equipment. Furthermore, since this fluorine-containing elastomer composition is excellent in non-adhesiveness to metal plates such as stainless steel plates and aluminum plates, silica glass plates and silicon plates, a semiconductor forming substrate is processed from a spare chamber in a vacuum system.
  • the fluorine-containing elastomer composition described in Patent Document 4 is excellent in compression set resistance and plasma resistance against O 2 plasma, but has non-adhesiveness to a metal that is in contact with a sealing material at a higher temperature. There is also a need for improvement in plasma resistance against O 2 —CF 4 mixed gas.
  • the object of the present invention is not only excellent in compression set resistance and plasma resistance, but also a fluorine-containing elastomer exhibiting low adhesion to metals at higher temperatures, specifically 150 ° C. And providing a vulcanizable composition thereof.
  • the object of the present invention is (A) vinylidene fluoride 2.0 to 8.0 mol%, (B) tetrafluoroethylene 60.0 to 70.0 mol%, (C) perfluoro (lower alkyl vinyl ether) or perfluoro (lower alkoxy lower alkyl vinyl ether).
  • a quaternary copolymer having a copolymer composition of 35.0-25.0 mol% and (D) 0.2-3.0 mol% of a perfluorounsaturated nitrile compound and a Mooney viscosity ML 1 + 10 (121 ° C) of 65-110 This is achieved by a vulcanizable fluorine-containing elastomer composition containing a combined fluorine-containing elastomer and 0.2 to 5 parts by weight of a bisamidoxime compound per 100 parts by weight of the fluorine-containing elastomer.
  • the sealing material obtained by vulcanization molding of the fluorine-containing elastomer composition according to the present invention exhibits low adhesion to the metal with which it contacts under higher temperature conditions such as 150 ° C., so it is effective for applications such as gate valves. Used for. Further, not only O 2 plasma irradiation but also plasma resistance against plasma irradiation using an O 2 —CF 4 mixed gas having an arbitrary mixing volume ratio is excellent.
  • Patent Document 4 includes (A) tetrafluoroethylene 72.8-74.0 mol%, (B) perfluoro (lower alkyl vinyl ether) or perfluoro (lower alkoxy lower alkyl vinyl ether) 26.8-24.0 mol%, and (C) perfluoro.
  • the fluorinated elastomer having a copolymer composition composed of 0.2 to 3.0 mol% of an unsaturated nitrile compound the fluorinated olefin has a degree (about 20 mol% or less) that does not inhibit the copolymerization reaction and does not impair the vulcanization properties.
  • vinyl compounds can also be copolymerized, and vinylidene fluoride is mentioned as an example of a fluorinated olefin.
  • vinylidene fluoride is copolymerized in an amount of 2.0 to 8.0 mol%, preferably 3.0 to 7.0 mol%.
  • a quaternary copolymer having a vinylidene fluoride copolymer amount of 10.0 mol% and a tetrafluoroethylene copolymer amount of 58.6 mol% as shown in Comparative Example 2 described later.
  • Patent Document 4 states that, although low adhesiveness as described above is further ensured, it is inferior in compression set resistance and plasma resistance, so that about 20 mol% or less of vinylidene fluoride can be copolymerized. The above description does not teach or suggest the present invention.
  • the copolymerization ratio of component (A) vinylidene fluoride is 2.0 to 8.0 mol%, preferably 3.0 to 7.0 mol%.
  • the copolymerization ratio of the component (A) is less than this, particularly when the component (A) is not used, as shown in the results of Comparative Example 1 described later, the compression set resistance property and the plasma resistance are extremely high. Good, but completely lacks the non-sticking property to the metal at 150 ° C, whereas when component (A) is used in a higher copolymerization ratio, a completely opposite tendency is shown, ie 150 ° C Although it is remarkably excellent in non-sticking property to a metal, it is inferior in compression set resistance and plasma resistance.
  • the copolymerization ratio of the component (B) tetrafluoroethylene is 60.0 to 70.0 mol%, which is set lower than the lower limit value of Patent Document 4, and if the copolymerization ratio is lower than this, On the other hand, when the copolymerization ratio is higher than this, since it exhibits a resin-like behavior rather than an elastomer, the sealing performance is deteriorated and the processability is deteriorated.
  • the copolymerization ratio of perfluoro (lower alkyl vinyl ether) or perfluoro (lower alkoxy lower alkyl vinyl ether) as component (C) is set to 35.0 to 25.0 mol%. If this copolymerization ratio is lower than this, the copolymerization ratio of tetrafluoroethylene may be relatively increased, and the copolymer is close to the resin as indicated by the compression set value at 250 ° C. Thus, the seal performance is significantly reduced. On the other hand, when the copolymerization ratio is higher than this, the mechanical strength and heat resistance are lowered.
  • perfluoro (lower alkyl vinyl ether) as the component (C) comonomer generally perfluoro (methyl vinyl ether), perfluoro (ethyl vinyl ether), perfluoro (propyl vinyl ether) and the like are used.
  • CF 2 CFOCF 2 CF (CF 3 ) OC n F 2n + 1 (n: 1 to 5)
  • CF 2 CFO (CF 2 ) 3 OC n F 2n + 1 (n: 1 to 5)
  • CF 2 CFOCF 2 CF (CF 3 ) O (CF 2 O) m C n F 2n + 1 (n: 1 to 5, m: 1 to 3)
  • CF 2 CFO (CF 2 ) 2 OC n F 2n + 1 (n: 1 to 5)
  • those in which the C n F 2n + 1 group is a CF 3 group are particularly preferred.
  • CF 2 CFO (CF 2 ) n OCF (CF 3 ) CN (n: 2 to 5)
  • CF 2 CF [OCF 2 CF (CF 3 )] n O (CF 2 ) m CN (n: 1 to 2, m: 1 to 6)
  • CF 2 CFO (CF 2 ) n CN (n: 1 to 8)
  • CF 2 CF [OCF 2 CF (CF 3 )] n OCF 2 CF (CF 3 ) CN (n: 1 to 2)
  • CF 2 CFO (CF 2 ) n (pC 6 H 4 ) CN (n: 1 to 6)
  • the copolymerization amount of the component (D) perfluoro unsaturated nitrile compound is 0.2 to 3.0 mol%, preferably 0.5 to 2.0 mol%, which is necessary as a crosslinkable group.
