CN102654948A - 盲人显示面板及其制造方法 - Google Patents
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Abstract
本发明实施例公开一种盲人显示面板及其制造方法,涉及显示领域,解决了盲人不能阅读电子书的问题。本发明实施例提供的盲人显示面板,包括阵列基板,所述阵列基板包括玻璃基板,该玻璃基板上形成有横纵交叉的数据线和栅线;所述数据线和所述栅线围设形成像素单元,每个所述像素单元包括薄膜晶体管和像素电极;还包括触摸基板以及设置在所述阵列基板与触摸基板之间的弹性膜层,所述触摸基板包括柔性膜层以及设置在所述柔性膜层上的带电柱状结构,所述触摸基板上形成有带电柱状结构的面朝向所述阵列基板,所述触摸基板上的带电柱状结构与所述阵列基板上的像素电极一一对应。本发明实施例提供的盲人显示面板及其制造方法应用在盲人适用的显示装置中。
Description
技术领域
本发明涉及显示领域,尤其涉及一种盲人显示面板及其制造方法。
背景技术
随着电子书的发展和信息化的进步,传统印刷的盲文书籍种类和数量已经渐渐跟不上盲人阅读的需求。现有技术中,显示器只能提供给视觉正常的用户使用,对于广大的视觉残疾人员由于其自身的障碍无法使用显示器。
目前急需一种盲人显示器,以使得盲人通过该盲人显示器实现阅读电子书的目的。
发明内容
本发明实施例提供的盲人显示面板及其制造方法,用于解决盲人不能阅读电子书的问题。
为达到上述目的,本发明实施例采用如下技术方案:
一种盲人显示面板,包括阵列基板,所述阵列基板包括玻璃基板,该玻璃基板上形成有横纵交叉的数据线和栅线;所述数据线和所述栅线围设形成像素单元,每个所述像素单元包括薄膜晶体管和像素电极;还包括触摸基板以及设置在所述阵列基板与触摸基板之间的弹性膜层,所述触摸基板包括柔性膜层以及设置在所述柔性膜层上的带电柱状结构,所述触摸基板上形成有带电柱状结构的面朝向所述阵列基板,所述触摸基板上的带电柱状结构与所述阵列基板上的像素电极一一对应。
具体的,所述弹性膜层形成在所述阵列基板上。
可选的,所述弹性膜层放置在所述阵列基板上。
进一步的,为了保证所述阵列基板的平整性,所述阵列基板上形成有用于平坦作用的钝化层,所述钝化层设在所述阵列基板与所述弹性膜层之间。
进一步的,为了保证所述触摸基板在发生形变时,其凹凸的高度均匀,所述触摸基板还包括柔性导电膜层,该柔性导电膜层设置在所述柔性膜层与所述带电柱状结构之间,这样能够屏蔽外界电场的影响,使得所述触摸基板仅仅根据阵列基板上像素电极的电极发生形变。
一种盲人显示装置,包括上述的盲人显示面板。
一种触摸基板的制造方法,包括:在柔性膜层上沉积一层隔垫层,通过构图工艺形成带电柱状结构。
具体的,所述隔垫层为均匀分布有带电颗粒的树脂材料。
为了保证所述触摸基板在与阵列基板对盒后只根据阵列基板上像素电极的电极发生形变,所述在柔性膜层上沉积一层隔垫层之前,还包括:在所述柔性膜层上沉积一层柔性导电膜层,这样能够屏蔽外界电场的影响。
一种盲人显示面板的制造方法,包括:
制备阵列基板:在玻璃基板上形成横纵交叉的数据线和栅线,所述数据线和所述栅线围设形成像素单元,每个所述像素单元包括薄膜晶体管和像素电极;在形成有像素单元的玻璃基板上沉积一层弹性膜层;
制备触摸基板:在柔性膜层上沉积一层隔垫层,通过构图工艺形成带电柱状结构;
对盒工艺:对盒所述阵列基板和所述触摸基板,所述触摸基板上形成有带电柱状结构的面朝向所述阵列基板,所述触摸基板上的带电柱状结构与所述阵列基板上的像素电极一一对应。
具体的,所述隔垫层为均匀分布有带电颗粒的树脂材料。
