WO2013108739A1 - ワ-クの貼り合わせ方法およびタッチパネル - Google Patents

ワ-クの貼り合わせ方法およびタッチパネル Download PDF

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WO2013108739A1
WO2013108739A1 PCT/JP2013/050533 JP2013050533W WO2013108739A1 WO 2013108739 A1 WO2013108739 A1 WO 2013108739A1 JP 2013050533 W JP2013050533 W JP 2013050533W WO 2013108739 A1 WO2013108739 A1 WO 2013108739A1
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work
substrate
silicon
primer
silicon substrate
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PCT/JP2013/050533
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English (en)
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加藤 晃
金市 森田
鈴木 信二
Original Assignee
ウシオ電機株式会社
信越化学工業株式会社
崇越電通股▲フン▼有限公司
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/36Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyesters
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F2203/00Indexing scheme relating to G06F3/00 - G06F3/048
    • G06F2203/041Indexing scheme relating to G06F3/041 - G06F3/045
    • G06F2203/04103Manufacturing, i.e. details related to manufacturing processes specially suited for touch sensitive devices

Definitions

  • the present invention relates to a work bonding method that can be used for manufacturing touch panels, organic EL (Organic Electro-Luminescence), organic semiconductors, solar battery panels, and the like, and touch panels manufactured by this method.
  • a work and silicon having a hydrophobic surface such as a resin such as PET (Polyethylene terephthalate) with a hard coat layer provided on the surface.
  • a workpiece having a hydrophilic surface such as glass
  • a workpiece having a hydrophobic surface such as a resin having a hard coat layer on the surface, and the like.
  • a transparent conductive film such as an ITO (Indium Tin Oxide) transparent electrode is applied to the surface of a member made of glass or the above resin, and a workpiece having a hydrophobic surface is made of silicon. More particularly, the present invention relates to a method for bonding workpieces to each other with a member interposed therebetween, and a touch panel manufactured by bonding these workpieces.
  • ITO Indium Tin Oxide
  • a touch panel is known as a product manufactured by bonding a work.
  • a touch panel is capable of controlling on / off of a switch, data input, and the like by touching a display on which an image is displayed with a finger or a pen, and has been rapidly spread in recent years.
  • touch panels are widely used in gadgets such as mobile phones, mobile game machines, tablet terminals, car navigation devices, bank ATMs, ticket vending machines, and the like.
  • FIG. 18 shows a schematic diagram of a touch panel including a video display device and a touch sensor module.
  • a projected capacitive touch panel is shown.
  • the touch panel 100 includes an image display device 30 such as an LCD panel and a position input device 10 arranged on the upper portion thereof.
  • the position input device 10 processes the position input information from the touch sensor module 10a and the touch sensor module 10a for detecting the portion of the touch sensor surface that is touched with a finger, a pen, or the like.
  • the touch panel control unit 10b controls the image display device 30 based on it.
  • the touch sensor module 10a is provided with a PET film 14 having a first transparent conductive film (for example, ITO electrode) pattern and a second transparent conductive film (for example, an ITO electrode) pattern.
  • the glass substrate 16 is laminated, and the first ITO electrode 13, the PET film 14, the second ITO electrode 15, and the glass substrate 16 are laminated in this order from the top.
  • a light-transmitting hard coat layer 14a is provided on both surfaces of the PET film 14 to prevent the PET film 14 from being damaged. That is, the first transparent conductive film pattern is provided on the hard coat layer 14 a on the PET film 14.
  • the hard coat layer 14a is made of, for example, acrylate resin.
  • a cover glass 11 is installed on the side of the PET film 14 on which the first ITO electrode 13 is applied.
  • a black matrix 12 is formed on the periphery of the surface of the cover glass 11 on the side facing the surface of the PET film 14 on which the first ITO electrode 13 pattern is applied.
  • On the lower side of the glass substrate 16 there is a wiring layer 21 that is electrically connected to the first ITO electrode 13 and the second ITO electrode 15 and further electrically connected to the touch panel control unit 10b described later. Provided.
  • the wiring layer 21 is disposed on the lower side of the glass substrate 16 so as to be shielded by the black matrix 12 provided on the cover glass 11 when observed from the cover glass 11 side. That is, the wiring layer 21 is provided at a position that does not interfere with the image displayed on the touch panel.
  • the touch panel control unit 10 b includes a touch panel (TP) control IC unit 22 and an FPC (flexible printed circuit board) 23, and the touch panel control IC unit 22 is provided on the FPC 23.
  • the FPC 23 has an annular structure in which an opening is provided in the central portion so as to be shielded by the black matrix 12 provided in the cover glass 11 when observed from the cover glass 11 side, and the touch panel control IC portion. 22 is provided in the upper part of this annular structure part. That is, the touch panel control unit 10b is provided at a position that does not interfere with an image displayed on the touch panel. As described above, the touch panel control unit 10b is electrically connected to the wiring layer 21 of the touch sensor module 10a, and is also electrically connected to the image display device 30.
  • the touch sensor module 10a and the touch panel control unit 10b described above are stacked on the image display device 30 including the image display panel 32 such as an LCD panel to constitute a touch panel.
  • a polarizing film 31 is provided on the surface of the image display panel 32.
  • the touch panel laminated in order of the touch sensor module 10a, the touch panel control unit 10b, and the image display device 30 from the top is bonded with an ultraviolet curable adhesive 24 (UV Resin). . That is, the surface on which the wiring layer 21 of the glass substrate 16 of the touch sensor module 10a is provided, and the polarizing film on the surface of the touch panel control unit 10b and the image display device 30 are bonded by UV Resin. Note that a portion of the touch sensor module 10a where the wiring layer 21 of the glass substrate 16 is not provided, an opening portion of the touch panel control unit 10b, and the like are filled with UV Resin.
  • the touch panel detects position information such as a finger touching the cover glass 11 with the touch panel sensor module 10a, and based on a control signal from the touch panel control unit 10b that has received the position information, It controls the operation.
  • the first ITO electrode 13 is an electrode pattern in which a plurality of electrode pattern units extending in the Y direction are arranged in parallel in the X direction. That is, the first ITO electrode 13 is composed of a plurality of electrode pattern units.
  • the second ITO electrode 15 is an electrode pattern in which a plurality of electrode pattern units extending in the X direction are arranged in parallel in the Y direction.
  • the second ITO electrode 15 is composed of a plurality of electrode pattern units.
  • a high frequency voltage is applied to each electrode pattern unit by a power source (not shown).
  • the electrode pattern unit is arranged near the finger in the finger and the first ITO electrode 13, and the finger and the second ITO electrode 15 are close to the finger.
  • Capacitances are formed between the arranged electrode pattern units, and current flows in each unit. By detecting this current change, the position of the finger on the cover glass 11 is detected.
  • the first ITO electrode 13 detects the position of the finger in the X direction
  • the second ITO electrode 15 detects the position of the finger in the Y direction.
  • the first ITO electrode 13 and the second ITO electrode 15 are arranged in a matrix in the XY two-dimensional direction, whereby the touch panel sensor module 10a is covered.
  • the position of the finger in contact with the glass 11 in the XY two-dimensional direction is detected.
  • a signal related to the position of the finger in contact with the cover glass 11 detected by the touch panel sensor module 10a is transmitted to the touch panel control unit 10b.
  • the PET film 14 and the cover glass 11 in the touch panel sensor module 10a between the surface of the PET film 14 on which the first ITO electrode 13 is applied and the lower surface of the cover glass 11.
  • the PET film 14 and the glass substrate 16 between the PET film 14 and the glass substrate 16 (the surface of the hard coat layer 14a opposite to the first ITO electrode 13 side of the PET film 14 and the second ITO electrode 15 of the glass substrate 16 are provided). If an air layer is interposed between the surface and the air surface, light is reflected at the interface due to the difference in refractive index at the interface between each surface and the air layer. Degradation occurs.
  • the air layer is replaced with a transparent material having a refractive index close to that of the cover glass 11, the PET film 14, and the glass substrate 16 in comparison with air, so that the touch panel display In order to suppress a decrease in brightness and a decrease in contrast.
  • the lower surface of the cover glass 11 and the surface of the PET film 14 on the first ITO electrode 13 side are joined by the transparent adhesive member 19 having a refractive index as described above compared with air.
  • the surface of the hard coat layer 14a opposite to the first ITO electrode 13 side of the PET film 14 and the surface of the glass substrate 16 on which the second ITO electrode 15 is provided are also bonded by the adhesive member as described above. Is done.
  • an optical adhesive tape (Optically ⁇ Clear Adhesive Tape: hereinafter referred to as OCA tape) using a highly transparent acrylic adhesive as exemplified in Patent Document 1 and Patent Document 2 is used.
  • a highly transparent curable resin Optically Clear Resin: hereinafter referred to as OCR
  • the lower surface of the cover glass 11 is bonded to the first ITO electrode 13 side surface of the PET film 14, and the first ITO electrode 13 of the PET film 14 is bonded.
  • the surface of the hard coat layer 14a opposite to the surface and the surface of the glass substrate 16 on which the second ITO electrode 15 is provided it is possible to suppress a decrease in brightness and a decrease in contrast of the touch panel display. It becomes possible to do.
  • the OCA tape or OCR is used, the following problems and problems need to be considered.
  • the adhesive strength is strong, so the reworkability is poor. That is, since it is difficult to peel it off and use it again, high bonding accuracy is required when using the OCA tape.
  • the OCA tape is hard, when there is a step structure on the surface such as the surface on the first ITO electrode 13 side of the PET film 14 or the surface on which the second ITO electrode 15 of the glass substrate 16 is provided, Bubbles are likely to be mixed into the stepped portion when pasting.
  • the OCA tape has poor reworkability, and bubbles are likely to be mixed in the stepped portion of the surface, so that the pasting process is difficult. Therefore, it is difficult to use the OCA tape in the case of an object to be joined whose joining surface has a large area.
  • the OCA tape is relatively expensive.
  • joining by OCR is performed as follows. That is, OCR is applied to at least one joint surface of two workpieces, the two workpieces are overlapped, and the OCR is cured by heating or ultraviolet (UV) irradiation, so that the two workpieces are combined. Join.
  • UV ultraviolet
  • OCR generally has a high viscosity, it is difficult to uniformly apply it to the joint surface. Therefore, for example, there may be a problem that the cover glass 11 bonding surface and the PET film 14 bonding surface are bonded in a non-parallel state.
  • OCR has a low heat-resistant temperature
  • UV curable OCR it is necessary to consider the effect of the OCR temperature rise during UV irradiation. That is, if the distance between the UV light source 40 and the OCR bonding surface is too short, the OCR is heated to a temperature higher than the heat resistance temperature of the OCR. Therefore, the distance between the UV light source 40 and the OCR bonding surface needs to be increased to some extent. In this case, however, the UV intensity at the OCR bonding surface is also weakened. become longer.
  • the joined state of the two workpieces is not always desirable.
  • the distance between the cover glass 11 and the PET film 14 or the distance between the glass substrate 16 and the image display panel 32 is not sufficient.
  • the performance of the touch panel deteriorates.
  • the temporal resistance is not always sufficient, and when a certain amount of time elapses after bonding, the OCR itself is colored, for example, becomes yellow. Therefore, in the case of the touch panel, the image looks discolored. OCR is also relatively expensive.
  • the present invention has been made in view of the above circumstances, and it is an object of the present invention to provide a reworkability that does not develop color even when used for a long time, has a relatively short processing time, is relatively inexpensive, It is to provide a work bonding method that can be easily joined even to a member with a large surface area. Also, such a bonding method is used to suppress a decrease in luminance and a decrease in contrast. It is to provide a touch panel.
  • the present invention relates to a work having a hydrophilic surface such as glass, a work having a hydrophobic surface such as a resin, a work having a hydrophobic surface by applying a transparent conductive film to the surface of the glass or resin, etc.
  • a work having a hydrophilic surface and a work having a hydrophobic surface are bonded together, or when a work having a hydrophobic surface is bonded to each other, the conventional OCA tape or
  • the present invention provides a technique of using a member made of silicon instead of OCR and bonding them together. Furthermore, the present invention provides a technique for bonding a member made of the silicone to the second and third works having the hydrophobic surface.
  • a touch panel will be described.
  • the lower surface (first work surface) of the cover glass 11 and the first ITO electrode 13 side surface (second work surface) of the PET film 14 are attached.
  • the surface of the hard coat layer 14a (the surface of the first work) opposite to the first ITO electrode 13 side of the PET film 14 and the second ITO electrode 15 of the glass substrate 16 are provided.
  • a member made of silicon is used in place of the conventional OCA tape or OCR when the two surfaces are bonded together (the surface of the second workpiece).
  • a silicon substrate When the surface of a member made of silicon (hereinafter referred to as a silicon substrate) is irradiated with ultraviolet rays in the atmosphere, the surface is oxidized to become a hydrophilic surface, and a glass substrate 16 or a resin substrate is superimposed on such a surface. It is known that both substrates are bonded together by pressing or heating the superposed glass substrate 16 or resin substrate and the silicon substrate irradiated with ultraviolet rays for a predetermined time.
  • the surface of the silicon (PDMS) substrate 17 is shown in FIG.
  • the surface has an organosiloxy group (hydrophobic surface).
  • ultraviolet rays having a wavelength of 220 nm or less for example, ultraviolet rays having a central wavelength of 172 nm emitted from a xenon excimer lamp
  • active oxygen is generated on the substrate surface.
  • the substrate surface is oxidized. That is, as shown in FIG. 2B, the methyl group related to the organosiloxy group is eliminated, and the active oxygen is bonded to the silicon atom to which the methyl group is bonded.
  • the substrate surface is in a state in which a hydroxy group (OH group) is bonded to a silicon atom. It becomes.
  • OH group hydroxy group
  • Silicone is a relatively stable material, and unlike OCR, the silicon itself does not color even after a certain amount of time has elapsed after bonding. Therefore, even if it is used as a bonding material for each substrate of the touch panel display, the touch panel image is not affected by discoloration. Since silicon is a relatively soft material, the surface of the hard coat layer 14a on the first ITO electrode 13 side of the PET film 14 and the surface of the glass substrate 16 on the first wiring layer 21 side are used. Even when there is a step structure on a rough surface, it is possible to easily suppress the mixing of bubbles into the step portion at the time of attachment. That is, it is possible to easily join even a member having a large joint surface.
  • bonding using a silicon substrate does not include a step of applying to the bonding surface like OCR, and is not bonding by a curing reaction like OCR. There is no problem of uniformity of coating or deformation during curing.
  • the UV light source 40 and silicon substrate surface during silicon substrate surface treatment are compared to the distance between the ultraviolet (UV) light source 40 and OCR bonding surface during OCR curing.
  • the UV intensity on the silicon substrate surface is larger than the UV intensity on the OCR bonding surface. That is, in the UV irradiation process on the silicon substrate, the UV utilization efficiency is higher than in the UV irradiation process on the OCR bonding surface.
  • the UV irradiation process to the silicon substrate, the heating process and the pressurizing process of the bonded substrate such as the silicon substrate and the glass substrate based on the time required for the UV curing reaction of the OCR. It was found that the time required for was shorter. In general, a silicon substrate is less expensive than an OCA tape or OCR.
  • the bonding is not completed immediately after the glass substrate or the resin substrate and the silicon substrate irradiated with ultraviolet rays are overlapped. Bonding is completed by applying pressure or heating. Therefore, it is easy to separate the two substrates immediately after the overlapping. Therefore, for example, when the alignment between the glass substrate or the resin substrate and the silicon substrate irradiated with ultraviolet rays is insufficient, if they are just after being superposed, they are peeled off once, and then the ultraviolet rays are applied to the silicon substrate again. Irradiation makes it possible to perform the bonding process. That is, it is rich in reworkability compared with the OCA tape.
  • FIG. 1 shows a configuration example of a touch panel 100 assembled by using the bonding method of the present invention.
  • the basic configuration is the same as that shown in FIG. 18, and includes the position input device 10 including the touch sensor module 10a and the touch panel control unit 10b, and the image display device 30.
  • a silicon substrate (for example, PDMS) 17a is provided between the first ITO electrode 13 provided on the surface of the hard coat layer 14a of the PET film 14 and the cover glass 11, so that the silicon A primer is interposed between one surface of the substrate 17a and the first ITO electrode 13.
  • a silicon substrate 17b is provided between the hard coat layer 14a of the PET film 14 and the second ITO electrode 15 provided on the surface of the glass substrate 16, and the silicon substrate 17b and the hard Primers are interposed between the coating layer 14 a and between the silicon substrate 17 b and the ITO electrode 15.
  • the surface of the silicon substrate is irradiated with ultraviolet rays (UV) to make the surface a hydrophilic surface, and the hydrophilic surface of the silicon substrate and the PET film on which the first ITO electrode 13 is applied. 14 and the glass substrate 16 provided with the second ITO electrode 15 on the surface were found to be bonded together. Similarly, bonding is possible even when the hydrophilic surface of the silicon substrate obtained by UV irradiation and the surface of the hard coat layer 14a opposite to the first ITO electrode 13 side of the PET film 14 are overlapped. I found it impossible.
  • UV ultraviolet rays
  • the bonding surface of the silicon substrate which is a hydrophilic surface, the surface where the first ITO electrode 13 of the PET film 14 (which is a hydrophobic surface) is applied, and the first ITO electrode 13 of the PET film 14 It has been found that it is difficult to join the surface of the hard coat layer 14a opposite to the surface on which the second ITO electrode 15 is applied to the surface opposite to the surface on which the second ITO electrode 15 is applied.
  • the inventors have intensively studied, and the hard code on the opposite side of the surface of the PET film 14 to which the first ITO electrode 13 is applied and the surface of the PET film 14 to which the first ITO electrode 13 is applied.
  • the primer layer 18a and the surface of the glass substrate 16 on which the second ITO electrode 15 is applied are respectively applied with a primer 18 (primer), and further, the surface of the primer 18 is modified so that these Surface (the surface of the PET film 14 on which the first ITO electrode 13 is applied, the surface of the hard film layer 14a opposite to the surface of the PET film 14 on which the first ITO electrode 13 is applied,
  • the surface on which the second ITO electrode 15 of the glass substrate 16 is applied is used as a surface suitable for bonding, and the surface suitable for bonding and the surface of the silicon substrate irradiated with UV are overlapped to form a silicon- Board It found that it is possible to join the these surfaces PET film 14.
  • the primer 18 it has been found that a silane coupling agent and a siloxane-based
  • the mechanism by which primer 18 is applied to the surface of the workpiece and the surface of the primer 18 is modified so that the workpiece can be bonded to the surface of the silicon substrate irradiated with UV is not necessarily clear. Although it is not known, it is thought that the mechanism is as follows. Hereinafter, this possible mechanism will be described with reference to FIGS. As an example, consider the case where a silane coupling agent is used as the primer 18 and the surface on which the primer 18 is applied is the surface on which the first ITO electrode 13 of the PET film 14 is applied. It is assumed that the silicon substrate 17 in FIG. 4 is bonded to the cover glass 11 in advance by the method shown in FIG.
  • FIG. 3A shows a state in which a silane coupling agent is coated as a primer 18 on the surface of the PET film 14 on which the first ITO electrode 13 is applied.
  • Silane coupling agents have two types of functional groups with different reactivity in one molecule.
  • a functional group represented by RO O is oxygen
  • X is a functional group bonded to an organic material. Since the first ITO electrode 13 on the PET film 14 is an inorganic substance, it is chemically bonded to the functional group RO.
  • an excimer lamp or the like is applied to the silane coupling coat surface of the PET film 14 in the atmosphere containing moisture (H 2 O) and carbon dioxide (CO 2 ).
  • the ultraviolet ray (UV) emitted from the ultraviolet ray (UV) light source 40 is irradiated.
  • UV irradiation the surface of the silane coupling coat surface of the PET film 14 is modified. Specifically, (a) the functional groups RO and X of the silane coupling agent are decomposed and separated, and the silicon oxide becomes the surface of the first ITO electrode 13 on the PET film 14 or the first ITO electrode of the PET film 14.
  • a non-oxidized surface reacts with oxygen radicals generated as a result of chemical reaction of moisture and carbon dioxide in the air by UV irradiation, and a hydroxy group (—OH: hereinafter also referred to as OH group) is bonded. Conceivable. Then, it is considered that (a) silicon oxide described above reacts with moisture in the air, and as shown in the diagram on the right side of FIG. Although not shown in FIG. 3B, it is considered that impurities adhering to the silane coupling coat surface of the PET film 14 are also cleaned by oxygen radicals generated as a result of UV irradiation. It is done.
  • the surface on which the first ITO electrode 13 pattern is applied on the PET film 14 is (a) a portion where the terminal of the bonded silicon oxide is an OH group, and (b) a bond with a carboxyl group. It is considered that the portion (terminated with an OH group) and (c) the portion to which the OH group is bonded by the oxidation reaction with oxygen radicals are mixed.
  • the first ITO electrode 13 pattern on the PET film 14 is applied by surface modification of the silane coupling coat surface of the PET film 14 by UV irradiation. It is considered that most of the formed surfaces are bonded to OH groups, and the surface on which the first ITO electrode 13 pattern is applied on the PET film 14 becomes a hydrophilic surface.
  • a primer 18 is coated on the surface of the PET film 14 that is a hydrophobic surface on which the first ITO electrode 13 is applied, and the surface on which the primer 18 is coated is irradiated with ultraviolet rays (UV).
  • UV ultraviolet rays
  • the surface of the PET film 14 on which the first ITO electrode 13 is applied is considered to be a surface (hydrophilic surface) suitable for bonding.
  • the first PET film 14 coated with such a silane coupling agent and having a hydrophilic surface (ie, a surface suitable for bonding) by UV irradiation treatment is used.
  • the surface on which the ITO electrode 13 is applied is superposed on the bonding surface of the silicon substrate 17 formed by modifying the surface opposite to the bonding surface with the cover glass 11 to a hydrophilic surface by UV irradiation.
  • hydrogen bonds are formed, and heating the superposed silicon substrate 17 and the PET substrate causes dehydration of the bonding surface, and finally, the first ITO electrode 13 is formed on the silicon substrate 17 and the bonding surface. It is considered that the PET film 14 to which the pattern is applied is bonded by a covalent bond of oxygen.
  • a silane coupling agent is coated as a primer 18 on the surface of the PET film 14 on which the first ITO electrode 13 is applied has been considered.
  • a primer 18 is coated on the surface of the hard coat layer 14a opposite to the surface on which the first ITO electrode 13 is applied and on the surface of the glass substrate 16 on which the second ITO electrode 15 is applied.
