JP3393218B2 - 低鉄損一方向性電磁鋼板の製造方法 - Google Patents
低鉄損一方向性電磁鋼板の製造方法Info
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- JP3393218B2 JP3393218B2 JP20235195A JP20235195A JP3393218B2 JP 3393218 B2 JP3393218 B2 JP 3393218B2 JP 20235195 A JP20235195 A JP 20235195A JP 20235195 A JP20235195 A JP 20235195A JP 3393218 B2 JP3393218 B2 JP 3393218B2
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、人為的に磁区制御
を施した方向性電磁鋼板に関するもので、特に歪取り焼
鈍を行っても磁気特性の劣化しない低鉄損一方向性電磁
鋼板の製造方法に関するものである。
を施した方向性電磁鋼板に関するもので、特に歪取り焼
鈍を行っても磁気特性の劣化しない低鉄損一方向性電磁
鋼板の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】方向性電磁鋼板において、近年エネルギ
ー節約の観点から鉄損を低減することが要望されてい
る。鉄損を低減する方法としては高磁束密度化、二次再
結晶粒の小粒化等の冶金的方法の他に、物理的方法とし
てレーザー照射やプラズマ炎照射等による磁区細分化技
術が提案されている（特公昭５７−２２５２号公報、特
開昭５９−２５９２８号公報）。該方法による鉄損の低
減は照射光により導入された歪に起因している。従っ
て、歪取り焼鈍を必要としない積鉄心トランス用として
は使用できるが、歪取り焼鈍を必要とする巻鉄心トラン
ス用としては使用できない。
ー節約の観点から鉄損を低減することが要望されてい
る。鉄損を低減する方法としては高磁束密度化、二次再
結晶粒の小粒化等の冶金的方法の他に、物理的方法とし
てレーザー照射やプラズマ炎照射等による磁区細分化技
術が提案されている（特公昭５７−２２５２号公報、特
開昭５９−２５９２８号公報）。該方法による鉄損の低
減は照射光により導入された歪に起因している。従っ
て、歪取り焼鈍を必要としない積鉄心トランス用として
は使用できるが、歪取り焼鈍を必要とする巻鉄心トラン
ス用としては使用できない。
【０００３】この様な問題点を解決し、積み、巻両トラ
ンスに使用できる製造方法として、製品の表面に歯型ロ
ールにより溝を形成する例えば特開昭６１−１１７２１
８号公報、最終冷延板にエッチングにより溝を形成する
例えば特公平３−６９９６８号公報、或いは冷延板にレ
ーザーにより点列又は線状の溝を形成する例えば特開昭
６１−７５５０６号公報等が提案されている。しかしこ
れらの方法も、鋼板の形状不良や穿孔部のバリの生成或
いはコスト上昇等の問題を抱えており、今後の改善が待
たれるところである。
ンスに使用できる製造方法として、製品の表面に歯型ロ
ールにより溝を形成する例えば特開昭６１−１１７２１
８号公報、最終冷延板にエッチングにより溝を形成する
例えば特公平３−６９９６８号公報、或いは冷延板にレ
ーザーにより点列又は線状の溝を形成する例えば特開昭
６１−７５５０６号公報等が提案されている。しかしこ
れらの方法も、鋼板の形状不良や穿孔部のバリの生成或
いはコスト上昇等の問題を抱えており、今後の改善が待
たれるところである。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、鋼板の形状
