KR102341781B1

KR102341781B1 - 경화막 형성용 수지 조성물, 경화막, 도전성 부재 및 마이그레이션의 억제 방법

Info

Publication number: KR102341781B1
Application number: KR1020167034451A
Authority: KR
Inventors: 하야토 핫토리; 토모히사 야마다
Original assignee: 닛산 가가쿠 가부시키가이샤
Priority date: 2014-07-23
Filing date: 2015-07-21
Publication date: 2021-12-21
Also published as: TW201617391A; TWI667274B; KR20170033813A; JPWO2016013543A1; JP6787125B2; WO2016013543A1; CN106536620A

Abstract

(A) 중량평균 분자량이 5,000∼200,000인 (메타)아크릴레이트 폴리머(단, 측쇄에 실레인 구조를 갖는 것을 제외한다.), (B) 벤조트라이아졸 화합물로 이루어지는 마이그레이션 억제제겸 이온트랩제, 및 (C) 용제를 함유하는 경화막 형성용 수지 조성물을 제공한다.

Description

경화막 형성용 수지 조성물, 경화막, 도전성 부재 및 마이그레이션의 억제 방법{RESIN COMPOSITION FOR FORMING CURED FILM, CURED FILM, ELECTRICALLY CONDUCTIVE MEMBER, AND METHOD FOR PREVENTING MIGRATION}

본 발명은 경화막 형성용 수지 조성물, 경화막, 도전성 부재 및 마이그레이션의 억제 방법에 관한 것이다.

종래, 터치패널 등에 필요한 보호막, 절연막 등은 감광성 수지 조성물을 사용한 포트 리소그래피법에 의한 패턴 가공에 의해 필요로 하는 부위에 형성되어 왔다(특허문헌 1).

그러나, 포트 리소그래피법에 의한 패턴 가공은 공정이 복잡할 뿐만 아니라, 비용도 많이 든다고 하는 문제가 있었다. 그 때문에 보다 간편한 방법으로, 또한 저비용으로, 필요한 부위에 보호막, 절연막 등을 형성할 수 있는 조성물이 요망되고 있었다.

또한 운반이나 보존상의 요청으로, 유리 기판을 대신하여 필름 기판의 이용이 증가해가고 있다. 필름 기판은 보존시에 롤 형상 등으로 하여 보존되는데, 그때, 기판이 만곡되기 때문에, 필름 기판 위에 도포하는 재료에도 필름과 같은 유연성이 요구되고 있다.

또한 ITO의 대체로서 금속 나노 와이어를 사용하는 터치패널에 관한 개발이 다양하게 이루어지고 있지만(특허문헌 2 등), 이러한 터치패널에서는, 금속의 마이그레이션이 발생하고, 그것이 쇼트의 원인이 된다고 하는 문제가 있으므로, 마이그레이션을 억제할 수 있는, 전극, 배선 등을 보호하는 오버코트 재료가 요구되고 있다.

한편, 종래의 오버코트 재료는 유리 기판 상으로의 도포를 목적으로 하는 것이며, 경도를 높이기 위해 무기 미립자를 함유하고 있었다(특허문헌 3). 그러나, 무기 미립자를 함유시키는 등의 종래의 방법에서는, 경도는 개선되지만, 유연성이 없어, 예를 들면, 구부린 경우에 크랙이 생기는 등의 문제가 발생하기 때문에, 필름 기판에의 도포에는 적용할 수 없는 상황이었다.

일본 특개 2013-064973호 공보 일본 특개 2013-225296호 공보 일본 특개 2012-116975호 공보

본 발명은 상기 문제를 감안하여 이루어진 것으로, 인쇄법 등에 의한 간편한 방법으로 필요한 부위에 막을 형성할 수 있고, 게다가 고광투과율, 고밀착성, 고경도 및 고유연성을 가지며, 더욱이, 마이그레이션 억제능도 갖는 경화막을 형성 가능한 조성물, 당해 조성물로부터 형성된 경화막, 당해 경화막을 갖는 도전성 부재 및 마이그레이션 억제 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 발명자들은 상기 과제를 해결하기 위해 예의 검토를 거듭한 결과, 중량평균 분자량이 5,000∼200,000인 (메타)아크릴레이트 폴리머, 벤조트라이아졸 화합물로 이루어지는 마이그레이션 억제제겸 이온트랩제 및 용제를 함유하는 조성물에 의해, 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 발견하고, 본 발명을 완성시켰다.

즉, 본 발명은 하기 경화막 형성용 수지 조성물, 경화막, 도전성 부재 및 마이그레이션의 억제 방법을 제공한다.

1. (A) 중량평균 분자량이 5,000∼200,000인 (메타)아크릴레이트 폴리머(단, 측쇄에 실레인 구조를 갖는 것을 제외한다.),

(B) 벤조트라이아졸 화합물로 이루어지는 마이그레이션 억제제겸 이온트랩제 및

(C) 용제

를 함유하는 것을 특징으로 하는 경화막 형성용 수지 조성물.

2. (D) 실레인 커플링제를 더 함유하는 1의 경화막 형성용 수지 조성물.

3. (E) 다작용 (메타)아크릴레이트 화합물을 더 함유하는 1 또는 2의 경화막 형성용 수지 조성물.

4. (F) 라디칼 중합개시제를 더 함유하는 3의 경화막 형성용 수지 조성물.

5. (B) 벤조트라이아졸 화합물이 (A) 성분 100질량부에 대하여 0.1∼50질량부 포함되는 1∼4 중 어느 하나의 경화막 형성용 수지 조성물.

6. 1∼5 중 어느 하나의 경화막 형성용 수지 조성물을 사용하여 형성된 경화막.

7. 전극 및/또는 배선이 형성된 기재와, 이 기재 위에 상기 전극 및/또는 배선과 접하도록 형성된 6의 경화막을 구비하는 도전성 부재.

8. 전극 및/또는 배선이 형성된 기재 위에 경화막 형성용 수지 조성물로 형성된 경화막을 갖는 구조체의 상기 전극 및/또는 배선으로부터의 마이그레이션을 억제하는 방법으로서,

상기 경화막 형성용 수지 조성물로서 1∼5 중 어느 하나의 경화막 형성용 수지 조성물을 사용하는 것을 특징으로 하는 방법.

9. 전극 및/또는 배선이 형성된 기재 위에, (메타)아크릴레이트 폴리머 및 용제를 함유하는 수지 조성물로 형성된 경화막을 갖는 구조체의 상기 전극 및/또는 배선으로부터의 마이그레이션을 억제하는 방법으로서,

상기 조성물 중에 벤조트라이아졸 화합물을 첨가하는 것을 특징으로 하는 방법.

본 발명의 경화막 형성용 수지 조성물을 사용하여 얻어지는 경화막은 광투과율, 밀착성, 경도가 우수하고, 또한 금속의 마이그레이션 억제능도 갖는다. 그 때문에 유기 일렉트로루미네슨스(EL) 소자 등의 각종 디스플레이에 있어서의 보호막, 평탄화막, 절연막 등, 터치패널에 있어서의 보호막, 절연막 등의 경화막을 형성하는 재료로서 유용하다. 또한 유연성도 우수하므로, ITO 필름용의 오버코트재로서도 적합하다.

또한 본 발명의 도전성 부재는 전극 및/또는 배선과, 그것과 접하도록 형성된 상기 경화막을 구비한다. 상기 경화막은 유기 EL 소자 등의 각종 디스플레이에 사용되는 경화막에 요구되는 고광투과율, 고밀착성 및 고경도라고 하는 특성을 가질 뿐만 아니라, 마이그레이션 억제능도 갖기 때문에, 본 발명의 도전성 부재는 금속의 마이그레이션이 억제되어, 내구성이 우수한 것으로 된다. 또한 상기 경화막은 유연성도 우수하므로, 본 발명의 도전성 부재는 ITO 필름을 갖는 디스플레이에도 적합하게 채용할 수 있다.

본 발명의 마이그레이션 억제 방법에 의하면, 벤조트라이아졸 화합물을 사용함으로써 경화막의 광투과율, 밀착성 및 경도를 유지하면서, 금속의 마이그레이션을 억제할 수 있다.

