WO2012165451A1 - プラズマ重合膜の製造方法、画像形成方法、及びプラズマ重合膜 - Google Patents

プラズマ重合膜の製造方法、画像形成方法、及びプラズマ重合膜 Download PDF

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WO2012165451A1
WO2012165451A1 PCT/JP2012/063848 JP2012063848W WO2012165451A1 WO 2012165451 A1 WO2012165451 A1 WO 2012165451A1 JP 2012063848 W JP2012063848 W JP 2012063848W WO 2012165451 A1 WO2012165451 A1 WO 2012165451A1
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plasma
film
polymerization initiator
polymerized film
polymerization
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PCT/JP2012/063848
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林 直之
由夫 稲垣
良 藤原
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富士フイルム株式会社
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Publication date
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/46Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/38Polymerisation using regulators, e.g. chain terminating agents, e.g. telomerisation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/46Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/52Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by electric discharge, e.g. voltolisation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00Inks
    • C09D11/30Inkjet printing inks

Definitions

  • the present invention relates to a plasma polymerized film useful for various applications such as an optical film and an organic semiconductor film, and a production method thereof.
  • the present invention also relates to an image forming method using plasma polymerization.
  • the spray coating method and ink jet method applied as mist or droplets have a large area (specific surface area) of the coating liquid-air interface, which increases the amount of oxygen mixed into the mist or droplets, and is more likely to cause polymerization inhibition. .
  • Patent Document 1 a thin film of a polymerizable monomer having a predetermined thickness is formed on a substrate surface of a polarizing plate protective film, and then plasma irradiation is performed under a pressure in the vicinity of atmospheric pressure. A manufacturing method is disclosed. In this method, polymerization hardening by plasma irradiation and surface hydrophilization are simultaneously performed. In Non-Patent Document 1, a polymerization accelerator is added to vinyl pyrrolidone, and polymerization is advanced by plasma irradiation.
  • This invention makes it a subject to improve the surface hardening degree of the polymerization hardening film of a monomer coating film, without reducing the hardening degree inside a film
  • the method for producing a plasma polymerized film of the present invention that has solved the above-mentioned problems is characterized in that a plasma containing a composition containing at least one radical polymerizable compound and at least one of a polymerization initiator and a chain transfer agent is used.
  • a plasma containing a composition containing at least one radical polymerizable compound and at least one of a polymerization initiator and a chain transfer agent is used.
  • a photopolymerization initiator is used as the polymerization initiator.
  • a polymer azo polymerization initiator is used as the polymerization initiator.
  • the plasma irradiation is performed using nitrogen gas plasma or helium gas plasma.
  • the UV light is irradiated simultaneously with the plasma irradiation or before and / or after the plasma irradiation.
  • the radically polymerizable compound has two or more polymerizable groups in the molecule.
  • the method for producing a laminated film of the present invention comprises producing a plasma polymerized film by the method for producing a plasma polymerized film of the present invention, and applying a coating liquid containing an organic solvent on the surface of the plasma polymerized film. Forming at least.
  • the image forming method of the present invention comprises a composition comprising at least one of a polymerization initiator and a chain transfer agent, at least one radical polymerizable compound, and an ink containing at least one colorant. And imagewise disposing on the surface of the substrate; and irradiating the composition with plasma to form an image comprising a plasma polymerized film.
  • the ink is a water-based ink
  • the radical polymerizable compound is a polyfunctional acrylamide monomer having an alkyleneoxy chain in the molecule.
  • the plasma polymerized film of the present invention is obtained by polymerizing a composition containing at least one of a polymerization initiator and a chain transfer agent and at least one radical polymerizable compound by plasma irradiation.
  • the thickness is 50 to 5000 nm.
  • a photopolymerization initiator is used as the polymerization initiator.
  • a polymer azo polymerization initiator is used as the polymerization initiator.
  • the plasma irradiation is performed using nitrogen gas plasma or helium gas plasma.
  • the radically polymerizable compound has two or more polymerizable groups in the molecule. More preferably, plasma irradiation and UV light irradiation are performed.
  • the present invention it is possible to improve the degree of surface hardening of the polymerized film of the monomer coating without reducing the degree of hardening inside the film. That is, according to the present invention, it is possible to provide a plasma polymerized film showing a high degree of curing both on the film surface and inside the film, and a method for producing the same.
  • a numerical range represented by using “to” means a range including numerical values described before and after “to” as a lower limit value and an upper limit value.
  • the terms “plasma polymerized film” and “cured film” are used to include both a self-supporting film, and a layer and a film formed on the support.
  • the present invention relates to a plasma polymerized film obtained by polymerizing a composition containing at least one of a polymerization initiator and a chain transfer agent and at least one radical polymerizable compound by plasma irradiation. .
  • the polymerization is advanced by irradiating a plasma gas introduced into the discharge space. Since plasma contains various active species generated by decomposition, excitation, activation, radicalization, ionization, etc. of the gas introduced into the discharge space, radical polymerization can be achieved by plasma irradiation.
  • the compound can be activated to allow the radical polymerization reaction to proceed.
  • polymerization by plasma irradiation is not inhibited by oxygen, and radical polymerization reaction proceeds from the surface of the film irradiated with plasma.
  • a film having a high surface hardness can be formed.
  • the film thickness is large (for example, 50 nm or more)
  • the progress of radical polymerization reaction inside the film becomes insufficient, and peeling from the substrate may easily occur.
  • plasma polymerization of a composition containing at least one of a polymerization initiator and a chain transfer agent and at least one radical polymerizable compound without impairing the curability inside the film, A cured film having a high degree of curing on the film surface is provided.
  • the preferred range of the addition amount of the polymerization initiator or chain transfer agent varies depending on the film thickness and the like.
  • the radical polymerizable compound may be used in order to form a cured film having a film thickness of 50 to 5000 nm.
  • the content is preferably 20% by mass or less, more preferably 1 to 10% by mass, and further preferably 2 to 5% by mass. However, it is not limited to this range.
  • the polymerization rate of the plasma polymerized film having a thickness of 100 nm to 1000 nm achieves 60% or more. it can.
  • the polymerization rate can be determined by measuring the infrared absorption of the film before and after the polymerization reaction and comparing the intensity of the absorption peak due to the polymerizable group.
  • the kind of polymerization initiator which can be used for this invention is not restriction
  • a suitable type can be selected according to the nature of the irradiated plasma and the type of discharge gas used for plasma irradiation.
  • the polymerization initiator of the present invention it is preferable to use a photopolymerization initiator or a thermal polymerization initiator.
  • the photopolymerization initiator a known photopolymerization initiator can be used.
  • the photopolymerization initiator that can be used in the present invention is a UV plasma that emits UV light because nitrogen plasma using nitrogen gas emits UV light. It is more preferable to use a UV polymerization initiator that generates radicals and the like.
  • UV polymerization initiators such as ⁇ -amino ketones, ⁇ -hydroxy ketones, phosphine oxides, oxime esters, and titanocenes can be used.
  • Commercially available products for example, IRSFACURE907, DAROCURE1173, IRGACURE184, IRGACURE369, IRGACURE379, IRGACURE819, IRGACURE784, IRGACURE OXE01, IRGACURE OXE02, etc.
  • IRSFACURE907 for example, IRSFACURE907, DAROCURE1173, IRGACURE184, IRGACURE369, IRGACURE379, IRGACURE819, IRGACURE784, IRGACURE OXE01, IRGACURE OXE02, etc.
  • Thermal polymerization initiators that generate radicals by heat include organic peroxides, lauroyl peroxide, benzoyl peroxide, azo-based polymerization initiators such as azobisisobutyronitrile (AIBN), V-30, V-40, V-59, V-65, V-70, V-601, VF-096, VAm-110, VAm-111 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and the like can be used.
  • AIBN azobisisobutyronitrile
  • V-30, V-40, V-59, V-65, V-70, V-601, VF-096, VAm-110, VAm-111 manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.
  • the thermal polymerization initiator may be heated to such an extent that it can sufficiently exert its action.
  • the degree of cure is improved by using the thermal polymerization initiator. be able to.
  • the composition containing a thermal polymerization initiator may be heated simultaneously with plasma irradiation or before or after plasma irradiation.
  • chain transfer agent suitable for the radically polymerizable compound to be used in combination can be selected.
  • a compound having a mercapto group can be selected. Specifically, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, ⁇ -mercaptopropionic acid, methyl-3-mercaptopropionate, 2-ethylhexyl-3-mercaptopro Pionate, n-octyl-3-mercaptopropionate, n-octyl mercaptan, n-dodecyl mercaptan, trimethylolpropane tris (3-mercaptopropionate), tris-[(3-mercaptopropionyloxy) -ethyl] -Isocyanurate, tetraethylene glycol bis (3-mercaptopropionate), dipentaerythritol hexakis (3-mercaptopropionat
  • a composition containing at least one of a polymerization initiator and a chain transfer agent and at least one radical polymerizable compound as a coating liquid
  • the plasma gas may cause unevenness on the surface of the coating (unevenness on the surface of the coating), resulting in loss of transparency and an increase in haze.
  • it is preferable to increase the viscosity of the coating liquid and as a polymerization initiator and / or chain transfer agent, a polymer that contributes to an increase in the viscosity of the coating liquid is used. It is preferable to use it.
  • a polymerization initiator it is preferable to use a polymer polymerization initiator, and a more preferable polymerization initiator includes a polymer azo polymerization initiator.
  • the polymer azo polymerization initiator of the present invention include a repeating unit composed of an azo group and a polymer unit (for example, a polydimethylsiloxane unit, a polyethylene glycol unit, etc.) introduced at both ends of the azo group.
  • high molecular azo polymerization initiators having The molecular weight of the polymer unit is preferably 2000 to 10,000, and more preferably 5000 to 10,000.
  • Specific examples of the polymer azo polymerization initiator are variously described in “Fine Chemical Vol. 39, No. 9, 47-52, 2010” and the like, and can be referred to.
  • Commercial products for example, VPS-1001, VPE-0201, VPE-0401, VPE-0601, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd. may be used.
