JPH04231415A - 低鉄損一方向性けい素鋼板の製造方法 - Google Patents

低鉄損一方向性けい素鋼板の製造方法

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JPH04231415A
JPH04231415A JP41776090A JP41776090A JPH04231415A JP H04231415 A JPH04231415 A JP H04231415A JP 41776090 A JP41776090 A JP 41776090A JP 41776090 A JP41776090 A JP 41776090A JP H04231415 A JPH04231415 A JP H04231415A
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JP
Japan
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silicon steel
steel sheet
electron beam
grain
irradiation
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JP41776090A
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English (en)
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Masao Iguchi
征夫 井口
Hisashi Nakano
恒 中野
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JFE Steel Corp
Original Assignee
Kawasaki Steel Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【産業上の利用分野】この発明は、特に低鉄損で、歪取
焼鈍によっても特性の劣化が少ない一方向性けい素鋼板
の製造方法に関するものである。 【0002】 【従来の技術】一方向性けい素鋼板は、製品の2次再結
晶粒をゴス方位に高度に集積させると共に、その表面に
フォルステライト質被膜、さらにはその上に熱膨張係数
の小さい絶縁被膜を被成したもので、厳格な制御を必要
とする複雑、多岐にわたる工程を得て製造される。この
ような一方向性けい素鋼板は、主として変圧器、その他
の電気機器の鉄心として使用されていて、磁気特性とし
て製品の磁束密度(B8 値で代表される)が高く、鉄
損(W17/50 値で代表される)が低いこと、さら
には表面性状が良好な絶縁被膜をそなえることが要求さ
れている。とくにエネルギー危機を境にして電力損失の
低減を至上とする要請が殊のほか強まり、変圧器用鉄心
材料として鉄損のより低い一方向性けい素鋼板の必要性
はますます重要なものとなってきている。 【0003】さて一方向性けい素鋼板の鉄損改善の歴史
は、ゴス方位2次再結晶集合組織の改善の歴史であると
いっても過言ではなく、このような2次再結晶粒を制御
する方法として、AlN, MnSおよびMnSe等の
1次再結晶粒成長制御剤、いわゆるインヒビターを用い
てゴス方位2次再結晶粒を優先成長させる方法が実施さ
れていた。また最近に至ってはこのような2次再結晶集
合組織を制御することの他、鋼板表面にレーザー照射{
市山  正:鉄と鋼,69(1983), P.895
 、特公昭57−2252号、同57−53419号、
同58−24605号及び同58−24606号各公報
参照}あるいはプラズマ照射{特開昭62−96617
号、同62−151511号、同62−152516号
及び同62−151517号各公報参照}により局部微
小ひずみを導入して磁区を細分化し、もって鉄損を低下
させる画期的な方法が提案されている。しかしながら、
これらの方法に従って製造した鋼板は、高温域まで加熱
すると微小ひずみが消失するため、高温でのひずみ取り
焼鈍を施す必要がある巻鉄心トランス用の材料としては
使用できないという欠点があった。 【0004】このような高温ひずみ取り焼鈍を施しても
鉄損が劣化しない方法としては、仕上げ焼鈍板の表面に
溝もしくはセレーションを形成する方法(特公昭50−
