WO2013057785A1 - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置 Download PDFInfo
- Publication number
- WO2013057785A1 WO2013057785A1 PCT/JP2011/073885 JP2011073885W WO2013057785A1 WO 2013057785 A1 WO2013057785 A1 WO 2013057785A1 JP 2011073885 W JP2011073885 W JP 2011073885W WO 2013057785 A1 WO2013057785 A1 WO 2013057785A1
- Authority
- WO
- WIPO (PCT)
- Prior art keywords
- semiconductor layer
- island
- conductivity type
- type high
- silicon layer
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10B—ELECTRONIC MEMORY DEVICES
- H10B10/00—Static random access memory [SRAM] devices
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/21—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
- G11C11/34—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
- G11C11/40—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
- G11C11/41—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming static cells with positive feedback, i.e. cells not needing refreshing or charge regeneration, e.g. bistable multivibrator or Schmitt trigger
- G11C11/412—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming static cells with positive feedback, i.e. cells not needing refreshing or charge regeneration, e.g. bistable multivibrator or Schmitt trigger using field-effect transistors only
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/21—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
- G11C11/34—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
- G11C11/40—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
- G11C11/41—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming static cells with positive feedback, i.e. cells not needing refreshing or charge regeneration, e.g. bistable multivibrator or Schmitt trigger
- G11C11/413—Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing, timing or power reduction
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10B—ELECTRONIC MEMORY DEVICES
- H10B10/00—Static random access memory [SRAM] devices
- H10B10/12—Static random access memory [SRAM] devices comprising a MOSFET load element
- H10B10/125—Static random access memory [SRAM] devices comprising a MOSFET load element the MOSFET being a thin film transistor [TFT]
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10B—ELECTRONIC MEMORY DEVICES
- H10B99/00—Subject matter not provided for in other groups of this subclass
Definitions
- the present invention relates to a semiconductor device.
- MOS transistors Semiconductor integrated circuits, in particular, integrated circuits using MOS transistors, are becoming increasingly highly integrated. Along with this high integration, the MOS transistors used therein have been miniaturized to the nano-range.
- the basic circuit of a digital circuit is an inverter circuit.
- MOS transistors that make up this inverter circuit are miniaturized, it is difficult to suppress leakage current, resulting in reduced reliability due to the hot carrier effect. There is a problem that the occupied area of the circuit cannot be made small because of a demand for securing a sufficient amount of current.
- Non-patent Document 1 In a static memory cell, it is known to ensure operational stability by setting the current driving capability of a driver transistor to be twice that of an access transistor (Non-patent Document 1).
- the gate width should be reduced if the current driving capability of the driver transistor is to be twice that of the access transistor in order to ensure operational stability. Since it must be doubled, two driver transistors are used. That is, the memory cell area increases. Alternatively, in order to double the gate width, the silicon pillar diameter must be doubled or quadrilateral and the long side doubled, which increases the area occupied by the driver transistor, which also increases the memory cell area. Increase.
- the static memory cell of the present invention includes: A first island-like semiconductor layer; A first first-conductivity-type high-concentration semiconductor layer formed on the first island-shaped semiconductor layer; A second first-conductivity-type high-concentration semiconductor layer formed under the first island-shaped semiconductor layer; A first second conductivity type semiconductor layer formed between the first first conductivity type high concentration semiconductor layer and the second first conductivity type high concentration semiconductor layer; A first gate insulating film formed around the first second conductivity type semiconductor layer; A first gate electrode made of at least metal and formed around the first gate insulating film; A first driver transistor comprising: A second island-like semiconductor layer; A third first-conductivity-type high-concentration semiconductor layer formed on the second island-shaped semiconductor layer; A fourth first-conductivity-type high-concentration semiconductor layer formed under the second island-shaped semiconductor layer; A second second conductive semiconductor layer formed between the third first conductive high concentration semiconductor layer and the fourth first conductive high concentration semiconductor layer; A second gate insulating film formed around the second second conductivity type
- the semiconductor memory device is A fourth island-shaped semiconductor layer; A sixth first-conductivity type high-concentration semiconductor layer formed on the fourth island-shaped semiconductor layer; A seventh first conductivity type high-concentration semiconductor layer formed under the fourth island-shaped semiconductor layer; A fifth second conductivity type semiconductor layer formed between the sixth first conductivity type high concentration semiconductor layer and the seventh first conductivity type high concentration semiconductor layer; A fourth gate insulating film formed around the fifth second conductivity type semiconductor layer; A fourth gate electrode made of at least metal and formed around the fourth gate insulating film; A first pass transistor configured with: The seventh first conductivity type high-concentration semiconductor layer and the first gate wiring are connected by wiring; A power supply voltage is applied to the sixth first conductivity type high concentration semiconductor layer.
