WO2012014290A1 - 方向性電磁鋼板及びその製造方法 - Google Patents

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laser beam
grain
oriented electrical
coil
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坂井　辰彦
弘二 平野
新井　聡
義行 牛神
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新日本製鐵株式会社
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    • C21D2201/00—Treatment for obtaining particular effects
    • C21D2201/05—Grain orientation

Definitions

  • the present invention relates to a grain-oriented electrical steel sheet suitable for an iron core of a transformer and a method for manufacturing the same.
  • the grain-oriented electrical steel sheet contains Si, and the axis of easy magnetization (cubic (100) ⁇ 001>) of the crystal grains is substantially aligned with the rolling direction in the steel sheet manufacturing process.
  • Such a grain-oriented electrical steel sheet is very excellent as a material such as an iron core of a transformer.
  • magnetic properties of grain-oriented electrical steel sheets particularly important are magnetic flux density and iron loss.
  • the magnetic flux density of the grain-oriented electrical steel sheet when a predetermined magnetizing force is applied has a high degree of orientation of crystal orientation, that is, the degree of easy alignment of crystal grains in the rolling direction (also referred to as L direction) of the steel sheet. There is a tendency to become larger.
  • As an index representing the magnetic flux density typically the magnetic flux density B 8 it is used.
  • the magnetic flux density B 8 when the magnetizing force of 800A / m is applied to the L direction, a magnetic flux density generated in the grain-oriented electrical steel sheet. That is, as the grain-oriented electrical steel sheet high value of magnetic flux density B 8, the magnetic flux density generated at a constant magnetizing force is large, it can be said to be suitable for good transformer small and efficiency.
  • the iron loss W17 / 50 is used as a parameter
  • the iron loss W 17/50 is an iron loss when the directional electrical steel sheet is AC-excited under the conditions that the maximum magnetic flux density is 1.7 T and the frequency is 50 Hz. It can be said that a grain- oriented electrical steel sheet having a smaller iron loss W 17/50 has a lower energy loss and is suitable for a transformer. Also, the larger the value of the magnetic flux density B 8, there is a tendency that the value of iron loss W 17/50 is reduced. Therefore, improvement of crystal orientation is also effective for reducing iron loss W 17/50 .
  • grain-oriented electrical steel sheets are manufactured as follows. A raw material of a silicon steel plate containing a predetermined amount of Si is hot-rolled, annealed, and cold-rolled to obtain a silicon steel plate having a desired thickness. Next, the silicon steel sheet after cold rolling is annealed. By this annealing, primary recrystallization occurs, and so-called Goss-oriented crystal grains (Gos-oriented grains, crystal grain size: 20 ⁇ m to 30 ⁇ m) having easy magnetization axes aligned in the rolling direction are formed. This annealing also serves as decarburization annealing. Thereafter, an annealing separator mainly composed of MgO is applied to the surface of the silicon steel sheet on which primary recrystallization has occurred.
  • Goss-oriented grains crystal grain size: 20 ⁇ m to 30 ⁇ m
  • the silicon steel sheet coated with the annealing separator is wound up to produce a steel sheet coil, and batch processing annealing is performed on the steel sheet coil.
  • batch processing annealing is performed on the steel sheet coil.
  • secondary recrystallization occurs and a glass film is formed on the surface of the silicon steel sheet.
  • goss-oriented crystal grains preferentially grow due to the influence of the inhibitor contained in the silicon steel sheet, and the crystal grains with a larger size become 100 mm or more.
  • annealing to flatten the silicon steel plate on which secondary recrystallization has occurred, formation of an insulating film, and the like are performed.
  • FIG. 1A is a diagram showing the orientation of crystal grains obtained by secondary recrystallization.
  • the silicon steel plate is not flat and is wound in a coil shape, the tangential direction of the circumference of the steel plate coil coincides with the rolling direction 13.
  • the crystal grains 14 do not grow in accordance with the shape of the steel sheet coil, but grow while maintaining the linearity of the crystal orientation in the crystal grains 14 as shown in FIG. 1A.
  • the easy magnetization axis direction 12 does not become parallel to the surface of the grain-oriented electrical steel sheet. Occurs. That is, the angle deviation ⁇ between the easy axis direction of each crystal grain 14 (cubic (100) ⁇ 001>) and the rolling direction increases. When the angle deviation ⁇ increases, the orientation of crystal orientation decreases, and the magnetic flux density B 8 decreases.
  • the increase in the angle deviation ⁇ becomes more significant as the crystal grain size increases.
  • JP-A-7-268474 JP 60-114519 A Japanese Patent Publication No. 06-19112 JP-A-61-75506 Japanese Patent Laid-Open No. 10-183131 JP 2006-144058 A
  • An object of the present invention is to provide a grain-oriented electrical steel sheet that can improve magnetic flux density and reduce iron loss while maintaining high productivity, and a method for manufacturing the grain-oriented electrical steel sheet.
  • a step of cold rolling a silicon steel plate containing Si, a step of decarburizing and annealing the silicon steel plate to cause primary recrystallization, and then winding the silicon steel plate A step of obtaining a steel plate coil, a step of causing secondary recrystallization by annealing the steel plate coil in a batch process, and a step of unwinding and flattening the steel plate coil. And between the step of performing the cold rolling and the step of obtaining the steel plate coil, a laser beam is applied to the surface of the silicon steel plate from one end to the other end in the plate width direction of the silicon steel plate with respect to the rolling direction.
  • the crystal grain boundary penetrating the front and back surfaces of the silicon steel sheet along the locus of the laser beam suppresses the angle deviation, thereby improving the magnetic flux density and reducing the iron loss while maintaining high productivity. Can be reduced.
  • FIG. 1A is a diagram showing the orientation of crystal grains obtained by secondary recrystallization.
  • FIG. 1B is a diagram showing crystal grains after planarization.
  • FIG. 2A is a diagram showing a method for manufacturing a grain-oriented electrical steel sheet according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2B is a diagram illustrating a modification of the embodiment.
  • FIG. 3A is a diagram illustrating an example of a method of scanning a laser beam.
  • FIG. 3B is a diagram illustrating another example of a method for scanning with a laser beam.
  • FIG. 4A is a plan view showing a light spot.
  • FIG. 4B is a cross-sectional view showing a light spot.
  • FIG. 5A is a plan view showing a crystal grain boundary generated in the embodiment of the present invention.
  • FIG. 5B is a cross-sectional view showing a grain boundary generated in the embodiment of the present invention.
  • FIG. 6A is a diagram showing a photograph of the surface of a silicon steel plate obtained when laser beam irradiation is performed.
  • FIG. 6B is a diagram showing a photograph of the surface of a silicon steel plate obtained when laser beam irradiation is omitted.
  • FIG. 7 is a view showing a photograph of a cross section of a silicon steel plate obtained when laser beam irradiation is performed.
  • FIG. 8 is a diagram showing the relationship between the crystal grain boundary and the angle deviation ⁇ .
  • FIG. 9A is a diagram showing the relationship between the radius of curvature R, the inner diameter R1, and the outer diameter R2.
  • FIG. It is a figure which shows the space
  • FIG. It is a figure which shows the space
  • FIG. It is a figure which shows the space
  • FIG. 2A is a diagram showing a method for manufacturing a grain-oriented electrical steel sheet according to an embodiment of the present invention.
  • cold rolling is performed on the silicon steel sheet 1 containing, for example, 2% by mass to 4% by mass of Si.
  • This silicon steel plate 1 can be produced, for example, through continuous casting of molten steel, hot rolling of a slab obtained by continuous casting, annealing of a hot rolled steel plate obtained by hot rolling, and the like.
  • the annealing temperature is about 1100 ° C., for example.
  • the thickness of the silicon steel sheet 1 after cold rolling is, for example, about 0.20 mm to 0.3 mm.
  • the silicon steel sheet 1 is wound into a coil shape to form a cold rolled coil.
  • the decarburization annealing furnace 3 is supplied and annealing is performed in the annealing furnace 3.
  • the annealing temperature is, for example, 700 ° C. to 900 ° C.
  • decarburization occurs, primary recrystallization occurs, and goth-oriented crystal grains are formed in which the easy magnetization axes are aligned in the rolling direction.
  • the silicon steel sheet 1 discharged from the decarburization annealing furnace 3 is cooled using the cooling device 4.
  • coating 5 to the surface of the silicon steel plate 1 of the annealing separation agent which has MgO as a main component is performed.
  • the silicon steel plate 1 coated with the annealing separator is wound into a coil shape having a preset inner diameter R1 to form a steel plate coil 31.
  • the surface of the silicon steel plate 1 is applied to the surface of the silicon steel plate 1 using the laser beam irradiation device 2.
  • a laser beam is irradiated a plurality of times at a predetermined interval in the rolling direction from one end to the other end in the plate width direction.
  • the laser beam irradiation device 2 is disposed downstream of the cooling device 4 in the sheet passing direction, and silicon is cooled between the cooling by the cooling device 4 and the application 5 of the annealing separator.
  • the surface of the steel plate 1 may be irradiated with a laser beam.
  • the laser beam irradiation device 2 may be arranged on both the upstream side in the plate passing direction with respect to the annealing furnace 3 and on the downstream side in the plate passing direction with respect to the cooling device 4, and both may irradiate the laser beam. . Further, a laser beam may be irradiated between the annealing furnace 3 and the cooling device 4, or irradiation may be performed in the annealing furnace 3 or the cooling device 4.