  • the copolymerization reaction using each of these monomers is generally performed by adding water, a fluorine-containing emulsifier such as ammonium perfluorooctanoate and a buffering agent such as potassium dihydrogen phosphate in a stainless steel autoclave.
  • Fluoroethylene, perfluoro (lower alkyl vinyl ether) or perfluoro (lower alkoxy lower alkyl vinyl ether) and perfluoro unsaturated nitrile compound are sequentially added, and the temperature is raised to about 50 to 80 ° C., and then a radical generator such as ammonium persulfate And a redox catalyst comprising a reducing agent such as sodium sulfite is added.
  • the reaction pressure is preferably maintained at about 0.75 to 0.85 MPa. Therefore, in order to increase the pressure in the reaction vessel that decreases with the progress of the reaction, the reaction is carried out while adding these three monomer mixtures. Preferably it is done.
  • the resulting quaternary copolymer fluorine-containing elastomer has a Mooney viscosity ML 1 + 10 (121 ° C.) of 65 to 110.
  • fluorinated olefins and various vinyl compounds, etc. that do not inhibit the copolymerization reaction and do not impair the vulcanization properties (about 20 mol% or less) Can also be copolymerized.
  • fluorinated olefin include monofluoroethylene, trifluoroethylene, trifluoropropylene, pentafluoropropylene, hexafluoropropylene, hexafluoroisobutylene, chlorotrifluoroethylene, dichlorodifluoroethylene, etc.
  • ethylene, propylene, 1-butene, isobutylene, methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, butyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl chloride, vinylidene chloride, trifluorostyrene and the like are used.
  • n 1 to 10
  • a bisamidoxime compound represented by the general formula R C 1 -C 6 alkylidene group
  • a bisamidoxime compound represented by a C 1 -C 10 perfluoroalkylidene group, preferably a bisamidoxime compound [I] is used as a vulcanizing agent in an amount of 0.2-100 parts by weight per 100 parts by weight of the fluorine-containing elastomer. It is used by adding 5 parts by weight, preferably 0.5 to 2 parts by weight.
  • Preparation of a fluorine-containing elastomer composition containing a bisamidoxime compound as a vulcanizing agent is carried out by kneading at about 30 to 60 ° C. using a two-roll or the like, and its crosslinking is carried out at about 100 to 250 ° C. This is done by heating for about 1 to 120 minutes.
  • secondary vulcanization it is performed at about 150 to 280 ° C. in an inert gas atmosphere such as a nitrogen gas atmosphere, and oven vulcanization is performed at a stepwise temperature rise as described in the following examples. It is preferable.
  • Vulcanization molded component of the fluoroelastomer for example, plasma cleaning apparatus, a plasma etching apparatus, plasma ashing apparatus, plasma CVD apparatus, an ion implantation apparatus, a semiconductor manufacturing apparatus such as a sputtering apparatus, O 2 gas, any mixing volume ratio It is effectively used as a sealing member for parts exposed to plasma gas such as O 2 -CF 4 gas mixture, and CF 4 gas, such as gate valves, vacuum chambers, vacuum valves, etc. for surface processing chambers of silicone wafers.
  • plasma cleaning apparatus for example, plasma cleaning apparatus, a plasma etching apparatus, plasma ashing apparatus, plasma CVD apparatus, an ion implantation apparatus, a semiconductor manufacturing apparatus such as a sputtering apparatus, O 2 gas, any mixing volume ratio
  • CF 4 gas such as gate valves, vacuum chambers, vacuum valves, etc. for surface processing chambers of silicone wafers.
  • Example 1 In an autoclave made of stainless steel having an internal volume of 100 L, 60 kg of distilled water, 2000 g of ammonium perfluorooctanoate and 800 g of potassium dihydrogen phosphate were charged, and then the inside of the autoclave was replaced with nitrogen and then the pressure was reduced.
  • VdF was added at 0.06 kg / hr
  • TFE was added at 1.2 kg / hr
  • FMVE was added at 1.2 kg / hr
  • CPeVE was added at a rate of 85 g / hr
  • the autoclave pressure was adjusted to 0.75 to 0.85 MPa. Kept.
  • the addition was stopped, and then the autoclave was cooled and the residual gas was purged to obtain 76 kg of an aqueous latex having a solid content concentration of 27% by weight.
  • aqueous latex was coagulated by adding it to 76 L of 5 wt% magnesium chloride aqueous solution, washed with water, dried at 80 ° C. for 70 hours, and 17.0 kg of white rubbery quaternary copolymer A ( Yield 83%).
  • This rubbery quaternary copolymer had a Mooney viscosity ML 1 + 10 (121 ° C.) of 85, and was confirmed to have the following composition by infrared absorption spectrum and NMR analysis. VdF 4.9mol% TFE 65.0 mol% FMVE 28.8 mol% CPeVE 1.3 mol%
  • Example 2 In an autoclave made of stainless steel having an internal volume of 100 L, 60 kg of distilled water, 2000 g of ammonium perfluorooctanoate and 800 g of potassium dihydrogen phosphate were charged, and then the inside of the autoclave was replaced with nitrogen and then the pressure was reduced.
  • VdF Vinylidene fluoride
  • TFE Tetrafluoroethylene
  • FMVE 1.3kg Perfluoro (3,7-dioxa-8-cyano-1-nonene)
  • CEPVE Perfluoro (3,7-dioxa-8-cyano-1-nonene)
  • VdF was added at 0.06 kg / hr
  • TFE was added at 1.2 kg / hr
  • FMVE was added at 1.2 kg / hr
  • CEPVE was added at 120 g / hr
  • the autoclave pressure was adjusted to 0.75 to 0.85 MPa. Kept.
  • the addition was stopped, and then the autoclave was cooled and the remaining gas was purged to obtain 76 kg of an aqueous latex having a solid content concentration of 26% by weight.