35679号、特開昭59−28525号及び同59−
197520号各公報参照)とか、仕上げ焼鈍板の表面
に微細結晶粒領域を形成する方法(特開昭56−130
454号公報参照)、フォルステライト質被膜に異厚あ
るいは欠損領域を形成する方法(特開昭60−9247
9号、同60−92480号、同60−92481号及
び同60−258479号各公報参照)、地鉄中、フォ
ルステライト質被膜中または張力絶縁被膜中に異組成領
域を形成する方法(特開昭60−103124号及び同
60−103182号各公報参照)等が知られている。 しかしながらこれらの方法は何れも工程が複雑になるわ
りには鉄損の低減効果が小さく、また製造コストが高い
こともあって、工業的に採用されるまでには至っていな
いのが現状である。 【0005】ところで発明者らは先に、上記の公知発明
とは異なり、一方向性けい素鋼板の絶縁被膜上に圧延方
向に直角方向にエレクトロンビーム(EB)を照射する
ことにより、積鉄心、巻鉄心の両方に使用可能な低鉄損
一方向性けい素鋼板が製造できることを開示した(例え
ば特開昭63−186826号公報参照)。しかし、巻
鉄心トランス用の材料としては、より一層の特性向上が
望まれていた。 【0006】 【発明が解決しようとする課題】この発明は、上記の要
請に応えるもので、EB法を利用して磁気特性のより一
層の向上を図った、歪取り焼鈍によっても特性劣化の少
ない一方向低鉄損性けい素鋼板の製造方法を提案するこ
とを目的とする。 【0007】 【課題を解決するための手段】この発明において、磁区
細分化を行なって低鉄損一方向性けい素鋼板を製造する
手段としてEB法を使用する理由は、EB法は高真空を
利用しなければならないという大きなハンディをそなえ
ているものの、一方で、■ビームを細く絞ることが可能
、■ビームの走査が容易、■ビームの侵入深さが深い、
■ビームのエネルギー効果が良いなど数々の利点をそな
えているからである。また最近のEB技術では、高電圧
・小電流のEBが開発され、絶縁被膜を有する一方向性
けい素鋼板についても高速度で連続的に極めて効率よい
照射が可能になってきたからである。 【0008】さて通常の一方向性けい素鋼板は、図2に
その断面を模式で示したとおり、ゴス方位2次再結晶粒
からなる地鉄1の上にフォルステライト被膜2、さらに
その上に絶縁被膜3がコーティングされている。この絶
縁被膜3は、コーティング、焼付処理の状態では通常ア
モルファスである。 【0009】次に図3に、EB照射による磁区細分化技
術を適用したときの鋼板断面を模式で示す。同図に示し
たとおり、絶縁被膜3上にEB照射(圧延方向に直角方
向)を施し、局部的に微小歪を導入することによって磁
区を細分化し、もって低鉄損化を達成することができる
。 【0010】ところで巻鉄心用材料では、歪取り焼鈍を
施しても磁区細分化効果が消失しないことが不可欠であ
る。そのためにはEBを強く照射して、鋼板の圧入領域
を深くすることが考えられるが、本来絶縁被膜上を照射
しても帯電させることは難しい。そこで表面上に帯電し
易いように、高電圧・小電流のEBのパワー密度を上げ
て(高温の歪取り焼鈍に耐えるために鋼板に圧入領域を
形成させることが不可欠であるため)強く照射すると、
図4に示すように、EB照射位置において鋼板4が曲が
ってしまい、たとえ磁区の細分化が行われたとしても鋼
板の凹凸のため占積率が悪く、巻鉄心用製品として使用
できなくなる。 【0011】この点、上記のような状況をさけるべく絶
縁被膜のごく表層のみを変質させ、EBが帯電し易くな
る処理を施した後に、高電圧・小電流の線状EB照射を
行うと、その照射効果が加速されて絶縁被膜に照射キズ
が導入されて(フォルステライト被膜から地鉄にまで至
る)、磁区細分化が可能となる。 【0012】この発明は、上記のようなEBの帯電を容
易とする処理として、低電圧・大電流で発生させたEB
による予熱が極めて有効であることを見出し、かかる知
見に基づいて完成されたものである。この場合、図4に
示したようなEB照射による凹凸は全く見られず、この
手法の確立によって、占積率の低下を招くことなしに磁
区細分化を可能とした巻鉄心用の製品の製造を現実のも
のとなったのである。とくにこの発明では、高電圧・小
電流のEB照射の前に、絶縁被膜上に広くEB予熱を施
すのみで、絶縁被膜のごく表面層を帯電が容易なように
