WO2013035545A1 - Grains abrasifs, leur procédé de fabrication, bouillie de polissage et procédé de fabrication de produits verriers - Google Patents

Grains abrasifs, leur procédé de fabrication, bouillie de polissage et procédé de fabrication de produits verriers Download PDF

Info

Publication number
WO2013035545A1
WO2013035545A1 PCT/JP2012/071349 JP2012071349W WO2013035545A1 WO 2013035545 A1 WO2013035545 A1 WO 2013035545A1 JP 2012071349 W JP2012071349 W JP 2012071349W WO 2013035545 A1 WO2013035545 A1 WO 2013035545A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
cerium
acid
phase particles
coated
mass
Prior art date
Application number
PCT/JP2012/071349
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Inventor
酒井　智弘
有衣子 吉田
浩之 朝長
Original Assignee
旭硝子株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 旭硝子株式会社 filed Critical 旭硝子株式会社
Publication of WO2013035545A1 publication Critical patent/WO2013035545A1/fr

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B37/00—Lapping machines or devices; Accessories
    • B24B37/04—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces
    • B24B37/042—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces operating processes therefor
    • B24B37/044—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces operating processes therefor characterised by the composition of the lapping agent
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K3/00—Materials not provided for elsewhere
    • C09K3/14—Anti-slip materials; Abrasives
    • C09K3/1436—Composite particles, e.g. coated particles

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Composite Materials (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
  • Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
  • Grinding Of Cylindrical And Plane Surfaces (AREA)

Abstract

La présente invention a pour but de proposer des grains abrasifs et une bouillie de polissage, les deux rendant possible de polir un objet devant être poli à un taux de polissage élevé même lorsque la quantité d'oxyde de cérium utilisée est réduite. La présente invention concerne des grains abrasifs obtenus par enrobage des particules de base par de l'oxyde de cérium.
PCT/JP2012/071349 2011-09-09 2012-08-23 Grains abrasifs, leur procédé de fabrication, bouillie de polissage et procédé de fabrication de produits verriers WO2013035545A1 (fr)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011197379 2011-09-09
JP2011-197379 2011-09-09

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2013035545A1 true WO2013035545A1 (fr) 2013-03-14

Family

ID=47831995

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2012/071349 WO2013035545A1 (fr) 2011-09-09 2012-08-23 Grains abrasifs, leur procédé de fabrication, bouillie de polissage et procédé de fabrication de produits verriers

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JPWO2013035545A1 (fr)
TW (1) TW201321492A (fr)
WO (1) WO2013035545A1 (fr)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015049942A1 (fr) * 2013-10-03 2015-04-09 三井金属鉱業株式会社 Substance abrasive, procédé pour sa production et boue abrasive la contenant
WO2015098945A1 (fr) * 2013-12-24 2015-07-02 堺化学工業株式会社 Particules d'oxyde de zinc recouvertes d'oxyde de cérium, procédé pour leur préparation, agent protecteur contre le rayonnement ultraviolet et produit cosmétique
JP2015155139A (ja) * 2014-01-20 2015-08-27 信越化学工業株式会社 合成石英ガラス基板の製造方法
JPWO2014034746A1 (ja) * 2012-08-28 2016-08-08 Hoya株式会社 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法
WO2016158328A1 (fr) * 2015-04-01 2016-10-06 三井金属鉱業株式会社 Abrasif et suspension épaisse contenant ce dernier
US10696563B2 (en) 2014-02-07 2020-06-30 Sakai Chemical Industry Co., Ltd. Hexagonal plate-shaped zinc oxide particles, method for production of the same, and cosmetic, filler, resin composition, infrared reflective material, and coating composition containing the same

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI553153B (zh) * 2013-06-28 2016-10-11 聖高拜陶器塑膠公司 鍍鎳鑽石顆粒及其製造方法
CN104673101A (zh) * 2015-02-12 2015-06-03 柳州豪祥特科技有限公司 一种稀土抛光粉的制备工艺
WO2020021680A1 (fr) * 2018-07-26 2020-01-30 日立化成株式会社 Suspension et procédé de polissage

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001206737A (ja) * 1999-11-18 2001-07-31 Nippon Sheet Glass Co Ltd ガラス基板及びその洗浄方法
JP2003528447A (ja) * 1999-11-23 2003-09-24 コーニング インコーポレイテッド 集積回路マイクロエレクトロニクス用半導体処理シリカスート研摩スラリー方法
JP2003297781A (ja) * 2002-02-05 2003-10-17 Degussa Ag 水性分散液、その製造方法及びその使用
WO2010139603A1 (fr) * 2009-06-05 2010-12-09 Basf Se Nanostructures d'oxyde de métal de type framboise enrobées avec des nanoparticules de ceo2 pour la planarisation chimique-mécanique (cmp)