  • the obtained aqueous latex was coagulated by adding it to 76 L of 5 wt% magnesium chloride aqueous solution, washed with water, dried at 80 ° C. for 70 hours, and 17.6 kg of white rubber-like quaternary copolymer B ( Yield 86%).
  • This rubbery quaternary copolymer had a Mooney viscosity ML 1 + 10 (121 ° C.) of 88, and was confirmed to have the following composition by infrared absorption spectrum and NMR analysis. VdF 5.1mol% TFE 64.6 mol% FMVE 28.7 mol% CEPVE 1.6 mol%
  • Reference example 1 In an autoclave made of stainless steel having an internal volume of 100 L, 60 kg of distilled water, 2000 g of ammonium perfluorooctanoate and 800 g of potassium dihydrogen phosphate were charged, and then the inside of the autoclave was replaced with nitrogen and then the pressure was reduced.
  • This rubbery terpolymer had a Mooney viscosity ML 1 + 10 (121 ° C.) of 82, and was confirmed to have the following composition by infrared absorption spectrum and NMR analysis. TFE 68.8mol% FMVE 29.9 mol% CPeVE 1.3 mol%
  • Reference example 2 In an autoclave made of stainless steel having an internal volume of 100 L, 60 kg of distilled water, 2000 g of ammonium perfluorooctanoate and 800 g of potassium dihydrogen phosphate were charged, and then the inside of the autoclave was replaced with nitrogen and then the pressure was reduced.
  • VdF Vinylidene fluoride
  • TFE Tetrafluoroethylene
  • FMVE Perfluoro (3,7-dioxa-8-cyano-1-nonene)
  • CEPVE Perfluoro (3,7-dioxa-8-cyano-1-nonene)
  • VdF was added at 0.12 kg / hr
  • TFE was added at 1.2 kg / hr
  • FMVE was added at 1.2 kg / hr
  • CEPVE was added at a rate of 120 g / hr
  • the autoclave pressure was adjusted between 0.75 and 0.85 MPa. Kept.
  • the addition was stopped, and then the autoclave was cooled and the residual gas was purged to obtain 81 kg of an aqueous latex having a solid content concentration of 26% by weight.
  • aqueous latex was added to 81 L of 5 wt% magnesium chloride aqueous solution to coagulate, washed with water, dried at 80 ° C. for 70 hours, and 18.7 kg of white rubber-like quaternary copolymer D was obtained. Yield 89%).
  • This rubbery quaternary copolymer had a Mooney viscosity ML 1 + 10 (121 ° C.) of 95, and was confirmed to have the following composition by infrared absorption spectrum and NMR analysis.
  • oven vulcanization (secondary vulcanization) under the following conditions was performed in a nitrogen gas atmosphere, and then held at 100 ° C. for 2 hours. Thereafter, the temperature was lowered to room temperature. Temperature rise from room temperature to 90 ° C over 0.5 hours 90 ° C for 4 hours Temperature rise from 90 ° C to 200 ° C over 6 hours 200 ° C for 22 hours Temperature rise from 200 ° C to 250 ° C over 4 hours 250 ° C for 22 hours
  • the quaternary copolymers obtained in Examples 3 to 4 were measured for the following items.