- the semiconductor memory device is A fourth island-shaped semiconductor layer; A sixth first-conductivity type high-concentration semiconductor layer formed on the fourth island-shaped semiconductor layer; A seventh first conductivity type high-concentration semiconductor layer formed under the fourth island-shaped semiconductor layer; A fifth second conductivity type semiconductor layer formed between the sixth first conductivity type high concentration semiconductor layer and the seventh first conductivity type high concentration semiconductor layer; A fourth gate insulating film formed around the fifth second conductivity type semiconductor layer; A fourth gate electrode made of at least metal and formed around the fourth gate insulating film; A first pass transistor configured with: The sixth first-conductivity type high-concentration semiconductor layer and the first gate wiring are connected by wiring; A power supply voltage is applied to the seventh first conductivity type high concentration semiconductor layer.
- the voltage applied to the fourth gate electrode is the power supply voltage.
- the gate width of the driver transistor is less than twice the gate width of the selection transistor
- the voltage applied to the gate of the selection transistor is reduced and high integration is achieved. It is possible to provide a static memory cell that ensures operational stability.
- the voltage applied to the first gate line can be lowered by the threshold voltage of SGT. Therefore, the area for the step-down circuit can be reduced, and can be realized only by the area occupied by the SGT. That is, it is possible to provide a static memory cell that is highly integrated and ensures operational stability.
- the threshold voltage does not increase due to the back bias effect in principle.
- a constant threshold voltage can always be set, and when SGT is used as a pass transistor, a static memory cell that ensures operational stability can be provided.
- bulk MOSFETs, SOI MOSFETs, double gate MOSFETs, and trigate MOSFETs have a body that is not completely surrounded by a gate, so that in principle the threshold voltage increases due to the back bias effect. That is, when a bulk MOSFET, SOI MOSFET, double gate MOSFET, or trigate MOSFET is used for the pass transistor of the present invention, the threshold voltage changes depending on the source voltage, so that the operation stability is impaired.
- FIG. 1 is a bird's eye view of a static memory cell according to the present invention.
- FIG. 2 is a cross-sectional view of the static memory cell according to the present invention taken along the line X1-X1 'in FIG.
- FIG. 3 is a cross-sectional view of the static memory cell according to the present invention taken along the line X2-X2 'in FIG.
- FIG. 4 is a circuit diagram of a static memory cell according to the present invention.
- FIG. 5 is a circuit diagram of a static memory cell according to the present invention.
- FIG. 6 is a circuit diagram of a pass transistor according to the present invention.
- FIG. 7 is a circuit diagram of a static memory cell and a pass transistor according to the present invention.
- FIG. 1 is a bird's eye view of a static memory cell according to the present invention.
- FIG. 2 is a cross-sectional view of the static memory cell according to the present invention taken along the line X1-X1 'in
- FIG. 8 is a circuit diagram of a pass transistor according to the present invention.
- FIG. 9 is a bird's-eye view of the selection transistor and the pass transistor according to the present invention.
- 10 is a z cross-sectional view of the pass transistor according to the present invention in FIG.
- FIG. 1 shows a bird's-eye view of a static memory cell according to the present invention
- FIG. 2 is a cross-sectional view of the static memory cell according to the present invention taken along the line X1-X1 ′ in FIG.
- FIG. 3 is a cross-sectional view of the static memory cell according to the present invention taken along the line X2-X2 ′ in FIG.
- a gate wiring 131 connected to the first gate electrode 125 and the third gate electrode 126;
- a wiring 141 for connecting the second n + silicon layer 135, the fourth n + silicon layer 137, and the fourth p + silicon layer 136 is provided.
- the wiring 141 is preferably made of silicon or a compound of metal and silicon.
- a gate wiring 134 connected to the gate electrode 129 and the gate electrode 130, A wiring 142 for connecting the n + silicon layer 140, the n + silicon layer 138, and the p + silicon layer 139 is provided.
- the wiring 142 is preferably silicon or a compound of metal and silicon.
- the peripheral length W1 of the first island-shaped silicon layer 107 is less than twice the peripheral length W2 of the second island-shaped silicon layer 109, so that an increase in the area occupied by the driver transistor is suppressed and the memory cell The increase in area is suppressed.
- W1 W2 is particularly desirable. This is because the area occupied by the driver transistor is the same as the area occupied by the selection transistor, and high integration can be achieved.
- the current driving capability of the selection transistor is reduced, and the operation is highly integrated. It is possible to provide a static memory cell that ensures stability.
- FIG. 4 shows a circuit diagram of a static memory cell according to the present invention.