を損なわず、歪取り焼鈍をしても磁区細分化効果を消失
しない低鉄損一方向性電磁鋼板の製造方法を提案すもの
である。
を損なわず、歪取り焼鈍をしても磁区細分化効果を消失
しない低鉄損一方向性電磁鋼板の製造方法を提案すもの
である。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明の要旨は以下の
（１）〜（４）の通りである。 （１） 通常の工程で製造される方向性電磁鋼板におい
て、その最終冷延の途中板厚段階で、鋼板表面に圧延方
向に対し９０°から４５°の範囲で幅が１０〜５００μ
ｍ、深さが板厚ｔ×１／８〜ｔ×１／３０、間隔が圧延
方向に１〜２０mmの溝を点状或いは線状に形成した後、
最終板厚まで圧延することを特徴とする低鉄損一方向性
電磁鋼板の製造方法。
（１）〜（４）の通りである。 （１） 通常の工程で製造される方向性電磁鋼板におい
て、その最終冷延の途中板厚段階で、鋼板表面に圧延方
向に対し９０°から４５°の範囲で幅が１０〜５００μ
ｍ、深さが板厚ｔ×１／８〜ｔ×１／３０、間隔が圧延
方向に１〜２０mmの溝を点状或いは線状に形成した後、
最終板厚まで圧延することを特徴とする低鉄損一方向性
電磁鋼板の製造方法。
【０００６】（２） 重量比で、Ｓｉ：２．５〜４．０
％、Ｃ：０．０８５％以下、酸可溶性Ａｌ：０．０１０
〜０．０４０％、を含む珪素鋼熱延板を９５０〜１２０
０℃で焼鈍後急冷し、最終冷延率８０％以上で製品板厚
とし、脱炭焼鈍をし、仕上げ焼鈍をする一連の一方向性
電磁鋼板の製造において、その最終冷延の途中板厚段階
で、鋼板表面に圧延方向に対し９０°から４５°の範囲
で幅が１０〜５００μｍ、深さが板厚ｔ×１／８〜ｔ×
１／３０、間隔が圧延方向に１〜２０mmの溝を点状或い
は線状に形成した後、最終板厚まで圧延することを特徴
とする低鉄損一方向性電磁鋼板の製造方法。
％、Ｃ：０．０８５％以下、酸可溶性Ａｌ：０．０１０
〜０．０４０％、を含む珪素鋼熱延板を９５０〜１２０
０℃で焼鈍後急冷し、最終冷延率８０％以上で製品板厚
とし、脱炭焼鈍をし、仕上げ焼鈍をする一連の一方向性
電磁鋼板の製造において、その最終冷延の途中板厚段階
で、鋼板表面に圧延方向に対し９０°から４５°の範囲
で幅が１０〜５００μｍ、深さが板厚ｔ×１／８〜ｔ×
１／３０、間隔が圧延方向に１〜２０mmの溝を点状或い
は線状に形成した後、最終板厚まで圧延することを特徴
とする低鉄損一方向性電磁鋼板の製造方法。
【０００７】（３） 重量比で、Ｓｉ：２．５〜４．０
％、Ｃ：０．０８５％以下、酸可溶性Ａｌ：０．０１０
〜０．０４０％、を含む珪素鋼熱延板を公知の方法で焼
鈍した後急冷し、最終冷延率８０％以上で製品板厚と
し、脱炭焼鈍をし、窒化処理をし、仕上げ焼鈍をする一
連の一方向性電磁鋼板製造において、その最終冷延の途
中板厚段階で、鋼板表面に圧延方向に対し９０°から４
５°の範囲で幅が１０〜５００μｍ、深さが板厚ｔ×１
／８〜ｔ×１／３０、間隔が圧延方向に１〜２０mmの溝
を点状或いは線状に形成した後、最終板厚まで圧延する
ことを特徴とする低鉄損一方向性電磁鋼板の製造方法。 （４） レーザー光或いはプラズマ炎を照射して穿孔す
る（１）、（２）又は（３）のいずれかに記載の低鉄損
一方向性電磁鋼板の製造方法。
％、Ｃ：０．０８５％以下、酸可溶性Ａｌ：０．０１０
〜０．０４０％、を含む珪素鋼熱延板を公知の方法で焼
鈍した後急冷し、最終冷延率８０％以上で製品板厚と
し、脱炭焼鈍をし、窒化処理をし、仕上げ焼鈍をする一
連の一方向性電磁鋼板製造において、その最終冷延の途