  • joining can be performed by the same mechanism.
  • the work siloxane-based coating agent is coated.
  • ultraviolet rays it is considered that the end state of the coated surface becomes a hydrophilic surface bonded with OH groups and modified to a surface suitable for bonding.
  • the present invention solves the above problems as follows.
  • the silicon member is irradiated with ultraviolet light, and the surface of the workpiece irradiated with ultraviolet light is laminated so that the surface of the silicon member irradiated with ultraviolet light is in contact with the above laminated layer.
  • Pressurization is performed so that the contact surface of the workpiece and silicon member is pressurized, or the laminated workpiece and silicon member is heated, or the laminated workpiece and silicon are heated.
  • the workpiece made of silicon is heated while being pressed so that the contact surface is pressurized, so that the workpiece having the hydrophobic surface is bonded to the member made of silicon.
  • a primer made of a silane coupling agent or a siloxane-based coating agent is coated on the surface of the second work having a hydrophobic surface, and the first work having a hydrophilic surface is coated.
  • One surface, each surface coated with the primer of the second work, and both surfaces of the member made of the silicon are irradiated with ultraviolet rays, so that the first work and the silicon are irradiated.
  • the first workpiece and the second workpiece are laminated so that the surfaces irradiated with the ultraviolet rays are in contact with each other, and the contact surfaces are pressurized or laminated. Heating the workpiece and silicon members, or heating the laminated first and second workpiece and silicon members while applying pressure so that the contact surfaces are pressurized.
  • a primer 18 comprising a silane coupling agent or a siloxane-based coating agent is coated on the surfaces of the first work having a hydrophobic surface and the second work having a hydrophobic surface.
  • each of the surfaces of the first work and the second work coated with the primer and both surfaces of the member made of the silicon are irradiated with ultraviolet rays, and the first work is performed.
  • the second workpiece and the second workpiece are laminated so that the surfaces irradiated with the ultraviolet rays are in contact with each other and pressurized so that the contact surface is pressurized, or
  • the second work having the above is bonded with a member made of silicon interposed.
  • the touch sensor module may be made of a silane coupling agent or a siloxane-based coating agent.
  • a member is provided, and the substrate and the silicon member are laminated so that the surfaces irradiated with the ultraviolet rays face each other.
  • a primer made of a silane coupling agent or a siloxane-based coating agent is coated on a work surface having a hydrophobic surface, and the surface coated with the work primer is coated with silicon.
  • the surface of the workpiece can be made a surface suitable for bonding (hydrophilic surface). It is possible to reliably join the member made of copper. Therefore, it becomes possible to bond a member made of silicon and a resin such as PET having a hydrophobic surface, a work provided with a transparent conductive film, and the like.
  • both surfaces of the silicon member are irradiated with ultraviolet rays, and there are ultraviolet irradiation surfaces of the workpiece having a hydrophilic surface, the workpiece having a hydrophobic surface, and the silicon member.
  • a member made of silicon is less expensive than an OCA tape or OCR, so that the manufacturing cost can be reduced.
  • E In the case of joining using a member made of silicon, the joining is not completed immediately even if the work and silicon members are overlapped, but is pressurized or heated for a predetermined time. To complete the joining. For this reason, it is easy to separate the work and the silicon immediately after the superposition. Therefore, when the alignment between the workpiece and the silicon member is insufficient, if they are just after being overlapped, they are peeled off once, and the silicon member is again irradiated with ultraviolet rays. It becomes possible to perform a joining process. That is, it is rich in reworkability compared with the OCA tape.
  • FIG. 2 is a diagram (1) for explaining the joining of a surface coated with an ITO electrode of a PET film coated with a primer and a silicon substrate.
  • FIG. 5 is a diagram (2) for explaining the joining of the surface of the PET film coated with the primer to which the ITO electrode is applied and the silicon substrate. It is a figure explaining the joining process (A-1) of the cover glass and the PET film on which the first transparent conductive film (ITO electrode) is applied.
  • FIG. 1 is a diagram for explaining a bonding process (B-1) between a PET film having a first transparent conductive film (ITO) applied to the surface and a glass having a second transparent conductive film (ITO) applied to the surface; It is.
  • FIG. 2 is a diagram for explaining a bonding process (B-1) between a PET film having a first transparent conductive film (ITO) applied to the surface and a glass having a second transparent conductive film (ITO) applied to the surface; It is. It is a figure explaining the joining process (A-2) of a cover glass and the PET film by which the 1st transparent conductive film (ITO) was given to the surface.
  • FIG. 1 is a diagram for explaining a bonding process (B-1) between a PET film having a first transparent conductive film (ITO) applied to the surface and a glass having a second transparent conductive film (ITO) applied to the surface; It is. It is a figure explaining the joining process (A-2) of a cover glass and
  • FIG. 1 is a diagram for explaining a bonding step (B-2) between a PET film having a first transparent conductive film (ITO) applied to the surface and a glass having a second transparent conductive film (ITO) applied to the surface; It is.
  • FIG. 2 is a diagram for explaining a bonding process (B-2) between a PET film having a first transparent conductive film (ITO) applied to the surface and a glass having a second transparent conductive film (ITO) applied to the surface; It is. It is a figure explaining the joining process (A-3) of the cover glass and the PET film on which the first transparent conductive film (ITO) is applied.
  • FIG. 3 is a schematic diagram of a touch panel including a video display device and a touch sensor module.
  • FIG. 1 is a diagram showing a first configuration example of the touch panel according to the present invention.
  • the basic configuration is the same as that shown in FIG. 18, and the touch panel 100 includes an image display device 30 such as an LCD panel and a position input device 10 disposed above the image display device 30.
  • the position input device 10 processes the position input information from the touch sensor module 10a and the touch sensor module 10a for detecting the portion of the touch sensor surface that is touched with a finger, a pen, or the like.
  • the touch panel control unit 10b controls the image display device 30 based on it.
  • the touch sensor module 10a includes a PET film 14 provided with a first transparent conductive film (for example, ITO electrode) pattern shown in FIG. 18B and a second film shown in FIG. 18C.
  • the glass substrate 16 is laminated with a transparent conductive film (for example, ITO electrode) pattern, and the cover glass 11, the silicon substrate 17a, the primer 18, and the first ITO electrode are arranged from the top. 13, the PET film 14, the primer 18, the silicon substrate 17b, the primer 18, the second ITO electrode 15, and the glass substrate 16 are laminated in this order.
  • a light-transmitting hard coat layer 14a is provided on both surfaces of the PET film 14 to prevent the PET film 14 from being damaged.
  • the hard coat layer 14a is made of, for example, acrylate resin.
  • a black matrix 12 is formed on the periphery of the surface of the cover glass 11 on the side facing the surface of the PET film 14 on which the first ITO electrode 13 pattern is applied.
  • a wiring layer 21 that is electrically connected to the first ITO electrode 13 and the second ITO electrode 15 and is also electrically connected to the touch panel control unit 10b is provided.
  • the wiring layer 21 is disposed on the lower side of the glass substrate 16 so as to be shielded by the black matrix 12 provided on the cover glass 11 when observed from the cover glass 11 side.
  • the touch panel control unit 10 b includes the touch panel (TP) control IC unit 22 and the FPC (flexible printed circuit board) 23, and the touch panel control IC unit 22 is provided on the FPC 23.
  • the FPC 23 has an annular structure in which an opening is provided in the central portion so as to be shielded by the black matrix 12 provided in the cover glass 11 when observed from the cover glass 11 side, and the touch panel control IC portion. 22 is provided in the upper part of this annular structure part.
  • the touch panel control unit 10b is electrically connected to the wiring layer 21 of the touch sensor module 10a, and is also electrically connected to the image display device 30.
  • the touch sensor module 10a and the touch panel control unit 10b described above are stacked on the image display device 30 to constitute a touch panel.
  • the substrate of the first transparent conductive film (for example, the first ITO electrode 13) in the touch sensor module 10a is the PET film 14, and the second transparent conductive film (for example, the first transparent conductive film)
  • the glass substrate 16 is the second ITO electrode 15).
  • the thickness of each substrate and each layer is exaggerated for ease of explanation, and the relative relationship between the actual thickness of each substrate and each layer is shown in FIG. It is different from what is shown.
  • Step A-1 Joining Step of Cover Glass and PET Film with First Transparent Conductive Film (ITO Electrode) Surface
  • FIG. This process shows a method for bonding a first work having a hydrophilic surface and a second work having a hydrophobic surface with a silicon substrate interposed therebetween, and has a hydrophilic surface.
  • the cover glass 11 corresponds to the first work
  • the first transparent conductive film (ITO electrode 13) corresponds to the second work having a hydrophobic surface.
  • 14a is a PET film 14 applied to the surface.
  • the bonding surface of the cover glass 11 and the UV irradiation surface of the silicon substrate 17a are overlapped.
  • the bonding strength is increased by appropriately pressing or heating the overlapped cover glass 11 and the silicon substrate 17a.
  • the cover glass 11 itself has a hydrophilic surface, it is not always necessary to irradiate UV light. However, by irradiating the joint surface of the cover glass 11 with UV light, the joint surface of the cover glass 11 is activated and impurities on the surface of the cover glass 11 are decomposed and removed, so that the cover glass is removed. 11 and the silicon substrate 17a are more reliably joined. Further, UV irradiation to the surface of the silicon (PDMS) substrate 17a and the bonding surface of the cover glass 11 may be performed simultaneously.
  • PDMS silicon
  • FIG. 5 (b) Joining of Silicon Substrate 17a Joined to Cover Glass 11 and PET Film 14
  • a primer 18 is coated on the surface on which the first ITO electrode 13 pattern is applied.
  • the surface coated with the primer 18 is irradiated with UV light emitted from an ultraviolet (UV) light source such as an excimer lamp, so that the surface of the primer coat is suitable for bonding.
  • UV light ultraviolet
  • UV light emitted from an ultraviolet (UV) light source 40 such as an excimer lamp is applied to the surface of the silicon substrate 17a joined to the cover glass 11 on the side opposite to the joint surface to the cover glass 11. Irradiation is performed to oxidize the UV irradiation surface of the silicon substrate 17a to make the surface hydrophilic.
  • UV light source 40 such as an excimer lamp
  • the UV-irradiated surface of the silicon substrate 17a and the UV-treated primer coat surface of the PET film 14 are overlaid, and the overlaid cover glass 11 and the silicon substrate 17a are appropriately combined.
  • the silicon substrate 17a to which the cover glass 11 is bonded and the PET film 14 to which the first ITO electrode 13 is applied are bonded to each other.
  • the bonding method employed in this step (A-1) is as follows. (1) The silicon substrate 17a is bonded to the lower surface of the cover glass 11, which is the first work having a hydrophilic surface.
  • the bonding method is a first work having a hydrophilic surface by irradiating the silicon substrate 17a with ultraviolet rays to make the ultraviolet irradiation surface a hydrophilic surface and laminating the surface on the cover glass 11.
  • the cover glass 11 and the silicon substrate 17a are joined. As described above, the joint surface of the cover glass 11 may be irradiated with ultraviolet rays.
  • the PET film 14 which is the second work having a hydrophobic surface, the silicon substrate 17a, and the cover glass 11 which is the first work having a hydrophilic surface are stacked in this order. Heating while pressing the contact surface of each workpiece. In (5) of this bonding method, only pressurization or heating may be used, but it is desirable to heat while applying pressure.
  • Step B-1 Joining process between PET film with first transparent conductive film (ITO electrode) on the surface and glass with second transparent conductive film (ITO electrode) on the surface 6 and FIG.
  • This process shows a method of bonding a first work having a hydrophobic surface and a second work having a hydrophobic surface through a silicon substrate, and has a hydrophobic surface.
  • the first work corresponds to the PET film 14 to which the cover glass 11 is bonded
  • the second work having a hydrophobic surface corresponds to the second transparent conductive film (ITO electrode 15).
  • Bonding of the silicon substrate 17b and the PET film 14 (already bonded to the cover glass 11) As shown in FIG. 6A, an ultraviolet (UV) light source such as an excimer lamp is provided on the surface of the silicon substrate 17b.
  • the UV light emitted from 40 is irradiated to oxidize the surface of the silicon substrate 17b to make the surface hydrophilic.
  • UV ultraviolet
  • a primer 18 is coated on the surface of the hard coat layer 14a opposite to the surface on which the first ITO electrode 13 pattern is applied.
  • the surface coated with the primer 18 is irradiated with UV light emitted from an ultraviolet (UV) light source 40 such as an excimer lamp, so that the primer coat surface is suitable for bonding.
  • UV light source 40 such as an excimer lamp
  • the UV-irradiated surface of the silicon substrate 17b and the primer-coated surface of the PET film 14 subjected to the UV irradiation treatment are superimposed, and the PET film 14 and the silicon substrate 17b are appropriately pressurized or heated. Then, the silicon substrate 17b and the PET film 14 provided with the first ITO electrode 13 on the surface are joined.
  • the UV-irradiated surface of the silicon substrate 17b and the primer-coated surface of the glass substrate 16 subjected to the UV irradiation treatment are superposed, and the glass substrate 16 and the silicon substrate 17b are appropriately pressurized or heated. Then, the silicon substrate 17b bonded to the PET film 14 and the glass substrate 16 provided with the second ITO electrode 15 on the surface are bonded.
  • a resin substrate for example, a PET film 14
  • the second ITO electrode 15 applied to the surface may be used instead of the glass substrate 16 having the second ITO electrode 15 applied to the surface. There is no change in the procedure of step 2.
  • the bonding method in this step (B-1) is as follows. (1) A hard film in which the cover glass 11 of the PET film 14 is not bonded in the first film having a hydrophobic surface and bonded to the cover glass 11.
  • the primer 18 is coated on the surface of the layer 14a (hydrophobic surface).
  • the surfaces of the silicon substrate 17b and the surface coated with the primer 18 of the PET film 14, which is the first work having a hydrophobic surface, are irradiated with ultraviolet rays, and both surfaces are irradiated. Is a hydrophilic surface.
  • Both ultraviolet irradiation surfaces are overlapped.
  • the work is superposed in the order of the silicon substrate 17b, the primer 18, and the PET film 14 (cover glass 11 bonded) as the first work having a hydrophobic surface. Is heated while being pressurized.
  • the primer 18 is coated on the surface of the glass substrate 16 which is the second work having a hydrophobic surface, on which the second transparent conductive film (ITO electrode 15) is applied.
  • the surface of the silicon substrate 17b bonded to the PET film 14 (cover glass 11 bonded) which is the first work having a hydrophobic surface, and the second work having the hydrophobic surface.
  • the primer 18 coated on the surface of the glass substrate 16 on which the second transparent conductive film (ITO electrode 15) is applied is irradiated with ultraviolet rays to make both surfaces hydrophilic surfaces. . (7) Superimpose both ultraviolet irradiation surfaces.
  • a first work having a hydrophobic surface which is a PET film 14 (cover glass 11 bonded), a silicon substrate 17b, and a second work having a hydrophobic surface. Heating is performed while pressing the contact surfaces of the workpieces stacked in order of the glass substrate 16.
  • only pressurization or heating may be used, but it is desirable to heat while applying pressure.
  • the touch sensor module in the touch panel shown in FIG. 1 is configured through [Step A-1] and [Step B-1] employing the bonding method of the present invention.
  • the touch sensor module 10a and the touch panel control unit 10b are stacked on the image display device 30 such as an LCD panel to constitute a touch panel.
  • the structure example of the touch panel control unit 10b and the bonding of the touch panel laminated in the order of the touch sensor module 10a, the touch panel control unit 10b, and the image display device 30 are the same as those in the related art, and therefore detailed here. Description is omitted.
  • a touch sensor module in a touch panel is constructed by the following method. That is, when bonding each component of the touch sensor module, a silicon (substrate) is used instead of the conventional OCA tape or OCR, and the bonding surface of the silicon (substrate) and each component is connected. Is irradiated with ultraviolet rays. Then, a primer (eg, a silane coupling agent) is coated on the surface on which the conductive thin film (eg, ITO electrode) of the touch sensor module is provided. Then, the coat surface of the primer is irradiated with ultraviolet rays.
  • a primer eg, a silane coupling agent
  • primer 18 for example, a silane coupling agent
  • the silicone does not color after a long time, and the touch panel image, which is the final product, does not affect the color. Even when a step structure such as a conductive thin film is present on the joint surface, the silicon deforms and adheres according to the step, so that it is easy to prevent air bubbles from being mixed into the stepped portion during bonding. It is. Further, it is possible to easily join a member having a large joint surface.
  • the bonding is not performed by a curing reaction such as OCR, problems such as difficulty in realizing coating uniformity in the coating process on the bonding surface peculiar to OCR and deformation during curing can be avoided.
  • the heat resistant temperature is higher than that of OCR, the ultraviolet irradiation light source and the irradiation surface of the silicon substrate can be brought close to each other, and the light irradiation surface of the silicon substrate can be efficiently modified.
  • the ultraviolet curable OCR when the ultraviolet curable OCR is used, the heat resistance of the OCR itself is low, so the ultraviolet curable OCR application surface and the ultraviolet irradiation light source 40 cannot be brought too close to each other. The intensity of ultraviolet rays becomes small, and the utilization efficiency of ultraviolet rays becomes small. As a result, the time required for the OCR curing reaction for bonding increases.
  • a silicon substrate is less expensive than an OCA tape or OCR.
  • the bonding is not completed immediately after the glass substrate or the resin substrate and the silicon substrate irradiated with ultraviolet rays are overlapped, but both substrates are pressurized for a predetermined time. Or heating is completed. Therefore, it is easy to separate the two substrates immediately after the overlapping. Therefore, for example, when the alignment between the glass substrate or the resin substrate and the silicon substrate irradiated with ultraviolet rays is insufficient, if they are just after being superposed, they are peeled off once, and then the ultraviolet rays are applied to the silicon substrate again. Irradiation makes it possible to perform the bonding process. That is, it is rich in reworkability compared with the OCA tape.
  • the conductive thin film of the silicon substrate and the conductive thin film substrate of the touch sensor module which were conventionally difficult to bond even by using surface modification treatment by ultraviolet irradiation.
  • a silane coupling agent is introduced to the conductive thin film surface and the hydrophobic surface of the substrate, Since it was possible to modify the surface of the silane coupling agent by ultraviolet irradiation (to obtain a surface state suitable for bonding), it was possible to perform the above-described bonding.
  • the touch sensor module can be configured by irradiating the UV sensor with ultraviolet rays and bonding the components of the touch sensor module together.
  • the cover glass 11 and the silicon substrate 17a are first bonded, and then the silicon substrate 17a bonded to the cover glass 11 and the PET film 14 are bonded.
  • the cover glass 11 and the PET film 14 with the first transparent conductive film (ITO electrode 13) applied on the surface thereof were joined.
  • the PET film 14 bonded to the cover glass 11 and the silicon substrate 17b are bonded via the silicon substrate 17a formed in [Step A-1].
  • the silicon substrate 17b bonded to the PET film 14 and the silicon substrate 17b bonded to the PET film 14 and the glass substrate 16 are bonded in this order.
  • the touch sensor module 10b was configured by joining the glass substrate 16 having the second ITO electrode 15 provided on the surface thereof.
  • the order of attaching the workpieces is not limited to the order shown in [Step A-1] and [Step B-1].
  • the silicon substrate 17a and the PET film 14 are bonded, and then the silicon substrate 17a bonded to the PET film 14 and the cover glass 11 are bonded.
  • the cover glass 11 and the PET film 14 having the first transparent conductive film (ITO electrode) on the surface may be joined.
  • ITO electrode transparent conductive film
  • step B-1 the silicon substrate 17b and the glass substrate 16 are first bonded, and then the silicon substrate 17b bonded to the glass substrate 16 and the cover glass 11 are bonded.
  • the cover glass 11, the bonded PET film 14, the glass substrate 16 and the bonded silicon substrate 17b are bonded in the order of bonding the PET film 14 to each other to form a touch sensor module. Also good. (Hereinafter, such a step instead of step B-1 will be referred to as [step B-2].)
  • the touch sensor module in the touch panel shown in FIG. 1 is constructed through [Step A-2] and [Step B-2] using the bonding method of the present invention with reference to FIGS. An example will be described.
  • [Step A-2] Joining step of cover glass and PET film with first transparent conductive film (ITO electrode) applied on the surface
  • This step is shown in FIG.
  • This process shows a method for bonding a first work having a hydrophilic surface and a second work having a hydrophobic surface with a silicon substrate interposed therebetween, and has a hydrophilic surface.
  • the cover glass 11 corresponds to the first work
  • the first transparent conductive film (ITO electrode 13) corresponds to the hard work layer corresponding to the second work having a hydrophobic surface.
  • 14a is a PET film 14 applied to the surface.
  • (A) Bonding of silicon substrate 17a and PET film 14 For example, a PET film in which a first ITO electrode 13 having a pattern as shown in FIG. 18B is applied to the surface of the hard coat layer 14a. 14, a primer 18 is coated on the surface of the hard coat layer 14a on which the first ITO electrode 13 pattern has been applied, as shown in FIG. 8 (a). Next, the surface coated with the primer 18 is irradiated with UV light emitted from an ultraviolet (UV) light source 40 such as an excimer lamp, so that the primer coat surface is suitable for bonding. The surface.
  • UV light source 40 such as an excimer lamp
  • the surface of the silicon substrate 17a is irradiated with UV light emitted from an ultraviolet (UV) light source 40 such as an excimer lamp to oxidize the surface of the silicon substrate 17a to make the surface hydrophilic.
  • UV light source 40 such as an excimer lamp
  • the UV-irradiated surface of the silicon substrate 17a and the primer-coated surface of the PET film 14 subjected to UV irradiation are superimposed, and the PET film 14 and the silicon substrate 17a are appropriately pressurized or heated.
  • the silicon substrate 17a and the PET film 14 provided with the first ITO electrode 13 on the surface are joined.
  • the PET of silicon substrate 17a bonded to PET film 14 is PET.
  • the surface opposite to the bonding surface with the film 14 is irradiated with UV light emitted from an ultraviolet (UV) light source 40 such as an excimer lamp to oxidize the UV irradiation surface of the silicon substrate 17a, and the surface. Is a hydrophilic surface. Further, UV light emitted from an ultraviolet (UV) light source 40 such as an excimer lamp is irradiated on the joint surface of the cover glass 11.
