WO2013084997A1 - 光学部品の製造方法 - Google Patents

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WO2013084997A1
WO2013084997A1 PCT/JP2012/081667 JP2012081667W WO2013084997A1 WO 2013084997 A1 WO2013084997 A1 WO 2013084997A1 JP 2012081667 W JP2012081667 W JP 2012081667W WO 2013084997 A1 WO2013084997 A1 WO 2013084997A1
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layer
film
film formation
zirconium dioxide
optical component
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政興 友田
圭 石村
Original Assignee
株式会社ニコン・エシロール
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    • G02B1/115—Multilayers

Definitions

  • the present invention relates to a method for manufacturing an optical component.
  • This application claims priority based on Japanese Patent Application No. 2011-267883 filed on Dec. 7, 2011, the contents of which are incorporated herein by reference.
  • plastic lenses are frequently used for spectacle lenses because of their advantages of being lightweight, excellent in impact resistance and easy to dye.
  • a plastic lens used for a spectacle lens is usually provided with an antireflection film on both sides.
  • the antireflection film for spectacle lenses has low reflection characteristics (broadband low reflection characteristics) over the entire visible range of 400 nm to 700 nm, and in addition to scratch resistance in terms of the usage environment of spectacle lenses. High performance is required. Furthermore, from the viewpoint of stable production of homogeneous products, it is important to stably control the refractive index and film thickness of each layer.
  • an optical component such as a spectacle lens
  • an optical component including a plastic base material disclosed in Patent Documents 1 to 3 and an antireflection film disposed on the base material is known.
  • an antireflection film a multilayer film in which a high refractive index film (zirconium dioxide layer (ZrO 2 layer)) and a low refractive index film (silicon dioxide layer (SiO 2 layer)) are alternately and repeatedly formed is generally used. It is used.
  • the film thickness of each layer cannot be increased from the viewpoint of preventing surface reflection, which is the original purpose of the antireflection film. Further, there is a problem that the refractive index of the substance is changed by increasing the film density of each layer, and the optical antireflection effect is destroyed.
  • film formation is performed while pressure control is performed.
  • the pressure control is generally performed by introducing a gas such as oxygen in a vacuum atmosphere to prevent the pressure from gradually decreasing.
  • a pressure control causes the film forming atmosphere to have a high pressure, so that the film density is lowered, resulting in a film having poor scratch resistance.
  • the allowable range of effective ion beam assist conditions depends on the specifications of the ion source. In some cases, it is difficult to set optimum conditions, for example, because the crack resistance performance is lowered due to the fact that the film density is narrow and the film density is remarkably increased.
  • An aspect of the present invention aims to provide a production method capable of producing an optical component that is excellent in scratch resistance and optically excellent.
  • One aspect of the present invention is a method for producing an optical component that forms a multilayer film in which a plurality of silicon dioxide layers and zirconium dioxide layers are alternately laminated on a plastic substrate in a vacuum film formation chamber, During the deposition of the zirconium dioxide layer, no gas is introduced into the vacuum deposition chamber.
  • an optical component having excellent scratch resistance and optical properties can be manufactured.
  • FIG. 1 is a side sectional view schematically showing an optical component 1 manufactured according to the present embodiment.
  • the optical component 1 is an optical component for a spectacle lens.
  • the manufacturing method of the optical component 1 of this embodiment is a process of forming a functional thin film 4 (primer layer 5 and hard coat layer 6) on a plastic substrate 2 by the same method as before. And a step of heating the plastic substrate 2 and a step of forming the multilayer film 7 on the plastic substrate 2 after adjusting the plastic substrate 2 to a predetermined temperature (for example, 70 ° C.) by heating.
  • a predetermined temperature for example, 70 ° C.
  • the heating temperature of the plastic base material 2 may be less than 70 degreeC or 70 degreeC or more.
  • a refractive index (nd) of the plastic base material 2 what was selected from 1.50, 1.60, 1.67, and 1.74, for example can be used.
  • the refractive index of the plastic substrate 2 is 1.6 or more, it is preferable to use an allyl carbonate resin, an acrylate resin, a methacrylate resin, a thiourethane resin, or the like as the plastic substrate 2. .
  • the functional thin film 4 is disposed between the plastic substrate 2 and the multilayer film 7, the primer layer 5 disposed in contact with the plastic substrate 2, the layer 5 in contact with the primer layer 5, and the multilayer film 7 and a hard coat layer 6 disposed in contact with 7.
  • the primer layer 5 is for improving the adhesion between the plastic substrate 2 and the hard coat layer 6 and functions as an adhesion layer. Moreover, it is also for absorbing the impact on the optical component 1 and functions as an impact absorbing layer.
  • the primer layer 5 is mainly composed of a polyurethane-based resin, and in this embodiment, the polyurethane-based resin contains, for example, fine particles of an inorganic material.
  • the primer layer 5 may contain at least one of an acrylic resin, a methacrylic resin, and an organosilicon resin.
  • the thickness of the primer layer 5 can be about 0.5 ⁇ m or more and 1.0 ⁇ m or less. Alternatively, the thickness of the primer layer 5 can be less than 0.5 ⁇ m or 1.0 ⁇ m or more.
  • Such a primer layer 5 can be formed with a predetermined thickness on the plastic substrate 2 by immersing the plastic substrate 2 in the forming material liquid of the primer layer 5 and then lifting and drying the same.
  • a material for forming the primer layer 5 for example, a solution obtained by dispersing or dissolving the resin to be the primer layer 5 and the inorganic oxide fine particle sol in water or an alcohol solvent and mixing them can be used.
  • the hard coat layer 6 has a function of protecting the plastic substrate 2 and suppressing damage to the plastic substrate 2, and functions as a scratch-resistant film.
  • the hard coat layer 6 is made of, for example, an organosiloxane hard coat layer.
  • the organosiloxane hard coat layer is obtained by dispersing inorganic oxide fine particles in an organosiloxane resin.
  • the inorganic oxide for example, rutile type titanium oxide, oxides of silicon, tin, zirconium, and antimony are preferably used.
  • the hard coat layer 6 may be an organosilicon resin containing colloidal silica as disclosed in, for example, Japanese Patent Publication No. 4-55615.
  • the thickness of the hard coat layer 6 can be about 2 ⁇ m or more and 4 ⁇ m or less. Alternatively, the thickness of the hard coat layer 6 can be less than 2 ⁇ m, or 4 ⁇ m or more.
  • the hard coat layer 6 is formed on the primer layer 5 on the plastic substrate 2 by immersing the plastic substrate 2 on which the primer layer 5 is formed in the forming material solution of the hard coat layer 6, and then pulling up and drying. It can be formed with a thickness of As the liquid for forming the hard coat layer 6, for example, a liquid obtained by dispersing or dissolving the resin to be the hard coat layer 6 and the inorganic oxide fine particle sol in water or an alcohol solvent and mixing them can be used. .