  • the radical polymerizable compound that can be used in the present invention is not particularly limited, but a radical polymerizable compound having two or more polymerizable groups in the molecule can form a crosslinked structure, and is preferable from the viewpoint of film curing.
  • a radical polymerizable compound having two or more polymerizable groups in the molecule can form a crosslinked structure, and is preferable from the viewpoint of film curing.
  • polyethylene glycol diacrylate NK ester A-200, A-400, A-600, A-1000
  • neopentyl glycol dimethacrylate NK ester 3PG, 9PG, APG-400, APG-700
  • neopentyl glycol diacrylate NK ester APG-100, APG-200, APG-400, APG-700
  • V # 195 1,4-butanediol diacrylate
  • V # 3P trisacryloyloxyethyl phosphate
  • V # 3P vinyl modified polydimethylsiloxane at both ends
  • side chain vinyl-modified polysiloxane VDT-123, VDT-127, VDT-131, VDT-163, VDT-431, above, Gelest, Inc.
  • methacryl-modified polydimethylsiloxane (X-22-164, X-22-164AS, X-22-164A, X-22-164B, X-22-) 164C, X-22-164E, and the above, trade names of Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.). It is not limited to.
  • the present invention is an embodiment using a hydrophilic monomer as a radical polymerizable compound. Is particularly useful.
  • a hydrophilic monomer as a radical polymerizable compound.
  • many polymerization initiators which are hardly soluble in water also exist.
  • the conventional photopolymerization and thermal polymerization in which a certain amount of polymerization initiator needs to be added in order to obtain a sufficient degree of hardening, there are limited polymerization initiators that can be used together with the hydrophilic monomer.
  • the addition amount of the polymerization initiator can be reduced, and the range of selection of the polymerization initiator that can be contained in the composition prepared as an aqueous coating liquid can be expanded.
  • hydrophilic monomers include monomers having a polyoxyalkylene chain (for example, repeating 2 to 10 polyethyleneoxy units) in the molecule.
  • a radical polymerizable compound in which an acrylamide group, an acryloyl group or a methacryloyl group is linked by a polyoxyalkylene chain can be suitably used in the present invention.
  • it is terminated by an alkylene group having a branched structure containing tertiary or quaternary carbon, or by a non-aromatic (cycloalkylene or the like) or aromatic cyclic group.
  • Three or more polyoxyalkylene chains having a polymerizable group may be linked. Examples of these compounds include water-soluble polymerizable substances disclosed in Japanese Patent No. 4533295. The water-soluble polymerizable substance described in the patent publication is particularly useful in the image forming method described later.
  • the plasma polymerized film of the present invention has a feature that the upper layer can be formed by applying the coating liquid without causing interfacial mixing because the degree of surface curing is high.
  • the radical polymerizable compound used in the present invention is a functional organic thin film laminate such as an organic transistor or an organic photoreceptor, or a raw material for an organic thin film constituting an optical application (light extraction layer for an organic EL device).
  • a radically polymerizable compound is preferred.
  • a polyfunctional monomer having at least one carbazole skeleton, triarylamine skeleton, thiophene skeleton, fluorene skeleton, naphthalene skeleton, or the like in the molecule can be given.
  • linking group examples include C 1 to C 20 alkylene groups (provided that one carbon atom or two or more carbon atoms not adjacent to each other are an oxygen atom, a sulfur atom, —COO—, OCO—, —NHCO—).
  • —CONH—, or —CO— and one —CH 2 —CH 2 — or two or more non-adjacent —CH 2 —CH 2 — may be —CH ⁇ CH—, or -C ⁇ C-), and a combination of the alkylene group and an aromatic hydrocarbon group such as a phenylene group or a heterocyclic group.
  • the polymerizable group include a vinyl group, an acryloyl group, and a methacryloyl group, and an acryloyl group or a methacryloyl group is more preferable.
  • NK ester A-BPEF product name of Shin-Nakamura Kogyo Co., Ltd.
  • Ac-N product name of Kawasaki Kasei Kogyo Co., Ltd.
  • An example of the method for producing a plasma polymerized film of the present invention is a plasma formed by irradiating a composition containing at least one of a polymerization initiator and a chain transfer agent and at least one radical polymerizable compound with plasma. This is a method for producing a polymerized film.
  • the composition is preferably prepared as a coating solution.
  • An organic solvent can be used.
  • examples of usable organic solvents include amides (eg, N, N-dimethylformamide), sulfoxides (eg, dimethyl sulfoxide), heterocyclic compounds (eg, pyridine), hydrocarbons (eg, toluene, xylene, hexane) , Alkyl halides (eg, chloroform, dichloromethane), esters (eg, methyl acetate, butyl acetate), ketones (eg, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone), ethers (eg, tetrahydrofuran, 1,2-dimethoxyethane), alcohols (eg, Methanol, ethanol, isopropyl alcohol). Alkyl halides and ketones are preferred. Two or more organic solvent
  • the composition prepared as a coating solution is applied to the surface of a substrate or the like, and the solvent is removed by drying to form a coating film.
  • the composition can be applied by a general application method, such as an inkjet method, a spray coating method, a spin coating method, an extrusion coating method, a direct gravure coating method, a reverse gravure coating method, a die coating method, a bar coating method, and the like. It can be carried out by a coating method.
  • atmospheric pressure plasma generated under conditions near atmospheric pressure it is preferable to use atmospheric pressure plasma generated under conditions near atmospheric pressure.
  • a non-equilibrium plasma jet, low-temperature plasma by AC pulse discharge, or the like can be used, and it is preferable to use atmospheric pressure plasma generated under conditions near atmospheric pressure.
  • Various atmospheric pressure plasma apparatuses can be used for plasma irradiation.
  • an apparatus that can generate low-temperature plasma by performing intermittent discharge while passing an inert gas at a pressure close to atmospheric pressure between electrodes covered with a dielectric is preferable, and various modifications can be made depending on the purpose of use. You can choose an example. More specifically, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-60115, an apparatus used for substrate plasma processing, an atmospheric pressure plasma apparatus described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-228136, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-21972, Japanese Patent Application Laid-Open No.
  • the atmospheric pressure plasma apparatus is also available as a commercial product, for example, ATMP-1000 from Arios Co., Ltd., atmospheric pressure plasma apparatus from HEIDEN LABORATORIES, INC., S5000 type atmospheric pressure low-temperature plasma from Sakai Semiconductor Co., Ltd.
  • Atmospheric pressure plasma devices currently on the market such as jet devices, MyPL100, ILP-1500 of Well Co., Ltd., and RD550 of Sekisui Chemical Co., Ltd. can also be suitably used.
  • active species for example, radicals contained in the plasma adhere to the surface of the coating film, and polymerization (for example, radical polymerization) starts from the surface. That is, in radical polymerization under normal atmosphere, tackiness (adhesiveness) occurs on the surface of the coating due to inhibition of polymerization by oxygen, but in plasma polymerization, coating is performed due to the high degree of polymerization on the surface of the coating. No tackiness (adhesiveness) occurs on the film surface.
  • the polymerization reaction by the UV light irradiation can be advanced together with the progress of the polymerization reaction by the plasma irradiation.
  • the heat polymerization reaction may also proceed due to heat generated by the plasma irradiation.
  • light (for example, UV light) irradiation or heat supply may be performed simultaneously with plasma irradiation or before or after plasma irradiation to accelerate the polymerization reaction.
  • Add light (UV) polymerization initiator polymerization initiator that generates radicals by UV irradiation
  • to the composition when performing nitrogen plasma irradiation and when light irradiation is performed simultaneously with or before and after plasma irradiation. It is preferable to keep it.
  • fever by plasma irradiation, and also when heat donation is performed simultaneously with plasma irradiation, or before and after that it is preferable to add a thermal polymerization initiator in the composition.
  • plasma irradiation may be performed in a batch method or in an in-line method connected to other processes.
  • the plasma action site and the discharge site are separated, or the local concentration of the plasma (streamer) is suppressed by devising the discharge circuit, and uniform plasma
  • the latter is preferable in that uniform plasma irradiation (plasma treatment) can be performed over a large area.
  • a method in which the plasma generated by the discharge is brought into contact with the surface of the coating film by an inert gas stream is preferable, and a so-called plasma jet method is particularly preferable.
  • the path (conducting tube) for transporting the inert gas containing plasma is preferably made of a dielectric such as glass, porcelain, or organic polymer.
  • the distance from the supply nozzle of the inert gas containing plasma to the coating film surface is preferably 0.01 mm to 100 mm, and more preferably 1 mm to 20 mm.
  • plasma can be applied to the surface of the coating film by an in-line system, similar to the system described in WO2009 / 096785. That is, a coating film for forming an organic thin film is formed by a coating method, and a blowing nozzle that can apply an inert gas and plasma to the coating film surface is provided on the downstream side of the coating process. Formation is possible.
  • the polymerization reaction and the curing reaction start and proceed efficiently by direct action of the plasma on the radical polymerizable compound present in the coating film. Even if the polymerization reaction which requires the closed system environment of an inert gas atmosphere as an objective is performed by an open system, it has the advantage that favorable sclerosis
  • an inert gas may be sufficiently supplied to the region where the plasma treatment is performed, or the region may be filled with the inert gas.
  • an inert gas is allowed to flow to the plasma generation site before the plasma is turned on, and the inert gas is allowed to continue even after the plasma is extinguished.
  • the inert gas after the plasma treatment since the lifetime of the plasma is short, it may be exhausted without performing any special treatment, but the inert gas that has been treated by providing an inlet near the treatment area May be recovered.
  • the temperature at the time of plasma irradiation can be selected arbitrarily depending on the characteristics of the material in the coating film irradiated with plasma, but damage can be reduced if the temperature rise caused by irradiation with atmospheric pressure plasma is smaller. preferable.
  • the effect is further improved by separating the region to be subjected to the plasma treatment from the plasma generator.
  • the temperature rise of the coating film due to the plasma irradiation is preferably 50 ° C. or less, more preferably 40 ° C. or less, and particularly preferably 20 ° C. or less.
  • the temperature at the time of plasma irradiation is preferably not higher than the temperature that can be withstood by the material in the coating film irradiated with plasma, and is generally preferably from ⁇ 196 ° C. to less than 150 ° C., and preferably from ⁇ 21 ° C. to 100 ° C. More preferred. Particularly preferred is the vicinity of room temperature (25 ° C.) under an ambient temperature atmosphere.
  • plasma irradiation does not inhibit polymerization by oxygen in the atmosphere, unlike photopolymerization and thermal polymerization. Since the plasma polymerized film of the present invention formed by plasma irradiation has a high-density cross-linked structure and the degree of polymerization of the surface is high, a laminated (multilayer) structure is formed by a coating method. Even in this case, undesired diffusion or mixing in the adjacent layer at the coating film interface is suppressed. As described above, the plasma polymerized film production method of the present invention suppresses the compatibility and diffusion of low molecular weight components at the interface with the adjacent layer, which is a problem in the usual coating method. It can be manufactured with high productivity by a coating method and a continuous method.
  • plasma irradiation may introduce a carboxyl group, a hydroxyl group, a nitrile group, an amide group, etc. (derived from oxygen molecules, water molecules, nitrogen molecules, ammonia molecules) onto the surface of the film simultaneously with polymerization and part thereof. is there.
  • a hydrophilic group on the film surface improves the wettability and adhesion to the coating solution when another layer (for example, a barrier layer / sealing layer) is formed on the film. Therefore, there is also an advantage that lamination becomes easy.
  • the surface hydrophilicity can be known using the contact angle of water as an index.
  • the surface of the plasma polymerized film of the present invention has a water contact angle (a contact angle when 2 ⁇ L of pure water is dropped, preferably calculated as an average value of about 10 points), and has a hydrophilicity of 80 ° or less. It is preferable to show, or it is more preferable to show hydrophilicity of 30 to 70 °, or it is more preferable to show hydrophilicity of 35 to 65 °.
  • Polymerizable compounds having a carbazole skeleton, a triarylamine skeleton, a thiophene skeleton, a fluorene skeleton, a naphthalene skeleton, etc.
  • the plasma polymerized film of the present invention has a characteristic that it exhibits hydrophilicity (even if no surface treatment is performed), although it contains a lipophilic radically polymerizable compound as a main component.
  • the thickness of the plasma polymerization film of the present invention is not particularly limited.
  • a plasma polymerized film having a film thickness of 50 to 5000 nm (more preferably 100 to 5000 nm, still more preferably 500 to 5000 nm) can be stably produced. However, it is not limited to this range.
  • the plasma polymerized film of the present invention may be formed on a support.
  • a support a glass plate, a metal plate, various polymer films, and the like can be used.
  • the plasma polymerized film of the present invention can be used for various applications. For example, it can be used for an optical film such as an optical compensation film of a liquid crystal display device. Moreover, it can utilize as organic-semiconductor layers, such as an organic transistor.
  • the polymerization initiator remaining in the plasma polymerization film can cause carrier trapping. However, in plasma polymerization, the amount of polymerization initiator used can be reduced compared to conventional photopolymerization and the like. Improvement is expected. Since the influence of decomposition by plasma irradiation can be reduced, it is particularly effective as an organic semiconductor layer of a bottom-gate transistor.
  • the method for producing a plasma polymerized film of the present invention is effective in reducing surface tackiness by reducing surface polymerization inhibition and improving the degree of surface hardening in spray coating methods and ink jet methods applied as mist or droplets. Yes, it is possible to reduce image rubbing and stains on the back surface that occur when printed paper is stacked. That is, the method for producing a plasma polymerized film of the present invention can be used for an image forming method by a spray coating method or an ink jet method. In this method, an ink containing a color material (pigment, dye, etc.) together with a polymerization initiator and / or a chain transfer agent and a radical polymerizable compound can be used. Examples of the pigment include C.I. I.
  • Pigment yellow 13 PY13
  • C.I. I. Pigment red 17 PR17
  • Known materials such as CI Pigment Blue 56 (PB56) can be used.
  • the dye include C.I. I. Acid Yellow 23 (AY23), C.I. I. Direct Yellow 44 (DY44), C.I. I. Direct Yellow 142 (DY142), C.I. I. Acid Red 289 (AR289), C.I. I. Acid Red 249 (AR249), C.I. I. Acid Red 35 (AR35), C.I. I. Acid Red 87 (AR87), C.I. I. Acid Red 276 (AR276), C.I. I. Direct Red 79 (DR79), C.I. I.
  • Acid Blue 9 (AB9), C.I. I. Direct Blue 86 (DB86), C.I. I. Direct Blue 168 (DB168), C.I. I. Acid Black 24 (ABk24), C.I. I. Acid Black 26 (ABk26), C.I. I. Acid Black 2 (ABk2), C.I. I. Direct Black 19 (DBk19) C.I. I. Known materials such as direct black 154 (DBk154) can be used.
  • the content of the coloring material in the composition is preferably 0.5% by mass to 20% by mass, and more preferably 2% by mass to 10% by mass.
  • one embodiment of the present invention is a composition containing at least one of a polymerization initiator and a chain transfer agent, at least one radical polymerizable compound, and an ink containing at least one colorant.
  • An image forming method comprising: disposing an image-like image on a surface of a substrate (for example, paper or polymer film); and irradiating the composition with plasma to form an image composed of a plasma polymerized film. It is.
  • a method of forming the image by arranging the ink on the substrate surface in an image-like manner an ink jet method, a spray coating method, or the like can be used.
  • Water-based ink can be used as the ink.
  • the ink Even if the addition amount of the polymerization initiator is reduced, a sufficient film hardening degree can be obtained, so even a polymerization initiator having low solubility in water can be used.
  • the hydrophilic monomer that can be used as the radical polymerizable compound is as described above, and a polyfunctional radical polymerizable compound having an alkyleneoxy chain in the molecule is preferable. Among them, an acrylamide monomer having an alkyleneoxy chain in the molecule is preferable, and for example, an aqueous polymerizable substance described in Japanese Patent No. 4533205 can be used. However, it is not limited to this example.
  • Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3 (1) Example 1 Journal of Polymer Science: Part A. Polymer Chemistry, Vol. 47, p. 2664, 2009, 20 parts by mass of the following acrylamide-based polymerizable compound (1) and a photo (UV) polymerization initiator A coating solution was prepared by dissolving 0.4 part by mass of methanol in methanol. The coating solution was applied onto a copper foil by spin coating to form a film having a thickness of 500 nm.
  • the coating film was irradiated with low-temperature N 2 plasma for 30 seconds using an S5000 type atmospheric pressure low-temperature plasma jet apparatus (discharge gas: nitrogen) manufactured by Sakai Semiconductor Co., Ltd., the polymerization reaction was allowed to proceed, and the film thickness was 500 nm. A plasma polymerization film was formed.
  • Example 2 A plasma polymerization film having a thickness of 500 nm was formed in the same manner as in Example 1 except that the discharge gas was changed to He gas and He gas plasma was irradiated.
  • Comparative Example 1 A plasma polymerization film having a film thickness of 500 nm was formed in the same manner as in Example 1 except that a solution containing no photopolymerization initiator was prepared as the coating liquid.
  • Comparative Example 2 A coating film having a thickness of 500 nm was prepared in the same manner as in Example 1, UV SOURCE EX250 (manufactured by HOYA-SCHOTT) was used as a UV lamp, and the UV irradiation amount was 1 J / cm 2 in the atmosphere. UV irradiation was performed.
  • Example 3 The plasma polymerized film of Example 3 was formed in the same manner as in Example 1 except that the coating amount applied on the copper foil in Example 1 was changed to form a plasma polymerized film having a film thickness of 1000 nm.
  • a coating film was prepared in the same manner as in Example 1, UV irradiation was performed in the air, and then plasma irradiation was performed to form the plasma polymerized film of Example 4.
  • the plasma polymerized film of Comparative Example 3 was formed in the same manner as Comparative Example 1 except that the coating amount applied on the copper foil in Comparative Example 1 was changed to form a plasma polymerized film having a film thickness of 1000 nm.
  • A There is no adhesion of foreign matters on the PET film, the degree of surface curing is high, and there is no surface tackiness.
  • B There is adhesion of foreign matters on the PET film, the degree of surface curing is low, and there is surface tackiness.
  • Example 5 Zirconium oxide fine particles (primary average particle size 15 nm) 13 parts by mass and dispersion material (4-octylbenzoic acid) 1.3 parts by mass are mixed in 10 parts by mass of toluene, and an omni mixer and an ultrasonic disperser are used. The mixture was sufficiently stirred and dispersed to obtain a zirconium oxide dispersion. 24.3 g parts by mass of zirconium oxide dispersion, 10 parts by mass of the following bifunctional monomer (2) (product name of “NK Ester A-BPEF”, Shin-Nakamura Kogyo Co., Ltd.) and 6 parts by mass of toluene are dissolved by stirring with a stirrer. Further, the zirconium oxide particles were sufficiently dispersed by an ultrasonic disperser to prepare a monomer coating solution precursor.
  • bifunctional monomer (2) product name of “NK Ester A-BPEF”, Shin-Nakamura Kogyo Co., Ltd.
  • the coating solution was applied to the bar coating method so that the film thickness was 5 ⁇ m on a glass substrate that had been treated with a methacryl-modified silane coupling agent “KBM-503” (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.). And coated to form a film.
  • a UV exposure machine “ECS-401GX” light source metal halide lamp, manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.
  • irradiation is performed in the atmosphere so that the UV irradiation amount is 2 J / cm 2
  • nitrogen plasma irradiation was performed.
  • membrane was produced by heating at 120 degreeC for 30 minutes.
  • Example 5 a polymer film of Comparative Example 4 was produced in the same manner as in Example 5 except that plasma irradiation was not performed.