- the gate wiring 131 and the wiring 142 are connected by a wiring or a contact 143
- the gate wiring 134 and the wiring 141 are connected by a wiring or a contact 144
- a GND line 145 is connected to the n + silicon layer 119
- a power line 146 is connected to the p + silicon layer 120
- a bit line 147 is connected to the n + silicon layer 121
- a GND line 149 is connected to the n + silicon layer 124
- a power line 146 is connected to the p + silicon layer 123
- Bit line 148 is connected to n + silicon layer 122.
- FIG. 5 shows a circuit diagram of a static memory cell according to the present invention.
- FIG. 4 shows applied voltages at the time of data reading according to the present invention.
- a VDD-B voltage is applied to the gate wiring 132 and the gate electrode 127.
- VDD is a power supply voltage.
- B is a positive number.
- a power supply voltage VDD is applied to the bit line. Therefore, by applying a voltage lower than the voltage applied to the third n + silicon layer 121 of the selection transistor to the second gate electrode 127 of the selection transistor, the current driving capability of the selection transistor is reduced, and the operation is highly integrated. It is possible to provide a static memory cell that ensures stability.
- FIG. 6 is a circuit diagram of a pass transistor according to the present invention.
- the pass transistor When the power supply voltage VDD is input to the drain and the power supply voltage VDD is input to the gate, the pass transistor outputs a value obtained by subtracting the threshold voltage (Vth0 + A) from the power supply voltage VDD to the source.
- Vth0 is a threshold voltage when the source is 0V
- A is an increase of the threshold voltage increased by the back bias effect.
- FIG. 7 is a circuit diagram of a static memory cell and a pass transistor according to the present invention.
- This pass transistor is not required for each static memory cell, but may be provided at the end of the word line, and may be provided at the end of the static memory cell array. That is, since at least one word line is required, the area for the step-down circuit can be reduced.
- the pass transistor When the power supply voltage VDD is input to the drain and the power supply voltage VDD is input to the gate, the pass transistor outputs a value obtained by subtracting the threshold voltage (Vth0 + A) from the power supply voltage VDD to the source.
- Vth0 is a threshold voltage when the source is 0V
- A is an increase of the threshold voltage increased by the back bias effect. Therefore, the increase A of the threshold voltage increased by the back bias effect changes due to the back bias.
- FIG. 8 is a circuit diagram of a pass transistor according to the present invention.
- the increment A of the threshold voltage increased by the back bias effect is a positive number. That is, when a bulk MOSFET, SOI MOSFET, double gate MOSFET, or trigate MOSFET is used for the pass transistor of the present invention, the threshold voltage changes depending on the source voltage, so that the operation stability is impaired.
- the threshold voltage since the body of the SGT is completely surrounded by the gate, the threshold voltage does not increase due to the back bias effect in principle.
- the increment A of the threshold voltage increased by the back bias effect is zero. In other words, a constant threshold voltage can always be set, and when SGT is used as a pass transistor, a static memory cell that ensures operational stability can be provided.
- FIG. 9 is a bird's-eye view of the selection transistor and the pass transistor according to the present invention.
- 10 is a z cross-sectional view of the pass transistor according to the present invention in FIG.
- the SGT pass transistor is not required for each static memory cell, but may be provided at the end of the word line and may be provided at the end of the static memory cell array. That is, since at least one word line is required, the area for the step-down circuit can be reduced. Further, since the body of the SGT is completely surrounded by the gate, the threshold voltage does not increase due to the back bias effect in principle. The increment A of the threshold voltage increased by the back bias effect is zero. In other words, a constant threshold voltage can always be set, and when SGT is used as a pass transistor, a static memory cell that ensures operational stability can be provided.
- n + silicon layer 153 and the first gate wiring 132 are connected by wiring, A power supply voltage may be applied to the seventh n + silicon layer 152. Since the electrode used as the gate electrode of the SGT pass transistor determines the threshold voltage of the transistor by the work function, at least a metal or a metal compound is preferable. Further, when the current driving capability of the SGT pass transistor is insufficient, there may be a plurality of SGT pass transistors.