  • UV light emitted from an ultraviolet (UV) light source 40 such as an excimer lamp is irradiated on the joint surface of the cover glass 11.
  • the UV irradiation surface of the silicon substrate 17a bonded to the PET film 14 and the bonding surface of the cover glass 11 are overlapped, and the overlapped cover glass 11 and the silicon substrate 17a are appropriately pressed. Or heating to increase the bonding strength.
  • the cover glass 11 itself has a hydrophilic surface, it is not always necessary to irradiate UV light. However, by irradiating the joint surface of the cover glass 11 with UV light, the joint surface of the cover glass 11 is activated and impurities on the surface of the cover glass 11 are decomposed and removed, so that the cover glass is removed. 11 and the silicon substrate 17a are more reliably joined. Further, UV irradiation to the surface of the silicon (PDMS) substrate 17a bonded to the PET film 14 and the bonding surface of the cover glass 11 may be performed simultaneously.
  • PDMS silicon
  • the bonding method in this step (A-2) is as follows.
  • a primer 18 is coated on the surface of the PET film 14 which is a second work having a hydrophobic surface, on which the first transparent conductive film (ITO electrode 13) is applied.
  • the surface of the silicon substrate 17a and the first transparent conductive film (ITO electrode 13) of the PET film 14 which is a second work having a hydrophobic surface are coated on the surface.
  • the applied primer 18 is irradiated with ultraviolet rays to make both surfaces hydrophilic.
  • Both ultraviolet irradiation surfaces are overlapped.
  • the surface of the silicon substrate 17a bonded to the PET film 14 as the second work having a hydrophobic surface, and the cover glass as the first work having a hydrophilic surface. 11 is irradiated with ultraviolet rays. (6) Superimpose both ultraviolet irradiation surfaces. (7) From the top, the PET film 14 that is the second work having a hydrophobic surface, the silicon substrate 17a, and the cover glass 11 that is the first work having a hydrophilic surface are stacked in this order. Heating while pressing the contact surface of each workpiece. In (4) and (7) of this bonding method, only pressurization or only heating may be used, but it is desirable to heat while applying pressure.
  • Step B-2 Joining process of PET film having a first transparent conductive film (ITO electrode) applied to the surface and glass having a second transparent conductive film (ITO electrode) applied to the surface 9 and FIG.
  • This process shows a method of bonding a first work having a hydrophobic surface and a second work having a hydrophobic surface through a silicon substrate, and has a hydrophobic surface.
  • the first work corresponds to the PET film 14 to which the cover glass 11 is bonded
  • the second work having a hydrophobic surface corresponds to the second transparent conductive film (ITO electrode 15).
  • a primer is applied to the surface provided with the second ITO electrode 15 pattern. Coat -18.
  • the surface coated with the primer 18 is irradiated with UV light emitted from an ultraviolet (UV) light source 40 such as an excimer lamp, so that the primer coat surface is suitable for bonding.
  • UV light source 40 such as an excimer lamp
  • the UV-irradiated surface of the silicon substrate 17b and the primer-coated surface of the glass substrate 16 subjected to the UV irradiation treatment are superposed, and the glass substrate 16 and the silicon substrate 17b are appropriately pressurized or heated. Then, the silicon substrate 17b and the glass substrate 16 provided with the second ITO electrode 15 on the surface are bonded.
  • an ultraviolet (UV) light source 40 such as an excimer lamp is formed on the surface of the silicon substrate 17b bonded to the glass substrate 16 on the side opposite to the bonding surface with the glass substrate 16.
  • UV light source 40 such as an excimer lamp
  • a primer 18 is coated on the surface of the hard coat layer 14a opposite to the surface on which the first ITO electrode 13 pattern is applied.
  • the surface coated with the primer 18 is irradiated with UV light emitted from an ultraviolet (UV) light source 40 such as an excimer lamp, so that the primer coat surface is suitable for bonding.
  • UV light source 40 such as an excimer lamp
  • the UV-irradiated surface of the silicon substrate 17b and the primer-coated surface of the PET film 14 subjected to the UV irradiation treatment are superimposed, and the PET film 14 and the silicon substrate 17b are appropriately pressurized or heated. Then, the silicon substrate 17b bonded to the glass substrate 16 and the PET film 14 provided with the first ITO electrode 13 on the surface are bonded.
  • the bonding method in this step (B-2) is as follows.
  • the primer 18 is coated on the surface of the glass substrate 16 which is the second work having a hydrophobic surface, on which the second transparent conductive film (ITO electrode 15) is applied.
  • the surface of the silicon substrate 17b and the second transparent conductive film (ITO electrode 15) of the glass substrate 16 as the second work having a hydrophobic surface are coated on the surface.
  • the applied primer 18 is irradiated with ultraviolet rays to make both surfaces hydrophilic.
  • Both ultraviolet irradiation surfaces are overlapped.
  • Heating while pressing the contact surface of the workpiece on which the silicon substrate 17b and the glass substrate 16 as the second workpiece having a hydrophobic surface are superimposed.
  • the hard coat of the PET film 14 where the cover glass 11 is not bonded is not bonded.
  • the primer 18 is coated on the surface of the layer 14a.
  • the cover glass of the silicon substrate 17b bonded to the glass substrate 16 which is the second work having a hydrophobic surface and the PET substrate which is the first work having the hydrophobic surface.
  • the primer 18 coated on the surface of the hard coat layer 14a to which 11 is not bonded is irradiated with ultraviolet rays to make both surfaces hydrophilic surfaces. (7) Superimpose both ultraviolet irradiation surfaces.
  • a PET film 14 (cover glass 11 bonded), which is a first work having a hydrophobic surface, a primer 18, a silicon substrate 17b, a primer 18, and a hydrophobic surface Heating is performed while pressurizing the contact surfaces of the workpieces stacked in the order of the glass substrate 16 as the second workpiece.
  • only pressurization or heating may be used, but it is desirable to heat while applying pressure.
  • the cover glass 11, the silicon substrate 17a, and the PET film 14 may be bonded at a time.
  • a step is referred to as [Step A-3].
  • the cover glass 11, the bonded PET film 14, the silicon substrate 17b, and the glass substrate 16 may be bonded at one time (hereinafter referred to as “the step B-1” and the “step B-2”).
  • Such a step will be referred to as [Step B-3].
  • Step A-3 Joining Step of Cover Glass and PET Film with First Transparent Conductive Film (ITO Electrode) Surface
  • This step is shown in FIG.
  • This process shows a method for bonding a first work having a hydrophilic surface and a second work having a hydrophobic surface with a silicon substrate interposed therebetween, and has a hydrophilic surface.
  • the cover glass 11 corresponds to the first work
  • the first transparent conductive film (ITO electrode 13) corresponds to the hard work layer corresponding to the second work having a hydrophobic surface.
  • 14a is a PET film 14 applied to the surface.
  • a primer 18 is coated on the surface of the hard coat layer 14a on which the pattern of the electrode 13 is applied.
  • the surface coated with the primer 18 is irradiated with UV light emitted from an ultraviolet (UV) light source 40 such as an excimer lamp, so that the primer coated surface is a surface suitable for bonding. .
  • UV light source 40 such as an excimer lamp
  • both surfaces of the silicon substrate 17a are irradiated with UV light emitted from an ultraviolet (UV) light source 40 such as an excimer lamp to oxidize the surface of the silicon substrate 17a. Is a hydrophilic surface. Further, as shown in FIG. 11, the UV light emitted from an ultraviolet (UV) light source 40 such as an excimer lamp is applied to the joint surface of the cover glass 11.
  • UV light source 40 such as an excimer lamp
  • the UV-irradiated bonding surface of the cover glass 11 and one surface of the silicon substrate 17a subjected to the UV-irradiation treatment, and the other surface of the silicon substrate 17a subjected to the UV-irradiation treatment and the PET film 14 are processed.
  • the primer coat surface that has been subjected to the UV irradiation is superposed.
  • the work laminated in the order of the cover glass 11, the silicon substrate 17a, and the PET film 14 is appropriately pressurized or heated to cover the cover glass 11, the silicon substrate 17a, and the second substrate.
  • a PET film 14 having a surface on which one ITO electrode 13 is applied is bonded at a time.
  • the cover glass 11 itself has a hydrophilic surface, it is not always necessary to irradiate UV light. However, by irradiating the joint surface of the cover glass 11 with UV light, the joint surface of the cover glass 11 is activated and impurities on the surface of the cover glass 11 are decomposed and removed, so that the cover glass is removed. 11 and the silicon substrate 17a are more reliably joined. Further, the UV irradiation on the joint surface of the cover glass 11, the both surfaces of the silicon substrate 17a, and the primer coat surface of the PET film 14 may be performed simultaneously or individually.
  • the bonding method in this step (A-3) is as follows.
  • a primer 18 is coated on the surface of the PET film 14 which is a second work having a hydrophobic surface, on which the first transparent conductive film (ITO electrode 13) is applied.
  • PET film 14 as the second work having a bonding surface of the cover glass 11 as the first work having a hydrophilic surface, both surfaces of the silicon substrate 17a, and a hydrophobic surface.
  • the primer 18 coated on the surface on which the first transparent conductive film (ITO electrode 13) is coated is irradiated with ultraviolet rays to make each ultraviolet irradiation surface a hydrophilic surface.
  • Step B-3 Joining process between PET film having first transparent conductive film (ITO electrode) applied to surface and glass having second transparent conductive film (ITO electrode) applied to the surface 12 shows.
  • This process shows a method of bonding a first work having a hydrophobic surface and a second work having a hydrophobic surface through a silicon substrate, and has a hydrophobic surface.
  • the first work corresponds to the PET film 14 to which the cover glass 11 is bonded
  • the second work having a hydrophobic surface corresponds to the second transparent conductive film (ITO electrode 15).
  • the hard coat layer 14a on the opposite side of the surface to which the cover glass 11 is bonded As shown in FIG. 12, in the PET film 14 to which the cover glass 11 is bonded through the silicon substrate 17a, the hard coat layer 14a on the opposite side of the surface to which the cover glass 11 is bonded.
  • the primer 18 is coated on the surface.
  • the surface coated with the primer 18 is irradiated with UV light emitted from an ultraviolet (UV) light source 40 such as an excimer lamp, so that the surface of the primer coat is suitable for bonding.
  • UV light source 40 such as an excimer lamp
  • UV light emitted from an ultraviolet (UV) light source 40 such as an excimer lamp is applied to both surfaces of the silicon substrate 17b to oxidize the surface of the silicon substrate 17b. Is a hydrophilic surface.
  • the pattern of the second ITO electrode 15 is changed as shown in FIG. Coat Primer 18 on the applied surface.
  • the surface coated with the primer 18 is irradiated with UV light emitted from an ultraviolet (UV) light source 40 such as an excimer lamp, so that the surface of the primer coat is suitable for bonding.
  • UV light source 40 such as an excimer lamp
  • the UV-treated primer coat surface of the PET film 14 one surface of the silicon substrate 17b treated with UV irradiation, and the other surface of the silicon substrate 17b treated with UV irradiation
  • the primer coat surface of the glass substrate 16 that has been subjected to the UV irradiation treatment is overlaid.
  • the work laminated in the order of the PET film 14 to which the cover glass 11 has been bonded, the silicon substrate 17b, and the glass substrate 16 is appropriately pressed or heated to cover the cover glass 11.
  • the silicon substrate 17b, and the glass substrate 16 having the second ITO electrode 15 applied on the surface thereof are bonded at once to the PET film 14, the silicon substrate 17b, and the glass substrate 16 having the second ITO electrode 15 applied on the surface thereof.
  • UV irradiation on the primer coat surface of the PET film 14, both surfaces of the silicon substrate 17b, and the primer coat surface of the glass substrate 16 may be performed simultaneously or individually.
  • the bonding method in this step (B-3) is as follows. (1) A hard film in which the cover glass 11 of the PET film 14 is not bonded in the first film having a hydrophobic surface and bonded to the cover glass 11. The primer 18 is coated on the surface of the layer 14a. (2) The primer 18 is coated on the surface of the glass substrate 16 which is the second work having a hydrophobic surface, on which the second transparent conductive film (ITO electrode 15) is applied.
  • the primer 18 coated on the surface coated with UV is irradiated with ultraviolet rays to make each ultraviolet irradiation surface a hydrophilic surface.
  • the substrate of the first transparent conductive film for example, ITO electrode 13
  • the PET film 14 is the PET film 14
  • the second transparent conductive film for example, the ITO electrode
  • the bonding method of the present invention employed when assembling a touch sensor module in which the substrate 15) is the glass substrate 16 has been shown.
  • the joining method of the present invention employed when assembling the touch sensor module in the configuration example of the touch panel shown in FIG. 13 will be described.
  • a glass substrate As a substrate for a transparent conductive film, a glass substrate is superior in visibility and durability as compared with a film substrate. In other words, the glass substrate has higher light transmittance than the film substrate, can reduce the influence of light confusion and substrate distortion, and has less discoloration due to ultraviolet rays, etc. It is superior to this. In addition, the glass substrate is excellent in durability and water resistance in a wide temperature range, and has higher weather resistance than the film substrate. In a touch panel for mechanical equipment or a touch panel for outdoor use that requires high visibility and weather resistance, there is an increasing demand for using a glass substrate as a substrate for a transparent conductive film. The use of a glass substrate for any of the substrates has been studied. In addition, thinning of the glass substrate is being realized, and as with the film substrate, it has become possible to cope with the degree of freedom of shape and the thinning of the panel.
  • FIG. 13 shows the case where both the substrate of the first transparent conductive film (for example, ITO electrode 13) and the substrate of the second transparent conductive film (for example, ITO electrode 15) are glass substrates 16a and 16b.
  • the structural example of the touch panel assembled using the joining method is shown.
  • FIG. 13A shows a case where the first transparent conductive film 13 and the second transparent conductive film 15 face each other with the silicon substrate 17b interposed therebetween.
  • the touch sensor module 10a includes a cover glass 11, a silicon substrate 17a, a first glass substrate 16a, a first ITO electrode 13, a primer 18, and a silicon substrate from the top. 17b, a primer 18, a second ITO electrode 15, and a second glass substrate 16b are laminated in this order.
  • Other configurations are the same as those in FIG.
  • FIG. 13B shows a case where only the second transparent conductive film 15 of the first transparent conductive film 13 and the second transparent conductive film 15 is in contact with the silicon substrate 17b.
  • the touch sensor module 10a includes a cover glass 11, a silicon substrate 17a, a primer 18, a first ITO electrode 13, a first glass substrate 16a, and a silicon substrate from the top. 17b, a primer 18, a second ITO electrode 15, and a second glass substrate 16b are laminated in this order.
  • Other configurations are the same as those in FIG.
  • the thickness of each substrate and each layer is exaggerated for easy explanation, and the relative relationship between the actual thickness of each substrate and each layer is shown in FIG. 13. It is different from what is shown.
  • the joining method of the present invention used when manufacturing the touch panel having the configuration example shown in FIG. 13A will be described with reference to FIGS.
  • Step C-1 Joining Step of Cover Glass and First Glass Substrate with First Transparent Conductive Film (ITO Electrode) Surface
  • This step is shown in FIG.
  • This step is a bonding step between the cover glass 11 and the first glass substrate 16a having the first transparent conductive film (ITO electrode 13) applied on the surface thereof.
  • This step is a previous step prior to [Step 3] to which the bonding method of the present invention is applied.
  • the bonding surface of the cover glass 11 and the UV irradiation surface of the silicon substrate 17a are overlapped.
  • the bonding strength is increased by appropriately pressing or heating the overlapped cover glass 11 and the silicon substrate 17a. Since the cover glass 11 itself has a hydrophilic surface, it is not always necessary to irradiate UV light. However, by irradiating the joint surface of the cover glass 11 with UV light, the joint surface of the cover glass 11 is activated and impurities on the surface of the cover glass 11 are decomposed and removed, so that the cover glass is removed. 11 and the silicon substrate 17a are more reliably joined. Further, UV irradiation to the surface of the silicon (PDMS) substrate 17a and the bonding surface of the cover glass 11 may be performed simultaneously.
  • PDMS silicon
  • the UV irradiation surface of the first glass substrate 16a and the UV irradiation surface of the silicon substrate 17a bonded to the cover glass 11 are overlapped.
  • the bonding strength is increased by appropriately pressing or heating the overlapped cover glass 11 and the silicon substrate 17a.
  • the surface on the opposite side to the surface on which the first ITO electrode 13 is applied in the first glass substrate 16a (the bonding surface of the first glass substrate 16a) itself is a hydrophilic surface. It is not always necessary to irradiate UV light. However, by irradiating the bonding surface of the first glass substrate 16a with UV light, the bonding surface of the first glass substrate 16a is activated or impurities on the bonding surface of the first glass substrate 16a are decomposed. Since it is removed, the first glass substrate 16a and the silicon substrate 17a are more reliably bonded. Further, UV irradiation may be performed simultaneously on the surface of the silicon (PDMS) substrate 17a and the bonding surface of the first glass substrate 16a.
  • PDMS silicon
  • Step D-1 A first glass substrate having a first transparent conductive film (ITO electrode) applied on its surface and a second glass substrate having a second transparent conductive film (ITO electrode) provided on its surface;
  • FIG. 15 shows this process.
  • This process shows a method of bonding a first work having a hydrophobic surface and a second work having a hydrophobic surface through a silicon substrate, and has a hydrophobic surface.
  • the first workpiece corresponds to a first glass substrate 16a having a cover glass 11 bonded to one surface and a first ITO electrode 13 applied to the other surface, and a hydrophobic surface.
  • a second glass substrate 16b having a second transparent conductive film (ITO electrode 15) applied to the surface corresponds to the second work.
  • the first glass substrate in which the cover glass 11 is bonded to one surface in the previous step and the first ITO electrode 13 is applied to the other surface.
  • a primer 18 is coated on the patterned surface of the first ITO electrode 13.
  • the surface coated with the primer 18 is irradiated with UV light emitted from an ultraviolet (UV) light source 40 such as an excimer lamp, so that the primer coat surface is suitable for bonding.
  • UV light source 40 such as an excimer lamp
  • the surface on which the second ITO electrode pattern is applied Coat Primer 18.
  • the surface coated with the primer 18 is irradiated with UV light emitted from an ultraviolet (UV) light source 40 such as an excimer lamp, so that the primer coat surface is suitable for bonding.
  • UV light source 40 such as an excimer lamp
  • the UV irradiation surface of the silicon substrate 17b bonded to the first glass substrate 16a and the primer coating surface of the second glass substrate 16b subjected to the UV irradiation treatment are overlapped, and the second glass is appropriately selected.
  • the substrate 16b and the silicon substrate 17b bonded to the first glass substrate 16a are pressurized or heated to thereby apply the silicon substrate 17b bonded to the first glass substrate 16a and the second ITO.
  • the electrode 15 is bonded to the second glass substrate 16b provided on the surface.
  • the bonding method in this step (D-1) is as follows.
  • a first work having a hydrophobic surface in which a cover glass 11 is bonded to one surface via a silicon substrate 17a, and a first ITO electrode 13 is connected to the other surface.
  • a primer 18 is coated on the surface of the applied first glass substrate 16a to which the first ITO electrode 13 is applied.
  • the surface of the silicon substrate 17b and the surface coated with the primer 18 of the first glass substrate 16a, which is the first work having a hydrophobic surface are irradiated with ultraviolet rays. Both surfaces are hydrophilic surfaces.
  • Both ultraviolet irradiation surfaces are overlapped.
  • each workpiece superposed in the order of the silicon substrate 17b and the first glass substrate 16a (cover glass 11 bonded) which is the first workpiece having a hydrophobic surface.
  • the contact surface is heated while being pressurized.
  • the primer 18 is coated on the surface provided with the second transparent conductive film (ITO electrode 15).
  • ITO electrode 15 the second transparent conductive film
  • the second transparent conductive film (ITO electrode 15) of the second glass substrate 16b which is the workpiece of the second glass substrate 16b, is irradiated with ultraviolet rays on the primer 18 coated on the surface.
  • the surface is a hydrophilic surface.
  • (7) Superimpose both ultraviolet irradiation surfaces.
  • the first glass substrate 16a (cover glass 11 bonded) which is a first work having a hydrophobic surface, a silicon substrate 17b, and a second work having a hydrophobic surface. Heat is applied while pressing the contact surfaces of the workpieces stacked in the order of the second glass substrate 16b, which is a workpiece.
  • only pressurization or heating may be used, but it is desirable to heat while applying pressure.
  • Step C-2 Joining Step of Cover Glass and First Glass Substrate with First Transparent Conductive Film (ITO Electrode) Provided on the Surface
  • This step is shown in FIG.
  • This process shows a method of bonding a first work having a hydrophilic surface and a second work having a hydrophobic surface through a silicon substrate, and has a hydrophilic surface.
  • the first work corresponds to the cover glass 11
  • the second work having a hydrophobic surface corresponds to the first transparent conductive film (ITO electrode 13) provided on the surface. 1 glass substrate 16a.
  • (A) Bonding of the cover glass 11 and the silicon substrate 17a The lower surface of the cover glass 11 which is the first work and the first glass substrate 16a which is the second work. Prior to bonding the surface of the ITO electrode 13 to the cover, first, the cover glass 11 and a silicon (for example, PDMS) substrate 17a are bonded. As shown in FIG. 16A, the surface of a silicon (PDMS) substrate 17a is irradiated with UV light emitted from an ultraviolet (UV) light source 40 such as an excimer lamp to oxidize the surface of the silicon substrate 17a. The surface is a hydrophilic surface. Next, UV light emitted from an ultraviolet (UV) light source 40 such as an excimer lamp is irradiated on the joint surface of the cover glass 11.
  • UV light emitted from an ultraviolet (UV) light source 40 such as an excimer lamp is irradiated on the joint surface of the cover glass 11.
  • the bonding surface of the cover glass 11 and the UV irradiation surface of the silicon substrate 17a are overlapped.
  • the bonding strength is increased by appropriately pressing or heating the overlapped cover glass 11 and the silicon substrate 17a.
  • the cover glass 11 itself has a hydrophilic surface, it is not always necessary to irradiate UV light. However, by irradiating the joint surface of the cover glass 11 with UV light, the joint surface of the cover glass 11 is activated and impurities on the surface of the cover glass 11 are decomposed and removed, so that the cover glass is removed. 11 and the silicon substrate 17a are more reliably joined. Further, the UV irradiation to the bonding surface of the silicon (PDMS) substrate surface and the cover glass 11 may be performed simultaneously.