进一步的,为了保证所述触摸基板在与阵列基板对盒后只根据阵列基板上像素电极的电极发生形变,所述在柔性膜层上沉积一层隔垫层之前,还包括:在所述柔性膜层上沉积一层柔性导电膜层,这样能够屏蔽外界电场的影响。
进一步的,为了保证所述阵列基板的平整性,所述在形成有像素单元的玻璃基板上沉积一层弹性膜层之前,还包括:在形成有像素单元的玻璃基板上沉积一层用于平坦作用的钝化层。
一种盲人显示面板的制造方法,包括:
制备阵列基板:在玻璃基板上形成横纵交叉的数据线和栅线,所述数据线和所述栅线围设形成像素单元,每个所述像素单元包括薄膜晶体管和像素电极;
制备触摸基板:在柔性膜层上沉积一层隔垫层,通过构图工艺形成带电柱状结构;
对盒工艺:对盒所述阵列基板和所述触摸基板,在所述阵列基板与所述触摸基板之间放置一层弹性膜层,所述触摸基板上形成有带电柱状结构的面朝向所述阵列基板,所述触摸基板上的带电柱状结构与所述阵列基板上的像素电极一一对应。
具体的,所述隔垫层为均匀分布有带电颗粒的树脂材料。
进一步的,为了保证所述触摸基板在与阵列基板对盒后只根据阵列基板上像素电极的电极发生形变,所述在柔性膜层上沉积一层隔垫层之前,还包括:在所述柔性膜层上沉积一层柔性导电膜层,这样能够所述屏蔽外界电场的影响。
进一步的,为了保证所述阵列基板的平整性,所述制备阵列基板,还包括:在形成有像素单元的玻璃基板上沉积一层用于平坦作用的钝化层。
本发明实施例提供的盲人显示面板及其制造方法,该盲人显示面板包括阵列基板以及置于所述阵列基板上的触摸基板,在所述阵列基板上的像素电极通电之后,基于库仑力原理,触摸基板中的带电柱状结构与阵列基板中像素电极之间产生库仑力导致触摸基板中的柔性膜层产生形变,以使得触摸基板的表面凹凸不平已形成与其相对应的盲文,进而使得盲人能够触摸该盲人显示装置进行文字的阅读,在所述阵列基板上的像素电极在通电的前提下进行断电之后,通过弹性膜层对发生形变的柔性膜层进行恢复,使得触摸基板上对应于断电像素电极的区域恢复为该像素电极未通电时的状态,实现了盲人触摸盲人显示面板进行文字阅读的目的,解决了现有技术中盲人不能阅读电子书的问题。
附图说明
图1为本发明实施例提供的盲人显示面板的结构示意图;
图2为本发明又一实施例提供的盲人显示面板的结构示意图;
图3为本发明实施例提供过的盲人显示面板的制造方法的流程图;
图4为图3所示的盲人显示面板的制造方法中步骤301的流程图;
图5为本发明又一实施例提供过的盲人显示面板的制造方法的流程图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
为了解决现有技术中盲人不能阅读电子书的问题,本发明实施例提供一种盲人显示面板及其制造方法。
如图1所示,本发明实施例提供的盲人显示面板,包括阵列基板11、触摸基板12以及设置在所述阵列基板11与所述触摸基板12之间的弹性膜层13。
所述阵列基板11包括玻璃基板111,该玻璃基板111上形成有横纵交叉的数据线和栅线;所述数据线和所述栅线围设形成像素单元,每个所述像素单元包括薄膜晶体管112和像素电极113,其中,薄膜晶体管112包括栅极1121、源极1122、漏极1123和有源层1124;所述栅极1121连接所述栅线。
所述触摸基板12包括柔性膜层121以及设置在所述柔性膜层121上的带电柱状结构122,所述触摸基板12上形成有带电柱状结构122的面朝向所述阵列基板11,所述触摸基板12上的带电柱状结构122与所述阵列基板11上的像素电极113一一对应。