  • the interface between the functional thin film 4 and the plastic substrate 2 is sufficient if the refractive index and the refractive index of the plastic substrate 2 are substantially the same. Generation of interference fringes caused by reflection on the surface and a decrease in transmittance can be suppressed. Therefore, it is desirable to adjust the refractive index of the functional thin film 4 in accordance with the refractive index of the plastic substrate 2.
  • the type (physical properties) of the resin that is the main component of the functional thin film 4 is selected, or the resin that is the main component of the resin. This can be done by selecting the type (physical properties) of the fine particles to be added.
  • the functional thin film 4 is formed including the primer layer 5 and the hard coat layer 6.
  • the primer layer 5 and the hard coat layer 6 are formed. It may be omitted.
  • the plastic lens substrate on which the primer coat layer and the hard coat layer are formed is placed in a vacuum film forming chamber of a vapor deposition apparatus, and silicon dioxide and zirconium dioxide as vapor deposition materials are alternately deposited by an electron beam heating method.
  • a multilayer film 7 in which a plurality of layers and zirconium dioxide layers were alternately laminated was formed.
  • the multilayer film 7 has a function as an antireflection film that prevents reflection of incident light.
  • the multilayer film 7 includes a first layer 9 made of silicon dioxide provided on the plastic substrate 2 side, a second layer 10 made of zirconium dioxide provided on the first layer 9, and The third layer 11 made of silicon dioxide provided on the second layer 10, the fourth layer 12 made of zirconium dioxide provided on the third layer 11, and the fourth layer 12 provided on the fourth layer 12 And a fifth layer 13 made of silicon dioxide.
  • the first layer 9 is provided in contact with the hard coat layer 6 and is made of silicon dioxide having a refractive index of 1.47.
  • the second layer 10 is provided in contact with the first layer 9 and is made of zirconium dioxide having a refractive index of 2.00.
  • the third layer 11 is provided in contact with the second layer 10 and is made of silicon dioxide like the first layer 9.
  • the fourth layer 12 is provided in contact with the third layer 11 and is made of zirconium dioxide like the second layer 10.
  • the fifth layer 13 is provided in contact with the fourth layer 12 and is made of silicon dioxide like the first layer 9 and the third layer 11.
  • the multilayer film 7 is not formed in a five-layer structure of the first layer 9, the second layer 10, the third layer 11, the fourth layer 12, and the fifth layer 13, but four layers or less, or six layers or more. Can also be configured.
  • a dielectric film made of ITO is disposed between the outermost silicon dioxide layer (fifth layer 13) constituting the multilayer film 7 and the inner zirconium dioxide layer (fourth layer 12). You may set up.
  • the dielectric film is a layer made of at least one oxide selected from the group consisting of indium, tin, zinc, and titanium, for example. Note that the thickness of the dielectric film can be, for example, about 22, 20, 18, 16, 14, 12, or 10 nm or less. Alternatively, the thickness of the dielectric film can be 22 nm or more.
  • no gas is introduced into the vacuum film formation chamber in the step of forming the zirconium dioxide layer by the vacuum vapor deposition method.
  • “no introduction of gas” means that a small amount of gas is introduced as long as pressure control is not performed.
  • the pressure in the vacuum film formation chamber when forming the zirconium dioxide layer is preferably 1.0 ⁇ 10 ⁇ 3 Pa or more and 1.0 ⁇ 10 ⁇ 2 Pa or less, and 2.0 ⁇ 10 ⁇ 3 Pa to 8 ⁇ 8. more preferably .0 ⁇ 10 -3 Pa, and particularly preferably 3.0 ⁇ 10 -3 Pa ⁇ 6.0 ⁇ 10 -3 Pa.
  • the pressure in the vacuum film formation chamber when forming the zirconium dioxide layer is about 2.0 ⁇ 10 ⁇ 3 Pa, 3.0 ⁇ 10 ⁇ 3 Pa, 4.0 ⁇ 10 ⁇ 3 Pa, 5.0 ⁇ 10 ⁇ 3 Pa, 6.0 ⁇ 10 ⁇ 3 Pa, 7.0 ⁇ 10 ⁇ 3 Pa, 8.0 ⁇ 10 ⁇ 3 Pa, 9.0 ⁇ 10 ⁇ 3 Pa, or 1.0 ⁇ 10 ⁇ 2 Can be Pa.
  • the film formation rate according to the present invention is the film formation speed (nm / s) during film formation.
  • the subsequent deposition rate of the zirconium dioxide layer is made faster than the deposition rate at the start of deposition of the zirconium dioxide layer. That is, when the second layer 10 is formed, no gas is introduced into the vacuum film formation chamber, and the second layer 10 is formed later than the film formation rate at the start of the formation of the second layer 10.
  • the film is formed with the rate set earlier.
  • the fourth layer 12 when the fourth layer 12 is formed, no gas is introduced into the vacuum film formation chamber, and the fourth layer 12 is formed later than the film formation rate at the start of the formation of the fourth layer 12.
  • the film is formed with the rate set earlier.
  • the film formation rate at the start of film formation refers to the film formation rate from the start of the film formation process until the predetermined film thickness is reached.
  • the subsequent deposition rate of the zirconium dioxide layer refers to the deposition rate of the zirconium dioxide layer after reaching a predetermined thickness immediately after the start of the deposition process.
  • the predetermined film thickness is temporarily 20 nm.
  • the film formation rate when forming a zirconium dioxide film of 21 nm or more is adjusted to a film thickness of up to 20 nm. Make it faster than the membrane rate. More preferably, the film formation rate of 21 nm to 40 nm is faster than the film formation rate of 0 nm to 20 nm, and the film formation rate of 41 nm or more is faster than the film formation rate of 21 nm to 40 nm. .
  • the deposition rate from 21 nm to 40 nm is faster than the deposition rate from 0 nm to 20 nm
  • the deposition rate of 41 nm or more is faster than the deposition rate from 21 nm to 40 nm
  • the film formation rate of 61 nm or more is made faster than the film formation rate of 41 nm to 60 nm.
  • the increase rate of the film formation rate is more than 0% and 10% or less.
  • the reason why the upper limit of the increase rate of the film formation rate is set to 10% is that if the increase rate of the film formation rate exceeds 10%, the sample dust may be scattered and problems such as appearance defects may occur. It is. It is more preferable that the rate of increase of the subsequent deposition rate of the zirconium dioxide layer with respect to the deposition rate from the start of deposition of the zirconium dioxide layer to 20 nm is more than 0% and 10% or less. .
  • the rate of increase of the film formation rate from 21 nm to 40 nm is greater than 0% and 10% or less faster than the film formation rate from 0 nm to 20 nm at the start of film formation of the zirconium dioxide layer.
  • the film formation rate of 41 nm or more is increased by more than 0% and 10% or less faster than the film formation rate of 21 nm to 40 nm.