Abstract
Description
第1の島状半導体層と、
前記第1の島状半導体層の上部に形成された第1の第1導電型高濃度半導体層と、
前記第1の島状半導体層の下部に形成された第2の第1導電型高濃度半導体層と、
前記第1の第1導電型高濃度半導体層と前記第2の第1導電型高濃度半導体層との間に形成された第1の第2導電型半導体層と、
前記第1の第2導電型半導体層の周囲に形成された第1のゲート絶縁膜と、
前記第1のゲート絶縁膜の周囲に形成された少なくとも金属からなる第1のゲート電極と、
で構成された第1のドライバトランジスタと、
第2の島状半導体層と、
前記第2の島状半導体層の上部に形成された第3の第1導電型高濃度半導体層と、
前記第2の島状半導体層の下部に形成された第4の第1導電型高濃度半導体層と、
前記第3の第1導電型高濃度半導体層と前記第4の第1導電型高濃度半導体層との間に形成された第2の第2導電型半導体層と、
前記第2の第2導電型半導体層の周囲に形成された第2のゲート絶縁膜と、
前記第2のゲート絶縁膜の周囲に形成された少なくとも金属からなる第2のゲート電極と、
で構成された第1の選択トランジスタと、
第3の島状半導体層と、
前記第3の島状半導体層の上部に形成された第3の第2導電型高濃度半導体層と、
前記第3の島状半導体層の下部に形成された第4の第2導電型高濃度半導体層と、
前記第3の第2導電型高濃度半導体層と前記第4の第2導電型高濃度半導体層との間に形成された第5の第1導電型半導体層と、
前記第5の第1導電型半導体層の周囲に形成された第3のゲート絶縁膜と、
前記第3のゲート絶縁膜の周囲に形成された少なくとも金属からなる第3のゲート電極と、
で構成された第1のロードトランジスタと、
前記第2のゲート電極に接続される第1のゲート配線と、
を含む6トランジスタSRAMセルであって、
前記第1の島状半導体層の周囲長は、前記第2の島状半導体層の周囲長の二倍未満であることを特徴とし、
前記第2のゲート電極に印加される電圧は、
前記第3の第1導電型高濃度半導体層に印加される電圧より低いことを特徴とする。
第4の島状半導体層と、
前記第4の島状半導体層の上部に形成された第6の第1導電型高濃度半導体層と、
前記第4の島状半導体層の下部に形成された第7の第1導電型高濃度半導体層と、
前記第6の第1導電型高濃度半導体層と前記第7の第1導電型高濃度半導体層との間に形成された第5の第2導電型半導体層と、
前記第5の第2導電型半導体層の周囲に形成された第4のゲート絶縁膜と、
前記第4のゲート絶縁膜の周囲に形成された少なくとも金属からなる第4のゲート電極と、
で構成された第1のパストランジスタと、をさらに有し、
前記第7の第1導電型高濃度半導体層と前記第1のゲート配線とが配線により接続され、
第6の第1導電型高濃度半導体層に電源電圧が印加されることを特徴とする。
第4の島状半導体層と、
前記第4の島状半導体層の上部に形成された第6の第1導電型高濃度半導体層と、
前記第4の島状半導体層の下部に形成された第7の第1導電型高濃度半導体層と、
前記第6の第1導電型高濃度半導体層と前記第7の第1導電型高濃度半導体層との間に形成された第5の第2導電型半導体層と、
前記第5の第2導電型半導体層の周囲に形成された第4のゲート絶縁膜と、
前記第4のゲート絶縁膜の周囲に形成された少なくとも金属からなる第4のゲート電極と、
で構成された第1のパストランジスタと、をさらに有し、
前記第6の第1導電型高濃度半導体層と前記第1のゲート配線とが配線により接続され、
第7の第1導電型高濃度半導体層に電源電圧が印加されることを特徴とする。
一方、バルクMOSFET、SOI MOSFET、Double Gate MOSFET、Tri gate MOSFETは、ボディがゲートにより完全に囲われていないため、原理的にバックバイアス効果によりしきい値電圧が増加する。すなわち、バルクMOSFET、SOI MOSFET、Double Gate MOSFET、Tri gate MOSFETを本発明のパストランジスタに使用したときには、ソース電圧によりしきい値電圧が変化するため、動作安定性を損なう。
図2に本発明に係るスタティック型メモリセルの、図1におけるX1-X1’断面図を示し、
図3に本発明に係るスタティック型メモリセルの、図1におけるX2-X2’断面図を示す。
第1の島状シリコン層107と、
前記第1の島状シリコン層107の上部に形成された第1のn+シリコン層119と、
前記第1の島状シリコン層107の下部に形成された第2のn+シリコン層135と、
前記第1のn+シリコン層119と前記第2のn+シリコン層135との間に形成された第1のpシリコン層160と、
前記第1のpシリコン層160の周囲に形成された第1のゲート絶縁膜113と、
前記第1のゲート絶縁膜113の周囲に形成された少なくとも金属からなる第1のゲート電極125と、
で構成された第1のドライバトランジスタ101を含む。
前記第2の島状シリコン層109の上部に形成された第3のn+シリコン層121と、
前記第2の島状シリコン層109の下部に形成された第4のn+シリコン層137と、
前記第3のn+シリコン層121と前記第4のn+シリコン層137との間に形成された第2のpシリコン層162と、
前記第2のpシリコン層162の周囲に形成された第2のゲート絶縁膜115と、
前記第2のゲート絶縁膜115の周囲に形成された少なくとも金属からなる第2のゲート電極127と、
で構成された第1の選択トランジスタ103を含む。
前記第3の島状シリコン層108の上部に形成された第3のp+シリコン層120と、
前記第3の島状シリコン層108の下部に形成された第4のp+シリコン層136と、
前記第3のp+シリコン層120と前記第4のp+シリコン層136との間に形成された第5のnシリコン層161と、
