WO2013029554A1 - 盲人显示面板及其制造方法和盲人显示装置 - Google Patents

盲人显示面板及其制造方法和盲人显示装置 Download PDF

Info

Publication number
WO2013029554A1
WO2013029554A1 PCT/CN2012/080796 CN2012080796W WO2013029554A1 WO 2013029554 A1 WO2013029554 A1 WO 2013029554A1 CN 2012080796 W CN2012080796 W CN 2012080796W WO 2013029554 A1 WO2013029554 A1 WO 2013029554A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
substrate
array substrate
film layer
display panel
blind display
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
PCT/CN2012/080796
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
周伟峰
薛建设
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BOE Technology Group Co Ltd
Original Assignee
BOE Technology Group Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by BOE Technology Group Co Ltd filed Critical BOE Technology Group Co Ltd
Priority to US13/702,111 priority Critical patent/US9244547B2/en
Publication of WO2013029554A1 publication Critical patent/WO2013029554A1/zh
Anticipated expiration legal-status Critical
Ceased legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING OR CALCULATING; COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G—PHYSICS
    • G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
    • G09B—EDUCATIONAL OR DEMONSTRATION APPLIANCES; APPLIANCES FOR TEACHING, OR COMMUNICATING WITH, THE BLIND, DEAF OR MUTE; MODELS; PLANETARIA; GLOBES; MAPS; DIAGRAMS
    • G09B21/00—Teaching, or communicating with, the blind, deaf or mute
    • G09B21/001—Teaching or communicating with blind persons
    • G09B21/003—Teaching or communicating with blind persons using tactile presentation of the information, e.g. Braille displays
    • G09B21/004—Details of particular tactile cells, e.g. electro-mechanical or mechanical layout
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10H—INORGANIC LIGHT-EMITTING SEMICONDUCTOR DEVICES HAVING POTENTIAL BARRIERS
    • H10H20/00—Individual inorganic light-emitting semiconductor devices having potential barriers, e.g. light-emitting diodes [LED]
    • H10H20/80—Constructional details
    • H10H20/85—Packages
    • H10H20/852—Encapsulations