  • the rate of film formation from 21 nm to 40 nm is increased by more than 0% and 10% or less faster than the film formation rate from 0 nm to 20 nm at the start of film formation of the zirconium dioxide layer.
  • the film formation rate of 41 nm or more is higher than the film formation rate of ⁇ 40 nm by 10% or less faster than 0%, and the film formation rate of 61 nm or more than the film formation rate of 41 nm to 60 nm.
  • the speed is increased by more than 0% and 10% or less at an increasing rate.
  • the rate of increase of the film formation rate from 21 nm to 40 nm with respect to the film formation rate from 0 nm to 20 nm is preferably more than 0% and 10% or less, and preferably 1.0% to 8.0%. More preferably, it is particularly preferably 3.0% to 7.0%.
  • the increase rate of the film formation rate of 41 nm or more with respect to the film formation rate of 0 nm to 20 nm is preferably more than 0% and 10% or less, and more preferably 3.0% to 9.0%. And 5.0% to 8.0% is particularly preferable.
  • the increase rate of the film formation rate of 41 nm or more with respect to the film formation rate of 21 nm to 40 nm is preferably more than 0% and 10% or less, and more preferably 1.0% to 7.0%. 2.0% to 5.0% is particularly preferable.
  • the film formation rate at the start of the film formation is not particularly limited. In one example, 0.32 to 0.48 nm / s is preferable, 0.34 to 0.46 nm / s is more preferable, 0.36 to 0.44 nm / s is further preferable, and 0.38 to 0.42 nm / s. Is particularly preferred.
  • a water / oil repellent film 14 may be provided on the multilayer film 7, that is, on the outermost layer of the multilayer film 7 farthest from the plastic substrate 2 (here, the fifth layer 13 made of silicon dioxide).
  • the water / oil repellent film 14 is mainly composed of a fluorine-substituted alkyl group-containing organosilicon compound and has liquid repellency (water repellency, oil repellency).
  • the water / oil repellent film 14 reduces the surface energy of the optical component, exhibits functions of preventing water scuffing and dirt, and improves the sliding performance of the surface of the optical component. As a result, the scratch resistance is improved. Can be improved.
  • a wet method such as a dipping method, a spin coat method, and a spray method, or a dry method such as a vacuum deposition method.
  • the dipping method is common and is often used.
  • a multilayer film 7 is formed in a solution obtained by dissolving a fluorine-substituted alkyl group-containing organosilicon compound in an organic solvent, the optical component is immersed, pulled up under certain conditions, and dried to form a film.
  • the organic solvent perfluorohexane, perfluoro-4-methoxybutane, perfluoro-4-ethoxybutane, metaxylene hexafluoride or the like is used.
  • the dilution concentration with an organic solvent is preferably 0.01 to 0.5% by mass, more preferably 0.03 to 0.1% by mass.
  • the dilution concentration with an organic solvent is 0.01, 0.02, 0.03, 0.04, 0.05, 0.06, 0.07, 0.08, 0.09, 0.1, It can be 0.2, 0.3, 0.4, or 0.5 mass%. If the concentration is too low, a sufficient water / oil repellent film 14 cannot be obtained, and if the concentration is too high, uneven coating tends to occur and the material cost increases. Of the dry methods, vacuum deposition is often used. This method is a method of forming the water / oil repellent film 14 by heating and evaporating the fluorine-substituted alkyl group-containing organosilicon compound in a vacuum chamber.
  • the refractive index may change unless oxygen gas or the like is introduced into the vacuum atmosphere.
  • oxygen gas or the like is introduced into the vacuum atmosphere.
  • a stable refractive index is reproducible. It is guessed that it can be obtained well.
  • Example 1 A primer coat with a refractive index of 1.67 and a silicon hard coat with a refractive index of 1.67 are applied by heat curing on a urethane-based synthetic resin substrate to form a lens substrate. Further, vacuum deposition is performed as shown below. A multilayer film in which a plurality of silicon dioxide layers and zirconium dioxide layers were alternately laminated was formed by the method. The lens substrate is set in a rotating dome provided in the vacuum film formation chamber, the temperature in the vacuum film formation chamber is heated to 70 ° C., and the pressure is exhausted until the pressure reaches 1.0 ⁇ 10 ⁇ 3 Pa.
  • the first layer silicon dioxide (refractive index 1.47) is sequentially formed from the lens substrate side with an optical film thickness of 0.10 ⁇ and the second layer.
  • Zirconium dioxide (refractive index 2.00) has an optical film thickness of 0.16 ⁇
  • third-layer silicon dioxide (refractive index 1.47) has an optical film thickness of 0.06 ⁇
  • fourth-layer zirconium dioxide (refractive index 2.00). ) was laminated with an optical film thickness of 0.25 ⁇
  • a fifth layer silicon dioxide (refractive index 1.47) was laminated with an optical film thickness of 0.28 ⁇ .
  • ⁇ is 500 nm at the design center wavelength. No oxygen gas was introduced during film formation of the second layer and the fourth layer (pressure control was not performed), and the film formation rate (film formation rate: nm / s) during film formation was set as shown in Table 1. .
  • a silicon hard coat having a refractive index of 1.67 and a primer coat having a refractive index of 1.67 were applied by heat curing on a urethane synthetic resin substrate, and a film was formed by vacuum deposition as described below.
  • the lens substrate is set in a rotating dome provided in the vacuum film formation chamber, the temperature in the vacuum film formation chamber is heated to 70 ° C., and the pressure is exhausted until the pressure reaches 1.0 ⁇ 10 ⁇ 3 Pa.
  • the first layer silicon dioxide (refractive index 1.47) is sequentially formed from the lens substrate side with an optical film thickness of 0.10 ⁇ and the second layer.
  • Zirconium dioxide (refractive index 2.00) has an optical film thickness of 0.16 ⁇
  • third-layer silicon dioxide (refractive index 1.47) has an optical film thickness of 0.06 ⁇
  • fourth-layer zirconium dioxide (refractive index 2.00). ) was laminated with an optical film thickness of 0.25 ⁇
  • a fifth layer silicon dioxide (refractive index 1.47) was laminated with an optical film thickness of 0.28 ⁇ . Note that ⁇ is 500 nm at the design center wavelength.
  • the pressure at the time of forming the second layer and the fourth layer was controlled to 8.0 ⁇ 10 ⁇ 3 Pa by introducing oxygen gas.
  • the film formation rate (film formation rate nm / s) during film formation was set as shown in Table 1 below.
  • ⁇ Abrasion resistance evaluation 1 Steel wool test> Using steel wool, the surface of the optical component was rubbed 50 times with a load of 500 g, and the resistance to scratching was examined and compared. The determination was performed as follows. ⁇ : Not scratched at all. ⁇ mark: hardly scratched. X mark: Scratched.