本发明实施例提供的盲人显示面板,该盲人显示面板包括阵列基板以及置于所述阵列基板上的触摸基板,在所述阵列基板上的像素电极通电之后,基于库仑力原理,触摸基板中的带电柱状结构与阵列基板中像素电极之间产生库仑力导致触摸基板中的柔性膜层产生形变,以使得触摸基板的表面凹凸不平已形成与其相对应的盲文,进而使得盲人能够触摸该盲人显示装置进行文字的阅读,在所述阵列基板上的像素电极在通电的前提下进行断电之后,通过弹性膜层对发生形变的柔性膜层进行恢复,使得触摸基板上对应于断电像素电极的区域恢复为该像素电极未通电时的状态,实现了盲人触摸盲人显示面板进行文字阅读的目的,解决了现有技术中盲人不能阅读电子书的问题。
为了使本领域技术人员更好的理解本发明实施例提供的技术方案,本发明又一实施例提供的盲人显示面板进行详细的说明。
如图2所示,本发明又一实施例提供的盲人显示面板,包括的阵列基板21、触摸基板22以及设置在所述阵列基板21与所述触摸基板22之间的弹性膜层23。
所述阵列基板21包括玻璃基板211,该玻璃基板211上形成有横纵交叉的数据线和栅线;所述数据线和所述栅线围设形成像素单元,每个所述像素单元包括薄膜晶体管212和像素电极213,其中,薄膜晶体管212包括栅极2121、源极2122、漏极2123和有源层2124;所述栅极2131连接所述栅线。
所述触摸基板22包括柔性膜层221以及设置在所述柔性膜层221上的带电柱状结构222,所述触摸基板22上形成有带电柱状结构222的面朝向所述阵列基板21,所述触摸基板22上的带电柱状结构222与所述阵列基板21上的像素电极213一一对应。
具体的,所述弹性膜层可以是橡胶、树脂等具有恢复功能的膜层材料,所述柔性膜层是具有弯曲功能的膜层材料。
本发明实施例提供的盲人显示面板,该盲人显示面板包括阵列基板以及置于所述阵列基板上的触摸基板,在所述阵列基板上的像素电极通电之后,基于库仑力原理,触摸基板中的带电柱状结构与阵列基板中像素电极之间产生库仑力导致触摸基板中的柔性膜层产生形变,以使得触摸基板的表面凹凸不平已形成与其相对应的盲文,进而使得盲人能够触摸该盲人显示装置进行文字的阅读,在所述阵列基板上的像素电极在通电的前提下进行断电之后,通过弹性膜层对发生形变的柔性膜层进行恢复,使得触摸基板上对应于断电像素电极的区域恢复为该像素电极未通电时的状态,实现了盲人触摸盲人显示面板进行文字阅读的目的,解决了现有技术中盲人不能阅读电子书的问题。
在本实施例中,可以通过将所述弹性膜层23形成在所述阵列基板21上,阵列基板21与触摸基板22进行对盒达到将所述弹性膜层23设置在所述阵列基板21与所述触摸基板22之间的目的。
可选的,在所述阵列基板21与所述触摸基板22进行对盒前,可以通过将所述弹性膜层23放置在所述阵列基板21上,然后进行阵列基板21与触摸基板22的对盒来实现将弹性膜层23设置在阵列基板21与触摸基板22之间的目的。
进一步的,为了保证所述阵列基板21的平整性,所述阵列基板21上形成有用于平坦作用的钝化层24,所述钝化层24设在所述阵列基板21与所述弹性膜层23之间。这样可以在现有的阵列基板上进行简单的操作即可实现盲人显示面板的对盒。
进一步的,为了保证所述触摸基板22在发生形变时,其凹凸的高度均匀,所述触摸基板22还包括柔性导电膜层223,该柔性导电膜层223设置在所述柔性膜层221与所述带电柱状结构222之间,这样能够屏蔽外界电场的影响,使得所述触摸基板22仅仅根据阵列基板21上像素电极的电极发生形变。
为了便于本领域技术人员对本发明提供过的又一实施例更好的理解,现对库仑力原理进行简单的介绍:
在真空中两个静止的点电荷q1及q2之间的相互作用力的大小和q1q2的乘积成正比,和它们之间的距离r的平方成反比,作用力的方向沿着它们的连线,同号电荷相斥,异号电荷相吸引。
库伦力公式F1=kQ1Q2/r^2,k=8.9880x10^9
其中Q1和Q2是两物体的个别的带电量,r是两物体间的距离,k是一个常数,F1是静止带电体之间的相互作用力。带电体可看作是由许多点电荷构成的,每一对静止点电荷之间的相互作用力遵循库仑定律。