  • PDMS silicon
  • UV light emitted from an ultraviolet (UV) light source 40 such as an excimer lamp is applied to the surface of the silicon substrate 17a joined to the cover glass 11 on the side opposite to the joint surface to the cover glass 11. Irradiation is performed to oxidize the UV irradiation surface of the silicon substrate 17a to make the surface hydrophilic.
  • UV light source 40 such as an excimer lamp
  • the UV-irradiated surface of the silicon substrate 17a and the UV-irradiated primer coat surface of the first glass substrate 16a are overlaid, and the overlaid cover glass 11 and the silicon substrate are appropriately overlaid.
  • the silicon substrate 17a to which the cover glass 11 is bonded and the first glass substrate 16a to which the first ITO electrode 13 is applied are bonded to each other by pressurizing or heating 17a.
  • the bonding method employed in this step (C-2) is as follows.
  • the silicon substrate 17a is bonded to the lower surface of the cover glass 11, which is the first work having a hydrophilic surface.
  • the silicon substrate 17a is irradiated with ultraviolet rays so that the ultraviolet irradiation surface is a hydrophilic surface, the surface is laminated on the cover glass 11, and the cover glass 11 as the first work is formed.
  • the silicon substrate 17a is bonded.
  • the joint surface of the cover glass 11 may be irradiated with ultraviolet rays.
  • Step D-2 A first glass substrate having a first transparent conductive film (ITO electrode) applied on its surface and a second glass substrate having a second transparent conductive film (ITO electrode) provided on its surface;
  • FIG. 17 shows this process.
  • This process also shows a method of bonding a first work having a hydrophilic surface and a second work having a hydrophobic surface through a silicon substrate.
  • the first work has a first glass substrate 16a having a cover glass 11 bonded to one surface on which the first ITO electrode 13 is applied, and a second glass having a hydrophobic surface.
  • Corresponding to this work is a second glass substrate 16b having a second transparent conductive film (ITO electrode 15) applied on the surface thereof.
  • first glass substrate 16a (already bonded to cover glass 11) and silicon substrate 17b Cover of first glass substrate 16a, which is a first work having a hydrophilic surface
  • the surface opposite to the first ITO electrode 13 side that has been bonded to the glass 11 is bonded to the surface on the second ITO electrode 15 side of the second glass substrate 16b that is a second work having a hydrophobic surface.
  • the first glass substrate 16a (already bonded to the cover glass 11) and the silicon (for example, PDMS) substrate 17b are bonded.
  • the surface of the silicon substrate 17b is irradiated with UV light emitted from an ultraviolet (UV) light source 40 such as an excimer lamp to oxidize the surface of the silicon substrate 17b.
  • UV light source 40 such as an excimer lamp to oxidize the surface of the silicon substrate 17b.
  • the surface is a hydrophilic surface.
  • an excimer lamp or the like is applied to the surface opposite to the first ITO electrode 13 side that has been bonded to the cover glass 11 of the first glass substrate 16a in the previous step. UV light emitted from the ultraviolet (UV) light source 40 is irradiated.
  • the UV irradiation surface of the silicon substrate 17b and the UV irradiation surface of the first glass substrate 16a are overlapped, and the contact surface between the first glass substrate 16a and the silicon substrate 17b is appropriately pressurized or heated.
  • the silicon substrate 17b and the first glass substrate 16a having the cover glass 11 bonded to one surface are bonded.
  • the second ITO electrode 15 pattern is applied to the second glass substrate 16b having the second ITO electrode 15 having a pattern as shown in FIG. Coat Primer 18 on the surface.
  • the surface coated with the primer 18 is irradiated with UV light emitted from an ultraviolet (UV) light source 40 such as an excimer lamp, so that the primer coat surface is suitable for bonding.
  • UV light source 40 such as an excimer lamp
  • the UV irradiation surface of the silicon substrate 17b bonded to the first glass substrate 16a and the primer coating surface of the second glass substrate 16b subjected to the UV irradiation treatment are overlapped, and the second glass is appropriately selected.
  • the substrate 16b and the silicon substrate 17b bonded to the first glass substrate 16a are pressurized or heated to thereby apply the silicon substrate 17b bonded to the first glass substrate 16a and the second ITO.
  • the electrode 15 is bonded to the second glass substrate 16b provided on the surface.
  • the bonding method in this step (D-2) is as follows. (1) A first work having a hydrophilic surface, and a cover glass 11 is bonded to one surface on which the first ITO electrode 13 is applied via a silicon substrate 17a.
  • the first glass substrate 16a and the surface of the silicon substrate 17b are irradiated with ultraviolet rays, and the first wafer having a hydrophilic surface is attached so that the ultraviolet irradiation surfaces of both works are in close contact with each other.
  • the first glass substrate 16a and the silicon substrate 17b, which are the workpieces, are stacked, and the first glass substrate 16a and the silicon substrate 17b, which are the first workpieces having a hydrophilic surface, are joined. .
  • the primer 18 is coated on the surface provided with the second transparent conductive film (ITO electrode 15).
  • the second transparent conductive film (ITO electrode 15) is coated on the surface provided with the second transparent conductive film (ITO electrode 15).
  • the first glass substrate 16a (cover glass 11 bonded), which is a first work having a hydrophilic surface, a silicon substrate 17b, and a second work having a hydrophobic surface. Heat is applied while pressing the contact surfaces of the workpieces stacked in the order of the second glass substrate 16b, which is a workpiece.
  • pressurization or heating may be used, but it is desirable to heat while applying pressure.
  • the touch sensor module in the touch panel shown in FIG. 13A is configured through [Step C-1] and [Step D-1] employing the bonding method of the present invention. Further, the touch sensor module in the touch panel shown in FIG. 13B is configured through [Step C-2] and [Step D-2] employing the bonding method of the present invention.
  • the touch sensor module 10a and the touch panel control unit 10b are stacked on the image display device 30 such as an LCD panel to constitute a touch panel.
  • the structure example of the touch panel control unit 10b and the bonding of the touch panel laminated in the order of the touch sensor module 10a, the touch panel control unit 10b, and the image display device 30 are the same as those in the related art, and therefore detailed here. Description is omitted.
  • a silicon (substrate) is used instead of the conventional OCA tape or OCR, and the silicon (substrate)
  • the joint surface of each component is irradiated with ultraviolet rays.
  • a primer eg, a silane coupling agent
  • the primer coat surface is irradiated with ultraviolet rays. Therefore, the same effect as in the first embodiment can be achieved.
  • the touch sensor module constructed in the second embodiment uses only a glass substrate as the substrate of the transparent conductive film, a touch panel incorporating this touch sensor module has high visibility and weather resistance. Will have. Further, by adopting the glass substrate as the substrate of the transparent conductive film, the surface of the transparent conductive film opposite to the surface on which the transparent conductive film is applied becomes a hydrophilic surface. Therefore, it is not necessary to introduce a primer to this surface. That is, the manufacturing process of the touch sensor module constructed in the second embodiment is simplified as compared with the manufacturing process of the touch panel constructed in the first embodiment, because the number of faces for introducing the primer is small. .
  • the surface of the first work and the second work having a conductive thin film on the joint is subjected to surface modification by ultraviolet irradiation.
  • the first work and the second work are laminated with a silicon substrate having a hydrophilic surface interposed therebetween, and the first and second works thus laminated are heated.
  • a pressure treatment is performed to bond the first work and the second work together.
  • bonding of a silicon substrate and a conductive thin film surface of a conductive thin film substrate which could not be bonded even by using a surface modification treatment by ultraviolet irradiation, is conventionally performed.
  • a silane coupling agent is introduced into the conductive thin film surface and the hydrophobic surface of the substrate, and the silane coupling is performed.
  • the bonding is made possible by modifying the surface of the agent by irradiating it with ultraviolet rays (making the surface state suitable for bonding).
  • a silicon substrate and a conductive thin film substrate provided with a conductive thin film are bonded using a primer
  • PDMS was used as the silicon substrate
  • PET film with an ITO layer provided on one side was used as the conductive thin film substrate.
  • a silane coupling agent was used as the primer.
  • the silane coupling agent is KBE-9007 manufactured by Shin-Etsu Silicon Co., and the structural formula is (C 2 H 5 O) 3 SiC 3 H 6 N ⁇ C ⁇ O.
  • an acetone diluted solution of the silane coupling agent was coated on the ITO layer of the PET film 14 by a spin coating method.
  • ultraviolet rays were irradiated to the bonding surface of the PDMS substrate (silicon substrate) and the surface of the PET film coated with the silane coupling agent.
  • the ultraviolet light source used was an excimer lamp that emits vacuum ultraviolet rays (VUV) having a center wavelength of 172 nm.
  • Irradiation conditions were an irradiance of 5 mW / cm 2 on the irradiated surface and an irradiation time of 180 seconds.
  • the PDMS substrate and the PET film are overlapped so that the VUV irradiation surfaces of the PDMS substrate and the PET film are in contact with each other, and a pressure of 0.25 Mpa is applied to both, so that the temperature of both becomes 100 ° C. Heated.
  • the heating time was 30 seconds.
  • the PDMS substrate and the PET film were joined by the procedure as described above.
  • this experiment enables the pasting of a silicon substrate and a conductive thin film surface of a conductive thin film substrate, which could not be bonded even by using a surface modification treatment by ultraviolet irradiation. It has been found. Similarly, it is considered possible to bond the silicon substrate and the conductive thin film substrate when the surface is hydrophobic. Similar results were obtained even when other silane coupling agents (for example, KBE-403 manufactured by Shin-Etsu Silicon Co., Ltd .: structural formula shown in the formula (1)) were used as the primer.
  • silane coupling agents for example, KBE-403 manufactured by Shin-Etsu Silicon Co., Ltd .: structural formula shown in the formula (1)
  • a siloxane-based coating agent for example, an alcoholic silica sol “Corcote N-103X” manufactured by Colcoat Co., Ltd. (ethanol; about 4%, 2-propanol; 40 %, 1-butanol; silica; about 2% dispersed in 50% mixed solvent).