前記第5のnシリコン層161の周囲に形成された第3のゲート絶縁膜114と、
前記第3のゲート絶縁膜114の周囲に形成された少なくとも金属からなる第3のゲート電極126と、
で構成された第1のロードトランジスタ102と、
前記第2のゲート電極127に接続される第1のゲート配線132とを含む。
ゲート電極に使用される電極は、仕事関数によりトランジスタのしきい値電圧を決めるのであるから、少なくとも金属もしくは金属化合物がよい。
第2のn+シリコン層135と第4のn+シリコン層137と第4のp+シリコン層136とを接続する配線141を持つ。
配線141は、シリコンもしくは金属とシリコンの化合物が好ましい。
島状シリコン層112と、
前記島状シリコン層112の上部に形成されたn+シリコン層124と、
前記島状シリコン層112の下部に形成されたn+シリコン層140と、
前記n+シリコン層124と前記n+シリコン層140との間に形成されたpシリコン層165と、
前記pシリコン層165の周囲に形成されたゲート絶縁膜118と、
前記ゲート絶縁膜118の周囲に形成された少なくとも金属からなるゲート電極130と、
で構成されたドライバトランジスタ106を含む。
前記島状シリコン層110の上部に形成されたn+シリコン層122と、
前記島状シリコン層110の下部に形成されたn+シリコン層138と、
前記n+シリコン層122と前記n+シリコン層138との間に形成されたpシリコン層163と、
前記pシリコン層163の周囲に形成されたゲート絶縁膜116と、
前記ゲート絶縁膜116の周囲に形成された少なくとも金属からなるゲート電極128と、
で構成された選択トランジスタ104を含む。
前記島状シリコン層111の上部に形成されたp+シリコン層123と、
前記島状シリコン層111の下部に形成されたp+シリコン層139と、
前記p+シリコン層123と前記p+シリコン層139との間に形成されたnシリコン層164と、
前記nシリコン層164の周囲に形成されたゲート絶縁膜117と、
前記ゲート絶縁膜117の周囲に形成された少なくとも金属からなるゲート電極129と、
で構成されたロードトランジスタ105と、
前記ゲート電極128に接続されるゲート配線133とを含む。
ゲート電極に使用される電極は、仕事関数によりトランジスタのしきい値電圧を決めるのであるから、少なくとも金属もしくは金属化合物がよい。
n+シリコン層140とn+シリコン層138とp+シリコン層139とを接続する配線142を持つ。
配線142は、シリコンもしくは金属とシリコンの化合物が好ましい。
このとき、
前記第1の島状シリコン層107の周囲長W1は、前記第2の島状シリコン層109の周囲長W2の二倍未満であることを特徴とし、
前記第2のゲート電極127に印加される電圧は、
前記第3のn+シリコン層121に印加される電圧より低い。
また、選択トランジスタの第2のゲート電極127に、選択トランジスタの第3のn+シリコン層121に印加される電圧より低い電圧を印加することで、選択トランジスタの電流駆動力を下げ、高集積で動作安定性を確保したスタティック型メモリセルを提供することができる。
ゲート配線131と配線142とが配線もしくはコンタクト143により接続され、
ゲート配線134と配線141とが配線もしくはコンタクト144により接続され、
n+シリコン層119にGND線145が接続され、
p+シリコン層120に電源線146が接続され、
n+シリコン層121にビット線147が接続され、
n+シリコン層124にGND線149が接続され、
p+シリコン層123に電源線146が接続され、
n+シリコン層122にビット線148が接続される。
図4に本発明のデータ読み出し時の印加電圧を記載したものである。ゲート配線132、ゲート電極127にVDD-Bの電圧が印加される。VDDは電源電圧である。Bは正の数である。ビットラインには電源電圧VDDが印加される。従って、選択トランジスタの第2のゲート電極127に、選択トランジスタの第3のn+シリコン層121に印加される電圧より低い電圧を印加することで、選択トランジスタの電流駆動力を下げ、高集積で動作安定性を確保したスタティック型メモリセルを提供することができる。
バルクMOSFET、SOI MOSFET、Double Gate MOSFET、Tri gate MOSFETは、ボディがゲートにより完全に囲われていないため、原理的にバックバイアス効果によりしきい値電圧が増加する。バックバイアス効果により増加したしきい値電圧の増加分Aは正の数となる。すなわち、バルクMOSFET、SOI MOSFET、Double Gate MOSFET、Tri gate MOSFETを本発明のパストランジスタに使用したときには、ソース電圧によりしきい値電圧が変化するため、動作安定性を損なう。
一方、SGTは、ボディがゲートにより完全に囲われているため原理的にバックバイアス効果によりしきい値電圧が増加することはない。バックバイアス効果により増加したしきい値電圧の増加分Aは0となる。すなわち常に一定のしきい値電圧とすることができ、SGTをパストランジスタとして用いると、動作安定性を確保したスタティック型メモリセルを提供することができる。
図9は、本発明に係る選択トランジスタとパストランジスタの鳥瞰図である。
図10は、本発明に係るパストランジスタの、図9におけるz断面図である。
第4の島状シリコン層154と、
前記第4の島状シリコン層154の上部に形成された第6のn+シリコン層153と、
前記第4の島状シリコン層154の下部に形成された第7のn+シリコン層152と、
前記第6のn+シリコン層153と前記第7のn+シリコン層152との間に形成された第5のpシリコン層166と、
前記第5のpシリコン層166の周囲に形成された第4のゲート絶縁膜155と、
前記第4のゲート絶縁膜155の周囲に形成された少なくとも金属からなる第4のゲート電極151と、
