WO2012172720A1 - 荷電粒子線装置 - Google Patents

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electrode
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裕子 笹氣
伊藤　博之
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Hitachi High Technologies Corp
Hitachi High Tech Corp
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Definitions

  • the present invention relates to a charged particle beam apparatus, and more particularly to a charged particle beam apparatus that can selectively detect charged particles having specific energy through an energy filter.
  • a scanning electron microscope one of charged particle beam devices, emits secondary electrons from a sample by scanning a finely focused electron beam against a fine object.
  • SEM scanning electron microscope
  • the SEM energy filter is composed of a plurality of electrodes, and selectively forms electrons having a specific energy by forming an electric field that restricts the passage of secondary electrons emitted from the sample between the plurality of electrodes. Used to detect.
  • Patent Document 1 describes that electrons emitted from a sample are separated from the optical axis by a Wien filter, and the electrons are guided to a detector via an energy filter.
  • Patent Document 2 discloses a scanning electron microscope that realizes high-efficiency detection of secondary electrons by providing a focusing element that focuses the trajectory of electrons emitted from a sample and correcting the trajectory.
  • Patent Document 3 discloses a deceleration field electrode device that forms a potential barrier in an objective lens for decelerating particles emitted from a sample.
  • the energy filter is for selectively passing electrons having energy of a predetermined value or more, and for acquiring specific signal information possessed by electrons having a specific energy or a specific energy width. is there.
  • BSE Backscattered Electron
  • SE Secondary Electron
  • the energy filter is usually composed of a plurality of mesh electrodes provided with a plurality of openings that allow passage of electrons, but the energy resolution of the energy filter varies depending on the incident direction. It became clear by examination of those.
  • the plate-like mesh electrode constituting the energy filter when comparing electrons incident from a direction close to the vertical direction of the plate-like surface of the plate-like body and electrons incident from an acute angle direction to the plate-like surface, The latter electrons enter from an oblique direction with respect to the equipotential surface of the electric field formed by the energy filter.
  • the energy resolution of the energy filter may vary due to such a difference in incident direction.
  • the energy resolution is an index indicating variation in actual performance of the energy filter with respect to the setting condition of the energy filter. For example, if the maximum value of the energy of electrons actually passing through the energy filter is Vf + ⁇ with respect to the energy filter potential Vf, the energy filter passes extra electrons by + ⁇ . On the other hand, if it is Vf- ⁇ , it means that the electrons that should originally pass are not passed.
  • Patent Documents 1 to 3 do not explain any method for improving the energy resolution of such an energy filter.
  • a charged particle beam that detects a signal that can be defined as an evaluation index of energy resolution of an energy filter by changing a condition of an optical element that changes an incident direction of the charged particle to the energy filter. Propose the device.
  • a charged particle beam apparatus including a deflector that deflects charged particles emitted from a sample toward an energy filter
  • the energy filter is supplied to each of the plurality of deflection conditions of the deflector.
  • a charged particle beam apparatus is proposed in which a change in luminance value obtained when the applied voltage is changed and a deflection condition that satisfies the predetermined condition is set as the deflection condition of the deflector.
  • the figure which shows the outline of a charged particle beam apparatus The figure which shows the detail of a signal detection system.
  • the figure which shows the detail of a signal detection system The figure which shows the detail of the signal detection system using a reflecting plate.
  • orbit of the signal which passes an annular electrode The figure which shows the track
  • the flowchart which shows the process of setting the deflection
  • the flowchart which shows the process of calculating the brightness
  • the flowchart which shows the process of selecting the applied voltage to a focusing electrode by calculating
  • the following description relates to a charged particle beam apparatus, and more particularly to an apparatus for discriminating information obtained based on irradiation of a charged particle beam.
  • the charged particle beam device includes a scanning electron microscope (SEM) and a focused ion beam (FIB) device.
  • SEM scanning electron microscope
  • FIB focused ion beam
  • SEM is a measurement electron microscope (Critical Dimension-SEM: CD-SEM) and defects, foreign matter, or length measurement value abnormal patterns obtained by an upstream inspection device.
  • CD-SEM measurement electron microscope
  • view SEM review electron microscope
  • An energy filter is a device that selectively extracts such effective information.
  • the energy filter is a device that selectively passes charged particles emitted from a sample having specific energy. For example, when detecting charged particles having a desired energy, an energy filter lower than the energy is used. It is a device that generates an electric field for limiting the passage of charged particles.
  • the energy filter is constituted by, for example, a plurality of mesh electrodes, and forms a desired electric field by controlling the voltage applied to the electrodes.
  • the performance of such an energy filter varies depending on the incident direction of charged particles. That is, if the incident direction can be set appropriately, high performance can be exhibited.
  • the performance here refers to energy resolution.
  • the energy filter is an apparatus that discriminates incident electrons by forming an electric field that repels the electrons to be incident on the electrons.
  • the energy of electrons to be filtered may change. For example, electrons incident from an acute angle with respect to the equipotential surface are deflected from a direction different from the incident direction, and therefore pass through the energy filter compared to electrons incident perpendicular to the equipotential surface.
  • the upper limit of the energy of electrons that can be reduced.
  • FIG. 22 is a diagram illustrating an example of a graph in which the horizontal axis indicates the voltage applied to the energy filter, and the vertical axis indicates the luminance of the beam irradiation unit.
  • the electrons incident on the energy filter from the first direction are represented by triangles.
  • the electrons incident on the energy filter from the second direction are represented by circles.
  • the amount of change in Vf causing a luminance change between two luminance thresholds (Th (u) and Th (l)) is such that the electrons in the first direction are ⁇ Vf 1 , and the second direction Of the electron is ⁇ Vf 2 . That is, in the example of FIG. 22, electrons that are incident from the first direction are subjected to energy filtering with higher energy resolution than electrons that are incident from the second direction. As described above, by finding the apparatus condition that reduces ⁇ Vf, it is possible to find an energy filter condition with high energy resolution that can clearly separate electrons to be incident and electrons to be limited in incidence.
  • FIG. 1 is a diagram showing an outline of an SEM that is an example of a charged particle beam apparatus.
  • a scanning electron microscope will be described as an example.
  • the present invention is not limited to this, and the embodiments introduced below can be applied to other charged particle beam apparatuses.
  • a shield is arranged so that the attraction electric field of the detector does not affect the primary beam
  • a configuration in which a plurality of shields are stacked and a voltage is applied to one of the shields to discriminate according to a signal having a certain energy from the sample and an emission angle from the sample, or other energy discrimination A suitable charged particle beam apparatus will be described.
  • the electron gun 1 includes an electron source 2, an extraction electrode 3, and an acceleration electrode 4.
  • An extraction voltage V 1 is applied between the electron source 2 and the extraction electrode 3, whereby the electron beam 36 is extracted from the electron source 2.
  • the acceleration electrode 4 is maintained at a ground potential, and an acceleration voltage V 0 is applied between the acceleration electrode 4 and the electron source 2. Therefore, the electron beam 36 is accelerated by this acceleration voltage V0.
  • the unnecessary electron beam 36 is removed by the aperture 15 and focused by the focusing lens 7 and the focusing lens 8 connected to the lens control power source 5. Further, the light is focused on a sample 13 such as a semiconductor wafer on the sample stage 12 by the objective lens 9.
  • the sample stage 12 can be moved at least horizontally by the stage driving device 23.
  • the sample 13 is irradiated with a focused electron beam 36 and scanned by deflectors 16 a and 16 b connected to a scanning signal generator 24.
  • the astigmatism corrector 40 is controlled by the astigmatism correction controller 45.
  • An information signal 33 (secondary electrons and / or backscattered electrons, etc.) emitted from the sample 13 by irradiation with the electron beam 36 is deflected by the orthogonal electromagnetic deflector 20 and detected by the detector 21.
  • the detected information signal 33 is used as a luminance modulation signal of an image display device 32 such as a CRT, so that an enlarged image of the sample 13 is displayed on the image display device 32.
  • the above configuration is housed in a vacuum vessel suitable for irradiating an electron beam.
  • the lens control power source 5, the scanning signal generator 24, and the astigmatism correction control unit 41 are connected to the control unit 31.
  • the orthogonal electromagnetic field deflector 20 is controlled by the orthogonal electromagnetic field control unit 50 in accordance with an instruction from the control unit 31.
  • the orthogonal electromagnetic field deflector 20 includes an electrode for generating an electric field for deflecting the information signal 33 toward the detector 21 and a magnetic pole for generating a magnetic field so as to be orthogonal to the electric field.
  • the beam is deflected so as to cancel out the beam deflecting action due to.
  • FIG. 2 shows an example in detail from the orthogonal electromagnetic deflector 20 to the detector 21.
  • the electrode 17 for shielding the electron beam 36 from the influence of the electric field generated by the voltage applied by the electric field controller 6 of the detector 21 is disposed.
  • the electrode 17 has a conical shape to be rotated, and has a mesh shape so that the information signal 33 can easily pass through.
  • the information signal 33 is deflected by the orthogonal electromagnetic deflector 20 so that the information signal 33 can be directly detected by the detector 21. However, the amount of deflection of the information signal 33 may be reduced in order to reduce the influence of the aberration generated when the information signal 33 is deflected.
  • the information signal 33 is once applied to the electrode (reflecting plate) 18 used as a reflecting plate, and the second information signal 34 generated from the electrode (reflecting plate) 18 is supplied to the detector 21. It is also possible to guide to the detector 21 with an attractive electric field.
  • the electrode 17 is disposed so as to be in close proximity to or in contact with the electrode (reflecting plate) 18, so that the electric field from the detector 21 does not easily leak into the optical axis 43, that is, the electron beam 36 is applied to the electric field of the detector 21. It becomes difficult to be affected. Therefore, the electron beam 36 can suppress the occurrence of axial deviation and aberration.