도 1은 실시예 및 비교예에서 사용한 내마이그레이션 평가용 샘플의 평면도이다.
도 2는 실시예 및 비교예에서 사용한 내마이그레이션 평가용 샘플의 단면도이다.
도 3은 내마이그레이션 평가의 시험 전의 은 패턴을 나타내는 도면이다.
도 4는 실시예 1에 관한 내마이그레이션 평가 시험 후의 은 패턴을 나타내는 도면이다.
도 5는 비교예 1에 관한 내마이그레이션 평가 시험 후의 은 패턴을 나타내는 도면이다.

[경화막 형성용 수지 조성물]

본 발명의 경화막 형성용 수지 조성물은 (A) 중량평균 분자량이 5,000∼200,000인 (메타)아크릴레이트 폴리머, (B) 벤조트라이아졸 화합물로 이루어지는 마이그레이션 억제제겸 이온트랩제 및 (C) 용제를 함유한다.

[(A) (메타)아크릴레이트 폴리머]

본 발명의 조성물에 포함되는 (A) 성분은 중량평균 분자량이 5,000∼200,000인 (메타)아크릴레이트 폴리머이다. (메타)아크릴레이트 폴리머는 아크릴레이트 화합물 및 메타크릴레이트 화합물로부터 선택되는 적어도 1종의 모노머로부터 유도되는 모노머 단위를 갖는 중합체이다. 단, 본 발명에 있어서의 (메타)아크릴레이트 폴리머는, 보존안정성의 관점에서, 측쇄에 실레인 구조를 포함하는 것은 아니다.

본 발명에 있어서, 적합한 (메타)아크릴레이트 화합물로서는 식 (1)로 표시되는 것을 들 수 있다.

식 (1) 중, R¹은 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다. R²는 수소 원자, 또는 하이드록시기, 에폭시기, 아크릴로일기, 메타크릴로일기 혹은 아이소사이아네이트기로 치환되어도 되는 탄소수 1∼20의 알킬기를 나타낸다.

탄소수 1∼20의 알킬기로서는 직쇄상, 분지상, 환상의 어떤 것이라도 되고, 예를 들면, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 아이소프로필기, n-뷰틸기, 아이소뷰틸기, s-뷰틸기, t-뷰틸기, n-펜틸기, n-헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기, n-노닐기, n-데실기 등의 탄소수 1∼20의 직쇄상 또는 분지상 알킬기; 사이클로프로필기, 사이클로뷰틸기, 사이클로펜틸기, 사이클로헥실기, 사이클로헵틸기, 사이클로옥틸기, 사이클로노닐기, 사이클로데실기, 바이사이클로뷰틸기, 바이사이클로펜틸기, 바이사이클로헥실기, 바이사이클로헵틸기, 바이사이클로옥틸기, 바이사이클로노닐기, 바이사이클로데실기 등의 탄소수 3∼20의 환상 알킬기 등을 들 수 있다.

(메타)아크릴레이트 화합물로서는 아크릴산, 메타크릴산, 메틸아크릴레이트, 메틸메타크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, n-프로필아크릴레이트, n-프로필메타크릴레이트, 아이소프로필아크릴레이트, 아이소프로필메타크릴레이트, 2,2,2-트라이플루오로에틸아크릴레이트, 2,2,2-트라이플루오로에틸메타크릴레이트, t-뷰틸아크릴레이트, t-뷰틸메타크릴레이트, 2-하이드록시에틸아크릴레이트, 2-하이드록시에틸메타크릴레이트, 2-하이드록시프로필아크릴레이트, 2-하이드록시프로필메타크릴레이트, 2,3-다이하이드록시프로필아크릴레이트, 2,3-다이하이드록시프로필메타크릴레이트, 4-하이드록시뷰틸아크릴레이트, 4-하이드록시뷰틸메타크릴레이트 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 고광투과율, 고밀착성 및 고경도의 밸런스를 고려하면, 바람직하게는, 모노머는 메틸메타크릴레이트 및 에틸메타크릴레이트로부터 선택되는 1종을 포함한다.

본 발명에 있어서, (메타)아크릴레이트 폴리머는 아크릴레이트 및 메타크릴레이트로부터 유도되는 모노머 단위 이외의 그 밖의 모노머 단위를 포함하고 있어도 된다. 그 밖의 모노머 단위를 제공하는 모노머로서는 전형적으로는 스타이렌 화합물, 바이닐 화합물, 말레이미드 화합물, 아크릴로나이트릴, 말레산 무수물을 들 수 있다.

스타이렌 화합물로서는 스타이렌, 메틸스타이렌, 클로로스타이렌, 브로모스타이렌, 4-t-뷰틸스타이렌 등을 들 수 있다.

바이닐 화합물로서는 메틸바이닐에터, 벤질바이닐에터, 바이닐나프탈렌, 바이닐안트라센, 바이닐바이페닐, 바이닐카바졸, 2-하이드록시에틸바이닐에터, 페닐바이닐에터, 프로필바이닐에터 등을 들 수 있다.

말레이미드 화합물로서는, 예를 들면, 말레이미드, N-메틸말레이미드, N-페닐말레이미드, N-사이클로헥실말레이미드 등을 들 수 있다.

이것들 중에서도, 얻어지는 박막의 소수성(저흡수성)의 관점에서, 스타이렌 화합물이 바람직하고, 스타이렌이 보다 바람직하다.

본 발명에 있어서, 고광투과율, 고밀착성 및 고경도의 밸런스를 고려하면, (메타)아크릴레이트 폴리머 중의 (메타)아크릴레이트 화합물로부터 유도되는 모노머 단위의 함유량은 바람직하게는 50몰% 이상, 보다 바람직하게는 60몰% 이상, 더한층 바람직하게는 70몰% 이상, 더욱 바람직하게는 80몰% 이상이다.

(메타)아크릴레이트 폴리머는 시판품을 사용해도 되지만, 전술한 모노머를 중합함으로써 제조한 폴리머를 사용해도 된다.

중합 방법으로서는 라디칼 중합, 음이온 중합, 양이온 중합 등을 채용할 수 있지만, 본 발명에서 필요한 중량평균 분자량을 갖는 (메타)아크릴레이트 폴리머를 비교적 간편하게 제조할 수 있는 점에서, 라디칼 중합이 바람직하다.

개시제로서는 과산화 벤조일, 큐멘하이드로퍼옥사이드, t-뷰틸하이드로퍼옥사이드 등의 과산화물; 과황산 소듐, 과황산 포타슘, 과황산 암모늄 등의 과황산염; 아조비스아이소뷰티로나이트릴, 아조비스메틸뷰티로나이트릴, 아조비스아이소발레로나이트릴, 2,2'-아조비스(아이소뷰티르산)다이메틸 등의 아조계 화합물 등을 들 수 있다. 이러한 개시제의 사용량은 모노머의 종류나 양, 반응온도에 따라 상이하기 때문에 일률적으로 규정할 수 없지만, 통상, 모노머 1몰에 대하여, 0.005∼0.05몰 정도이다. 중합시의 반응온도는 0℃부터 사용하는 용제의 비점까지 적당히 설정하면 되지만, 통상 20∼100℃ 정도이다. 또한 반응시간은 0.1∼30시간 정도이다.