で構成された第1のパストランジスタ150と、をさらに有し、
前記第7のn+シリコン層152と前記第1のゲート配線132とが配線156、コンタクト157、配線159、コンタクト158を介して接続され、
第6のn+シリコン層153に電源電圧が印加される。
また、SGTは、ボディがゲートにより完全に囲われているため原理的にバックバイアス効果によりしきい値電圧が増加することはない。バックバイアス効果により増加したしきい値電圧の増加分Aは0となる。すなわち常に一定のしきい値電圧とすることができ、SGTをパストランジスタとして用いると、動作安定性を確保したスタティック型メモリセルを提供することができる。
第7のn+シリコン層152に電源電圧を印加してもよい。
このSGTパストランジスタのゲート電極に使用される電極は、仕事関数によりトランジスタのしきい値電圧を決めるのであるから、少なくとも金属もしくは金属化合物がよい。
また、SGTパストランジスタの電流駆動力が足りない場合は、SGTパストランジスタは複数あってもよい。
102.ロードトランジスタ
103.選択トランジスタ
104.選択トランジスタ
105.ロードトランジスタ
106.ドライバトランジスタ
107.島状シリコン層
108.島状シリコン層
109.島状シリコン層
110.島状シリコン層
111.島状シリコン層
112.島状シリコン層
113.ゲート絶縁膜
114.ゲート絶縁膜
115.ゲート絶縁膜
116.ゲート絶縁膜
117.ゲート絶縁膜
118.ゲート絶縁膜
119.n+シリコン層
120.p+シリコン層
121.n+シリコン層
122.n+シリコン層
123.p+シリコン層
124.n+シリコン層
125.ゲート電極
126.ゲート電極
127.ゲート電極
128.ゲート電極
129.ゲート電極
130.ゲート電極
131.ゲート配線
132.ゲート配線
133.ゲート配線
134.ゲート配線
135.n+シリコン層
136.p+シリコン層
137.n+シリコン層
138.n+シリコン層
139.p+シリコン層
140.n+シリコン層
141.配線
142.配線
143.配線もしくはコンタクト
144.配線もしくはコンタクト
145.GND線
146.電源線
147.ビット線
148.ビット線
149.GND線
150.パストランジスタ
151.ゲート電極
152.n+シリコン層
153.n+シリコン層
154.島状シリコン層
155.ゲート絶縁膜
156.配線
157.コンタクト
158.コンタクト
159.配線
160.pシリコン層
161.nシリコン層
162.pシリコン層
163.pシリコン層
164.nシリコン層
165.pシリコン層
166.pシリコン層
Claims (4)
- 第1の島状半導体層と、
前記第1の島状半導体層の上部に形成された第1の第1導電型高濃度半導体層と、
前記第1の島状半導体層の下部に形成された第2の第1導電型高濃度半導体層と、
前記第1の第1導電型高濃度半導体層と前記第2の第1導電型高濃度半導体層との間に形成された第1の第2導電型半導体層と、
前記第1の第2導電型半導体層の周囲に形成された第1のゲート絶縁膜と、
前記第1のゲート絶縁膜の周囲に形成された少なくとも金属からなる第1のゲート電極と、
で構成された第1のドライバトランジスタと、
第2の島状半導体層と、
前記第2の島状半導体層の上部に形成された第3の第1導電型高濃度半導体層と、
前記第2の島状半導体層の下部に形成された第4の第1導電型高濃度半導体層と、
前記第3の第1導電型高濃度半導体層と前記第4の第1導電型高濃度半導体層との間に形成された第2の第2導電型半導体層と、
前記第2の第2導電型半導体層の周囲に形成された第2のゲート絶縁膜と、
前記第2のゲート絶縁膜の周囲に形成された少なくとも金属からなる第2のゲート電極と、
で構成された第1の選択トランジスタと、
第3の島状半導体層と、
前記第3の島状半導体層の上部に形成された第3の第2導電型高濃度半導体層と、
前記第3の島状半導体層の下部に形成された第4の第2導電型高濃度半導体層と、
前記第3の第2導電型高濃度半導体層と前記第4の第2導電型高濃度半導体層との間に形成された第5の第1導電型半導体層と、
前記第5の第1導電型半導体層の周囲に形成された第3のゲート絶縁膜と、
前記第3のゲート絶縁膜の周囲に形成された少なくとも金属からなる第3のゲート電極と、
で構成された第1のロードトランジスタと、
前記第2のゲート電極に接続される第1のゲート配線と、
を含む6トランジスタSRAMセルであって、
前記第1の島状半導体層の周囲長は、前記第2の島状半導体層の周囲長の二倍未満であることを特徴とし、
前記第2のゲート電極に印加される電圧は、
前記第3の第1導電型高濃度半導体層に印加される電圧より低いことを特徴とする半導体装置。 - 第4の島状半導体層と、
前記第4の島状半導体層の上部に形成された第6の第1導電型高濃度半導体層と、
前記第4の島状半導体層の下部に形成された第7の第1導電型高濃度半導体層と、
前記第6の第1導電型高濃度半導体層と前記第7の第1導電型高濃度半導体層との間に形成された第5の第2導電型半導体層と、
前記第5の第2導電型半導体層の周囲に形成された第4のゲート絶縁膜と、
前記第4のゲート絶縁膜の周囲に形成された少なくとも金属からなる第4のゲート電極と、
で構成された第1のパストランジスタと、をさらに有し、
前記第7の第1導電型高濃度半導体層と前記第1のゲート配線とが配線により接続され、
第6の第1導電型高濃度半導体層に電源電圧が印加されることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。 - 第4の島状半導体層と、
前記第4の島状半導体層の上部に形成された第6の第1導電型高濃度半導体層と、