  • the electrode 17 is at ground potential, but as shown in FIG. 4, it is also possible to apply a voltage to the electrode 17 to filter only a certain signal among the information signals 33 from the sample 13.
  • the information signal 33 generated from the sample 13 is filtered with respect to energy that is not desired to be detected, so that the information signal 33 can be discriminated, and only the information signal 33 having the energy that is desired to be extracted.
  • an image can be formed.
  • the voltage applied to the electrode 17 is varied while scanning the sample 13 with the deflector 16, images formed with different energies can be acquired.
  • the voltage applied to the electrode 17 is controlled by the control unit 22 via the voltage control unit 19.
  • the control unit 22 controls the voltage control unit 19 by linking to the variable deceleration power source 14 that controls the voltage applied to the sample 13. For example, if the voltage applied to the sample 13 is Vr and the energy of the information signal 33 to be filtered is e, the voltage Vt applied to the electrode 17 is controlled by the following equation (1).
  • the voltage Vt applied to the electrode 17 may be set to 1.1 kV.
  • FIG. 5 shows an example in which the information signal 33 is irradiated to the electrode (reflecting plate) 18 and the second information signal 34 generated from the electrode 18 is detected by the detector 21.
  • the control is the same as in FIG.
  • FIG. 6 shows an example in which a plurality of electrodes 17 are formed.
  • FIG. 6 shows a case of three sheets.
  • the electrode 17 is basically a composite electrode sandwiched between an electrode 25 and an electrode 26 that are at ground potential.
  • the electric field of the electrode 17 is suppressed by the electrode 25 and the electrode 26 which are the ground potential. Therefore, the problem that occurs when the electric field of the electrode 17 is strong can be solved. For example, when the electric field is strong, a lens action that cannot be ignored occurs, and the aberration of the primary beam becomes a problem that the beam is blurred. Moreover, it interferes with the attraction
  • FIG. 7 shows an example in which the detector 21 directly detects the information signal 33 that has passed through the composite electrode without irradiating the electrode 18.
  • the information signal 33 passing through the composite electrode undergoes a lens action within the electrode, and its trajectory changes depending on the energy of the information signal 33 and the incident angle on the electrode 17. That is, the information signal 33 is irradiated with a spread when it is applied to the electrode (reflector) 18.
  • the irradiation area 44 varies greatly depending on the energy of the information signal 33 and the voltage applied to the electrode 17.
  • the second information signal 34 generated from the electrode (reflecting plate) 18 is also emitted with various angles and energies, if the irradiation area 44 is large, all the second information generated from the irradiation area 44 is generated. It becomes difficult to detect the signal 34 with the detector 21. Therefore, a method of directly detecting the information signal 33 without irradiating the electrode (reflector) 18 as shown in FIG. 7 is effective.
  • FIG. 9 shows a conical shape of the electrode (reflecting plate) 18 so that the attraction electric field of the detector 21 is uniform. This shape can be applied to both the case where the information signal 34 is indirectly detected using the electrode 18 and the case where the information signal 33 is directly detected.
  • FIG. 10 includes a plurality of rings with the electrode 17 in a ring shape, and the information signal 33 from the sample 13 can be discriminated by applying a voltage to each ring.
  • FIG. 11 shows an example of a plurality of annular electrodes 17. For example, in FIG. 11, there are six rings, and the applied voltage is controlled by voltage controllers a to f in each ring. In one example, a voltage that filters the energy information signal 33 in the voltage control units 19a, 19b, 19e, and 19f is applied, and the voltage control units 19c and 19d have a voltage that allows the information signal 33 to pass through or a ground potential.
  • the information signal 33 since the information signal 33 has a different trajectory depending on the emission angle from the sample 13, the information signal 33 can be discriminated by the difference in the trajectory as long as the configuration is as shown in FIG.
  • the information signal 33 from the sample 13 spreads widely and enters the electrode 17, it is also possible to detect by providing a plurality of detectors 21. For example, it is possible to discriminate the information signal 33 emitted from the sample 13 by the electrode 17 without operating the orthogonal electromagnetic deflector 20, and in this case, the occurrence of aberrations when the orthogonal electromagnetic deflector 20 is operated. Therefore, signal discrimination can be performed with high resolution. Although not shown in the figure, it is also effective to directly detect the information signal 33 as shown in FIG.
  • FIG. 13 shows a configuration example in which the information signal 34 generated from the electrode 18 is made efficient by inclining the electrode (reflecting plate) 18 and further providing the detector 21 with an angle.
  • the cross-sectional shape of the energy filter illustrated in FIG. 2 and the like (the shape seen from the vertical direction of the electron beam path) is formed so that the distance from the electrode 18 gradually becomes narrower as it approaches the electron beam path. . Further, they are formed symmetrically about the electron beam path as the central axis.
  • the filter is inclined to minimize the bending angle ⁇ due to EXB. Thereby, it becomes possible to suppress the aberration generated by operating EXB.
  • FIG. 6 by configuring the mesh electrode so that the angle formed by the electrode 26 having the ground potential and the electrode 18 (which may be the detection surface of the detector) is an acute angle, FIG. It is possible to suppress the influence on the beam of the electric field formed by the voltage applied to the electrode 17 without installing the cylindrical electrode 351 that is long in the optical axis direction as exemplified in (a) and (b). Become.
  • contamination may adhere to the inside of the cylindrical electrode 315 due to collision of passing electrons, and when charge accumulates in this contamination, the cylindrical electrode may have a deflection action.
  • the longer the length of the cylindrical electrode the greater the possibility that contamination will adhere, so it is desirable to make the length of the cylindrical electrode as short as possible.
  • the electrode 18 is further away from the optical axis, resulting in a deflection angle by the orthogonal electromagnetic field generator (EXB). Must be set larger. Further, if the cylindrical electrode is formed at an angle with respect to the optical axis, the beam trajectory may be affected.
  • the electrode 26 and the like constituting the energy filter are formed along a virtual straight line that intersects the beam optical axis.
  • orthogonal electromagnetic field deflection is performed. It is desirable that the electrode 26 be disposed on a distance r from the deflection fulcrum of the vessel 20. That is, it is desirable that the electrode 26 be formed in parallel to a circle having a radius r centered on the deflection fulcrum of the orthogonal electromagnetic field deflector 20.
  • FIG. 20 is a detailed explanatory diagram of a measurement or inspection system including an SEM.
  • This system includes an SEM main body 2001, a control device 2002 of the SEM main body, and an arithmetic processing device 2003.
  • the control unit 31 in FIG. 1 and each control device controlled by the control unit 31 correspond to the control device 2002.
  • the arithmetic processing unit 2003 processes an optical condition setting unit 2004 that supplies a predetermined control signal to the control unit 2002, a memory 2005 that stores the obtained image information and recipe information, and a detection signal obtained by the SEM.
  • An input signal calculation unit 2006 is incorporated.
  • the arithmetic processing unit 2003 is connected to an input device 2007 having an input means.
  • the display device provided in the input device 2007 displays a GUI (Graphcal User Interface) or the like for displaying an image, an inspection result, or the like to the operator.
  • GUI Graphic User Interface
  • the electrons emitted from the sample are captured by the detector 21 and converted into a digital signal by an A / D converter built in the control device 2002.
  • Image processing according to the purpose is performed by image processing hardware such as a CPU, ASIC, and FPGA incorporated in the arithmetic processing unit 2003.
  • the detection signals obtained by the SEM are two-dimensionally arranged to form a two-dimensional image
  • the image forming unit 2008 the luminance of the position on the sample based on the detection signal or the image signal
  • a signal waveform forming unit 2009 that forms a waveform indicating a change and a signal analysis unit 2010 that analyzes a signal waveform formed by the signal waveform forming unit 2009 are incorporated.
  • control and processing in the arithmetic processing unit 2003 can be assigned to a CPU or an electronic computer equipped with a memory capable of storing images and processed and controlled.
  • control device 2002 and the arithmetic processing device 2003 in FIG. 20 function as a control system that controls the SEM main body 2001.
  • the information signal 33 (for example, two accelerated by the application of a retarding voltage to the sample) is applied to the electrodes 17, 25, and 26 constituting the energy filter depending on the deflection conditions of the orthogonal electromagnetic field deflector 20 and the like.
  • the incident angle of the secondary electrons and the reflected electrons changes, and as illustrated in FIG. 25, the resolution of the energy filter changes according to the incident angle ⁇ [°] of the information signal 33 to the filter.
  • the energy resolution may be an optimum value under the condition that the information signal 33 is vertically incident on the energy filter unit, although it may vary depending on the formation accuracy of the mesh electrode. Therefore, it is necessary to control the deflection angle ⁇ [°] of the information signal 33 with the orthogonal electromagnetic deflector 20 so as to enter the energy filter vertically or so as to enter the optimum resolution. .
  • FIG. 26 shows a flow for controlling the orthogonal electromagnetic deflector 20 so that the energy resolution is the best.
  • the energy resolution depends on the energy of the information signal 33 and there is an optimum energy resolution. Accordingly, it is determined whether the measured energy resolution satisfies it. If satisfied, image observation or measurement is started as it is. If not satisfied, the orthogonal electromagnetic deflector 20 deflects the deflection angle ⁇ of the information signal 33 and measures the energy resolution again. These are repeated, and the deflection angle ⁇ is controlled by the orthogonal electromagnetic field deflector 20 so as to obtain the optimum energy resolution.
  • the control method of the orthogonal electromagnetic field deflector 20 needs to change the control value depending on the energy of the information signal 33.
  • FIG. 28 shows the relationship between the information signal energy and the voltage of the orthogonal electromagnetic deflector 20. It is also possible to control according to a formula obtained by calculation in advance.
  • the calculation method of the resolution evaluation index of the energy filter executed by the arithmetic processing unit 2003 will be specifically described.
  • the higher the energy resolution the more accurate filtering can be performed.
  • a value indicating the superiority or inferiority of the energy resolution performance is defined as a resolution evaluation index.