중합은 용매 중에서 행하는 것이 바람직하고, 중합 반응에 사용하는 용매는 이 종류의 반응에서 일반적으로 사용되는 용매를 사용할 수 있다. 구체적으로는, 물; 메탄올, 에탄올, 1-프로판올, 2-프로판올, 1-뷰탄올, 2-뷰탄올, i-뷰틸알코올, t-뷰틸알코올, 1-펜탄올, 2-펜탄올, 3-펜탄올, i-펜틸알코올, t-펜틸알코올, 1-헥산올, 1-헵탄올, 2-헵탄올, 3-헵탄올, 2-옥탄올, 2-에틸-1-헥산올, 벤질알코올, 사이클로헥산올 등의 알코올; 다이에틸에터, 다이아이소프로필에터, 다이뷰틸에터, 사이클로펜틸메틸에터, 테트라하이드로퓨란, 1,4-다이옥세인 등의 에터; 클로로폼, 다이클로로메테인, 다이클로로에테인, 사염화탄소 등의 할로젠화 탄화수소; 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브, 아이소프로필셀로솔브, 뷰틸셀로솔브, 다이에틸렌글라이콜모노뷰틸에터 등의 에터알코올; 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸아이소뷰틸케톤, 사이클로헥산온 등의 케톤; 아세트산 에틸, 아세트산 뷰틸, 프로피온산 에틸, 셀로솔브아세테이트 등의 에스터; n-펜테인, n-헥세인, n-헵테인, n-옥테인, n-노네인, n-데케인, 사이클로펜데인, 메틸사이클로펜데인, 사이클로헥세인, 메틸사이클로헥세인, 벤젠, 톨루엔, 자일렌, 에틸벤젠, 아니솔 등의 지방족 또는 방향족 탄화수소; 메틸알, 다이에틸아세탈 등의 아세탈; 폼산, 아세트산, 프로피온산 등의 지방산; 나이트로프로페인, 나이트로벤젠, 다이메틸아민, 모노에탄올아민, 피리딘, N-메틸-2-피롤리돈, N,N-다이메틸폼아마이드, 다이메틸설폭사이드, 아세토나이트릴 등을 들 수 있다. 이것들로부터, 모노머나 개시제의 종류나 양, 반응온도 등을 고려하여, 사용하는 용매가 적당히 선택된다.

본 발명에서는, (메타)아크릴레이트 폴리머의 중량평균 분자량(Mw)은 폴리머의 용해성을 확보하고, 적합한 경화막을 제공하는 조성물을 조제하는 관점에서, 5,000∼200,000이지만, 조성물의 점도의 과도한 증가를 억제하는 것을 고려하면, 그 상한값은 바람직하게는 180,000, 보다 바람직하게는 150,000, 더한층 바람직하게는 100,000, 더욱 바람직하게는 80,000이며, 조성물의 점도의 과도한 감소를 억제하는 것을 고려하면, 그 하한값은 바람직하게는 10,000, 보다 바람직하게는 15,000, 더한층 바람직하게는 30,000, 더욱 바람직하게는 40,000이다. 또한, Mw는 겔 퍼미에이션 크로마토그래피(GPC)에 의한 폴리스타이렌 환산 측정값이다.

(메타)아크릴레이트 폴리머가 2종 이상의 모노머를 사용하여 제조되는 경우, (메타)아크릴레이트 폴리머는 랜덤 공중합체, 교호 공중합체, 블록 공중합체의 어떤 것이이어도 된다.

[(B) 마이그레이션 억제제겸 이온트랩제]

본 발명의 조성물에 포함되는 (B) 성분은 벤조트라이아졸 화합물로 이루어지는 마이그레이션 억제제겸 이온트랩제이다. 이러한 벤조트라이아졸 화합물로서는 벤조트라이아졸, 4-메틸벤조트라이아졸, 5-메틸벤조트라이아졸 등의 탄소수 1∼3의 알킬기 치환 벤조트라이아졸 유도체를 들 수 있지만, 그 중에서도, 5-메틸벤조트라이아졸이 바람직하다.

(B) 성분의 함유량은, (A) 성분 100질량부에 대하여, 바람직하게는 0.1∼50질량부 정도이지만, 고광투과율, 고밀착성 및 고경도를 유지하면서, 마이그레이션 억제능이 보다 우수한 경화막을 재현성 좋게 얻는 관점에서, 보다 바람직하게는 1∼30질량부이며, 더한층 바람직하게는 2∼25질량부이다.

본 발명의 조성물은 벤조트라이아졸 화합물을 함유하므로, 경화막의 고투명성, 고밀착성 및 고경도를 손상시키지 않고, 우수한 마이그레이션 억제를 실현하는 것이 가능하게 된다.

[(C) 용제]

본 발명의 조성물은 용제에 용해한 용액 상태에서 사용된다. 그 때에 사용하는 용제는 상기 (A) 및 (B) 성분을 용해할 수 있고, 또한 후술의 (D)∼(H) 성분 및 그 밖의 첨가제를 함유하는 경우는 이것들도 용해할 수 있는 것이면, 특별히 한정되지 않는다.

용제의 구체예로서는 에틸렌글라이콜, 에틸렌글라이콜모노메틸에터, 에틸렌글라이콜모노에틸에터, 에틸렌글라이콜다이에틸에터, 에틸렌글라이콜아이소프로필에터, 에틸렌글라이콜모노뷰틸에터, 에틸렌글라이콜다이뷰틸에터, 에틸렌글라이콜모노헥실에터, 에틸렌글라이콜모노벤질에터, 에틸렌글라이콜모노페닐에터, 에틸렌글라이콜모노아세테이트, 에틸렌글라이콜다이아세테이트, 에틸렌글라이콜모노메틸에터아세테이트, 에틸렌글라이콜모노에틸에터아세테이트, 에틸렌글라이콜모노뷰틸에터아세테이트, 다이에틸렌글라이콜, 다이에틸렌글라이콜모노메틸에터, 다이에틸렌글라이콜다이메틸에터, 다이에틸렌글라이콜메틸에틸에터, 다이에틸렌글라이콜모노에틸에터, 다이에틸렌글라이콜다이에틸에터, 다이에틸렌글라이콜모노뷰틸에터, 다이에틸렌글라이콜다이뷰틸에터, 다이에틸렌글라이콜모노헥실에터, 다이에틸렌글라이콜모노벤질에터, 다이에틸렌글라이콜모노페닐에터, 다이에틸렌글라이콜아세테이트, 다이에틸렌글라이콜모노에틸에터아세테이트, 다이에틸렌글라이콜모노뷰틸에터아세테이트, 트라이에틸렌글라이콜모노메틸에터, 트라이에틸렌글라이콜모노뷰틸에터, 프로필렌글라이콜, 프로필렌글라이콜모노메틸에터, 프로필렌글라이콜모노에틸에터, 프로필렌글라이콜모노뷰틸에터, 다이프로필렌글라이콜, 다이프로필렌글라이콜모노메틸에터, 다이프로필렌글라이콜모노에틸에터, 다이프로필렌글라이콜모노뷰틸에터, 트라이프로필렌글라이콜모노메틸에터, 트라이메틸렌글라이콜, 헥실렌글라이콜, 옥틸렌글라이콜, 메톡시메톡시에탄올, 1-뷰톡시에톡시프로판올, 아세트산 아이소뷰틸, 아세트산 메톡시뷰틸, 아세트산 2-에틸헥실, 아세트산 사이클로헥실, 아세트산 메틸사이클로헥실, 아세트산 벤질, 아세트산 아이소아밀, 프로피온산 n-뷰틸, 락트산 아이소뷰틸, 락트산 n-뷰틸, 락트산 n-아밀, 락트산 아이소아밀, 아이소발레르산 아이소아밀, 아세토뷰티르산 에틸, 스테아르산 뷰틸, 옥살산 다이뷰틸, 말론산 다이에틸, 벤조산 메틸, 벤조산 에틸, 벤조산 프로필, 살리실산 메틸, 메틸페닐에터, 에틸벤질에터, 에틸페닐에터, 다이클로로에틸에터, 다이아이소아밀 에터, n-헥실에터, 1,4-다이옥세인, 다이에틸아세탈, 시네올, 메틸에틸케톤, 메틸프로필케톤, 메틸뷰틸케톤, 메틸아이소뷰틸케톤, 다이에틸케톤, 에틸n-뷰틸케톤, 다이-n-프로필케톤, 아세톤일아세톤, 포론, 아이소포론, 아세토페논, 글리세린, 뷰탄올, 2-뷰탄올, 1,3-뷰테인다이올, 2,3-뷰테인다이올, 아이소아밀알코올, 1,5-펜테인다이올, 2-메틸사이클로헥산올, 2-에틸헥산올, 3,5,5-트라이메틸헥산올, 1-옥탄올, 2-옥탄올, 노난올, n-데칸올, 트라이메틸노닐알코올, 벤질알코올, α-터피네올, 테트라하이드로퓨퓨릴알코올, 퓨퓨릴알코올, 아비에틴올, 트라이글라이콜다이클로라이드, 트라이클로로아세트산, 락트산, 발레르산, 아이소발레르산, 카프로산, 2-에틸헥산산, 카프릴산, 무수 뷰티르산, 데케인, 다이펜텐, p-멘테인, 도데케인, 1,1,2-트라이클로로에테인, 1,1,1,2-테트라클로로에테인, 1,1,2,2-테트라클로로에테인, 헥사클로로에테인, 톨루엔, 자일렌, o-다이클로로벤젠, m-다이클로로벤젠, p-다이클로로벤젠, 1,2,4-트라이클로로벤젠, o-다이브로모벤젠, 벤조나이트릴, 나이트로벤젠, α-톨루나이트릴(페닐아세토나이트릴), N-메틸폼아마이드, N-메틸아세트아마이드, 2-피롤리돈 등을 들 수 있다.