  • the laser beam is irradiated by a laser beam 9 emitted from a light source (laser device) by a scanning device 10 that is substantially perpendicular to the rolling direction (L direction) of the silicon steel plate 1.
  • the scanning is performed in the width direction (C direction) at a predetermined interval PL.
  • the locus 23 of the laser beam 9 remains on the surface of the silicon steel plate 1 regardless of whether or not it is visible.
  • the rolling direction substantially coincides with the sheet passing direction.
  • the scanning of the laser beam over the entire width of the silicon steel plate 1 may be performed using one scanning device 10 or may be performed using a plurality of scanning devices 20 as shown in FIG. 3B.
  • a plurality of scanning devices 20 are used, only one light source (laser device) of the laser beam 19 incident on each scanning device 20 may be provided, or one for each scanning device 20. May be.
  • the laser beam emitted from the light source may be divided into the laser beam 19. If a plurality of scanning devices 20 are used, it is possible to divide the irradiation region into a plurality of parts in the plate width direction, so that it is possible to shorten the scanning and irradiation time for each laser beam. Therefore, it is particularly suitable for high-speed threading equipment.
  • the laser beam 9 or 19 is condensed by a lens in the scanning device 10 or 20.
  • the shape of the light spot 24 of the laser beam 9 or 19 on the surface of the silicon steel plate 1 is, for example, a diameter in the plate width direction (C direction) of Dc and a rolling direction (L direction). It is assumed that the diameter is a circle or ellipse with Dl.
  • the scanning with the laser beam 9 or 19 is performed at a speed Vc using, for example, a polygon mirror in the scanning device 10 or 20.
  • the plate width direction diameter (C direction diameter) Dc can be 5 mm
  • the rolling direction diameter (L direction diameter) Dl can be 0.1 mm
  • the scanning speed Vc can be about 1000 mm / s.
  • the light source for example, a CO 2 laser can be used.
  • a high output laser generally used for industrial use such as a YAG laser, a semiconductor laser, or a fiber laser can be used.
  • the temperature of the silicon steel plate 1 when performing laser beam irradiation is not particularly limited, and for example, the silicon steel plate 1 at about room temperature can be irradiated with the laser beam.
  • the scanning direction of the laser beam does not have to coincide with the plate width direction (C direction).
  • the plate width direction (C The deviation from the direction is preferably within 45 °, more preferably within 20 °, and even more preferably within 10 °.
  • the steel plate coil 31 is transported into the annealing furnace 6 and placed with the central axis of the steel plate coil 3 being substantially vertical. And the annealing (finish annealing) of the steel plate coil 31 is performed by batch processing.
  • the maximum temperature reached in this annealing is, for example, about 1200 ° C., and the time is, for example, about 20 hours.
  • secondary recrystallization occurs and a glass film is formed on the surface of the silicon steel plate 1.
  • the steel sheet coil 31 is taken out from the annealing furnace 6.
  • the steel coil 31 is supplied to the annealing furnace 7 and annealed in the annealing furnace 7. During this annealing, winding wrinkles and distortions that have occurred during finish annealing are removed, and the silicon steel sheet 1 becomes flat.
  • a film formation 8 is performed on the surface of the silicon steel plate 1.
  • the film for example, a film capable of securing insulation and applying a tension that reduces iron loss is formed.
  • the grain-oriented electrical steel sheet 32 is manufactured through these series of processes. After the film formation 8, for example, the grain-oriented electrical steel sheet 32 is wound into a coil for convenience of storage and transportation.
  • crystal grain boundary 41 is generated may be that internal stress and strain are introduced by rapid heating and cooling accompanying laser beam irradiation. Further, it is also conceivable that the crystal grain size obtained by the primary recrystallization is different from the surroundings with the irradiation of the laser beam, and the grain growth rate during the secondary recrystallization is different.
  • FIG. 6A and FIG. 6B are photographs taken by removing the glass film from the surface of the grain-oriented electrical steel sheet and exposing the ground iron, and then pickling the surface. In these photographs, crystal grains and crystal grain boundaries obtained by secondary recrystallization appear. Further, when manufacturing the grain-oriented electrical steel sheet that was the subject of photography, the inner diameter of the steel sheet coil was 300 mm and the outer diameter was 1000 mm. The laser beam irradiation interval PL was about 30 mm.
  • FIG. 7 shows a cross section perpendicular to the plate width direction (C direction).
  • the length of the crystal grains in the rolling direction (L direction) was about 30 mm corresponding to the irradiation interval PL at the maximum.
  • no change in the shape of grooves or the like was observed in the portion irradiated with the laser beam, and the surface of the ground iron of the grain-oriented electrical steel sheet was almost flat.
  • the laser beam irradiation was performed before annealing using the annealing furnace 3, the same crystal grain boundaries were observed in both cases after the annealing.
  • the inventors of the present application investigated in detail the angle deviation ⁇ of the grain-oriented electrical steel sheet manufactured according to the above-described embodiment.
  • crystal orientation angles of various crystal grains were measured by the X-ray Laue method.
  • the spatial resolution of the X-ray Laue method that is, the size of the X-ray spot on the grain-oriented electrical steel sheet was about 1 mm.
  • all the angle deviations ⁇ at the respective measurement positions were within the range of 0 ° to 6 ° in the crystal grains delimited by the crystal grain boundaries extending along the locus of the laser beam. This means that a very high crystal orientation was obtained.
  • the grain-oriented electrical steel sheet manufactured by omitting the laser beam irradiation contained many crystal grains whose size in the rolling direction (L direction) was larger than that when the laser beam was irradiated. Then, when the angle deviation ⁇ was investigated for such large crystal grains by the X-ray Laue method, the angle deviation ⁇ exceeded 6 ° as a whole, and the maximum angle deviation ⁇ was obtained for many crystal grains. The value exceeded 10 °.
  • Non-Patent Document 1 The relationship between the magnetic flux density B 8 and the angle deviation ⁇ is described in Non-Patent Document 1, for example.
  • the inventors of the present invention experimentally obtained measurement data similar to the relationship described in Non-Patent Document 1, and from the measurement data, the magnetic flux densities B 8 (T) and ⁇ represented by Equation (1) by the least square method. (°) relationship was obtained.
  • B 8 ⁇ 0.026 ⁇ ⁇ + 2.090
  • the angle deviation at each position in the crystal grain 42 is defined as ⁇ based on the crystal orientation at one end of the two crystal grain boundaries 41 of the crystal grain 42. ′.
  • the angle deviation ⁇ ′ is 0 ° at the end on the one side.
  • the maximum angular deviation within the crystal grain 42 occurs.
  • the radius of curvature R of each part of the silicon steel sheet in the steel sheet coil is the set value of the length in the rolling direction of the silicon steel sheet and the inner diameter of the steel sheet coil, even before the steel sheet coil is obtained. It can be easily calculated from information such as the position Ps with reference to the tip or tail end.
  • the irradiation interval PL is not fixed, but is adjusted to a suitable one according to the curvature radius R.
  • the inner diameter R1 when the silicon steel sheet 1 is wound around the application 5 of the annealing separator that is, the inner diameter R1 of the steel sheet coil 31 is set in advance.
  • the outer diameter R2 and the number of turns N of the steel plate coil 31 are the size ⁇ of the gap existing between the silicon steel plates 1 in the steel plate coil 31, the thickness t of the silicon steel plate 1, the length L0 in the rolling direction of the silicon steel plate 1, And can be easily calculated from the inner diameter R1.
  • the radius of curvature R in the steel sheet coil 31 can be calculated for each part of the silicon steel sheet 1 according to the distance L1 from the tip in the sheet passing direction.
  • the gap size ⁇ a value obtained empirically, a value based on a winding method, or the like can be used, and 0 or a value other than 0 may be used.
  • the radius of curvature R may be calculated by empirically or experimentally determining the outer diameter R2 and the number of turns N when the length L0, the coil inner diameter R1, and the thickness t are known.
  • laser beam irradiation is performed as follows.
  • the laser beam irradiation device 2 is installed on the upstream side and / or the downstream side of the annealing furnace 3.
  • the passing speed and the passing distance (corresponding to the distance L1 from the front end in the passing direction) of the silicon steel plate 1 at the point where the laser beam is irradiated are measured by the line speed monitoring device and the irradiation position monitoring device.
  • the irradiation interval PL on the surface of the silicon steel plate 1 satisfies the equation (4), preferably the equation (5), based on the plate passing speed of the silicon steel plate 1, the distance L1 from the tip, and the scanning speed Vc of the laser beam. Set to. Furthermore, the irradiation energy density and instantaneous power density of the laser beam are set. (D) Laser beam irradiation is performed.
  • the irradiation interval PL can be adjusted according to the radius of curvature R. It should be noted that the irradiation interval PL may be fixed within a range in which Expression (4), preferably Expression (5) is satisfied. When the adjustment as described above is performed, the irradiation interval PL becomes wider as the outer periphery of the steel plate coil 31 is approached. Therefore, compared with the case where the irradiation interval PL is fixed, the laser irradiation average power can be reduced. It becomes possible.
  • a steel material for directional electrical steel containing 2% by mass to 4% by mass of Si was hot-rolled to obtain a hot-rolled silicon steel plate (hot rolled steel plate).