  • SEM optical conditions are set by the optical condition setting unit 2004 (step 2901).
  • the optical conditions referred to here are apparatus conditions when the sample is irradiated with the electron beam, such as an acceleration voltage of the electron beam and a retarding voltage applied to the sample.
  • the deflection condition of the orthogonal electromagnetic field generator registered in advance in the memory 2005 is set according to the set optical condition (step 2902).
  • resolution evaluation is started.
  • the voltage Vf applied to the energy filter is changed, and the image forming unit 2008 forms an image based on the detection signal for each predetermined voltage value (step 2903).
  • the luminance calculation unit 2011 calculates the luminance (Gray level) of the image based on the formed image (step 2904).
  • the determination unit 2012 calculates ⁇ Vf based on the obtained luminance information, and determines whether the ⁇ Vf satisfies a predetermined condition (step 2905).
  • ⁇ Vf is calculated by obtaining a change amount of Vf corresponding to a predetermined luminance change amount (Th (u) ⁇ Th (l)) as illustrated in FIG.
  • ⁇ Vf or an evaluation value obtained by normalizing ⁇ Vf based on a predetermined condition can be defined as a resolution evaluation index.
  • the resolution evaluation index may be obtained based on the calculation of the slope ( ⁇ G / ⁇ Vf) of the correlation curve between the luminance G and Vf. In this case, it can be said that the greater the inclination, the higher the resolution.
  • the deflection condition is set as the deflection condition of the orthogonal electromagnetic field generator (step 2907), and when it is determined that the predetermined condition is not satisfied, By changing the set value of the orthogonal electromagnetic field generator (step 2906) and repeating steps 2902 to 2905, an appropriate deflection condition is selected.
  • the deflection condition may be selected so that the resolution evaluation index satisfies a predetermined condition when ⁇ Vf is minimum or less than a predetermined value.
  • a reference value is set in advance for ⁇ Vf, and a deflection condition in which ⁇ Vf becomes the reference value is selected. good.
  • + V EXB and ⁇ V EXB are applied to the two electrodes forming the electrostatic deflector, respectively, and negatively charged electrons are on the electrode side to which + V EXB is applied. To be biased. By rewriting the equation of electron bending angle ⁇ , equation (3) is obtained.
  • Vo corresponds to (secondary) information signal energy. If the bending angle ⁇ is determined, the voltage ⁇ V EXB applied to the electrode is determined.
  • the optical condition of the electron beam (primary electrons) does not change. Therefore, when it is not desired to change the optical condition, it is desirable to obtain the energy resolution by changing Vf.
  • the S curve obtained when the optical condition for example, retarding voltage: Vr
  • Vr retarding voltage
  • a reference S curve is registered in the memory 2005 in advance, the shift amount is obtained by the signal analysis unit 2010, and V EXB is calculated by the optical condition setting unit 2004. According to an embodiment to be described later, it is possible to obtain a deflection amount corresponding to the charge amount.
  • the luminance value changes.
  • the optical condition for example, the acceleration voltage of the electron beam, the negative voltage (retarding voltage) applied to the sample, or both
  • the luminance value changes.
  • the optical condition for example, the acceleration voltage of the electron beam, the negative voltage (retarding voltage) applied to the sample, or both
  • the luminance value increases because the number of electrons passing through the energy filter increases as the retarding voltage is gradually increased.
  • a resolution evaluation index may be used as an index for finding this condition.
  • the amount of change ( ⁇ R) in the retarding voltage corresponding to a predetermined luminance change amount (Th (u) ⁇ Th (l)) or the index value of the evaluation amount is used as the resolution evaluation index.
  • the orthogonal electromagnetic field deflector 20 is set to a predetermined condition (step 1701).
  • an optical condition for example, applying a retarding voltage
  • a predetermined condition for example, applying a retarding voltage
  • an electron is emitted from the sample at that time by the detector 21 to acquire an image (step). 1703).
  • Luminance information is extracted from this image and stored in a storage medium such as the memory 2005 (step 1704).
  • step 1705 By performing the processing of step 1701 to step 1704 for each of a plurality of retarding voltage application conditions, the relationship between the optical condition and the luminance condition as illustrated in FIG. 16 is obtained (step 1705).
  • the luminance information detection may be stopped when ⁇ R is detected.
  • Steps 1701 to 1705 are performed for a plurality of deflection conditions of the orthogonal electromagnetic deflector 20 (step 1706), ⁇ R is obtained for each of the plurality of deflection conditions, and orthogonal electromagnetic field deflection is performed based on the plurality of ⁇ R.
  • the deflection condition of the device 20 is set (step 1707).
  • a deflection condition that minimizes ⁇ R when the energy resolution of the energy filter is used in the highest state, it is preferable to select a deflection condition that minimizes ⁇ R.
  • a stable measurement condition is always set. Therefore, for example, a reference value is set in advance for ⁇ R, and a deflection condition in which ⁇ R becomes the reference value may be selected. good.
  • FIG. 18 shows a process for obtaining the deflection condition of the orthogonal electromagnetic deflector 20 based on the contrast of the image. In this example, steps 1801 to 1804 are applied instead of steps 2903 to 2905 in FIG.
  • an image is acquired (step 1801), and the maximum luminance value and the minimum luminance of the region straddling material A (region A) and material B (region B) are acquired.
  • a value is detected (step 1802).
  • the region A and the region B can be changed as illustrated in FIG. The brightness difference becomes clear.
  • the deflection condition of the orthogonal electromagnetic deflector 20 is not appropriate and the energy resolution is reduced, the energy filtering is not performed properly, and the contrast between the two regions is lowered as illustrated in FIG. 19C, for example. There is a possibility that there is almost no difference in luminance.
  • the luminance difference ( ⁇ g) between the two regions is calculated (step 1803), and it is determined whether or not the deflection condition has the largest luminance difference, or whether ⁇ g satisfies the predetermined condition (step 1804).
  • the deflection condition is selected assuming that the control of the orthogonal electromagnetic field generator is appropriate (step 2907). If the predetermined condition is not satisfied or the predetermined condition setting has not been completed, the condition of the orthogonal electromagnetic field generator is newly set, and the processing from step 1801 to step 1804 is executed again.
  • the selected deflection condition is registered in the memory 2005 or the like as an apparatus condition.
  • the determination as to whether or not the luminance difference satisfies a predetermined condition may be made based on, for example, determination as to whether or not a predetermined threshold value is exceeded, and the ratio of two luminance values is a predetermined value. Alternatively, the determination may be made based on the determination of whether the value is less than or equal to the predetermined value.
  • the luminance calculation unit 2011 and the determination unit 2012 included in the signal analysis unit 2009 execute the luminance calculation and determination as described above.
  • FIG. 14 is a diagram showing the trajectory of the electrons 1406 emitted from the sample.
  • the electrons emitted from the sample 13 are focused by the objective lens, pass through the crossover point 1405, and travel upward (toward the electron source).
  • a part of the electrons 1406 emitted from the sample go to the detector 1403 through the energy filter 1404, but the other electrons go in a different direction from the detector 1403 and are not detected.
  • an apparatus configuration capable of performing highly accurate energy filtering while improving detection efficiency of detected electrons and maintaining high detection efficiency will be described.
  • the SEM illustrated in FIG. 14 is provided with a focusing electrode 1402 as a deflection element that deflects the trajectory of electrons emitted from the sample.
  • a focusing electrode 1402 as a deflection element that deflects the trajectory of electrons emitted from the sample.
  • the electrons can be directed toward the detector 1403 like the electrons 1407 after the orbital deflection.
  • the detector 1403 may be a detector that directly detects electrons, such as an MCP (Micro-Chanel-Plate) detector, or the detector 1403 is a conversion electrode, and a secondary generated from the conversion electrode. You may make it provide the detector which detects an electron separately.
  • MCP Micro-Chanel-Plate
  • FIG. 15 is a diagram showing a change in luminance value and a change in resolution evaluation index when the applied voltage to the focusing electrode is changed.
  • FIG. 21 is a flowchart showing a process of selecting a voltage to be applied to the focusing electrode 1402 by obtaining the change in the luminance value and the change in the resolution evaluation index.
  • two curves are created and two threshold values (Th (g), Th (r)) are set.
  • the range ( ⁇ g, ⁇ r) of the applied voltage exceeding the respective threshold values of the two curves is selected (steps 2101 and 2102).
  • the applied voltage included in the overlapping region ( ⁇ V) of ⁇ g and ⁇ r is selected as the applied electrode to the focusing electrode 1402 (step 2103).
  • the applied voltage region of ⁇ g is a region where the amount of detected electrons is a predetermined value or more, and the applied voltage region of ⁇ r is a region with high energy resolution.
  • FIG. 23 is a diagram showing an optical system in which the objective lens 1401 does not form a crossover point 1405 between the detector 1403 and FIG. Even in such an optical system, it is possible to achieve both high-efficiency detection of electrons and optimization of the filtering condition of the energy filter based on the appropriate setting of the focusing electrode 1402, as in the optical system of FIG. Become.
  • the orthogonal electromagnetic field deflector 20 deflects the information signal 33 (secondary electrons or the like) from a beam (optical axis of the primary beam without deflection: ideal optical axis) off the axis and the deflection.
  • a beam optical axis of the primary beam without deflection: ideal optical axis
  • the size of the detection surface of the detector disposed in the vacuum chamber is finite, the detection efficiency decreases when the dispersion is large.
  • FIG. 33 is a flowchart showing a process of determining the focusing condition of the focusing lens.
  • an image is acquired for each lens intensity set in step 3301 (step 3302), luminance information is extracted from the image, and the detected information has a predetermined condition (for example, the highest luminance value or a predetermined value). Value), the lens strength at that time is selected as the apparatus condition. If the predetermined condition is not satisfied, the lens strength is reset and Steps 3301 to 3304 are repeated.
  • FIG. 34 is a flowchart showing the process.