상기 용제는 1종 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. 또한 (A) 성분을 중합할 때에 사용한 용제를 그대로 사용할 수도 있다.

상기 용제는, 인쇄성의 관점에서는, 비점이 150℃ 이상인 것이 바람직하고, 180℃ 이상인 것이 보다 바람직하고, 200℃ 이상인 것이 더한층 바람직하다. 이러한 용제로서는 다이에틸렌글라이콜모노메틸에터, 다이에틸렌글라이콜모노에틸에터, 다이에틸렌글라이콜모노에틸에터아세테이트, 다이에틸렌글라이콜모노뷰틸에터, 다이에틸렌글라이콜모노뷰틸에터아세테이트, 다이에틸렌글라이콜다이메틸에터, 다이에틸렌글라이콜다이에틸에터, 다이에틸렌글라이콜다이뷰틸에터, 다이에틸렌글라이콜모노헥실에터, 트라이에틸렌글라이콜모노뷰틸에터, 프로필렌글라이콜모노뷰틸에터, 다이프로필렌글라이콜, 다이프로필렌글라이콜모노메틸에터, 다이프로필렌글라이콜모노에틸에터, 다이에틸렌글라이콜모노페닐에터, 에틸렌글라이콜모노벤질에터, 다이에틸렌글라이콜모노벤질에터 등이 특히 바람직하다.

용제를 2종 이상 혼합하여 사용하는 경우에는, 적어도 1종의 비점이 150℃ 이상인 것이 바람직하고, 180℃ 이상인 것이 보다 바람직하고, 200℃ 이상인 것이 더한층 바람직하다.

상기 용제의 양은 본 발명의 조성물 중의 고형분 농도가 1∼95질량%가 되는 것과 같은 양이 바람직하고, 고형분 농도가 5∼90질량%가 되는 것과 같은 양이 보다 바람직하고, 고형분 농도가 10∼85질량%가 되는 것과 같은 양이 더한층 바람직하다. 여기에서, 고형분이란 본 발명의 조성물의 전체 성분으로부터 (C) 용제를 제외한 것이다.

본 발명의 조성물은 상기 (A)∼(C) 성분을 함유하지만, 오버코트 기능을 향상시키는 관점 등에서,

(D) 실레인 커플링제,

(E) 다작용 (메타)아크릴레이트 화합물,

(F) 라디칼 중합개시제,

(G) 중합금지제,

(H) 벤조트라이아졸 화합물 이외의 이온트랩제

등을 더 함유해도 된다.

[(D) 실레인 커플링제]

본 발명의 조성물은, 밀착성을 향상시키는 관점에서, 바람직하게는, (D) 성분으로서 실레인 커플링제를 함유한다. 실레인 커플링제의 바람직한 일례로서는 식 (2)로 표시되는 실레인 화합물을 들 수 있다.

식 (2) 중, R³은 메틸기 또는 에틸기를 나타낸다. X는 가수분해성 기를 나타낸다. Y는 반응성 작용기를 나타낸다. m은 0∼3의 정수이다. n은 0∼3의 정수이며, 0∼2의 정수가 바람직하다.

X로 표시되는 가수분해성 기로서는 할로젠 원자, 탄소수 1∼3의 알콕시기, 탄소수 2∼4의 알콕시알콕시기 등을 들 수 있다. 상기 할로젠 원자로서는 염소 원자, 브로민 원자 등을 들 수 있다. 탄소수 1∼3의 알콕시기로서는 직쇄상 또는 분지상의 것이 바람직하고, 구체적으로는 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기 및 i-프로폭시기이다. 또한 탄소수 2∼4의 알콕시알콕시기로서 구체적으로는 메톡시메톡시기, 2-메톡시에톡시기, 에톡시메톡시기 및 2-에톡시에톡시기이다.

Y로 표시되는 반응성 작용기로서는 아미노기, 유레이도기, (메타)아크릴옥시기, 바이닐기, 에폭시기, 머캡토기 등을 들 수 있고, 아미노기, 유레이도기, (메타)아크릴옥시기 등이 바람직하다. 특히 바람직하게는 아미노기 또는 유레이도기이다.

상기 실레인 커플링제로서 구체적으로는 3-아미노프로필트라이클로로실레인, 3-아미노프로필트라이메톡시실레인, 3-아미노프로필트라이에톡시실레인, 3-아미노프로필메틸다이메톡시실레인, 3-아미노프로필메틸다이에톡시실레인, 3-유레이도프로필트라이메톡시실레인, 3-유레이도프로필트라이에톡시실레인, 3-아크릴옥시프로필트라이메톡시실레인, 3-아크릴옥시프로필트라이에톡시실레인, 3-메타크릴옥시프로필트라이메톡시실레인, 3-메타크릴옥시프로필트라이에톡시실레인, 바이닐트라이클로로실레인, 바이닐트라이메톡시실레인, 바이닐트라이에톡시실레인, 알릴트라이클로로실레인, 알릴트라이메톡시실레인, 알릴트라이에톡시실레인, 3-글라이시드옥시프로필트라이메톡시실레인, 3-글라이시드옥시프로필메틸다이에톡시실레인, 3-글라이시드옥시프로필트라이에톡시실레인, 3-머캡토프로필트라이메톡시실레인, 3-머캡토프로필트라이에톡시실레인, 3-머캡토프로필메틸다이메톡시실레인, 3-머캡토프로필메틸다이에톡시실레인 등을 들 수 있다.

이들 중, 3-아미노프로필트라이메톡시실레인, 3-아미노프로필트라이에톡시실레인, 3-유레이도프로필트라이메톡시실레인, 3-유레이도프로필트라이에톡시실레인, 3-메타크릴옥시프로필트라이메톡시실레인, 3-메타크릴옥시프로필트라이에톡시실레인 등이 특히 바람직하다.

상기 실레인 커플링제로서는 시판품을 사용할 수 있다.

본 발명의 조성물이 (D) 성분을 함유하는 경우, 그 함유량은 (A) 성분 100질량부에 대하여 0.001∼10질량부가 바람직하며, 0.01∼5질량부가 보다 바람직하고, 0.05∼1질량부가 더한층 바람직하다. 함유량이 0.001질량부 미만이면 밀착성의 향상 효과가 얻어지지 않는 경우가 있고, 10질량부를 초과하면 경도가 저하되는 경우가 있다.

[(E) 다작용 (메타)아크릴레이트 화합물]

본 발명의 조성물은, 경도를 개선하는 관점에서, 바람직하게는, (E) 성분으로서 다작용 (메타)아크릴레이트 화합물을 함유한다. 다작용 (메타)아크릴레이트 화합물이란 분자 중에 적어도 3개의 (메타)아크릴옥시기를 갖는 화합물이며, 구체적으로는, 다가 알코올과 (메타)아크릴산과의 에스터를 들 수 있다. 또한 1분자 중의 (메타)아크릴옥시기의 수는 3∼6이며, 바람직하게는 3 또는 4이다.