基于库仑力原理,在给阵列基板的像素电极加与带电柱状结构相同的电极时,触摸基板上的柔性膜层中与该像素电极对应的区域会发生凸起形变,在给阵列基板的像素电极加与带电柱状结构相反的电极时,触摸基板上的柔性膜层中与该像素电极对应的区域会发生凹陷形变,通过对阵列基板上像素电极的电极控制以实现触摸基板的凹凸形变,使得盲人通过触摸盲人显示面板获取相应的信息,如文字、图像等。
本发明实施例提供的盲人显示装置,包括图1-图2所示的盲人显示面板,其具体结构与上述实施例相同,此处不再赘述。
本发明实施例提供的盲人显示装置,该盲人显示装置包括盲人显示面板,该盲人显示面板包括阵列基板以及置于所述阵列基板上的触摸基板,在所述阵列基板上的像素电极通电之后,基于库仑力原理,触摸基板中的带电柱状结构与阵列基板中像素电极之间产生库仑力导致触摸基板中的柔性膜层产生形变,以使得触摸基板的表面凹凸不平已形成与其相对应的盲文,进而使得盲人能够触摸该盲人显示装置进行文字的阅读,在所述阵列基板上的像素电极在通电的前提下进行断电之后,通过弹性膜层对发生形变的柔性膜层进行恢复,使得触摸基板上对应于断电像素电极的区域恢复为该像素电极未通电时的状态,实现了盲人触摸盲人显示面板进行文字阅读的目的,解决了现有技术中盲人不能阅读电子书的问题。
如图3所示,本发明实施例提供过的盲人显示面板的制造方法,包括:
步骤301,制备阵列基板:在玻璃基板上形成横纵交叉的数据线和栅线,所述数据线和所述栅线围设形成像素单元,每个所述像素单元包括薄膜晶体管和像素电极,在形成有像素单元的玻璃基板上沉积一层弹性膜层。
具体的,如图4所示,所述步骤301,包括:
步骤3011,在具有栅图案和绝缘层的基板上沉积有源层薄膜,通过掩膜构图工艺形成有源层图案。
所述步骤3011的具体实现方式为:利用化学气相沉积法在具有栅图案的基板上依次沉积绝缘层薄膜和有源层薄膜,所述绝缘层薄膜的厚度在1000埃-6000埃之间,所述有源层薄膜的厚度在1000埃-6000埃之间。所述绝缘层薄膜的材料通常是氮化硅,也可以使用氧化硅和氮氧化硅等。所述有源层薄膜通常采用非晶硅薄膜。
在本实施例中用有源层的掩模版对所述有源层薄膜进行曝光后进行干法刻蚀,形成有源层图案,而所述栅图案和非晶硅之间的绝缘层薄膜起到阻挡刻蚀的作用。
值得说明的是,在步骤3011中,具有栅图案的基板可以通过以下实施方式实现:
在玻璃基板上制备一层栅金属薄膜,通过掩膜构图工艺在玻璃基板的一定区域上形成栅图案,所述栅图案包括栅极扫描线以及与栅极扫描线相连的栅极。
在本实施方式中,采用磁控溅射方法在玻璃基板上制备一层栅金属薄膜,该栅金属薄膜的厚度在1000埃-7000埃之间。所述栅金属薄膜材料通常采用钼、铝、铝镍合金、钼钨合金、铬、或铜等金属,也可以采用上述几种材料薄膜的组合结构。
步骤3012,在具有栅图案、绝缘层和有源层图案的基板上沉积一层金属薄膜,通过掩膜构图工艺形成数据扫描线、源极和漏极。
在步骤3012中,金属薄膜的厚度在1000埃-7000埃之间。所述金属薄膜材料通常采用钼、铝、铝镍合金、钼钨合金、铬、或铜等金属,也可以采用上述几种材料薄膜的组合结构。
步骤3013,在所述基板上沉积一层钝化层,通过掩膜构图工艺形成周边引线的过孔以及在所述漏极上方形成过孔。
在所述步骤3013中,所述钝化层的厚度在1000埃-6000埃之间,所述钝化层的材料通常是氮化硅或二氧化硅。在所述基板上沉积一层钝化层之后,所述栅极扫描线上面覆盖绝缘层和钝化层,并通过掩膜构图工艺形成周边引线的过孔和漏极上方的过孔。
步骤3014,在所述基板上沉积一层透明导电薄膜,通过掩膜构图工艺形成像素电极。