  • the bonding method of the present invention can also be applied to a case where a touch sensor module having a configuration other than the touch sensor module having the configuration shown in FIGS. 1 and 13 is configured.
  • a touch sensor module having a configuration other than the touch sensor module having the configuration shown in FIGS. 1 and 13 is configured.
  • the first and second glass substrates 16a and 16b to which the transparent conductive film is applied are applied to the first and second resin substrates made of the PET film 14 or the like.
  • [Step C-1] shown in FIG. 14 is replaced with [Step A-1] shown in FIG.
  • the subsequent [Step D-1] can be applied as it is.

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Abstract

 リワ-ク性が良好で発色せず、処理時間が比較的短く、比較的安価なワ-クの貼り合わせ方法及びこの方法を採用して製造されたタッチパネルを提供する。親水性表面を持つカバ-ガラス11とシリコ-ン基板(例えばPDMS)17aの貼り合わせ面に紫外線を照射し、積層し、加圧/加熱して貼り合わせる。また、疎水性表面を持つPETフィルム14のハ-ドコ-ト層14aの上に設けられたITO電極13上にプライマ-をコ-トし、その面とシリコ-ン基板(例えばPDMS)17aの貼り合わせ面に紫外線を照射して、積層し、加圧/加熱して貼り合わせる。同様に、ガラス基板16上の第2のITO電極15上、及びPETフィルム14のハ-ドコ-ト層14a上にプライマ-をコ-トし、その面とシリコ-ン基板(例えばPDMS)17bとの貼り合わせ面に紫外線を照射して積層し、加圧/加熱して貼り合わせる。

Description

ワ-クの貼り合わせ方法およびタッチパネル
 本発明は、タッチパネルや有機EL(有機エレクトロルミネッセンス、Organic Electro-Luminescence)、有機半導体、太陽電池パネルの製造等に用いることができるワ-クの貼り合わせ方法、およびこの方法で製造されるタッチパネルに関する。さらに、詳細には、例えば表面にハ-ドコ-ト層が設けられたPET(ポリエチレンテレフタラ-ト:Polyethylene terephthalate)等の樹脂のように表面が疎水性を有するワ-クとシリコ-ンからなる部材を貼り合わせたり、例えばガラス等の表面が親水性を有するワ-クや、例えば表面にハ-ドコ-ト層が設けられた樹脂のように表面が疎水性を有するワ-ク、さらには、ガラスもしくは上記樹脂からなる部材の表面に例えばITO(酸化インジウムスズ:Indium Tin Oxide)透明電極のような透明導電膜が施され、表面が疎水性を有するワ-クを、シリコ-ンからなる部材を介在させて互いに貼り合わせるためのワ-クの貼り合わせ方法、および、これらのワ-クを貼り合わせることにより製造されるタッチパネルに関する。
 近年、ワ-クを貼り合わせて製造される有機EL、有機半導体、太陽電池等が注目されている。また、ワ-クを貼り合わせて製造されるものとしてタッチパネルが知られている。タッチパネルは、画像が表示されるディスプレイに指やペン等で触れることによりスイッチのon-off、デ-タ入力等の制御が可能なものであって、近年、急速に普及している。例えば、携帯電話、携帯ゲ-ム機、タブレット端末などのガジェット、カ-ナビゲ-ション装置、銀行のATM、切符自動販売機等でタッチパネルは広く用いられている。
 図18に、映像表示装置とタッチセンサモジュ-ルからなるタッチパネルの模式図を示す。例として、投影静電容量方式のタッチパネルを示す。
 図18に示すように、タッチパネル100はLCDパネル等の画像表示装置30とその上部に配置される位置入力装置10とからなる。
 位置入力装置10は、タッチセンサ表面において指やペン等で接触された部分を検出するためのタッチセンサモジュ-ル10aと、タッチセンサモジュ-ル10aからの位置入力情報を処理し、上記情報に基づき画像表示装置30を制御するタッチパネル制御部10bからなる。
 タッチセンサモジュ-ル10aは、第1の透明導電膜(例えば、ITO電極)パタ-ンが施されたPETフィルム14と、第2の透明導電膜(例えば、ITO電極)パタ-ンが施されたガラス基板16が積層された構造であり、上から第1のITO電極13、PETフィルム14、第2のITO電極15、ガラス基板16の順に積層される。なお、PETフィルム14の両面には、PETフィルム14の傷付き防止のため光透過性のハ-ドコ-ト層14aが設けられる。すなわち、第1の透明導電膜パタ-ンは、PETフィルム14上のハ-ドコ-ト層14a上に設けられる。ハ-ドコ-ト層14aは、例えば、アクリレ-ト樹脂等からなる。
 更に、PETフィルム14の第1のITO電極13が施された側にはカバ-ガラス11が設置される。PETフィルム14の第1のITO電極13パタ-ンが施された表面と対向する側のカバ-ガラス11表面の周縁部にはブラックマトリクス12が形成されている。
 一方、ガラス基板16の下側には、第1のITO電極13、第2のITO電極15と電気的に接続され、更に後で示すタッチパネル制御部10bとも電気的に接続される配線層21が設けられる。
 配線層21は、カバ-ガラス11側から観察した際、カバ-ガラス11に設けられたブラックマトリックス12によって遮蔽されるように、ガラス基板16の下側にて配置される。すなわち、配線層21は、タッチパネルにおいて表示される画像を干渉しない位置に設けられる。
 タッチパネル制御部10bは、タッチパネル(TP)コントロ-ルIC部22とFPC(フレキシブルプリント基板)23とからなり、FPC23上にタッチパネルコントロ-ルIC部22が設けられる。FPC23は、カバ-ガラス11側から観察した際、カバ-ガラス11に設けられたブラックマトリックス12によって遮蔽されるように、中央部分に開口が設けられた環状構造であり、タッチパネルコントロ-ルIC部22はこの環状構造部分の上部に設けられる。すなわち、タッチパネル制御部10bは、タッチパネルにおいて表示される画像を干渉しない位置に設けられる。上記したようにタッチパネル制御部10bは、タッチセンサモジュ-ル10aの配線層21と電気的に接続され、また、画像表示装置30とも電気的に接続される。
 上記したタッチセンサモジュ-ル10a、タッチパネル制御部10bが、LCDパネル等の画像表示パネル32から構成される画像表示装置30上に積層されてタッチパネルが構成される。なお、画像表示パネル32の表面には、偏光フィルム31が設けられている。なお、図18に示すように、上からタッチセンサモジュ-ル10a、タッチパネル制御部10b、画像表示装置30の順に積層されるタッチパネルは、紫外線硬化性接着剤24(UV Resin)にて接合される。すなわち、タッチセンサモジュ-ル10aのガラス基板16の配線層21が設けられた表面と、タッチパネル制御部10bと画像表示装置30表面の偏光フィルムはUV Resinにて接合される。なお、タッチセンサモジュ-ル10aのガラス基板16の配線層21が設けられていない部分やタッチパネル制御部10bの開口部分などは、UV Resinが充填された状態となる。
 タッチパネルは、カバ-ガラス11上に接触した指等の位置情報をタッチパネルセンサモジュ-ル10aにて検出し、その位置情報を受信したタッチパネル制御部10bからの制御信号に基づいて画像表示装置30の動作を制御するものである。
 図18(b)に示すように、第1のITO電極13は、Y方向に伸びる電極パタ-ン単位が複数、X方向に並列に配置された電極パタ-ンである。すなわち、第1のITO電極13は複数の電極パタ-ン単位からなる。
 一方、図18(c)に示すように、第2のITO電極15は、X方向に伸びる電極パタ-ン単位が複数、Y方向に並列に配置された電極パタ-ンである。すなわち、第2のITO電極15は複数の電極パタ-ン単位からなる。
 これらの各電極パタ-ン単位に図示を省略した電源により高周波電圧を印加しておく。タッチパネルのカバ-ガラス11に指が近づくと、指と第1のITO電極13において指に近い位置に配置されている電極パタ-ン単位、指と第2のITO電極15において指に近い位置に配置されている電極パタ-ン単位との間に静電容量(コンデンサ)が形成され、それぞれ電流が流れる。この電流変化を検出することにより、カバ-ガラス11上の指の位置が検出される。
 すなわち、図18(b)(c)から明らかなように、第1のITO電極13は指のX方向の位置、第2のITO電極15は指のY方向の位置を検出する。図18(d)に示すように、第1のITO電極13と第2のITO電極15とをX-Y二次元方向のマトリックス状に配置することにより、タッチパネルセンサモジュ-ル10aは、カバ-ガラス11に接触した指のX-Y二次元方向の位置を検出する。
 タッチパネルセンサモジュ-ル10aにより検出されたカバ-ガラス11に接触した指の位置に関する信号は、タッチパネル制御部10bへと送信される。
 ここで、タッチパネルセンサモジュ-ル10aにおけるPETフィルム14とカバ-ガラス11との間(PETフィルム14の第1のITO電極13が施された表面とカバ-ガラス11の下側表面との間)、あるいはPETフィルム14とガラス基板16との間(PETフィルム14の第1のITO電極13側と反対側のハ-ドコ-ト層14a表面とガラス基板16の第2のITO電極15が設けられた表面との間)に空気層が介在すると、各表面と空気層との界面における屈折率の相違により当該界面での光の反射が発生し、輝度の低下やコントラストの低下といったタッチパネルにおける表示画質の劣化が発生する。
 よって、このような空気層をなくすために、空気と比較して屈折率がカバ-ガラス11やPETフィルム14、ガラス基板16の屈折率に近い透明物質により空気層を置換して、タッチパネルディスプレイの輝度の低下やコントラストの低下を抑制することが行われている。
 具体的には、空気と比較して上記したような屈折率を有する透明の接着部材19により、カバ-ガラス11の下側表面とPETフィルム14の第1のITO電極13側表面とが接合される。また、PETフィルム14の第1のITO電極13側と反対側のハ-ドコ-ト層14a表面とガラス基板16の第2のITO電極15が設けられた表面とも上記したような接着部材により接合される。
 接着部材としては、例えば、特許文献1、特許文献2に例示されているような透明性の高いアクリル系粘着剤を使用した光学用粘着テ-プ(Optically Clear Adhesive Tape:以下OCAテ-プという)や、特許文献3、特許文献4に例示されているような透明性の高い硬化型樹脂(Optically Clear Resin:以下OCRという)が用いられる。
特開平9-251159号公報 特開2011-74308号公報 特開2009-48214号公報 特開2010-257208号公報 特許第3714338号公報 特開2006-187730号公報 国際公開2008/087800号 特開2008-19348号公報
 上記したように、OCAテ-プ、OCRを使用して、カバ-ガラス11の下側表面とPETフィルム14の第1のITO電極13側表面の接合、PETフィルム14の第1のITO電極13側と反対側のハ-ドコ-ト層14a表面とガラス基板16の第2のITO電極15が設けられた表面との接合を実施することにより、タッチパネルディスプレイの輝度の低下やコントラストの低下を抑制することが可能となる。
 しかしながら、OCAテ-プ、OCRの使用する場合、以下のような問題点や不具合も考慮する必要がある。
 OCAテ-プの場合、接着力が強力であるためリワ-ク性が乏しい。すなわち、一度剥がして再度使用することは難しいので、OCAテ-プ使用時には、高い貼り合わせ精度が要求される。
 また、OCAテ-プは硬いので、PETフィルム14の第1のITO電極13側表面やガラス基板16の第2のITO電極15が設けられた表面のような表面に段差構造が存在する場合、貼り付け時上記段差部分に気泡が混入しやすい。
 更には、上記したようにOCAテ-プはリワ-ク性が乏しく、表面の段差部分で気泡が混入しやすいので、貼り付け処理が難しい。よって、接合面の面積が大面積であるような被接合対象の場合、OCAテ-プを使用することは困難である。また、OCAテ-プは比較的高価である。
 一方、OCRによる接合は以下のように行われる。すなわち、2枚のワ-クの少なくとも一方の接合面にOCR塗布して当該2枚のワ-クを重ね合わせ、加熱や紫外線(UV)照射によりOCRを硬化させて上記2枚のワ-クを接合する。ここで、OCRは一般に粘度が高いので、接合面に均一に塗布するのは難しい。よって、例えば、カバ-ガラス11接合面とPETフィルム14接合面とが非平行の状態で接合されるという不具合も発生しうる。
 また、OCRは耐熱温度が低く、紫外線(UV)硬化性のOCRの場合UV照射時のOCRの温度上昇の影響を考慮する必要がある。すなわち、UV光源40とOCR接合面との距離が近すぎると、OCRが当該OCRの耐熱温度以上に加熱されてしまう。よって、UV光源40とOCR接合面との距離はある程度大きくする必要があるが、この場合、OCR接合面でのUV強度も弱くなるので、結果的にUV硬化性OCRの場合、硬化プロセス時間が長くなる。
 また、OCRは硬化の際変形が生じるので、2枚のワ-クの接合状態が必ずしも望ましいものになるとは限らない。例えば、カバ-ガラス11とPETフィルム14の接合やガラス基板16と画像表示パネル32の接合の場合、カバ-ガラス11とPETフィルム14との間隔やガラス基板16と画像表示パネル32の間隔が不均一になることもあり、タッチパネルの性能が劣化する。
 更には、OCRの場合も時間的耐性が必ずしも十分ではなく、貼り合わせ後ある程度の時間が経過すると、OCR自体に着色が発生し、例えば、黄色くなる。よって、タッチパネルの場合、画像が変色して見えてしまう。また、OCRも価格が比較的高い。
 本発明は上記事情に鑑みなされたものであって、本発明の目的は、リワ-ク性が良好で長時間使用しても発色せず、処理時間が比較的短く、比較的安価で、接合面が大面積の部材に対しても容易に接合可能なワ-クの貼り合わせ方法を提供することであり、また、このような貼り合わせ方法を採用して輝度の低下やコントラストの低下を抑制したタッチパネルを提供することである。
 本発明は、ガラス等の親水性表面を持つワ-ク、樹脂等の疎水性表面を持つワ-ク、ガラスや樹脂等の表面に透明導電膜が施され疎水性表面を持つワ-ク等、親水性表面を持つワ-クと疎水性表面を持つワ-クとを貼り合わせる場合、あるいは、疎水性表面を持つワ-ク同士を相互に貼り合わせる場合において、従来のOCAテ-プまたはOCRに代えてシリコ-ンからなる部材を使用して、これらを貼り合わせる技術を提供するものである。さらに、上記疎水性表面を持つ第2、第3のワ-クに、上記シリコ-ンからなる部材を貼り合わせる技術を提供するものである。
 具体例としては、タッチパネルについて説明する。図18に示すタッチパネルにおいて、カバ-ガラス11の下側表面(第1のワ-クの表面)とPETフィルム14の第1のITO電極13側表面(第2のワ-クの表面)の貼り合わせや、PETフィルム14の第1のITO電極13側の反対側のハ-ドコ-ト層14a表面(第1のワ-クの表面)とガラス基板16の第2のITO電極15が設けられた表面(第2のワ-クの表面)とを貼り合わせるに際し、従来のOCAテ-プまたはOCRに代えてシリコ-ンからなる部材を使用するものである。
 大気中においてシリコ-ンからなる部材(以下シリコ-ン基板という)表面に紫外線を照射すると当該表面が酸化されて親水性表面となり、このような表面にガラス基板16や樹脂基板を重ね合わせて、重ね合わせたガラス基板16や樹脂基板と紫外線を照射したシリコ-ン基板とを所定の時間加圧したり、加熱したりすることにより、両基板が接合されることが知られている。
 例えば、特許文献5に記載されているように、シリコ-ン基板がポリジメチルシロキサン(Polydimethylsiloxane:PDMS)基板である場合、シリコ-ン(PDMS)基板17の表面は、図2(a)に示すように、オルガノシロキシ基が存在する表面(疎水性表面)となっている。
 大気中に保持されるこの基板17の表面に、波長220nm以下の紫外線(例えば、キセノンエキシマランプから放出される中心波長172nmの紫外線)を照射することにより、基板表面にて活性酸素が発生する。この活性酸素と基板表面とが接触することにより、当該基板表面が酸化される。すなわち、図2(b)に示すように、オルガノシロキシ基に係るメチル基が脱離され、当該メチル基が結合していたケイ素原子に活性酸素が結合された状態となる。
 大気中には水分が存在しているので上記した活性酸素と水素とが結合し、図2(c)に示すように、基板表面は、ケイ素原子にヒドロキシ基(OH基)が結合された状態となる。このような表面にガラス基板16の親水性表面を重ね合わせて両表面を密着させることにより、図2(d)に示すように、PDMS基板17の表面とガラス表面との界面において水素結合が形成され、両基板は接合される。
 シリコ-ンは比較的安定した素材であり、OCRとは異なり、貼り合わせ後ある程度の時間が経過してもシリコ-ン自体の着色は発生しない。よって、タッチパネルディスプレイの各基板の接合材料として使用しても、タッチパネルの画像に変色の影響は発生しない。
 また、シリコ-ンは比較的柔らかい素材であるので、PETフィルム14の第1のITO電極13側のハ-ドコ-ト層14a表面やガラス基板16の第1の配線層21側の表面のような表面に段差構造が存在する場合であっても、貼り付け時の上記段差部分への気泡混入を容易に抑制することができる。すなわち、接合面が大面積の部材に対しても容易に接合することが可能である。
 また、上記したように、シリコ-ン基板を用いた接合は、OCRのように接合面への塗布といった工程はなく、また、OCRのような硬化反応による接合ではないので、OCRを使用する場合の塗布の均一性の問題や硬化時の変形の問題は発生しない。
 シリコ-ンはOCRと比べ耐熱温度が高いので、OCR硬化時における紫外線(UV)光源40とOCR接合面との距離に比べ、シリコ-ン基板表面処理時におけるUV光源40とシリコ-ン基板表面との距離を小さくすることができ、シリコ-ン基板表面でのUV強度はOCR接合面でのUV強度より大きい。すなわち、シリコ-ン基板へのUV照射工程においては、OCR接合面へのUV照射工程より、UVの利用効率が大きい。
 また、発明者らの実験によれば、OCRのUV硬化反応に要する時間より、シリコ-ン基板へのUV照射工程、シリコ-ン基板とガラス基板等の被接合基板の加熱工程や加圧工程に要する時間の方が短いことが分かった。
 また、一般にシリコ-ン基板は、OCAテ-プやOCRと比較すると価格が安価である。
 シリコ-ン基板を用いた接合の場合、ガラス基板や樹脂基板と紫外線を照射したシリコ-ン基板とを重ね合わせてすぐ接合が完了するのではなく、上記したように所定の時間だけ両基板を加圧したり、加熱したりすることによって接合が完了する。よって、重ね合わせた直後に両基板を分離するのは容易である。よって、例えばガラス基板や樹脂基板と紫外線を照射したシリコ-ン基板との位置合わせが不十分であるとき、重ね合わせた直後であるならば両者を一度剥がして、再度シリコ-ン基板に紫外線を照射して接合工程を行うことが可能となる。すなわち、OCAテ-プと比較すると、リワ-ク性に富んでいる。
 図1に本発明の接合方法を用いて組み上げたタッチパネル100の構成例を示す。
 基本的な構成は、前記図18に示したものと同じであり、タッチセンサモジュ-ル10aとタッチパネル制御部10bから構成される位置入力装置10と、画像表示装置30から構成され、本発明においては、PETフィルム14のハ-ドコ-ト層14aの表面に設けられた第1のITO電極13と、カバ-ガラス11との間にシリコ-ン基板(例えばPDMS)17aが設けられ、シリコ-ン基板17aの一方の面と上記第1のITO電極13の間にプライマ-が介在している。また、PETフィルム14のハ-ドコ-ト層14aと、ガラス基板16の表面に設けられた第2のITO電極15の間にシリコ-ン基板17bが設けられ、シリコ-ン基板17bとハ-ドコ-ト層14aとの間、及びシリコ-ン基板17bとITO電極15の間にプライマ-が介在している。
 ここで、発明者等の実験の結果、以下のような知見が得られた。すなわち、シリコ-ン基板の表面に紫外線(UV)を照射して当該表面を親水性表面とし、このシリコ-ン基板の親水性表面と、表面に第1のITO電極13が施されたPETフィルム14や表面に第2のITO電極15が設けられたガラス基板16とを重ね合わせても接合ができないことが分かった。同様に、UV照射によって得られたシリコ-ン基板の親水性表面と、PETフィルム14の第1のITO電極13側と反対側のハ-ドコ-ト層14a表面とを重ね合わせても接合ができないことが分かった。
 すなわち、親水性表面であるシリコ-ン基板の接合面と、(疎水性表面である)PETフィルム14の第1のITO電極13が施されている面、PETフィルム14の第1のITO電極13が施されている面とは反対側のハ-ドコ-ト層14a表面、ガラス基板16の第2のITO電極15が施されている面とは、接合が難しいことが分かった。
 発明者らは鋭意検討し、PETフィルム14の第1のITO電極13が施されている面、PETフィルム14の第1のITO電極13が施されている面とは反対側のハ-ドコ-ト層14a表面、及び、ガラス基板16の第2のITO電極15が施されている面にそれぞれプライマ-18(下塗り剤)を施し、更に当該プライマ-18の表面改質を行うことにより、これらの面(PETフィルム14の第1のITO電極13が施されている面、PETフィルム14の第1のITO電極13が施されている面とは反対側のハ-ドコ-ト層14a表面、ガラス基板16の第2のITO電極15が施されている面)を接合に適した表面とし、この接合に適した表面とUV照射されたシリコ-ン基板表面とを重ね合わせることにより、シリコ-ン基板とこれらの面PETフィルム14とを接合することが可能であることを見出した。そして、プライマ-18としては、シランカップリング剤、シロキサン系コ-ト剤が有効であることが分かった。
 ワ-ク表面にプライマ-18を施して当該プライマ-18の表面改質を行うことにより、このワ-クとUV照射されたシリコ-ン基板表面とが接合可能となるメカニズムは必ずしも明確には分かっていないが、概略以下のようなメカニズムであると考えられる。以下、この考えられるメカニズムについて、図3、図4を参照しながら説明する。
 例として、プライマ-18としてシランカップリング剤を使用し、プライマ-18を施す表面をPETフィルム14の第1のITO電極13が施されている面とした場合を考察する。なお、図4のシリコ-ン基板17は、予め図2に示したような方法でカバ-ガラス11と接合されているものとする。
 図3(a)は、PETフィルム14の第1のITO電極13が施されている面にプライマ-18としてシランカップリング剤がコ-トされた状態を示す。
シランカップリング剤は、1つの分子中に反応性の異なる2種類の官能基を有する。図3(a)において、RO(Oは酸素)で示す官能基は無機材料と化学結合する官能基であり、Xは有機材料と結合する官能基である。PETフィルム14上の第1のITO電極13は無機物であるので、官能基ROと化学結合している。
 次に、図3(b)に示すように、水分(HO)、二酸化炭素(CO)を含む大気中にて、PETフィルム14のシランカップリングコ-ト面に対してエキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出される紫外線(UV)を照射する。UV照射により、PETフィルム14のシランカップリングコ-ト面が表面改質される。
 具体的には、(a)シランカップリング剤の官能基RO、Xが分解・離脱してシリコン酸化物がPETフィルム14上の第1のITO電極13表面やPETフィルム14の第1のITO電極13パタ-ンが施されていない表面の一部と結合したり、(b)上記した官能基Xの分解反応やUV照射による空気中の水分、二酸化炭素の化学反応の結果、シリコン酸化物がPETフィルム14上の第1のITO電極13表面やPETフィルム14の第1のITO電極13パタ-ンが施されていない表面の一部とカルボキシル基(-COOH)が結合したり、(c)シランカップリング剤の官能基RO、Xが分解・離脱して、一部露出したPETフィルム14上の第1のITO電極13表面やPETフィルム14の第1のITO電極13パタ-ンが施されていない表面と、UV照射による空気中の水分、二酸化炭素の化学反応の結果生成した酸素ラジカルとが反応してヒドロキシ基(-OH:以下、OH基ともいう)が結合したりするものと考えられる。そして、上記した(a)シリコン酸化物は、空気中の水分と反応して、図3(b)の右側の図のように、終端がOH基が結合した状態となるものと考えられる。
 なお、図3(b)では表示を省略したが、UV照射の結果生成する酸素ラジカルにより、PETフィルム14のシランカップリングコ-ト面に付着している不純物もクリ-ニングされるものと考えられる。
 まとめると、PETフィルム14上の第1のITO電極13パタ-ンが施された面は、(a)結合したシリコン酸化物の終端がOH基となっている部分、(b)カルボキシル基と結合した部分(終端はOH基)、(c)酸素ラジカルによる酸化反応でOH基が結合している部分とが混在しているものと考えられる。
 いずれの場合も終端がOH基となっているので、UV照射によるPETフィルム14のシランカップリングコ-ト面の表面改質により、PETフィルム14上の第1のITO電極13パタ-ンが施された表面の殆どがOH基と結合し、PETフィルム14上の第1のITO電極13パタ-ンが施された表面が親水性表面になるものと考えられる。