  • the silicon steel plate was then annealed at about 1100 ° C. Then, it cold-rolled, the thickness of the silicon steel plate was 0.23 nm, and this was wound up, and the cold-rolled coil was produced.
  • a single plate sample having a dimension in the C direction of 100 mm and a dimension in the rolling direction (L direction) of 500 mm was cut out from the cold rolled coil.
  • the surface of the single plate sample was irradiated with a laser beam while scanning in the plate width direction. Table 1 shows the conditions at this time.
  • decarburization annealing was performed at 700 ° C. to 900 ° C. to cause primary recrystallization.
  • the veneer sample was cooled to about room temperature, and then an annealing separator mainly composed of MgO was applied to the surface of the veneer sample.
  • finish annealing was performed at about 1200 ° C. for about 20 hours to cause secondary recrystallization.
  • the sample No. with an irradiation energy density Up of less than 0.5 J / mm 2 was used.
  • the crystal grain boundary along the locus of the laser beam was not formed. This is probably because a sufficient amount of heat was not input, so that local variations in strain intensity and variations in the diameter of crystal grains obtained by primary recrystallization hardly occurred.
  • Sample No. with an irradiation energy density Up of more than 20 J / mm 2 was used.
  • crystal grain boundaries were formed along the locus of the laser beam, but there were deformations and / or melting marks associated with the irradiation of the laser beam on the surface of the single plate sample (ground iron). Such deformation and / or melting marks cause a decrease in space factor, stress and strain when the grain-oriented electrical steel sheets are laminated and used, and cause a decrease in magnetic properties.
  • the irradiation energy density Up of the laser beam defined by the equation (6) preferably satisfies the equation (7).
  • the instantaneous power density Ip of the laser defined by the equation (8) satisfies the equation (9). It is preferable.
  • Ip 4 / ⁇ ⁇ P / (D1 ⁇ Dc) (8) Ip ⁇ 100 kW / mm 2 (9)
  • Dc represents the diameter (mm) of the condensing spot of the laser beam in the plate width direction.
  • the instantaneous power density Ip exceeds 100 kW / mm 2 , holes or grooves are easily formed on the surface of the silicon steel sheet. .
  • a groove or the like is easily formed when the pulse laser is used. This is because when a pulse laser is used, a rapid temperature change is likely to occur in the region irradiated with the laser beam. Therefore, it is preferable to use a continuous wave laser.
  • the secondary recrystallization is affected by the curvature.
  • the crystal grains obtained by the above a portion where the easy axis of magnetization deviates from the rolling direction is generated.
  • the degree of deviation becomes more prominent as the size of the crystal grains in the rolling direction is larger and the curvature radius is smaller.
  • the angle deviation ⁇ which is one of the indexes indicating the degree of deviation, may reach 10 ° or more.
  • laser beam irradiation can be performed at high speed, and a high energy density can be obtained by condensing in a minute space. Therefore, the time required for processing can be reduced compared with the case where laser beam irradiation is not performed. The impact is small. That is, it is not necessary to change the threading speed in the process of performing decarburization annealing while unwinding the cold-rolled coil, regardless of whether or not the laser beam is irradiated. Furthermore, since the temperature at which the laser beam is irradiated is not particularly limited, a heat insulation mechanism or the like of the laser irradiation apparatus is not necessary. Therefore, the configuration of the apparatus can be simplified as compared with the case where processing in a high temperature furnace is required.
  • laser beam irradiation for the purpose of controlling the magnetic domain may be performed.
  • an annealing separator was applied to these silicon steel sheets and finish annealing was performed under the same conditions.
  • coil No. The laser beam irradiation interval PL in C1 to C3 will be described with reference to FIGS. 9A to 9D.
  • a silicon steel sheet was wound into a coil shape to produce a steel sheet coil 51, and finish annealing was performed in this state.
  • the inner diameter R1 of the steel plate coil 51 was set to 310 mm.
  • the length L0 of the rolling direction of the silicon steel plate in the steel plate coil 51 was equivalent to the length of the rolling direction of the silicon steel plate in the cold rolled coil, and was about 12000 m. Therefore, the outer diameter R2 of the steel plate coil 51 can be calculated from these and was 1000 mm.
  • the irradiation interval PL was set to 40 mm as shown in FIG. 9B. That is, laser beam irradiation was performed at equal intervals from a portion corresponding to the inner edge 52 of the steel plate coil 51 to a portion corresponding to the outer edge 53, leaving a locus 54 on the surface of the silicon steel plate 55.
  • the value (40 mm) of the irradiation interval PL in this process is equivalent to the maximum value within the range satisfying the expression (4) in relation to the inner diameter R1 (310 mm) of the steel plate coil 51. Therefore, equation (4) is satisfied at any position on the silicon steel plate 55.
  • the irradiation interval PL was changed according to the radius of curvature R in the steel sheet coil 51 as shown in FIG. 9C. That is, laser beam irradiation was performed while gradually increasing the irradiation interval PL from a portion corresponding to the inner edge 52 of the steel plate coil 51 to a portion corresponding to the outer edge 53, leaving a locus 54 on the surface of the silicon steel plate 55. .
  • the irradiation interval PL was set to 150 mm as shown in FIG. 9D. That is, laser beam irradiation was performed at equal intervals from a portion corresponding to the inner edge 52 of the steel plate coil 51 to a portion corresponding to the outer edge 53, leaving a locus 54 on the surface of the silicon steel plate 55.
  • the value (150 mm) of the irradiation interval PL in this process is larger than the maximum value (130 mm) within the range satisfying the expression (4) in relation to the outer diameter R2 (1000 mm) of the steel plate coil 51. Therefore, equation (4) is not satisfied at any position on the silicon steel plate 55.
  • the coil No. satisfying the expression (4) is satisfied.
  • the maximum value of the angle deviation ⁇ was less than 7.3 ° at any position. For this reason, the coil No. that has not been irradiated with the laser beam.
  • the magnetic flux density B 8 is remarkably large, the iron loss W 17/50 is extremely low. That is, a magnetic flux density B 8 of 1.90 T or more and an iron loss W 17/50 of 0.77 W / kg or less were stably obtained.
  • the coil No. In C2 since the irradiation interval PL was adjusted according to the radius of curvature R, more uniform magnetic characteristics were obtained.
  • the coil No. in which the expression (4) is not satisfied In C3, the coil No. Compared to C4 (Comparative Example), large magnetic flux density B 8 is, although iron loss W 17/50 is low, the coil No. Compared to C1 and C2, the magnetic flux density B 8 is small, iron loss W 17/50 is high.
  • the position resolution at the time of measurement by the X-ray Laue method was 1 mm, and this measurement was also 1 mm.
  • an annealing separator was applied to these silicon steel sheets and finish annealing was performed under the same conditions. Furthermore, the silicon steel plate was flattened by performing annealing to remove the curl and distortion generated during the finish annealing. Furthermore, an insulating film was formed on the surface of the silicon steel plate. Thus, five types of grain-oriented electrical steel sheets were manufactured.
  • the lower limit of the range of the irradiation interval PL is preferably 2 mm.
  • the present invention can be used, for example, in the electrical steel sheet manufacturing industry and the electrical steel sheet utilizing industry.