상기 다가 알코올로서는 글리세롤, 에리트리톨, 펜타에리트리톨, 트라이메틸올에테인, 트라이메틸올프로페인, 다이펜타에리트리톨, 다이트라이메틸올프로페인 등을 들 수 있다.

상기 다작용 (메타)아크릴레이트 화합물의 구체예로서는 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라메타크릴레이트, 펜타에리트리톨트라이아크릴레이트, 펜타에리트리톨트라이메타크릴레이트, 다이펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, 다이펜타에리트리톨헥사메타크릴레이트, 다이펜타에리트리톨펜타아크릴레이트, 다이펜타에리트리톨펜타메타크릴레이트, 트라이메틸올에테인트라이아크릴레이트, 트라이메틸올에테인트라이메타크릴레이트, 트라이메틸올프로페인트라이아크릴레이트, 트라이메틸올프로페인트라이메타크릴레이트, 다이트라이메틸올프로페인테트라아크릴레이트, 다이트라이메틸올프로페인테트라메타크릴레이트 등을 들 수 있다.

상기 다작용 (메타)아크릴레이트 화합물은 시판품으로서 용이하게 입수가 가능하며, 그 구체예로서는, 예를 들면, 닛폰카야쿠(주)제 KAYARAD(등록상표) T-1420, DPHA, DPHA-2C, D-310, D-330, DPCA-20, DPCA-30, DPCA-60, DPCA-120, DN-0075, DN-2475, R-526, NPGDA, PEG400DA, MANDA, R-167, HX-220, HX620, R-551, R-712, R-604, R-684, GPO-303, TMPTA, THE-330, TPA-320, TPA-330, PET-30, RP-1040; 도아고세(주)제 아로닉스(등록상표) M-210, M-240, M-6200, M-309, M-400, M-402, M-405, M-450, M-7100, M-8030, M-8060, M-1310, M-1600, M-1960, M-8100, M-8530, M-8560, M-9050; 오사카유키카가쿠고교(주)제 비스코트 295, 300, 360, GPT, 3PA, 400, 260, 312, 335HP; 신나카무라카가쿠고교(주)제 NK에스터 A-9300, A-9300-1CL, A-GLY-9E, A-GLY-20E, A-TMM-3, A-TMM-3L, A-TMM-3LM-N, A-TMPT, AD-TMP, ATM-35E, A-TMMT, A-9550, A-DPH, TMPT 등을 들 수 있다.

본 발명의 조성물이 (E) 성분을 함유하는 경우, 그 함유량은, (A) 성분 100질량부에 대하여, 10∼300질량부인 것이 바람직하고, 20∼200질량부가 보다 바람직하고, 50∼150질량부가 더한층 바람직하다. 함유량이 10질량부 미만인 경우에는, 경화막의 경도 개선 효과가 얻어지지 않는 경우가 있고, 300질량부를 초과하는 경우에는, 밀착성과 유연성의 특성이 저하되어, 크랙이 발생하기 쉬워지는 경우가 있다. 다작용 (메타)아크릴레이트 화합물은 1종 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.

[(F) 라디칼 중합개시제]

본 발명의 조성물은, (E) 성분의 중합의 개시 또는 촉진의 관점에서, 바람직하게는 (F) 성분으로서 라디칼 중합개시제를 함유한다. (E) 성분은 고온에서 처리함으로써 자발적으로 중합되지만, 기판이 변성되는 등 고온 경화 처리를 할 수 없는 경우, (F) 성분을 첨가함으로써 저온 경화 처리 또는 광경화 처리가 가능하게 된다.

라디칼 중합개시제는 광조사 및/또는 가열에 의해 라디칼 중합을 개시시키는 물질을 방출하는 것이 가능하면 된다. 예를 들면, 광 라디칼 중합개시제로서는 벤조페논 유도체, 이미다졸 유도체, 비스이미다졸 유도체, N-아릴글리신 유도체, 유기 아자이드 화합물, 티타노센 화합물, 알루미네이트 착물, 유기 과산화물, N-알콕시피리디늄염, 싸이옥산톤 유도체 등을 들 수 있다. 더욱 구체적으로는, 벤조페논, 1,3-다이(t-뷰틸다이옥시카본일)벤조페논, 3,3',4,4'-테트라키스(t-뷰틸다이옥시카본일)벤조페논, 3-페닐-5-아이소옥사졸론, 2-머캡토벤즈이미다졸, 비스(2,4,5-트라이페닐)이미다졸, 2,2-다이메톡시-1,2-다이페닐에테인-1-온, 1-하이드록시클로로헥실페닐케톤, 2-벤질-2-다이메틸아미노-1-(4-모폴리노페닐)뷰테인-1-온, 비스(η5-2,4-사이클로펜타다이엔-1-일)비스(2,6-다이플루오로-3-(1H-피롤-1-일)페닐)타이타늄 등을 들 수 있지만, 이것들에 한정되지 않는다.

상기 광 라디칼 중합개시제로서는 시판품을 이용할 수도 있고, 예를 들면, BASF사제의 IRGACURE(등록상표) 651, 184, 369, 784 등을 들 수 있다. 또한 상기 이외의 시판품도 사용할 수 있고, 구체적으로는, BASF사제 IRGACURE(등록상표) 500, 907, 379, 819, 127, 500, 754, 250, 1800, 1870, OXE01, TPO, DAROCUR(등록상표) 1173; Lambson사제 Speedcure(등록상표) MBB, PBZ, ITX, CTX, EDB; Lamberti사제 Esacure(등록상표) ONE, KIP150, KTO46; 닛폰카야쿠(주)제 KAYACURE(등록상표) DETX-S, CTX, BMS, DMBI 등을 들 수 있다.

또한 열 라디칼 중합개시제로서는, 예를 들면, 아세틸퍼옥사이드, 벤조일퍼옥사이드, 메틸에틸케톤퍼옥사이드, 사이클로헥산온퍼옥사이드, 과산화 수소, t-뷰틸하이드로퍼옥사이드, 큐멘하이드로퍼옥사이드, 다이-t-뷰틸퍼옥사이드, 다이큐밀퍼옥사이드, 다이라우로일퍼옥사이드, t-뷰틸퍼옥시아세테이트, t-뷰틸퍼옥시피발레이트, t-뷰틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트(t-뷰틸2-에틸헥세인퍼옥소에이트) 등의 과산화물; 2,2'-아조비스아이소뷰티로나이트릴, 2,2'-아조비스(2,4-다이메틸발레로나이트릴), (1-페닐에틸)아조다이페닐메테인, 2,2'-아조비스(4-메톡시-2,4-다이메틸발레로나이트릴), 다이메틸2,2'-아조비스아이소뷰티레이트, 2,2'-아조비스(2-메틸뷰티로나이트릴), 1,1'-아조비스(1-사이클로헥세인카보나이트릴), 2-(카바모일아조)아이소뷰티로나이트릴, 2,2'-아조비스(2,4,4-트라이메틸펜테인), 2-페닐아조-2,4-다이메틸-4-메톡시발레로나이트릴, 2,2'-아조비스(2-메틸프로페인) 등의 아조계 화합물; 과황산 암모늄, 과황산 소듐, 과황산 포타슘 등의 과황산염 등을 들 수 있지만, 이것들에 한정되지 않는다.

시판의 열 라디칼 중합개시제로서는, 예를 들면, 니치유(주)제 퍼로일(등록상표) IB, NPP, IPP, SBP, TCP, OPP, SA, 355, L, 퍼뷰틸(등록상표) ND, NHP, MA, PV, 355, A, C, D, E, L, I, O, P, Z, 퍼헥실(등록상표) ND, PV, D, I, O, Z, 퍼옥타(등록상표) ND, 나이퍼(등록상표) PMB, BMT, BW, 퍼테트라(등록상표) A, 퍼헥사(등록상표) MC, TMH, HC , 250, 25B, C, 25Z, 22, V, 퍼옥타(등록상표) O, 퍼큐밀(등록상표) ND, D, 퍼멘타(등록상표) H, 노프머(등록상표) BC; 와코쥰야쿠고교(주)제 V-70, V-65, V-59, V-40, V-30, VA-044, VA-046B, VA-061, V-50, VA-057, VA-086, VF-096, VAm-110, V-601, V-501; BASF사제 IRGACURE(등록상표) 184, 369, 651,500, 819, 907, 784, 2959, CGI1700, CGI1750, CGI1850, CG24-61, TPO, DAROCUR(등록상표) 1116, 1173; 사이텍서피스스페셜티즈사제 UVECRYL(등록상표) P36; Lamberti사제 Esacure(등록상표) KIP150, KIP65LT, KIP100F, KT37, KT55, KTO46, KIP75/B 등을 들 수 있지만, 이것들에 한정되지 않는다.