  • O 2 : CF 4 volume ratio 10: 1 Mixed gas RF output 1500W Irradiation time 30 hours
  • Example 3 instead of the copolymer A, a terpolymer (copolymer C) having a copolymer monomer molar ratio TFE 68.8: FMVE 29.9: CPeVE 1.3 was used, and the same vulcanization and measurement were performed. Was done.
  • Example 4 instead of copolymer A, a quaternary copolymer (copolymer D) having a copolymer monomer molar ratio VdF 10.0: TFE 58.6: FMVE 29.8: CEPVE 1.6 was used. Sulfur and measurements were taken.
  • copolymer D a quaternary copolymer having a copolymer monomer molar ratio VdF 10.0: TFE 58.6: FMVE 29.8: CEPVE 1.6 was used. Sulfur and measurements were taken.

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Abstract

(A)フッ化ビニリデン2.0～8.0モル％、(B)テトラフルオロエチレン60.0～70.0モル％、(C)パーフルオロ(低級アルキルビニルエーテル)またはパーフルオロ(低級アルコキシ低級アルキルビニルエーテル)35.0～25.0モル％および(D)パーフルオロ不飽和ニトリル化合物0.2～3.0モル％よりなる共重合組成を有し、ムーニー粘度ML1+10(121℃)が65～110である4元共重合体含フッ素エラストマーおよび該含フッ素エラストマー100重量部当り0.2～5重量部のビスアミドキシム化合物を配合した加硫性含フッ素エラストマー組成物。この含フッ素エラストマー組成物を加硫成形して得られたシール材は、耐圧縮永久歪特性、耐プラズマ性などにすぐれているばかりではなく、より高温、具体的には150℃という温度条件下で金属に対して低粘着性を示している。

Description

含フッ素エラストマーおよびその加硫性組成物
　本発明は、含フッ素エラストマーおよびその加硫性組成物に関する。さらに詳しくは、プラズマ照射用途などに用いられるシール材の加硫成形材料として用いられる含フッ素エラストマーおよびその加硫性組成物に関する。
　半導体製造装置用シールは、半導体の基板であるシリコンウェハー等の表面にエッチング加工あるいは薄膜を形成させるなどの処理をするための加工室等にシールとして用いられるものであり、耐熱性、低ガス透過性、低発塵性(シールからの塵の発生が少ないこと)などが要求される。シリコンウェハーエッチング処理時などには、酸素あるいはCF4雰囲気下などでプラズマ照射されるため、酸素あるいはハロゲンなどのガスが励起された状態となり、その結果半導体製造装置用シールは劣化し易く、またその表面が脆くなり、劣化物や脆化物が飛散して、シリコンウェハー上に付着するなどの不具合がみられる。
　また、従来シール材として用いられている含フッ素エラストマーについては、機械的強度等の常態物性や圧縮永久歪を改善するために、カーボンブラック、シリカ、酸化チタン等の補強剤を充填材として配合する必要があり、それらを配合した含フッ素エラストマー組成物を加硫するポリオール加硫やアミン加硫においては、加硫剤の他にMg、Pb、Ca、Al、Zn等の金属の化合物である受酸剤を充填材として配合する必要がある。これらの無機充填材は、パーティクル発生の原因となるため、その発生量を低減するために、無機充填材を使用しない配合が考えられる。
　しかるに、無機充填材を配合しない含フッ素エラストマーは、シール材として必要な常態物性値や圧縮永久歪値を得ることが困難となるばかりではなく、配合時の混練性をも悪化させる。また、無機充填材を使用しない場合であっても、劣化したシール材自身もパーティクル発生の原因となりかねないことから、シール材を形成させる含フッ素エラストマー自身においても、パーティクル発生量の低減、換言すれば耐プラズマ性の向上が求められている。
　また、ゲートバルブ用途に使用される場合には、金属との粘着性が強いとバルブが開かなくなったり、バルブ開放時にシール材が脱落するなど、それ自身による不具合が発生することがあるので、低粘着性であることも求められている。
　ところで、半導体製造装置においては、300℃といった高温での使用要求に対して耐熱性にすぐれたシアノ基含有パーフルオロエラストマーなどが使用されている。かかる半導体製造装置の高温使用環境において、すぐれた耐熱性を示すシアノ基含有パーフルオロエラストマー(含フッ素エラストマー)およびその加硫剤としては、以下に記載されるようなものが従来提案されている。
　含フッ素エラストマーとしては、(A)テトラフルオロエチレンを53～79.8モル％、好ましくは64.4～72.6モル％、さらに好ましくは69.3モル％、(B)パーフルオロ(メチルビニルエーテル)20～45モル％、好ましくは27～35モル％、さらに好ましくは30モル％および(C)一般式
　　　CF2＝CF〔OCF2CF(CF3)〕xO(CF2)nCN
　　　　　　　　　　n：1～4
　　　　　　　　　　x：1～2
で表わされるパーフルオロ不飽和ニトリル化合物0.2～2モル％、好ましくは0.4～1.0モル％、さらに好ましくは0.7モル％の共重合組成を有するものが知られており、この含フッ素エラストマーはビスアミノフェノールまたは芳香族テトラミンによって硬化されるとされている(特許文献１)。
　この種の含フッ素エラストマーはまた、一般式
　　　HON=C(NH2)-(CF2)n-C(NH2)=NOH　　　　　　　　　　　　　　〔I〕
　　　　　　　　　　n：1～10
で表わされるビスアミドキシム化合物を加硫剤として加硫されることが、本出願人によって提案されている。この場合に用いられる含フッ素エラストマーとしては、(A)テトラフルオロエチレン45～75モル％、(B)パーフルオロ(低級アルキルビニルエーテル)またはパーフルオロ(低級アルコキシ低級アルキルビニルエーテル)54.8～20モル％および(C)パーフルオロ不飽和ニトリル化合物0.2～5モル％よりなる共重合組成を有するものが用いられるとされており、各実施例では(A)：(B)：(C)モル比がそれぞれ63.5：34.9：1.6または68.8：30.0：1.2の共重合組成を有するものが含フッ素エラストマーとして用いられている(特許文献２)。
　さらに、この種の含フッ素エラストマーを用い、ビスアミドラゾン化合物を加硫剤として用いて加硫することも、本出願人によって提案されている。ここで用いられる含フッ素エラストマーとしては、(A)テトラフルオロエチレン45～75モル％、(B)パーフルオロ(低級アルキルビニルエーテル)またはパーフルオロ(低級アルコキシ低級アルキルビニルエーテル)50～25モル％および(C)パーフルオロ不飽和ニトリル化合物0.1～5モル％よりなる共重合組成を有するものが用いられており、実施例では(A)：(B)：(C)モル比が57.3：39.6：2.8の共重合組成を有するものが用いられている(特許文献３)。
　前記特許文献２に記載されている含フッ素エラストマーは、加硫剤としてのビスアミドキシム化合物と架橋反応するシアノ基を有しており、加硫剤をそこに配合した含フッ素エラストマー組成物は、ロール混練性などの加工性においても問題がなく、また耐熱性および耐溶剤性の点においても満足される加硫成形品を与え得るとされ、275℃または300℃、70時間という条件下での圧縮永久歪値が測定されているが、300℃での圧縮永久歪値からみて、半導体製造装置で用いられる300℃といった高温での使用に十分耐え得る耐熱性を有しているとはいえない。
　本出願人はまた、シアノ基を架橋性基とする含フッ素エラストマーにおいて、この加硫物がプラズマ照射条件下で使用され、また300℃といった高温条件下で使用された場合にあっても、プラズマ照射による重量減少を抑制し、また300℃以上といった高温条件下においてもすぐれた耐熱性を示すといった含フッ素エラストマー組成物として、(A)テトラフルオロエチレン72.8～74.0モル％、(B)パーフルオロ(低級アルキルビニルエーテル)またはパーフルオロ(低級アルコキシ低級アルキルビニルエーテル)26.8～24.0モル％および(C)パーフルオロ不飽和ニトリル化合物0.2～3.0モル％よりなる共重合組成を有する含フッ素エラストマー100重量部当り、0.2～5重量部のビスアミドキシム化合物を加硫剤として配合し、無機充填剤を含有していない含フッ素エラストマー組成物を提案している(特許文献４)。
　この含フッ素エラストマー組成物は、ビスアミドキシム化合物を加硫剤として加硫成形することにより、有効な半導体製造装置用シール材を形成させることができる。得られたシール材は、カーボンブラック、シリカ等の無機充填剤を含有していなくともすぐれた耐熱性を示し、300℃以上、具体的には300℃および315℃での圧縮永久歪値によって示されるような良好な高温耐熱性を示している。このため、Oリング等のシール材は、300℃以上での高温条件下においても、良好なシール性を保持し得る。
　また、この含フッ素エラストマー組成物は、無機充填剤を含有していないため、プラズマ照射条件下で使用されても、金属元素を含む微粒子の発生がなく、またそれによる重量減少も抑制されるので、半導体製造装置用途に好適に用いられる。さらに、この含フッ素エラストマー組成物は、ステンレス鋼板、アルミニウム板等の金属板、シリカガラス板、シリコン板等に対する非粘着性にすぐれているので、半導体形成用基板を真空系内で予備室から加工室に出し入れするゲート部分のバルブであって、プラズマ照射される領域へ付設されるゲートバルブ用途に使用された場合などには、このシール材が接する80℃という温度条件下で金属に対して低粘着性であるという効果も奏せられる。
特公平２－５９１７７号公報 特許第３，０８２，６２６号公報 特許第２，８５０，９４３号公報 特開２００９－１６１６６２号公報 特許第２，７７０，７６９号公報
　上記特許文献４記載の含フッ素エラストマー組成物は、耐圧縮永久歪特性にすぐれ、またO2プラズマに対する耐プラズマ性にすぐれているが、より高温でのシール材が接する金属に対する非接着性の点やO2-CF4混合ガスに対する耐プラズマ性の点での改善が求められている。
　本発明の目的は、耐圧縮永久歪特性、耐プラズマ性などにすぐれているばかりではなく、より高温、具体的には150℃という温度条件下で金属に対して低粘着性を示す含フッ素エラストマーおよびその加硫性組成物を提供することにある。
　かかる本発明の目的は、(A)フッ化ビニリデン2.0～8.0モル％、(B)テトラフルオロエチレン60.0～70.0モル％、(C)パーフルオロ(低級アルキルビニルエーテル)またはパーフルオロ(低級アルコキシ低級アルキルビニルエーテル)35.0～25.0モル％および(D)パーフルオロ不飽和ニトリル化合物0.2～3.0モル％よりなる共重合組成を有し、ムーニー粘度ML1+10(121℃)が65～110である4元共重合体含フッ素エラストマーおよび該含フッ素エラストマー100重量部当り0.2～5重量部のビスアミドキシム化合物を配合した加硫性含フッ素エラストマー組成物によって達成される。
　本発明に係る含フッ素エラストマー組成物を加硫成形して得られたシール材は、150℃といったより高温条件下でそれが接する金属に対して低粘着性を示すので、ゲートバルブといった用途に有効に用いられる。また、O2プラズマ照射だけではなく、任意の混合容積比を有するO2-CF4混合ガスを用いたプラズマ照射に対する耐プラズマ性にもすぐれている。
　前記特許文献４には、(A)テトラフルオロエチレン72.8～74.0モル％、(B)パーフルオロ(低級アルキルビニルエーテル)またはパーフルオロ(低級アルコキシ低級アルキルビニルエーテル)26.8～24.0モル％および(C)パーフルオロ不飽和ニトリル化合物0.2～3.0モル％よりなる共重合組成を有する含フッ素エラストマー中には、共重合反応を阻害せずかつ加硫物性を損なわせない程度(約20モル％以下)のフッ素化オレフィンや各種ビニル化合物などを共重合させることもできると記載されており、フッ素化オレフィンの例としてフッ化ビニリデンが挙げられている。
　本発明の含フッ素エラストマー組成物においては、フッ化ビニリデンを2.0～8.0モル％、好ましくは3.0～7.0モル％共重合させることにより、150℃というより高温条件下でシール材が接する金属に対して低粘着性が示されており、後記比較例２に示される如く、フッ化ビニリデン共重合量を10.0モル％、またテトラフルオロエチレン共重合量を58.6モル％とした4元共重合体の場合には、上記の如き低粘着性はより確保されるものの、耐圧縮永久歪特性および耐プラズマ性に劣るようになるので、約20モル％以下のフッ化ビニリデンを共重合させ得るとの特許文献４の記載は、本発明を教示乃至示唆しているとはいえない。