  • a lens condition showing a luminance value equal to or higher than a predetermined value for example, Th (g)
  • a predetermined value for example, Th (g)
  • a lens intensity satisfying a minimum value or a predetermined condition is selected from among a plurality of ⁇ Vf as a lens condition (step 3409).
  • the lens condition may be determined only by evaluating the resolution of the energy filter.

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Abstract

　本発明は、エネルギーフィルタのエネルギー分解能を向上することを目的とする荷電粒子線装置の提供を目的とする。　上記目的を達成するための一態様として、試料から放出される荷電粒子をエネルギーフィルタに向かって偏向する偏向器を備えた荷電粒子線装置において、当該偏向器の複数の偏向条件ごとに、エネルギーフィルタへの印加電圧を変化させたときに得られる輝度値の変化を求め、当該輝度値の変化が所定の条件を満たす偏向条件を、前記偏向器の偏向条件として設定する荷電粒子線装置を提案する。

Description

荷電粒子線装置
　本発明は、荷電粒子線装置に係り、特にエネルギーフィルタを通して、特定のエネルギーを持つ荷電粒子を選択的に検出することができる荷電粒子線装置に関する。
　荷電粒子線装置の１つである走査電子顕微鏡（Scanning Electron Microscope：ＳＥＭ）は、微細な対象物に対し、細く絞った電子ビームを走査することによって、試料から二次電子等を放出させ、当該二次電子等に基づいて、微細な対象物の観察，検査、或いは測定等を行う装置である。ＳＥＭのエネルギーフィルタは、複数の電極によって構成され、当該複数の電極間に、試料から放出される二次電子等の通過を制限する電界を形成することによって、特定のエネルギーを持つ電子を選択的に検出するために用いられる。特許文献１には、試料から放出された電子をウィーンフィルタによって、光軸から離軸させ当該電子を、エネルギーフィルタを経由して、検出器に導くことが説明されている。また、特許文献２には、試料から放出される電子の軌道を集束する集束素子を設け、軌道修正を行うことによって、二次電子の高効率検出を実現する走査電子顕微鏡が開示されている。更に、特許文献３には、対物レンズに、試料から放出される粒子を減速させるポテンシャル障壁を形成する減速電界電極装置が開示されている。
特表２００２－５２４８２７号公報（対応米国特許ＵＳＰ６,０６６,８４９） ＷＯ２０１０／０２４１０５ 特開２００１－１６７７２５号公報（対応ヨーロッパ特許公開公報ＥＰ１１００１１２Ａ１）
　エネルギーフィルタは、所定値以上のエネルギーを持つ電子を選択的に通過させるためのものであり、或る特定のエネルギー、或いは特定のエネルギー幅の電子が持つ固有の信号情報を取得するためのものである。例えば、低損失（Low loss）の後方散乱電子（Backscattered Electron：ＢＳＥ）を選択的に検出する場合には、エネルギーフィルタを構成するメッシュ電極に、二次電子（Secondary Electron：ＳＥ）が持つエネルギーより、僅かに大きい電圧（負電圧）を印加することによって、試料から放出される電子に多く含まれる二次電子等の検出器への到達を制限する。
　一方、エネルギーフィルタは、通常、電子の通過を許容する複数の開口が設けられた複数のメッシュ電極によって構成されているが、その入射方向によっては、エネルギーフィルタのエネルギー分解能が変化することが、発明者らの検討によって明らかになった。
　例えば、エネルギーフィルタを構成する板状のメッシュ電極に対し、当該板状体の板状面の垂直方向に近い方向から入射する電子と、板状面に対し鋭角方向から入射する電子を比較すると、後者の電子は、エネルギーフィルタが形成する電界の等電位面に対して斜めの方向から入射することになる。このような入射方向の違いによって、エネルギーフィルタのエネルギー分解能が変動する場合がある。エネルギー分解能とは、エネルギーフィルタの設定条件に対する実際のエネルギーフィルタの性能のばらつきを示す指標である。例えばエネルギーフィルタ電位Ｖｆに対し、実際にエネルギーフィルタを通過する電子のエネルギーの最大値がＶｆ＋αであれば、当該エネルギーフィルタは、＋α分、余分な電子を通過させていることになる。一方、Ｖｆ－αであれば、本来通過させるべき電子を通過させていないことになる。
　以上のように、エネルギーフィルタは、電子の入射方向によって、エネルギー分解能が変化し、その入射方向によっては、目的とする観察，検査、或いは測定等が困難になる場合がある。特許文献１～３には、このようなエネルギーフィルタのエネルギー分解能の向上法について何も説明されていない。
　以下に、エネルギーフィルタのエネルギー分解能の向上、或いは維持を目的とした荷電粒子線装置について、説明する。
　上記目的を達成するための一態様として、エネルギーフィルタに対する荷電粒子の入射方向を変化させる光学素子の条件を変化させて、エネルギーフィルタのエネルギー分解能の評価指標として定義可能な信号を検出する荷電粒子線装置を提案する。
　例えば、更に具体的な一態様として、試料から放出される荷電粒子をエネルギーフィルタに向かって偏向する偏向器を備えた荷電粒子線装置において、当該偏向器の複数の偏向条件ごとに、エネルギーフィルタへの印加電圧を変化させたときに得られる輝度値の変化を求め、当該輝度値の変化が所定の条件を満たす偏向条件を、前記偏向器の偏向条件として設定する荷電粒子線装置を提案する。
　以上のような構成によれば、エネルギーフィルタを高精度、或いは高安定に使用することができる装置条件を把握することができ、更には当該装置条件に基づく条件設定を行うことが可能となる。
荷電粒子線装置の概略を示す図。 信号検出系の詳細を示す図。 反射板（変換電極）を用いた信号検出系の詳細を示す図。 信号検出系の詳細を示す図。 反射板を用いた信号検出系の詳細を示す図。 電極を複数枚で構成し、反射板を用いた信号検出系の詳細を示す図。 電極を複数枚で構成した信号検出系の詳細を示す図。 電極を通過した信号（電子）の軌道を示す図。 電極を複数枚で構成した信号検出系の詳細を示す図。 電極を環状に構成した信号検出系の詳細を示す図。 環状電極を通過する信号の軌道を示す図。 環状電極を通過する信号の軌道を示す図。 信号検出系の詳細を示す図。 試料から放出された電子を集束する集束素子を備えたＳＥＭの一例を示す図。 試料から放出された電子を集束する集束素子の集束条件を変化させたときの輝度値と、分解能評価指標の推移を示す図。 ＳＥＭ内の光学条件を変化させたときの輝度値の推移を示す図。 エネルギーフィルタの分解能評価に基づいて、直交電磁界発生器の偏向条件を設定する工程を示すフローチャート。 ２つの部位の輝度差を演算する工程を示すフローチャート。 エネルギーフィルタリングが適正に行われたときと、行われなかったときの２つの部位の輝度差の変化を示す図。 ＳＥＭを含む測定、検査システムの概要を示す図。 輝度値の変化と、分解能評価指標の変化を求めることによって、集束電極への印加電圧を選択する工程を示すフローチャート。 エネルギーフィルタへの印加電圧の変化に対する輝度値の変化を示す図。 電子光学系の一例を示す図。 直交電磁界発生器による偏向と、エネルギーフィルタへの電子の入射方向の関係を示す図。 エネルギーフィルタへの電子の入射方向と、エネルギー分解能との関係を示すグラフ。 エネルギー分解能を測定する工程を示すフローチャート。 入射電子のエネルギーと、最適エネルギー分解能との関係を示すグラフ。 直交電磁界発生器への印加電圧と、情報信号エネルギーとの関係を示すグラフ。 エネルギーフィルタの分解能評価に基づいて、直交電磁界発生器の偏向条件を設定する工程を示すフローチャート。 直交電磁界発生器の電界と磁界の関係を説明する図。 直交電磁界発生器によって偏向された電子を集束する集束レンズを備えたＳＥＭの検出系を示す図。 集束レンズ強度と、輝度値との関係を示す図。 電子の検出効率を向上するためのレンズ条件を選択する工程を示すフローチャート。 エネルギーフィルタのエネルギー分解能を向上するためのレンズ条件を選択する工程を示すフローチャート。 エネルギーフィルタの形状，収差、及びエネルギー分解能の関係を説明する図。
　以下の説明は、荷電粒子線装置に係り、特に荷電粒子ビームの照射に基づいて得られる情報を弁別する装置に関する。
　荷電粒子線装置には、走査電子顕微鏡（Scanning Electron Microscope：ＳＥＭ）や、集束イオンビーム（Focused Ion Beam：ＦＩＢ）装置がある。また、ＳＥＭを特定の目的に特化した装置として、測長用電子顕微鏡（Critical Dimension-SEM：ＣＤ－ＳＥＭ）や、上流の検査装置にて得られた欠陥，異物、或いは測長値異常パターンを、更に詳細に観察し、分析するレビュー用電子顕微鏡（レビューＳＥＭ）がある。
　これらの装置を用いて観察，測定、或いは検査を行う場合、試料からの情報信号を効率良く検出器で検出する必要がある。情報信号が多いことで画質が向上し、それはスループットの向上につながる。しかし、検出率を向上させるために検出器を光軸に近づけたり、情報信号を効率良く検出器まで導入するために検出器に電圧を印加することは、１次ビームへの影響が避けられない。また、これからは見たいもの、つまり検出したいものに応じて情報信号を弁別し、有効な情報のみを抽出することも観察および検査には必要になる。