  • ⁇ Abrasion resistance evaluation 2 Wear test> Eyeglasses equipped with the optical components produced according to Example 1 and Comparative Example 1 as follows were worn on a daily basis and evaluated. Conditions at the time of evaluation and judgment items are as follows. Wearing eyeglasses: right ball specification / Example 1 Left ball specification / Comparative Example 1 Number of monitors: 20 Wearing period: 9 weeks Judgment item: Scratch comparison of spectacle lens surface Evaluation time: 1, Initial wear start 2, After 3 weeks of wear 3, After 9 weeks of wear Scratch judgment method: Scratch confirmation is fluorescent Visual inspection under the light. Determine whether there are more scratches on the left or right side.
  • Table 2 shows the judgment results of the scratch resistance evaluation 1
  • Table 3 shows the judgment results of the scratch resistance evaluation 2.
  • Example 2 In order to confirm the reproducibility of the film formation, a hard coat having a refractive index of 1.67 is applied on a urethane-based synthetic resin substrate by heat curing to form a lens base material. Oxygen gas was not introduced during film formation of the layers and the fourth layer (pressure control was not performed), and the film formation rate during film formation (film formation rate: nm / s) was set as shown in Table 1, Using a vacuum deposition apparatus having an optical film thickness meter that controls each film thickness of the multilayer film, a multilayer film in which a plurality of silicon dioxide layers and zirconium dioxide layers are alternately stacked was formed (from the lens substrate side).
  • the first layer silicon dioxide (refractive index 1.47) has an optical film thickness of 0.10 ⁇
  • the second layer zirconium dioxide (refractive index 2.00) has an optical film thickness of 0.16 ⁇
  • the third layer silicon dioxide ( Refractive index 1.47) optical film thickness 0.06 ⁇
  • fourth layer zirconium dioxide (refractive index 2.0) ) Having an optical film thickness of 0.25 [lambda, the fifth layer optical thickness 0.28 ⁇ silicon (refractive index 1.47) dioxide).
  • This film formation test was repeated 10 times to evaluate reproducibility.
  • a hard coat having a refractive index of 1.67 is applied to the urethane-based synthetic resin substrate by heat curing to form a lens base material.
  • the pressure at the time of film formation of the layers and the fourth layer is controlled to 8.0 ⁇ 10 ⁇ 3 Pa by introducing oxygen gas, and the film formation speed at the time of film formation (film formation rate: nm / s) is expressed.
  • 1 is used to form a multilayer film in which a plurality of silicon dioxide layers and zirconium dioxide layers are alternately stacked using a vacuum vapor deposition apparatus having an optical film thickness meter that controls each film thickness of the multilayer film.
  • the first layer silicon dioxide (refractive index 1.47) has an optical film thickness of 0.10 ⁇
  • the second layer zirconium dioxide (refractive index 2.00) has an optical film thickness of 0.1 mm. 16 ⁇
  • fourth layer dioxide Luconium (refractive index 2.00) has an optical film thickness of 0.25 ⁇
  • fifth silicon dioxide (refractive index 1.47) has an optical film thickness of 0.28 ⁇ ).
  • An optical film thickness meter (manufactured by SYNCHRON Co., Ltd., OPM-8) calculates and controls the optical film thickness by measuring the reflection of the laminated film.