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001206737A (ja) * 1999-11-18 2001-07-31 Nippon Sheet Glass Co Ltd ガラス基板及びその洗浄方法
JP2003528447A (ja) * 1999-11-23 2003-09-24 コーニング インコーポレイテッド 集積回路マイクロエレクトロニクス用半導体処理シリカスート研摩スラリー方法
JP2003297781A (ja) * 2002-02-05 2003-10-17 Degussa Ag 水性分散液、その製造方法及びその使用
WO2010139603A1 (fr) * 2009-06-05 2010-12-09 Basf Se Nanostructures d'oxyde de métal de type framboise enrobées avec des nanoparticules de ceo2 pour la planarisation chimique-mécanique (cmp)

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2014034746A1 (ja) * 2012-08-28 2016-08-08 Hoya株式会社 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法
WO2015049942A1 (fr) * 2013-10-03 2015-04-09 三井金属鉱業株式会社 Substance abrasive, procédé pour sa production et boue abrasive la contenant
JP2015071715A (ja) * 2013-10-03 2015-04-16 三井金属鉱業株式会社 研摩材、その製造方法及びそれを含む研摩スラリー
EP3053980A1 (fr) * 2013-10-03 2016-08-10 Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd Substance abrasive, procédé pour sa production et boue abrasive la contenant
EP3053980A4 (fr) * 2013-10-03 2017-05-17 Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd Substance abrasive, procédé pour sa production et boue abrasive la contenant
US9873824B2 (en) 2013-10-03 2018-01-23 Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd. Abrasive material, method for producing same, and abrasive slurry containing same
WO2015098945A1 (fr) * 2013-12-24 2015-07-02 堺化学工業株式会社 Particules d'oxyde de zinc recouvertes d'oxyde de cérium, procédé pour leur préparation, agent protecteur contre le rayonnement ultraviolet et produit cosmétique
JPWO2015098945A1 (ja) * 2013-12-24 2017-03-23 堺化学工業株式会社 酸化セリウム被覆酸化亜鉛粒子、その製造方法、紫外線遮蔽剤及び化粧料
JP2015155139A (ja) * 2014-01-20 2015-08-27 信越化学工業株式会社 合成石英ガラス基板の製造方法
US10696563B2 (en) 2014-02-07 2020-06-30 Sakai Chemical Industry Co., Ltd. Hexagonal plate-shaped zinc oxide particles, method for production of the same, and cosmetic, filler, resin composition, infrared reflective material, and coating composition containing the same
WO2016158328A1 (fr) * 2015-04-01 2016-10-06 三井金属鉱業株式会社 Abrasif et suspension épaisse contenant ce dernier
JPWO2016158328A1 (ja) * 2015-04-01 2017-09-14 三井金属鉱業株式会社 研摩材および研摩スラリー

Also Published As

Publication number Publication date
JPWO2013035545A1 (ja) 2015-03-23
TW201321492A (zh) 2013-06-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2013035545A1 (fr) Grains abrasifs, leur procédé de fabrication, bouillie de polissage et procédé de fabrication de produits verriers
KR101760529B1 (ko) 화학 기계적 평탄화(ＣＭＰ)를 위한 ＣｅＯ２ 나노입자 코팅된 라스베리형 금속 산화물 나노구조체
JP2001089749A (ja) 研磨用組成物
JP5441578B2 (ja) 研磨液組成物
JP2008527728A (ja) 化学的機械的研磨用研磨スラリー及び方法
TWI576420B (zh) A polishing composition, a polishing method, and a method for producing a sapphire substrate
KR20170099842A (ko) 연마용 조성물, 연마 방법, 및 세라믹제 부품의 제조 방법
TW201708492A (zh) 研磨用組成物及矽基板之研磨方法
JP2016088940A (ja) 研磨剤粒子とその製造方法、研磨剤スラリーおよび研磨加工方法
JP6560155B2 (ja) 合成石英ガラス基板用研磨剤及び合成石英ガラス基板の研磨方法
WO2013161877A1 (fr) Agent de nettoyage pour matériau en alliage ainsi que procédé de fabrication d'un matériau en alliage
JP6646062B2 (ja) 合成石英ガラス基板用研磨剤及びその製造方法、並びに合成石英ガラス基板の研磨方法
KR20170102207A (ko) 연마용 조성물, 연마 방법, 및 세라믹제 부품의 제조 방법
JP6936183B2 (ja) 合成石英ガラス基板用の研磨剤及びその製造方法、並びに合成石英ガラス基板の研磨方法
JP6694653B2 (ja) 合成石英ガラス基板用研磨剤及びその製造方法並びに合成石英ガラス基板の研磨方法
JP4954338B1 (ja) ガラス製品の製造方法
JPH10172936A (ja) 研磨用組成物
JPH10172934A (ja) 研磨用組成物
JP2001107028A (ja) 研磨材及び研磨方法
JP2014118468A (ja) 研磨砥粒およびその製造方法、研磨スラリー並びにガラス基板の製造方法
WO2013008639A1 (fr) Processus de production d'un produit de verre
JP7074644B2 (ja) 合成石英ガラス基板の研磨用研磨粒子の製造方法、並びに合成石英ガラス基板の研磨方法
JP6916192B2 (ja) 研磨用組成物、ならびにこれを用いた研磨方法および半導体基板の製造方法
JP2016096230A (ja) 半導体素子の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 12829531

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2013532535

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 12829531

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1