変質させて、引き続く高電圧・小電流の線状EB照射を
効果的に行なうことができ、もって磁区細分化を行なう
ことができるのである。 【0013】さらにかかる高電圧・小電流の線状EB照
射後、EB照射位置を酸洗あるいは電解エッチングし、
その後さらにコーティング処理を施せば、その磁気特性
の改善効果は一層増強される。 【0014】この発明は、上記の知見に立脚するもので
ある。すなわちこの発明は、仕上げ焼鈍を経て表面にフ
ォルステライト被膜をそなえる方向性けい素鋼板の該フ
ォルステライト被膜上に、りん酸塩とコロイダルシリカ
を主成分とする絶縁被膜を被成したのち、該表面上を低
電圧・大電流で発生させたエレクトロンビームで予熱し
、しかるのち高電圧・小電流で発生させたエレクトロン
ビームを圧延方向を横切る向きに連続または非連続の線
状に照射することからなる低鉄損一方向性けい素鋼板の
製造方法である。 【0015】またこの発明は、高電圧・小電流で発生さ
せたエレクトロンビームを照射した後、エッチング又は
酸洗し、さらに絶縁被膜を被成することからなる低鉄損
一方向性けい素鋼板の製造方法である。 【0016】以下、この発明の基礎となった実験結果に
ついて説明する。絶縁被膜表面を帯電し易くするEBに
よる予熱処理後の表面を、顕微鏡によって観察すると共
に、EPMA (ElectronProbe Mic
ro Analyser) により分析した。顕微鏡に
よる観察結果によれば、低電圧・大電流のEBによる予
熱処理後、高電圧・小電流の線状EBを照射した場合に
は、かようなEB予熱処理を施さなかった場合に比べて
アモルファス状のガラス被膜の凹凸が顕著であった。 【0017】図5(a) に、低電圧・大電流のEBに
よる予熱処理を行った被膜の表面分析結果を、また同図
(b) には上記のようなEB予熱処理を施さない被膜
の分析結果を比較して示すが、EB予熱を施した場合は
、EB予熱を施さなかった場合に比較して、Si, O
が少ない。一方その他のP,Cr, Mg, Fe成分
は、図5(a) および(b) で変化していないこと
から、ごく表層をEB予熱すると帯電し易い状況が生ま
れ、次の高電圧・小電流の線状EB処理において効果的
な磁区細分化が達成される状況が作り出されることが判
る。 【0018】すなわち図1(a), (b)に両者を比
較して断面模式図で示すが、(a) のこの発明に従う
EB予熱処理を行なったときの表層にはSiやO等の帯
電に有害な元素がなくなるため、次の高電圧・小電流の
線状EB照射を細くかつ深く浸入させることが可能とな
り、これによって歪取り焼鈍後の磁区細分化を効果的に
行なうことができるわけである。これに対して従来のE
B予熱処理なしのまま高電圧・小電流の線状EB照射を
行なった場合には、図1(b) に示したとおり、絶縁
被膜表面上での帯電が不充分なことから、照射領域が大
きく、しかも鋼板への浸入領域もなだらかなものとなる
ため、歪取り焼鈍後の磁区細分化効果を有効に発揮する
ことが不可能となる。 【0019】 【作用】以上述べたように、この発明の作用効果は従来
に比較して飛躍的であり、発想においても全くざん新な
ものといえる。このEBの予熱処理は、EBのビームが
鋼板全面にわたりごく表層を走査するのが最適であるこ
とから、X線の発生が少ない加速電圧:5〜50kV、
電流:10〜10000 mAのEBを用いて、鋼板表
面を 100〜1000℃程度になるようにEB走査す
るのがよい。このときのEBビーム径は、10〜150
mm φの大きいビーム径を用いて、10〜500Hz
程度で0.01〜100 秒程度の予熱処理で充分効果
を発揮する。 【0020】さらにこのような予熱処理後、65KV以
上の高電圧でかつ 100〜500 kVの小電流のE
B装置を用いて、鋼板の圧延方向に直角方向に2〜15
mm程度の間隔に連続または非連続の線状にEBを照射
する。その後鋼板表面上に絶縁被膜を被成するが、この
EB照射効果をより確実なものとするためにエッチング
あるいは酸洗処理を施してもよい。 【0021】 【実施例】素材成分(a) C:0.074 %, S
i:3.38%、Mn:0.088 %、Al:0.0
20 %,Se:0.020 %およびMo:0.01
4 %、素材成分(b) C:0.045 %, Si
:3.32%, Mn:0.070 %, Se:0.
019 %, Sb:0.020 %およびMo:0.