 すなわち、疎水性表面であるPETフィルム14の第1のITO電極13が施されている面にプライマ-18をコ-トし、当該プライマ-18をコ-トした面に紫外線(UV)を照射することにより、PETフィルム14の第1のITO電極13が施されている面は、接合に適した表面(親水性表面)になるものと考えられる。
そして、図4(c)に示すように、このようなシランカップリング剤をコ-トしてUV照射処理により親水性表面(すなわち、接合に適した表面)となったPETフィルム14の第1のITO電極13が施されている面に、UV照射によりカバ-ガラス11との接合面の反対側の表面を親水性表面に改質してなるシリコ-ン基板17の接合面とを重ね合わせることにより水素結合が形成され、重ね合わせたシリコ-ン基板17とPET基板を加熱することにより接合面の脱水が発生し、最終的にシリコ-ン基板17と接合表面に第1のITO電極13パタ-ンが施されているPETフィルム14とは酸素の共有結合により接合されるものと考えられる。
 なお、図3、図4では、PETフィルム14の第1のITO電極13が施されている面にプライマ-18としてシランカップリング剤がコ-トした場合を考察したが、PETフィルム14の第1のITO電極13が施されている面とは反対側のハ-ドコ-ト層14a表面、ガラス基板16の第2のITO電極15が施されている面にプライマ-18をコ-トしても同様のメカニズムで接合が可能になるものと考えられる。
 また、プライマ-18としてシランカップリング剤の代わりに防汚や静電気防止の用途に使用されるシロキサン系コ-ト剤を用いた場合も、ワ-クのシロキサン系コ-ト剤をコ-トした面に紫外線を照射することにより、当該コ-ト面の終端の状態はOH基が結合した親水性表面となって、接合に適した表面に改質されるものと考えられる。
 以上に基づき、本発明においては、次のように前記課題を解決する。
(1)疎水性表面を持つワ-クの一方の面にシランカップリング剤もしくはシロキサン系コ-ト剤からなるプライマ-をコ-トし、上記ワ-クのプライマ-をコ-トした面と、上記シリコ-ンからなる部材に紫外線を照射し、上記ワ-クの紫外線を照射した面と、シリコ-ンからなる部材の紫外線を照射した面が接触するように積層し、上記積層したワ-クとシリコ-ンからなる部材の接触面が加圧されるように加圧し、あるいは積層したワ-クとシリコ-ンからなる部材を加熱し、あるいは、積層したワ-クとシリコ-ンからなる部材をその接触面が加圧されるように加圧しながら加熱することにより、疎水性表面を持つワ-クとシリコ-ンからなる部材とを貼り合わせる。
(2)疎水性表面を持つ第2のワ-クの表面にシランカップリング剤もしくはシロキサン系コ-ト剤からなるプライマ-をコ-トし、親水性表面を持つ第1のワ-クの一方の面と、上記第2のワ-クのプライマ-をコ-トした面のそれぞれと、上記シリコ-ンからなる部材の両面に紫外線を照射し、第1のワ-クと上記シリコ-ンからなる部材と第2のワ-クを、上記紫外線が照射された面が接触するように積層し、上記接触面が加圧されるように加圧し、あるいは積層した第1および第2のワ-クとシリコ-ンからなる部材を加熱し、あるいは積層した第1および第2のワ-クとシリコ-ンからなる部材をその接触面が加圧されるように加圧しながら加熱することにより、親水性表面を持つ第1のワ-クと、疎水性表面を持つ第2のワ-クをシリコ-ンからなる部材を介在させて貼り合わせる。
(3)疎水性表面を持つ第1のワ-クと、疎水性表面を持つ第2のワ-クの表面にシランカップリング剤もしくはシロキサン系コ-ト剤からなるプライマ-18をコ-トし、第1のワ-ク及び第2のワ-クの、上記プライマ-リ-をコ-トした面のそれぞれと、上記シリコ-ンからなる部材の両面に紫外線を照射し、上記第1のワ-クと上記シリコ-ンからなる部材と第2のワ-クを、上記紫外線が照射された面が接触するように積層し、上記接触面が加圧されるように加圧し、あるいは積層したワ-クを加熱し、あるいは積層したワ-クをその接触面が加圧されるように加圧しながら加熱することにより、疎水性表面を持つ第1のワ-クと、疎水性表面を持つ第2のワ-クをシリコ-ンからなる部材を介在させて貼り合わせる。
(4)透明導電膜が施された基板を有するタッチセンサモジュ-ルと、画像表示装置とを備えたタッチパネルにおいて、上記タッチセンサモジュ-ルに、シランカップリング剤もしくはシロキサン系コ-ト剤からなるプライマ-がコ-トされ、該プライマ-をコ-トした面が紫外線照射により改質された透明導電膜が施された基板と、紫外線照射により表面が改質されたシリコ-ンからなる部材と設け、上記基板と上記シリコ-ンからなる部材の、上記紫外線が照射されたそれぞれの面を対向させて積層する。
 本発明においては、以下の効果を得ることができる。
(1)疎水性表面を持つワ-ク面にシランカップリング剤もしくはシロキサン系コ-ト剤からなるプライマ-をコ-トし、ワ-クのプライマ-をコ-トした面と、シリコ-ンからなる部材に紫外線を照射し、上記ワ-クに貼り合わせることにより、上記ワ-クの表面を接合に適した表面(親水性表面)にすることができ、上記ワ-クとシリコ-ンからなる部材とを確実に接合することができる。
 このため、疎水性表面を持つPET等の樹脂、透明導電膜が施されたワ-ク等とシリコ-ンからなる部材を貼り合わせることが可能となる。
(2)親水性表面を持つワ-クの一面に紫外線を照射し、疎水性表面を持つワ-クの表面にプライマ-をコ-トしてプライマ-をコ-トした面に紫外線を照射し、また、シリコ-ンからなる部材の両面に紫外線を照射し、親水性表面を持つワ-クと、疎水性表面を持つワ-クと、シリコ-ンからなる部材との紫外線照射面が対向するように積層し、あるいは、疎水性表面を持つワ-クの表面にプライマ-をコ-トしてプライマ-をコ-トした面に紫外線を照射し、また、シリコ-ンからなる部材の両面に紫外線を照射し、疎水性表面を持つワ-クとシリコ-ンからなる部材と疎水性表面を持つワ-クの紫外線照射面が対向するように積層し、これらを貼り合わせることにより、以下の効果を得ることができる。
(a)シリコ-ンには長時間経過後の着色が発生しないので、OCAテ-プやOCRにより貼り合わせる場合のように、長時間経過後の着色が発生しない。
 このため、タッチパネルの製造に適用することで、タッチパネルの画像に変色の影響が発生しない。
(b)導電性薄膜のような段差構造が接合面に存在する場合であっても、シリコ-ンは段差に応じて変形・密着するので貼り付け時の上記段差部分への気泡混入の抑制が容易である。
(c)OCRを使用して貼り合わせる場合のように、塗布均一性実現の困難さ、硬化時の変形といった問題は回避することができ、また、シリコ-ンはOCRより耐熱温度が高いので、紫外線照射光源とシリコ-ンの照射面を近接させることができ、効率的にシリコ-ンの光照射面を改質することができる。
(d)一般にシリコ-ンからなる部材は、OCAテ-プやOCRと比較すると価格が安価であるので、製造コストを低減化することができる。
(e)シリコ-ンからなる部材を用いた接合の場合、ワ-クとシリコ-ンからなる部材を重ね合わせてもすぐ接合が完了するのではなく、所定の時間だけ加圧したり、加熱したりすることによって接合が完了する。このため、重ね合わせた直後にワ-クとシリコ-ンを分離するのは容易である。よって、ワ-クとシリコ-ンからなる部材との位置合わせが不十分であるとき、重ね合わせた直後であるならば両者を一度剥がして、再度シリコ-ンからなる部材に紫外線を照射して接合工程を行うことが可能となる。すなわち、OCAテ-プと比較すると、リワ-ク性に富んでいる。
(f)従来、紫外線照射による表面改質処理を用いても接合させることが困難であったシリコ-ンからなる部材と、タッチセンサモジュ-ルの表面が疎水性の導電性薄膜基板表面との貼り合わせが可能となる。このため、タッチセンサモジュ-ルの各構成要素の貼り合わせに際して、従来のOCAテ-プまたはOCRに代えてシリコ-ンからなる部材を使用して各構成要素の貼り合わせ、タッチセンサモジュ-ルを構成することが可能となる。
本発明の接合方法を用いて組み上げたタッチパネルの構成例を示すである。 表面が親水性のガラス基板と紫外線照射したPDMS基板との接合を説明する図である。 プライマ-をコ-トしたPETフィルムのITO電極が施されている面と、シリコ-ン基板との接合を説明する図(1)である。 プライマ-をコ-トしたPETフィルムのITO電極が施されている面と、シリコ-ン基板との接合を説明する図(2)である。 カバ-ガラスと第1の透明導電膜(ITO電極)が表面に施されたPETフィルムとの接合工程(A-1)を説明する図である。 第1の透明導電膜(ITO)が表面に施されたPETフィルムと第2の透明導電膜(ITO)が表面に施されたガラスとの接合工程(B-1)を説明する図(1)である。 第1の透明導電膜(ITO)が表面に施されたPETフィルムと第2の透明導電膜(ITO)が表面に施されたガラスとの接合工程(B-1)を説明する図(2)である。 カバ-ガラスと第1の透明導電膜(ITO)が表面に施されたPETフィルムとの接合工程(A-2)を説明する図である。 第1の透明導電膜(ITO)が表面に施されたPETフィルムと第2の透明導電膜(ITO)が表面に施されたガラスとの接合工程(B-2)を説明する図(1)である。 第1の透明導電膜(ITO)が表面に施されたPETフィルムと第2の透明導電膜(ITO)が表面に施されたガラスとの接合工程(B-2)を説明する図(2)である。 カバ-ガラスと第1の透明導電膜(ITO)が表面に施されたPETフィルムとの接合工程(A-3)を説明する図である。 第1の透明導電膜(ITO)が表面に施されたPETフィルムと第2の透明導電膜(ITO)が表面に施されたガラスとの接合工程(B-3)を説明する図である。 本発明の接合方法を用いて組み上げたタッチパネルの他の構成例を示すである。 カバ-ガラスと第1の透明導電膜(ITO)が表面に施された第1のガラス基板との接合工程(C-1)を説明する図である。 第1の透明導電膜(ITO)が表面に施された第1のガラス基板と第2の透明導電膜(ITO)が表面に施された第2のガラス基板との接合工程(D-1)を説明する図である。 カバ-ガラスと第1の透明導電膜(ITO)が表面に施された第1のガラス基板との接合工程(C-2)を説明する図である。 第1の透明導電膜(ITO)が表面に施された第1のガラス基板と第2の透明導電膜(ITO)が表面に施された第2のガラス基板との接合工程(D-2)を説明する図である。 映像表示装置とタッチセンサモジュ-ルからなるタッチパネルの模式図である。
 以下、本発明の実施の形態をタッチパネルを製造する場合を例として説明するが、本発明はタッチパネル以外に前記有機EL、有機半導体、太陽電池等の製造にも適用できる。 
(1)実施の形態1
 図1は、前記した本発明のタッチパネルの第1の構成例を示す図である。
 前記図18に示したものと基本的構成は同じであり、タッチパネル100はLCDパネル等の画像表示装置30とその上部に配置される位置入力装置10とからなる。
 位置入力装置10は、タッチセンサ表面において指やペン等で接触された部分を検出するためのタッチセンサモジュ-ル10aと、タッチセンサモジュ-ル10aからの位置入力情報を処理し、上記情報に基づき画像表示装置30を制御するタッチパネル制御部10bからなる。
 タッチセンサモジュ-ル10aは、図18(b)に示した第1の透明導電膜(例えば、ITO電極)パタ-ンが施されたPETフィルム14と、図18(c)に示した第2の透明導電膜(例えば、ITO電極)パタ-ンが施されたガラス基板16に積層された構造であり、上からカバ-ガラス11、シリコ-ン基板17a、プライマ-18、第1のITO電極13、PETフィルム14、プライマ-18、シリコ-ン基板17b、プライマ-18、第2のITO電極15、ガラス基板16の順に積層される。なお、PETフィルム14の両面には、PETフィルム14の傷付き防止のため光透過性のハ-ドコ-ト層14aが設けられる。ハ-ドコ-ト層14aは、前記したように例えば、アクリレ-ト樹脂等からなる。
 PETフィルム14の第1のITO電極13パタ-ンが施された表面と対向する側のカバ-ガラス11表面の周縁部にはブラックマトリクス12が形成されている。
 ガラス基板16の下側には、第1のITO電極13、第2のITO電極15と電気的に接続され、タッチパネル制御部10bとも電気的に接続される配線層21が設けられる。配線層21は、カバ-ガラス11側から観察した際、カバ-ガラス11に設けられたブラックマトリックス12によって遮蔽されるように、ガラス基板16の下側にて配置される。
 タッチパネル制御部10bは、前記したようにタッチパネル(TP)コントロ-ルIC部22とFPC(フレキシブルプリント基板)23とからなり、FPC23上にタッチパネルコントロ-ルIC部22が設けられる。FPC23は、カバ-ガラス11側から観察した際、カバ-ガラス11に設けられたブラックマトリックス12によって遮蔽されるように、中央部分に開口が設けられた環状構造であり、タッチパネルコントロ-ルIC部22はこの環状構造部分の上部に設けられる。
 タッチパネル制御部10bは、タッチセンサモジュ-ル10aの配線層21と電気的に接続され、また、画像表示装置30とも電気的に接続される。
 上記したタッチセンサモジュ-ル10a、タッチパネル制御部10bが画像表示装置30上に積層されて、タッチパネルが構成される。
 図1に示すタッチパネルにおいては、タッチセンサモジュ-ル10aにおける第1の透明導電膜(例えば、第1のITO電極13)の基板がPETフィルム14であり、第2の透明導電膜(例えば、第2のITO電極15)の基板がガラス基板16であるような例である。なお、図1に示すタッチパネルの構成例において、各基板、各層の厚みは説明を容易にするために誇張して描かれており、実際の各基板、各層の厚みの相対関係は、図1に示すものとは相違する。
 以下、上記タッチセンサモジュ-ルを製造するための各ワ-クの貼り合わせ工程について説明する。
 〔工程A-1〕カバ-ガラスと第1の透明導電膜(ITO電極)が表面に施されたPETフィルムとの接合工程
 本工程を図5に示す。本工程は、親水性表面を有する第1のワ-クと疎水性表面を有する第2のワ-クをシリコ-ン基板を介在させて貼り合わせ方法を示すものであり、親水性表面を持つ第1のワ-クに相当するのはカバ-ガラス11、疎水性表面を持つ第2のワ-クに相当するのは第1の透明導電膜(ITO電極13)がハ-ドコ-ト層14a表面に施されたPETフィルム14である。
(a)カバ-ガラス11とシリコ-ン基板17aとの接合
 親水性表面を持つ第1のワ-クであるカバ-ガラス11の下側表面と疎水性表面を持つ第2のワ-クであるPETフィルム14の第1のITO電極13側表面とを接合するのに先立って、まず、カバ-ガラス11とシリコ-ン(例えば、PDMS)基板17aとの接合を行う。
 図5(a)に示すように、シリコ-ン(PDMS)基板17aの表面にエキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射して、シリコ-ン基板17aの表面を酸化し当該表面を親水性表面とする。
 次に、カバ-ガラス11の接合面にエキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射する。
 その後、カバ-ガラス11の接合面とシリコ-ン基板17aのUV照射表面とを重ね合わせる。適宜、重ね合わせたカバ-ガラス11とシリコ-ン基板17aとを加圧したり、加熱することにより、接合強度を増加させる。
 なお、カバ-ガラス11自体は親水性表面であるため、必ずしもUV光を照射する必要はない。しかしながら、カバ-ガラス11の接合面にUV光を照射することにより、カバ-ガラス11の接合面が活性化されたり、カバ-ガラス11表面の不純物が分解して除去されるので、カバ-ガラス11とシリコ-ン基板17aとの接合がより確実に行われる。
 また、シリコ-ン(PDMS)基板17a表面とカバ-ガラス11の接合面へのUV照射は同時に行っても良い。
(b)カバ-ガラス11と接合したシリコ-ン基板17aとPETフィルム14との接合
 次に、図5(b)に示すように、例えば、前記図18(b)のようなパタ-ンの第1のITO電極13がハ-ドコ-ト層14a表面に施されたPETフィルム14において、上記第1のITO電極13パタ-ンが施された面にプライマ-18をコ-トする。次に、このプライマ-18がコ-トされた表面に対してエキシマランプ等の紫外線(UV)光源から放出されるUV光を照射して、上記プライマ-コ-ト面を接合に適した表面とする。
 一方、カバ-ガラス11と接合されたシリコ-ン基板17aの、カバ-ガラス11との接合面とは反対側の表面に、エキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射して、シリコ-ン基板17aのUV照射面を酸化して当該表面を親水性表面とする。
 その後、シリコ-ン基板17aのUV照射処理した表面とPETフィルム14のUV照射処理したプライマ-コ-ト面とを重ね合わせ、適宜、重ね合わせたカバ-ガラス11とシリコ-ン基板17aとを加圧したり加熱したりして、カバ-ガラス11が接合されたシリコ-ン基板17aと、第1のITO電極13が表面に施されたPETフィルム14とを接合する。
 すなわち、本工程(A-1)において採用された接合方法は以下の通りである。
(1)親水性表面を持つ第1のワ-クであるカバ-ガラス11の下側表面に、シリコ-ン基板17aを接合する。接合方法は、シリコ-ン基板17aに紫外線を照射して紫外線照射面を親水性表面とし、当該表面をカバ-ガラス11上に積層して、親水性表面を持つ第1のワ-クであるカバ-ガラス11とシリコ-ン基板17aを接合する。なお、上記したように、カバ-ガラス11の接合面にも紫外線を照射してもよい。
(2)疎水性表面を持つ第2のワ-クであるPETフィルム14のハ-ドコ-ド層14aの第1の透明導電膜(ITO電極13)が施された面にプライマ-コ-トする。
(3)親水性表面を持つ第1のワ-クであるカバ-ガラス11に接合されたシリコ-ン基板17a表面と、疎水性表面を持つ第2のワ-クであるPETフィルム14の第1の透明導電膜(ITO電極13)が表面に施された面にコ-トされたプライマ-18に対して紫外線を照射して、両表面を親水性表面とする。
(4)両紫外線照射面同士を重ね合わせる。
(5)上から、疎水性表面を持つ第2のワ-クであるPETフィルム14、シリコ-ン基板17a、親水性表面を持つ第1のワ-クであるカバ-ガラス11の順に重ね合わせられている各ワ-クの接触面を加圧しながら、加熱する。
 なお、本接合方法の(5)においては、加圧のみ、加熱のみでもよいが、加圧しながら加熱したほうが望ましい。
〔工程B-1〕第1の透明導電膜(ITO電極)が表面に施されたPETフィルムと第2の透明導電膜(ITO電極)が表面に施されたガラスとの接合工程
 本工程を図6、図7に示す。本工程は、疎水性表面を持つ第1のワ-クと、疎水性表面を持つ第2のワ-クをシリコ-ン基板を介して貼り合わせ方法を示すものであり、疎水性表面を持つ第1のワ-クに相当するのはカバ-ガラス11が接合されているPETフィルム14、疎水性表面を持つ第2のワ-クに相当するのは第2の透明導電膜(ITO電極15)が表面に施されたガラス基板16である。
(a)シリコ-ン基板17bとPETフィルム14(カバ-ガラス11と接合済み)との接合
 図6(a)に示すように、シリコ-ン基板17b表面にエキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射して、シリコ-ン基板17b表面を酸化して当該表面を親水性表面とする。
 次に第1のITO電極13パタ-ンが施されているハ-ドコ-ト層14a表面にシリコ-ン基板17aを介してカバ-ガラス11が接合されているPETフィルム14において、図6(a)に示すように、第1のITO電極13パタ-ンが施されている面の反対側のハ-ドコ-ト層14a表面にプライマ-18をコ-トする。次に、このプライマ-18がコ-トされた表面に対してエキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射して、上記プライマ-コ-ト面を接合に適した表面とする。
 その後、シリコ-ン基板17bのUV照射表面とPETフィルム14のUV照射処理したプライマ-コ-ト面とを重ね合わせ、適宜、PETフィルム14とシリコ-ン基板17bとを加圧したり加熱したりして、シリコ-ン基板17bと第1のITO電極13が表面に施されたPETフィルム14とを接合する。
(b)PETフィルム14(カバ-ガラス11と接合済み)とガラス基板16との接合
 図7(b)に示すように、PETフィルム14と接合されたシリコ-ン基板17bの、PETフィルム14との接合面とは反対側の表面に、エキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射して、シリコ-ン基板17bのUV照射面を酸化して当該表面を親水性表面とする。
 次に、例えば、図18(c)のようなパタ-ンの第2のITO電極15が表面に施されたガラス基板16において、上記第2のITO電極パタ-ンが施された面にプライマ-18をコ-トする。次に、このプライマ-18がコ-トされた表面に対してエキシマランプ等の紫外線(UV)光源から放出されるUV光を照射して、上記プライマ-コ-ト面を接合に適した表面とする。
 その後、シリコ-ン基板17bのUV照射表面とガラス基板16のUV照射処理したプライマ-コ-ト面とを重ね合わせ、適宜、ガラス基板16とシリコ-ン基板17bとを加圧したり加熱したりして、PETフィルム14と接合されたシリコ-ン基板17bと、第2のITO電極15が表面に施されたガラス基板16とを接合する。
 なお、第2のITO電極15が表面に施されたガラス基板16の代わりに、第2のITO電極15が表面に施された樹脂基板(例えば、PETフィルム14)が用いられる場合もあるが、工程2の手順に変化はない。
 すなわち、本工程(B-1)における接合方法は以下の通りである。
(1)疎水性表面を持つ第1のワ-クであってカバ-ガラス11が接合されているPETフィルム14において、PETフィルム14の上記カバ-ガラス11が接合されていないハ-ドコ-ト層14a表面(疎水性表面)にプライマ-18をコ-トする。
(2)シリコ-ン基板17b表面と、疎水性表面を持つ第1のワ-クであるPETフィルム14のプライマ-18がコ-トされた面とに対して紫外線を照射して、両表面を親水性表面とする。
(3)両紫外線照射面同士を重ね合わせる。
(4)上から、シリコ-ン基板17b、プライマ-18、疎水性表面を持つ第1のワ-クであるPETフィルム14(カバ-ガラス11接合済み)の順に重ね合わせられているワ-クを加圧しながら、加熱する。
(5)疎水性表面を持つ第2のワ-クであるガラス基板16の第2の透明導電膜(ITO電極15)が表面に施された面にプライマ-18をコ-トする。
(6)疎水性表面を持つ第1のワ-クであるPETフィルム14(カバ-ガラス11接合済み)に接合されたシリコ-ン基板17b表面と、疎水性表面を持つ第2のワ-クであるガラス基板16の第2の透明導電膜(ITO電極15)が表面に施された面にコ-トされたプライマ-18に対して紫外線を照射して、両表面を親水性表面とする。
(7)両紫外線照射面同士を重ね合わせる。
(8)上から、疎水性表面を持つ第1のワ-クであるPETフィルム14(カバ-ガラス11接合済み)、シリコ-ン基板17b、疎水性表面を持つ第2のワ-クであるガラス基板16の順に重ね合わせられている各ワ-クの接触面を加圧しながら、加熱する。
 なお、本接合方法の(4)(8)においては、加圧のみ、加熱のみでもよいが、加圧しながら加熱したほうが望ましい。
 本発明の接合方法を採用した〔工程A-1〕と〔工程B-1〕を経て、図1に示すタッチパネルにおけるタッチセンサモジュ-ルが構成される。
 このタッチセンサモジュ-ル10aとタッチパネル制御部10bがLCDパネル等の画像表示装置30上に積層されて、タッチパネルが構成される。ここで、タッチパネル制御部10bの構造例や、タッチセンサモジュ-ル10a、タッチパネル制御部10b、画像表示装置30の順に積層されるタッチパネルの接合は、従来技術と同様であるので、ここでは詳細な説明を省略する。
 本実施の形態1は、タッチパネルにおけるタッチセンサモジュ-ルを以下のような方法で構築するものである。すなわち、タッチセンサモジュ-ルの各構成要素の貼り合わせに際して、従来のOCAテ-プまたはOCRに代えてシリコ-ン(基板)を使用し、シリコ-ン(基板)と各構成要素の接合面に紫外線を照射するものである。
 そして、タッチセンサモジュ-ルの導電性薄膜(例えば、ITO電極)が設けられている基板において、上記導電性薄膜が設けられている面にプライマ-(例えば、シランカップリング剤)をコ-トし、当該プライマ-のコ-ト面に紫外線を照射するものである。
 更には、上記導電性薄膜が設けられている基板の上記導電性薄膜が設けられていない側表面が疎水性表面である場合、当該表面にもプライマ-18(例えば、シランカップリング剤)をコ-トし、当該プライマ-コ-ト面に紫外線を照射するものである。
 本発明の貼り合わせ方法によってタッチセンサモジュ-ルを構築することにより、以下のような利点が得られる。
 すなわち、OCAテ-プやOCRとは異なり、シリコ-ンには長時間経過後の着色が発生せず、最終製品であるタッチパネルの画像に変色の影響が発生しない。
 また、導電性薄膜のような段差構造が接合面に存在する場合であっても、シリコ-ンは段差に応じて変形・密着するので貼り付け時の上記段差部分への気泡混入の抑制が容易である。また、接合面が大面積の部材に対しても容易に接合することが可能である。
 また、OCRのような硬化反応による接合ではないので、OCR特有の接合面への塗布工程における塗布均一性実現の困難さ、硬化時の変形といった問題は回避される。また、OCRより耐熱温度が高いので、紫外線照射光源とシリコ-ン基板の照射面を近接させることができ、効率的にシリコ-ン基板の光照射面を改質することが可能となる。これに対し、紫外線硬化性OCRを使用する場合は、OCR自体の耐熱性が低いので、紫外線硬化性OCR塗布面と紫外線照射光源40とをあまり近づけることができず、当該紫外線硬化性OCR塗布面での紫外線強度が小さくなり、紫外線の利用効率が小さくなる。これに伴い、貼り合わせのためのOCR硬化反応に要する時間が長時間化する。
 また、一般にシリコ-ン基板は、OCAテ-プやOCRと比較すると価格が安価である。
 更に、シリコ-ン基板を用いた接合の場合、ガラス基板や樹脂基板と紫外線を照射したシリコ-ン基板とを重ね合わせてすぐ接合が完了するのではなく、所定の時間だけ両基板を加圧したり、加熱したりすることによって接合が完了する。よって、重ね合わせた直後に両基板を分離するのは容易である。よって、例えばガラス基板や樹脂基板と紫外線を照射したシリコ-ン基板との位置合わせが不十分であるとき、重ね合わせた直後であるならば両者を一度剥がして、再度シリコ-ン基板に紫外線を照射して接合工程を行うことが可能となる。すなわち、OCAテ-プと比較すると、リワ-ク性に富んでいる。
 特に本発明の貼り合わせ方法においては、従来、紫外線照射による表面改質処理を用いても接合させることが困難であったシリコ-ン基板とタッチセンサモジュ-ルの導電性薄膜基板の導電性薄膜表面との貼り合わせ、シリコ-ン基板と表面が疎水性である場合の導電性薄膜基板との貼り合わせについても、導電性薄膜表面、基板の疎水性表面にシランカップリング剤を導入して、当該シランカップリング剤を紫外線照射により表面改質する(接合に適した表面状態にする)ことを可能としたので、上記した貼り合わせを可能とすることできた。
すなわち、タッチセンサモジュ-ルの各構成要素の貼り合わせに際して、従来のOCAテ-プまたはOCRに代えてシリコ-ン(基板)を使用し、シリコ-ン(基板)と各構成要素の接合面に紫外線を照射して、タッチセンサモジュ-ルの各構成要素の貼り合わせて当該タッチセンサモジュ-ルを構成することが可能となった。
〔実施の形態1の変形例(1)〕
 実施の形態1においては、本発明の接合方法を採用した〔工程A-1〕と〔工程B-1〕を経て、図1に示すタッチパネルにおけるタッチセンサモジュ-ルを構成する例を示した。
 すなわち、〔工程A-1〕においては、まずカバ-ガラス11とシリコ-ン基板17aとを接合し、次にこのカバ-ガラス11と接合したシリコ-ン基板17aとPETフィルム14とを接合するという順番で、カバ-ガラス11と第1の透明導電膜(ITO電極13)が表面に施されたPETフィルム14とを接合した。
 また、〔工程B-1〕においては、まず〔工程A-1〕により構成されたシリコ-ン基板17aを介してカバ-ガラス11と接合されたPETフィルム14とシリコ-ン基板17bとを接合し、次にこのカバ-ガラス11と接合済のPETフィルム14と接合されたシリコ-ン基板17bとガラス基板16とを接合するという順番で、PETフィルム14と接合されたシリコ-ン基板17bと第2のITO電極15が表面に施されたガラス基板16とを接合してタッチセンサモジュ-ル10bを構成した。
 しかしながら、ワ-クを貼り合わせる順番は上記〔工程A-1〕〔工程B-1〕に示す順番に限るものではない。
 例えば、上記〔工程A-1〕において、まず、シリコ-ン基板17aとPETフィルム14とを接合し、次にこのPETフィルム14と接合されたシリコ-ン基板17aとカバ-ガラス11とを接合するという順番で、カバ-ガラス11と第1の透明導電膜(ITO電極)が表面に施されたPETフィルム14とを接合してもよい。(以下、このような工程を〔工程A-2〕と呼ぶことにする。)
 同様に、上記〔工程B-1〕において、まずシリコ-ン基板17bとガラス基板16とを接合し、次にこのガラス基板16と接合されたシリコ-ン基板17bとカバ-ガラス11と接合済のPETフィルム14とを接合するという順番で、カバ-ガラス11と接合済のPETフィルム14とガラス基板16と接合済のシリコ-ン基板17bとを接合してタッチセンサモジュ-ルを構成してもよい。(以下、このような工程B-1に代わる工程を〔工程B-2〕と呼ぶことにする。)
 以下、図8、図9、図10を用いて、本発明の接合方法を採用した〔工程A-2〕と〔工程B-2〕を経て図1に示すタッチパネルにおけるタッチセンサモジュ-ルを構成する例を説明する。
 〔工程A-2〕カバ-ガラスと第1の透明導電膜(ITO電極)が表面に施されたPETフィルムとの接合工程
本工程を図8に示す。本工程は、親水性表面を有する第1のワ-クと疎水性表面を有する第2のワ-クをシリコ-ン基板を介在させて貼り合わせ方法を示すものであり、親水性表面を持つ第1のワ-クに相当するのはカバ-ガラス11、疎水性表面を有する第2のワ-クに相当するのは第1の透明導電膜(ITO電極13)がハ-ドコ-ト層14a表面に施されたPETフィルム14である。
(a)シリコ-ン基板17aとPETフィルム14との接合
 例えば、図18(b)のようなパタ-ンの第1のITO電極13がハ-ドコ-ト層14a表面に施されたPETフィルム14において、図8(a)に示すように、上記第1のITO電極13パタ-ンが施されたハ-ドコ-ト層14a表面にプライマ-18をコ-トする。次に、このプライマ-18がコ-トされた表面に対してエキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射して、上記プライマ-コ-ト面を接合に適した表面とする。
 またシリコ-ン基板17aの表面にエキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射して、シリコ-ン基板17a表面を酸化して当該表面を親水性表面とする。
 その後、シリコ-ン基板17aのUV照射表面とPETフィルム14のUV照射処理したプライマ-コ-ト面とを重ね合わせ、適宜、PETフィルム14とシリコ-ン基板17aとを加圧したり加熱したりして、シリコ-ン基板17aと第1のITO電極13が表面に施されたPETフィルム14とを接合する。
(b)PETフィルム14と接合したシリコ-ン基板17aとカバ-ガラス11との接合
 次に、図8(b)に示すように、PETフィルム14と接合されたシリコ-ン基板17aの、PETフィルム14との接合面とは反対側の表面に、エキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射して、シリコ-ン基板17aのUV照射面を酸化して当該表面を親水性表面とする。
 また、カバ-ガラス11の接合面にエキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射する。
 その後、PETフィルム14と接合されたシリコ-ン基板17aのUV照射表面とカバ-ガラス11の接合面とを重ね合わせ、適宜、重ね合わせたカバ-ガラス11とシリコ-ン基板17aとを加圧したり、加熱することにより、接合強度を増加させる。
 なお、カバ-ガラス11自体は親水性表面であるため、必ずしもUV光を照射する必要はない。しかしながら、カバ-ガラス11の接合面にUV光を照射することにより、カバ-ガラス11の接合面が活性化されたり、カバ-ガラス11表面の不純物が分解して除去されるので、カバ-ガラス11とシリコ-ン基板17aとの接合がより確実に行われる。
 また、PETフィルム14と接合されたシリコ-ン(PDMS)基板17a表面とカバ-ガラス11の接合面へのUV照射は同時に行っても良い。
 すなわち、本工程(A-2)における接合方法は以下の通りである。
(1)疎水性表面を持つ第2のワ-クであるPETフィルム14の第1の透明導電膜(ITO電極13)が表面に施された面にプライマ-18をコ-トする。
(2)シリコ-ン基板17a表面と、疎水性表面を持つ第2のワ-クであるPETフィルム14の第1の透明導電膜(ITO電極13)が表面に施された面にコ-トされたプライマ-18に対して紫外線を照射して、両表面を親水性表面とする。
(3)両紫外線照射面同士を重ね合わせる。
(4)疎水性表面を持つ第2のワ-クであるPETフィルム14とシリコ-ン基板17aとが重ね合わせられているワ-クの接触面を加圧しながら、加熱する。
(5)次に、疎水性表面を持つ第2のワ-クであるPETフィルム14に接合されたシリコ-ン基板17a表面と、親水性表面を持つ第1のワ-クであるカバ-ガラス11の接合面に対して紫外線を照射する。
(6)両紫外線照射面同士を重ね合わせる。
(7)上から、疎水性表面を持つ第2のワ-クであるPETフィルム14、シリコ-ン基板17a、親水性表面を持つ第1のワ-クであるカバ-ガラス11の順に重ね合わせられている各ワ-クの接触面を加圧しながら、加熱する。
 なお、本接合方法の(4)(7)においては、加圧のみ、加熱のみでもよいが、加圧しながら加熱したほうが望ましい。
〔工程B-2〕第1の透明導電膜(ITO電極)が表面に施されたPETフィルムと第2の透明導電膜(ITO電極)が表面に施されたガラスとの接合工程
 本工程を図9、図10に示す。本工程は、疎水性表面を持つ第1のワ-クと、疎水性表面を持つ第2のワ-クをシリコ-ン基板を介して貼り合わせ方法を示すものであり、疎水性表面を持つ第1のワ-クに相当するのはカバ-ガラス11が接合されているPETフィルム14、疎水性表面を持つ第2のワ-クに相当するのは第2の透明導電膜(ITO電極15)が表面に施されたガラス基板16である。
(a)シリコ-ン基板17bとガラス基板16との接合
 図9(a)に示すように、シリコ-ン基板17b表面にエキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射して、シリコ-ン基板17b表面を酸化して当該表面を親水性表面とする。
 また、例えば、図18(c)のようなパタ-ンの第2のITO電極15が表面に施されたガラス基板16において、上記第2のITO電極15パタ-ンが施された面にプライマ-18をコ-トする。次に、このプライマ-18がコ-トされた表面に対してエキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射して、上記プライマ-コ-ト面を接合に適した表面とする。
 その後、シリコ-ン基板17bのUV照射表面とガラス基板16のUV照射処理したプライマ-コ-ト面とを重ね合わせ、適宜、ガラス基板16とシリコ-ン基板17bとを加圧したり加熱したりして、シリコ-ン基板17bと第2のITO電極15が表面に施されたガラス基板16とを接合する。
 図10(b)に示すように、ガラス基板16と接合されたシリコ-ン基板17bの、ガラス基板16との接合面とは反対側の表面に、エキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射して、シリコ-ン基板17bのUV照射面を酸化して当該表面を親水性表面とする。
 次に第1のITO電極13パタ-ンが施されている面にプライマ-18、シリコ-ン基板17aを介してカバ-ガラス11が接合されているPETフィルム14において、図10(b)に示すように、第1のITO電極13パタ-ンが施されている面の反対側のハ-ドコ-ト層14a表面にプライマ-18をコ-トする。次に、このプライマ-18がコ-トされた表面に対してエキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射して、上記プライマ-コ-ト面を接合に適した表面とする。
 その後、シリコ-ン基板17bのUV照射表面とPETフィルム14のUV照射処理したプライマ-コ-ト面とを重ね合わせ、適宜、PETフィルム14とシリコ-ン基板17bとを加圧したり加熱したりして、ガラス基板16と接合されたシリコ-ン基板17bと第1のITO電極13が表面に施されたPETフィルム14とを接合する。
 すなわち、本工程(B-2)における接合方法は以下の通りである。
(1)疎水性表面を持つ第2のワ-クであるガラス基板16の第2の透明導電膜(ITO電極15)が表面に施された面にプライマ-18をコ-トする。
(2)シリコ-ン基板17b表面と、疎水性表面を持つ第2のワ-クであるガラス基板16の第2の透明導電膜(ITO電極15)が表面に施された面にコ-トされたプライマ-18に対して紫外線を照射して、両表面を親水性表面とする。
(3)両紫外線照射面同士を重ね合わせる。
(4)シリコ-ン基板17bと疎水性表面を持つ第2のワ-クであるガラス基板16が重ね合わせられているワ-クの接触面を加圧しながら、加熱する。
(5)疎水性表面を持つ第1のワ-クであってカバ-ガラス11が接合されているPETフィルム14において、PETフィルム14の上記カバ-ガラス11が接合されていないハ-ドコ-ト層14a表面にプライマ-18をコ-トする。
(6)疎水性表面を持つ第2のワ-クであるガラス基板16に接合されたシリコ-ン基板17b表面と、疎水性表面を持つ第1のワ-クであるPET基板のカバ-ガラス11が接合されていないハ-ドコ-ト層14a表面にコ-トされたプライマ-18に対して紫外線を照射して、両表面を親水性表面とする。
(7)両紫外線照射面同士を重ね合わせる。
(8)上から、疎水性表面を持つ第1のワ-クであるPETフィルム14(カバ-ガラス11接合済み)、プライマ-18、シリコ-ン基板17b、プライマ-18、疎水性表面を持つ第2のワ-クであるガラス基板16の順に重ね合わせられている各ワ-クの接触面を加圧しながら、加熱する。
 なお、本接合方法の(4)(8)においては、加圧のみ、加熱のみでもよいが、加圧しながら加熱したほうが望ましい。
〔実施の形態1の変形例(2)〕
 実施の形態1の〔工程A-1〕〔工程B-1〕、ならびに実施の形態1の変形例(1)の〔工程A-2〕〔工程B-2〕は、2つのワ-クの貼り合わせを繰り返すことにより構成されている。しかしながら、各工程において3つのワ-クを一度に貼り合わせるように構成してもよい。
 例えば、上記〔工程A-1〕〔工程A-2〕において、カバ-ガラス11とシリコ-ン基板17aとPETフィルム14とを一度に接合してもよい。(以下、このような工程を〔工程A-3〕と呼ぶことにする。)
 同様に、上記〔工程B-1〕〔工程B-2〕において、カバ-ガラス11と接合済のPETフィルム14とシリコ-ン基板17bとガラス基板16とを一度に接合してもよい(以下、このような工程を〔工程B-3〕と呼ぶことにする。)。
 以下、図11、図12を用いて、本発明の接合方法を採用した〔工程A-3〕と〔工程B-3〕を経て図1に示すタッチパネルにおけるタッチセンサモジュ-ルを構成する例を説明する。
〔工程A-3〕カバ-ガラスと第1の透明導電膜(ITO電極)が表面に施されたPETフィルムとの接合工程
 本工程を図11に示す。本工程は、親水性表面を有する第1のワ-クと疎水性表面を有する第2のワ-クをシリコ-ン基板を介在させて貼り合わせ方法を示すものであり、親水性表面を持つ第1のワ-クに相当するのはカバ-ガラス11、疎水性表面を有する第2のワ-クに相当するのは第1の透明導電膜(ITO電極13)がハ-ドコ-ト層14a表面に施されたPETフィルム14である。
 例えば、図18(b)のようなパタ-ンの第1のITO電極13がハ-ドコ-ト層14a表面に施されたPETフィルム14において、図11に示すように、上記第1のITO電極13のパタ-ンが施されたハ-ドコ-ト層14a表面にプライマ-18をコ-トする。このプライマ-18がコ-トされた表面に対してエキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射して、上記プライマ-コ-ト面を接合に適した表面とする。
 また、図11に示すようにシリコ-ン基板17aの両面にエキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射して、シリコ-ン基板17aの表面を酸化して当該表面を親水性表面とする。
 更に、図11に示すようにカバ-ガラス11の接合面にエキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射する。
 その後、カバ-ガラス11のUV照射処理された接合面とシリコ-ン基板17aのUV照射処理された一方の面、ならびに、シリコ-ン基板17aのUV照射処理された他方の面とPETフィルム14のUV照射処理されたプライマ-コ-ト面とを重ね合わせる。そして、カバ-ガラス11、シリコ-ン基板17a、PETフィルム14の順番で積層されたワ-クを、適宜、加圧したり加熱したりして、カバ-ガラス11とシリコ-ン基板17aと第1のITO電極13が表面に施されたPETフィルム14とを一度に接合する。
 なお、カバ-ガラス11自体は親水性表面であるため、必ずしもUV光を照射する必要はない。しかしながら、カバ-ガラス11の接合面にUV光を照射することにより、カバ-ガラス11の接合面が活性化されたり、カバ-ガラス11表面の不純物が分解して除去されるので、カバ-ガラス11とシリコ-ン基板17aとの接合がより確実に行われる。
 また、カバ-ガラス11の接合面と、シリコ-ン基板17a両面と、PETフィルム14のプライマ-コ-ト面へのUV照射は同時に行っても個別に行っても良い。
 すなわち、本工程(A-3)における接合方法は以下の通りである。
(1)疎水性表面を持つ第2のワ-クであるPETフィルム14の第1の透明導電膜(ITO電極13)が表面に施された面にプライマ-18をコ-トする。
(2)親水性表面を持つ第1のワ-クであるカバ-ガラス11の接合面と、シリコ-ン基板17aの両面と、疎水性表面を持つ第2のワ-クであるPETフィルム14の第1の透明導電膜(ITO電極13)が表面に施された面にコ-トされたプライマ-18に対して紫外線を照射して、各紫外線照射面を親水性表面とする。
(3)その後、カバ-ガラス11のUV照射処理された接合面とシリコ-ン基板17aのUV照射処理された一方の面、ならびに、シリコ-ン基板17aのUV照射処理された他方の面とPETフィルム14のUV照射処理されたプライマ-コ-ト面とを重ね合わせる。
(4)そして、カバ-ガラス11、シリコ-ン基板17a、PETフィルム14の順番で積層された各ワ-クの接触面を加圧しながら、加熱して、各ワ-クを一度に接合する。
 なお、本接合方法の(4)においては、加圧のみ、加熱のみでもよいが、加圧しながら加熱したほうが望ましい。
〔工程B-3〕第1の透明導電膜(ITO電極)が表面に施されたPETフィルムと第2の透明導電膜(ITO電極)が表面に施されたガラスとの接合工程
 本工程を図12に示す。本工程は、疎水性表面を持つ第1のワ-クと、疎水性表面を持つ第2のワ-クをシリコ-ン基板を介して貼り合わせ方法を示すものであり、疎水性表面を持つ第1のワ-クに相当するのはカバ-ガラス11が接合されているPETフィルム14、疎水性表面を持つ第2のワ-クに相当するのは第2の透明導電膜(ITO電極15)が表面に施されたガラス基板16である。
 図12に示すように、シリコ-ン基板17aを介してカバ-ガラス11が接合されているPETフィルム14において、カバ-ガラス11が接合されている面の反対側のハ-ドコ-ト層14aの表面にプライマ-18をコ-トする。そして、このプライマ-18がコ-トされた表面に対してエキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射して、上記プライマ-コ-ト面を接合に適した表面とする。
 また、図12に示すようにシリコ-ン基板17bの両面にエキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射して、シリコ-ン基板17bの表面を酸化して当該表面を親水性表面とする。
 更に、例えば図18(c)のようなパタ-ンの第2のITO電極15が表面に施されたガラス基板16において、図12に示すように上記第2のITO電極15のパタ-ンが施された面にプライマ-18をコ-トする。そして、このプライマ-18がコ-トされた表面に対してエキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射して、上記プライマ-コ-ト面を接合に適した表面とする。
 その後、PETフィルム14のUV照射処理されたプライマ-コ-ト面とシリコ-ン基板17bのUV照射処理された一方の面、ならびに、シリコ-ン基板17bのUV照射処理された他方の面とガラス基板16のUV照射処理されたプライマ-コ-ト面とを重ね合わせる。
 そして、カバ-ガラス11が接合済みであるPETフィルム14、シリコ-ン基板17b、ガラス基板16の順番で積層されたワ-クを、適宜、加圧したり加熱したりして、カバ-ガラス11が接合済みであるPETフィルム14とシリコ-ン基板17bと第2のITO電極15が表面に施されたガラス基板16とを一度に接合する。
 なお、また、PETフィルム14のプライマ-コ-ト面と、シリコ-ン基板17b両面と、ガラス基板16のプライマ-コ-ト面へのUV照射は同時に行っても個別に行っても良い。
 すなわち、本工程(B-3)における接合方法は以下の通りである。
(1)疎水性表面を持つ第1のワ-クであってカバ-ガラス11が接合されているPETフィルム14において、PETフィルム14の上記カバ-ガラス11が接合されていないハ-ドコ-ト層14a表面にプライマ-18をコ-トする。
(2)疎水性表面を持つ第2のワ-クであるガラス基板16の第2の透明導電膜(ITO電極15)が表面に施された面にプライマ-18をコ-トする。
(3)疎水性表面を持つ第1のワ-クであってカバ-ガラス11が接合されているPETフィルム14のカバ-ガラス11が接合されている面の反対側のハ-ドコ-ト層14a表面にコ-トされたプライマ-18と、シリコ-ン基板17bの両面と、疎水性表面を持つ第2のワ-クであるガラス基板16の第2の透明導電膜(ITO電極15)が表面に施された面にコ-トされたプライマ-18に対して紫外線を照射して、各紫外線照射面を親水性表面とする。
(4)その後、PETフィルム14のUV照射処理されたプライマ-コ-ト面とシリコ-ン基板17bのUV照射処理された一方の面、ならびに、シリコ-ン基板17bのUV照射処理された他方の面とガラス基板16のUV照射処理されたプライマ-コ-ト面とを重ね合わせる。
(5)そして、カバ-ガラス11が接合済みであるPETフィルム14、シリコ-ン基板17b、ガラス基板16の順番で積層された各ワ-クの接触面を加圧しながら、加熱して、各ワ-クを一度に接合する。
 なお、本接合方法の(5)においては、加圧のみ、加熱のみでもよいが、加圧しながら加熱したほうが望ましい。
〔実施の形態2〕
 実施の形態1においては、図1に示すタッチパネルの構成例において、第1の透明導電膜(例えば、ITO電極13)の基板がPETフィルム14であり、第2の透明導電膜(例えば、ITO電極15)の基板がガラス基板16であるようなタッチセンサモジュ-ルを組み上げる際に採用される本発明の接合方法を示した。
 実施の形態2においては、図13に示すタッチパネルの構成例におけるタッチセンサモジュ-ルを組み上げる際に採用される本発明の接合方法を示す。
 透明導電膜の基板としてガラス基板は、フィルム基板と比較すると視認性、耐久性が優れている。すなわち、ガラス基板はフィルム基板と比較すると光透過性が高く、光の錯乱や基板歪みの影響を小さくすることが可能であり、また紫外線などによる変色が少ないので、視認性の点でフィルム基板に対して優位である。また、ガラス基板は広い温度範囲での耐久性や耐水性についても優れており、フィルム基板と比較すると耐候性が高い。高い視認性や耐候性が求められる機械設備用タッチパネルや屋外使用のタッチパネルにおいて、透明導電膜の基板としてガラス基板を用いる要請が高くなってきており、近年、第1、第2の透明導電膜のいずれの基板にもガラス基板を用いることが検討されている。また、ガラス基板の薄板化も実現されつつあり、フィルム基板と同様、形状の自由度、パネルの薄型化にも対応可能となってきている。
 図13は、第1の透明導電膜(例えば、ITO電極13)の基板、第2の透明導電膜(例えば、ITO電極15)の基板双方をガラス基板16a,16bとしたときに、本発明の接合方法を用いて組み上げたタッチパネルの構成例を示す。ここで、図13(a)は、シリコ-ン基板17bを挟んで第1の透明導電膜13と第2の透明導電膜15とが対向する場合である。
 図13(a)において、タッチセンサモジュ-ル10aは、上からカバ-ガラス11、シリコ-ン基板17a、第1のガラス基板16a、第1のITO電極13、プライマ-18、シリコ-ン基板17b、プライマ-18、第2のITO電極15、第2のガラス基板16bの順に積層される。その他の構成は、図1と同じである。
 図13(b)は、第1の透明導電膜13と第2の透明導電膜15のうち、第2の透明導電膜15のみシリコ-ン基板17bと接触する場合である。
 図13(b)において、タッチセンサモジュ-ル10aは、上からカバ-ガラス11、シリコ-ン基板17a、プライマ-18、第1のITO電極13、第1のガラス基板16a、シリコ-ン基板17b、プライマ-18、第2のITO電極15、第2のガラス基板16bの順に積層される。その他の構成は、図13(a)と同じである。
 なお、図13に示すタッチパネルの構成例において、各基板、各層の厚みは説明を容易にするために誇張して描かれており、実際の各基板、各層の厚みの相対関係は、図13に示すものとは相違する。
 まず、図13(a)に示す構成例のタッチパネルを製造する際に用いられる本発明の接合方法について図14、図15により説明する。
〔工程C-1〕カバ-ガラスと第1の透明導電膜(ITO電極)が表面に施された第1のガラス基板との接合工程
 本工程を図14に示す。本工程では、カバ-ガラス11と第1の透明導電膜(ITO電極13)が表面に施された第1のガラス基板16aとの接合工程である。本工程は、本発明の接合方法が適用される〔工程3〕に先立つ前工程である。
(a)カバ-ガラス11とシリコ-ン基板17aとの接合
 図14(a)に示すように、シリコ-ン(PDMS)基板17a表面にエキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射して、シリコ-ン基板17a表面を酸化し当該表面を親水性表面とする。
 次に、カバ-ガラス11の接合面にエキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射する。
 その後、カバ-ガラス11の接合面とシリコ-ン基板17aのUV照射表面とを重ね合わせる。適宜、重ね合わせたカバ-ガラス11とシリコ-ン基板17aとを加圧したり、加熱することにより、接合強度を増加させる。
 なお、カバ-ガラス11自体は親水性表面であるため、必ずしもUV光を照射する必要はない。しかしながら、カバ-ガラス11の接合面にUV光を照射することにより、カバ-ガラス11の接合面が活性化されたり、カバ-ガラス11表面の不純物が分解して除去されるので、カバ-ガラス11とシリコ-ン基板17aとの接合がより確実に行われる。
また、シリコ-ン(PDMS)基板17a表面とカバ-ガラス11の接合面へのUV照射は同時に行っても良い。