Definitions

  • An embodiment of the present invention provides a blind display panel, including: an array substrate, the array substrate includes a glass substrate, and data lines and gate lines formed on the glass substrate that intersect each other, the data lines and The gate line encloses a pixel unit, each of the pixel units includes a pixel electrode; a touch substrate, the touch substrate includes a flexible film layer and a charged columnar structure disposed on the flexible film layer; An elastic film layer between the array substrate and the touch substrate, wherein a surface of the touch substrate on which the charged columnar structure is formed faces a surface on which the pixel electrode is formed on the array substrate, and a charged columnar structure on the touch substrate Corresponding to the pixel electrode on the array substrate.
  • Another embodiment of the present invention provides a blind display device including the above-described blind display panel.
  • Another embodiment of the present invention further provides a method for manufacturing a blind display panel, comprising: forming data lines and gate lines crossing each other on a transparent substrate, the data lines and the gate lines enclosing a pixel unit
  • Each of the pixel units includes a pixel electrode to form an array substrate; a spacer layer is formed on the flexible film layer, and a patterning process is performed on the spacer layer to form a charged columnar structure to form a touch substrate; Aligning the array substrate and the touch substrate, wherein the array An elastic film layer is disposed between the substrate and the touch substrate, and a surface of the touch substrate on which the charged columnar structure is formed faces a surface on which the pixel electrode is formed on the array substrate, and a charged columnar structure on the touch substrate The pixel electrodes on the array substrate - corresponding.
  • FIG. 1 is a schematic structural diagram of a blind display panel according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a schematic structural diagram of a blind display panel according to another embodiment of the present invention.
  • FIG. 3 is a flowchart of a method for manufacturing a blind display panel according to an embodiment of the present invention
  • FIG. 4 is a flowchart of step 301 in a method for manufacturing a blind display panel shown in FIG. 3;
  • Embodiments of the present invention provide a blind display panel and a blind display device including the blind display panel, so that a blind person can read an electronic book by touch.
  • the embodiment of the invention also provides a method of manufacturing the blind display panel.
  • FIG. 1 is a schematic structural diagram of a blind display panel according to an embodiment of the present invention.
  • the blind display panel provided by the embodiment of the present invention includes an array substrate 11, a touch substrate 12, and an elastic film layer 13 disposed between the array substrate 11 and the contact 12.
  • the array substrate 11 includes a glass substrate 111 having a plurality of data lines (not shown) and a plurality of gate lines 116 formed thereon, the data lines and the gate lines 116 are mutually A plurality of pixel units are formed by crossing.
  • Each pixel unit includes a thin film transistor 112 and an image Prime electrode 113.
  • the thin film transistor 112 serves as a switching element of the pixel unit, and includes a gate electrode 1121, a source electrode 1122, a drain electrode 1123, and an active layer pattern 1124.
  • a thin film transistor is an example of an active switching element; in another embodiment of the invention, the thin film transistor can be replaced with other active switching elements.
  • the pixel unit of the array substrate of the embodiment of the invention may use a passive switch structure.
  • the gate electrode 1121 may be connected to the gate line 116 or formed integrally with the gate line 116.
  • the insulating layer 114 is formed between the gate electrode 1121 and the active layer pattern 1124.
  • a passivation layer 115 is overlaid on the thin film transistor 112, and a via hole exposing the drain 1123 of the thin film transistor 112 is formed in the passivation layer 115.
  • the pixel electrode 113 is electrically connected to the drain 1123 through the through hole.
  • the glass substrate 111 may also be replaced by a quartz substrate, a plastic substrate or other transparent substrate.
  • the touch substrate 12 includes a flexible film layer 121 and a charged columnar structure 122 disposed on the flexible film layer 121.
  • the surface of the touch substrate 12 on which the charged columnar structure 122 is formed faces the surface of the array substrate 11 formed by the pixel electrode 113, and the charged columnar structure 122 on the touch substrate 12 and the pixel on the array substrate 11 Electrode 113 - corresponding.
  • the elastic film layer 13 may be a film layer material having a recovery function such as rubber or resin, and the flexible film layer 121 is a film layer material having a bending function.
  • the blind display panel provided by the embodiment of the present invention includes an array substrate and a touch substrate disposed on the array substrate. Therefore, after the pixel electrodes on the array substrate are energized, based on the Coulomb force principle, the touch substrate A Coulomb force is generated between the charged columnar structure and the pixel electrode in the array substrate. Under the action of the Coulomb force, the flexible film layer in the touch substrate is deformed so that the blind display device is over-touched to read the text. After the pixel electrode on the array substrate is powered off under the premise of energization, the deformed flexible film layer is restored to a state in which the deformation is not formed (initial state) through the elastic film layer, thereby causing the touch substrate to correspond to the break.
  • the blind display panel provided by the present invention achieves the purpose of enabling the blind person to read the text by touching the blind display panel, and solves the problem that the blind person cannot read the electronic book in the prior art.
  • FIG. 2 is a schematic structural diagram of a blind display panel according to still another embodiment of the present invention.
  • a blind display panel according to another embodiment of the present invention includes an array substrate 21 , a touch substrate 22 , and an elastic film layer 23 disposed between the array substrate 21 and the touch substrate 22 .
  • the array substrate 21 includes a glass substrate 211, and a plurality of data lines (not shown) and a plurality of gate lines 216 are formed on the glass substrate 211; the data lines and the gate lines 216 are mutually A plurality of pixel units are formed by crossing.
  • Each of the pixel units includes a thin film transistor 212 and a pixel electrode 213, wherein the thin film transistor 212 includes a gate electrode 2121, a source electrode 2122, a drain electrode 2123, and an active layer pattern 2124.
  • the gate 2131 may be connected to the gate line 216 or formed integrally with the gate line 216.
  • An insulating layer 214 is formed between the gate electrode 2112 and the active layer pattern 2124.
  • a passivation layer 215 is overlaid on the thin film transistor 212, and a via hole exposing the drain 2123 of the thin film transistor 212 is formed on the passivation layer 215.
  • the pixel electrode 213 is electrically connected to the drain 2123 through the through hole.
  • the glass substrate 211 may also be replaced by a quartz substrate, a plastic substrate or other transparent substrate.
  • the touch substrate 22 includes a flexible film layer 221 and a charged columnar structure 222 disposed on the flexible film layer 221.
  • the surface of the touch substrate 22 on which the charged columnar structure 222 is formed faces the surface on which the pixel electrode 213 is formed on the array substrate 21, and the charged columnar structure 222 on the touch substrate 22 and the pixels on the array substrate 21 Electrode 213 - corresponding.
  • the elastic film layer 23 may be a film layer material having a recovery function such as rubber or resin, and the flexible film layer 221 is a film layer material having a bending function.
  • the blind display panel provided by the embodiment of the present invention includes an array substrate and a touch substrate disposed on the array substrate. Therefore, after the pixel electrodes on the array substrate are energized, based on the Coulomb force principle, the touch substrate A Coulomb force is generated between the charged columnar structure and the pixel electrode in the array substrate. Under the action of the Coulomb force, the flexible film layer in the touch substrate is deformed so that the blind display device is over-touched to read the text. After the pixel electrode on the array substrate is powered off, the deformed flexible film layer is restored to the undeformed state by the elastic film layer, thereby causing the area on the touch substrate corresponding to the power-off pixel electrode. The state is restored when the pixel electrode is not energized. In this way, the blind display panel provided by another embodiment of the present invention achieves the purpose of enabling the blind person to read the text by touching the blind display panel, and solves the problem that the blind person cannot read the electronic book in the prior art.
  • the elastic film layer 23 can be disposed on the array substrate 21, and then the array substrate 21 and the touch substrate 22 can be paired to achieve the elastic film layer 23 disposed on the array.
  • the elastic film layer 23 may be placed on the array substrate 21, and then performed. The pair of the array substrate 21 and the touch substrate 22 achieve the purpose of disposing the elastic film layer 23 between the array substrate 21 and the touch substrate 22.
  • a planarization layer 24 for flattening is further formed on the array substrate 21, and the planarization layer 24 is disposed on the array substrate. 21 is between the elastic film layer 23.
  • the touch substrate 22 further includes a flexible conductive film layer 223, and the flexible conductive film layer 223 is disposed at the flexible
  • the film layer 221 is between the charged columnar structure 222. This can shield the influence of the external electric field so that the touch substrate 22 is deformed only in accordance with the voltage of the pixel electrode 213 on the array substrate 21.
  • the flexible conductive film layer may be, for example, indium tin oxide (ITO), indium oxide ruthenium, aluminum oxide ( ⁇ ), indium gallium oxide (IGZO) or the like.
  • the voltage applied to the pixel electrode on the array substrate is controlled to realize the concave-convex deformation of the touch substrate, so that the blind person obtains corresponding information by touching the blind display panel.
  • the embodiment of the present invention further provides a blind display device, which includes the blind display panel shown in FIG. 1 or FIG. 2, and the specific structure thereof is the same as that of the above embodiment, and details are not described herein again.