  • OPM-8 calculates and controls the optical film thickness by measuring the reflection of the laminated film.
  • the optical film thickness meter when the optical film thickness exceeds ⁇ / 4, the reflectance reaches the highest value (peak). This reflectance increases or decreases depending on the refractive index of the material on which the film is formed. Therefore, the fact that there is little variation in the peak reflectivity and it is stable is one judgment material that the deposited material is stable.
  • the peak of reflectance was obtained by the following trial manufacture, and the comparative evaluation of the optical components produced along Example 2 and Comparative Example 2 was performed.
  • FIG. 2 shows an example of a change in reflectance during film formation by the optical film thickness meter.
  • Monitor glass Blue plate (refractive index 1.51) Measurement wavelength: 500 nm Optical film thickness meter initial light intensity setting value: 25.00% Number of prototypes: 10 Implementation period: Same day Judgment item: Comparison of dispersion of 10 reflectance peak values (standard deviation) Table 4 shows the determination results in Example 2 and Comparative Example 2.

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Abstract

　光学部品の製造方法は、真空成膜室内で、プラスチック基材上に、二酸化ケイ素層と二酸化ジルコニウム層とが交互に複数積層された多層膜を形成する光学部品の製造方法であって、前記二酸化ジルコニウム層の成膜時において、前記真空成膜室内にガスを導入しない。

Description

光学部品の製造方法
　本発明は、光学部品の製造方法に関する。
　本願は、２０１１年１２月７日に出願された日本国特願２０１１－２６７８８３号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
　近年、眼鏡レンズでは、軽量で耐衝撃性に優れ、かつ染色しやすいとの利点からプラスチックレンズが多用されている。眼鏡レンズに使用されるプラスチックレンズには、表面反射を防止する目的で、その両面に反射防止膜が通常施されている。眼鏡レンズ用反射防止膜は、一般的に４００ｎｍ～７００ｎｍの可視領域全域にわたって、低い反射特性（広帯域低反射特性）を有することなどの光学性能に加え、眼鏡レンズという使用環境上特に耐擦傷性に関して高い性能が要求されている。
　さらに、均質な製品の安定生産の点から、各層の屈折率と膜厚を安定して制御することが重要である。
　眼鏡レンズ等の光学部品において、例えば特許文献１～３に開示されているようなプラスチックの基材と、その基材上に配置される反射防止膜とを備えた光学部品が知られている。反射防止膜として、高屈折率膜（二酸化ジルコニウム層（ＺｒＯ２層））と低屈折率膜（二酸化ケイ素層（ＳｉＯ２層））とが順次に交互に繰り返して成膜された多層膜が一般に用いられている。
　眼鏡レンズ等の光学部品の耐擦傷性を向上させる試みとして、基板上に多層の光学薄膜を成膜する方法や、各層の膜密度を上げる方法が用いられている。
特開平１１－３０７０３号公報 特開２００６－２５１７６０号公報 特開２００７－１２７６８１号公報
　しかし、反射防止膜の本来の目的である表面反射を防止するという点からはむやみに各層の膜厚を上げることはできない。また各層の膜密度を上げることにより物質の屈折率が変わり、光学的に反射防止効果が崩れてしまうという問題点がある。
　さらに、安定した屈折率を得るために、圧力制御を行いながらの成膜が行われている。圧力制御は真空雰囲気下に酸素等のガスを導入することにより圧力が徐々に低下することを防ぎ制御する方法が一般的である。しかし、このような圧力制御により、成膜雰囲気は高い圧力となるため、膜密度が下がることとなり結果的に耐擦傷性には劣る膜になるという問題点がある。
　また、このような弊害がなく屈折率等光学的性能や物理的性能を確保するために行われるイオンビームアシストによる成膜では、効果的なイオンビームアシストの条件の許容範囲がイオン源の仕様によっては狭く、膜密度が著しく高くなることによる耐クラック性能の低下が生じるなど、最適条件の設定が難しい場合がある。
　本発明に係る態様は、耐擦傷性に優れ、光学的にも優れた光学部品を製造できる製造方法を提供することを目的とする。
　本発明に係る一態様は、真空成膜室内で、プラスチック基材上に、二酸化ケイ素層と二酸化ジルコニウム層とが交互に複数積層された多層膜を形成する光学部品の製造方法であって、前記二酸化ジルコニウム層の成膜時において、前記真空成膜室内にガスを導入しない。
　本発明に係る態様の光学部品の製造方法によれば、耐擦傷性に優れ、光学的にも優れた光学部品を製造できる。
本発明に係る一実施形態に係る光学部品を示す模式図である。 光学式膜厚計による、成膜時の反射率変化の測定結果の一例である。
　以下、本発明を実施形態によって詳しく説明する。
　なお、この形態は、発明の趣旨をより良く理解させるために具体的に説明するものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。
　本発明に係る一実施形態の光学部品の製造方法について説明する。
　図１は、本実施形態により製造される光学部品１を模式的に示す側断面図であり、本実施形態において、光学部品１は眼鏡レンズ用の光学部品である。
　図１に示すように、本実施形態の光学部品１の製造方法は、プラスチック基材２に対して従来と同様の方法で機能性薄膜４（プライマー層５、ハードコート層６）を形成する工程と、プラスチック基材２を加熱する工程と、加熱によってプラスチック基材２を所定温度（例えば７０℃）に調整した後、このプラスチック基材２上に多層膜７を形成する工程を備える。なお、プラスチック基材２の加熱温度は、７０℃未満、又は７０℃以上でもよい。
　プラスチック基材２としては、例えば透明なプラスチックであるアクリル系樹脂、チオウレタン系樹脂、メタクリル系樹脂、アリル系樹脂、エピスルフィド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、エピスルフィド樹脂、ポリエ－テルサルホン樹脂ポリ４－メチルペンテン－１樹脂、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート樹脂（ＣＲ－３９）、ポリ塩化ビニル樹脂、ハロゲン含有共重合体、又はイオウ含有共重合体等を用いることができる。