012 %を含有する熱延板を、約1000℃の中間焼
鈍を挟んで2回の冷間圧延を施して0.23mm厚の最
終製品板厚とした。 【0022】その後 840℃の湿水素中で脱炭・1次
再結晶焼鈍を施して、鋼板表面上にMgO を主成分と
する焼鈍分離剤を塗布し、鋼種(a)については、 8
50℃から10℃/hで1100℃まで昇温、鋼種(b
) は 850℃で50h の2次再結晶焼鈍を施して
ゴス方位2次再結晶粒を発達させ後、1200℃の乾H
2中で純化処理を行なった。ついで、鋼板表面上にりん
酸塩とコロイダルシリカを主成分とする絶縁被膜を被成
した。 【0023】その後のEB照射は図6に示す連続処理設
備を用い、以下の条件で実施した後、800 ℃, 2
時間の歪取り焼鈍を行った。同図中、番号5はリール、
6は入側差圧室、7はEB予熱室、8はEB照射室、9
は出側差圧室、10はエッチング室、11はコーティン
グ室、12は焼付け室、13はコイル巻取り機である。 (1) 加速電圧:250 kV、電流:1.0 mA
、ドット間隔:150 μm 、間隔:7mmのEB照
射(片面照射)。 (2) EB予熱(15kV, 30mA, 50Hz
, 5秒間)処理を行なった後、加速電圧:250 k
V、電流:1.0 mA、ドット間隔:150 μm 
、間隔:7mmのEB照射(片面照射)。 【0024】得られた製品の磁気特性について調べた結
果を表1にまとめて示す。 【0025】       【0026】 【発明の効果】かくしてこの発明によれば、鉄損特性に
優れ、しかもこの特性がひずみ取り焼鈍によっても劣化
することのない一方向性けい素鋼板を安定して製造する
ことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】EB予熱処理の有無による、磁区細分化EB照
射後の一方向性けい素鋼板の断面構造の違いをを示す模
式図である。
【図2】通常の一方向性けい素鋼板の断面図である。
【図3】EB照射による磁区細分化技術を適用したとき
の一方向性けい素鋼板の断面図である。
【図4】高電圧・小電流のEBのパワー密度を上げて強
く照射したときの一方向性けい素鋼板の断面図である。
【図5】絶縁被膜表面をEB予熱した場合としない場合
で比較して示した表面分析結果を示したグラフである。
【図6】EB照射に用いて好適な連続処理設備の模式図
である。 1  地鉄 2  フォルステライト被膜 3  絶縁被膜 4  鋼板 5  リール 6  入側差圧室 7  EB予熱室 8  EB照射室 9  出側差圧室 10  エッチング室 11  コーティング室 12  焼付け室 13  コイル巻取り機

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  仕上げ焼鈍を経て表面にフォルステラ
    イト被膜をそなえる方向性けい素鋼板の該フォルステラ
    イト被膜上に、りん酸塩とコロイダルシリカを主成分と
    する絶縁被膜を被成したのち、該表面上を低電圧・大電
    流で発生させたエレクトロンビームで予熱し、しかるの
    ち高電圧・小電流で発生させたエレクトロンビームを圧
    延方向を横切る向きに連続または非連続の線状に照射す
    ることを特徴とする低鉄損一方向性けい素鋼板の製造方
    法。
  2. 【請求項2】  請求項1において、高電圧・小電流で
    発生させたエレクトロンビームを照射した後、エッチン
    グ又は酸洗し、さらに絶縁被膜を被成することを特徴と
    する低鉄損一方向性けい素鋼板の製造方法。
JP41776090A 1990-12-27 1990-12-27 低鉄損一方向性けい素鋼板の製造方法 Pending JPH04231415A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012035302A (ja) * 2010-08-06 2012-02-23 Jfe Steel Corp 電子ビーム照射装置
JP2012126995A (ja) * 2010-11-26 2012-07-05 Jfe Steel Corp 方向性電磁鋼板の製造方法
JP2014019901A (ja) * 2012-07-18 2014-02-03 Jfe Steel Corp 方向性電磁鋼板の製造方法および方向性電磁鋼板

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