  • Example 5 since there is no surface tackiness and solvent resistance is good, it can be understood that the film surface is sufficiently cured. Moreover, it can be understood from the cross-cut test that the inside of the film is sufficiently cured. On the other hand, in Comparative Example 4, the bifunctional monomer (2) had low solubility in isopropyl alcohol and no change in film thickness was observed, but the solvent resistance evaluation 2 was not good. It can be understood that inhibition occurs and the film surface is not sufficiently polymerized. In addition, the plasma polymerization film
  • Example 6 and Comparative Example 5 (1) Example 6 (Ink preparation) 20 parts by mass of a PB-15: 1 pigment dispersion (pigment concentration 9 wt%), 20 parts by mass of the following bifunctional acrylamide monomer (3), and 58 parts by mass of pure water were stirred and dissolved with a stirrer. Furthermore, ultrasonic treatment was performed with an ultrasonic disperser to prepare an ink precursor for inkjet. Next, 1 part by mass of an optical (UV) polymerization initiator: IRGACURE 2959 (manufactured by BASF) was dissolved to prepare an ink jet ink.
  • UV optical
  • IRGACURE 2959 manufactured by BASF
  • Example 6 a polymer film of Comparative Example 5 was produced in the same manner as Example 6 except that plasma irradiation was not performed.
  • Example 6 since there is no surface tackiness and solvent resistance is good, it can be understood that the film surface is sufficiently cured. Moreover, it can be understood from the cross cut test that the inside of the film is sufficiently cured. On the other hand, in Comparative Example 5, it can be understood that the solvent resistance is low, the polymerization inhibition by oxygen occurs, and the surface polymerization is not sufficient. From the above results, it was confirmed that even when the ink jet method was used, a plasma polymerized film in which the film surface and the film interior were sufficiently cured could be obtained. That is, according to the present invention, it is possible to provide an image forming method excellent in fixability without image transfer.
  • the coating solution is applied by spin coating so that the surface has a thickness of 500 nm on a UV ozone-treated glass substrate treated with a methacryl-modified silane coupling agent (“KBM-503” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.). And coated to form a film.
  • Nitrogen plasma treatment was performed in the same manner as in Example 1, and heat-dried at 80 ° C. for 5 minutes in the air using a hot plate to produce a plasma polymerized film.
  • Example 8 In Example 7, instead of the polymer azo polymerization initiator, a chain transfer agent: 3-merkatopropyltrimethoxysilane KBM-803 (trade name of Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was added, and the same as in Example 7. A plasma polymerization film was prepared.
  • a chain transfer agent 3-merkatopropyltrimethoxysilane KBM-803 (trade name of Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was added, and the same as in Example 7. A plasma polymerization film was prepared.
  • Example 7 a polymer film of Comparative Example 6 was produced in the same manner as in Example 7 except that the plasma irradiation treatment was not performed.
  • Example 8 a polymer film of Comparative Example 7 was produced in the same manner as in Example 8 except that the plasma irradiation treatment was not performed.

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Abstract

モノマー塗膜の重合硬膜の表面硬化度を、膜内部の硬化度を低下させることなく改善する。少なくとも1種のラジカル重合性化合物と、重合開始剤及び連鎖移動剤の少なくともいずれか一方と、を含有する組成物に、プラズマ照射するプラズマ重合膜の製造方法である。また、重合開始剤及び連鎖移動剤の少なくともいずれか一方と、少なくとも1種のラジカル重合性化合物と、を含有する組成物を、プラズマ照射によって重合させてなるプラズマ重合膜である。

Description

プラズマ重合膜の製造方法、画像形成方法、及びプラズマ重合膜
 本発明は、光学膜、有機半導体膜等、種々の用途に有用なプラズマ重合膜、及びその製造方法に関する。また本発明は、プラズマ重合を利用した、画像形成方法にも関する。
 従来、有機薄膜を形成する方法として、モノマーの塗膜の重合を進行させて形成する方法が知られている。塗膜の重合には、光重合や熱重合が利用されるのが一般的である。しかし、これらの重合反応は、酸素により阻害されるので、大気に接している膜表面の硬化度が低くなるという問題がある。特に、有機薄膜上に塗布液を塗布してさらに膜を積層形成する場合には、塗布液中の有機溶媒によって下層の有機薄膜の表面が溶解し、塗布界面に、所望されていない材料の拡散や混合が生じる場合がある。それにより、膜界面の構造が重要な有機トランジスタ、有機感光体等における有用性が損なわれる場合がある。また、ミストやドロプレットとして塗布するスプレーコート法やインクジェット法では、塗布液-空気界面の面積(比表面積)が大きいので、ミストやドロプレットへの酸素の混入量が増加し、より重合阻害を起こしやすい。
 一方、重合反応に、プラズマを利用することが提案されている。例えば特許文献1には、所定の厚みの重合性モノマーの薄膜を偏光板保護フィルムの基材表面に形成し、その後、大気圧近傍の圧力下でプラズマ照射することを特長とする偏光板保護フィルムの製造方法が開示されている。この方法では、プラズマ照射による重合硬膜化と、表面親水化を同時に行っている。また、非特許文献1では、ビニルピロリドンに重合促進剤を添加して、プラズマ照射することにより重合を進行させている。
特開2009-25604号公報
Chem. Mater., Vol.22, 5653頁,2010年.
 プラズマ照射による重合では、光重合反応等とは異なり、酸素による阻害は生じず、重合はプラズマ照射された塗膜表面から進行するので、表面の硬化性が改善されるという利点がある。一方で、膜の厚さを厚くしていくと、膜内部の硬化度が低下し、剥離等が生じ易くなることが、本発明者の検討によりわかった。また、非特許文献1に開示の方法のように、重合速度を速める作用のある重合促進剤の添加は、プラズマ照射による重合においては、重合速度が過度に速まり、塗膜中の溶媒の乾燥中にゲル化して、塗膜中に溶媒が残存するという問題があることが、本発明者の検討によりわかった。
 本発明は、モノマー塗膜の重合硬膜の表面硬化度を、膜内部の硬化度を低下させることなく改善することを課題とする。
 即ち、本発明は、膜表面及び膜内部の双方が高い硬化度を示すプラズマ重合膜、及びその製造方法を提供することを課題とする。
 また、本発明は、画像移り等のない、定着性に優れた画像を形成可能な方法を提供することを課題とする。