  • the blind display device includes a blind display panel, and the blind display panel includes an array substrate and a touch substrate disposed on the array substrate, so after the pixel electrodes on the array substrate are energized, based on the Coulomb force principle A Coulomb force is generated between the charged columnar structure in the touch substrate and the pixel electrode in the array substrate. Under the action of the Coulomb force, touching the text in the substrate enables the blind person to read the text by touching the blind display device. After the pixel electrode on the array substrate is powered off, the deformed flexible film layer is restored to a state in which deformation is not performed by the elastic film layer, thereby causing the touch substrate to correspond to the power-off pixel electrode.
  • the blind display device provided by the embodiment of the present invention achieves the purpose of enabling the blind person to read the text by touching the blind display panel, and solves the problem that the blind person cannot read the electronic book in the prior art.
  • FIG. 3 is a flowchart of a method for manufacturing a blind display panel according to an embodiment of the present invention
  • FIG. 4 is a flowchart of step 301 in a method for manufacturing a blind display panel shown in FIG. 3.
  • a method for manufacturing a blind display panel provided by an embodiment of the present invention includes:
  • Step 301 forming a plurality of data lines and a plurality of gate lines on the glass substrate, the data lines and the gate lines crossing each other to form a plurality of pixel units, each of the pixel units including a thin film transistor and a pixel electrode, thereby An array substrate is formed, and then an elastic film layer is formed (e.g., deposited) on the array substrate.
  • an elastic film layer is formed (e.g., deposited) on the array substrate.
  • Step 302 forming (e.g., depositing) a layer of a spacer on the flexible film, and performing a patterning process thereon to form a charged columnar structure, thereby forming a touch substrate.
  • the spacer layer is a resin material in which the charged particles are uniformly branched.
  • Step 303 The array substrate and the touch substrate are arranged such that the elastic film layer is disposed between the array substrate and the touch substrate, and a surface of the touch substrate on which the charged columnar structure is formed faces the array substrate.
  • the surface having the pixel electrode, the charged columnar structure on the touch substrate corresponds to the pixel electrode on the array substrate.
  • step 301 will be described in further detail with reference to FIG. As shown in FIG. 4, the step 301 An example of this includes:
  • Step 3011 an active layer thin film is formed on a substrate (e.g., a glass substrate) having a gate pattern and an insulating layer, for example, by a deposition method, and a patterning process is performed thereon to form an active layer pattern.
  • a substrate e.g., a glass substrate
  • a patterning process is performed thereon to form an active layer pattern.
  • a substrate having a gate pattern (including a gate electrode and a gate line) is prepared, and then an insulating layer film and an active layer may be sequentially formed on a substrate having a gate pattern, for example, by a deposition method, for example, by chemical vapor deposition. film.
  • the thickness of the insulating layer film is, for example, between 1000 ⁇ and 6,000 ⁇ , and the thickness of the active layer film is, for example, between 1000 ⁇ and 6,000 ⁇ .
  • the material of the insulating layer film is usually silicon nitride, and silicon oxide, silicon oxynitride or the like can also be used.
  • the active layer film is usually made of an amorphous silicon film, or a polysilicon film or the like.
  • a photoresist mask is formed on the active layer film by a photolithography process, and then the active layer film is etched (e.g., dry etched) to form an active layer pattern.
  • the insulating layer film between the gate pattern and the active layer film functions as an etch stop layer.
  • the preparation of the substrate having the gate pattern may include: forming (eg, depositing) a gate metal film on the glass substrate and performing a patterning process thereon to form a gate pattern on a certain region of the glass substrate,
  • the gate pattern includes a gate line and a gate connected to the gate line.
  • a gate metal film may be formed on a glass substrate by, for example, a deposition method using, for example, a magnetron sputtering method, and the gate metal film may have a thickness of, for example, 1000 ⁇ to 7000 ⁇ .
  • the gate metal thin film material is usually made of a metal or an alloy such as molybdenum, aluminum, an aluminum-nickel alloy, a molybdenum-tungsten alloy, chromium, or copper, or a combination of the above-mentioned several materials.
  • Step 3012 forming (e.g., depositing) a metal thin film on a substrate having a gate pattern, an insulating layer, and an active layer pattern and performing a patterning process thereon to form a data line, a source, and a drain.
  • a metal thin film is prepared by, for example, sputtering or thermal evaporation.
  • the thickness of the metal thin film is, for example, between 1,000 ⁇ and 7,000 ⁇ .
  • the metal thin film material is usually made of a metal or an alloy such as molybdenum, aluminum, aluminum-nickel alloy, molybdenum-tungsten alloy, chromium, or copper, or a combination of the above-mentioned materials.
  • a patterning process is performed on the metal thin film to form a data line, a source, and a drain.
  • Step 3013 forming, for example, depositing a passivation layer on the substrate and performing a patterning process thereon to form via holes of the peripheral leads and forming via holes over the drain.
  • a passivation layer can be deposited by, for example, chemical vapor deposition.
  • the passivation layer has a thickness of, for example, between 1000 angstroms and 6000 angstroms; the material of the passivation layer is, for example, silicon nitride, oxidation Silicon or silicon oxynitride, and may be a single layer or multiple layers.
  • the gate is covered with an insulating layer and a passivation layer, and a via hole of the peripheral lead and a via hole above the drain are formed by a patterning process.
  • Step 3014 forming a transparent conductive film on the substrate (for example, depositing) and performing a patterning process thereon to form a pixel electrode.
  • a transparent conductive film can be prepared by, for example, sputtering or thermal evaporation.
  • the material of the transparent conductive film may be indium tin oxide (ITO), indium oxide ( ⁇ ) or other transparent conductive material.
  • the transparent conductive film is patterned by a patterning process to form a pixel electrode.
  • Step 3015 forming (e.g., depositing) an elastic film layer on the substrate on which the pixel unit is formed.
  • an elastic film layer can be prepared by, for example, spin coating.
  • the elastic film layer 23 may be a film layer material having a recovery function such as rubber or resin.
  • the flexible film layer is prepared by, for example, a deposition method.
  • the method further comprises: preparing a layer of the flexible conductive film on the flexible film layer, for example, by a deposition method, so as to shield the influence of the external electric field.
  • the method further includes: preparing a layer on the glass substrate on which the pixel unit is formed, for example, by a deposition method. A planarization layer for flat action.
  • the manufactured blind display panel includes an array substrate and a touch substrate disposed on the array substrate, so after the pixel electrodes on the array substrate are energized, based on the Coulomb
  • the force principle produces a Coulomb force between the charged columnar structure in the touch substrate and the pixel electrode in the array substrate.
  • the flexible film layer in the touch substrate is deformed to make the surface of the touch substrate uneven and form a Braille corresponding thereto, thereby enabling the blind person to touch the blind display device to read the text.
  • FIG. 5 is a flowchart of a method for manufacturing a blind display panel according to still another embodiment of the present invention.
  • a method for manufacturing a blind display panel according to another embodiment of the present invention includes:
  • Step 501 forming a plurality of data lines and a plurality of gate lines on a glass substrate, wherein the data lines and the gate lines are intersected with each other to form a plurality of pixel units, and each of the pixel units includes a thin film transistor and a pixel electrode, thereby forming Array substrate.
  • the step 501 can be performed in the same manner as the step 3011-step 3014 included in the step 301 in the foregoing embodiment, and details are not described herein again.
  • Step 502 forming a layer of a spacer on the flexible film layer, and performing a patterning process thereon to form a charged columnar structure, thereby forming a touch substrate.
  • the spacer layer is a resin material in which the charged particles are uniformly distributed.
  • Step 503 placing an elastic film layer on the array substrate, and then arranging the array substrate and the touch substrate, so that the elastic film layer is disposed between the array substrate and the touch substrate, wherein the touch substrate
  • the surface on which the charged columnar structure is formed faces the surface on which the pixel electrode is formed on the array substrate, and the charged columnar structure on the touch substrate is in one-to-one correspondence with the pixel electrodes on the array substrate.
  • the flexible film layer is prepared by, for example, a deposition method.
  • the method further comprises: preparing a layer of the flexible conductive film on the flexible film layer, for example, by a deposition method, so as to shield the influence of the external electric field.
  • the method further includes: preparing a layer for flatness on a glass substrate on which the pixel unit is formed, for example, by a deposition method. Flattening layer.
  • the manufactured blind display panel includes an array substrate and a touch substrate disposed on the array substrate, so after the pixel electrodes on the array substrate are energized, based on the Coulomb
  • the force principle produces a Coulomb force between the charged columnar structure in the touch substrate and the pixel electrode in the array substrate.
  • the flexible film layer in the touch substrate is deformed to make the surface of the touch substrate uneven and form a Braille corresponding thereto, thereby enabling the blind person to read the text by touching the blind display device.
  • the blind display panel provided by the embodiment of the present invention achieves the purpose of enabling the blind person to read the text by touching the blind display panel, and solves the problem that the blind person cannot read the electronic book in the prior art.
  • the blind display panel and the manufacturing method thereof provided by the embodiments of the present invention can be applied to a display device suitable for blind people.
  • the patterning process referred to in the embodiments of the present invention includes photoresist coating, masking, exposure, development, etching, photoresist removal, etc., and the photoresist is made of a positive photoresist.
  • this is not a limitation of the invention.