　また、本実施形態では、プラスチック基材２の屈折率（ｎｄ）としては、例えば１．５０、１．６０、１．６７、及び１．７４のうちから選択されたものを用いることができる。なお、プラスチック基材２の屈折率を１．６以上にする場合、プラスチック基材２としては、アリルカーボネート系樹脂、アクリレート系樹脂、メタクリレート系樹脂、及びチオウレタン系樹脂等を使用することが好ましい。
　機能性薄膜４は、プラスチック基材２と多層膜７との間に配置されたもので、プラスチック基材２に接して配設されたプライマー層５と、このプライマー層５に接し、かつ多層膜７に接して配設されたハードコート層６とからなっている。
　プライマー層５は、プラスチック基材２とハードコート層６との密着性を良好にするためのもので、密着層として機能するようになっている。また、光学部品１に対する衝撃を吸収するためのものでもあり、衝撃吸収層としても機能するようになっている。
　このプライマー層５は、ポリウレタン系樹脂を主成分とするもので、本実施形態では、ポリウレタン系樹脂に例えば無機材料の微粒子を含有させたものである。なお、プライマー層５は、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、及び有機ケイ素系樹脂の少なくとも一種を含んでいてもよい。プライマー層５の厚みについては、０．５μｍ以上１．０μｍ以下程度とすることができる。あるいは、プライマー層５の厚みは、０．５μｍ未満又は１．０μｍ以上にできる。
　このようなプライマー層５は、プライマー層５の形成材料液にプラスチック基材２を浸漬し、その後引き上げて乾燥することにより、プラスチック基材２上に所定の厚さで形成することができる。プライマー層５の形成材料液としては、例えば水又はアルコール系の溶媒に、前記したプライマー層５となる樹脂と無機酸化物微粒子ゾルとを分散又は溶解し、混合した液を用いることができる。
　ハードコート層６は、プラスチック基材２を保護し、プラスチック基材２の損傷を抑制する機能を有するもので、耐擦傷性膜として機能するようになっている。
　ハードコート層６は、例えばオルガノシロキサン系ハードコート層からなっている。オルガノシロキサン系ハードコート層は、オルガノシロキサン系樹脂に無機酸化物の微粒子を分散させたものである。無機酸化物としては、例えばルチル型の酸化チタンや、ケイ素、錫、ジルコニウム、及びアンチモンの酸化物が好適に用いられる。また、ハードコート層６として、例えば特公平４－５５６１５号公報に開示されているような、コロイド状シリカ含有の有機ケイ素系樹脂であってもよい。ハードコート層６の厚みについては、２μｍ以上４μｍ以下程度とすることができる。あるいは、ハードコート層６の厚みは、２μｍ未満、又は４μｍ以上にできる。
　ハードコート層６は、ハードコート層６の形成材料液に、プライマー層５を形成したプラスチック基材２を浸漬し、その後引き上げて乾燥することにより、プラスチック基材２上のプライマー層５上に所定の厚さで形成することができる。ハードコート層６の形成材料液としては、例えば水又はアルコール系の溶媒に、前記したハードコート層６となる樹脂と無機酸化物微粒子ゾルとを分散又は溶解し、混合した液を用いることができる。
　これらプライマー層５及びハードコート層６を含む機能性薄膜４については、その屈折率と、プラスチック基材２の屈折率とがほぼ同じであれば、機能性薄膜４とプラスチック基材２との界面での反射で生じる干渉縞の発生及び透過率の低下を抑制することができる。したがって、プラスチック基材２の屈折率に応じて、機能性薄膜４の屈折率を調整するのが望ましい。機能性薄膜４（プライマー層５、ハードコート層６）の屈折率の調整については、機能性薄膜４の主成分となる樹脂の種類（物性）を選択すること、あるいは、その主成分となる樹脂に添加する微粒子の種類（物性）を選択すること等によって行うことができる。
　なお、本実施形態においては、機能性薄膜４がプライマー層５及びハードコート層６を含んで形成されているが、例えばプライマー層５とハードコート層６とのうち、いずれか一方、あるいは両方が省略されていてもよい。
〈反射防止膜の形成〉
　プライマーコート層、ハードコート層を形成したプラスチックレンズ基材を、蒸着装置の真空成膜室内に入れ、電子ビーム加熱法にて蒸着原料となる二酸化ケイ素と二酸化ジルコニウムとを交互に蒸着させ、二酸化ケイ素層と二酸化ジルコニウム層とが交互に複数積層された多層膜７を形成した。
　この多層膜７は、入射した光の反射を防止する反射防止膜としての機能を有するものである。
　多層膜７は、本実施形態では、前記プラスチック基材２側に設けられた二酸化ケイ素よりなる第１層９と、該第１層９上に設けられた二酸化ジルコニウムよりなる第２層１０と、該第２層１０上に設けられた二酸化ケイ素よりなる第３層１１と、該第３層１１上に設けられた二酸化ジルコニウムよりなる第４層１２と、該第４層１２上に設けられた二酸化ケイ素よりなる第５層１３と、からなる。
　第１層９は、ハードコート層６に接して設けられたもので、屈折率が１．４７の二酸化ケイ素からなっている。
　第２層１０は、第１層９に接して設けられたもので、屈折率が２．００の二酸化ジルコニウムからなっている。
　第３層１１は、第２層１０に接して設けられたもので、第１層９と同様に二酸化ケイ素からなっている。
　第４層１２は、第３層１１に接して設けられたもので、第２層１０と同様に二酸化ジルコニウムからなっている。
　第５層１３は、第４層１２に接して設けられたもので、第１層９、第３層１１と同様に二酸化ケイ素からなっている。
　また、多層膜７については、第１層９、第２層１０、第３層１１、第４層１２、第５層１３の５層構造で形成することなく、４層以下、あるいは６層以上で構成することもできる。
　多層膜７を構成する最外層の二酸化ケイ素層（第５層１３）と、その内側の二酸化ジルコニウム層（第４層１２）との間に、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）からなる誘電体膜を配設してもよい。
　誘電体膜は、例えば、インジウム、スズ、亜鉛、及びチタンからなる群から選ばれる少なくとも一種の酸化物からなる層である。尚、誘電体膜の厚さは、例えば、約２２、２０、１８、１６、１４、１２、又は１０ｎｍ以下にできる。あるいは、誘電体膜の厚さは、２２ｎｍ以上にできる。
　本発明に係る光学部品の製造方法では、真空蒸着法により二酸化ジルコニウム層を成膜する工程において、真空成膜室内へのガスの導入は行わない。なお、ガスの導入は行わないとは、圧力制御を実施しないような範囲であれば、わずかな量のガスを導入する場合も含まれることを意味する。二酸化ジルコニウム層を形成する際の真空成膜室内の圧力は、１．０×１０－３Ｐａ以上１．０×１０－２Ｐａ以下であることが好ましく、２．０×１０－３Ｐａ～８．０×１０－３Ｐａであることがより好ましく、３．０×１０－３Ｐａ～６．０×１０－３Ｐａであることが特に好ましい。一例において、二酸化ジルコニウム層を形成する際の真空成膜室内の圧力は、約２．０×１０－３Ｐａ、３．０×１０－３Ｐａ、４．０×１０－３Ｐａ、５．０×１０－３Ｐａ、６．０×１０－３Ｐａ、７．０×１０－３Ｐａ、８．０×１０－３Ｐａ、９．０×１０－３Ｐａ、又は１．０×１０－２Ｐａにできる。
〈成膜レート〉
　本発明に係る成膜レートの設定について説明する。本発明に係る成膜レートとは、成膜時の成膜速度（ｎｍ／ｓ）である。二酸化ジルコニウム層を形成する工程において、該二酸化ジルコニウム層の成膜開始時の成膜レートよりも、その後の該二酸化ジルコニウム層の成膜レートを速くする。
　すなわち、第２層１０の成膜時において、真空成膜室内にガスを導入せず、かつ、第２層１０の成膜開始時の成膜レートよりも、その後の第２層１０の成膜レートの方を早く設定して成膜する。また、第４層１２の成膜時において、真空成膜室内にガスを導入せず、かつ、第４層１２の成膜開始時の成膜レートよりも、その後の第４層１２の成膜レートの方を早く設定して成膜する。