본 발명의 조성물이 (F) 성분을 함유하는 경우, 그 함유량은, (A) 성분 100질량부에 대하여, 1∼20질량부가 바람직하고, 1∼15질량부가 보다 바람직하다.

[(G) 중합금지제]

본 발명의 조성물은, 필요에 따라, (G) 성분으로서 중합금지제를 함유할 수 있다. 상기 중합금지제로서는, 예를 들면, 2,6-다이아이소뷰틸페놀, 3,5-다이-t-뷰틸페놀, 3,5-다이-t-뷰틸크레졸, 하이드로퀴논, 하이드로퀴논모노메틸에터, 파이로갈롤, t-뷰틸카테콜, 4-메톡시-1-나프톨 등을 들 수 있다.

본 발명의 조성물이 (G) 성분을 함유하는 경우, 그 함유량은 전체 고형분 중 1질량% 이하가 바람직하고, 0.5질량% 이하가 보다 바람직하다. 함유율이 1질량%를 초과하면, 경화 불량을 일으켜, 반응이 불충분하게 되는 경우가 있다.

[(H) 벤조트라이아졸 화합물 이외의 이온트랩제]

본 발명의 조성물은 (H) 성분으로서 벤조트라이아졸 화합물 이외의 이온트랩제를 함유할 수 있다. 이러한 이온트랩제로서는, 예를 들면, N,N'-비스[3-(3,5-다이-t-뷰틸-4-하이드록시페닐)프로피온일]하이드라진(Irganox(등록상표) MD1024, BASF사제), 옥살산 비스(벤질리덴히드라지드)(Eastman Inhibitor OABH, 이스트만케미컬사제) 등을 들 수 있다.

본 발명의 조성물이 (H) 성분을 함유하는 경우, 그 함유량은, (A) 성분 100질량부에 대하여, 0.0001∼20질량부 정도이지만, 전술한 바와 같이, 벤조트라이아졸 화합물이 이온트랩제로서도 기능할 수 있는 점에서, 그 밖의 이온트랩제를 포함하지 않는 편이 바람직하다.

[그 밖의 첨가제]

본 발명의 조성물은, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 한에서, 필요에 따라, 계면활성제, 가교제, 소포제, 레올로지 조정제, 안료, 염료, 보존안정제, 다가 페놀이나 다가 카복실산 등의 용해촉진제 등을 더 함유할 수 있다.

계면활성제로서는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 불소계 계면활성제, 실리콘계 계면활성제, 비이온계 계면활성제 등을 들 수 있다. 이 종류의 계면활성제로서는, 예를 들면, 미츠비시머티리얼 덴시카세이(주)제 에프톱(등록상표) EF301, EF303, EF352; DIC(주)제 메가팍(등록상표) F171, F173; 쓰리엠사제 FLUORAD(등록상표) FC430, FC431; 아사히가라스(주)제 아사히가드(등록상표) AG710, AGC 세이미케미칼(주)제 서플론(등록상표) S-382, SC101, SC102, SC103, SC104, SC105, SC106 등을 들 수 있다.

가교제로서는 다작용 에폭시 화합물, 다작용 아이소사이아네이트 화합물, 다작용 싸이올 화합물, 멜라민계 가교제 등을 들 수 있지만, (E) 성분을 함유하는 경우에는 3작용 이상의 싸이올 화합물이 바람직하다. 다작용 싸이올 화합물은 다가 알코올과, 단작용 및/또는 다작용 싸이올 화합물과의 부가반응물로서 얻을 수 있다. 구체적인 화합물로서는 1,3,5-트리스(3-머캡토프로피온일옥시에틸)아이소사이아누레이트, 1,3,5-트리스(3-머캡토뷰티릴옥시에틸)아이소사이아누레이트(쇼와덴코(주)제, 카렌즈 MT(등록상표) NR1), 트라이메틸올프로페인트리스(3-머캡토프로피오네이트) 등의 3작용 싸이올 화합물; 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캡토프로피오네이트), 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캡토뷰티레이트)(쇼와덴코(주)제, 카렌즈 MT(등록상표) PEI) 등의 4작용 싸이올 화합물; 다이펜타에리트리톨헥사키스(3-프로피오네이트) 등의 6작용 싸이올 화합물 등을 들 수 있다.

소포제로서는 아세틸렌글라이콜, 실리콘 유체 및 유제, 에톡시화 또는 프로폭시화 실리콘, 탄화 수소, 지방산 에스터 유도체, 아세틸화 폴리아마이드, 폴리(알킬렌옥사이드)폴리머 및 코폴리머 등을 들 수 있지만, 이것들에 한정되지 않는다. 스크린 인쇄를 행하는 경우에는, 본 발명의 조성물은 소포제를 함유하는 것이 바람직하다.

본 발명의 조성물의 25℃에서의 점도는, 도포성의 관점에서, 바람직하게는 1∼10,000mPa·s, 보다 바람직하게는 1∼5,000mPa·s, 더한층 바람직하게는 1∼1,000mPa·s이다. 점도가 지나치게 낮으면, 목적의 막 두께가 얻어지지 않는 경우가 있고, 점도가 지나치게 높으면, 도포성이 저하되는 경우가 있다.

또한 본 발명의 조성물의 25℃에서의 점도는, 인쇄성의 관점에서, 바람직하게는 10∼100,000mPa·s, 보다 바람직하게는 500∼100,000mPa·s, 더한층 바람직하게는 1,000∼100,000mPa·s이다. 점도가 지나치게 낮으면, 도포 후에 조성물이 확산되어 버려, 원하는 패턴이 형성되지 않는 경우가 있고, 점도가 지나치게 높으면, 토출성이 낮아지는 등 공정에의 부하가 생기거나, 조성물의 기판에의 전사성이 저하되거나 하는 경우가 있다.

터치패널에 있어서의 X축 전극 및 Y축 전극이 직교하는 부분에 브리지 구조를 구성하기 위한 절연막과 같이 미세한 구조를 스크린 인쇄, 그라비아 옵셋 인쇄 등의 인쇄법에 의해 형성하는 경우에는, 본 발명의 조성물의 25℃에서의 점도는, 바람직하게는 10∼100,000mPa·s, 보다 바람직하게는 5,000∼100,000mPa·s, 더한층 바람직하게는 20,000∼100,000mPa·s이다. 점도가 지나치게 낮으면, 도포 후에 조성물이 확산되어 버려, 원하는 패턴이 형성되지 않는 경우가 있고, 점도가 지나치게 높으면, 토출성이 낮아지는 등 공정에의 부하가 생기거나, 조성물의 기판에의 전사성이 저하되거나 하는 경우가 있다.

또한, 본 발명에 있어서, 점도는 E형 점도계에 의한 측정값이다.

[조성물의 조제 방법]

본 발명의 조성물의 조제 방법은 특별히 한정되지 않는다. 일례로서는 (A) 성분을 (C) 용제에 용해하고, 이 용액에 (B) 성분을 소정의 비율로 혼합하여, 균일한 용액으로 하는 방법을 들 수 있다. 또한 이 조제 방법의 적당한 단계에서, 필요에 따라 (D)∼(H) 성분이나 그 밖의 성분을 더 첨가하여 혼합하는 조제 방법을 들 수 있다.

본 발명의 조성물의 조제에 있어서는, 용제 중에 있어서의 중합 반응에 의해 얻어진 (A) 성분의 용액을 그대로 사용할 수 있다. 이 경우, 이 (A) 성분의 용액에, 전술한 바와 같이, (B) 성분 등을 넣어 균일한 용액으로 한다. 또한 농도 조정을 목적으로 하여 (C) 용제를 더 가해도 된다.