(b)カバ-ガラス11と接合したシリコ-ン基板17aと第1のガラス基板16との接合
 次に、図14(b)に示すように、カバ-ガラス11と接合されたシリコ-ン基板17aの、カバ-ガラス11との接合面とは反対側の表面に、エキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射して、シリコ-ン基板17aのUV照射面を酸化して当該表面を親水性表面とする。
 一方、例えば、図18(b)のようなパタ-ンの第1のITO電極13が表面に第1のガラス基板16aにおいて、第1のITO電極13が施された面と反対側の面に対してエキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射する。
 その後、第1のガラス基板16aのUV照射表面とカバ-ガラス11と接合されたシリコ-ン基板17aのUV照射表面とを重ね合わせる。適宜、重ね合わせたカバ-ガラス11とシリコ-ン基板17aとを加圧したり、加熱することにより、接合強度を増加させる。
 なお、上記したように、第1のガラス基板16aにおける第1のITO電極13が施された面と反対側の面(第1のガラス基板16aの接合面)自体は親水性表面であるため、必ずしもUV光を照射する必要はない。しかしながら、第1のガラス基板16aの接合面にUV光を照射することにより、第1のガラス基板16aの接合面が活性化されたり、第1のガラス基板16aの接合面の不純物が分解して除去されるので、第1のガラス基板16aとシリコ-ン基板17aとの接合がより確実に行われる。
 また、シリコ-ン(PDMS)基板17a表面と第1のガラス基板16aの接合面へのUV照射は同時に行っても良い。
〔工程D-1〕第1の透明導電膜(ITO電極)が表面に施された第1のガラス基板と第2の透明導電膜(ITO電極)が表面に施された第2のガラス基板との接合工程
 本工程を図15に示す。本工程は、疎水性表面を持つ第1のワ-クと、疎水性表面を持つ第2のワ-クをシリコ-ン基板を介して貼り合わせ方法を示すものであり、疎水性表面を持つ第1のワ-クに相当するのは一方の面にカバ-ガラス11が接合されていて他方の面に第1のITO電極13が施されている第1のガラス基板16a、疎水性表面を持つ第2のワ-クに相当するのは第2の透明導電膜(ITO電極15)が表面に施された第2のガラス基板16bである。
(a)第1のガラス基板16(カバ-ガラス11と接合済み)とシリコ-ン基板17bとの接合
 図15(a)に示すように、シリコ-ン基板17bの表面にエキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射して、シリコ-ン基板17bの表面を酸化して当該表面を親水性表面とする。
 次に、図15(a)に示すように、先の工程において一方の面にカバ-ガラス11が接合されていて他方の面に第1のITO電極13が施されている第1のガラス基板16aにおいて、上記第1のITO電極13のパタ-ンが施された面にプライマ-18をコ-トする。次に、このプライマ-18がコ-トされた表面に対してエキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射して、上記プライマ-コ-ト面を接合に適した表面とする。
 その後、シリコ-ン基板17bのUV照射表面と第1のガラス基板16aのUV照射処理したプライマ-コ-ト面とを重ね合わせ、適宜、第1のガラス基板16aとシリコ-ン基板17bとを加圧したり加熱したりして、シリコ-ン基板17bと一方の面にカバ-ガラス11が接合されていて他方の面に第1のITO電極13が施されている第1のガラス基板16aとを接合する。
(b)第1のガラス基板16a(カバ-ガラス11と接合済み)と第2のガラス基板16bとの接合
 次に、図15(b)に示すように、第1のガラス基板16aと接合されたシリコ-ン基板17bの、第1のガラス基板16aとの接合面とは反対側の表面に、エキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射して、シリコ-ン基板17bのUV照射面を酸化して当該表面を親水性表面とする。
 一方、例えば、図18(c)のようなパタ-ンの第2のITO電極15が表面に施された第2のガラス基板16bにおいて、上記第2のITO電極パタ-ンが施された面にプライマ-18をコ-トする。次に、このプライマ-18がコ-トされた表面に対してエキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射して、上記プライマ-コ-ト面を接合に適した表面とする。
 その後、第1のガラス基板16aと接合されたシリコ-ン基板17bのUV照射表面と第2のガラス基板16bのUV照射処理したプライマ-コ-ト面とを重ね合わせ、適宜、第2のガラス基板16bと第1のガラス基板16aと接合されたシリコ-ン基板17bとを加圧したり加熱したりして、第1のガラス基板16aと接合されたシリコ-ン基板17bと、第2のITO電極15が表面に施された第2のガラス基板16bとを接合する。
 すなわち、本工程(D-1)における接合方法は以下の通りである。
(1)疎水性表面を持つ第1のワ-クであって、一方の面にシリコ-ン基板17aを介してカバ-ガラス11が接合されていて他方の面に第1のITO電極13が施されている第1のガラス基板16aにおいて、上記第1のITO電極13が施されている面にプライマ-18をコ-トする。
(2)シリコ-ン基板17bの表面と、疎水性表面を持つ第1のワ-クである第1のガラス基板16aのプライマ-18がコ-トされた面とに対して紫外線を照射して、両表面を親水性表面とする。
(3)両紫外線照射面同士を重ね合わせる。
(4)上から、シリコ-ン基板17b、疎水性表面を持つ第1のワ-クである第1のガラス基板16a(カバ-ガラス11接合済み)の順に重ね合わせられている各ワ-クの接触面を加圧しながら、加熱する。
(5)疎水性表面を持つ第2のワ-クである第2のガラス基板16bにおいて、第2の透明導電膜(ITO電極15)が表面に施された面にプライマ-18をコ-トする。
(6)疎水性表面を持つ第1のワ-クである第1のガラス基板16a(カバ-ガラス11接合済み)に接合されたシリコ-ン基板17bの表面と、疎水性表面を持つ第2のワ-クである第2のガラス基板16bの第2の透明導電膜(ITO電極15)が表面に施された面にコ-トされたプライマ-18に対して紫外線を照射して、両表面を親水性表面とする。
(7)両紫外線照射面同士を重ね合わせる。
(8)上から、疎水性表面を持つ第1のワ-クである第1のガラス基板16a(カバ-ガラス11接合済み)、シリコ-ン基板17b、疎水性表面を持つ第2のワ-クである第2のガラス基板16bの順に重ね合わせられている各ワ-クの接触面を加圧しながら、加熱する。
 なお、本接合方法の(4)(8)においては、加圧のみ、加熱のみでもよいが、加圧しながら加熱したほうが望ましい。
 次に、図13(b)に示す構成例のタッチパネルを製造する際に適用される本発明の接合方法について図16、図17により説明する。
〔工程C-2〕カバ-ガラスと第1の透明導電膜(ITO電極)が表面に施された第1のガラス基板との接合工程
 本工程を図16に示す。本工程は、親水性表面を持つ第1のワ-クと、疎水性表面を持つ第2のワ-クをシリコ-ン基板を介して貼り合わせ方法を示すものであり、親水性表面を持つ第1のワ-クに相当するのはカバ-ガラス11、疎水性表面を持つ第2のワ-クに相当するのは第1の透明導電膜(ITO電極13)が表面に施された第1のガラス基板16aである。
(a)カバ-ガラス11とシリコ-ン基板17aとの接合
第1のワ-クであるカバ-ガラス11の下側表面と第2のワ-クである第1のガラス基板16aの第1のITO電極13側表面とを接合するのに先立って、まず、カバ-ガラス11とシリコ-ン(例えば、PDMS)基板17aとの接合を行う。
 図16(a)に示すように、シリコ-ン(PDMS)基板17a表面にエキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射して、シリコ-ン基板17a表面を酸化し当該表面を親水性表面とする。
 次に、カバ-ガラス11の接合面にエキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射する。
 その後、カバ-ガラス11の接合面とシリコ-ン基板17aのUV照射表面とを重ね合わせる。適宜、重ね合わせたカバ-ガラス11とシリコ-ン基板17aとを加圧したり、加熱することにより、接合強度を増加させる。
 なお、カバ-ガラス11自体は親水性表面であるため、必ずしもUV光を照射する必要はない。しかしながら、カバ-ガラス11の接合面にUV光を照射することにより、カバ-ガラス11の接合面が活性化されたり、カバ-ガラス11表面の不純物が分解して除去されるので、カバ-ガラス11とシリコ-ン基板17aとの接合がより確実に行われる。
また、シリコ-ン(PDMS)基板表面とカバ-ガラス11の接合面へのUV照射は同時に行っても良い。
(b)カバ-ガラス11と接合したシリコ-ン基板17aと、第1のガラス基板16aとの接合
 次に、図16(b)に示すように、例えば、図18(b)のようなパタ-ンの第1のITO電極13が施された第1のガラス基板16aにおいて、上記第1のITO電極13パタ-ンが施された面にプライマ-18をコ-トする。次に、このプライマ-18がコ-トされた表面に対してエキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射して、上記プライマ-コ-ト面を接合に適した表面とする。
 一方、カバ-ガラス11と接合されたシリコ-ン基板17aの、カバ-ガラス11との接合面とは反対側の表面に、エキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射して、シリコ-ン基板17aのUV照射面を酸化して当該表面を親水性表面とする。
 その後、シリコ-ン基板17aのUV照射処理した表面と第1のガラス基板16aのUV照射処理したプライマ-コ-ト面とを重ね合わせ、適宜、重ね合わせたカバ-ガラス11とシリコ-ン基板17aとを加圧したり加熱したりして、カバ-ガラス11が接合されたシリコ-ン基板17aと、第1のITO電極13が表面に施された第1のガラス基板16aとを接合する。
 すなわち、本工程(C-2)において採用された接合方法は以下の通りである。
(1)親水性表面を持つ第1のワ-クであるカバ-ガラス11の下側表面に、シリコ-ン基板17aを接合する。接合方法は、シリコ-ン基板17aに紫外線を照射して紫外線照射面を親水性表面とし、当該表面をカバ-ガラス11上に積層して、第1のワ-クであるカバ-ガラス11とシリコ-ン基板17aを接合する。なお、上記したように、カバ-ガラス11の接合面にも紫外線を照射してもよい。
(2)疎水性表面を持つ第2のワ-クである第1のガラス基板16aの第1の透明導電膜(ITO電極13)が施された面にプライマ-コ-トする。
(3)親水性表面を持つ第1のワ-クであるカバ-ガラス11に接合されたシリコ-ン基板17a表面と、疎水性表面を持つ第2のワ-クである第1のガラス基板16aの第1の透明導電膜(ITO電極13)が施された面にコ-トされたプライマ-18に対して紫外線を照射して、両表面を親水性表面とする。
(4)両紫外線照射面同士を重ね合わせる。
(5)上から、親水性表面を持つ第1のワ-クであるカバ-ガラス11、シリコ-ン基板17a、第2のワ-クである第1のガラス基板16aの順に重ね合わせられている各ワ-クの接触面を加圧しながら、加熱する。
 なお、本接合方法の(5)においては、加圧のみ、加熱のみでもよいが、加圧しながら加熱したほうが望ましい。
〔工程D-2〕第1の透明導電膜(ITO電極)が表面に施された第1のガラス基板と第2の透明導電膜(ITO電極)が表面に施された第2のガラス基板との接合工程
 本工程を図17に示す。本工程においても、親水性表面を持つ第1のワ-クと、疎水性表面を持つ第2のワ-クをシリコ-ン基板を介して貼り合わせ方法を示すものであり、親水性表面を持つ第1のワ-クに相当するのは第1のITO電極13が施されている一方の面にカバ-ガラス11が接合されている第1のガラス基板16a、疎水性表面を持つ第2のワ-クに相当するのは第2の透明導電膜(ITO電極15)が表面に施された第2のガラス基板16bである。
(a)第1のガラス基板16a(カバ-ガラス11と接合済み)とシリコ-ン基板17bとの接合
 親水性表面を持つ第1のワ-クである第1のガラス基板16aの、カバ-ガラス11と接合済みの第1のITO電極13側と反対側表面と、疎水性表面を持つ第2のワ-クである第2のガラス基板16bの第2のITO電極15側表面とを接合するのに先立って、まず、第1のガラス基板16a(カバ-ガラス11と接合済み)とシリコ-ン(例えば、PDMS)基板17bとの接合を行う。
 図17(a)に示すように、シリコ-ン基板17b表面にエキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射して、シリコ-ン基板17bの表面を酸化して当該表面を親水性表面とする。
 次に、図17(a)に示すように、先の工程において第1のガラス基板16aのカバ-ガラス11と接合済みである第1のITO電極13側と反対側表面に対してエキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射する。
 その後、シリコ-ン基板17bのUV照射表面と第1のガラス基板16aのUV照射面とを重ね合わせ、適宜、第1のガラス基板16aとシリコ-ン基板17bとの接触面を加圧したり加熱したりして、シリコ-ン基板17bと一方の面にカバ-ガラス11が接合されている第1のガラス基板16aとを接合する。
(b)第1のガラス基板16a(カバ-ガラス11と接合済み)と第2のガラス基板16bとの接合
 次に、図17(b)に示すように、第1のガラス基板16aと接合されたシリコ-ン基板17bの、第1のガラス基板16aとの接合面とは反対側の表面に、エキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射して、シリコ-ン基板17bのUV照射面を酸化して当該表面を親水性表面とする。
 一方、例えば、図18(c)のようなパタ-ンの第2のITO電極15が表面に施された第2のガラス基板16bにおいて、上記第2のITO電極15パタ-ンが施された面にプライマ-18をコ-トする。次に、このプライマ-18がコ-トされた表面に対してエキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射して、上記プライマ-コ-ト面を接合に適した表面とする。
 その後、第1のガラス基板16aと接合されたシリコ-ン基板17bのUV照射表面と第2のガラス基板16bのUV照射処理したプライマ-コ-ト面とを重ね合わせ、適宜、第2のガラス基板16bと第1のガラス基板16aと接合されたシリコ-ン基板17bとを加圧したり加熱したりして、第1のガラス基板16aと接合されたシリコ-ン基板17bと、第2のITO電極15が表面に施された第2のガラス基板16bとを接合する。
 すなわち、本工程(D-2)における接合方法は以下の通りである。
(1)親水性表面を持つ第1のワ-クであって、第1のITO電極13が施されている一方の面にシリコ-ン基板17aを介してカバ-ガラス11が接合されている第1のガラス基板16aの他方の面と、シリコ-ン基板17b表面とに対して紫外線を照射して、両ワ-クの紫外線照射面が密着するように親水性表面を持つ第1のワ-クである第1のガラス基板16aとシリコ-ン基板17bとを積層して、親水性表面を持つ第1のワ-クである第1のガラス基板16aとシリコ-ン基板17bを接合する。
(2)疎水性表面を持つ第2のワ-クである第2のガラス基板16bにおいて、第2の透明導電膜(ITO電極15)が表面に施された面にプライマ-18をコ-トする。
(3)親水性表面を持つ第1のワ-クである第1のガラス基板16a(カバ-ガラス11接合済み)に接合されたシリコ-ン基板17b表面と、疎水性表面を持つ第2のワ-クである第2のガラス基板16bの第2の透明導電膜(ITO電極15)が表面に施された面にコ-トされたプライマ-18に対して紫外線を照射して、両表面を親水性表面とする。
(4)両紫外線照射面同士を重ね合わせる。
(5)上から、親水性表面を持つ第1のワ-クである第1のガラス基板16a(カバ-ガラス11接合済み)、シリコ-ン基板17b、疎水性表面を持つ第2のワ-クである第2のガラス基板16bの順に重ね合わせられている各ワ-クの接触面を加圧しながら、加熱する。
 なお、本接合方法の(5)においては、加圧のみ、加熱のみでもよいが、加圧しながら加熱したほうが望ましい。
 本発明の接合方法を採用した〔工程C-1〕と〔工程D-1〕を経て、図13(a)に示すタッチパネルにおけるタッチセンサモジュ-ルが構成される。
 また、本発明の接合方法を採用した〔工程C-2〕と〔工程D-2〕を経て、図13(b)に示すタッチパネルにおけるタッチセンサモジュ-ルが構成される。
 このタッチセンサモジュ-ル10aとタッチパネル制御部10bがLCDパネル等の画像表示装置30上に積層されて、タッチパネルが構成される。ここで、タッチパネル制御部10bの構造例や、タッチセンサモジュ-ル10a、タッチパネル制御部10b、画像表示装置30の順に積層されるタッチパネルの接合は、従来技術と同様であるので、ここでは詳細な説明を省略する。
 本実施の形態2においても、タッチセンサモジュ-ルの各構成要素の貼り合わせに際して、従来のOCAテ-プまたはOCRに代えてシリコ-ン(基板)を使用し、シリコ-ン(基板)と各構成要素の接合面に紫外線を照射するものである。
 そして、タッチセンサモジュ-ルの導電性薄膜(例えば、ITO電極)が設けられている基板において、上記導電性薄膜が設けられている面にプライマ-(例えば、シランカップリング剤)をコ-トし、当該プライマ-コ-ト面に紫外線を照射するものである。よって、実施の形態1のときと同様の効果を奏することが可能となる。
 特に本実施の形態2において構築したタッチセンサモジュ-ルは、透明導電膜の基板としてガラス基板のみを使用しているので、このタッチセンサモジュ-ルを組み込んだタッチパネルは、高い視認性や耐候性を有することになる。
 また、ガラス基板を透明導電膜の基板として採用することにより、当該透明導電膜の基板の透明導電膜が施されている面と反対側の面は親水性表面となる。よって、この面に対してプライマ-を導入する必要がなくなる。すなわち、本実施の形態2において構築したタッチセンサモジュ-ルの製造工程は、本実施の形態1において構築したタッチパネルの製造工程と比較すると、プライマ-を導入する面が少ない分、簡略化される。
[実験例]
 上記したように、本発明の貼り合わせ方法においては、第1のワ-クと接合面に導電性薄膜が施されている第2のワ-クとの接合面に紫外線照射による表面改質されて親水性表面となったシリコ-ン基板を介在させて第1のワ-クと第2のワ-クとを積層し、積層した第1のワ-クおよび第2のワ-クを加熱・加圧処理を施して、第1のワ-クと第2のワ-クとを貼り合わせるものである。特に、本発明の貼り合わせ方法においては、従来、紫外線照射による表面改質処理を用いても接合させることが不可能であったシリコ-ン基板と導電性薄膜基板の導電性薄膜表面との貼り合わせやシリコ-ン基板と表面が疎水性である場合の導電性薄膜基板との貼り合わせについても、導電性薄膜表面、基板の疎水性表面にシランカップリング剤を導入して、当該シランカップリング剤を紫外線照射により表面改質する(接合に適した表面状態にする)することにより、上記貼り合わせを可能としたものである。
 以下、プライマ-を使用して、シリコ-ン基板と導電性薄膜が施された導電性薄膜基板とを接合する場合の実験例を示す。
 シリコ-ン基板としてはPDMSを使用し、導電性薄膜基板としては、一方の面にITO層が設けられたPETフィルムを使用した。また、プライマ-としては、シランカップリング剤を使用した。シランカップリング剤は、信越シリコ-ン社製のKBE-9007であり、構造式は(CO)SiCN=C=Oである。
 まず、PETフィルム14のITO層上に、上記シランカップリング剤のアセトン希釈溶液をスピンコ-ト法によりコ-トした。
 次に、PDMS基板(シリコ-ン基板)の接合面とPETフィルムのシランカップリング剤がコ-トされた面に対し紫外線を照射した。
 紫外線光源は、中心波長が172nmである真空紫外線(VUV)を放出するエキシマランプを使用し、照射条件は、照射面上の放射照度が5mW/cm、照射時間が180秒であった。
 VUV照射後、PDMS基板およびPETフィルムのVUV照射面同士が接するように当該PDMS基板およびPETフィルムを重ね合わせ、両者に圧力0.25Mpaの圧力を加えながら、両者の温度が100°Cとなるように加熱した。加熱時間は30秒であった。以上のような手順により、PDMS基板およびPETフィルムは接合された。
 すなわち、本実験により、従来、紫外線照射による表面改質処理を用いても接合させることが不可能であったシリコ-ン基板と導電性薄膜基板の導電性薄膜表面との貼り合わせが可能であることが判明した。同様に、シリコ-ン基板と表面が疎水性である場合の導電性薄膜基板との貼り合わせも可能であると考えられる。
 なお、プライマ-として、他のシランカップリング剤(例えば、信越シリコ-ン社製のKBE-403:構造式を化(1)に示す)を用いても同様の結果を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
 また、プライマ-18としてシロキサン系コ-ト剤(例えば、コルコ-ト株式会社製アルコ-ル性シリカゾル「コルコ-ト N-103X」(エタノ-ル;約4%、2-プロパノ-ル;40%、1-ブタノ-ル;50%の混合溶媒にシリカ;約2%を分散したもの)を用いても同様の結果を得た。
 本発明の貼り合わせ方法は、図1、図13に示した構成のタッチセンサモジュ-ル以外の構成のタッチセンサモジュ-ルを構成する場合にも適用可能である。
 例えば、図13(a)において、透明導電膜が施される第1、第2のガラス基板16a,16bをPETフィルム14等からなる第1、第2の樹脂基板とした場合にも適用される。この場合、図14に示す〔工程C-1〕が、図5に示す〔工程A-1〕に置き換わる。なお、それに続く〔工程D-1〕はそのまま適用可能である。
10    位置入力装置
10a    タッチセンサモジュ-ル
10b    タッチパネル制御部
11    カバ-ガラス
12    ブラックマトリクス
13    第1のITO電極(第1の透明導電膜)
14    PETフィルム
14a  ハ-ドコ-ト層
15    第2のITO電極(第2の透明導電膜)
16,16a,16b    ガラス基板
17,17a,17b   シリコ-ン(PDMS)基板
18    プライマ-
21    配線層
22    タッチパネル(TP)コントロ-ルIC部
23    FPC(フレキシブルプリント基板)
30    画像表示装置
31    偏光フィルム
32    画像表示パネル
40    紫外線(UV)光源
100  タッチパネル
 

Claims (4)

  1. 疎水性表面を持つワ-クとシリコ-ンからなる部材とを貼り合わせる方法であって、疎水性表面を持つワ-クの一方の面にシランカップリング剤もしくはシロキサン系コ-ト剤からなるプライマ-をコ-トし、
     上記ワ-クのプライマ-をコ-トした面と、上記シリコ-ンからなる部材に紫外線を照射し、
     上記ワ-クの紫外線を照射した面と、上記シリコ-ンからなる部材の紫外線を照射した面が接触するように積層し、
     上記積層したワ-クとシリコ-ンからなる部材の接触面が加圧されるように加圧し、あるいは積層したワ-クとシリコ-ンからなる部材を加熱し、あるいは、積層したワ-クとシリコ-ンからなる部材をその接触面が加圧されるように加圧しながら加熱する
    ことを特徴とするワ-クの貼り合わせ方法。
  2. 親水性表面を持つ第1のワ-クと、疎水性表面を持つ第2のワ-クをシリコ-ンからなる部材を介在させて貼り合わせる方法であって、
     疎水性表面を持つ第2のワ-クの表面にシランカップリング剤もしくはシロキサン系コ-ト剤からなるプライマ-をコ-トし、
     第1のワ-クの一方の面と、上記第2のワ-クのプライマ-をコ-トした面のそれぞれと、上記シリコ-ンからなる部材の両面に紫外線を照射し、
     上記第1のワ-クと上記シリコ-ンからなる部材と第2のワ-クを、上記紫外線が照射された面が接触するように積層し、
     上記接触面が加圧されるように加圧し、あるいは積層した第1および第2のワ-クとシリコ-ンからなる部材を加熱し、あるいは積層した第1および第2のワ-クとシリコ-ンからなる部材をその接触面が加圧されるように加圧しながら加熱する
    ことを特徴とするワ-クの貼り合わせ方法。
  3. 疎水性表面を持つ第1のワ-クと、疎水性表面を持つ第2のワ-クをシリコ-ンからなる部材を介在させて貼り合わせる方法であって、
     疎水性表面を持つ第1のワ-クと、第2のワ-クの表面にシランカップリング剤もしくはシロキサン系コ-ト剤からなるプライマ-をコ-トし、
     第1のワ-ク及び第2のワ-クの、上記プライマ-をコ-トした面のそれぞれと、上記シリコ-ンからなる部材の両面に紫外線を照射し、
     上記第1のワ-クと上記シリコ-ンからなる部材と第2のワ-クを、上記紫外線が照射された面が接触するように積層し、
     上記接触面が加圧されるように加圧し、あるいは積層したワ-クを加熱し、あるいは積層したワ-クをその接触面が加圧されるように加圧しながら加熱する
    ことを特徴とするワ-クの貼り合わせ方法。
  4.  透明導電膜が施された基板を有するタッチセンサモジュ-ルと、画像表示装置とを備えたタッチパネルであって、
     上記タッチセンサモジュ-ルは、
     シランカップリング剤もしくはシロキサン系コ-ト剤からなるプライマ-がコ-トされ、該プライマ-をコ-トした面が紫外線照射により改質された透明導電膜が施された基板と、紫外線照射により表面が改質されたシリコ-ンからなる部材とを含み、上記基板と上記シリコ-ンからなる部材の、上記紫外線が照射されたそれぞれの面が対向して積層されている
    ことを特徴とするタッチパネル。
     
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