前記第4の島状半導体層の下部に形成された第7の第1導電型高濃度半導体層と、
前記第6の第1導電型高濃度半導体層と前記第7の第1導電型高濃度半導体層との間に形成された第5の第2導電型半導体層と、
前記第5の第2導電型半導体層の周囲に形成された第4のゲート絶縁膜と、
前記第4のゲート絶縁膜の周囲に形成された少なくとも金属からなる第4のゲート電極と、
で構成された第1のパストランジスタと、をさらに有し、
前記第6の第1導電型高濃度半導体層と前記第1のゲート配線とが配線により接続され、
第7の第1導電型高濃度半導体層に電源電圧が印加されることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。 - 前記第4のゲート電極に印加される電圧は、前記電源電圧であることを特徴とする請求項2および3に記載の半導体装置。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013518033A JP5486735B2 (ja) | 2011-10-18 | 2011-10-18 | 半導体装置 |
KR1020137009906A KR20130099108A (ko) | 2011-10-18 | 2011-10-18 | 반도체 장치 |
PCT/JP2011/073885 WO2013057785A1 (ja) | 2011-10-18 | 2011-10-18 | 半導体装置 |
CN2011800502708A CN103250239A (zh) | 2011-10-18 | 2011-10-18 | 半导体器件 |
TW101137659A TW201318110A (zh) | 2011-10-18 | 2012-10-12 | 半導體裝置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/JP2011/073885 WO2013057785A1 (ja) | 2011-10-18 | 2011-10-18 | 半導体装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
WO2013057785A1 true WO2013057785A1 (ja) | 2013-04-25 |
Family
ID=48140463
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PCT/JP2011/073885 WO2013057785A1 (ja) | 2011-10-18 | 2011-10-18 | 半導体装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5486735B2 (ja) |
KR (1) | KR20130099108A (ja) |
CN (1) | CN103250239A (ja) |
TW (1) | TW201318110A (ja) |
WO (1) | WO2013057785A1 (ja) |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0951042A (ja) * | 1995-06-02 | 1997-02-18 | Hitachi Ltd | 半導体装置 |
JP2005038557A (ja) * | 2003-07-18 | 2005-02-10 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | メモリ回路およびメモリ回路を有する表示装置 |
JP2007066493A (ja) * | 2005-08-02 | 2007-03-15 | Renesas Technology Corp | 半導体記憶装置 |
JP2008065968A (ja) * | 2006-08-10 | 2008-03-21 | Renesas Technology Corp | 半導体記憶装置 |
JP2008205168A (ja) * | 2007-02-20 | 2008-09-04 | Fujitsu Ltd | 半導体装置及びその製造方法 |
WO2009060934A1 (ja) * | 2007-11-07 | 2009-05-14 | Nec Corporation | 半導体装置及びその製造方法 |
WO2009096465A1 (ja) * | 2008-01-29 | 2009-08-06 | Unisantis Electronics (Japan) Ltd. | 半導体記憶装置 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2662800B2 (ja) * | 1987-09-07 | 1997-10-15 | 三菱電機株式会社 | 半導体記憶装置 |
WO2009128450A1 (ja) * | 2008-04-16 | 2009-10-22 | 日本電気株式会社 | 半導体記憶装置 |
-
2011
- 2011-10-18 JP JP2013518033A patent/JP5486735B2/ja active Active
- 2011-10-18 CN CN2011800502708A patent/CN103250239A/zh active Pending
- 2011-10-18 WO PCT/JP2011/073885 patent/WO2013057785A1/ja active Application Filing
- 2011-10-18 KR KR1020137009906A patent/KR20130099108A/ko not_active Application Discontinuation
-
2012