步骤3015,在在形成有像素单元的玻璃基板上沉积一层弹性膜层。
步骤302,制备触摸基板:在柔性膜上沉积一层隔垫层,通过构图工艺形成带电柱状结构。
在本实施例中,所述隔垫层为均匀分布有带电颗粒的树脂材料。
步骤303,对盒工艺:对盒所述阵列基板和所述触摸基板,所述触摸基板上形成有带电柱状结的面朝向所述阵列基板,所述触摸基板上的带电柱状结构与所述阵列基板上的像素电极一一对应。
进一步的,为了保证所述触摸基板在与阵列基板对盒后只根据阵列基板上像素电极的电极发生形变,所述在柔性膜层上沉积一层隔垫层之前,还包括:在所述柔性膜层上沉积一层柔性导电膜层,这样能够所述屏蔽外界电场的影响。
进一步的,为了保证所述阵列基板的平整性,所述在形成有像素单元的玻璃基板上沉积一层弹性膜层之前,还包括:在形成有像素单元的玻璃基板上沉积一层用于平坦作用的钝化层。
本发明实施例提供的盲人显示面板的制造方法,制造得到的盲人显示面板包括阵列基板以及置于所述阵列基板上的触摸基板,在所述阵列基板上的像素电极通电之后,基于库仑力原理,触摸基板中的带电柱状结构与阵列基板中像素电极之间产生库仑力导致触摸基板中的柔性膜层产生形变,以使得触摸基板的表面凹凸不平已形成与其相对应的盲文,进而使得盲人能够触摸该盲人显示装置进行文字的阅读,在所述阵列基板上的像素电极在通电的前提下进行断电之后,通过弹性膜层对发生形变的柔性膜层进行恢复,使得触摸基板上对应于断电像素电极的区域恢复为该像素电极未通电时的状态,实现了盲人触摸盲人显示面板进行文字阅读的目的,解决了现有技术中盲人不能阅读电子书的问题。
如图5所示,本发明又一实施例提供过的盲人显示面板的制造方法,包括:
步骤501,制备阵列基板:在玻璃基板上形成横纵交叉的数据线和栅线,所述数据线和所述栅线围设形成像素单元,每个所述像素单元包括薄膜晶体管和像素电极。
在本实施例中,所述步骤501的具体实现方式与上述实施例中步骤301包括的步骤3011-步骤3014相同,此处不再赘述。
步骤502,制备触摸基板:在柔性膜层上沉积一层隔垫层,通过构图工艺形成带电柱状结构。
在本实施例中,所述隔垫层为均匀分布有带电颗粒的树脂材料。
步骤503,对盒工艺:对盒所述阵列基板和所述触摸基板,在所述阵列基板与所述触摸基板之间放置一层弹性膜层,所述触摸基板上形成有带电柱状结构的面朝向所述阵列基板,所述触摸基板上的带电柱状结构与所述阵列基板上的像素电极一一对应。
进一步的,为了保证所述触摸基板在与阵列基板对盒后只根据阵列基板上像素电极的电极发生形变,所述在柔性膜层上沉积一层隔垫层之前,还包括:在所述柔性膜层上沉积一层柔性导电膜层,这样能够所述屏蔽外界电场的影响。
进一步的,为了保证所述阵列基板的平整性,所述制备阵列基板,还包括:在形成有像素单元的玻璃基板上沉积一层用于平坦作用的钝化层。
本发明实施例提供的盲人显示面板的制造方法,制造得到的盲人显示面板包括阵列基板以及置于所述阵列基板上的触摸基板,在所述阵列基板上的像素电极通电之后,基于库仑力原理,触摸基板中的带电柱状结构与阵列基板中像素电极之间产生库仑力导致触摸基板中的柔性膜层产生形变,以使得触摸基板的表面凹凸不平已形成与其相对应的盲文,进而使得盲人能够触摸该盲人显示装置进行文字的阅读,在所述阵列基板上的像素电极在通电的前提下进行断电之后,通过弹性膜层对发生形变的柔性膜层进行恢复,使得触摸基板上对应于断电像素电极的区域恢复为该像素电极未通电时的状态,实现了盲人触摸盲人显示面板进行文字阅读的目的,解决了现有技术中盲人不能阅读电子书的问题。
本发明实施例提供的盲人显示面板及其制造方法应用在盲人适用的显示装置中。