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Business, Economics & Management (AREA)
  • Educational Administration (AREA)
  • Educational Technology (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Audiology, Speech & Language Pathology (AREA)
  • Human Computer Interaction (AREA)
  • Electrochromic Elements, Electrophoresis, Or Variable Reflection Or Absorption Elements (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

一种盲人显示面板及制造该盲人显示面板的方法及包括该盲人显示面板的盲人显示装置，该盲人显示面板包括：阵列基板（11），所述阵列基板（11）包括玻璃基板（111）以及在所述玻璃基板（111）上形成的彼此交叉的数据线和栅线（116），所述数据线和栅线（116）围设形成像素单元，每个所述像素单元包括像素电极（113）；触摸基板（12），所述触摸基板（12）包括柔性膜层（121）以及设置在所述柔性膜层（121）上的带电柱状结构（122）；以及设置在所述阵列基板（11）与触摸基板（12）之间的弹性膜层（13），其中所述触摸基板（12）上形成有带电柱状结构（122）的面朝向所述阵列基板（11）上形成有像素电极（113）的面，并且所述触摸基板（12）上的带电柱状结构（122）与所述阵列基板（11）上的像素电极（113）—一对应。

Description

盲人显示面板及其制造方法和盲人显示装置 技术领域
背景技术
随着电子书的发展和信息化的进步， 传统印刷的盲文书籍的种类和数量 已经渐渐跟不上盲人阅读的需求。 现有技术中， 一般的显示器只能提供给视 觉正常的用户使用， 对于视觉残疾人员由于其自身的障碍无法使用显示器。
目前急需一种可提供给盲人使用的盲人显示器， 以使得盲人能够通过该 盲人显示器阅读电子书。 发明内容
本发明的一个实施例提供了一种盲人显示面板， 其包括： 阵列基板， 所 述阵列基板包括玻璃基板以及在所述玻璃基板上形成的彼此交叉的数据线和 栅线， 所述数据线和所述栅线围设形成像素单元， 每个所述像素单元包括像 素电极； 触摸基板， 所述触摸基板包括柔性膜层以及设置在所述柔性膜层上 的带电柱状结构； 以及设置在所述阵列基板与触摸基板之间的弹性膜层， 其 中所述触摸基板上形成有带电柱状结构的面朝向所述阵列基板上形成有像素 电极的面 , 并且所述触摸基板上的带电柱状结构与所述阵列基板上的像素电 极——对应。
本发明的另一个实施例提供了一种盲人显示装置， 其包括上述盲人显示 面板。
本发明的另一个实施例还提供了一种盲人显示面板的制造方法，其包括： 在透明基板上形成彼此交叉的数据线和栅线， 所述数据线和所述栅线围设形 成像素单元， 每个所述像素单元包括像素电极， 以形成阵列基板； 在柔性膜 层上制备一层隔垫层， 并对所述隔垫层执行构图工艺而形成带电柱状结构， 以形成触摸基板； 以及对盒所述阵列基板和所述触摸基板， 其中， 所述阵列 基板和所述触摸基板之间设置有弹性膜层， 所述触摸基板上形成有带电柱状 结构的面朝向所述阵列基板上形成有像素电极的面， 并且所述触摸基板上的 带电柱状结构与所述阵列基板上的像素电极——对应。 附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案， 下面将对实施例的附图作 简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅涉及本发明的一些实施例， 而非对本发明的限制。
图 1为本发明实施例提供的盲人显示面板的结构示意图；
图 2为本发明又一实施例提供的盲人显示面板的结构示意图；
图 3为本发明实施例提供的盲人显示面板的制造方法的流程图； 图 4为图 3所示的盲人显示面板的制造方法中步骤 301的流程图； 图 5为本发明又一实施例提供的盲人显示面板的制造方法的流程图。 具体实施方式
为使本发明实施例的目的、 技术方案和优点更加清楚， 下面将结合本发 明实施例的附图，对本发明实施例的技术方案进行清楚、 完整地描述。显然， 所描述的实施例是本发明的一部分实施例， 而不是全部的实施例。 基于所描 述的本发明的实施例， 本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获 得的所有其他实施例， 都属于本发明保护的范围。
本发明实施例提供了一种盲人显示面板以及包括该盲人显示面板的盲人 显示装置， 以使盲人能够通过触摸来阅读电子书。 本发明实施例还提供了该 盲人显示面板的制造方法。
下面， 参照图 1说明本发明实施例提供的盲人显示面板。 图 1为本发明 实施例提供的盲人显示面板的结构示意图。 如图 1所示， 本发明实施例提供 的盲人显示面板包括阵列基板 11、 触摸基板 12以及设置在所述阵列基板 11 与所述触 12之间的弹性膜层 13。
在本实施例中， 所述阵列基板 11包括玻璃基板 111 , 该玻璃基板 111上 形成有多条数据线（未示出 )和多条栅线 116, 所述数据线和所述栅线 116 彼此交叉而围设形成多个像素单元。 每个像素单元包括薄膜晶体管 112和像 素电极 113。 薄膜晶体管 112作为像素单元的开关元件， 包括栅极 1121、 源 极 1122、 漏极 1123和有源层图案 1124。 薄膜晶体管是有源开关元件的一个 示例； 在本发明另一个实施例中， 该薄膜晶体管可以使用其他有源开关元件 替代。 或者， 本发明实施例的阵列基板的像素单元可以使用无源开关结构。 所述栅极 1121可以连接至所述栅线 116或者与所述栅线 116—体形成。绝缘 层 114形成在栅极 1121与有源层图案 1124之间。 钝化层 115覆盖在薄膜晶 体管 112上，并且在钝化层 115中形成有暴露薄膜晶体管 112的漏极 1123的 通孔。像素电极 113通过所述通孔而与漏极 1123电连接。在本发明的其它实 施例中， 玻璃基板 111还可以由石英基板、 塑料基板或其它透明基板代替。
在本实施例中，所述触摸基板 12包括柔性膜层 121以及设置在所述柔性 膜层 121上的带电柱状结构 122。所述触摸基板 12上形成有带电柱状结构 122 的面朝向所述阵列基板 11上形成由像素电极 113的面， 并且所述触摸基板 12上的带电柱状结构 122与所述阵列基板 11上的像素电极 113——对应。
在本实施例中，所述弹性膜层 13可以是橡胶、树脂等具有恢复功能的膜 层材料， 所述柔性膜层 121是具有弯曲功能的膜层材料。
如上所述， 本发明实施例提供的盲人显示面板包括阵列基板以及置于所 述阵列基板上的触摸基板， 因此在所述阵列基板上的像素电极通电之后， 基 于库仑力原理， 触摸基板中的带电柱状结构与阵列基板中的像素电极之间产 生库仑力。 在所述库仑力的作用下， 触摸基板中的柔性膜层产生形变， 以使 过触摸该盲人显示装置进行文字的阅读。 在所述阵列基板上的像素电极在通 电的前提下进行断电之后， 通过弹性膜层使发生形变的柔性膜层恢复为未发 生形变的状态 (初始状态），进而使得触摸基板上对应于断电像素电极的区域 恢复为该像素电极未通电时的状态。 通过这种方式， 本发明提供的盲人显示 面板实现了使盲人通过触摸盲人显示面板进行文字阅读的目的， 解决了现有 技术中盲人不能阅读电子书的问题。