　(A)成分のフッ化ビニリデンの共重合割合は、上記した如く2.0～8.0モル％、好ましくは3.0～7.0モル％とされる。(A)成分の共重合割合がこれよりも少なく、特に(A)成分が用いられない場合には、後記比較例１の結果に示されるように、耐圧縮永久歪特性および耐プラズマ性は極めて良好であるが、150℃での金属に対する非固着性に全く欠けるようになり、一方(A)成分がこれよりも多い共重合割合で用いられると、全く逆の傾向が示され、すなわち150℃での金属に対する非固着性には著しくすぐれているが、耐圧縮永久歪特性および耐プラズマ性に劣るようになる。
　(B)成分のテトラフルオロエチレンの共重合割合は、60.0～70.0モル％と前記特許文献４の下限値よりもさらに低く設定されており、この共重合割合がこれよりも低いと、耐熱性の面で劣り、一方これよりも高い共重合割合では、エラストマーというよりは樹脂的挙動を示すため、シール性能が悪化し、また加工性に劣るようになる。
　また、(C)成分のパーフルオロ(低級アルキルビニルエーテル)またはパーフルオロ(低級アルコキシ低級アルキルビニルエーテル)の共重合割合は、35.0～25.0モル％に設定されている。この共重合割合がこれよりも低いと、相対的にテトラフルオロエチレンの共重合割合が増加することもあって、250℃の圧縮永久歪値によって示されるように、共重合体が樹脂に近い状態となり、シール性能の低下が著しくなる。一方、これよりも共重合割合が高いと、機械的強度や耐熱性の低下がみられるようになる。
　(C)成分共単量体のパーフルオロ(低級アルキルビニルエーテル)としては、一般にはパーフルオロ(メチルビニルエーテル)、パーフルオロ(エチルビニルエーテル)、パーフルオロ(プロピルビニルエーテル)等が用いられる。また、パーフルオロ(低級アルコキシ低級アルキルビニルエーテル)としては、例えば次のようなものが用いられ、
          CF２＝CFOCF２CF(CF３)OCｎF２ｎ＋１           (n：1～5)
          CF２＝CFO(CF２)３OCｎF２ｎ+1                (n：1～5)
          CF２＝CFOCF２CF(CF３)O(CF２O)ｍCｎF２ｎ＋１    (n：1～5、m：1～3)
          CF２＝CFO(CF２)２OCｎF２ｎ＋１               (n：1～5)
これらの中で、特にCｎF２ｎ＋１基がCF３基であるものが好んで用いられる。
  また、架橋サイト単量体としての(D)成分共単量体のパーフルオロ不飽和ニトリル化合物としては、次のようなものが用いられる。
          CF２＝CFO(CF2)ｎOCF(CF3)CN            (n：2～5)
          CF２＝CF[OCF2CF(CF3)]nO(CF２)mCN       (n：1～2、m：1～6)
          CF２＝CFO(CF2)nCN                    (n：1～8)
          CF２＝CF[OCF2CF(CF3)]nOCF2CF(CF3)CN    (n：1～2)
          CF２＝CFO(CF2)n(p-C6H4)CN              (n：1～6)
　なお、(D)成分のパーフルオロ不飽和ニトリル化合物の共重合量は、架橋性基として必要な0.2～3.0モル％、好ましくは0.5～2.0モル％とされる。
　これら各単量体を用いての共重合反応は、一般にステンレス鋼製オートクレーブ中に水、パーフルオロオクタン酸アンモニウム等の含フッ素系乳化剤およびリン酸二水素カリウム等の緩衝剤を仕込んだ後、テトラフルオロエチレン、パーフルオロ(低級アルキルビニルエーテル)またはパーフルオロ(低級アルコキシ低級アルキルビニルエーテル)およびパーフルオロ不飽和ニトリル化合物を順次仕込み、約50～80℃に昇温させた後、過硫酸アンモニウム等のラジカル発生剤および亜硫酸ナトリウム等の還元剤よりなるレドックス系触媒を添加することにより行われる。反応圧力は、約0.75～0.85MPa程度に保たれることが好ましく、このため反応の進行と共に低下する反応容器内圧力を上げるため、これら3種の単量体混合物を追加分添しながら反応を行うことが好ましい。得られる4元共重合体含フッ素エラストマーは、ムーニー粘度ML1+10(121℃)が65～110の値を有する。
　以上の成分を必須成分とする4元共重合体中には、共重合反応を阻害せずかつ加硫物性を損なわない程度(約20モル%以下)の他のフッ素化オレフィンや各種ビニル化合物などを共重合させることもできる。フッ素化オレフィンとしては、例えばモノフルオロエチレン、トリフルオロエチレン、トリフルオロプロピレン、ペンタフルオロプロピレン、ヘキサフルオロプロピレン、ヘキサフルオロイソブチレン、クロロトリフルオロエチレン、ジクロロジフルオロエチレン等が用いられ、またビニル化合物としては、例えばエチレン、プロピレン、1-ブテン、イソブチレン、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、トリフルオロスチレン等が用いられる。
　かかる4元共重合体よりなる含フッ素エラストマーには、前記特許文献２に記載される如き、一般式
　　　HON=C(NH2)-(CF2)n-C(NH2)=NOH　　　　　　　　　　〔I〕
　　　　　　　　　　n：1～10
で表わされるビスアミドキシム化合物や特許文献５に記載される如き、一般式
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000001
　　　　　　　　　　R：C1～C6のアルキリデン基
　　　　　　　　　　　 C1～C10のパーフルオロアルキリデン基
で表わされるビスアミドキシム化合物、好ましくはビスアミドキシム化合物〔I〕が加硫剤として、含フッ素エラストマー100重量部当り0.2～5重量部、好ましくは0.5～2重量部の割合で添加して用いられる。
　ビスアミドキシム化合物を加硫剤として配合した含フッ素エラストマー組成物の調製は、2本ロール等を用いて約30～60℃で混練することにより行われ、それの架橋は、約100～250℃で約1～120分間加熱することによって行われる。二次加硫を行う場合には、窒素ガス雰囲気などの不活性ガス雰囲気中約150～280℃で行われ、下記実施例に記載される如く、段階的な昇温でオーブン加硫が行われることが好ましい。