以上所述,仅为本发明的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,可轻易想到变化或替换,都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此,本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。
Claims (14)
1.一种盲人显示面板,包括阵列基板,所述阵列基板包括玻璃基板,该玻璃基板上形成有横纵交叉的数据线和栅线;所述数据线和所述栅线围设形成像素单元,每个所述像素单元包括薄膜晶体管和像素电极;其特征在于,还包括触摸基板以及设置在所述阵列基板与触摸基板之间的弹性膜层,所述触摸基板包括柔性膜层以及设置在所述柔性膜层上的带电柱状结构,所述触摸基板上形成有带电柱状结构的面朝向所述阵列基板,所述触摸基板上的带电柱状结构与所述阵列基板上的像素电极一一对应。
2.根据权利要求1所述的盲人显示面板,其特征在于,所述弹性膜层形成在所述阵列基板上。
3.根据权利要求1所述的盲人显示面板,其特征在于,所述弹性膜层放置在所述阵列基板上。
4.根据权利要求1-3任一项所述的盲人显示器,其特征在于,所述阵列基板上形成有用于平坦作用的钝化层,所述钝化层设在所述阵列基板与所述弹性膜层之间。
5.根据权利要求1-3任一项所述的盲人显示面板,其特征在于,所述触摸基板还包括柔性导电膜层,该柔性导电膜层设置在所述柔性膜层与所述带电柱状结构之间。
6.一种盲人显示装置,其特征在于,包括权利要求1-5任一项所述的盲人显示面板。
7.一种盲人显示面板的制造方法,包括:
制备阵列基板:在玻璃基板上形成横纵交叉的数据线和栅线,所述数据线和所述栅线围设形成像素单元,每个所述像素单元包括薄膜晶体管和像素电极;
其特征在于,所述制备阵列基板,还包括:
在形成有像素单元的玻璃基板上沉积一层弹性膜层;
该方法,还包括:
制备触摸基板:在柔性膜层上沉积一层隔垫层,通过构图工艺形成带电柱状结构;
对盒工艺:对盒所述阵列基板和所述触摸基板,所述触摸基板上形成有带电柱状结构的面朝向所述阵列基板,所述触摸基板上的带电柱状结构与所述阵列基板上的像素电极一一对应。
8.根据权利要求7所述的制造方法,其特征在于,所述隔垫层为均匀分布有带电颗粒的树脂材料。
9.根据权利要求7所述的制造方法,其特征在于,所述在柔性膜层上沉积一层隔垫层之前,还包括:在所述柔性膜层上沉积一层柔性导电膜层。
10.根据权利要求7-9任一项所述的制造方法,其特征在于,所述在形成有像素单元的玻璃基板上沉积一层弹性膜层之前,还包括:
在形成有像素单元的玻璃基板上沉积一层用于平坦作用的钝化层。
11.一种盲人显示面板的制造方法,包括:
制备阵列基板:在玻璃基板上形成横纵交叉的数据线和栅线,所述数据线和所述栅线围设形成像素单元,每个所述像素单元包括薄膜晶体管和像素电极;
其特征在于,还包括:
制备触摸基板:在柔性膜层上沉积一层隔垫层,通过构图工艺形成带电柱状结构;
对盒工艺:对盒所述阵列基板和所述触摸基板,在所述阵列基板与所述触摸基板之间放置一层弹性膜层,所述触摸基板上形成有带电柱状结构的面朝向所述阵列基板,所述触摸基板上的带电柱状结构与所述阵列基板上的像素电极一一对应。
12.根据权利要求11所述的制造方法,其特征在于,所述隔垫层为均匀分布有带电颗粒的树脂材料。
13.根据权利要求11所述的制造方法,其特征在于,所述在柔性膜层上沉积一层隔垫层之前,还包括:在所述柔性膜层上沉积一层柔性导电膜层。
14.根据权利要求11-13任一项所述的制造方法,其特征在于,所述制备阵列基板,还包括:
在形成有像素单元的玻璃基板上沉积一层用于平坦作用的钝化层。
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