이렇게 하여 조제된 용액 상태의 조성물은 구멍 직경이 0.2㎛ 정도의 필터 등을 사용하여 여과한 후에 사용하는 것이 바람직하다.

[도포막 및 경화막]

본 발명의 조성물을 전극 및/또는 배선을 갖는 기판(예를 들면, 실리콘/이산화 실리콘 피복 기판; 실리콘나이트라이드 기판; 알루미늄, 몰리브데넘, 크로뮴, 구리, 은 등의 금속, 은 나노 와이어 등의 금속 나노 와이어, 은 나노 입자, 구리 나노 입자 등의 금속 나노 입자, 폴리(3,4-에틸렌다이옥시싸이오펜)/폴리(스타이렌설폰산염)(PEDOT/PSS), 그래핀, 카본 나노튜브 등의 도전성 폴리머가 피복된 기판; 유리 기판; 석영 기판; ITO 기판; ITO 필름 기판; TAC 필름, 폴리에스터 필름, 아크릴 필름, 사이클로올레핀(COP) 필름 등의 수지 필름 기판) 등 위에, 회전 도포, 플로우 도포, 롤 도포, 슬릿 도포, 슬릿에 이은 회전 도포, 잉크젯 도포, 스크린 인쇄, 플렉소 인쇄, 그라비아 인쇄, 옵셋 인쇄, 그라비아 옵셋 인쇄 등의 인쇄법 등에 의해 도포하고, 그 후에 핫플레이트 또는 오븐 등에서 예비 건조(프리 베이크)함으로써, 도포막을 형성할 수 있다. 본 발명의 조성물은 특히 잉크젯 도포, 스크린 인쇄, 플렉소 인쇄, 그라비아 옵셋 인쇄 등의 인쇄법에 적합하다.

프리 베이크는, 일반적으로, 바람직하게는 60℃∼150℃, 보다 바람직하게는 80℃∼120℃에서, 핫플레이트를 사용하는 경우에는 0.5∼30분간, 오븐을 사용하는 경우에는 0.5∼90분간 처리한다고 하는 방법이 채용된다.

이어서, 열경화를 위한 포스트 베이크를 행한다. 구체적으로는, 핫플레이트, 오븐 등을 사용하여 가열한다. 포스트 베이크는, 일반적으로, 바람직하게는 150℃∼300℃, 보다 바람직하게는 200℃∼250℃에서, 핫플레이트를 사용하는 경우에는 1∼30분간, 오븐을 사용하는 경우에는 1∼90분간 처리한다고 하는 방법이 채용된다.

본 발명의 조성물이 열 라디칼 중합개시제를 함유하는 경우에는, 저온에서의 경화가 가능하다. 이 경우, 프리 베이크 조건은 상기와 동일하지만, 포스트 베이크 온도는 바람직하게는 60℃∼200℃, 보다 바람직하게는 80℃∼150℃이다. 그 밖의 조건은 상기와 동일하다.

또한 본 발명의 조성물이 광 라디칼 중합개시제를 함유하는 경우에는, 프리 베이크 후, 상기 도포막에 자외선을 조사함으로써, 광경화를 행할 수 있다. 자외선은, 파장 200∼500nm의 범위에서, 그 노광량은 100∼5,000mJ/cm²인 것이 바람직하다.

광경화 후는, 열경화를 위한 포스트 베이크를 행한다. 구체적으로는, 핫플레이트, 오븐 등을 사용하여 가열한다. 포스트 베이크는, 일반적으로, 바람직하게는 60℃∼150℃, 보다 바람직하게는 80℃∼120℃이며, 핫플레이트를 사용하는 경우에는 1∼30분간, 오븐을 사용하는 경우에는 1∼90분간 처리한다고 하는 방법이 채용된다.

상기한 바와 같은 조건하에서 본 발명의 조성물을 경화시킴으로써, 기판의 단차를 충분히 평탄화할 수 있어, 고투명성을 갖는 경화막을 형성할 수 있다.

본 발명의 경화막은 적어도 필요한 수준의 평탄화성, 경도 및 밀착성을 갖기 때문에, 박막 트랜지스터(TFT)형 액정 표시 소자, 유기 EL 소자 등의 각종 디스플레이에 있어서의 보호막, 평탄화막, 절연막 등, 터치패널에 있어서의 보호막, 절연막 등의 경화막을 형성하는 재료로서도 유용하다. 또한 유연성도 우수하기 때문에, ITO 필름용의 오버코트재로서도 적합하다.

전극 및/또는 배선이 형성된 기재 위에 상기 전극 및/또는 배선과 접하도록 형성된 본 발명의 경화막을 구비하는 도전성 부재는, 마이그레이션이 억제되기 때문에, 전극이나 배선 간의 쇼트를 일으키기 어려워, 내구성이 우수하게 된다.

본 발명의 마이그레이션 억제 방법에 의하면, 조성물 중에 벤조트라이아졸 화합물이 포함되기 때문에, 경화막의 투명성, 밀착성 및 경도를 손상시키지 않고, 우수한 마이그레이션 억제를 실현하는 것이 가능하게 된다. 본 발명의 방법은 은, 구리, 금, 알루미늄, 니켈, 주석, 납, 팔라듐 등의 마이그레이션의 억제에 효과적이며, 특히, 은의 마이그레이션 억제에 효과적이다.

실시예

이하, 합성예, 실시예 및 비교예를 들어 본 발명을 더욱 상세하게 설명하지만, 본 발명은, 하기 실시예에 한정되지 않는다. 또한, 합성예에서 얻어진 공중합체의 중량평균 분자량(Mw)은 쇼와덴코(주)제 GPC 장치(Shodex GPC-101)(컬럼: Shodex(등록상표) KF803l 및 KF804l(쇼와덴코(주)제))을 사용하고, 용출 용제 테트라하이드로퓨란을 유량 1mL/분으로 컬럼 속(컬럼 온도 40℃)에 흘려 용리시키는 조건에서 측정했다. 또한, Mw는 폴리스타이렌 환산값으로 나타냈다.

또한 하기 합성예, 실시예, 비교예에서 사용한 시약 및 장치는 다음과 같다.

·DEGMEA(다이에틸렌글라이콜모노에틸에터아세테이트), MMA(메타크릴산 메틸), MAA(메타크릴산), ST(스타이렌): 토쿄카세이고교(주)제

·MAIB: 2,2'-아조비스(아이소뷰티르산)다이메틸, 토쿄카세이고교(주)제

·PET-30: 펜타에리트리톨(트라이/테트라)아크릴레이트, 닛폰카야쿠(주)제

·5-MBT: 5-메틸벤조트라이아졸, 토쿄카세이고교(주)제

·IRG184: 광중합개시제, BASF사제 IRGACURE(등록상표) 184

·APS: 3-아미노프로필트라이에톡시실레인, 신에츠카가쿠고교(주)제 LS-3150

·AGITAN771: 소포제, MUNZING사제

·교반 장치: (주)씬키제 아와토리렌타로 ARE-310

[1] 수지의 합성

[합성예 1]

1,000mL의 4구 플라스크에, DEGMEA 532.0g을 넣고, 질소 분위기하, 70℃(내부 온도)에서 교반하면서, 거기에 MMA 280.0g, MAA 30.1g, ST 36.5g 및 MAIB 8.1g의 혼합액을 2시간 걸쳐서 천천히 적하했다. 적하 후, 또한 70℃에서 20시간 반응시켜, 수지 용액 P1을 얻었다. 또한, 이 수지 용액에 포함되는 수지((메타)아크릴레이트 폴리머) 중의 모노머 단위의 몰비는 MMA 단위:MAA 단위:ST 단위=80:10:10이며, 그 Mw는 약 5만이었다.