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Abstract

　Ｓｉを含む珪素鋼板（１）の冷間圧延を行う。次に、珪素鋼板（１）を脱炭焼鈍（３）することにより、一次再結晶を生じさせる。次に、珪素鋼板（１）を巻き取って、鋼板コイル（３１）を得る。次に、鋼板コイル（３１）をバッチ処理で焼鈍（６）することにより、二次再結晶を生じさせる。次に、鋼板コイル（３１）を巻き解いて平坦化する。冷間圧延を行う工程と鋼板コイル（３１）を得る工程との間に、珪素鋼板（１）の表面に、珪素鋼板（１）の板幅方向の一端から他端に向けてレーザビームを所定の間隔で複数回照射する（２）。二次再結晶を生じさせる際に、レーザビームの軌跡に沿って珪素鋼板（１）の表裏を貫通する結晶粒界を生じさせる。

Description

方向性電磁鋼板及びその製造方法
　本発明は、トランスの鉄芯等に好適な方向性電磁鋼板及びその製造方法に関する。
　方向性電磁鋼板は、Ｓｉを含み、その結晶粒の磁化容易軸（立方晶（１００）＜００１＞）が鋼板製造工程における圧延方向にほぼ揃っている。このような方向性電磁鋼板は、トランスの鉄芯等の材料として非常に優れている。方向性電磁鋼板の磁気特性のうちで特に重要なものは磁束密度及び鉄損である。
　所定の磁化力が印加されたときの方向性電磁鋼板の磁束密度には、結晶粒の磁化容易軸が鋼板の圧延方向（Ｌ方向ともいう）に揃った度合い、すなわち結晶方位の配向性が高いものほど大きくなる傾向がある。磁束密度を表す指標として、一般的に磁束密度Ｂ８が用いられる。磁束密度Ｂ８は、８００Ａ／ｍの磁化力がＬ方向に印加されたときに、方向性電磁鋼板に発生する磁束密度である。すなわち、磁束密度Ｂ８の値が大きい方向性電磁鋼板ほど、一定の磁化力で発生する磁束密度が大きいため、小型で効率の優れたトランスに適しているといえる。
　また、鉄損を表す指標として、一般的に鉄損Ｗ１７／５０が用いられる。鉄損Ｗ１７／５０は、最大磁束密度が１．７Ｔ、周波数が５０Ｈｚの条件下で方向性電磁鋼板を交流励磁したときの鉄損である。鉄損Ｗ１７／５０の値が小さい方向性電磁鋼板ほど、エネルギー損失が低くトランスに適しているといえる。また、磁束密度Ｂ８の値が大きいほど、鉄損Ｗ１７／５０の値が小さくなるという傾向がある。従って、鉄損Ｗ１７／５０を低減するためにも、結晶方位の配向性の向上が有効である。
　一般的に、方向性電磁鋼板は、次のようにして製造されている。Ｓｉを所定の量含む珪素鋼板の素材を熱間圧延、焼鈍、及び冷間圧延を行い、所望の厚さの珪素鋼板を得る。次いで、冷間圧延後の珪素鋼板を焼鈍する。この焼鈍により、一次再結晶が生じ、圧延方向に磁化容易軸が揃った、いわゆるゴス（Ｇｏｓｓ）方位の結晶粒（ゴス方位粒、結晶粒径：２０μｍ～３０μｍ）が形成される。この焼鈍は、脱炭焼鈍も兼ねている。その後、一次再結晶が生じた珪素鋼板の表面に、ＭｇＯを主成分とする焼鈍分離剤を塗布する。続いて、焼鈍分離剤が塗布された珪素鋼板を巻き取って鋼板コイルを作製し、この鋼板コイルに対してバッチ処理の焼鈍を行う。この焼鈍により、二次再結晶が生じると共に、珪素鋼板の表面にグラス皮膜が形成される。二次再結晶の際には、珪素鋼板に含まれるインヒビターの影響により、ゴス方位の結晶粒が優先的に成長し、大きいものでは結晶粒径が１００ｍｍ以上となる。次いで、鋼板コイルを巻き解きながら、二次再結晶が生じた珪素鋼板を平坦化する焼鈍及び絶縁皮膜の形成等を行う。
　このような方法で製造される方向性電磁鋼板の各結晶粒の方位は、二次再結晶の際にほとんど決定される。図１Ａは、二次再結晶で得られる結晶粒の方位を示す図である。上述のように、二次再結晶の際には、圧延方向１３と磁化容易軸の方向１２とが一致するゴス方位の結晶粒１４が優先的に成長する。このとき、珪素鋼板が平坦でなく、コイル状に巻かれていると、鋼板コイルの周の接線方向が圧延方向１３と一致する。その一方で、結晶粒１４は、鋼板コイルの形状に合わせて成長するのではなく、図１Ａに示すように、結晶粒１４内での結晶方位の直線性を保ちながら成長する。このため、二次再結晶後に鋼板コイルを巻き解いて平坦化すると、図１Ｂに示すように、多くの結晶粒１４内に、磁化容易軸方向１２が方向性電磁鋼板の表面と平行にならない部分が生じる。すなわち、各結晶粒１４の磁化容易軸方向（立方晶（１００）＜００１＞）と圧延方向との角度偏差βが増大する。角度偏差βが増大すると、結晶方位の配向性が低下し、磁束密度Ｂ８が低下してしまう。
　そして、角度偏差βの増大は結晶粒径が大きくなるほど顕著となる。近年では、インヒビターの強化等により、ゴス方位の結晶粒の選択成長性を促進することが可能となっており、特に圧延方向の寸法が大きい結晶粒では、磁束密度Ｂ８の低下が顕著となる。
　そして、従来、磁束密度の向上又は鉄損の低減等を目的とした種々の技術が提案されている。しかしながら、従来の技術では、生産性を高く維持しながら、磁束密度の向上及び鉄損の低減を達成することは困難である。
特開平７－２６８４７４号公報 特開昭６０－１１４５１９号公報 特公平０６－１９１１２号公報 特開昭６１－７５５０６号公報 特開平１０－１８３３１２号公報 特開２００６－１４４０５８号公報
T. Nozawa, et al., IEEE Transaction on Magnetics, Vol. MAG-14 (1978)P252-257
　本発明は、生産性を高く維持しながら、磁束密度を向上し、鉄損を低減することができる方向性電磁鋼板及びその製造方法を提供することを目的とする。
　本願発明者らは、鋭意検討の結果、以下の諸態様に想到した。
　（１）　Ｓｉを含む珪素鋼板の冷間圧延を行う工程と、次に、前記珪素鋼板を脱炭焼鈍することにより、一次再結晶を生じさせる工程と、次に、前記珪素鋼板を巻き取って、鋼板コイルを得る工程と、次に、前記鋼板コイルをバッチ処理で焼鈍することにより、二次再結晶を生じさせる工程と、次に、前記鋼板コイルを巻き解いて平坦化する工程と、を有し、前記冷間圧延を行う工程と前記鋼板コイルを得る工程との間に、前記珪素鋼板の表面に、前記珪素鋼板の板幅方向の一端から他端に向けてレーザビームを圧延方向に関して所定の間隔で複数回照射する工程を有し、前記二次再結晶を生じさせる際に、前記レーザビームの軌跡に沿って前記珪素鋼板の表裏を貫通する結晶粒界を生じさせることを特徴とする方向性電磁鋼板の製造方法。
　（２）　前記珪素鋼板の表面の前記レーザビームが照射された部分が平坦であることを特徴とする（１）に記載の方向性電磁鋼板の製造方法。
　（３）　前記所定の間隔は、前記珪素鋼板の前記鋼板コイルにおける曲率半径に基づいて設定されていることを特徴とする（１）又は（２）に記載の方向性電磁鋼板の製造方法。
　（４）　前記珪素鋼板内の任意の位置の前記鋼板コイルにおける曲率半径をＲ（ｍｍ）とし、当該位置における前記所定の間隔をＰＬ（ｍｍ）としたとき、下記の関係が満たされることを特徴とする（１）～（３）のいずれか１つに記載の方向性電磁鋼板の製造方法。
　ＰＬ≦０．１３×Ｒ
　（５）　前記所定の間隔は、一定であることを特徴とする（４）に記載の方向性電磁鋼板の製造方法。
　（６）　前記所定の間隔は、前記鋼板コイルの内面から外面に近づくほど広くなっていることを特徴とする（４）に記載の方向性電磁鋼板の製造方法。
　（７）　前記所定の間隔は、２ｍｍ以上であることを特徴とする（１）～（６）のいずれか１つに記載の方向性電磁鋼板の製造方法。
　（８）　前記レーザビームの平均強度をＰ（Ｗ）とし、前記レーザビームの集光スポットの圧延方向の集光径をＤｌ（ｍｍ）、前記レーザビームの板幅方向の走査速度をＶｃ（ｍｍ／ｓ）とし、前記レーザビームの照射エネルギー密度をＵｐ＝４／π×Ｐ／（Ｄｌ×Ｖｃ）としたとき、下記の関係が満たされることを特徴とする（１）～（７）のいずれか１つに記載の方向性電磁鋼板の製造方法。
　０．５Ｊ／ｍｍ２≦Ｕｐ≦２０Ｊ／ｍｍ２
　（９）　前記レーザビームの平均強度をＰ（Ｗ）とし、前記レーザビームの集光スポットの圧延方向の集光径をＤｌ（ｍｍ）、板幅方向の集光径をＤｃ（ｍｍ）とし、前記レーザビームの瞬時パワー密度をＩｐ＝４／π×Ｐ／（Ｄｌ×Ｄｃ）としたとき、下記の関係が満たされることを特徴とする（１）～（８）のいずれか１つに記載の方向性電磁鋼板の製造方法。
　Ｉｐ≦１００ｋＷ／ｍｍ２
　（１０）　方向性電磁鋼板の板幅方向の一端から他端に向けて走査されたレーザビームの軌跡に沿って延び、前記方向性電磁鋼板の表裏を貫通する結晶粒界が存在し、前記方向性電磁鋼板の圧延方向と各結晶粒の磁化容易軸方向（１００）＜００１＞とのなす角の板厚方向をβ（°）としたとき、前記結晶粒界から１ｍｍ離間した位置でのβの値が７．３°以下であることを特徴とする方向性電磁鋼板。
　（１１）　前記結晶粒界において地鉄の表面が平坦になっていることを特徴とする（１０）に記載の方向性電磁鋼板。
　本発明によれば、レーザビームの軌跡に沿って珪素鋼板の表裏を貫通する結晶粒界により、角度偏差が低く抑えられるため、生産性を高く維持しながら、磁束密度を向上し、鉄損を低減することができる。
図１Ａは、二次再結晶で得られる結晶粒の方位を示す図である。 図１Ｂは、平坦化後の結晶粒を示す図である。 図２Ａは、本発明の実施形態に係る方向性電磁鋼板の製造方法を示す図である。 図２Ｂは、実施形態の変形例を示す図である。 図３Ａは、レーザビームを走査する方法の例を示す図である。 図３Ｂは、レーザビームを走査する方法の他の例を示す図である。 図４Ａは、光スポットを示す平面図である。 図４Ｂは、光スポットを示す断面図である。 図５Ａは、本発明の実施形態において発生する結晶粒界を示す平面図である。 図５Ｂは、本発明の実施形態において発生する結晶粒界を示す断面図である。 図６Ａは、レーザビームの照射を行った場合に得られた珪素鋼板の表面の写真を示す図である。 図６Ｂは、レーザビームの照射を省略した場合に得られた珪素鋼板の表面の写真を示す図である。 図７は、レーザビームの照射を行った場合に得られた珪素鋼板の断面の写真を示す図である。 図８は、結晶粒界と角度偏差βとの関係を示す図である。 図９Ａは、曲率半径Ｒと内径Ｒ１及び外径Ｒ２との関係を示す図である。 図９Ｂは、コイルＮｏ．Ｃ１へのレーザビームの照射の間隔を示す図である。 図９Ｃは、コイルＮｏ．Ｃ２へのレーザビームの照射の間隔を示す図である。 図９Ｄは、コイルＮｏ．Ｃ３へのレーザビームの照射の間隔を示す図である。
　以下、本発明の実施形態について、添付の図面を参照しながら説明する。図２Ａは、本発明の実施形態に係る方向性電磁鋼板の製造方法を示す図である。
　本実施形態では、図２Ａに示すように、例えば２質量％～４質量％のＳｉを含む珪素鋼板１の冷間圧延を行う。この珪素鋼板１は、例えば、溶鋼の連続鋳造、連続鋳造により得られたスラブの熱間圧延、及び熱間圧延により得られた熱間圧延鋼板の焼鈍等を経て作製することができる。この焼鈍の温度は、例えば約１１００℃である。また、冷間圧延後の珪素鋼板１の厚さは、例えば０．２０ｍｍ～０．３ｍｍ程度とし、例えば、冷間圧延後に珪素鋼板１はコイル状に巻き取って冷延コイルとしておく。
　次いで、コイル状の珪素鋼板１を巻き解きながら、脱炭焼鈍炉３に供給し、焼鈍炉３内で焼鈍を行う。この焼鈍の温度は、例えば７００℃～９００℃とする。この焼鈍の際に、脱炭が生じると共に、一次再結晶が生じ、圧延方向に磁化容易軸が揃った、ゴス方位の結晶粒が形成される。その後、冷却装置４を用いて、脱炭焼鈍炉３から排出された珪素鋼板１を冷却する。続いて、ＭｇＯを主成分とする焼鈍分離剤の珪素鋼板１の表面への塗布５を行う。そして、焼鈍分離剤が塗布された珪素鋼板１を、予め設定された内径Ｒ１のコイル状に巻き取って鋼板コイル３１とする。
　また、本実施形態では、コイル状の珪素鋼板１を巻き解いてから脱炭焼鈍炉３に供給するまでの間に、レーザビーム照射装置２を用いて珪素鋼板１の表面に、珪素鋼板１の板幅方向の一端から他端に向けてレーザビームを圧延方向に関して所定の間隔で複数回照射する。なお、図２Ｂに示すように、レーザビーム照射装置２を冷却装置４よりも通板方向の下流側に配置しておき、冷却装置４による冷却から焼鈍分離剤の塗布５までの間に、珪素鋼板１の表面にレーザビームを照射してもよい。また、レーザビーム照射装置２を、焼鈍炉３よりも通板方向の上流側、冷却装置４よりも通板方向の下流側の双方に配置しておき、双方でレーザビームを照射してもよい。また、焼鈍炉３と冷却装置４との間にてレーザビームを照射してもよく、焼鈍炉３内又は冷却装置４内で照射してもよい。
　なお、レーザビームの照射は、例えば、図３Ａに示すように、光源（レーザ装置）から出射されたレーザビーム９を走査装置１０が、珪素鋼板１の圧延方向（Ｌ方向）にほぼ垂直な板幅方向（Ｃ方向）に、所定の間隔ＰＬで走査することにより行われる。この結果、視認の可否に拘わらず、珪素鋼板１の表面にはレーザビーム９の軌跡２３が残存する。なお、圧延方向は通板方向と略一致している。
　また、レーザビームの珪素鋼板１の全幅にわたる走査を、１台の走査装置１０を用いて行ってもよく、図３Ｂに示すように、複数台の走査装置２０を用いて行ってもよい。複数台の走査装置２０を用いる場合、各走査装置２０に入射してくるレーザビーム１９の光源（レーザ装置）は１台のみ設けられていてもよく、走査装置２０毎に１台ずつ設けられていてもよい。光源が１台の場合、当該光源から出射されたレーザビームを分割してレーザビーム１９とすればよい。複数台の走査装置２０を用いれば、板幅方向に照射領域を複数に分割することが可能となるため、レーザビーム１本当たりにようする走査及び照射の時間を短縮することができる。従って、特に高速の通板設備に適している。
　レーザビーム９又は１９は走査装置１０又は２０内のレンズで集光される。図４Ａ及び図４Ｂに示すように、珪素鋼板１の表面におけるレーザビーム９又は１９の光スポット２４の形状は、例えば、板幅方向（Ｃ方向）の径がＤｃ、圧延方向（Ｌ方向）の径がＤｌの円形又は楕円形とする。また、レーザビーム９又は１９の走査は、例えば、走査装置１０又は２０内のポリゴンミラー等を用いて速度Ｖｃで行われる。例えば、板幅方向の径（Ｃ方向径）Ｄｃは５ｍｍ、圧延方向の径（Ｌ方向径）Ｄｌは０．１ｍｍ、走査速度Ｖｃは１０００ｍｍ／ｓ程度とすることができる。
　なお、光源（レーザ装置）としては、例えばＣＯ２レーザを用いることができる。また、ＹＡＧレーザ、半導体レーザ、ファイバレーザ等の一般的に工業用に用いられる高出力レーザを使用することもできる。
　また、レーザビームの照射を行う際の珪素鋼板１の温度は特に限定されず、例えば、室温程度の珪素鋼板１に対してレーザビームの照射を行うことができる。また、レーザビームを走査する方向は板幅方向（Ｃ方向）と一致している必要はないが、作業効率等の観点及び圧延方向に長い短冊状に磁区を細分する点から板幅方向（Ｃ方向）からのずれは４５°以内であることが好ましく、２０°以内であることがより好ましく、１０°以内であることが更に一層好ましい。
　レーザビームの照射間隔ＰＬの詳細については後述する。
　焼鈍分離剤の塗布５及び巻き取りの後には、図２Ａに示すように、鋼板コイル３１を焼鈍炉６内に搬送し、鋼板コイル３中心軸をほぼ鉛直方向にして載置する。そして、バッチ処理で鋼板コイル３１の焼鈍（仕上焼鈍）を行う。この焼鈍の最高到達温度は、例えば１２００℃程度とし、時間は、例えば２０時間程度とする。この焼鈍の際に、二次再結晶が生じると共に、珪素鋼板１の表面にグラス皮膜が形成される。その後、焼鈍炉６から鋼板コイル３１を取り出す。
　続いて、鋼板コイル３１を巻き解きながら、焼鈍炉７に供給し、焼鈍炉７内で焼鈍を行う。この焼鈍の際に、仕上げ焼鈍時に発生した巻癖及び歪み変形が取り除かれ、珪素鋼板１が平坦になる。次いで、珪素鋼板１の表面への皮膜の形成８を行う。皮膜としては、例えば、絶縁性の確保、及び鉄損を低減する張力の作用が可能なものを形成する。これらの一連の処理を経て方向性電磁鋼板３２が製造される。皮膜の形成８の後には、例えば、保管及び搬送等の便宜のために、方向性電磁鋼板３２をコイル状に巻き取る。
　このような方法で方向性電磁鋼板３２を製造すると、二次再結晶の際に、図５Ａ及び図５Ｂに示すように、レーザビームの軌跡２３に沿って珪素鋼板１の表裏を貫通する結晶粒界４１が生じる。
　このような結晶粒界４１が発生する理由としては、レーザビームの照射に伴う急速加熱及び冷却により内部応力及び歪みが導入されたことが考えられる。また、レーザビームの照射に伴って一次再結晶により得られる結晶粒のサイズが周辺と相違して、二次再結晶時の粒成長速度が相違したこと等も考えられる。
　実際に、上記の実施形態に沿って方向性電磁鋼板を製造したところ、図６Ａ及び図７に示す結晶粒界が観察された。これらの結晶粒界には、レーザビームの軌跡に沿って形成された結晶粒界６１も含まれていた。また、レーザビームの照射を省略したことを除き上記の実施形態に沿って方向性電磁鋼板を製造したところ、図６Ｂに示す結晶粒界が観察された。
　図６Ａ及び図６Ｂは、方向性電磁鋼板の表面からグラス皮膜等を除去し、地鉄を露出させた後に、その表面の酸洗を行って撮影した写真である。これらの写真には、二次再結晶により得られた結晶粒及び結晶粒界が現れている。また、この写真の撮影の対象とした方向性電磁鋼板の製造に際しては、鋼板コイルの内径を３００ｍｍ、外径を１０００ｍｍとした。また、レーザビームの照射間隔ＰＬは約３０ｍｍとした。また、図７は、板幅方向（Ｃ方向）に垂直な断面を示している。
　図６Ａ及び図７に示す方向性電磁鋼板について詳細に観察したところ、結晶粒の圧延方向（Ｌ方向）の長さは、最大でも照射間隔ＰＬに相当する３０ｍｍ程度であった。また、レーザビームを照射した部分には溝等の形状の変化は見られず、方向性電磁鋼板の地鉄の表面はほぼ平坦であった。また、レーザビームの照射を、焼鈍炉３を用いた焼鈍の前に行った場合、この焼鈍の後に行った場合のいずれにおいても、互いに同様の結晶粒界が観察された。
　本願発明者らは上述の実施形態に沿って製造した方向性電磁鋼板の角度偏差βについて詳細に調査した。この調査では、種々の結晶粒の結晶方位角をＸ線ラウエ法により測定した。Ｘ線ラウエ法の空間分解能、すなわち、方向性電磁鋼板上のＸ線スポットの大きさは１ｍｍ程度であった。この調査の結果、レーザビームの軌跡に沿って延びる結晶粒界によって区切られた結晶粒内では、各測定位置における角度偏差βがすべて０°～６°の範囲内にあった。このことは、非常に高い結晶方位の配向性が得られたことを意味している。
　一方、レーザビームの照射を省略して製造した方向性電磁鋼板には、圧延方向（Ｌ方向）のサイズが、レーザビームの照射を行った場合よりも大きな結晶粒が多く含まれていた。そして、このような大きな結晶粒についてＸ線ラウエ法により角度偏差βの調査を行ったところ、全体的に角度偏差βが６°を超えており、また、多くの結晶粒で角度偏差βの最大値が１０°を超えていた。
　ここで、レーザビームの照射間隔ＰＬについて説明する。
　磁束密度Ｂ８と角度偏差βの大きさとの関係は、例えば非特許文献１に記載されている。本発明者らは非特許文献１の記載された関係と同様の測定データを実験的に得て、当該測定データから最小二乗法により式（１）で表わされる磁束密度Ｂ８（Ｔ）とβ（°）の関係を得た。
　Ｂ８＝－０．０２６×β＋２．０９０　・・・（１）
　一方、図５Ａ及び図５Ｂ並びに図８に示すように、レーザビームの軌跡に沿う２つの結晶粒界４１の間には、少なくとも１個の結晶粒４２が存在する。ここで、１個の結晶粒４２に着目し、結晶粒４２の上記２つの結晶粒界４１の一方側の端部における結晶方位を基準として、結晶粒４２内の各位置での角度偏差をβ´とする。このとき、図８に示すように、上記一方側の端部では、角度偏差β´は０°である。また、他方側の端部では、結晶粒４２内での最大の角度偏差が生じる。ここでは、この角度偏差を最大角度偏差βｍ（β´＝βｍ）とする。この場合、最大角度偏差βｍは、結晶粒界４１の間隔ＰＬ、すなわち結晶粒４２の圧延方向の長さＬｇ、並びに、仕上げ焼鈍時の鋼板コイルにおけるその位置での珪素鋼板の曲率半径Ｒを用いて式（２）のように表される。なお、珪素鋼板の厚さは、鋼板コイルの内径及び外径と比較して無視し得る程度に薄い。このため、鋼板コイルの内側の表面における曲率半径と外側の表面における曲率半径との間にはほとんど差がなく、曲率半径Ｒとしてどちらの値を用いても最大角度偏差βｍへの影響はほとんどない。
　βｍ＝（１８０／π）×（Ｌｇ／Ｒ）　・・・（２）
　式（１）に着目すると、角度偏差βが７．３°以下の場合に、１．９０Ｔ以上の磁束密度Ｂ８が得られることがわかる。逆に、１．９０Ｔ以上の磁束密度Ｂ８を得るためには、角度偏差βを７．３°以下とすることが重要であるといえる。更に、式（２）に着目すると、最大角度偏差βｍを７．３°以下にするためには、つまり、１．９０Ｔ以上の磁束密度Ｂ８を得るためには、下記の式（３）が満たされていることが重要であるといえる。
　Ｌｇ≦０．１３×Ｒ　・・・（３）
　これらの関係から、珪素鋼板のうちの鋼板コイル内で曲率半径が「Ｒ」となる部位については、そこに成長する結晶粒の圧延方向の長さＬｇが式（３）を満たしていれば、最大角度偏差βｍが７．３°以下となり、１．９０Ｔ以上の磁束密度Ｂ８が得られるといえる。また、長さＬｇはレーザビームの照射間隔ＰＬに相当する。従って、珪素鋼板内の任意の位置において、曲率半径Ｒに応じてレーザビームの照射間隔ＰＬを式（４）が満たされるように設定することにより、高い磁束密度Ｂ８が得られるといえる。
　ＰＬ≦０．１３×Ｒ　・・・（４）
　また、珪素鋼板の各部位の鋼板コイル内での曲率半径Ｒは、鋼板コイルの取得前であっても、珪素鋼板の圧延方向の長さ及び鋼板コイルの内径の設定値、当該部位の珪素鋼板の先端又は尾端を基準とした位置Ｐｓ等の情報から容易に算出することができる。
　また、１．９５Ｔ以上の磁束密度Ｂ８を得るためには、（１）式及び（２）しきに着目すると、角度偏差βを５．４°以下とすることが重要であり、そのためには、レーザビームの照射間隔ＰＬを式（５）が満たされるように設定することが重要である。
　ＰＬ≦０．０９４×Ｒ　・・・（５）
　ここで、曲率半径Ｒに応じて照射間隔ＰＬを調整する方法の例について説明する。つまり、この方法では、照射間隔ＰＬを固定せずに、曲率半径Ｒに応じて適したものに調整する。上記のように、焼鈍分離剤の塗布５に珪素鋼板１を巻き取る際の内径Ｒ１、即ち鋼板コイル３１の内径Ｒ１は予め設定しておく。鋼板コイル３１の外径Ｒ２及び巻き回数Ｎは、鋼板コイル３１内での珪素鋼板１間に存在する隙間のサイズΔ、珪素鋼板１の厚さｔ、珪素鋼板１の圧延方向の長さＬ０、及び内径Ｒ１から容易に算出することができる。そして、これらの値から、珪素鋼板１の各部位について、通板方向の先端からの距離Ｌ１に応じて鋼板コイル３１における曲率半径Ｒを算出することができる。なお、隙間のサイズΔとしては、経験的に取得した値、又は巻き取り方に基づく値等を用いることができ、０又は０以外の値を用いればよい。また、長さＬ０、コイル内径Ｒ１、及び厚さｔが既知のときの外径Ｒ２及び巻き回数Ｎを経験的又は実験的に求め、曲率半径Ｒを算出してもよい。
　そして、距離Ｌ１に応じた曲率半径Ｒに基づいて、以下のようにレーザビームの照射を行う。
　（ａ）レーザビーム照射装置２を焼鈍炉３の上流側及び／下流側に設置する。
　（ｂ）レーザビームを照射する地点における珪素鋼板１の通板速度及び通過距離（通板方向の先端からの距離Ｌ１に相当する）を、ライン速度監視装置及び照射位置監視装置で測定する。
　（ｃ）珪素鋼板１の通板速度、先端からの距離Ｌ１、レーザビームの走査速度Ｖｃに基づき、珪素鋼板１の表面における照射間隔ＰＬが式（４）、好ましくは式（５）を満たすように設定する。更に、レーザビームの照射エネルギー密度及び瞬時パワー密度等も設定する。
　（ｄ）レーザビームの照射を行う。
　このようにして、曲率半径Ｒに応じて照射間隔ＰＬを調整することができる。なお、式（４）、好ましくは式（５）が満たされる範囲内で、照射間隔ＰＬを固定してもよい。上記のような調整を行った場合には、鋼板コイル３１の外周に近づくほど照射間隔ＰＬが広くなるため、照射間隔ＰＬを固定した場合と比較して、レーザの照射平均パワーを低減することが可能となる。
　次に、レーザビームの照射の条件について説明する。本願発明者らは、以下に示す実験から、（６）式で定義されるレーザビームの照射エネルギー密度Ｕｐが（７）式を満たしている場合に、特に適切にレーザビームの軌跡に沿った結晶粒界が形成されることを見出した。
　Ｕｐ＝４／π×Ｐ／（Ｄｌ×Ｖｃ）　・・・（６）
　０．５Ｊ／ｍｍ２≦Ｕｐ≦２０Ｊ／ｍｍ２　・・・（７）
　ここで、Ｐはレーザビームの強度（Ｗ）を示し、Ｄｌはレーザビームの集光スポットの圧延方向の径（ｍｍ）を示し、Ｖｃはレーザビームの走査速度（ｍｍ／ｓｅｃ）を示す。
　この実験では、先ず、２質量％～４質量％のＳｉを含む方向性電磁鋼用の鋼材の熱間圧延を行い、熱間圧延が施された珪素鋼板（熱延鋼板）を得た。次いで、珪素鋼板を約１１００℃で焼鈍した。その後、冷間圧延を行い、珪素鋼板の厚さを０．２３ｎｍとし、これを巻き取って冷延コイルを作製した。続いて、冷延コイルから、Ｃ方向の寸法が１００ｍｍ、圧延方向（Ｌ方向）の寸法が５００ｍｍの単板サンプルを切り出した。次いで、単板サンプルの表面に、レーザビームを板幅方向に走査しながら照射した。このときの条件を表１に示す。その後、７００℃～９００℃で脱炭焼鈍を行い、一次再結晶を生じさせた。続いて、単板サンプルを室温程度まで冷却し、その後、単板サンプルの表面に、ＭｇＯを主成分とする焼鈍分離剤を塗布した。次いで、約１２００℃、約２０時間の仕上げ焼鈍を行い、二次再結晶を生じさせた。
　そして、レーザビームの軌跡に沿った結晶粒界の有無、及び地鉄である単板サンプルの表面の溶融、変形の有無の評価を行った。なお、レーザビームの軌跡に沿った結晶粒界の有無の評価では、単板サンプルの板幅方向に直交する断面の写真の観察を行った。また、表面の溶融、変形の有無は、仕上げ焼鈍の際に形成されたグラス皮膜の除去及び酸洗の後に、単板サンプルの表面の観察を行った。これらの結果も表１に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　表１に示すように、照射エネルギー密度Ｕｐが０．５Ｊ／ｍｍ２未満の試料Ｎｏ．１では、レーザビームの軌跡に沿った結晶粒界が形成されていなかった。これは、十分な熱量が投入されなかったために、局所的な歪み強度の変動及び一次再結晶により得られる結晶粒の径の変動がほとんど生じなかったためであると考えられる。また、照射エネルギー密度Ｕｐが２０Ｊ／ｍｍ２を超える試料Ｎｏ．７では、レーザビームの軌跡に沿った結晶粒界が形成されたが、単板サンプル（地鉄）の表面に、レーザビームの照射に伴う変形及び／又は溶融跡が存在した。このような変形及び／又は溶融跡は、方向性電磁鋼板が積層されて使用される場合に、占積率を低下させたり、応力及び歪みを生じさせたりし、磁気特性の低下を引き起こす。
　その一方で、（７）式を満たす試料Ｎｏ．２～Ｎｏ．６、及び試料Ｎｏ．８～Ｎｏ．９では、レーザビームの集光スポットの形状、走査速度、及びレーザビーム強度に拘わらず、レーザビームの軌跡に沿った結晶粒界が適切に形成されていた。また、レーザビームの照射に伴う変形及び溶融跡は存在しなかった。
　このような実験から、（６）式で定義されるレーザビームの照射エネルギー密度Ｕｐが（７）式を満たしていることが好ましいといえる。
　なお、脱炭焼鈍と仕上げ焼鈍との間にレーザビームの照射を行った場合にも同様の結果が得られた。従って、この場合にも、照射エネルギー密度Ｕｐが（７）式を満たしていることが好ましい。また、脱炭焼鈍の前及び後にレーザビームの照射を行う場合にも、照射エネルギー密度Ｕｐが（７）式を満たしていることが好ましい。
　また、レーザビームの照射に伴う珪素鋼板（地鉄）の変形及び溶融の発生を防止するためには、（８）式で定義されるレーザの瞬時パワー密度Ｉｐが（９）式を満たしていることが好ましい。
　Ｉｐ＝４／π×Ｐ／（Ｄｌ×Ｄｃ）　・・・（８）
　Ｉｐ≦１００ｋＷ／ｍｍ２　・・・（９）
　ここで、Ｄｃはレーザビームの集光スポットの板幅方向の径（ｍｍ）を示す。
　瞬時パワー密度Ｉｐが大きいほど、珪素鋼板の溶融、飛散、及び蒸発が生じやすくなり、瞬時パワー密度Ｉｐが１００ｋＷ／ｍｍ２を超えていると、珪素鋼板の表面に孔又は溝等が形成されやすい。また、パルスレーザと連続波レーザとを比較すると、瞬時パワー密度Ｉｐが同一であっても、パルスレーザを用いた場合に溝等が形成されやすい。これは、パルスレーザを用いた場合に、レーザビームが照射された領域に急激な温度の変化が生じやすいからである。従って、連続波レーザを用いることが好ましい。
　これは、脱炭焼鈍と仕上げ焼鈍との間にレーザビームの照射を行う場合、並びに、脱炭焼鈍の前及び後にレーザビームの照射を行う場合も、同様である。
　上述のように、一次再結晶が生じた珪素鋼板の鋼板コイルを焼鈍して二次再結晶を生じさせると、図１Ａ及び図１Ｂに示すように、曲率の影響を受けて、二次再結晶により得られる結晶粒内には、磁化容易軸が圧延方向からずれる部分が発生する。そして、このずれの程度は、この結晶粒の圧延方向の寸法が大きいほど、曲率半径が小さいほど顕著となる。そして、従来の技術では、このような圧延方向の寸法が特に制御されていないため、上記のずれの程度を表す指標の一つである角度偏差βが１０°以上に達する場合がある。これに対し、上記の実施形態によれば、適切なレーザビームの照射を行い、二次再結晶の際に、レーザビームの軌跡に沿って珪素鋼板の表裏を貫通する結晶粒界を生じさせるため、各結晶粒の圧延方向の寸法が適切なものとなる。従って、レーザビームの照射を行わない場合と比較して、角度偏差βを小さく抑え、結晶方位の配向性を向上して、高い磁束密度Ｂ８及び低い鉄損Ｗ１７／５０を得ることができる。
　また、レーザビームの照射は高速で行うことが可能であり、微小空間に集光して高エネルギー密度が得られるため、レーザビームの照射を行わない場合と比較しても処理に要する時間への影響は小さい。すなわち、冷延コイルを巻き解きながらの脱炭焼鈍等を行う処理における通板速度は、レーザビームの照射の有無に拘わらず、ほとんど変化させる必要がない。更に、レーザビームの照射を行う温度は特に制限されないため、レーザ照射装置の断熱機構等は不要である。従って、高温炉内での処理が必要となる場合と比較して、装置の構成を簡素なものとすることが可能である。
　なお、絶縁皮膜の形成の後に、磁区の制御を目的とするレーザビームの照射を行ってもよい。
　（第１の実験）
　第１の実験では、３質量％のＳｉを含む方向性電磁鋼用の鋼材の熱間圧延を行い、熱間圧延が施された珪素鋼板（熱延鋼板）を得た。次いで、珪素鋼板を約１１００℃で焼鈍した。その後、冷間圧延を行い、珪素鋼板の厚さを０．２３ｎｍとし、これを巻き取って冷延コイルを作製した。なお、冷延コイルは４個作製した。続いて、３個の冷延コイル（コイルＮｏ．Ｃ１～Ｃ３）については、レーザビームの照射を行い、その後に、脱炭焼鈍を行って一次再結晶を生じさせた。残りの１個の冷延コイル（コイルＮｏ．Ｃ４）については、レーザビームの照射を行わずに、その後に、脱炭焼鈍を行って一次再結晶を生じさせた。
　脱炭焼鈍後には、これらの珪素鋼板に、焼鈍分離剤の塗布、及び同一の条件下での仕上げ焼鈍を行った。
　ここで、コイルＮｏ．Ｃ１～Ｃ３におけるレーザビームの照射間隔ＰＬについて、図９Ａ～図９Ｄを参照しながら説明する。焼鈍分離剤の塗布後には、図９Ａに示すように、珪素鋼板をコイル状に巻き取り鋼板コイル５１を作製し、この状態で仕上げ焼鈍を行った。鋼板コイル５１の作製に先立って、鋼板コイル５１の内径Ｒ１は３１０ｍｍに設定しておいた。また、鋼板コイル５１における珪素鋼板の圧延方向の長さＬ０は、冷延コイルにおける珪素鋼板の圧延方向の長さと同等であり、約１２０００ｍであった。従って、鋼板コイル５１の外径Ｒ２は、これらから算出することができ、１０００ｍｍであった。
　そして、コイルＮｏ．Ｃ１へのレーザビームの照射では、図９Ｂに示すように、照射間隔ＰＬを４０ｍｍとした。すなわち、鋼板コイル５１の内側エッジ５２に相当する部分から外側エッジ５３に相当する部分まで等間隔でレーザビームの照射を行い、珪素鋼板５５の表面に軌跡５４を残した。なお、この処理での照射間隔ＰＬの値（４０ｍｍ）は、鋼板コイル５１の内径Ｒ１（３１０ｍｍ）との関係で（４）式を満たす範囲内で最大のものと同等である。従って、珪素鋼板５５のどの位置でも（４）式が満たされている。
　また、コイルＮｏ．Ｃ２へのレーザビームの照射では、図９Ｃに示すように、照射間隔ＰＬを鋼板コイル５１における曲率半径Ｒに応じて変化させた。すなわち、鋼板コイル５１の内側エッジ５２に相当する部分から外側エッジ５３に相当する部分まで、徐々に照射間隔ＰＬを大きくしながらレーザビームの照射を行い、珪素鋼板５５の表面に軌跡５４を残した。
　また、コイルＮｏ．Ｃ３へのレーザビームの照射では、図９Ｄに示すように、照射間隔ＰＬを１５０ｍｍとした。すなわち、鋼板コイル５１の内側エッジ５２に相当する部分から外側エッジ５３に相当する部分まで等間隔でレーザビームの照射を行い、珪素鋼板５５の表面に軌跡５４を残した。なお、この処理での照射間隔ＰＬの値（１５０ｍｍ）は、鋼板コイル５１の外径Ｒ２（１０００ｍｍ）との関係で（４）式を満たす範囲内で最大のもの（１３０ｍｍ）よりも大きい。従って、珪素鋼板５５のどの位置でも（４）式が満たされていない。
　また、コイルＮｏ．Ｃ１～Ｃ３へのレーザビームの照射では、照射エネルギー密度Ｕｐ及び瞬時パワー密度Ｉｐが（７）式、（９）式を満たす条件を選択した。上述のように、コイルＮｏ．Ｃ４へのレーザビームの照射は行わなかった。
　そして、仕上げ焼鈍後には、仕上げ焼鈍時に発生した巻癖及び歪み変形を取り除く焼鈍を行い、珪素鋼板５５を平坦化した。更に、絶縁皮膜を珪素鋼板５５の表面に形成した。このようにして、４種類の方向性電磁鋼板を製造した。
　次いで、各方向性電磁鋼板から、鋼板コイル５１の内側エッジ５２を起点として圧延方向に沿って表２に示す６か所で１０個ずつ試料を切り出した。そして、各試料の磁束密度Ｂ８、鉄損Ｗ１７／５０、及び角度偏差βの最大値を測定した。磁束密度Ｂ８及び鉄損Ｗ１７／５０、は電磁鋼板に対する周知の測定方法で測定した。角度偏差βの最大値の測定では、Ｘ線ラウエ法を採用した。なお、Ｘ線ラウエ法での試料上のＸ線スポットの大きさ、すなわち空間分解能は１ｍｍであった。これらの結果も表２に示す。なお、表２に示す各数値は、１０個の試料の平均値である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
　表２に示すように、（４）式が満たされているコイルＮｏ．Ｃ１及びＣ２では、どの位置においても角度偏差βの最大値が７．３°未満であった。このため、レーザビームの照射を行っていないコイルＮｏ．Ｃ４（比較例）と比較して、磁束密度Ｂ８が著しく大きく、鉄損Ｗ１７／５０が極めて低かった。すなわち、安定して、１．９０Ｔ以上の磁束密度Ｂ８及び０．７７Ｗ／ｋｇ以下の鉄損Ｗ１７／５０が得られた。また、コイルＮｏ．Ｃ２では、照射間隔ＰＬを曲率半径Ｒに応じて調整したため、より均一な磁気特性が得られた。
　また、（４）式が満たされていないコイルＮｏ．Ｃ３では、コイルＮｏ．Ｃ４（比較例）と比較して、磁束密度Ｂ８が大きく、鉄損Ｗ１７／５０が低かったが、コイルＮｏ．Ｃ１及びＣ２と比較すると、磁束密度Ｂ８が小さく、鉄損Ｗ１７／５０が高かった。
　更に、コイルＮｏ．１～Ｎｏ．３から切り出した各試料について、Ｘ線ラウエ法により角度偏差βの結晶粒内の分布を測定した。この結果、レーザビームの軌跡に沿って形成された２つの結晶粒界の間の結晶粒内では、どちらかの結晶粒界に近い領域ほど角度偏差βが大きくなっていることが確認された。一般的に、Ｘ線ラウエ法の測定時の位置分解能は１ｍｍであり、この測定でも１ｍｍであった。
　このような第１の実験から、レーザビームの軌跡に沿って形成された結晶粒界から１ｍｍの位置での角度偏差βが７．３°以下であれば、結晶方位の配向性を高くして、１．９０Ｔ以上の磁束密度Ｂ８を得ることができることが実証された。
　（第２の実験）
　第２の実験では、先ず、第１の実験と同様にして、冷延コイルを作製した。なお、冷延コイルは５個作製した。続いて、４個の冷延コイルについては、表３に示すように、照射間隔ＰＬを相違させてレーザビームの照射を行い、その後に、脱炭焼鈍を行って一次再結晶を生じさせた。残りの１個の冷延コイルについては、レーザビームの照射を行わずに、その後に、脱炭焼鈍を行って一次再結晶を生じさせた。
　脱炭焼鈍後には、これらの珪素鋼板に、焼鈍分離剤の塗布、及び同一の条件下での仕上げ焼鈍を行った。更に、仕上げ焼鈍時に発生した巻癖及び歪み変形を取り除く焼鈍を行い、珪素鋼板を平坦化した。更に、絶縁皮膜を珪素鋼板の表面に形成した。このようにして、５種類の方向性電磁鋼板を製造した。
　次いで、各方向性電磁鋼板の、鋼板コイルの内側エッジ（Ｒ１＝３１０ｍｍ）に相当する部分から試料を切り出し、各試料の磁束密度Ｂ８及び鉄損Ｗ１７／５０、を測定した。この結果も表３に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
　表３に示すように、照射間隔ＰＬが２ｍｍ未満の試料Ｎｏ．１０及びＮｏ．１１では、磁束密度Ｂ８が１．９０Ｔ未満と低く、鉄損Ｗ１７／５０が０．８Ｗ／ｋｇ以上と高かった。つまり、照射間隔ＰＬが２ｍｍ以上の試料Ｎｏ．１２～Ｎｏ．１４と比較して、磁気特性が劣っていた。これは、照射間隔ＰＬが極端に狭い場合、２つの結晶粒界間の結晶粒の圧延方向の寸法が小さくなり過ぎて、レーザビームの照射により生じた微小な歪みの影響が相対的に大きくなるためであると推定される。つまり、角度偏差βが小さくなる一方で、珪素鋼板のヒステリシス損が増加して磁気特性が向上しにくくなるためであると推定される。従って、曲率半径Ｒに拘わらず、照射間隔ＰＬの範囲の下限値は２ｍｍとすることが好ましい。
　本発明は、例えば、電磁鋼板製造産業及び電磁鋼板利用産業において利用することができる。

Claims (11)

  1. 　Ｓｉを含む珪素鋼板の冷間圧延を行う工程と、
    　次に、前記珪素鋼板を脱炭焼鈍することにより、一次再結晶を生じさせる工程と、
    　次に、前記珪素鋼板を巻き取って、鋼板コイルを得る工程と、
    　次に、前記鋼板コイルをバッチ処理で焼鈍することにより、二次再結晶を生じさせる工程と、
    　次に、前記鋼板コイルを巻き解いて平坦化する工程と、
    　を有し、
    　前記冷間圧延を行う工程と前記鋼板コイルを得る工程との間に、前記珪素鋼板の表面に、前記珪素鋼板の板幅方向の一端から他端に向けてレーザビームを圧延方向に関して所定の間隔で複数回照射する工程を有し、
    　前記二次再結晶を生じさせる際に、前記レーザビームの軌跡に沿って前記珪素鋼板の表裏を貫通する結晶粒界を生じさせることを特徴とする方向性電磁鋼板の製造方法。
  2. 　前記珪素鋼板の表面の前記レーザビームが照射された部分が平坦であることを特徴とする請求項１に記載の方向性電磁鋼板の製造方法。
  3. 　前記所定の間隔は、前記珪素鋼板の前記鋼板コイルにおける曲率半径に基づいて設定されていることを特徴とする請求項１に記載の方向性電磁鋼板の製造方法。
  4. 　前記珪素鋼板内の任意の位置の前記鋼板コイルにおける曲率半径をＲ（ｍｍ）とし、当該位置における前記所定の間隔をＰＬ（ｍｍ）としたとき、下記の関係が満たされることを特徴とする請求項１に記載の方向性電磁鋼板の製造方法。
    　ＰＬ≦０．１３×Ｒ
  5. 　前記所定の間隔は、一定であることを特徴とする請求項４に記載の方向性電磁鋼板の製造方法。
  6. 　前記所定の間隔は、前記鋼板コイルの内面から外面に近づくほど広くなっていることを特徴とする請求項４に記載の方向性電磁鋼板の製造方法。
  7. 　前記所定の間隔は、２ｍｍ以上であることを特徴とする請求項１に記載の方向性電磁鋼板の製造方法。
  8. 　前記レーザビームの平均強度をＰ（Ｗ）とし、
    　前記レーザビームの集光スポットの圧延方向の集光径をＤｌ（ｍｍ）、
    　前記レーザビームの板幅方向の走査速度をＶｃ（ｍｍ／ｓ）とし、
    　前記レーザビームの照射エネルギー密度をＵｐ＝４／π×Ｐ／（Ｄｌ×Ｖｃ）としたとき、下記の関係が満たされることを特徴とする請求項１に記載の方向性電磁鋼板の製造方法。
    　０．５Ｊ／ｍｍ２≦Ｕｐ≦２０Ｊ／ｍｍ２
  9. 　前記レーザビームの平均強度をＰ（Ｗ）とし、
    　前記レーザビームの集光スポットの圧延方向の集光径をＤｌ（ｍｍ）、板幅方向の集光径をＤｃ（ｍｍ）とし、
    　前記レーザビームの瞬時パワー密度をＩｐ＝４／π×Ｐ／（Ｄｌ×Ｄｃ）としたとき、下記の関係が満たされることを特徴とする請求項１に記載の方向性電磁鋼板の製造方法。
    　Ｉｐ≦１００ｋＷ／ｍｍ２
  10. 　方向性電磁鋼板の板幅方向の一端から他端に向けて走査されたレーザビームの軌跡に沿って延び、前記方向性電磁鋼板の表裏を貫通する結晶粒界が存在し、
    　前記方向性電磁鋼板の圧延方向と各結晶粒の磁化容易軸方向（１００）＜００１＞とのなす角の板厚方向をβ（°）としたとき、前記結晶粒界から１ｍｍ離間した位置でのβの値が７．３°以下であることを特徴とする方向性電磁鋼板。
  11. 　前記結晶粒界において地鉄の表面が平坦になっていることを特徴とする請求項１０に記載の方向性電磁鋼板。
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