下面， 参照图 2说明本发明又一实施例提供的盲人显示面板。 图 2为本 发明又一实施例提供的盲人显示面板的结构示意图。 如图 2所示， 本发明又 一实施例提供的盲人显示面板包括阵列基板 21、 触摸基板 22以及设置在所 述阵列基板 21与所述触摸基板 22之间的弹性膜层 23。 在本实施例中， 所述阵列基板 21包括玻璃基板 211 , 该玻璃基板 211上 形成有多条数据线（未示出 )和多条栅线 216; 所述数据线和所述栅线 216 彼此交叉而围设形成多个像素单元。 每个像素单元包括薄膜晶体管 212和像 素电极 213 , 其中， 薄膜晶体管 212包括栅极 2121、 源极 2122、 漏极 2123 和有源层图案 2124。 所述栅极 2131可以连接至所述栅线 216或者与所述栅 线 216—体形成。 绝缘层 214形成在栅极 2121与有源层图案 2124之间。 钝 化层 215覆盖在薄膜晶体管 212上， 并且在钝化层 215上形成有暴露薄膜晶 体管 212的漏极 2123的通孔。 像素电极 213通过所述通孔而与漏极 2123电 连接。 在本发明的其它实施例中， 玻璃基板 211还可以由石英基板、 塑料基 板或其它透明基板代替。
在本实施例中，所述触摸基板 22包括柔性膜层 221以及设置在所述柔性 膜层 221上的带电柱状结构 222。所述触摸基板 22上形成有带电柱状结构 222 的面朝向所述阵列基板 21上形成有像素电极 213的面， 并且所述触摸基板 22上的带电柱状结构 222与所述阵列基板 21上的像素电极 213——对应。
在本实施例中，所述弹性膜层 23可以是橡胶、树脂等具有恢复功能的膜 层材料， 所述柔性膜层 221是具有弯曲功能的膜层材料。
如上所述， 本发明实施例提供的盲人显示面板包括阵列基板以及置于所 述阵列基板上的触摸基板， 因此在所述阵列基板上的像素电极通电之后， 基 于库仑力原理， 触摸基板中的带电柱状结构与阵列基板中的像素电极之间产 生库仑力。 在所述库仑力的作用下， 触摸基板中的柔性膜层产生形变， 以使 过触摸该盲人显示装置进行文字的阅读。 在所述阵列基板上的像素电极在通 电的前提下进行断电之后， 通过弹性膜层使发生形变的柔性膜层恢复未发生 形变的状态， 进而使得触摸基板上对应于断电像素电极的区域恢复为该像素 电极未通电时的状态。 通过这种方式， 本发明又一实施例提供的盲人显示面 板实现了使盲人通过触摸盲人显示面板进行文字阅读的目的， 解决了现有技 术中盲人不能阅读电子书的问题。
在本实施例中，可以通过将所述弹性膜层 23形成在所述阵列基板 21上， 然后将阵列基板 21与触摸基板 22进行对盒而达到将所述弹性膜层 23设置在 所述阵列基板 21与所述触 板 22之间的目的。 在本发明的其它实施例中，可选的,在所述阵列基板 21与所述触摸基板 22进行对盒前， 可以通过将所述弹性膜层 23放置在所述阵列基板 21上， 然 后进行阵列基板 21与触摸基板 22的对盒来实现将弹性膜层 23设置在阵列基 板 21与触摸基板 22之间的目的。
在本实施例中， 进一步的， 为了保证所述阵列基板 21的平整性， 所述阵 列基板 21上还形成有用于平坦作用的平坦化层 24,所述平坦化层 24设置在 所述阵列基板 21与所述弹性膜层 23之间。 这样可以在现有技术的阵列基板 上进行简单的操作即可实现盲人显示面板的对盒。
在本实施例中，进一步的，为了保证所述触摸基板 22在发生形变时其凹 凸的高度均匀， 所述触摸基板 22还包括柔性导电膜层 223 , 该柔性导电膜层 223设置在所述柔性膜层 221与所述带电柱状结构 222之间。 这样能够屏蔽 外界电场的影响， 使得所述触摸基板 22仅仅根据阵列基板 21上的像素电极 213的电压发生形变。 该柔性导电膜层例如材料可以为氧化铟锡（ITO )、 氧 化铟辞 ΙΖΟ、 氧化铝辞（ΑΖΟ )、 氧化铟镓辞 ( IGZO )等。
下面， 通过对库仑力原理进行简单的介绍来进一步说明本发明实施例提 供的盲人显示面板能够以凹凸形式为盲人显示文字、 图像等的原理。
根据库仑定律， 在真空中两个静止的点电荷 ql及 q2之间的相互作用力 的大小和 qlq2的乘积成正比， 和它们之间的距离 r的平方成反比，作用力的 方向沿着它们的连线， 同号电荷相斥， 异号电荷相吸引。 因此， 对于静止的 两带电体， 其库仑力可通过以下公式（ 1 )表示：
Fl=kQlQ2/rA2 , k=8.9880xlOA9 ( 1 ) 其中 Ql 和 Q2 分别是两带电体的带电量， r是两带电体之间的距离， k是一个常数， F1是静止带电体之间的相互作用力。 带电体可看作是由许多 点电荷构成的， 每一对静止点电荷之间的相互作用力遵循库仑定律。
基于库仑力原理， 在给阵列基板的像素电极施加与带电柱状结构相同极 性的电压时， 触摸基板上的柔性膜层中与该像素电极对应的区域会发生凸起 形变， 在给阵列基板的像素电极施加与带电柱状结构相反极性的电压时， 触 摸基板上的柔性膜层中与该像素电极对应的区域会发生凹陷形变。 因此， 在 本发明实施例中， 通过对施加至阵列基板上的像素电极的电压进行控制以实 现触摸基板的凹凸形变， 使得盲人通过触摸盲人显示面板获取相应的信息， 如文字、 图像等。
本发明实施例还提供一种盲人显示装置， 包括图 1或图 2所示的盲人显 示面板， 其具体结构与上述实施例相同， 此处不再赘述。
本发明实施例提供的盲人显示装置包括盲人显示面板， 该盲人显示面板 包括阵列基板以及置于所述阵列基板上的触摸基板， 因此在所述阵列基板上 的像素电极通电之后， 基于库仑力原理， 触摸基板中的带电柱状结构与阵列 基板中的像素电极之间产生库仑力。 在所述库仑力的作用下， 触摸基板中的 文， 进而使得盲人能够通过触摸该盲人显示装置进行文字的阅读。 在所述阵 列基板上的像素电极在通电的前提下进行断电之后， 通过弹性膜层使发生形 变的柔性膜层恢复为未发生形变的状态 , 进而使得触摸基板上对应于断电像 素电极的区域恢复为该像素电极未通电时的状态。 通过这种方式， 本发明实 施例提供的盲人显示装置实现了使盲人通过触摸盲人显示面板进行文字阅读 的目的， 解决了现有技术中盲人不能阅读电子书的问题。
下面， 参照图 3和图 4说明本发明实施例提供的盲人显示面板的制造方 法。 图 3为本发明实施例提供的盲人显示面板的制造方法的流程图， 而图 4 为图 3所示的盲人显示面板的制造方法中步骤 301的流程图。 如图 3所示， 本发明实施例提供的盲人显示面板的制造方法包括：
步骤 301 , 在玻璃基板上形成多条数据线和多条栅线， 所述数据线和所 述栅线彼此交叉而围设形成多个像素单元， 每个像素单元包括薄膜晶体管和 像素电极， 从而形成阵列基板， 然后在阵列基板上形成（例如沉积）一层弹 性膜层。
步骤 302, 在柔性膜上形成（例如沉积）一层隔垫层， 并对其执行构图 工艺以形成带电柱状结构， 从而形成触摸基板。 在本实施例中， 例如， 所述 隔垫层为均勾分布有带电颗粒的树脂材料。
步骤 303 , 对盒所述阵列基板和所述触摸基板， 使得所述弹性膜层设置 在阵列基板和触摸基板之间 , 所述触摸基板上形成有带电柱状结构的面朝向 所述阵列基板上形成有像素电极的面， 所述触摸基板上的带电柱状结构与所 述阵列基板上的像素电极——对应。
下面， 参照图 4进一步详细说明步骤 301。 如图 4所示， 所述步骤 301 的一个示例包括：
步骤 3011 , 在具有栅图案和绝缘层的基板（例如， 玻璃基板）上例如通 过沉积方法制备有源层薄膜并对其执行构图工艺， 以形成有源层图案。
在步骤 3011中， 首先， 制备具有栅图案（包括栅极和栅线）的基板， 然 后可以通过例如化学气相沉积法在具有栅图案的基板上依次例如通过沉积方 法制备绝缘层薄膜和有源层薄膜。 所述绝缘层薄膜的厚度例如在 1000 埃 -6000埃之间， 所述有源层薄膜的厚度例如在 1000埃 -6000埃之间。 所述绝 缘层薄膜的材料通常是氮化硅， 也可以使用氧化硅或氮氧化硅等。 所述有源 层薄膜通常釆用非晶硅薄膜， 也可以使用多晶硅薄膜等。
接下来， 例如， 通过光刻工艺在有源层薄膜上形成光刻胶掩模， 然后对 所述有源层薄膜进行刻蚀（例如， 干法刻蚀）， 以形成有源层图案。 在所述刻 蚀期间，所述栅图案和有源层薄膜之间的绝缘层薄膜起到刻蚀停止层的作用。
在步骤 3011中，具有栅图案的基板的制备可以包括：在玻璃基板上形成 (例如沉积）一层栅金属薄膜并对其执行构图工艺， 以在玻璃基板的一定区 域上形成栅图案， 所述栅图案包括栅线以及与栅线相连的栅极。
在本发明实施例中， 可以釆用例如磁控溅射方法在玻璃基板上例如通过 沉积方法制备一层栅金属薄膜， 该栅金属薄膜的厚度例如在 1000埃 -7000埃 之间。 所述栅金属薄膜材料通常釆用钼、 铝、 铝镍合金、 钼钨合金、 铬、 或 铜等金属或合金， 也可以釆用上述几种材料薄膜的组合结构。
步骤 3012, 在具有栅图案、 绝缘层和有源层图案的基板上形成（例如沉 积）一层金属薄膜并对其执行构图工艺， 以形成数据线、 源极和漏极。
在步骤 3012中，通过例如溅射或热蒸发法制备金属薄膜。所述金属薄膜 的厚度例如在 1000埃 -7000埃之间。 所述金属薄膜材料通常釆用钼、 铝、 铝 镍合金、 钼钨合金、 铬、 或铜等金属或合金， 也可以釆用上述几种材料薄膜 的组合结构。 然后， 对所述金属薄膜执行构图工艺， 形成数据线、 源极和漏 极。
步骤 3013 , 在所述基板上形成（例如沉积）一层钝化层并且对其执行构 图工艺， 以形成周边引线的过孔以及在所述漏极上方形成过孔。
在步骤 3013中，可以通过例如化学气相沉积法沉积钝化层。所述钝化层 的厚度例如在 1000埃 -6000埃之间； 所述钝化层的材料例如是氮化硅、 氧化 硅或氮氧化硅， 并且可以是单层或多层。 在所述基板上沉积钝化层之后， 所 述栅极上面覆盖有绝缘层和钝化层， 并通过构图工艺形成周边引线的过孔和 漏极上方的过孔。
步骤 3014, 在所述基板上形成（例如沉积）一层透明导电薄膜并对其执 行构图工艺， 以形成像素电极。
在步骤 3014中，可以通过例如溅射或热蒸发法制备透明导电薄膜。所述 透明导电薄膜的材料可以为氧化铟锡（ITO )、 氧化铟辞（ΙΖΟ )或其它透明 导电材料。 然后， 通过构图工艺对透明导电薄膜进行构图， 形成像素电极。
步骤 3015,在形成有像素单元的基板上形成 (例如沉积）一层弹性膜层。 在步骤 3015中， 可以通过例如旋涂法制备弹性膜层。在本实施例中， 所 述弹性膜层 23可以是橡胶、 树脂等具有恢复功能的膜层材料。
在本发明实施例提供的盲人显示面板的制造方法中， 为了保证所述触摸 基板在与阵列基板对盒后只根据阵列基板上像素电极的电压发生形变， 在柔 性膜层上例如通过沉积方法制备一层隔垫层之前， 还可以包括： 在所述柔性 膜层上例如通过沉积方法制备一层柔性导电膜层， 这样能够屏蔽外界电场的 影响。
在本发明实施例提供的方法中， 为了保证阵列基板的平整性， 在阵列基 板上制备一层弹性膜层之前， 还可以包括： 在形成有像素单元的玻璃基板上 例如通过沉积方法制备一层用于平坦作用的平坦化层。
根据本发明实施例提供的盲人显示面板的制造方法， 制造得到的盲人显 示面板包括阵列基板以及置于所述阵列基板上的触摸基板， 因此在所述阵列 基板上的像素电极通电之后， 基于库仑力原理， 触摸基板中的带电柱状结构 与阵列基板中的像素电极之间产生库仑力。 在所述库仑力的作用下， 触摸基 板中的柔性膜层产生形变， 以使得触摸基板的表面凹凸不平而形成与其相对 应的盲文， 进而使得盲人能够触摸该盲人显示装置进行文字的阅读。 在所述 阵列基板上的像素电极在通电的前提下进行断电之后， 通过弹性膜层使发生 形变的柔性膜层恢复为未发生形变的状态， 进而使得触摸基板上对应于断电 像素电极的区域恢复为该像素电极未通电时的状态。 通过这种方式， 本发明 实施例提供的盲人显示面板实现了使盲人通过触摸盲人显示面板进行文字阅 读的目的， 解决了现有技术中盲人不能阅读电子书的问题。 下面，参照图 5说明本发明又一实施例提供的盲人显示面板的制造方法。 图 5为本发明又一实施例提供的盲人显示面板的制造方法的流程图。 如图 5 所示， 本发明又一实施例提供的盲人显示面板的制造方法包括：
步骤 501 , 在玻璃基板上形成多条数据线和多条栅线， 所述数据线和所 述栅线彼此交叉围设形成多个像素单元， 每个像素单元包括薄膜晶体管和像 素电极， 从而形成阵列基板。
在本实施例中， 所述步骤 501可以以与上述实施例中步骤 301包括的步 骤 3011-步骤 3014相同的方式执行， 此处不再赘述。
步骤 502, 在柔性膜层上形成（例如沉积）一层隔垫层， 并对其执行构 图工艺以形成带电柱状结构， 从而形成触摸基板。 在本实施例中， 所述隔垫 层为均勾分布有带电颗粒的树脂材料。
步骤 503 , 在所述阵列基板上放置一层弹性膜层， 然后对盒所述阵列基 板和所述触摸基板， 使得所述弹性膜层设置在阵列基板和触摸基板之间， 其 中所述触摸基板上形成有带电柱状结构的面朝向所述阵列基板上形成有像素 电极的面， 所述触摸基板上的带电柱状结构与所述阵列基板上的像素电极一 一对应。
在本发明实施例提供的盲人显示面板的制造方法中， 为了保证所述触摸 基板在与阵列基板对盒后只根据阵列基板上像素电极的电压发生形变， 在柔 性膜层上例如通过沉积方法制备一层隔垫层之前， 还可以包括： 在所述柔性 膜层上例如通过沉积方法制备一层柔性导电膜层， 这样能够屏蔽外界电场的 影响。
在本发明实施例提供的盲人显示面板的制造方法中， 为了保证所述阵列 基板的平整性， 还可以包括： 在形成有像素单元的玻璃基板上例如通过沉积 方法制备一层用于平坦作用的平坦化层。
根据本发明实施例提供的盲人显示面板的制造方法， 制造得到的盲人显 示面板包括阵列基板以及置于所述阵列基板上的触摸基板， 因此在所述阵列 基板上的像素电极通电之后， 基于库仑力原理， 触摸基板中的带电柱状结构 与阵列基板中的像素电极之间产生库仑力。 在所述库仑力的作用下， 触摸基 板中的柔性膜层产生形变， 以使得触摸基板的表面凹凸不平而形成与其相对 应的盲文， 进而使得盲人能够通过触摸该盲人显示装置进行文字的阅读。 在 所述阵列基板上的像素电极在通电的前提下进行断电之后， 通过弹性膜层使 发生形变的柔性膜层恢复为未发生形变的状态， 进而使得触摸基板上对应于 断电像素电极的区域恢复为该像素电极未通电时的状态。 通过这种方式， 本 发明实施例提供的盲人显示面板实现了使盲人通过触摸盲人显示面板进行文 字阅读的目的， 解决了现有技术中盲人不能阅读电子书的问题。
本发明实施例提供的盲人显示面板及其制造方法可以应用在盲人适用的 显示装置中。
需要说明的是， 本发明的实施例中所称的构图工艺包括光刻胶涂布、 掩 模、 曝光、 显影、 刻蚀、 光刻胶去除等工艺， 光刻胶以正性光刻胶为例， 但 是这并非对本发明的限制。
最后应说明的是： 以上实施例仅用以说明本发明的技术方案， 而非对其 限制； 尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明， 本领域的普通技术 人员应当理解： 其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改， 或 者对其中部分技术特征进行等同替换； 而这些修改或者替换， 并不使相应技 术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的精神和范围。

Claims

权利要求书
1、 一种盲人显示面板， 包括：
阵列基板， 所述阵列基板包括玻璃基板以及在所述玻璃基板上形成的彼 此交叉的数据线和栅线， 所述数据线和所述栅线围设形成像素单元， 每个所 述像素单元包括像素电极；
触摸基板， 所述触摸基板包括柔性膜层以及设置在所述柔性膜层上的带 电柱状结构； 以及
设置在所述阵列基板与触摸基板之间的弹性膜层，
其中所述触摸基板上形成有带电柱状结构的面朝向所述阵列基板上形成 有像素电极的面 , 并且所述触摸基板上的带电柱状结构与所述阵列基板上的 像素电极——对应。
2、根据权利要求 1所述的盲人显示面板， 其中， 所述弹性膜层形成在所 述阵列基板上。
3、根据权利要求 1所述的盲人显示面板， 其中， 所述弹性膜层放置在所 述阵列基板上。
4、根据权利要求 1所述的盲人显示面板，还包括形成在所述阵列基板上 的平坦化层， 所述平坦化层设置在所述阵列基板与所述弹性膜层之间。
5、根据权利要求 1所述的盲人显示面板， 其中， 所述触摸基板还包括柔 性导电膜层， 所述柔性导电膜层设置在所述柔性膜层与所述带电柱状结构之 间。
6、根据权利要求 1所述的盲人显示面板， 其中， 所述带电柱状结构由均 匀分布有带电颗粒的树脂材料形成。
7、 一种盲人显示装置， 包括盲人显示面板， 所述盲人显示面板包括： 阵列基板， 所述阵列基板包括玻璃基板以及在所述玻璃基板上形成的彼 此交叉的数据线和栅线， 所述数据线和所述栅线围设形成像素单元， 每个所 述像素单元包括像素电极；
触摸基板， 所述触摸基板包括柔性膜层以及设置在所述柔性膜层上的带 电柱状结构； 以及 设置在所述阵列基板与触摸基板之间的弹性膜层，
其中所述触摸基板上形成有带电柱状结构的面朝向所述阵列基板上形成 有像素电极的面 , 并且所述触摸基板上的带电柱状结构与所述阵列基板上的 像素电极——对应。
8、根据权利要求 7所述的盲人显示装置， 其中， 所述弹性膜层形成在所 述阵列基板上。
9、根据权利要求 7所述的盲人显示装置， 其中， 所述弹性膜层放置在所 述阵列基板上。
10、 根据权利要求 7所述的盲人显示装置， 还包括形成在所述阵列基板 上的平坦化层， 所述平坦化层设置在所述阵列基板与所述弹性膜层之间。
11、 根据权利要求 7所述的盲人显示装置， 其中， 所述触摸基板还包括 柔性导电膜层， 所述柔性导电膜层设置在所述柔性膜层与所述带电柱状结构 之间。
12、 根据权利要求 7所述的盲人显示装置， 其中， 所述带电柱状结构由 均匀分布有带电颗粒的树脂材料形成。
13、 一种盲人显示面板的制造方法， 包括：
在透明基板上形成彼此交叉的数据线和栅线， 所述数据线和所述栅线围 设形成像素单元， 每个所述像素单元包括像素电极， 以形成阵列基板； 在柔性膜层上制备一层隔垫层， 并对所述隔垫层执行构图工艺而形成带 电柱状结构， 以形成触摸基板； 以及
对盒所述阵列基板和所述触摸基板， 其中， 所述阵列基板和所述触摸基 板之间设置有弹性膜层， 所述触摸基板上形成有带电柱状结构的面朝向所述 阵列基板上形成有像素电极的面， 并且所述触摸基板上的带电柱状结构与所 述阵列基板上的像素电极——对应。
14、根据权利要求 13所述的盲人显示面板的制造方法，在形成所述阵列 基板之后， 并且在对盒所述阵列基板和所述触摸基板之前， 还包括：
在所述阵列基板上制备所述弹性膜层。
15、根据权利要求 13所述的盲人显示面板的制造方法，在形成所述阵列 基板之后， 并且在对盒所述阵列基板和所述触摸基板之前， 还包括： 在所述阵列基板上放置所述弹性膜层。
16、根据权利要求 13所述的盲人显示面板的制造方法， 其中， 所述隔垫 层由均勾分布有带电颗粒的树脂材料形成。
17、根据权利要求 13所述的盲人显示面板的制造方法， 其中， 在柔性膜 层上制备一层隔垫层之前， 还包括：
在所述柔性膜层上制备一层柔性导电膜层。
18、根据权利要求 14所述的盲人显示面板的制造方法， 其中， 在所述阵 列基板上制备一层弹性膜层之前， 还包括：
在形成有像素单元的所述透明基板上制备平坦化层。
PCT/CN2012/080796 2011-08-30 2012-08-30 盲人显示面板及其制造方法和盲人显示装置 Ceased WO2013029554A1 (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US13/702,111 US9244547B2 (en) 2011-08-30 2012-08-30 Display panel for the blind and method for manufacturing the same and display device for the blind

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201110253616.6 2011-08-30
CN201110253616.6A CN102654948B (zh) 2011-08-30 2011-08-30 盲人显示面板及其制造方法、盲人显示装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2013029554A1 true WO2013029554A1 (zh) 2013-03-07

Family

ID=46730570

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/CN2012/080796 Ceased WO2013029554A1 (zh) 2011-08-30 2012-08-30 盲人显示面板及其制造方法和盲人显示装置

Country Status (3)

Country Link
US (1) US9244547B2 (zh)
CN (1) CN102654948B (zh)
WO (1) WO2013029554A1 (zh)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9721242B2 (en) 2014-10-28 2017-08-01 Poynt Co. Payment terminal operation method and system therefor
CN104656305A (zh) * 2015-03-09 2015-05-27 京东方科技集团股份有限公司 一种彩膜显示层、显示面板及制备方法
JP6931065B2 (ja) 2016-10-03 2021-09-01 ポイント カンパニーＰｏｙｎｔ Ｃｏ． 障害のあるユーザ支援のためのシステムおよび方法
CN107067893B (zh) 2017-07-03 2019-08-13 京东方科技集团股份有限公司 一种盲文显示面板、盲文显示装置及盲文显示方法
CN110764648B (zh) * 2019-10-21 2024-05-14 京东方科技集团股份有限公司 盲文显示面板及其制造方法、装置、显示控制方法
CN111061094B (zh) * 2019-12-25 2021-07-06 Tcl华星光电技术有限公司 液晶显示装置及其制备方法
CN111243444A (zh) * 2020-03-19 2020-06-05 闻泰通讯股份有限公司 柔性显示面板、电子设备、控制方法及存储介质
CN114911348A (zh) * 2022-05-25 2022-08-16 维沃移动通信有限公司 触感增强机构、显示面板、电子设备和触感增强方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101183498A (zh) * 2006-11-15 2008-05-21 国际商业机器公司 辅助阅读装置、数据输出装置和用于设置数据格式的设备
US20080138774A1 (en) * 2006-12-07 2008-06-12 Electronics And Telecommunications Research Institute Braille display device using electrorheological fluid and manufacturing method thereof
JP2009031515A (ja) * 2007-07-26 2009-02-12 Tokai Rika Co Ltd 触覚情報伝達装置
CN101825967A (zh) * 2009-03-03 2010-09-08 斯凯佩布尔联合有限责任公司 弹性波触觉界面
CN101907922A (zh) * 2009-06-04 2010-12-08 智点科技（深圳）有限公司 一种触感触控系统
CN101958066A (zh) * 2009-07-17 2011-01-26 索尼公司 具有显示功能的凸起图案形成装置

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
IL137478A (en) * 1998-01-26 2005-11-20 Westerman Wayne Method and apparatus for integrating manual input
JP4329445B2 (ja) * 2003-08-04 2009-09-09 セイコーエプソン株式会社 電気光学装置並びに電子機器
CN1763976A (zh) * 2004-10-21 2006-04-26 精工爱普生株式会社 薄膜晶体管、电光学装置、以及电子仪器
KR100740041B1 (ko) 2005-06-30 2007-07-16 엘지.필립스 엘시디 주식회사 듀얼 컬럼 스페이서를 구비한 액정 패널 및 그 제조 방법
JP2007052368A (ja) * 2005-08-19 2007-03-01 Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd 液晶表示装置
KR101192783B1 (ko) * 2005-12-15 2012-10-18 엘지디스플레이 주식회사 액정표시장치 및 이의 제조방법
JP2009295725A (ja) * 2008-06-04 2009-12-17 Seiko Epson Corp 電気光学装置用基板の製造方法、電気光学装置用基板、電気光学装置及び電子機器
JP5571298B2 (ja) * 2008-08-07 2014-08-13 株式会社ジャパンディスプレイ 液晶表示装置
US20100097323A1 (en) * 2008-10-17 2010-04-22 Honeywell International Inc. Hydrogel-based tactile-feedback touch screen
JP2011095903A (ja) * 2009-10-28 2011-05-12 Applied Vacuum Coating Technologies Co Ltd タッチパッド構造

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101183498A (zh) * 2006-11-15 2008-05-21 国际商业机器公司 辅助阅读装置、数据输出装置和用于设置数据格式的设备
US20080138774A1 (en) * 2006-12-07 2008-06-12 Electronics And Telecommunications Research Institute Braille display device using electrorheological fluid and manufacturing method thereof
JP2009031515A (ja) * 2007-07-26 2009-02-12 Tokai Rika Co Ltd 触覚情報伝達装置
CN101825967A (zh) * 2009-03-03 2010-09-08 斯凯佩布尔联合有限责任公司 弹性波触觉界面
CN101907922A (zh) * 2009-06-04 2010-12-08 智点科技（深圳）有限公司 一种触感触控系统
CN101958066A (zh) * 2009-07-17 2011-01-26 索尼公司 具有显示功能的凸起图案形成装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN102654948B (zh) 2014-04-16
CN102654948A (zh) 2012-09-05
US9244547B2 (en) 2016-01-26
US20130147737A1 (en) 2013-06-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN103474434B (zh) 阵列基板、制备方法以及显示装置
CN101226901B (zh) 薄膜晶体管、薄膜晶体管基板及其制造方法
JP5847061B2 (ja) アレイ基板及びその製造方法
US8895987B2 (en) Array substrate for fringe field switching mode liquid crystal display device and method of fabricating the same
CN101539819B (zh) 显示面板及其制造方法
CN101261961B (zh) 薄膜晶体管基板的制造方法
KR102127781B1 (ko) 박막 트랜지스터 어레이 기판 및 그 제조 방법
US9244547B2 (en) Display panel for the blind and method for manufacturing the same and display device for the blind
CN103454817B (zh) 阵列基板及其制作方法、显示装置
TW200521597A (en) Method of fabricating thin film transistor array substrate
WO2014206035A1 (zh) 阵列基板及其制作方法、显示面板和显示装置
WO2013071800A1 (zh) 显示装置、薄膜晶体管、阵列基板及其制造方法
CN104134671A (zh) 薄膜晶体管阵列基板及其制造方法
CN101527307A (zh) 薄膜晶体管面板和所述薄膜晶体管面板的制造方法
WO2015089964A1 (zh) 薄膜晶体管及其制备方法、阵列基板及其制备方法、以及显示装置
CN103236440A (zh) 薄膜晶体管、阵列基板及其制造方法、显示装置
CN105655408A (zh) 薄膜晶体管、阵列基板及其制作和驱动方法、显示装置
WO2015096307A1 (zh) 氧化物薄膜晶体管、显示器件、及阵列基板的制造方法
CN106098706B (zh) 一种阵列基板及其制作方法、显示装置
WO2014146362A1 (zh) 阵列基板及其制备方法和显示面板
CN104133313A (zh) 阵列基板及其制备方法、液晶显示装置
WO2013143294A1 (zh) 阵列基板、其制作方法以及显示装置
CN104020621B (zh) 一种阵列基板及其制备方法、显示装置
CN101097924A (zh) 薄膜晶体管阵列基板及其制造方法
CN104409510A (zh) 薄膜晶体管及制备方法、阵列基板及制备方法、显示装置

Legal Events

Date Code Title Description
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 13702111

Country of ref document: US

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 12827044

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

32PN Ep: public notification in the ep bulletin as address of the adressee cannot be established

Free format text: COMMUNICATION NOT DELIVERED. NOTING OF LOSS OF RIGHTS PURSUANT TO RULE 112(1) EPC (EPO FORM 1205A DATED 10.07.2014)

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 12827044

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1