 前記課題を解決し得た本発明のプラズマ重合膜の製造方法は、少なくとも1種のラジカル重合性化合物と、重合開始剤及び連鎖移動剤の少なくともいずれか一方と、を含有する組成物に、プラズマ照射する。
 好ましくは、重合開始剤として、光重合開始剤を用いる。
 さらに好ましくは、重合開始剤として、高分子アゾ系重合開始剤を用いる。
 さらに好ましくは、プラズマ照射を、窒素ガスプラズマ、又は、ヘリウムガスプラズマを用いて行う。
 さらに好ましくは、プラズマ照射と同時に、又はプラズマ照射の前及び/又は後に、UV光を照射する。
 さらに好ましくは、ラジカル重合性化合物が、分子内に2以上の重合性基を有する。
 本発明の積層膜の製造方法は、本発明のプラズマ重合膜の製造方法によってプラズマ重合膜を製造すること、及びプラズマ重合膜の表面上に、有機溶媒を含む塗布液を用いた塗布により膜を形成すること、を少なくとも含む。
 本発明の画像形成方法は、重合開始剤及び連鎖移動剤の少なくともいずれか一方と、少なくとも1種のラジカル重合性化合物と、少なくとも1種の色材を含有するインクと、を含む組成物を、基材の表面に、画像様に配置すること;及び、組成物に、プラズマ照射して、プラズマ重合膜からなる画像を形成すること、を含む。
 好ましくは、インクが水性インクであり、ラジカル重合性化合物が、分子内にアルキレンオキシ鎖を有する多官能アクリルアミド系モノマーである。
 本発明のプラズマ重合膜は、重合開始剤及び連鎖移動剤の少なくともいずれか一方と、少なくとも1種のラジカル重合性化合物と、を含有する組成物を、プラズマ照射によって重合させてなる。
 好ましくは、厚さが、50~5000nmである。
 さらに好ましくは、重合開始剤として、光重合開始剤を用いる。
 さらに好ましくは、重合開始剤として、高分子アゾ系重合開始剤を用いる。
 さらに好ましくは、プラズマ照射を窒素ガスプラズマ、又は、ヘリウムガスプラズマを用いて行う。
 さらに好ましくは、ラジカル重合性化合物が、分子内に2以上の重合性基を有する。
 さらに好ましくは、プラズマ照射及びUV光照射されてなる。
 本発明によれば、モノマー塗膜の重合硬膜の表面硬化度を、膜内部の硬化度を低下させることなく改善することができる。
 即ち、本発明によれば、膜表面及び膜内部の双方が高い硬化度を示すプラズマ重合膜、及びその製造方法を提供することができる。
 以下、本発明について詳細に説明する。
 なお、本明細書において「~」を用いて表される数値範囲は、「~」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
 また、本明細書中、「プラズマ重合膜」および「硬化膜」の用語は、自己支持性のある膜、及び支持体上に形成される層及び被膜のいずれも含む意味で用いられる。
1.プラズマ重合膜
 本発明は、重合開始剤及び連鎖移動剤の少なくともいずれか一方と、少なくとも1種のラジカル重合性化合物と、を含有する組成物に、プラズマ照射して重合させてなるプラズマ重合膜に関する。プラズマ照射による重合では、放電空間に導入され、プラズマ化されたガスを照射することで重合を進行させる。プラズマには、放電空間に導入されたガスが分解、励起、活性化、ラジカル化、及びイオン化等されることによって生じた活性種が種々含まれているので、プラズマ照射することにより、ラジカル重合性化合物を活性化させて、ラジカル重合反応を進行させることができる。光重合や熱重合と異なり、プラズマ照射による重合は、酸素によって阻害されず、プラズマ照射される膜表面からラジカル重合反応が進行する。それにより、高い表面硬度の膜を形成することができる。一方で、膜厚が厚い(例えば50nm以上)と、膜内部におけるラジカル重合反応の進行が不十分になり、基材からの剥離等が生じやすくなる場合がある。本発明では、重合開始剤及び連鎖移動剤の少なくともいずれか一方と、少なくとも1種のラジカル重合性化合物と、を含有する組成物をプラズマ重合させることで、膜内部の硬化性を損なうことなく、膜表面の硬化度が高い硬化膜を提供する。
 重合開始剤又は連鎖移動剤の添加量の好ましい範囲は、膜厚等に応じて変動するが、例えば、膜厚が50~5000nmの硬化膜を形成するためには、ラジカル重合性化合物に対して、20質量%以下であるのが好ましく、1~10質量%であるのがより好ましく、2~5質量%であるのがさらに好ましい。但し、この範囲に制限されるものではない。
 従来、大気中での光重合や熱重合では、重合開始剤の含有量が重合性化合物に対して1~3質量%程度であると、膜厚が500nm以下の膜を形成すると、重合率はせいぜい20%程度になり硬膜性が著しく低かった。本発明のプラズマ重合膜では、重合開始剤の含有量がラジカル重合性化合物に対して1~3質量%程度であっても、厚み100nm~1000nmのプラズマ重合膜の重合率は60%以上を達成できる。
 重合率は、重合反応前後の膜の赤外吸収を測定し、重合性基に起因する吸収ピークの強度を比較することで知ることができる。
 本発明に使用可能な重合開始剤の種類については特に制限はない。照射されるプラズマの性質や、プラズマ照射に用いる放電ガスの種類に応じて、適する種類を選択することができる。
 本発明の重合開始剤としては、光重合開始剤、または、熱重合開始剤を用いることが好ましい。 光重合開始剤としては、公知の光重合開始剤が使用できるが、本発明で使用し得る光重合開始剤は、窒素ガスを利用した窒素プラズマが、UV光を発光するので、UV光の照射によりラジカル等を発生するUV重合開始剤を利用するのがより好ましい。UV重合開始剤としては、α-アミノケトン類、α-ヒドロキシケトン類、ホスフィンオキサイド類、オキシムエステル類、チタノセン類等種々のものを利用できる。市販品(例えば、IRGACURE907、DAROCURE1173、IRGACURE184、IRGACURE369、IRGACURE379、IRGACURE819、IRGACURE784、IRGACURE OXE01、IRGACURE OXE02等BASF社製等)を利用してもよい。
 熱によりラジカルを発生させる熱重合開始剤としては、有機過酸化物として、ラウロイルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、アゾ系重合開始剤として、アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)の他、V-30、V-40、V-59、V-65、V-70、V-601、VF-096、VAm-110、VAm-111(和光純薬社製)等を利用できる。
 光重合開始剤を含有する組成物に対しては、プラズマ照射と同時に、またはプラズマ照射前もしくは後に、光照射(例えばUV光照射)を行うのが、硬化度をより改善できるので好ましい。
 また、プラズマ照射の条件等によっては、熱重合開始剤が十分にその作用を発揮できる程度に加熱される場合があり、当該態様では、熱重合開始剤を利用することで、硬化度を改善することができる。さらに、熱重合開始剤を含有する組成物に対しては、プラズマ照射と同時に、又はプラズマ照射前もしくは後に、加熱してもよい。
 本発明に使用可能な連鎖移動剤の種類については特に制限はない。併用するラジカル重合性化合物に適する連鎖移動剤から選択することができる。例えば、メルカプト基を有する化合物から選択することができ、具体的には、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、β-メルカプトプロピオン酸、メチル-3-メルカプトプロピオネート、2-エチルヘキシル-3-メルカプトプロピオネート、n-オクチル-3-メルカプトプロピオネート、n-オクチルメルカプタン、n-ドデシルメルカプタン、トリメチロールプロパントリス(3-メルカプトプロピオネート)、トリス-[(3-メルカプトプロピオニルオキシ)-エチル]-イソシアヌレート、テトラエチレングリコールビス(3-メルカプトプロピオネート)、ジペンタエリスリトールヘキサキス(3-メルカプトプロピオネート)等が挙げられる。
 重合開始剤及び連鎖移動剤の少なくともいずれか一方と、少なくとも1種のラジカル重合性化合物と、を含有する組成物を塗布液として調製し、前記塗布液を塗布して形成した塗膜にプラズマ照射する場合は、プラズマガスによって塗膜表面にムラが発生して(塗膜表面に凹凸が生じて)、透明性が失われ、ヘイズが上昇する場合がある。プラズマガスによる塗膜表面のムラを軽減するためには、塗布液の粘度を高めるのが好ましく、重合開始剤及び連鎖移動剤の少なくともいずれか一方として、塗布液の粘度上昇に寄与する高分子を用いるのが好ましい。すなわち、重合開始剤としては、高分子系重合開始剤を用いるのが好ましく、より好ましい重合開始剤として、高分子アゾ系重合開始剤が挙げられる。
 本発明の高分子アゾ系重合開始剤としては、例えば、アゾ基と該アゾ基の両端に導入される高分子ユニット(例えば、ポリジメチルシロキサンユニット、ポリエチレングリコールユニット等)とから構成される繰り返し単位を有する高分子アゾ系重合開始剤が挙げられる。高分子ユニットの分子量は、2000~10000であることが好ましく、5000~10000であることがさらに好ましい。高分子アゾ系重合開始剤の具体例としては、「ファインケミカル Vol.39、No.9、47-52、2010」等に種々記載されていて、参照することができる。市販品(例えば、VPS-1001、VPE-0201、VPE-0401、VPE-0601、和光純薬社製)を用いてもよい。
 本発明に使用可能なラジカル重合性化合物については特に制限はないが、分子内に重合性基を2以上有するラジカル重合性化合物を用いるのが、架橋構造を形成でき、膜硬化の観点で好ましい。例えば、ジビニルベンゼン、アクリルアミド系モノマーやポリエチレングリコールジメタクリレート(NKエステル1G、2G、3G、4G、9G、14G、23G)、ポリエチレングリコールジアクリレート(NKエステルA-200、A-400、A-600、A-1000)、ネオペンチルグリコールジメタクリレート(NKエステル3PG、9PG、APG-400、APG-700)、ネオペンチルグリコールジアクリレート(NKエステルAPG-100、APG-200、APG-400、APG-700)、1,6-ヘキサンジオールジメタクリレート(NKエステルHD-N)、1,6-ヘキサンジオールジアクリレート(NKエステルA-HD-N)、1,9-ノナンジオールジメタクリレート(NKエステルNOD-N、),1,9-ノナンジオールジアクリレート(NKエステルA-NOD-N)、1,10-デカンジオールジメタクリレート(NKエステルDOD)、1,10-デカンジオールジアクリレート(NKエステルA-DOD)、エチレンオキサイド変性ビスフェノールAジメタクリレート(NKエステルBPE-80N、BPE-100N、BPE-200、BPE-500、BPE-900、BPE-1300N)、エチレンオキサイド変性ビスフェノールAジアクリレート(NKエステルABE-300、A-BPE-4、A-BPE-6、A-BPE-10、A-BPE-20、A-BPE-30)、トリシクロデカンジメタノールジメタクリレート(NKエステルDCP)、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート(NKエステルA-DCP)、エチレンオキサイド変性イソシアヌル酸トリアクリレート(NKエステルA-9300)、トリメチロールプロパントリメタクリレート(NKエステルTMPT)、トリメチロールプロパントリアクリレート(NKエステルA-TMPT)、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート(NKエステルA-TMPT-3EO)、ペンタエリスリトールテトラアクリレート(NKエステルA-TMMT)、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート(NKエステルAD-TMP)、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(NKエステルA-DPH、以上、新中村工業社製品名)1,4-ブタンジオールジアクリレート(V#195)、トリスアクリロイルオキシエチルフォスフェート(V#3PA、以上、大阪有機工業社商品名)、両末端ビニル変性ポリジメチルシロキサン(DMS-V00、DMS-V03、DMS-V05、DMS-V21、DMS-V22、DMS-V25、DMS-V31、DMS-V33、DMS-V35、DMS-V41、DMS-V42、DMS-V46、DMS-V51、DMS-V52)、側鎖ビニル変性ポリシロキサン(VDT-123、VDT-127、VDT-131、VDT-163、VDT-431、以上、Gelest、Inc.商品名)、両末端メタクリル変性ポリジメチルシロキサン(X-22-164、X-22-164AS、X-22-164A、X-22-164B、X-22-164C、X-22-164E、以上、以上信越化学工業社商品名)等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
 親水性モノマーを、従来の光重合や熱重合で硬化してなる膜は、特に表面の耐溶剤性に劣る傾向があるので、本発明は、ラジカル重合性化合物として親水性モノマーを利用する態様において、特に有用である。また、用途によっては、水性塗布液として調製した前記組成物を用いることが好ましい場合もあるが、水に難溶の重合開始剤も多く存在する。十分な硬膜度を得るためには、ある程度の量の重合開始剤を添加する必要がある従来の光重合及び熱重合では、親水性モノマーとともに利用できる重合開始剤は限られたものになる。本発明では、プラズマ重合を利用するので、重合開始剤の添加量を軽減でき、水性塗布液として調製した前記組成物に含有させることが出来る重合開始剤の選択の幅を拡大することができる。
 親水性モノマーとしては、ポリオキシアルキレン鎖(例えば、2~10のポリエチレンオキシ単位の繰り返し)を分子内に有するモノマーが挙げられる。例えば、アクリルアミド基、アクリロイル基又はメタクロイル基が、ポリオキシアルキレン鎖で連結されたラジカル重合性化合物は、本発明において好適に用いることができる。3以上の重合性基を分子内に有する場合には、3級又は4級炭素を含む分岐構造のアルキレン基によって、又は非芳香族性(シクロアルキレン等)もしくは芳香族性環状基によって、末端に重合性基を有する3以上のポリオキシアルキレン鎖を連結してもよい。これらの化合物の例には、特許第4533295号公報に開示の水溶性重合性物質が含まれる。該特許公報に記載の水溶性重合性物質は、後述する画像形成方法において特に有用である。
 また、本発明のプラズマ重合膜は、上記した通り、表面硬化度が高いことから、界面混合を生じさせずに、塗布液を塗布することにより上層を形成可能であるという特長がある。従って、本発明で用いるラジカル重合性化合物としては、有機トランジスタ、有機感光体等の機能性有機薄膜積層体や、光学用途(有機EL素子用の光取り出し層)を構成する有機薄膜の原料としてのラジカル重合性化合物が好ましい。例えば、カルバゾール骨格、トリアリールアミン骨格、チオフェン骨格、フルオレン骨格、ナフタレン骨格、等を分子内に1以上有する多官能性モノマーが挙げられる。具体的には、これらの骨格に、末端に重合性基を有する連結基が、2以上結合した化合物を用いることができる。連結基の例としては、C1~C20のアルキレン基(但し、1つの炭素原子、又は隣り合わない2以上の炭素原子は、酸素原子、硫黄原子、-COO-、OCO-、-NHCO-、-CONH-、又は-CO-によって置換されていてもよく、また1の-CH2-CH2-又は隣り合わない2以上の-CH2-CH2-は、-CH=CH-、又は-C≡C-に置き換わっていてもよい)、及び当該アルキレン基と、フェニレン基等の芳香族性炭化水素基又はヘテロ環基との組み合わせが挙げられる。重合性基としては、ビニル基、アクリロイル基又はメタクリロイル基が挙げられ、アクリロイル基又はメタクリロイル基がより好ましい。市販品としては、NKエステルA-BPEF(新中村工業社製品名)、Ac-N(川崎化成工業社製品名)などを用いることができる。
 本発明のプラズマ重合膜の製造に用いられる組成物は、1種のラジカル重合性化合物のみを含んでいてもよいし、2種以上のラジカル重合性化合物を含んでいてもよい。また、本発明では、ラジカル重合性化合物とともに、重合開始剤及び連鎖移動剤の少なくともいずれか一方を含有する組成物を利用するが、前記組成物は、これら以外の成分を含有していてもよい。但し、前記組成物は、ラジカル重合性化合物を主成分として含有しているのが好ましく、80質量%以上、90質量%以上含有しているのがより好ましい。
 本発明のプラズマ重合膜の製造方法の一例は、重合開始剤及び連鎖移動剤の少なくともいずれか一方と、少なくとも1種のラジカル重合性化合物と、を含有する組成物に、プラズマ照射してなるプラズマ重合膜の製造方法である。
 前記方法では、前記組成物を、塗布液として調製するのが好ましい。塗布液の調製に用いられる溶媒については特に制限はなく、有機溶媒を用いることができる。使用可能な有機溶媒の例には、アミド(例、N,N-ジメチルホルムアミド)、スルホキシド(例、ジメチルスルホキシド)、ヘテロ環化合物(例、ピリジン)、炭化水素(例、トルエン、キシレン、ヘキサン)、アルキルハライド(例、クロロホルム、ジクロロメタン)、エステル(例、酢酸メチル、酢酸ブチル)、ケトン(例、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン)、エーテル(例、テトラヒドロフラン、1,2-ジメトキシエタン),アルコール(例メタノール、エタノール、イソプロプルアルコール)が含まれる。アルキルハライド及びケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
 次に、塗布液として調製された前記組成物を、基板等の表面に塗布して、乾燥により溶媒を除去し、塗膜を形成する。前記組成物の塗布は、一般的な塗布方法により行うことができ、例えば、インクジェット法、スプレーコート法、スピンコート法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、バーコート法により実施できる。
 本発明では、大気圧近傍の条件下で生成された大気圧プラズマを利用するのが好ましい。例えば、非平衡プラズマジェット、交流パルス放電による低温プラズマなどを用いることができ、いずれも大気圧近傍の条件下で生成された大気圧プラズマを用いるのが好ましい。
 プラズマ照射には、種々の大気圧プラズマ装置を用いることができる。例えば、誘電体で覆われた電極間に大気圧近傍の圧力の不活性気体を通じつつ間欠放電を行うことにより低温プラズマを発生させることができる装置等が好ましく、使用目的等に応じて種々の変型例を選択できる。より具体的には、特開2008-60115公報において、基盤プラズマ処理に用いられる装置、特開2004-228136公報に記載の常圧プラズマ装置、特開2006-21972公報、特開2007-188690公報、及び国際公開WO2005/062338、WO2007/024134、WO2007/145513などの明細書に記載のプラズマ装置などが挙げられる。また、大気圧プラズマ装置は市販品としても入手可能であり、例えば、アリオス(株)のATMP-1000、株式会社ハイデン研究所の大気圧プラズマ装置、(株)魁半導体のS5000型大気圧低温プラズマジェット装置、(株)ウェルのMyPL100、ILP-1500 、積水化学工業(株)のRD550 など、現在上市されている大気圧プラズマ装置もまた好適に使用しうる。しかし、プラズマの不均一な集中(ストリーマ)による塗膜へのダメージを軽減するために、例えば、WO2005/062338およびWO2007/024134の各明細書に記載された、放電部への通電をパルス制御素子経由で行なうなどの電気回路の工夫をした装置を用いることが好ましい。
 なお、本発明における「大気圧プラズマ」における「大気圧近傍の圧力」とは、70kPa以上130kPa以下の範囲を指し、好ましくは90kPa以上110kPa以下の範囲である。
 大気圧プラズマの生成時に用いられる放電ガスとしては、大気等の混合気体を用いることもできるが、不活性気体であるHe及びAr等の希ガス、あるいは窒素ガス(N2)(以下、これらをまとめて単に「不活性気体」と称する場合がある)を用いることが好ましく、HeまたはN2が特に好ましい。プラズマを前記塗膜表面に適用することで、プラズマにより塗膜中の重合性化合物が重合、硬化して、硬化膜であるプラズマ重合膜が形成される。塗膜表面へプラズマを照射することにより速やかに重合反応が開始し、進行する。なお、プラズマ照射による重合では、プラズマに含まれる活性種(例えばラジカル)が塗膜表面に付着し、表面から重合(例えばラジカル重合)が開始する。即ち、通常大気下でのラジカル重合においては、酸素による重合阻害により、塗膜表面にタック性(粘着性)が発生するが、プラズマ重合においては、塗膜表面での重合度が高いために塗膜表面にタック性(粘着性)が発生しない。
 特に、窒素ガスプラズマは、UV光を発光するので、プラズマ照射による重合反応の進行とともに、UV光照射による重合反応も進行させることができる。また、プラズマ照射による発熱によって、熱重合反応も進行する場合もある。さらに、プラズマ照射と同時に、又はプラズマ照射の前もしくは後に、光(例えばUV光)照射、又は熱の供与を行い、重合反応を促進してもよい。窒素プラズマ照射を行う場合、及びプラズマ照射と同時にもしくはそれと前後して光照射も行う場合は、組成物中に光(UV)重合開始剤(UV照射によりラジカル等を発生する重合開始剤)を添加しておくのが好ましい。また、プラズマ照射による発熱を利用する場合、及びプラズマ照射と同時にもしくはそれと前後して熱供与も行う場合は、組成物中に熱重合開始剤を添加しておくのが好ましい。
 なお、プラズマ照射はバッチ方式でも、他の工程とつなげてインライン方式で行ってもよい。
 塗膜表面へのダメージを抑制するという観点からは、プラズマ作用部位と放電部位とを離すこと、または、放電回路の工夫によりプラズマの局所的集中(ストリーマ)の発生を抑制して、均一なプラズマを発生させること、が有効であり、特に後者は、大面積にわたる均一なプラズマ照射(プラズマ処理)ができる点で好ましい。前者としては、放電により生じたプラズマを不活性気体の気流により塗膜表面まで搬送して接触させる方式が好ましく、特にいわゆるプラズマジェット方式が好ましい。この場合プラズマを含む不活性気体を搬送する経路(導通管)は、ガラス、磁器、有機高分子などの誘電体で構成されることが好ましい。後者としては、WO2005/062338およびWO2007/024134号明細書に記載の、パルス制御素子経由で誘電体により覆われた電極に通電することによりストリーマが抑制された均一なグロープラズマを発生させる方式が好ましい。
 プラズマを含む不活性気体の供給ノズルから塗膜表面までの距離は0.01mm~100mmであることが好ましく、1mm~20mmであることがより好ましい。
 不活性気体による搬送方式の場合でも、WO2009/096785号明細書に記載の方式と同様にインライン方式でプラズマを塗膜表面に適用しうる。即ち、塗布法により有機薄膜形成用の塗膜を形成し、塗布工程の下流側に不活性気体とプラズマとを塗膜表面に適用しうる吹き出しノズルなどを設けることで、連続的に有機薄膜の形成が可能となる。
 不活性気体を用いるプラズマ発生方式の場合、塗膜中に存在するラジカル重合性化合物にプラズマが直接働きかけることで重合反応、および硬化反応が効率よく開始、進行するので、通常は、酸素阻害抑制を目的として不活性気体雰囲気の閉鎖系環境を必要とする重合反応を、開放系で行っても、酸素阻害の影響を受け難く良好な硬化性を達成しうるという利点を有する。
 なお、重合反応時における酸素由来の化学種の取り込みを減少させる観点からは、プラズマ処理を施す領域に、不活性気体を十分に供給するか、その領域を不活性気体で充満させてもよい。このような不活性気体によるプラズマの搬送を行う際には、プラズマ点灯以前からプラズマ発生部位に不活性気体を流しておき、プラズマ消灯後にも不活性気体を流し続けることが好ましい。
 プラズマ処理後の不活性気体については、プラズマの寿命が短時間であることから、特段の処理を行わず排気してもよいが、処理領域の近傍に吸気口を設けて処理済みの不活性気体を回収してもよい。
 プラズマ照射時の温度は、プラズマ照射される塗膜中の材料の特性に応じて任意の温度を選択できるが、大気圧プラズマを照射することによってもたらされる温度上昇が小さいほうが、ダメージを軽減できるので好ましい。前記プラズマ処理を施す領域をプラズマ発生装置から離間させることで、その効果がより向上する。
 前記プラズマ処理において、大気圧低温プラズマを選択して照射することで、プラズマからの熱エネルギーの供給を軽減でき、塗膜の温度上昇を抑制することができる。プラズマ照射されることによる塗膜の温度上昇は、50℃以下が好ましく、40℃以下がより好ましく、20℃以下が特に好ましい。
 プラズマ照射時の温度は、プラズマ照射される塗膜中の材料の耐え得る温度以下であることが好ましく、一般的には、-196℃以上150℃未満が好ましく、-21℃以上100℃以下がより好ましい。特に好ましくは、環境温度雰囲気下である室温(25℃)近傍である。
 上記した通り、プラズマ照射では、光重合や熱重合と異なり、大気中の酸素による重合阻害が生じない。プラズマ照射によって形成された本発明のプラズマ重合膜には、高密度の架橋構造が形成されているために、かつ表面の重合度が高くなっているので、積層(重層)構造を塗布法により形成した場合においても、塗膜界面における所望されない隣接層への拡散や混合が抑制される。
 このように、本発明のプラズマ重合膜の製造方法は、通常塗布法において問題となる隣接層との界面における相溶や低分子量成分の拡散が抑制されるので、多層構造を有するプラズマ重合膜を、塗布法、連続法により、高い生産性で製造しうる。
 また、プラズマ照射により、重合と同時に膜表面に、かつその一部に、カルボキシル基、水酸基、ニトリル基、アミド基等(酸素分子、水分子、窒素分子、アンモニア分子由来)が導入される場合がある。この様な親水性基が膜表面に導入されることは、膜上に他の層(例えばバリア層/封止層等)を塗布形成する場合に、塗布液に対する濡れ性及び密着性を向上させるので、積層が容易になるという利点もある。
 表面親水性は、水の接触角を指標にして知ることができる。本発明のプラズマ重合膜表面は、水の接触角(純水を2μL滴下した際の接触角であって、10箇所程度の平均値として算出するのが好ましい)が、80°以下の親水性を示すのが好ましく、又は30~70°の親水性を示すのがより好ましく、又は35~65°の親水性を示すのがさらに好ましい。カルバゾール骨格、トリアリールアミン骨格、チオフェン骨格、フルオレン骨格、ナフタレン骨格などを有する重合性化合物は一般的に親油性であり、主成分として親油性の重合性化合物を含む組成物を光重合や熱重合で硬化させた従来の硬化膜は、その表面は疎水性であるのが一般的であり、その表面の水の接触角は80°を超える。本発明のプラズマ重合膜は、主成分として親油性のラジカル重合性化合物を含有しているにも係わらず、(なんら表面処理を行わなくても)親水性を示すという特徴がある。
 本発明のプラズマ重合膜の厚みについては特に制限はない。前記製造方法では、膜厚が50~5000nm(より好ましくは100~5000nm、さらに好ましくは500~5000nm)のプラズマ重合膜を安定的に製造することができる。但し、この範囲に限定されるものではない。
 本発明のプラズマ重合膜は、支持体上に形成してもよい。支持体としては、ガラス板、金属板、及び種々のポリマーフィルム等を用いることができる。
 本発明のプラズマ重合膜は、種々の用途に利用することができる。例えば、液晶表示装置の光学補償フィルム等の光学フィルムに利用することができる。また、有機トランジスタ等の有機半導体層として利用することができる。プラズマ重合膜中に残存する重合開始剤は、キャリアトラップの要因になり得るが、プラズマ重合では、従来の光重合等と比較して、重合開始剤の使用量を軽減できるので、キャリアトラップ性能の改善が期待される。プラズマ照射による分解の影響を低減できるので、ボトムゲート型トランジスタの有機半導体層として、特に有効である。
 また、本発明のプラズマ重合膜の製造方法は、ミストやドロプレットとして塗布するスプレーコート法やインクジェット法での、表面の重合阻害の低減や表面硬化度の向上による、表面タック性の低減に有効であり、印刷した紙を重ねた際に発生する、画像のこすれや裏面への汚れを低減することができる。即ち、本発明のプラズマ重合膜の製造方法は、スプレーコート法やインクジェット法による画像形成方法に利用することができる。当該方法には、重合開始剤及び/又は連鎖移動剤、ラジカル重合性化合物とともに、色材(顔料、染料等)を含有するインクを用いることができる。顔料としては、例えば、C.I.ピグメントイエロー13(PY13)、C.I.ピグメントレッド17(PR17)、C.I.ピグメントブルー56(PB56)などの公知の材料が挙げられる。また、染料としては、例えば、C.I.アシッドイエロー23(AY23)、C.I.ダイレクトイエロー44(DY44)、C.I.ダイレクトイエロー142(DY142)、C.I.アシッドレッド289(AR289)、C.I.アシッドレッド249(AR249)、C.I.アシッドレッド35(AR35)、C.I.アシッドレッド87(AR87)、C.I.アシッドレッド276(AR276)、C.I.ダイレクトレッド79(DR79)、C.I.アシッドブルー9(AB9)、C.I.ダイレクトブルー86(DB86)、C.I.ダイレクトブルー168(DB168)、C.I.アシッドブラック24(ABk24)、C.I.アシッドブラック26(ABk26)、C.I.アシッドブラック2(ABk2)、C.I.ダイレクトブラック19(DBk19)C.I.ダイレクトブラック154(DBk154)などの公知の材料が挙げられる。組成物中の色材の含有量としては、0.5質量%~20質量%であることが好ましく、2質量%~10質量%であることがより好ましい。
 即ち、本発明の一態様は、重合開始剤及び連鎖移動剤の少なくともいずれか一方と、少なくとも1種のラジカル重合性化合物と、少なくとも一種の色材を含有するインクと、を含む組成物を、基材(例えば、紙又はポリマーフィルム等)の表面に、画像様に配置すること;及び、前記組成物に、プラズマ照射して、プラズマ重合膜からなる画像を形成すること、を含む画像形成方法である。
 前記インクを基材表面に画像様に配置して、画像を形成する方法としては、インクジェット法、及びスプレーコート法等を利用することができる。
 前記インクとして水性インクを用いることができる。本発明では、重合開始剤の添加量を軽減しても、十分な硬膜度を得られるので、水に対する溶解性が低い重合開始剤であっても、使用することができる。ラジカル重合性化合物として使用可能な親水性モノマーについては、上記した通りであり、分子内にアルキレンオキシ鎖を有する多官能ラジカル重合性化合物が好ましい。中でも、分子内にアルキレンオキシ鎖を有するアクリルアミド系モノマーが好ましく、例えば、特許第4533205号公報に記載の水性重合性物質を用いることができる。但し、この例に限定されるものではない。
 以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下の具体例に制限されるものではない。
1.実施例1~4、比較例1~3
(1)実施例1
 Journal of Polymer Science: Part A. Polymer Chemistry, Vol.47,2664頁,2009年に記載されている、下記に示すアクリルアミド系重合性化合物(1)の20質量部と、光(UV)重合開始剤の0.4質量部とを、メタノールに溶解させた塗布液を調製した。
 上記塗布液をスピンコート法により、銅箔上に塗布して成膜し、膜厚500nmの塗膜を形成した。
(プラズマ処理)
 塗膜に、株式会社魁半導体製、S5000型大気圧低温プラズマジェット装置(放電ガス:窒素)を用いて低温N2プラズマを30秒間照射し、重合反応を進行させて、硬化させ、膜厚500nmのプラズマ重合膜を形成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
(2)実施例2
 放電ガスをHeガスに変更して、Heガスプラズマを照射した以外は、実施例1と同様にして、膜厚500nmのプラズマ重合膜を形成した。
(3)比較例1
 塗布液として光重合開始剤を含まない溶液を調製したこと以外は、実施例1とそれぞれ同様にして、膜厚500nmのプラズマ重合膜を形成した。
(4)比較例2
 実施例1と同様に厚さ500nmの塗膜を作製し、UVランプとしてUV LIGHT SOURCE EX250(HOYA-SCHOTT社製)を用い、大気中にてUV照射量:1J/cm2となるように、UV照射を行った。
(5)実施例3及び4、比較例3
 実施例1おいて銅箔上に塗布した塗布量を変更し、膜厚1000nmのプラズマ重合膜を形成したこと以外は、実施例1と同様にして、実施例3のプラズマ重合膜を形成した。
 また、実施例1と同様にして塗膜を作製し、大気中にてUV照射を行った後、次にプラズマ照射を行い、実施例4のプラズマ重合膜を形成した。
 比較例1において銅箔上に塗布した塗布量を変更し、膜厚1000nmのプラズマ重合膜を形成したこと以外は、比較例1と同様にして、比較例3のプラズマ重合膜を形成した。
(6) 性能評価
(6)-1 表面タック性
 上記で作製した各プラズマ重合膜の表面に、PET(ポリエチレンテレフタレート)フィルム(膜厚50μm)を貼付した後、剥離し、PETフィルム上の異物(膜成分)の有無を、デジタルマイクロスコープVHX-100(キーエンス社製)を用いて観察した。
 PETフィルムへの異物の付着の有無はプラズマ重合膜表面の硬化度の指標になる。PETフィルム上に異物の付着がなければ、表面硬化度が高い膜であり、PETフィルム上に異物の付着がある場合は、表面硬化度が低い膜である。
 表面タック性は、以下の基準で評価した。
  A:PETフィルム上に異物の付着が無く、表面硬化度が高く、表面タック性が無い。
  B:PETフィルム上に異物の付着が有り、表面硬化度が低く、表面タック性がある。
(6)-2 碁盤目試験
 JIS K-5400:1990に従い、1mmピッチの碁盤目を作製した。幅24mmのセロハン粘着テープを貼付したのち、剥離し、テープに付着した塗膜の個数を計測した。
 テープへの付着の有無は、膜内部の硬化度の指標になる。膜内部の硬化度が低くなるほど、テープへの付着個数が多くなると言える。
 碁盤目試験は、以下の基準で評価した。
  A:テープに付着した塗膜の個数が、0~10個である。
  B:テープに付着した塗膜の個数が、11~20個である。
  C:テープに付着した塗膜の個数が、21~100個である。
(6)-3 耐溶剤性評価1
 イソプロピルアルコールをプラズマ重合膜および比較例の重合膜の表面に100μL滴下し、回転数200rpmで20秒間スピンコートを行った。イソプロピルアルコール滴下前後の膜厚を、膜厚計XP-200(Ambios社商品名)を用いて測定し(25℃)、その変化率を算出した。
 また、各プラズマ重合膜の重合率をVarian 3100 FT-IR(VARIAN Inc.社製)を用い、重合反応前後のプラズマ重合膜の赤外吸収を測定し、波数987cm-1の強度を比較することで算出した。
 結果を下記表に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
2. 実施例5、比較例4
(1)実施例5
 酸化ジルコニウム微粒子(一次平均粒径15nm)13質量部と、分散材料(4-オクチル安息香酸)1.3質量部とを、共にトルエン10質量部に混合し、オムニミキサー、超音波分散機を用い、十分に攪拌し、分散させて酸化ジルコニウム分散液を得た。
 酸化ジルコニウム分散液24.3g質量部、下記に示す2官能モノマー(2)(「NKエステルA-BPEF」新中村工業社製品名)10質量部、及びトルエン6質量部をスターラーにより攪拌し、溶解し、更に超音波分散機により酸化ジルコニウム粒子を十分に分散させ、モノマー塗布液前駆体を作製した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
 次いでモノマー塗布液前駆体20質量部に、架橋樹脂微粒子MX150(綜研化学株式会社製、粒径1.5μm)4.2質量部と、トルエン14質量部とを混合し、スターラー、超音波分散機にて攪拌し、分散させ、さらにこの分散液に、光(UV)重合開始剤「IRGACURE819」(BASF社製)を0.3質量部溶解させ、塗布液を調製した。
 表面がメタクリル変性シランカップリング剤「KBM-503」(信越化学工業社製)にて処理されたUVオゾン処理されたガラス基板上に、膜厚5μmとなるように、塗布液をバーコート法にて塗布し成膜した。UV露光機「ECS-401GX」(光源メタルハライドランプ、アイグラフィックス社製)を用いて、大気中にてUV照射量:2J/cm2となるように照射し、かつ実施例1に記載の方法で、窒素プラズマ照射を行った。さらに、120℃で30分加熱することで、プラズマ重合膜を作製した。
(2)比較例4
 実施例5において、プラズマ照射を行わなかったこと以外は、実施例5と同様にして比較例4の重合膜を作製した。
(3)性能評価
 得られた重合膜について、表面タック性、碁盤目試験、及び耐溶剤評価1を、実施例1と同様に行った。
耐溶剤性評価2:
 イソプロピルアルコールを含ませた綿棒で、プラズマ重合膜および比較例の重合膜の表面を拭き取り、耐溶剤性を評価した。
  A:綿棒になにも付着することなく、耐溶剤性が有る。
  B:綿棒に付着物があり、耐溶剤性が無い。
 結果を、下記表に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
 実施例5においては、表面タック性がなく、耐溶剤性が良好なことから、膜表面が十分に硬化したことが理解できる。また、碁盤目試験より、膜内部も十分硬化したことが理解できる。
 一方、比較例4においては、上記2官能性モノマー(2)が、イソプロピルアルコールへの溶解性が低く、膜厚変化が観察されなかったが、耐溶剤評価2が良くないことから、酸素による重合阻害が発生し、膜表面の重合が十分でないと理解できる。
 なお、実施例5のプラズマ重合膜は、有機EL素子の光取り出し層として、使用できる。
3.実施例6、比較例5
(1)実施例6
(インク調製)
 PB-15:1顔料分散液(顔料濃度9wt%)を20質量部と、下記2官能アクリルアミド系モノマー(3)の20質量部と、純水58質量部とを、スターラーにより攪拌、溶解し、更に超音波分散機により超音波処理して、インクジェット用インク前駆体を調製した。ついで、光(UV)重合開始剤:IRGACURE2959(BASF社製)を1質量部溶解させ、インクジェット用インクを調製した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
(塗布/硬膜)
 インクジェットプリンターDMP2831を使用して、PPC用紙(富士ゼロックス用紙)に印字し、60℃の恒温槽内で乾燥させて、厚さ4μmのベタ画像を作製した。UV露光機ECS-401GX(光源メタルハライドランプ、アイグラフィックス社製)を用いて、大気中にてUV照射量:2J/cm2となるように照射し、かつ実施例1に記載の方法で、窒素プラズマ照射を行った。
(2)比較例5
 実施例6において、プラズマ照射を行わなかったこと以外は、実施例6と同様にして比較例5の重合膜を作製した。
(3)評価
 上記で作製したプラズマ重合膜および比較例の重合膜について、実施例1及び5と同様にして、表面タック性、碁盤目試験、耐溶剤性評価1、及び耐溶剤性評価2をそれぞれ行った。結果を下記表に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000007
 実施例6においては、表面タック性がなく、耐溶剤性が良好なことから、膜表面が十分に硬化したものと理解できる。また、碁盤目試験より、膜内部が十分硬化したものと理解できる。一方、比較例5においては、耐溶剤性が低く、酸素による重合阻害が発生し、表面の重合が十分でないと理解できる。
 以上の結果から、インクジェット法を用いても、膜表面および膜内部は十分硬化したプラズマ重合膜を得られることが確認された。即ち、本発明により、画像移り等のない定着性に優れた画像形成方法が提供できる。
4.実施例7及び8、比較例6及び7
(1)実施例7
 2官能アクリルモノマー(4)(「NKエステルA-BPE-20」新中村化学工業社製)20質量部と、高分子アゾ系重合開始剤(「VPE-0201」和光純薬社製)0.4質量部とを、メチルエチルケトン400質量部に溶解し、塗布液を調製した。
 表面がメタクリル変性シランカップリング剤(「KBM-503」信越化学工業社製)にて処理されたUVオゾン処理されたガラス基板上に、膜厚500nmとなるように、塗布液をスピンコート法にて塗布し成膜した。実施例1と同様に窒素プラズマ処理を行い、大気中にてホットプレートを用いて80℃、5分間加熱乾燥を行い、プラズマ重合膜を作製した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
(2)実施例8
 実施例7において、高分子アゾ系重合開始剤の代わりに、連鎖移動剤:3-メルカトプロピルトリメトキシシランKBM-803(信越化学工業商品名)を添加した以外には、実施例7と同様に、プラズマ重合膜を作製した。
(3)比較例6及び7
 実施例7において、プラズマ照射処理を行わないこと以外は、実施例7と同様に、比較例6の重合膜を作製した。
 実施例8において、プラズマ照射処理を行わないこと以外は、実施例8と同様に比較例7の重合膜を作製した。
(4)評価
 実施例1~3と同様にして、各プラズマ重合膜および各比較例の重合膜について、表面タック性、碁盤目試験、及び耐溶剤性評価1をそれぞれ行った。結果を下記表に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000009
 実施例7及び8においては、表面タック性がなく、耐溶剤性が良好なことから、膜表面が十分に硬化したものと理解できる。また、碁盤目試験より、膜内部も十分硬化したものと理解できる。一方、比較例6及び7においては、重合阻害により、膜が硬化せずに、いずれの評価もできなかった。

Claims (16)

  1. 少なくとも1種のラジカル重合性化合物と、重合開始剤及び連鎖移動剤の少なくともいずれか一方と、を含有する組成物に、プラズマ照射するプラズマ重合膜の製造方法。
  2. 前記重合開始剤として、光重合開始剤を用いる請求項1に記載の方法。
  3. 前記重合開始剤として、高分子アゾ系重合開始剤を用いる請求項1又は2に記載の方法。
  4. 前記プラズマ照射を、窒素ガスプラズマ、又は、ヘリウムガスプラズマを用いて行う請求項1~3のいずれか1項に記載の方法。
  5. 前記プラズマ照射と同時に、又は前記プラズマ照射の前及び/又は後に、UV光を照射する請求項1~4のいずれか1項に記載の方法。
  6. 前記ラジカル重合性化合物が、分子内に2以上の重合性基を有する請求項1~5のいずれか1項に記載の方法。
  7. 請求項1~6のいずれか1項に記載の方法によってプラズマ重合膜を製造すること、及びプラズマ重合膜の表面上に、有機溶媒を含む塗布液を用いた塗布により膜を形成すること、
    を少なくとも含む積層膜の製造方法。
  8. 重合開始剤及び連鎖移動剤の少なくともいずれか一方と、少なくとも1種のラジカル重合性化合物と、少なくとも1種の色材を含有するインクと、を含む組成物を、基材の表面に、画像様に配置すること;及び、
    前記組成物に、プラズマ照射して、プラズマ重合膜からなる画像を形成すること、
    を含む画像形成方法。
  9. 前記インクが水性インクであり、前記ラジカル重合性化合物が、分子内にアルキレンオキシ鎖を有する多官能アクリルアミド系モノマーである請求項8に記載の方法。
  10. 重合開始剤及び連鎖移動剤の少なくともいずれか一方と、少なくとも1種のラジカル重合性化合物と、を含有する組成物を、プラズマ照射によって重合させてなるプラズマ重合膜。
  11. 厚さが、50~5000nmである請求項10に記載のプラズマ重合膜。
  12. 前記重合開始剤として、光重合開始剤を用いる請求項10又は11に記載のプラズマ重合膜。
  13. 前記重合開始剤として、高分子アゾ系重合開始剤を用いる請求項10~12のいずれか1項に記載のプラズマ重合膜。
  14. 前記プラズマ照射を、窒素ガスプラズマ、又は、ヘリウムガスプラズマを用いて行う請求項10~13のいずれか1項に記載のプラズマ重合膜。
  15. 前記ラジカル重合性化合物が、分子内に2以上の重合性基を有する請求項10~14のいずれか1項に記載のプラズマ重合膜。
  16. プラズマ照射及びUV光照射されてなる請求項10~15のいずれか1項に記載のプラズマ重合膜。
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