　このように有効な情報を選択的に抽出する装置として、エネルギーフィルタがある。エネルギーフィルタは、試料から放出される荷電粒子の内、特定のエネルギーを持つものを選択的に通過させる装置であり、例えば所望のエネルギーの荷電粒子を検出する場合には、当該エネルギーより低いエネルギーを持つ荷電粒子の通過を制限するための電界を発生する装置である。エネルギーフィルタは例えば、複数のメッシュ電極によって構成され、当該電極への印加電圧を制御することによって、所望の電界を形成する。
　一方、このようなエネルギーフィルタは、荷電粒子の入射方向によって、その性能が変化する。即ち、入射方向を適正に設定することができれば、高い性能を発揮することができる。ここで言う性能とはエネルギー分解能のことである。エネルギーフィルタは、入射しようとする電子等に対し、当該電子を追い返すような電界を形成することによって、入射する電子をエネルギー弁別する装置である。このような電界の等電位面に対する電子の入射方向（角度）によっては、フィルタリングされる電子のエネルギーが変化する可能性がある。例えば等電位面に対し、鋭角な方向から入射する電子は、入射方向とは異なる方向から偏向作用を受けるため、等電位面に対して垂直に入射する電子と比較して、エネルギーフィルタを通過することができる電子のエネルギーの上限が低下する可能性がある。
　図２２は、横軸をエネルギーフィルタに印加する電圧、縦軸をビームの照射部の輝度を示すグラフの一例を示す図であり、第１の方向からエネルギーフィルタに入射する電子を三角で表現し、第２の方向からエネルギーフィルタに入射する電子を丸で表現している。エネルギーフィルタへの印加電圧を徐々に弱めていく（図２２の右方向に向かうように）と、検出器によって検出される電子量が増大する。このとき印加電圧Ｖｆ〔Ｖ〕の変化に対し、輝度が急激に変化する方が、エネルギーフィルタのエネルギー分解能が高いと言える。図２２の例では、２つの輝度閾値（Ｔｈ（ｕ）とＴｈ（ｌ））間の輝度変化を生じさせるＶｆの変化量が、第１の方向の電子がΔＶｆ1であり、第２の方向の電子がΔＶｆ2である。即ち、図２２の例では、第１の方向から入射する電子の方が、第２の方向から入射する電子に対し、エネルギー分解能が高い状態でエネルギーフィルタリングされる。このようにΔＶｆが小さくなるような装置条件を見出すことによって、入射すべき電子と、入射を制限すべき電子を明確に分離することのできるエネルギー分解能の高いエネルギーフィルタ条件を見出すことができる。
　以下、図面を参照してエネルギーフィルタを備えた荷電粒子線装置の一態様であるＳＥＭの概要について説明する。図１は荷電粒子線装置の一例であるＳＥＭの概要を示す図である。なお、以下の説明では走査電子顕微鏡を例にとって説明するが、それに限られることはなく、以下に紹介する実施例は、他の荷電粒子線装置にも、適用が可能である。
　試料からの情報信号を効率良く検出器へ導入する際に、検出器に電圧を印加して、情報信号を導入するための吸引電界を発生させることは一般的である。検出効率を向上させるには、その印加電圧を上げるか、検出器を光軸に近づけるかして、吸引電界を強くする方法がとられている。その反面、吸引電界が１次ビームにもおよぼす影響が問題になっている。その影響とは例えば１次ビームの軸ズレ，非点などの収差の発生の要因になる。つまり、情報信号を効率良く検出できるよう、電界を強くすればするほど１次ビームへの影響が大きくなるといったトレードオフの関係にある。
　よって、試料から発生した情報信号検出する検出器の吸引電界の影響を少なくし、情報信号を効率良く検出するような検出系を採用することが望ましい。
　よって、以下の実施例ではエネルギーフィルタの一態様として、検出器の吸引電界が１次ビームへ影響を及ぼさないようにシールドを配置する例を説明する。また、シールドを複数枚重ねて配置し、いずれかのシールドに電圧を印加することで、試料からの、あるエネルギーを持った信号および試料からの放出角度によって弁別する構成、或いはその他、エネルギー弁別に適した荷電粒子線装置を説明する。
　電子銃１は、電子源２，引出電極３、及び加速電極４から構成される。電子源２と引出電極３との間には、引出電圧Ｖ１が印加され、これによって、電子源２から電子ビーム３６が引き出される。加速電極４はアース電位に維持され、加速電極４と電子源２との間には、加速電圧Ｖ０が印加される。したがって電子ビーム３６は、この加速電圧Ｖ０によって加速される。
　加速された電子ビーム３６は、絞り１５によって不要な領域を除去され、レンズ制御電源５に接続された集束レンズ７および集束レンズ８によって集束される。更に対物レンズ９によって、試料ステージ１２上の半導体ウェハ等の試料１３に集束される。
　試料ステージ１２は、ステージ駆動装置２３により、少なくとも水平移動可能である。試料１３は集束された電子ビーム３６によって照射され、走査信号発生器２４に接続された偏向器１６ａ，１６ｂによって走査される。このとき非点収差補正器４０は非点収差補正制御部４５で制御される。電子ビーム３６の照射によって試料１３から放出される情報信号３３（二次電子、及び／又は後方散乱電子等）は、直交電磁界偏向器２０で偏向され、検出器２１によって検出される。検出された情報信号３３は、ＣＲＴ等の像表示装置３２の輝度変調信号とすることで、像表示装置３２に試料１３の拡大像が表示される。図示はしていないが、以上の構成が電子ビームを照射するのに適した真空容器内に収納される。レンズ制御電源５，走査信号発生器２４，非点収差補正制御部４１は、制御部３１に接続されている。また、直交電磁界偏向器２０は、制御部３１からの指示により、直交電磁界制御部５０によって制御される。なお、直交電磁界偏向器２０は、情報信号３３を検出器２１側に偏向する電界を発生する電極と、当該電界に直交するように、磁界を発生するための磁極を含み、当該磁界は電界によるビームの偏向作用を相殺するように、ビームを偏向する。
　図２は直交電磁界偏向器２０から検出器２１までを詳細にした一例である。光軸４３上に、電子ビーム３６が検出器２１の、電界制御部６によって印加された電圧によって発生する電界の影響を受けないようシールドするための電極１７を配置した。例では電極１７は回転対象の円錐型で、情報信号３３が通過しやすいようにメッシュ状になっている。
　情報信号３３は検出器２１に直接検出できるよう直交電磁界偏向器２０で偏向するが、偏向する際に発生する収差の影響を少なくするため、情報信号３３の偏向量を小さくする場合もある。そのときは図３に示すように、情報信号３３をいったん反射板として利用する電極（反射板）１８に照射し、電極（反射板）１８から発生する第２の情報信号３４を検出器２１の吸引電界で検出器２１まで導引することも可能である。
　電極１７は、電極（反射板）１８に極接近させるか、または接するよう配置することで、検出器２１からの電界が光軸４３へ染み出しにくくなり、つまり電子ビーム３６が検出器２１の電界の影響を受けにくくなる。よって、電子ビーム３６は軸ずれや収差の発生を抑制できる。
　通常、電極１７はアース電位であるが、図４に示すように電極１７に電圧を印加して、試料１３からの情報信号３３のうち、ある信号だけをフィルターをすることも可能である。この構成においては、試料１３から発生する情報信号３３のうち、検出したくないエネルギーに対してフィルターをすることで、情報信号３３の弁別が可能になり、抽出したいエネルギーをもった情報信号３３だけで、画像を形成することが可能になる。つまり、偏向器１６で試料１３を走査しながら、電極１７に印加する電圧を可変すれば異なるエネルギーで形成された画像を取得することが可能になる。
　また、電極１７に印加する電圧は電圧制御部１９を介して、制御部２２で制御される。制御部２２は試料１３に印加する電圧を制御する可変減速電源１４にリンクして、電圧制御部１９を制御することになる。例えば試料１３に印加する電圧をＶｒとし、フィルターしたい情報信号３３のエネルギーをｅとすると電極１７に印加する電圧Ｖｔは次の（１）式で制御される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000001
　試料１３に印加する電圧Ｖｒが１ｋＶで、フィルターしたい情報信号３３のエネルギーが１００ｅＶであれば、電極１７に印加する電圧Ｖｔは１.１ｋＶに設定すればよい。
　図５は電極（反射板）１８に情報信号３３を照射し、電極１８から発生した第２の情報信号３４を検出器２１で検出する例である。制御に関しては図４と同様に制御する。
　図６は電極１７を複数枚で構成した一例である。例として、３枚で構成した場合を図６に示す。電極１７は基本的にはアース電位となる電極２５と電極２６で挟んで複合化電極とする。図４および図５と違い、電極１７の電界は、アース電位である電極２５と電極２６によって抑制される。そのため、電極１７の電界が強い場合に発生する問題が解決可能になる。例えば電界が強いと無視できないレンズ作用が発生し、１次ビームの収差となりビームがぼけてしまうといった問題が発生する。また検出器２１の吸引電界と干渉し、情報信号３３および情報信号３４の軌道を変化させてしまう。
　図７は複合化電極を通過した情報信号３３を電極１８に照射せずに、検出器２１で直接検出する例を示す。図８に示すように、複合化電極を通過する情報信号３３は、電極内のレンズ作用を受けて情報信号３３のエネルギーや電極１７への入射角度によって、その軌道が変化する。つまり情報信号３３は電極（反射板）１８に照射されるときに広がりを持って照射される。その照射領域４４は情報信号３３のエネルギーや、電極１７に印加された電圧によって大きく変化する。さらにその電極（反射板）１８から発生する第２の情報信号３４も様々な角度やエネルギーを持って出射するため、照射領域４４が大きいと、その照射領域４４から発生したすべての第２の情報信号３４を検出器２１で検出するのは困難になる。よって、図７に示すように電極（反射板）１８に照射することなく、直接、情報信号３３と検出する方法が有効である。
　図９は検出器２１の吸引電界を均一にするように、電極（反射板）１８を円錐型にしたものである。この形状は電極１８をつかって間接的に情報信号３４を検出する場合でも、情報信号３３を直接、検出する場合でも両方に適用可能である。
　図１０は電極１７を環状にして複数の環状で構成され、各々の環に電圧を印加することで試料１３からの情報信号３３を弁別することが可能になる。図１１は複数の環状電極１７の一例である。例えば図１１では６つの環状で構成され、各々の環状に電圧制御部ａ～ｆで印加電圧を制御する。一例では電圧制御部１９ａ，１９ｂ，１９ｅ，１９ｆにあるエネルギーの情報信号３３をフィルターする電圧を印加し、電圧制御部１９ｃ，１９ｄは情報信号３３が通過可能な電圧、またはアース電位とする。
　また、情報信号３３は試料１３からの出射角度によって軌道が違うため、図１１のような構成であれば、軌道の違いによる情報信号３３の弁別も可能である。
　図１２のように、試料１３からの情報信号３３が大きく広がって電極１７に入射する場合、検出器２１を複数個設けて検出することも可能である。例えば直交電磁界偏向器２０を動作させずに、試料１３から出射した情報信号３３を電極１７で弁別することも可能で、この場合は直交電磁界偏向器２０を動作させた場合の収差の発生を抑制することができ、高分解能のまま信号弁別が可能になる。また図で示していないが、図９のような直接、情報信号３３を検出する場合も有効である。
　図１３は電極（反射板）１８を傾斜させて、更に検出器２１にも角度を持たせ、電極１８から発生する情報信号３４を効率良くする構成例である。
　なお、図２等に例示するエネルギーフィルタの断面形状（電子ビーム通路の垂直方向から見た形状）は、電子ビーム通路に近づくに従って、徐々に電極１８との間隔が狭くなるように形成されている。また、電子ビーム通路を中心軸とした軸対称に形成されている。
　エネルギーフィルタを試料と平行に設置した場合、情報信号はＥＸＢで偏向され、エネルギーフィルタに入射角度θでもって入射する（図３５（ａ））。角度θに依存してエネルギー分解能が悪くなるので図３５（ｂ）のように、エネルギーフィルタに垂直入射するために新たにＥＸＢ（２０ｂ）を設置する方法もあるが、制御が複雑になる。もちろん、ＥＸＢを動作させるときに発生する収差はさけられない。
　よって、図３５（ｃ）のように、フィルターを傾斜させてＥＸＢによる曲げ角θを最小限にする。これにより、ＥＸＢを動作させることで発生する収差を抑制することが可能になる。
　また、図６等に例示するように、接地電位である電極２６と、電極１８（検出器の検出面でも良い）の成す角が、鋭角となるようにメッシュ電極を構成することによって、図３５（ａ），（ｂ）に例示するような光軸方向に長い筒状電極３５１を設置することなく、電極１７に印加される電圧によって形成される電界のビームに対する影響を抑制することが可能となる。
　筒状電極３１５の内側には、通過する電子の衝突によって、コンタミネーションが付着する場合があり、このコンタミネーションに電荷が蓄積すると、筒状電極が偏向作用を持つ場合がある。筒状電極の長さが長い程、コンタミネーションが付着する可能性が増大するため、筒状電極の長さを可能な限り短くすることが望ましい。一方で、コンタミネーションの付着を防止すべく、筒状電極の径を大きくすると、その分、電極１８が、光軸より離間することになり、結果として直交電磁界発生器（ＥＸＢ）による偏向角を大きく設定する必要がある。また、筒状電極が僅かでも光軸に対して斜めに形成されていると、ビーム軌道に影響を与える可能性もある。
　図６等に例示するエネルギーフィルタによれば、筒状電極に換えて、電極２６と電極１８によって負電圧が印加される電極１７を包囲するような構成（即ち、電極２６の端部と電極１８の端部を接続し、２つの電極の成す角が鋭角となるようにする）することによって、筒状電極がビームにもたらす影響を抑制することが可能となる。
　なお、図６の例では、エネルギーフィルタを構成する電極２６等は、ビーム光軸に交差する仮想直線に沿って形成されているが、エネルギーフィルタの分解能をより高めるためには、直交電磁界偏向器２０の偏向支点からの距離ｒ上に電極２６が配置されることが望ましい。即ち、直交電磁界偏向器２０の偏向支点を中心とした半径ｒの円に平行に、電極２６が形成されることが望ましい。
　このような構成によれば、偏向支点と電極を結ぶ直線が、電極２６の法線となるため、直交電磁界偏向器２０の偏向角によらず、高い分解能のエネルギーフィルタリングを行うことが可能となる。
　図２０は、ＳＥＭを含む測定、或いは検査システムの詳細説明図である。本システムには、ＳＥＭ本体２００１，当該ＳＥＭ本体の制御装置２００２、及び演算処理装置２００３が含まれている。図１の制御部３１及び当該制御部３１によって制御される各制御装置は、制御装置２００２に相当する。
　演算処理装置２００３には、制御装置２００２に所定の制御信号を供給する光学条件設定部２００４、得された画像情報や、レシピ情報を記憶するメモリ２００５、及びＳＥＭによって得られた検出信号を処理する入力信号演算部２００６が内蔵されている。
　更に演算処理装置２００３は、入力手段を備えた入力装置２００７と接続されている。入力装置２００７に設けられた表示装置には、操作者に対して画像や検査結果等を表示するＧＵＩ（Graphcal User Interface）等が表示される。
　試料から放出された電子は、検出器２１にて捕捉され、制御装置２００２に内蔵されたＡ／Ｄ変換器でデジタル信号に変換される。演算処理装置２００３に内蔵されるＣＰＵ，ＡＳＩＣ，ＦＰＧＡ等の画像処理ハードウェアによって、目的に応じた画像処理が行われる。入力信号演算部２００７には、ＳＥＭによって得られた検出信号を二次元的に配列して二次元像を形成する画像形成部２００８，検出信号、或いは画像信号に基づいて試料上の位置に対する輝度の変化を示す波形を形成する信号波形形成部２００９、及び当該信号波形形成部２００９にて形成された信号波形を解析する信号解析部２０１０が内蔵されている。
　なお、演算処理装置２００３における制御や処理の一部又は全てを、ＣＰＵや画像の蓄積が可能なメモリを搭載した電子計算機等に割り振って処理・制御することも可能である。本例の場合、図２０の制御装置２００２と演算処理装置２００３は、ＳＥＭ本体２００１を制御する制御システムとして機能する。
　図２４に示すように、直交電磁界偏向器２０等の偏向条件によって、エネルギーフィルタを構成する電極１７，２５，２６への情報信号３３（例えば試料へのリターディング電圧の印加によって加速される二次電子や反射電子）の入射角度が変化し、図２５に例示するように、エネルギーフィルタの分解能は情報信号３３のフィルターへの入射角θ［°］に応じて変化する。メッシュ状電極の形成精度等に応じて変化する場合があるが、エネルギー分解能が最適値になるのは、エネルギーフィルタ部に情報信号３３が垂直に入射する条件である。よって直交電磁界偏向器２０で情報信号３３の偏向角θ［°］を制御して、エネルギーフィルタへ垂直に入射するか、または最適分解能になるように入射するように制御することが必要になる。
　図２６に、エネルギー分解能が最良になるように直交電磁界偏向器２０を制御する場合のフローを示す。最初にエネルギー分解能の計測を行う。エネルギー分解能は、例えば図２７に示すように、情報信号３３のエネルギーに依存して最適エネルギー分解能が存在する。それに従って、計測されたエネルギー分解能がそれを満足しているかどうかを判定する。満足していれば、そのまま像観察または計測が開始される。満足していない場合は、直交電磁界偏向器２０で情報信号３３の偏向角θを偏向して、再度エネルギー分解能を計測する。それらを繰り返して、最適エネルギー分解能になるように直交電磁界偏向器２０で偏向角θを制御する。
　直交電磁界偏向器２０の制御方法は、情報信号３３のエネルギーに依存して制御値を変化させる必要がある。図２８に情報信号エネルギーと直交電磁界偏向器２０の電圧の関係を示す。予め計算によって求められた式に従って、制御することも可能である。
　以下に、演算処理装置２００３にて実行されるエネルギーフィルタの分解能評価指標の算出法を具体的に説明する。図２２を用いて説明したように、エネルギー分解能が高い程、高精度なフィルタリングを行うことができる。本実施例では、このようなエネルギー分解能の性能の優劣を示す値を、分解能評価指標として定義する。このような分解能評価指標の算出に基づく、直交電磁界発生器の制御法について、図２９のフローチャートを用いて説明する。
　まず、光学条件設定部２００４によって、ＳＥＭの光学条件を設定する（ステップ２９０１）。ここで言う光学条件とは、電子ビームの加速電圧，試料に印加するリターディング電圧等、電子ビームを試料に対して照射する際の装置条件である。次に、設定された光学条件に応じて予めメモリ２００５に登録されている直交電磁界発生器の偏向条件を設定する（ステップ２９０２）。以上のような条件のもと、分解能評価を開始する。エネルギーフィルタに印加する電圧Ｖｆを変化させ、画像形成部２００８は、所定の電圧値ごとに、検出信号に基づいて画像を形成する（ステップ２９０３）。輝度演算部２０１１では、形成された画像に基づいて、画像の輝度（Gray level）を演算する（ステップ２９０４）。判定部２０１２では、得られた輝度情報に基づいて、ΔＶｆを演算し、当該ΔＶｆが所定の条件を満たしているか否かの判定を行う（ステップ２９０５）。
　ここで、ΔＶｆは、図２２に例示されているように、所定の輝度変化量（Ｔｈ（ｕ）－Ｔｈ（ｌ））に対応するＶｆの変化量を求めることによって算出する。先述したように、この変化量が小さい程、エネルギーフィルタの分解能が高いと言える。よって、ΔＶｆ、或いはΔＶｆを所定の条件に基づいて正規化した評価値を、分解能評価指標として定義することができる。なお、輝度ＧとＶｆの相関曲線の傾き（ΔＧ／ΔＶｆ）の算出に基づいて、分解能評価指標を求めるようにしても良い。この場合、傾きが大きい程、分解能が高いと言える。
　分解能評価指標が所定の条件を満たすと判断できる場合には、その偏向条件を直交電磁界発生器の偏向条件として設定し（ステップ２９０７）、所定の条件を満たさないと判断される場合には、直交電磁界発生器の設定値を変化させ（ステップ２９０６）、ステップ２９０２～２９０５を繰り返すことによって、適正な偏向条件を選択する。なお、ΔＶｆが分解能評価指標である場合には、ΔＶｆが最小、或いは所定値未満である場合に、分解能評価指標が所定の条件を満たすものとして、偏向条件を選択すると良い。また、半導体パターンを測定するＳＥＭでは、常に安定した測定条件の設定が求められるため、例えばΔＶｆについて予め参照値を設定しておき、ΔＶｆが当該参照値となる偏向条件を選択するようにしても良い。
　図２９に例示するようなプロセスに基づいて偏向条件を設定することによって、試料の帯電状態やその他の電子の軌道の変動要因によって変化する適正な偏向条件を見出すことが可能となる。
　なお、図直交電磁界発生器の内、電界（Ｅ）による偏向量をｙとすると式（２）が成り立つ。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000002
 　ｌｅ：静電偏向器のビーム光軸方向の寸法
　ｄ：静電偏向器の電極間の距離
　Ｌ１：偏向始点と、電子が偏向量ｙ分偏向される位置との距離
　ＶEXB：静電偏向器に印加する電圧
　図３０（ａ）に例示するように、静電偏向器を形成する２枚の電極にはそれぞれ＋ＶEXB，－ＶEXBが印加され、負電荷を持つ電子は、＋ＶEXBが印加された電極側に偏向される。電子の曲げ角θの式になおすと式（３）のようになる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000003
　Ｖｏに相当するのは、（二次）情報信号エネルギーであり、曲げ角θが決まれば、電極にかける電圧±ＶEXBが決まる。
　また、図３０（ｂ）に例示するような直交電磁界発生器の磁界Ｂと偏向量ｙの式は（４）で表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000004
　曲げ角θの式になおすと式（５）のようになる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000005
 　ｍ：電子の質量（９.１０９１×１０-31kg）
　Ｂ：電子の電荷（１.６０２１×１０-19Ｃ）
　ｌB：磁界範囲
　これらの式を解いて、１次ビームは偏向しないで二次信号（試料から放出される電子）のみ偏向する条件をみつける。
　このような条件を、偏向角θごとに求めることによって、図３０（ｃ）に例示するような試料から放出される電子のエネルギーと、偏向器に与える電圧（電流）との関係を求めることができ、二次信号の偏向角に応じた１次ビームを偏向させない条件を見出すことが可能となる。このような条件は、メモリ２００５に登録され、直交電磁界発生器への制御信号として、光学条件設定部２００４によって設定される。
　図２９の例では、複数の偏向角ごとに、分解能評価指標を求める際に、エネルギーフィルタに印加する電圧Ｖｆを変化させることによって、輝度とＶｆとの相関曲線（Ｓカーブ）を偏向角ごとに検出する例について説明したが、Ｓカーブを、光学条件を変化させることによって形成することも可能である。
　なお、Ｖｆを変化させても電子ビーム（一次電子）の光学条件は変化しないため、光学条件を変えたくない場合には、Ｖｆを変化させることによって、エネルギー分解能を求めることが望ましい。一方で、光学条件（例えばリターディング電圧：Ｖｒ）を変化させたときに得られるＳカーブは、輝度－Ｖｒ相関曲線のグラフ上、試料に付着した帯電分、＋Ｖｒ、或いは－Ｖｒ側にシフトしたカーブとなる。即ち、帯電のないときのＳカーブが判っていれば、そのシフト量を求めることで、帯電量を計測することが可能となる。このような帯電量の計測に基づいて、ＶEXBを求めることによって、適正な偏向強度を求めることが可能となる。この場合、予めメモリ２００５に基準Ｓカーブを登録しておき、信号解析部２０１０によって、シフト量を求め、光学条件設定部２００４によって、ＶEXBを算出する。後述する実施例によれば、帯電量に応じた偏向量を求めることが可能となる。
　例えば、図１６に例示するように、光学条件（例えば、電子ビームの加速電圧，試料に印加する負電圧（リターディング電圧）、或いはその両方）を変化させると、輝度値が推移する。例えば光学条件がリターディング電圧である場合、リターディング電圧を徐々に大きくしていくと、エネルギーフィルタを通過する電子の数が増えていくため、輝度値が増大する。
　先に説明したように、この変化が急峻である程、エネルギー分解能が高い。よって、この条件を見出すための指標として、分解能評価指標を用いると良い。図１６の例では、所定の輝度変化量（Ｔｈ（ｕ）－Ｔｈ（ｌ））に対応するリターディング電圧の変化量（ΔＲ）、或いは当該評価量の指標値を、分解能評価指標としている。この評価指標に基づいて、エネルギーフィルタの高精度化、或いは高安定化を実現するＳＥＭの装置条件設定工程を図１７に例示するフローチャートを用いて説明する。
　本例では、図２，図３等に例示する直交電磁界偏向器２０の偏向条件の適正化に基づいて、エネルギーフィルタのエネルギー分解能を向上、或いは安定化させる例について説明する。先ず、直交電磁界偏向器２０を所定の条件に設定する（ステップ１７０１）。この状態で所定の条件に光学条件（例えばリターディング電圧印加）を設定し（ステップ１７０２）、その際に試料から放出される電子を検出器２１にて検出することによって、画像を取得する（ステップ１７０３）。この画像から輝度情報を抽出し、メモリ２００５等の記憶媒体に記憶させる（ステップ１７０４）。このステップ１７０１～ステップ１７０４の処理を複数のリターディング電圧印加条件ごとに実施することによって、図１６に例示するような光学条件と輝度条件との関係を求める（ステップ１７０５）。なお、本例では所定数の光学条件について輝度を求める例を説明しているが、ΔＲが検出された時点で輝度情報検出を停止するようにしても良い。
　ステップ１７０１～ステップ１７０５の処理を直交電磁界偏向器２０の複数の偏向条件について実施し（ステップ１７０６）、複数の偏向条件ごとにΔＲを取得し、当該複数のΔＲに基づいて、直交電磁界偏向器２０の偏向条件を設定する（ステップ１７０７）。ここで、エネルギーフィルタのエネルギー分解能を最も高い状態で用いる場合には、ΔＲが最も小さくなる偏向条件を選択すると良い。一方、半導体パターンを測定するＳＥＭでは、常に安定した測定条件の設定が求められるため、例えばΔＲについて予め参照値を設定しておき、ΔＲが当該参照値となる偏向条件を選択するようにしても良い。
　また、図２９に例示するフローチャートでは、直交電磁界偏向器２０の偏向条件ごとに、ΔＶｆを求める例を、図１７に例示するフローチャートでは、直交電磁界偏向器２０の偏向条件毎に、ΔＲを求める例について説明したが、例えば図１９に例示するように、ＳＥＭの視野（Field Of View：ＦＯＶ）内に２種以上の材質からなる試料が含まれており、エネルギーフィルタリングが適正に行われれば、２種の材質間で明確にコントラストが現れるような場合に、両者間のコントラストに基づいて、適正な偏向条件を求めることも可能である。以下、その例について説明する。図１８は、画像のコントラストに基づいて、直交電磁界偏向器２０の偏向条件を求めるための工程を示すものである。本例では図２９のステップ２９０３～ステップ２９０５に替えて、ステップ１８０１～ステップ１８０４を適用する。
　直交電磁界偏向器２０の偏向条件を所定の条件に設定した後、画像を取得し（ステップ１８０１）、材質Ａ（領域Ａ）と材質Ｂ（領域Ｂ）に跨る領域の最大輝度値と最小輝度値を検出する（ステップ１８０２）。このとき、エネルギーフィルタへの印加電圧が適切であり、且つ直交電磁界偏向器２０の偏向条件が適切なものであれば、図１９（ｂ）に例示するように、領域Ａと領域Ｂとの輝度差が明確になる。一方、直交電磁界偏向器２０の偏向条件が適切ではなく、エネルギー分解能が低下すると、エネルギーフィルタリングが適正に行われず、例えば図１９（ｃ）に例示するように、２つの領域のコントラストが低下し、輝度差が殆どない状態となる可能性がある。
　そこで、本例では２つの領域の輝度差（Δｇ）を算出（ステップ１８０３）し、当該輝度差が最も大きい偏向条件、或いはΔｇが所定の条件を満たす偏向条件か否かを判定（ステップ１８０４）。ここで、Δｇが所定値以上、或いは所定条件を満たす場合には、直交電磁界発生器の制御が適正なものであるとして、当該偏向条件を選択する（ステップ２９０７）。また、所定条件を満たさない場合や所定の条件設定が終わっていない場合には、直交電磁界発生器の条件を新たに設定して、ステップ１８０１～ステップ１８０４の処理を再実行する。選択された偏向条件は、装置条件としてメモリ２００５等に登録する。
　以上のような構成によれば、２以上の領域間のコントラストを明確にすることによって、所望の測定対象の測定を行うような場合に、適切な偏向条件を選択することが可能となる。なお、輝度差が所定の条件を満たすか否かの判定は、例えば所定の閾値を超えるか否かの判定に基づいて、行うようにしても良いし、２つの輝度値の比が所定の値、或いは所定値未満、または以上となるかの判定に基づいて、行うようにしても良い。これらの輝度差や輝度比、或いはその指標値を分解能評価指標とすることによって、目的とする測定や検査を行うための装置条件を適正に評価することが可能となる。また、輝度変化が急峻なほど、分解能が高いと言えるため、例えば輝度変化を近似関数にてフィッティングし、傾斜の程度を求めることによって、分解能評価指標と定義しても良い。信号解析部２００９に含まれる輝度演算部２０１１や、判定部２０１２では、上述のような輝度演算や判定を実行する。