- 2012-10-12 TW TW101137659A patent/TW201318110A/zh unknown
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0951042A (ja) * | 1995-06-02 | 1997-02-18 | Hitachi Ltd | 半導体装置 |
JP2005038557A (ja) * | 2003-07-18 | 2005-02-10 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | メモリ回路およびメモリ回路を有する表示装置 |
JP2007066493A (ja) * | 2005-08-02 | 2007-03-15 | Renesas Technology Corp | 半導体記憶装置 |
JP2008065968A (ja) * | 2006-08-10 | 2008-03-21 | Renesas Technology Corp | 半導体記憶装置 |
JP2008205168A (ja) * | 2007-02-20 | 2008-09-04 | Fujitsu Ltd | 半導体装置及びその製造方法 |
WO2009060934A1 (ja) * | 2007-11-07 | 2009-05-14 | Nec Corporation | 半導体装置及びその製造方法 |
WO2009096465A1 (ja) * | 2008-01-29 | 2009-08-06 | Unisantis Electronics (Japan) Ltd. | 半導体記憶装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN103250239A (zh) | 2013-08-14 |
KR20130099108A (ko) | 2013-09-05 |
JP5486735B2 (ja) | 2014-05-07 |
JPWO2013057785A1 (ja) | 2015-04-02 |
TW201318110A (zh) | 2013-05-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8754481B2 (en) | Semiconductor device | |
US10522554B2 (en) | SRAM cells with vertical gate-all-around MOSFETs | |
JP5701831B2 (ja) | パスゲートを備えた半導体記憶装置 | |
JP2007042730A (ja) | 半導体装置およびそれを用いた半導体集積回路 | |
JP2005142289A (ja) | 半導体記憶装置 | |
US10756095B2 (en) | SRAM cell with T-shaped contact | |
US20070146008A1 (en) | Semiconductor circuit comprising vertical transistor | |
JP5364125B2 (ja) | 半導体装置 | |
US20180175047A1 (en) | Semiconductor device | |
US7651905B2 (en) | Apparatus and method for reducing gate leakage in deep sub-micron MOS transistors using semi-rectifying contacts | |
US9455273B2 (en) | Semiconductor device | |
US20140191327A1 (en) | Semiconductor memory device | |
US11062739B2 (en) | Semiconductor chip having memory and logic cells | |
JP5486735B2 (ja) | 半導体装置 | |
US20160049187A1 (en) | Semiconductor device | |
US20120091537A1 (en) | Semiconductor device | |
JP2010097059A (ja) | 表示装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
ENP | Entry into the national phase |
Ref document number: 2013518033 Country of ref document: JP Kind code of ref document: A Ref document number: 20137009906 Country of ref document: KR Kind code of ref document: A |
|
121 | Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application |
Ref document number: 11874329 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |
|
NENP | Non-entry into the national phase |
Ref country code: DE |
|
122 | Ep: pct application non-entry in european phase |
Ref document number: 11874329 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |