JPS6175506A - 磁区制御処理を施した方向性電磁鋼板およびその製造方法 - Google Patents
磁区制御処理を施した方向性電磁鋼板およびその製造方法Info
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- JPS6175506A JPS6175506A JP59196554A JP19655484A JPS6175506A JP S6175506 A JPS6175506 A JP S6175506A JP 59196554 A JP59196554 A JP 59196554A JP 19655484 A JP19655484 A JP 19655484A JP S6175506 A JPS6175506 A JP S6175506A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、穿孔内のグラスにより磁区制御を施した方向
性電磁網板に関するものであり、特に、歪み取り焼鈍を
施しても消失しない磁区制御処理を施した方向性電磁鋼
板およびその製造方法に関するものである。
性電磁網板に関するものであり、特に、歪み取り焼鈍を
施しても消失しない磁区制御処理を施した方向性電磁鋼
板およびその製造方法に関するものである。
（従来の技術）
方向外電Ｍｔｔｂｌ板では、結晶方位が可及的にＧｏｓ
ｓ方位に近くかつ、結晶粒径が数ミリメートル以上と比
較的大きなものが磁束密度など鉄損以外の磁気特性的に
すぐれている。結晶方位がＧｏｓｓ方位に近くかつ結晶
粒径が比較的大きい方向性電磁鋼板の鉄損特性が比較的
劣る主たる原因は上記方位のよい材料の場合、磁区が比
較的大きくなることにある。この対策として当該分野で
は、レーザー処理等の磁区細分化技術が既に考案されて
いる（特公昭５７−２２５２号公報）。
ｓ方位に近くかつ、結晶粒径が数ミリメートル以上と比
較的大きなものが磁束密度など鉄損以外の磁気特性的に
すぐれている。結晶方位がＧｏｓｓ方位に近くかつ結晶
粒径が比較的大きい方向性電磁鋼板の鉄損特性が比較的
劣る主たる原因は上記方位のよい材料の場合、磁区が比
較的大きくなることにある。この対策として当該分野で
は、レーザー処理等の磁区細分化技術が既に考案されて
いる（特公昭５７−２２５２号公報）。
しかして、方向性電磁鋼板を用いて巻き鉄心トランスを
製造する際に鋼板にベンディングを与えざるをえず、こ
れにより、材料に歪みを与えてしまい必然的に磁気特性
が劣化するためベンディング後に歪取焼鈍を行い、上記
歪みを除き磁性を回復させるのが一般的である。
製造する際に鋼板にベンディングを与えざるをえず、こ
れにより、材料に歪みを与えてしまい必然的に磁気特性
が劣化するためベンディング後に歪取焼鈍を行い、上記
歪みを除き磁性を回復させるのが一般的である。
従来のレーザー処理等の磁気細分化処理法では、最終焼
鈍された鋼板にレーザー等により内部歪みが与えられて
いるので、かかる内部歪みは、上記の歪め取り焼鈍を施
すことにより消失する。
鈍された鋼板にレーザー等により内部歪みが与えられて
いるので、かかる内部歪みは、上記の歪め取り焼鈍を施
すことにより消失する。
（発明が解決すべき問題点）
本発明は、方向性電磁鋼板の磁気誘導特性が高い場合に
比較的鉄）員が低くなるという従来技術の問題点をＵり
区制御処理により解消するとともに、方向性電磁鋼板整
形上の理由により歪取り焼鈍を施こさざるを得ない場合
は、歪取り焼鈍を行ってもこれにより歪みが消失しない
磁気細分化技術を提供するものである。
比較的鉄）員が低くなるという従来技術の問題点をＵり
区制御処理により解消するとともに、方向性電磁鋼板整
形上の理由により歪取り焼鈍を施こさざるを得ない場合
は、歪取り焼鈍を行ってもこれにより歪みが消失しない
磁気細分化技術を提供するものである。
（問題点を解決するための手段および作用）本発明に係
る方向性電磁鋼板は、通常工程で得られた方向性電磁網
板の表面に穿った点列のほぼ三角錐状の穿孔内に、フォ
ルステライトを主成分としたグラスを有せし７めたこと
により磁区制御処理を施したものであり、また本発明に
係る磁区制御処理方法は、方向性電磁鋼板の通常の製造
工程で得られた、冷間圧延板又は脱炭焼鈍板の表面に点
列に穿ち、次いでＭｇＯを主成分としたコーティングを
施してから２次再結晶焼鈍を行い、２次再結晶焼鈍板の
表面にフォルステライトを形成させ、而して、上記穿孔
内にフォルステライトを主成分、としたグラスを理数し
たことを特徴とする。以下、本発明を図面を参照しつつ
詳しく説明する。
る方向性電磁鋼板は、通常工程で得られた方向性電磁網
板の表面に穿った点列のほぼ三角錐状の穿孔内に、フォ
ルステライトを主成分としたグラスを有せし７めたこと
により磁区制御処理を施したものであり、また本発明に
係る磁区制御処理方法は、方向性電磁鋼板の通常の製造
工程で得られた、冷間圧延板又は脱炭焼鈍板の表面に点
列に穿ち、次いでＭｇＯを主成分としたコーティングを
施してから２次再結晶焼鈍を行い、２次再結晶焼鈍板の
表面にフォルステライトを形成させ、而して、上記穿孔
内にフォルステライトを主成分、としたグラスを理数し
たことを特徴とする。以下、本発明を図面を参照しつつ
詳しく説明する。
第１図中、「１」は通常の処理により成長せしめられた
２次再結晶組織を有する方向性電磁鋼板、２は最終焼鈍
工程で形成されたフォルステライト点状に穿たれており
、穿孔３はその内部に微小孔フォルステライト４を有し
ている。この微小孔フォルステライト４に接する方向性
電磁鋼ＩｔＩｉ１の表面部ではグラス皮膜形成時に酸化
され、Ｆｅ −３ｔを主体とする表面酸化層５が形成さ
れることがある。上記のグラスの主成分であるフォルス
テライトは線膨張率が鋼板１のＦｅ−３ｉマトリツクス
６のそれよりもはるかに小さいため、１０００℃以上の
高温での仕上焼鈍後、常温迄急冷される過程で、フォル
ステライトが穿孔３内で収縮する時にＦｅ−３ｉマトリ
ツクス６に引張応力を与え、この結果穿孔３の周囲に局
部的応力が発生する。また内部酸化層５も、フォルステ
ライトはどＦｅ −３ｔマトリツクス６との線膨張率の
差はないが、酸化成分より構成されるために上記の急冷
過程においてその根部５ａで局部的歪を発生させる。上
述の如きフォルステライトを主成分とするグラスによる
内部応力発生作用によって、二次再結晶に固有な磁区と
は異なる方向を有する微小磁区が発生する。
２次再結晶組織を有する方向性電磁鋼板、２は最終焼鈍
工程で形成されたフォルステライト点状に穿たれており
、穿孔３はその内部に微小孔フォルステライト４を有し
ている。この微小孔フォルステライト４に接する方向性
電磁鋼ＩｔＩｉ１の表面部ではグラス皮膜形成時に酸化
され、Ｆｅ −３ｔを主体とする表面酸化層５が形成さ
れることがある。上記のグラスの主成分であるフォルス
テライトは線膨張率が鋼板１のＦｅ−３ｉマトリツクス
６のそれよりもはるかに小さいため、１０００℃以上の
高温での仕上焼鈍後、常温迄急冷される過程で、フォル
ステライトが穿孔３内で収縮する時にＦｅ−３ｉマトリ
ツクス６に引張応力を与え、この結果穿孔３の周囲に局
部的応力が発生する。また内部酸化層５も、フォルステ
ライトはどＦｅ −３ｔマトリツクス６との線膨張率の
差はないが、酸化成分より構成されるために上記の急冷
過程においてその根部５ａで局部的歪を発生させる。上
述の如きフォルステライトを主成分とするグラスによる
内部応力発生作用によって、二次再結晶に固有な磁区と
は異なる方向を有する微小磁区が発生する。
かかる異方向磁区に前記の線膨張率の小さな表面皮膜２
の形成による菌張力が付与されるので、スパイク伏の１
８０°磁区が多数伸張し、磁区が細分化されるのである
。かかる磁区細分化により高磁束密度を有する方向性電
磁鋼板の鉄損を改善して、高磁束密度故本来の磁区が比
較的大きい場合にも、鉄損の両者がすぐれた成品を得る
ことができる。さらに、このようにして形成された細分
化磁区は従来の磁区細分化技術のような自存的な格子欠
陥ないしは歪みによる偏位によるものでなく、１２００
℃以上の極めて高温まで形状変化することのない固形介
在物による偏位状態であるので、その後歪取焼鈍を行っ
てもその効果が消失することはないのである。
の形成による菌張力が付与されるので、スパイク伏の１
８０°磁区が多数伸張し、磁区が細分化されるのである
。かかる磁区細分化により高磁束密度を有する方向性電
磁鋼板の鉄損を改善して、高磁束密度故本来の磁区が比
較的大きい場合にも、鉄損の両者がすぐれた成品を得る
ことができる。さらに、このようにして形成された細分
化磁区は従来の磁区細分化技術のような自存的な格子欠
陥ないしは歪みによる偏位によるものでなく、１２００
℃以上の極めて高温まで形状変化することのない固形介
在物による偏位状態であるので、その後歪取焼鈍を行っ
てもその効果が消失することはないのである。
本発明において最も効果的穿孔は、直径１０μｍ〜１Ｎ
、深さ３〜１００μｍ、間隔１０μｍ〜２ｍｌの点列に
穿孔されたほぼ三角錐形状のものである。
、深さ３〜１００μｍ、間隔１０μｍ〜２ｍｌの点列に
穿孔されたほぼ三角錐形状のものである。
本発明において、穿孔３の孔の直径の下限を１０μｍに
したのはこれ未満の直径の孔を工業的に実用可能範囲で
穿孔することが難しく、また、上限を１ｆｉとしたのは
この値を越えると該孔によって生ずる磁区細分化による
鉄損改善が行われないからである。穿孔３の孔の深さの
下限を３μｍとしたのは、通常の電磁鋼板皮膜の表面酸
化層５の厚さが２〜３μｍであり、本発明を効果あらし
めるのは３μｍ以上であるからである。また、上限を１
００μｍにしたのは次の理由による。
したのはこれ未満の直径の孔を工業的に実用可能範囲で
穿孔することが難しく、また、上限を１ｆｉとしたのは
この値を越えると該孔によって生ずる磁区細分化による
鉄損改善が行われないからである。穿孔３の孔の深さの
下限を３μｍとしたのは、通常の電磁鋼板皮膜の表面酸
化層５の厚さが２〜３μｍであり、本発明を効果あらし
めるのは３μｍ以上であるからである。また、上限を１
００μｍにしたのは次の理由による。
磁束の通り抜ける鉄心の断面積占有率はトランスの場合
占積率として測定され重要な因子であるが、通常占積率
は１％以内の変動であれば許容誤差範囲とみなせるので
、通常断面積に対する孔の断面積が１％以下となる範囲
を求め、これを深さの上限値とした。
占積率として測定され重要な因子であるが、通常占積率
は１％以内の変動であれば許容誤差範囲とみなせるので
、通常断面積に対する孔の断面積が１％以下となる範囲
を求め、これを深さの上限値とした。
次に、穿孔３の間隔（ｄ−第立図参照）の下限を１０μ
ｍとしたのは、孔の最小径は１０μｍであり、この孔の
外径が接する最も密な条件が１０μｍであるので、これ
を下限とした。また、上限を２ｆ１にしたのは、最も配
向性のよい材料の場合で磁区中が約２ｍｍであるので、
これをより細分化する与件として限定した。
ｍとしたのは、孔の最小径は１０μｍであり、この孔の
外径が接する最も密な条件が１０μｍであるので、これ
を下限とした。また、上限を２ｆ１にしたのは、最も配
向性のよい材料の場合で磁区中が約２ｍｍであるので、
これをより細分化する与件として限定した。
本発明による穿孔３の方向性電磁鋼板表面上での点状配
列形態、ピッチおよび間隔の好ましい具体例を第２図に
より説明する。
列形態、ピッチおよび間隔の好ましい具体例を第２図に
より説明する。
本発明において穿孔３の点列の好ましいピッチ（ｔｌを
１０ ｔｔｍ〜２ ＯＮにしたのは、最小孔径１０μｍ
と接する条件を下限値とし、磁気特性、特に鉄損値の改
善を行わせるため２０ｍｍ以下とした。
１０ ｔｔｍ〜２ ＯＮにしたのは、最小孔径１０μｍ
と接する条件を下限値とし、磁気特性、特に鉄損値の改
善を行わせるため２０ｍｍ以下とした。
なお、ピッチ＋１１は等間隔ピッチでなく、たとえば０
．５〜２１Ａ簡のピッチと３〜１５ｍｍのピンチの組合
わせでもよい。さらに、点状に配列された穿孔３が圧延
方向（ＲＤ）に対してなす好ましい角度（θ）は４５℃
〜９０である。上記角度であると、素材鉄損値を改善で
き、しかもトランス鉄損値も小さくしうるのである。
．５〜２１Ａ簡のピッチと３〜１５ｍｍのピンチの組合
わせでもよい。さらに、点状に配列された穿孔３が圧延
方向（ＲＤ）に対してなす好ましい角度（θ）は４５℃
〜９０である。上記角度であると、素材鉄損値を改善で
き、しかもトランス鉄損値も小さくしうるのである。
以下、本発明に係る方法を説明する。
方向性電磁鋼板の通常の製造工程、即ち、製鋼、熱間圧
延、熱延板焼鈍、冷間圧延工程をへて冷延板を製造し、
次いで該冷延板に、パルスレーザ−を照射し、微小な穿
孔の点列を形成する。次にこの微小な穿孔が形成された
冷延板を脱炭焼鈍し、表層にできた酸化皮膜を除去した
後、マグネシャコーティングを通常の目付量で施し、続
いて仕上焼鈍を通常の条件で行う。また、上記の微小な
穿孔の点列を脱炭焼鈍板の表面に形成する場合は、脱炭
焼鈍中に板表面に生成した酸化膜を除去するに足る熱処
理条件で仕上焼鈍を行う。
延、熱延板焼鈍、冷間圧延工程をへて冷延板を製造し、
次いで該冷延板に、パルスレーザ−を照射し、微小な穿
孔の点列を形成する。次にこの微小な穿孔が形成された
冷延板を脱炭焼鈍し、表層にできた酸化皮膜を除去した
後、マグネシャコーティングを通常の目付量で施し、続
いて仕上焼鈍を通常の条件で行う。また、上記の微小な
穿孔の点列を脱炭焼鈍板の表面に形成する場合は、脱炭
焼鈍中に板表面に生成した酸化膜を除去するに足る熱処
理条件で仕上焼鈍を行う。
上記の穿孔はパルスレーザ−光照射で行うが、パルス強
度を１０〜３００ｍＪ／Ｐｕ１ｓｅにすると実技に適す
る。なお、レーザー光の他に、放電加工、電子ビーム、
または他の機械的手段等の手段で穿孔してもよい。
度を１０〜３００ｍＪ／Ｐｕ１ｓｅにすると実技に適す
る。なお、レーザー光の他に、放電加工、電子ビーム、
または他の機械的手段等の手段で穿孔してもよい。
（実施例）
以下、本発明を実施例に基づき説明する。
実施例１
通常の方向外電ＶＡ鋼板製造工程で得られた板厚０．２
２５ ｔｍの冷延板に以下の条件でレーザー照射を行っ
た。
２５ ｔｍの冷延板に以下の条件でレーザー照射を行っ
た。
レーザーのパルス強度： １５０ ｍＪ／Ｉ’ｕｌｓ
ｅレーザーの照射方向 ：圧延方向に対し９０”レーザ
ーの照射ピッチ：５鶴 微小な穿孔：直径０．０８ｎ＋、深さ０．０２重−１間
隔０．５ｎ 上記穿孔冷延板にＮ：２５％・ＤＰ６５℃の雰囲気で８
５０℃×１２０秒の脱炭焼鈍を施し、脱炭焼鈍中に酸化
膜も除去した後、ＭｇＯを主体とした焼鈍分離剤を塗布
し１２００℃×２０時間の仕上焼鈍を行った。
ｅレーザーの照射方向 ：圧延方向に対し９０”レーザ
ーの照射ピッチ：５鶴 微小な穿孔：直径０．０８ｎ＋、深さ０．０２重−１間
隔０．５ｎ 上記穿孔冷延板にＮ：２５％・ＤＰ６５℃の雰囲気で８
５０℃×１２０秒の脱炭焼鈍を施し、脱炭焼鈍中に酸化
膜も除去した後、ＭｇＯを主体とした焼鈍分離剤を塗布
し１２００℃×２０時間の仕上焼鈍を行った。
かくして製造された方向性電磁鋼板の磁束密度Ｂ８は１
．９０Ｔ、鉄損（Ｗ１ｔ／ｓｏ）は０．８４Ｗ／ｋｇで
あった。また方向性電磁鋼板の断面を４００倍の光学顕
微鏡で観察したところ、はぼ三角錐状の微小な穿孔が形
成されており、その内部にはフォルステライトを主成分
とするグラスが形成されていることが確認された。また
方向性電磁銅板の表面を走査型電子顕微鏡で観察したと
ころ、通常の二次再結晶組織に見られる磁区が細分化さ
れた多数の１８０″磁区が圧延方向に伸長していること
が確認された。
．９０Ｔ、鉄損（Ｗ１ｔ／ｓｏ）は０．８４Ｗ／ｋｇで
あった。また方向性電磁鋼板の断面を４００倍の光学顕
微鏡で観察したところ、はぼ三角錐状の微小な穿孔が形
成されており、その内部にはフォルステライトを主成分
とするグラスが形成されていることが確認された。また
方向性電磁銅板の表面を走査型電子顕微鏡で観察したと
ころ、通常の二次再結晶組織に見られる磁区が細分化さ
れた多数の１８０″磁区が圧延方向に伸長していること
が確認された。
上記の仕上焼鈍ずみ鋼板に８５０℃×４時間の歪取焼鈍
を行った。
を行った。
上記レーザー照射を行わない同一ロットの比較機と共に
鉄損値を次に示す。
鉄損値を次に示す。
第１表
実施例２
通常工程で得られた板圧０．２２５ ｍの冷延板を脱炭
焼鈍し、しかるのち、該脱炭焼鈍板に以下の条件でレー
ザー照射を行った。
焼鈍し、しかるのち、該脱炭焼鈍板に以下の条件でレー
ザー照射を行った。
レーザーパルス強度： １００ ｍＪ／Ｐｕ１ｓｅレ
ーザーの照射方向：圧延方向に対し７０’レーザー照射
ピッチ：０．５ｍと６鶴の組合せ微小な穿孔：直径０．
０６ｍ、深さ０．０２鶏、間隔０．５ ｔｍ 上記穿孔脱炭焼純板にＮ：２５％・ＤＰ６０℃の雰囲気
で８５０℃×１２０秒の予備仕上焼鈍を行い、脱炭焼鈍
時に形成された酸化膜を除去した後、ＭｇＯを主体とし
た焼鈍分離剤を塗布し、１２００℃×２０時間の仕上焼
鈍を行った。
ーザーの照射方向：圧延方向に対し７０’レーザー照射
ピッチ：０．５ｍと６鶴の組合せ微小な穿孔：直径０．
０６ｍ、深さ０．０２鶏、間隔０．５ ｔｍ 上記穿孔脱炭焼純板にＮ：２５％・ＤＰ６０℃の雰囲気
で８５０℃×１２０秒の予備仕上焼鈍を行い、脱炭焼鈍
時に形成された酸化膜を除去した後、ＭｇＯを主体とし
た焼鈍分離剤を塗布し、１２００℃×２０時間の仕上焼
鈍を行った。
かくして製造された方向性１磁鋼板の磁束密度Ｂ、は１
．９１Ｔ、鉄損（Ｗ ＋ ？ ／ ｓ。）は０．７９Ｗ
／ｋｇであった。
．９１Ｔ、鉄損（Ｗ ＋ ？ ／ ｓ。）は０．７９Ｗ
／ｋｇであった。
実施冷１と同様の方法により、はぼ三角錐状の微小な穿
孔、フォルステライトを主成分とするグラスの形成およ
び磁区の細分化を確認した。しかる後、該鋼板に８５０
℃×４時間の標準歪取焼鈍を施した。得られた材料の鉄
損値を上記レーザー照射を行わない同一のロフトの比較
材の鉄損値と共に下記に示す。
孔、フォルステライトを主成分とするグラスの形成およ
び磁区の細分化を確認した。しかる後、該鋼板に８５０
℃×４時間の標準歪取焼鈍を施した。得られた材料の鉄
損値を上記レーザー照射を行わない同一のロフトの比較
材の鉄損値と共に下記に示す。
第２表
（発明の効果）
本発明の磁区制御手段によれば、歪取焼鈍を施した後で
も、その効果は消滅しないので、巻き鉄心トランスの材
料として利用でき、その工業的価値は甚大である。
も、その効果は消滅しないので、巻き鉄心トランスの材
料として利用でき、その工業的価値は甚大である。
第１図は本発明による磁区制御処理鋼の一部断面模式図
、第２図は本発明による磁区制御処理鋼の点状穿孔の配
列を説明する説明図である。 １・・・方向性電磁鋼板、 ２・・・表面被膜、３・・
・穿孔、 ４・・・微小孔フォルステライト。 第１図 第２国 一肝璽ゝ
、第２図は本発明による磁区制御処理鋼の点状穿孔の配
列を説明する説明図である。 １・・・方向性電磁鋼板、 ２・・・表面被膜、３・・
・穿孔、 ４・・・微小孔フォルステライト。 第１図 第２国 一肝璽ゝ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、通常工程で得られた方向性電磁鋼板の表面に穿った
直径１０μｍ〜１ｍｍ深さ３〜１００μｍ間隔１０μｍ
〜２ｍｍの点列のほぼ三角錐状の穿孔内に、フォルステ
ライトを主成分としたグラスを有せしめたことを特徴と
する磁区制御処理を施した方向性電磁鋼板。 ２、前記点列が圧延方向に対し９０°〜４５°の角度範
囲に、かつ、そのピッチが１０μｍ〜２０ｍｍである特
許請求の範囲第１項に記載の方向性電磁鋼板。 ３、方向性電磁鋼板の通常の製造工程で得られた、冷間
圧延板又は脱炭焼鈍板の表面に直径１０μｍ〜１ｍｍ、
深さ３〜１００μｍのほぼ三角錐状の孔を１０μｍ〜２
ｍｍの間隔で点列に穿ち、次いでＭｇＯを主成分とした
コーティングを施してから２次再結晶焼鈍を行い、２次