　含フッ素エラストマーの加硫成形品は、例えばプラズマ洗浄装置、プラズマエッチング装置、プラズマアッシング装置、プラズマCVD装置、イオン注入装置、スパッタリング装置等の半導体製造装置において、O2ガス、任意の混合容積比を有するO2-CF4混合ガス、さらにはCF4ガス等のプラズマガスに曝される箇所、例えばシリコーンウエハーの表面処理加工室のゲートバルブ、真空チャンバ、真空バルブ等のシール部材として有効に使用される。
　次に、実施例について本発明を説明する。
　実施例１
　内容積100Lのステンレス鋼製オートクレーブ中に、蒸留水60kg、パーフルオロオクタン酸アンモニウム2000gおよびリン酸二水素カリウム800gを仕込んだ後、オートクレーブ内を窒素で置換し、次いで減圧した。そこに、
　　　フッ化ビニリデン〔VdF〕　　　　　　　　　　　　　　　　0.1kg
　　　テトラフルオロエチレン〔TFE〕　　　　　　　　　　　　　1.1kg
　　　パーフルオロ(メチルビニルエーテル)〔FMVE〕　　　　　　 1.3kg
　　　パーフルオロ(3-オキサ-8-シアノ-1-オクテン)〔CPeVE〕　  100g
を順次仕込み、60℃に昇温させた後、そこに過硫酸アンモニウム70gおよび亜硫酸ナトリウム15gを溶解させた5Lの水溶液として添加し、重合反応を開始させた。
　重合反応中、VdFを0.06kg/hr、TFEを1.2kg/hr、FMVEを1.2kg/hr、CPeVEを85g/hrの分添速度でそれぞれ添加し、その間のオートクレーブの圧力を0.75～0.85MPaに保った。重合反応開始時から7時間後に分添を停止した後、オートクレーブを冷却し、残ガスをパージして、固形分濃度27重量％の水性ラテックスを76kg得た。得られた水性ラテックスを5重量％塩化マグネシウム水溶液76L中に加えて凝析させた後水洗し、80℃で70時間の乾燥を行って、白色のゴム状4元共重合体Aを17.0kg(収率83％)得た。
　このゴム状4元共重合体は、ムーニー粘度ML1+10(121℃)が85で、赤外吸収スペクトルおよびNMR分析から、次のような組成であることが確認された。
　　　　　　　　　　　　VdF　　　  4.9モル％
　　　　　　　　　　　　TFE　　   65.0モル％
　　　　　　　　　　　　FMVE　　  28.8モル％
　　　　　　　　　　　　CPeVE　　  1.3モル％
　実施例２
　内容積100Lのステンレス鋼製オートクレーブ中に、蒸留水60kg、パーフルオロオクタン酸アンモニウム2000gおよびリン酸二水素カリウム800gを仕込んだ後、オートクレーブ内を窒素で置換し、次いで減圧した。そこに、
　　　フッ化ビニリデン〔VdF〕　　　　　　　　　　　　　　　　0.1kg
　　　テトラフルオロエチレン〔TFE〕　　　　　　　　　　　　　1.1kg
　　　パーフルオロ(メチルビニルエーテル)〔FMVE〕　　　　　　 1.3kg
　　　パーフルオロ(3,7-ジオキサ-8-シアノ-1-ノネン)〔CEPVE〕  150g
を順次仕込み、60℃に昇温させた後、そこに過硫酸アンモニウム70gおよび亜硫酸ナトリウム15gを溶解させた5Lの水溶液として添加し、重合反応を開始させた。
　重合反応中、VdFを0.06kg/hr、TFEを1.2kg/hr、FMVEを1.2kg/hr、CEPVEを120g/hrの分添速度でそれぞれ添加し、その間のオートクレーブの圧力を0.75～0.85MPaに保った。重合反応開始時から7時間後に分添を停止した後、オートクレーブを冷却し、残ガスをパージして、固形分濃度26重量％の水性ラテックスを76kg得た。得られた水性ラテックスを5重量％塩化マグネシウム水溶液76L中に加えて凝析させた後水洗し、80℃で70時間の乾燥を行って、白色のゴム状4元共重合体Bを17.6kg(収率86％)得た。
　このゴム状4元共重合体は、ムーニー粘度ML1+10(121℃)が88で、赤外吸収スペクトルおよびNMR分析から、次のような組成であることが確認された。
　　　　　　　　　　　　VdF　　　 5.1モル％
　　　　　　　　　　　　TFE　　  64.6モル％
　　　　　　　　　　　　FMVE　　 28.7モル％
　　　　　　　　　　　　CEPVE　　 1.6モル％
　参考例１
　内容積100Lのステンレス鋼製オートクレーブ中に、蒸留水60kg、パーフルオロオクタン酸アンモニウム2000gおよびリン酸二水素カリウム800gを仕込んだ後、オートクレーブ内を窒素で置換し、次いで減圧した。そこに、
　　　テトラフルオロエチレン〔TFE〕　　　　　　　　　　　　　1.2kg
　　　パーフルオロ(メチルビニルエーテル)〔FMVE〕　　　　　　 1.3kg
　　　パーフルオロ(3-オキサ-8-シアノ-1-オクテン)〔CPeVE〕　  100g
を順次仕込み、60℃に昇温させた後、そこに過硫酸アンモニウム70gおよび亜硫酸ナトリウム15gを溶解させた5Lの水溶液として添加し、重合反応を開始させた。
　重合反応中、TFEを1.3kg/hr、FMVEを1.2kg/hr、CPeVEを85g/hrの分添速度でそれぞれ添加し、その間のオートクレーブの圧力を0.75～0.85MPaに保った。重合反応開始時から7時間後に分添を停止した後、オートクレーブを冷却し、残ガスをパージして、固形分濃度26重量％の水性ラテックスを81kg得た。得られた水性ラテックスを5重量％塩化マグネシウム水溶液81L中に加えて凝析させた後水洗し、80℃で70時間の乾燥を行って、白色のゴム状3元共重合体Cを17.9kg(収率87％)得た。
　このゴム状3元共重合体は、ムーニー粘度ML1+10(121℃)が82で、赤外吸収スペクトルおよびNMR分析から、次のような組成であることが確認された。
　　　　　　　　　　　　TFE　　   68.8モル％
　　　　　　　　　　　　FMVE　　  29.9モル％
　　　　　　　　　　　　CPeVE　　  1.3モル％
　参考例２
　内容積100Lのステンレス鋼製オートクレーブ中に、蒸留水60kg、パーフルオロオクタン酸アンモニウム2000gおよびリン酸二水素カリウム800gを仕込んだ後、オートクレーブ内を窒素で置換し、次いで減圧した。そこに、
　　　フッ化ビニリデン〔VdF〕　　　　　　　　　　　　　　　　0.15kg
　　　テトラフルオロエチレン〔TFE〕　　　　　　　　　　　　　1.0kg
　　　パーフルオロ(メチルビニルエーテル)〔FMVE〕　　　　　　 1.3kg
　　　パーフルオロ(3,7-ジオキサ-8-シアノ-1-ノネン)〔CEPVE〕  150g
を順次仕込み、60℃に昇温させた後、そこに過硫酸アンモニウム70gおよび亜硫酸ナトリウム15gを溶解させた5Lの水溶液として添加し、重合反応を開始させた。