　成膜開始時の成膜レートとは、成膜プロセスの開始直後から、所定膜厚に達するまでの成膜速度をいう。
　その後の二酸化ジルコニウム層の成膜レートとは、成膜プロセスの開始直後から、所定膜厚に達した後の二酸化ジルコニウム層の成膜速度をいう。
　一例において、前記所定膜厚は、仮に２０ｎｍである。このとき、二酸化ジルコニウム層の成膜を開始し、二酸化ジルコニウム層の膜厚が２０ｎｍに達した後、２１ｎｍ以上の二酸化ジルコニウム膜を成膜する際の成膜レートを、膜厚が２０ｎｍまでの成膜レートよりも速くする。より好ましくは、０ｎｍ～２０ｎｍまでの成膜レートよりも、２１ｎｍ～４０ｎｍまでの成膜レートの方を速く、かつ２１ｎｍ～４０ｎｍまでの成膜レートよりも４１ｎｍ以上の成膜レートの方を速くする。更に好ましくは、０ｎｍ～２０ｎｍまでの成膜レートよりも、２１ｎｍ～４０ｎｍまでの成膜レートの方を速く、２１ｎｍ～４０ｎｍまでの成膜レートよりも４１ｎｍ以上の成膜レートの方を速く、かつ４１ｎｍ～６０ｎｍまでの成膜レートよりも６１ｎｍ以上の成膜レートの方を速くする。
　前記成膜レートを速くする割合として、成膜レートの増加率が０％を超えて１０％以下であることが好ましい。成膜レートの増加率の上限を１０％とした理由は、成膜レートの増加率が１０％を超えると、試料かすの飛散が生じ、外観欠陥となる等の問題が発生するおそれがあるからである。二酸化ジルコニウム層の成膜開始から、膜厚が２０ｎｍになるまでの成膜レートに対する、その後の該二酸化ジルコニウム層の成膜レートの増加率が０％を超えて１０％以下であることがより好ましい。
　例えば、二酸化ジルコニウム層の成膜開始時の、０ｎｍ～２０ｎｍまでの成膜レートよりも、２１ｎｍ～４０ｎｍまでの成膜レートの方を、増加率で、０％を超えて１０％以下速く、かつ２１ｎｍ～４０ｎｍまでの成膜レートよりも４１ｎｍ以上の成膜レートの方を、増加率で、０％を超えて１０％以下速くする。また、二酸化ジルコニウム層の成膜開始時の、０ｎｍ～２０ｎｍまでの成膜レートよりも、２１ｎｍ～４０ｎｍまでの成膜レートの方を、増加率で、０％を超えて１０％以下速く、２１ｎｍ～４０ｎｍまでの成膜レートよりも４１ｎｍ以上の成膜レートの方を、増加率で、０％を超えて１０％以下速く、かつ４１ｎｍ～６０ｎｍまでの成膜レートよりも６１ｎｍ以上の成膜レートの方を、増加率で、０％を超えて１０％以下速くする。
　０ｎｍ～２０ｎｍまでの成膜レートに対する、２１ｎｍ～４０ｎｍまでの成膜レートの増加率は、０％を超えて１０％以下であることが好ましく、１．０％～８．０％であることがさらに好ましく、３．０％～７．０％であることが特に好ましい。
　０ｎｍ～２０ｎｍまでの成膜レートに対する、４１ｎｍ以上の成膜レートの増加率は、０％を超えて１０％以下であることが好ましく、３．０％～９．０％であることがさらに好ましく、５．０％～８．０％であることが特に好ましい。
　２１ｎｍ～４０ｎｍまでの成膜レートに対する、４１ｎｍ以上の成膜レートの増加率は、０％を超えて１０％以下であることが好ましく、１．０％～７．０％であることがさらに好ましく、２．０％～５．０％であることが特に好ましい。
　前記成膜開始時の成膜レートは特に限定されない。一例において、０．３２～０．４８ｎｍ／ｓが好ましく、０．３４～０．４６ｎｍ／ｓがより好ましく、０．３６～０．４４ｎｍ／ｓがさらに好ましく、０．３８～０．４２ｎｍ／ｓが特に好ましい。
　このようにして多層膜７を成膜した後、多層膜７の上、すなわち前記プラスチック基材２から最も遠い多層膜７の最外層（ここでは二酸化ケイ素からなる第５層１３）の上に、撥水撥油膜１４を設けてもよい。
　この撥水撥油膜１４は、フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物を主成分とするもので、撥液性（撥水性、撥油性）を有するものである。すなわち、この撥水撥油膜１４は、光学部品の表面エネルギーを低下させ、水やけ防止、汚れ防止の機能を発揮するとともに、光学部品表面のすべり性能を向上させ、その結果として、耐擦傷性を向上させることができる。
　撥水撥油膜１４の形成方法としては、ディッピング法、スピンコート法、スプレー法などの湿式法、あるいは真空蒸着法などの乾式法がある。
　湿式法の中では、ディッピング法が一般的であり、よく用いられる。この方法は、フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物を有機溶剤に溶解した液中に、多層膜７まで形成し光学部品を浸漬し、一定条件で引き上げ、乾燥させて成膜する方法である。有機溶剤としては、パーフルオロヘキサン、パーフルオロ－４－メトキシブタン、パーフルオロ－４－エトキシブタン、メタキシレンヘキサフルオライドなどが使用される。
　有機溶剤による希釈濃度は、０．０１～０．５質量％が好ましく、０．０３～０．１質量％がより好ましい。一例において、有機溶剤による希釈濃度は、０．０１、０．０２、０．０３、０．０４、０．０５、０．０６、０．０７、０．０８、０．０９、０．１、０．２、０．３、０．４、又は０．５質量％にできる。濃度が低すぎると十分な膜厚の撥水撥油膜１４が得られず、また、濃度が高すぎると塗布むらが発生しやすく、材料コストも高くなる。
　乾式法の中では、真空蒸着法がよく用いられる。この方法は、フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物を真空槽内で加熱して蒸発させ、撥水撥油膜１４を形成する方法である。
　本実施形態において、真空蒸着法により多層膜７を形成する際、積層時に真空成膜室内へのガスの導入を行わなかった。真空雰囲気下に酸素ガス等を導入しないことにより、成膜雰囲気が高圧力となることを防ぎ、その結果、膜密度が高く耐擦傷性に優れた多層膜を形成することができたと推察される。
　また、前記のように真空雰囲気下に酸素ガス等を導入しないと、屈折率が変化するおそれがある。しかし、二酸化ジルコニウム層の成膜開始時の成膜レートよりも、その後の該二酸化ジルコニウム層の成膜レートの方を速く設定して二酸化ジルコニウム層を形成することにより、安定した屈折率を再現性よく得ることができると推察される。
　以下、実施例により本発明に係る実施形態をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
（実施例１）
　ウレタン系合成樹脂基材上に、屈折率１．６７のプライマーコート、及び屈折率１．６７のシリコン系ハードコートを加熱硬化にて施してレンズ基材とし、更に、以下に示すように真空蒸着法により二酸化ケイ素層と二酸化ジルコニウム層とが交互に複数積層された多層膜を成膜した。
　レンズ基材を真空成膜室内に設けられた回転するドームにセットし、真空成膜室内の温度を７０℃に加熱し、圧力が１．０×１０－３Ｐａになるまで排気し、加速電圧５００Ｖ、加速電流１００ｍＡの条件でアルゴンイオンビームクリーニングを６０秒間施した後、レンズ基材側から順次、第１層二酸化ケイ素（屈折率１．４７）を光学的膜厚０．１０λ、第２層二酸化ジルコニウム（屈折率２．００）を光学的膜厚０．１６λ、第３層二酸化ケイ素（屈折率１．４７）を光学的膜厚０．０６λ、第４層二酸化ジルコニウム（屈折率２．００）を光学的膜厚０．２５λ、第５層二酸化ケイ素（屈折率１．４７）を光学的膜厚０．２８λで積層した。なおλは、設計の中心波長で５００ｎｍとした。第２層及び第４層の成膜時に酸素ガスを導入せず（圧力制御を実施せず）、成膜時の成膜速度（成膜レート：ｎｍ／ｓ）を表１のように設定した。
（比較例１）
　ウレタン系合成樹脂基板上に、屈折率１．６７のシリコン系ハードコート、及び屈折率１．６７のプライマーコートを加熱硬化にて施し、以下に示すように真空蒸着法により成膜した。