　これまで、二次電子等を検出器に向かって偏向する偏向器（上述の実施例では直交電磁界偏向器２０）を、分解能評価指標に基づいて、設定する例を説明したが、以下に、試料から放出される電子を集束する集束素子を用いて、電子の軌道を偏向することによって、適正な装置条件を設定する例について説明する。図１４は、試料から放出された電子１４０６の軌道を示す図である。試料１３から放出された電子は、対物レンズによって集束され、クロスオーバ点１４０５を通過して、上方（電子源方向）に向かう。試料から放出された電子１４０６は、一部がエネルギーフィルタ１４０４を介して、検出器１４０３に向かうが、その他の電子は、検出器１４０３とは異なる方向に向かい、検出されない。本例では、検出される電子の検出効率を向上させると共に、高い検出効率を維持した状態で、高精度なエネルギーフィルタリングを行い得る装置構成について説明する。
　図１４に例示するＳＥＭは、試料から放出される電子の軌道を偏向する偏向素子として、集束電極１４０２が設けられている。例えばこの集束電極１４０２に対し、レンズ制御電源５から電圧を印加することによって、軌道偏向後の電子１４０７のように、検出器１４０３に向かって電子を方向付けることができる。なお、検出器１４０３は、ＭＣＰ（Micro Chanel Plate）検出器のような電子を直接的に検出する検出器であっても良いし、検出器１４０３を変換電極とし、当該変換電極から生じた二次電子を検出する検出器を別に設けるようにしても良い。
　図１５は、集束電極への印加電圧を変化させたときの輝度値の変化と、分解能評価指標の変化を示す図である。また、図２１は当該輝度値の変化と、分解能評価指標の変化を求めることによって、集束電極１４０２への印加電圧を選択する工程を示すフローチャートである。本例では、集束電極１４０２への印加電圧ごとに、輝度値と分解能評価指標を求めることによって、２つのカーブを作成すると共に、２つの閾値（Ｔｈ（ｇ），Ｔｈ（ｒ））を設定し、２つのカーブのそれぞれの閾値を超えた印加電圧の範囲（Δｇ，Δｒ）を選択する（ステップ２１０１，２１０２）。本例では、ΔｇとΔｒの重畳領域（ΔＶ）に含まれる印加電圧を、集束電極１４０２への印加電極として選択する（ステップ２１０３）。Δｇの印加電圧領域は、検出される電子の量が所定値以上の領域であり、Δｒの印加電圧領域は、エネルギー分解能が高い領域である。このような２つの印加電圧領域の重畳領域に含まれる電圧を選択することによって、電子の高効率検出と、エネルギーフィルタのフィルタリングコンディションの適正化の両立が可能となる。以上のような処理は、信号解析部２０１０によって行われる。
　図２３は、図１４とは異なり、対物レンズ１４０１が検出器１４０３との間にクロスオーバ点１４０５を作らない光学系を示す図である。このような光学系であっても、図１４の光学系と同様に、集束電極１４０２の適正な設定に基づいて、電子の高効率検出と、エネルギーフィルタのフィルタリングコンディションの適正化の両立が可能となる。
　図３１は、直交電磁界偏向器２０によって、情報信号３３（二次電子等）をビーム（偏向を伴わない１次ビームの光軸：理想光軸）から、軸外に偏向すると共に、当該偏向軌道上にエネルギーフィルタと検出器２１を配置した検出系を用いたＳＥＭにて、電子の検出効率の向上を可能とする集束レンズを設けた例を示す図である。試料から放出され、直交電磁界偏向器２０によって、軸外に偏向された情報信号３３は、図３１に例示するように分散する。一方で、真空室内に配置される検出器の検出面の大きさは有限であるため、分散が大きいと、検出効率が低下する。
　そこで、本実施例では、直交電磁界偏向器２０と検出器２５との間に、集束レンズを配置し、情報信号の軌道を制御することで、検出効率の向上を図る手法について説明する。図３１に例示するように、集束レンズ（例えば静電レンズ等）の集束作用がないと、理想光軸から離間するように試料から放出された電子の中には、検出器が存在する位置とは異なる方向に向かうものがある。このような電子を集束レンズの集束作用によって、検出器に向かって偏向すると、検出効率を向上することが可能となる。図３３は集束レンズの集束条件を決定する工程を示すフローチャートである。このフローチャートでは、ステップ３３０１にて設定されたレンズ強度ごとに画像を取得し（ステップ３３０２）、その画像から輝度情報を抽出し、その検出情報が所定の条件（例えば輝度値が最も高い、或いは所定値等）の場合に、その際のレンズ強度を装置条件として選択し、所定の条件を満たさない場合には、レンズ強度を再設定して、ステップ３３０１～ステップ３３０４を繰り返す。ステップ３３０５では、図３２に例示するように、輝度値が最大値のときのレンズ強度（本例の場合、静電レンズに印加する電圧値）、或いは輝度値が所定値（本例の場合、輝度値がＴｈ（ｇ）以上）のレンズ強度をレンズ条件として選択する。
　このような工程を経て、レンズ条件を決定することによって、高効率検出の可能な検出系光学条件を設定することが可能となる。
　また、エネルギーフィルタリングを行って電子を検出する場合、検出効率が大きい程、良いというわけではない場合がある。例えば、集束レンズの強度を強くする（ビームの開き角を大きくする）と、エネルギーフィルタの電極面に対し、斜めの方向から電子が入射することになるため、エネルギー分解能が低下する可能性がある。そこで、所定の検出量を得ることのできるレンズ条件範囲の中から、エネルギー分解能の高いレンズ条件を見出す手法を提案する。図３４はその工程を示すフローチャートである。図３３の検出工程において、所定値（例えばＴｈ（ｇ））以上の輝度値を示すレンズ条件が見出されたときに、そのレンズ強度範囲の中から適正なレンズ強度を選択すべく、複数のレンズ条件において、図２２に例示するようなＳカーブを形成し、ΔＶｆを求める（ステップ３４０２～ステップ３４０７）。
　ここで、複数のΔＶｆの中から最小値、或いは所定の条件を満たすレンズ強度をレンズ条件として選択する（ステップ３４０９）。
　以上のような構成によれば、十分な電子検出量を確保しつつ、エネルギーフィルタのエネルギー分解能の向上を実現することが可能となる。なお、予め電子検出量が十分に確保できていることが判明している場合には、エネルギーフィルタの分解能評価のみを行うことによって、レンズ条件決定するようにしても良い。
　なお、図３１に例示するエネルギーフィルタを形成する電極を、直交電磁界偏向器２０の偏向支点を中心とした半径ｒの円に平行に形成することによって、エネルギー分解能を更に高めることが可能となる。
１　電子銃
２　電子源
３　引出電極
４　加速電極
５　レンズ制御電源
６　電界制御部
７，８　集束レンズ
９　対物レンズ
１０　クロスオーバ
１１　位置モニター用測定装置
１２　試料ステージ
１３　試料
１４　可変減速電源
１５　絞り
１６ａ，１６ｂ　偏向器
１７，１８　電極
１９　電圧制御部
２０　直交電磁界偏向器
２１　検出器
２２，３１，４１　制御部
２３　ステージ駆動装置
２４　走査信号発生器
２７　記憶部
３２　像表示装置
３３，３４　情報信号
３６　電子ビーム
３７　画像処理部
４０　非点収差補正器
４３　光軸
４４　照射領域

Claims (7)

  1. 　荷電粒子源と試料に対する当該荷電粒子源から放出されるビームの照射に基づいて得られる荷電粒子を検出する検出器と、前記試料から放出される荷電粒子をエネルギーフィルタリングするエネルギーフィルタを備えた荷電粒子線装置において、
    　前記試料から放出される荷電粒子の前記エネルギーフィルタへの入射方向を調整する偏向素子を備え、前記検出器は、当該偏向素子の異なる偏向条件ごとに、前記荷電粒子を検出することを特徴とする荷電粒子線装置。
  2. 　請求項１において、
    　前記偏向素子は、前記試料から放出される荷電粒子を偏向する偏向器、或いは前記試料から放出される荷電粒子を集束する集束素子であることを特徴とする荷電粒子線装置。
  3. 　請求項２において、
    　前記偏向器は、直交電磁界発生器であることを特徴とする荷電粒子線装置。
  4. 　請求項２において、
    　前記偏向器、或いは集束素子の偏向条件ごとに、前記エネルギーフィルタに印加する電圧、或いは荷電粒子線装置の光学条件を変化させる制御装置を備えたことを特徴とする荷電粒子線装置。
  5. 　請求項４において、
    　前記制御装置は、前記エネルギーフィルタへの印加電圧ごと、或いは前記光学条件ごとに前記検出器の信号量を検出することを特徴とする荷電粒子線装置。
  6. 　請求項５において、
    　前記制御装置は、前記エネルギーフィルタへの印加電圧、或いは光学条件を変化させたときの前記信号量の変化が、所定の条件を満たす前記偏向条件、或いは当該信号量の変化が最も急峻な偏向条件を前記偏向器、或いは集束素子の条件として選択することを特徴とする荷電粒子線装置。
  7. 　荷電粒子源と試料に対する当該荷電粒子源から放出されるビームの照射に基づいて得られる荷電粒子を検出する検出器と、前記試料から放出される荷電粒子をエネルギーフィルタリングするエネルギーフィルタを備えた荷電粒子線装置において、
    　前記試料に負電位を印加する負電圧印加電源と、
    　前記試料から放出される荷電粒子の前記エネルギーフィルタへの入射方向を調整する偏向素子を備え、
    　前記偏向素子による偏向条件ごとに、前記負電圧を変化させたときの信号量の変化を検出し、当該変化が所定の条件を満たす前記偏向条件を、前記偏向素子の偏向条件として選択する制御装置を備えたことを特徴とする荷電粒子線装置。
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