　重合反応中、VdFを0.12kg/hr、TFEを1.2kg/hr、FMVEを1.2kg/hr、CEPVEを120g/hrの分添速度でそれぞれ添加し、その間のオートクレーブの圧力を0.75～0.85MPaに保った。重合反応開始時から7時間後に分添を停止した後、オートクレーブを冷却し、残ガスをパージして、固形分濃度26重量％の水性ラテックスを81kg得た。得られた水性ラテックスを5重量％塩化マグネシウム水溶液81L中に加えて凝析させた後水洗し、80℃で70時間の乾燥を行って、白色のゴム状4元共重合体Dを18.7kg(収率89％)得た。
　このゴム状4元共重合体は、ムーニー粘度ML1+10(121℃)が95で、赤外吸収スペクトルおよびNMR分析から、次のような組成であることが確認された。
　　　　　　　　　　　　VdF　　　10.0モル％
　　　　　　　　　　　　TFE　　  58.6モル％
　　　　　　　　　　　　FMVE　　 29.8モル％
　　　　　　　　　　　　CEPVE　　 1.6モル％
　実施例３
　フッ化ビニリデン-テトラフルオロエチレン-パーフルオロ(メチルビニルエーテル)-パーフルオロ(3-オキサ-8-シアノ-1-オクテン)〔モル比4.9：65.0：28.8：1.3〕4元共重合体〔共重合体A〕100重量部に、前記ビスアミドキシム化合物(〔I〕；n=4)0.7重量部を加え、2本ロールミル上で30～60℃の温度で混練した。混練物を190℃で15分間プレス加硫(一次加硫)した後、次の条件下でのオーブン加硫(二次加硫)を窒素ガス雰囲気下で行い、その後100℃で2時間保持した後室温迄降温した。
    室温から90℃迄0.5時間かけて昇温
    90℃で4時間
    90℃から200℃迄6時間かけて昇温
    200℃で22時間
    200℃から250℃迄4時間かけて昇温
    250℃で22時間
  実施例４
  実施例３において、共重合体Aの代わりに、フッ化ビニリデン-テトラフルオロエチレン-パーフルオロ(メチルビニルエーテル)-パーフルオロ(3,7-ジオキサ-8-シアノ-1-ノネン) [モル比 5.1：64.6：28.7：1.6]4元共重合体(共重合体B)が用いられ、前記ビスアミドキシム化合物(〔I〕；n=4)量が1.2重量部に変更して用いられた。
　実施例３～４で得られた4元共重合体について、次の各項目の測定を行った。
　　　常態物性：ISO 7619に対応するJIS K-6253(硬度)
　　　　　　　　ISO 37に対応するJIS K-6251(引張試験)
　　　圧縮永久歪：ASTM Method B；P-24 Oリングについて、250℃、70時間
　　　　　　　　　の条件下で測定
　　　プラズマ照射試験(重量減少率)：アルバック社製RBH3030使用
　　　　　　　　　　　　　　　　　　O2：CF4＝容積比10：1の混合ガス
　　　　　　　　　　　　　　　　　　RF出力 1500W
　　　　　　　　　　　　　　　　　　照射時間 30時間
　　　　　　　　　　　　　　　　　　真空度0.15 Torr
　　　粘着性試験：P24 Oリングを2枚の5cm角ステンレス板(SUS板)で挟み込
　　　　　　　　　み、25％圧縮した状態で150℃に15時間加熱後、24時間
　　　　　　　　　室温条件下に冷却したものについて、これら2枚のステ
　　　　　　　　　ンレス板を速さ100mm/分の速度で引っ張ったときの最大
　　　　　　　　　荷重を測定
　比較例１
　実施例３において、共重合体Aの代りに、共重合単量体モル比TFE 68.8：FMVE 29.9：CPeVE 1.3の3元共重合体(共重合体C)が用いられ、同様の加硫および測定が行われた。
　比較例２
　実施例４において、共重合体Aの代りに、共重合単量体モル比VdF 10.0：TFE 58.6：FMVE 29.8：CEPVE 1.6の4元共重合体(共重合体D)が用いられ、同様の加硫および測定が行われた。
　以上の各実施例および比較例で得られた結果は、次の表に示される。
　
　
　　　　　　　　　　　　　　表　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　実施例　　　　比較例　
　　　　　　 測定項目 　　　　 ３ 　 ４ 　　 １ 　 ２ 
　　　硬度(Duro A) 　　 　　　 63 　 60 　　 65 　 57 
　　　引張試験
　　　　100％モジュラス(MPa)　 2.2　 1.7　　 2.5　 1.3
　　　　破断強度　　　 (MPa)　19.0　16.2　　25.0　18.3
　　　　破断時伸び　　　(％)　270 　280 　　270 　320 
　　　圧縮永久歪
　　　　250℃、70hrs　　(％)　 23 　 23 　　 17 　 48 
　　　プラズマ試験
　　　　重量減少率　　　(％)　 1.5　 1.6　　 0.3　 4.3
　　　粘着性試験
　　　　SUS板　　　　　　(N)　170 　175 　　520 　140 

Claims (10)

  1. 　(A)フッ化ビニリデン2.0～8.0モル％、(B)テトラフルオロエチレン60.0～70.0モル％、(C)パーフルオロ(低級アルキルビニルエーテル)またはパーフルオロ(低級アルコキシ低級アルキルビニルエーテル)35.0～25.0モル％および(D)パーフルオロ不飽和ニトリル化合物0.2～3.0モル％よりなる共重合組成を有する4元共重合体含フッ素エラストマー。
  2. 　ムーニー粘度ML1+10(121℃)が65～110である請求項１記載の4元共重合体含フッ素エラストマー。
  3. 　請求項１記載の含フッ素エラストマー 100重量部当り、0.2～5重量部のビスアミドオキシム化合物を配合してなる加硫性含フッ素エラストマー組成物。
  4. 　一般式
    　　　HON=C(NH2)-(CF2)n-C(NH2)=NOH
    (ここで、nは1～10の整数である)で表わされるビスアミドキシム化合物が用いられた請求項３記載の加硫性含フッ素エラストマー組成物。
  5. 　請求項３または４記載の加硫性含フッ素エラストマー組成物を加硫成形して得られたシール材。
  6. 　プラズマ照射用途に用いられる請求項５記載のシール材。
  7. 　O2ガスまたはO2-CF4混合ガスを用いたプラズマ照射用途に用いられる請求項６記載のシール材。
  8. 　半導体製造装置用として用いられる請求項６記載のシール材。
  9. 　シリコンウェハーの表面処理加工室用として用いられる請求項８記載のシール材。
  10. 　ゲートバルブ用途に用いられる請求項６記載のシール材。
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