[2] 경화막 형성용 수지 조성물의 제작, 경화막의 제작 및 그 평가

[실시예 1]

200mL의 플라스틱 용기에, 합성예 1에서 얻어진 수지 용액 P1을 55.1g, PET-30을 24.3g, IRG 184를 1.3g, 5-MBT를 1.3g, APS를 0.02g, AGITAN 771을 0.03g, DEGMEA를 17.9g 넣고, 이것을 교반 장치에 넣고, 10분간, 2,000rpm으로 교반하여, 바니시를 제작했다.

[실시예 2]

200mL의 플라스틱 용기에, 합성예 1에서 얻어진 수지 용액 P1을 50.2g, PET-30을 25.1g, IRG 184를 1.4g, 5-MBT를 0.68g, APS를 0.03g, AGITAN 771을 0.03g, DEGMEA를 22.6g 넣고, 이것을 교반 장치에 넣고, 10분간, 2,000rpm으로 교반하여, 바니시를 제작했다.

[실시예 3]

200mL의 플라스틱 용기에, 합성예 1에서 얻어진 수지 용액 P1을 48.3g, PET-30을 24.1g, IRG 184를 1.3g, 5-MBT를 2.62g, APS를 0.02g, AGITAN 771을 0.03g, DEGMEA를 23.7g 넣고, 이것을 교반 장치에 넣고, 10분간, 2,000rpm으로 교반하여, 바니시를 제작했다.

[실시예 4]

200mL의 플라스틱 용기에, 합성예 1에서 얻어진 수지 용액 P1을 45.9g, PET-30을 22.9g, IRG 184를 1.2g, 5-MBT를 5.00g, APS를 0.02g, AGITAN 771을 0.03g, DEGMEA를 25.0g 넣고, 이것을 교반 장치에 넣고, 10분간, 2,000rpm으로 교반하여, 바니시를 제작했다.

[비교예 1]

200mL의 플라스틱 용기에, 합성예 1에서 얻어진 수지 용액 P1을 56.7g, PET-30을 24.9g, IRG 184를 1.4g, APS를 0.02g, AGITAN 771을 0.03g, DEGMEA를 17.0g 넣고, 이것을 교반 장치에 넣고, 10분간, 2,000rpm으로 교반하여, 바니시를 제작했다.

실시예 1∼4 및 비교예 1에서 제작한 바니시의 조성을 정리하여 표 1에 나타낸다.

[3] 경화막의 제작 및 그 평가

[광투과율 측정용 경화막의 제작]

실시예 1∼4 및 비교예 1의 바니시를 각각 유리 기판 위에 스핀 코팅에 의해 도포하고, 우선 110℃에서 2분간 프리 베이크를 행했다. 이어서 UV 조사(800mJ/cm²)를 행하고, 그 후 110℃에서 30분간 포스트 베이크를 행하여, 두께 약 5㎛의 경화막을 제작했다. 얻어진 경화막에 대하여, 하기 방법에 의해 연필 경도, 밀착성, 투명성의 평가를 행했다. 결과를 표 2에 나타낸다.

[광투과율의 측정]

경화막의 자외 가시 흡수 스펙트럼을 (주)시마즈세사쿠쇼제 UV-3100PC를 사용하여 측정하고, 파장 400nm에서의 투과율을 평가했다.

[연필 경도의 평가]

JIS K 5400에 준하여, 1,000g 하중으로 측정했다.

[밀착성의 평가]

크로스컷 시험 방법에 의해 평가했다. 우선, 커터 가이드를 사용하여, 경화막에 100개의 바둑판눈을 작성했다. 다음에 당해 바둑판눈 위에 니치반(주)제의 셀로판 테이프를 접착하고, 위에서 지우개로 강하게 문질러, 충분히 밀착시켰다. 그리고, 다음에 셀로판 테이프를 벗기고, 그 때, 100개의 바둑판눈 중, 몇 개가 박리되었는지로 평가를 행했다.

0B: 66개 이상이 박리

1B: 36∼65개가 박리

2B: 16∼35개가 박리

3B: 6∼15개가 박리

4B: 1∼5개가 박리

5B: 박리 없음

[내마이그레이션 평가용 샘플의 제작]

도 1과 같은 은 패턴(2)을 스퍼터 증착에 의해 유리 기판(1) 위에 제작했다. 실시예 1∼4 및 비교예 1의 바니시를 각각 당해 은 패턴 부착 유리 기판 위에 스크린인 쇄법에 의해 도포하고, 우선 110℃에서 2분간 프리 베이크를 행했다. 이어서 110℃에서 30분간 포스트 베이크를 행하고, 두께 약 5㎛의 경화막(3)을 제작하여, 평가용 샘플을 얻었다. 경화막을 형성한 은 패턴 기판의 단면도를 도 2에 나타낸다. 얻어진 샘플에 대하여, 하기 방법에 의해, 내마이그레이션 평가를 행했다.

[내마이그레이션 평가]

평가용 샘플을 온도 60℃, 상대습도 90% RH의 조건하에 두고, 은 패턴 양단부에 양극과 음극을 연결하고 패턴 선단부에 전계 집중이 일어나도록 5V의 전압을 15시간 인가하는 시험을 행하여, 이 시험에 의한 마이그레이션의 발생의 유무를 확인했다. 또한, 마이그레이션이 발생한 것인지 아닌지는 시험 전후의 패턴을 현미경으로 관찰함으로써 확인했다. 시험 전후의 패턴을 도 3∼5에 나타낸다.

표 2에 나타내는 결과로부터 명확한 바와 같이, 실시예의 바니시(경화막 형성용 수지 조성물)로부터 얻어진 경화막은 연필 경도가 H 이상으로 높고, 밀착성도 4B 이상으로 높으며, 투명성도 우수한 것이었다. 또한 이들 경화막을 사용한 경우, 마이그레이션의 발생은 확인되지 않았다(도 4). 한편, 비교예의 바니시로부터 얻어진 경화막을 사용한 경우, 마이그레이션의 발생이 확인되었다(도 5).

1 기판
2 은 패턴
3 경화막

Claims

전극 및/또는 배선이 형성된 기재 위에 상기 전극/또는 배선과 접하도록 형성되는 경화막의 형성에 사용되는 경화막 형성용 수지 조성물로서,
(A) 중량평균 분자량이 5,000∼200,000인 (메타)아크릴레이트 폴리머(단, 측쇄에 실레인 구조를 갖는 것을 제외한다.),
(B) 벤조트라이아졸 화합물로 이루어지는 마이그레이션 억제제겸 이온트랩제,
(C) 용제,
(D) 실레인 커플링제, 및
(E) 다작용 (메타)아크릴레이트 화합물
을 함유하는 것을 특징으로 하는 경화막 형성용 수지 조성물.
제 1 항에 있어서,
(F) 라디칼 중합개시제를 더 함유하는 것을 특징으로 하는 경화막 형성용 수지 조성물.
제 1 항에 있어서,
(B) 벤조트라이아졸 화합물이, (A) 성분 100질량부에 대하여, 0.1∼50질량부 포함되는 것을 특징으로 하는 경화막 형성용 수지 조성물.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 기재된 경화막 형성용 수지 조성물을 사용하여 형성된 경화막.
전극 및/또는 배선이 형성된 기재와, 이 기재 위에 상기 전극 및/또는 배선과 접하도록 형성된 제 4 항에 기재된 경화막을 구비하는 도전성 부재.
전극 및/또는 배선이 형성된 기재 위에 경화막 형성용 수지 조성물로 형성된 경화막을 갖는 구조체의 상기 전극 및/또는 배선으로부터의 마이그레이션을 억제하는 방법으로서,
상기 경화막 형성용 수지 조성물로서 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 기재된 경화막 형성용 수지 조성물을 사용하는 것을 특징으로 하는 방법.
전극 및/또는 배선이 형성된 기재 위에, (메타)아크릴레이트 폴리머, 용제, 실레인 커플링제 및 다작용 (메타)아크릴레이트 화합물을 함유하는 수지 조성물로 형성된 경화막을 갖는 구조체의 상기 전극 및/또는 배선으로부터의 마이그레이션을 억제하는 방법으로서,
상기 조성물 중에, 벤조트라이아졸 화합물을 첨가하는 것을 특징으로 하는 방법.
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