　レンズ基材を真空成膜室内に設けられた回転するドームにセットし、真空成膜室内の温度を７０℃に加熱し、圧力が１．０×１０－３Ｐａになるまで排気し、加速電圧５００Ｖ、加速電流１００ｍＡの条件でアルゴンイオンビームクリーニングを６０秒間施した後、レンズ基材側から順次、第１層二酸化ケイ素（屈折率１．４７）を光学的膜厚０．１０λ、第２層二酸化ジルコニウム（屈折率２．００）を光学的膜厚０．１６λ、第３層二酸化ケイ素（屈折率１．４７）を光学的膜厚０．０６λ、第４層二酸化ジルコニウム（屈折率２．００）を光学的膜厚０．２５λ、第５層二酸化ケイ素（屈折率１．４７）を光学的膜厚０．２８λで積層した。なおλは、設計の中心波長で５００ｎｍとした。なお、第２層及び第４層の成膜時の圧力を、酸素ガスを導入することにより８．０×１０－３Ｐａに制御した。成膜時の成膜速度（成膜レートｎｍ／ｓ）を以下の表１のように設定した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　上記のようにして得られた実施例１及び比較例１の光学物品の性能評価を下記のとおり行った。
〈耐擦傷性評価１：スチールウール試験〉
　スチールウールを用い、光学部品の表面を５００ｇの荷重で、５０回摩擦し、傷のつきにくさを調べ、比較した。判定は次のように行った。
　　◎印：全く傷がつかない。　
　　○印：ほとんど傷がつかない。　
　　×印：傷がつく。
〈耐擦傷性評価２：装用試験〉
　実施例１及び比較例１に沿って作製した光学部品を下記の通り装備した眼鏡を、日常的に装用し評価を行った。評価時の条件及び、判定項目は以下の通りである。
　　装用評価用眼鏡：右玉仕様／実施例１
　　　　　　　　　　左玉仕様／比較例１
　　モニタ人数　　：２０名
　　装用期間　　　：９週間
　　判定項目　　　：眼鏡レンズ表面のキズ比較
　　評価時期　　　：１、装用開始初期
　　　　　　　　　　２、装用３週間後
　　　　　　　　　　３、装用９週間後
　キズの判定方法：キズの確認は、蛍光灯下による目視。左右どちらの方にキズが多く付いているかを判定。
　耐擦傷性評価１の判定結果を表２、耐擦傷性評価２の判定結果を表３に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
　耐擦傷性評価１及び２の結果から、本発明に係る光学物品の製造方法により、耐擦傷性に優れた眼鏡レンズが得られることが確認できた。
（実施例２）
　成膜の再現性を確認するために、ウレタン系合成樹脂基板上に、屈折率１．６７のハードコートを加熱硬化にて施してレンズ基材とし、更に、実施例１と同様に、第２層及び第４層の成膜時に酸素ガスを導入せず（圧力制御を実施せず）、成膜時の成膜速度（成膜レート：ｎｍ／ｓ）を表１のように設定して、多層膜の各膜厚を制御する光学式膜厚計を有する真空蒸着装置を用いて、二酸化ケイ素層と二酸化ジルコニウム層とが交互に複数積層された多層膜を成膜した（レンズ基材側から順次、第１層二酸化ケイ素（屈折率１．４７）を光学的膜厚０．１０λ、第２層二酸化ジルコニウム（屈折率２．００）を光学的膜厚０．１６λ、第３層二酸化ケイ素（屈折率１．４７）を光学的膜厚０．０６λ、第４層二酸化ジルコニウム（屈折率２．００）を光学的膜厚０．２５λ、第５層二酸化ケイ素（屈折率１．４７）を光学的膜厚０．２８λ）。この成膜試験を１０回繰り返し、再現性を評価した。
（比較例２）
　成膜の再現性を確認するために、ウレタン系合成樹脂基板上に、屈折率１．６７のハードコートを加熱硬化にて施してレンズ基材とし、更に、比較例１と同様に、第２層及び第４層の成膜時の圧力を、酸素ガスを導入することにより８．０×１０－３Ｐａに制御し、成膜時の成膜速度（成膜レート：ｎｍ／ｓ）を表１のように設定して、多層膜の各膜厚を制御する光学式膜厚計を有する真空蒸着装置を用いて、二酸化ケイ素層と二酸化ジルコニウム層とが交互に複数積層された多層膜を成膜した（レンズ基材側から順次、第１層二酸化ケイ素（屈折率１．４７）を光学的膜厚０．１０λ、第２層二酸化ジルコニウム（屈折率２．００）を光学的膜厚０．１６λ、第３層二酸化ケイ素（屈折率１．４７）を光学的膜厚０．０６λ、第４層二酸化ジルコニウム（屈折率２．００）を光学的膜厚０．２５λ、第５層二酸化ケイ素（屈折率１．４７）を光学的膜厚０．２８λ）。この成膜試験を１０回繰り返し、再現性を評価した。
〈成膜再現性比較〉
　光学式膜厚計（シンクロン社製、ＯＰＭ－８）は、積層する膜の反射を測定することにより光学膜厚を計算し制御を行っている。光学式膜厚計において、光学膜厚がλ／４の越える際に反射率は最も高い値（ピーク）に到達する。この反射率は成膜され膜が形成された物質の屈折率にて増減する。それゆえ本ピーク反射率のばらつきが少なく安定しているということは、成膜された物質が安定しているという一つの判断材料となる。下記試作にて反射率のピークを求め、実施例２と比較例２に沿って作製した光学部品の比較評価をおこなった。
　図２に光学式膜厚計の成膜時の反射率変化の一例を示す。
　モニタガラス　　　　　　　：青板（屈折率１．５１）
　測定波長　　　　　　　　　：５００ｎｍ
　光学式膜厚計初期光量設定値：２５．００％
　試作回数　　　　　　　　　：１０回
　実施期間　　　　　　　　　：同一日
　判定項目　　　　　　　　　：１０回の反射率ピーク値のばらつき比較（標準偏差）
　実施例２、比較例２における判定結果を表４に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
　本結果から、二酸化ジルコニウム層を成膜する際に、真空成膜室内にガスの導入を行わなくても、最適化された成膜レートにて成膜することにより、従前のように真空成膜室内に酸素ガスを導入した場合と同等の成膜再現性が得られることが確認された。
　以上の結果から、本発明に係る実施形態によれば、耐擦傷性に優れ、かつ、光学的、物理的特性に優れた光学部品を安定して再現性よく提供できる。
１　光学部品
２　プラスチック基材
４　機能性薄膜
５　プライマー層
６　ハードコート層
７　多層膜
９　第１層
１０　第２層
１１　第３層
１２　第４層
１３　第５層
１４　撥水撥油膜

Claims (8)

  1. 　真空成膜室内で、プラスチック基材上に、二酸化ケイ素層と二酸化ジルコニウム層とが交互に複数積層された多層膜を形成する光学部品の製造方法であって、
    　前記二酸化ジルコニウム層の成膜時において、前記真空成膜室内にガスを導入しない光学部品の製造方法。
  2. 　前記二酸化ジルコニウム層の成膜開始から膜厚が所定厚さになるまでの成膜レートよりも、その後の該二酸化ジルコニウム層の成膜レートの方が速い請求項１に記載の光学部品の製造方法。
  3. 　前記二酸化ジルコニウム層の成膜開始から、膜厚が２０ｎｍになるまでの成膜レートに対する、その後の該二酸化ジルコニウム層の膜厚がさらに２０ｎｍ増加するまでの成膜レートの増加率が０％を超えて１０％以下である請求項２に記載の光学部品の製造方法。
  4. 　前記二酸化ジルコニウム層の成膜時において、前記真空成膜室内の圧力が１．０×１０－２Ｐａ以下である請求項１～３のいずれか一項に記載の光学部品の製造方法。
  5. 　インジウム、スズ、亜鉛、及びチタンからなる群から選ばれる少なくとも一種の酸化物からなる層を含む請求項１～４のいずれか一項に記載の光学部品の製造方法。
  6. 　前記多層膜は、４層以上の多層膜である請求項１～５のいずれか一項に記載の光学部品の製造方法。
  7. 　前記光学部品は眼鏡レンズである請求項１～６のいずれか一項に記載の光学部品の製造方法。
  8. 　真空成膜室内で、プラスチック基材上に、二酸化ケイ素層と二酸化ジルコニウム層とが交互に複数積層された多層膜を形成する光学部品の製造方法であって、
    　前記二酸化ジルコニウム層の成膜時において、真空成膜室内の圧力が１．０×１０－２Ｐａ以下であり、
    　前記二酸化ジルコニウム層の成膜開始から膜厚が所定厚さになるまでの成膜レートよりも、その後の該二酸化ジルコニウム層の成膜レートの方が速い光学部品の製造方法。
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