再結晶焼鈍板の表面にフォルステライトを形成させ、而
して、上記穿孔内にフォルステライトを主成分としたグ
ラスを形成せしめたことを特徴とする磁区制御処理を施
した方向性電磁綱板の製造方法。 ４、点列が圧延方向に対し９０°〜４５°の角度範囲に
、かつ、そのピッチが１０μｍ〜２０ｍｍである特許請
求の範囲第３項記載の方法。 ５、レーザー光を照射して穿孔する特許請求の範囲第３
項記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59196554A JPH0740527B2 (ja) | 1984-09-21 | 1984-09-21 | 磁区制御処理を施した方向性電磁鋼板およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59196554A JPH0740527B2 (ja) | 1984-09-21 | 1984-09-21 | 磁区制御処理を施した方向性電磁鋼板およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6175506A true JPS6175506A (ja) | 1986-04-17 |
| JPH0740527B2 JPH0740527B2 (ja) | 1995-05-01 |
Family
ID=16359664
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59196554A Expired - Lifetime JPH0740527B2 (ja) | 1984-09-21 | 1984-09-21 | 磁区制御処理を施した方向性電磁鋼板およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0740527B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005039279A (ja) | 2003-07-17 | 2005-02-10 | Applied Materials Inc | 表面テクスチャ化方法 |
| WO2012014290A1 (ja) | 2010-07-28 | 2012-02-02 | 新日本製鐵株式会社 | 方向性電磁鋼板及びその製造方法 |
| CN105451902A (zh) * | 2013-07-24 | 2016-03-30 | Posco公司 | 取向电工钢板及其制造方法 |
Citations (2)
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| JPS57152423A (en) * | 1982-03-14 | 1982-09-20 | Nippon Steel Corp | Treatment of electromagnetic steel plate |
| JPS60114519A (ja) * | 1983-11-22 | 1985-06-21 | Kawasaki Steel Corp | 鉄損の低い一方向性けい素鋼板の製造方法 |
-
1984
- 1984-09-21 JP JP59196554A patent/JPH0740527B2/ja not_active Expired - Lifetime
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| US8790471B2 (en) | 2010-07-28 | 2014-07-29 | Nippon Steel & Sumitomo Metal Corporation | Grain-oriented electrical steel sheet and manufacturing method thereof |
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