中板厚段階で、鋼板表面に圧延方向に対し９０°から４
５°の範囲で幅が１０〜５００μｍ、深さが板厚ｔ×１
／８〜ｔ×１／３０、間隔が圧延方向に１〜２０mmの溝
を点状或いは線状に形成した後、最終板厚まで圧延する
ことを特徴とする低鉄損一方向性電磁鋼板の製造方法。 （４） レーザー光或いはプラズマ炎を照射して穿孔す
る（１）、（２）又は（３）のいずれかに記載の低鉄損
一方向性電磁鋼板の製造方法。
【０００８】以下、本発明を実験に基づいて説明する。
重量比で、Ｃ：０．０５３％、Ｓｉ：３．２５％、Ｍ
ｎ：０．１０％、Ｐ：０．０２５％、Ｓ：０．００７
％、酸可溶性Ａｌ：０．０２８％、Ｓｎ：０．０５％、
Ｃｒ：０．１２％、Ｎ：０．００７８％を含む電磁鋼熱
延鋼板を１１２０℃＋９００℃で焼鈍した後急冷し、酸
洗し冷延を行った。この冷延の板厚途中段階においてレ
ーザー光により深さを変えて穿孔した。穿孔は直径ほぼ
８０μｍ、間隔１００μｍ、の点列とし、点列の方向は
圧延方向に対して７０°とし、点列のピッチは４mmとし
た（表１）。
重量比で、Ｃ：０．０５３％、Ｓｉ：３．２５％、Ｍ
ｎ：０．１０％、Ｐ：０．０２５％、Ｓ：０．００７
％、酸可溶性Ａｌ：０．０２８％、Ｓｎ：０．０５％、
Ｃｒ：０．１２％、Ｎ：０．００７８％を含む電磁鋼熱
延鋼板を１１２０℃＋９００℃で焼鈍した後急冷し、酸
洗し冷延を行った。この冷延の板厚途中段階においてレ
ーザー光により深さを変えて穿孔した。穿孔は直径ほぼ
８０μｍ、間隔１００μｍ、の点列とし、点列の方向は
圧延方向に対して７０°とし、点列のピッチは４mmとし
た（表１）。
【０００９】
【表１】
【００１０】この後最終板厚０．２３mmまで冷延して仕
上げた。この後油洗し脱炭焼鈍を８３０℃×９０秒、Ｈ
2 ：７５％、Ｎ2 ：２５％、露点６５％中で行った。次
いで窒化処理を７５０℃×３０秒；Ｈ2 、Ｎ2 、アンモ
ニアの混合ガス中で行い、鋼板の窒素量を２００ppm に
調整し、ＭｇＯとＴｉＯ2 を主成分とした焼鈍分離剤を
塗布し、１２００℃×２０時間の仕上げ焼鈍を行った。
この後無水クロム酸、燐酸アルミニウムを主成分とする
張力コーティングを施した。磁気特性を図１に示す。こ
の図から、穿孔深さ１０〜３７μｍの範囲で鉄損低減効
果が認められる。これはレーザー照射時の板厚の１／３
０〜１／８である。
上げた。この後油洗し脱炭焼鈍を８３０℃×９０秒、Ｈ
2 ：７５％、Ｎ2 ：２５％、露点６５％中で行った。次
いで窒化処理を７５０℃×３０秒；Ｈ2 、Ｎ2 、アンモ
ニアの混合ガス中で行い、鋼板の窒素量を２００ppm に
調整し、ＭｇＯとＴｉＯ2 を主成分とした焼鈍分離剤を
塗布し、１２００℃×２０時間の仕上げ焼鈍を行った。
この後無水クロム酸、燐酸アルミニウムを主成分とする
張力コーティングを施した。磁気特性を図１に示す。こ
の図から、穿孔深さ１０〜３７μｍの範囲で鉄損低減効
果が認められる。これはレーザー照射時の板厚の１／３
０〜１／８である。
【００１１】本発明において、出発材料の成分組成の限
定理由は以下の通りである。Ｓｉは、低鉄損を得る上で
多い方が好ましいが、Ｓｉの含有量が４．０％を超えて
多くなりすぎると材料の冷間圧延時に、割れ、破断が多
発し、安定した冷間圧延作業を不可能にする。Ｃは、
０．０８５％を超えて多くなりすぎると、脱炭焼鈍時間
が長大なものとなり、生産性を損なう。Ａｌは窒素と結
合してＡｌＮを形成し、本発明の主インヒビターとなる
ものである。この範囲は酸可溶性ＡｌとしてＯ．０１０
〜０．０４０％とする。
定理由は以下の通りである。Ｓｉは、低鉄損を得る上で
多い方が好ましいが、Ｓｉの含有量が４．０％を超えて
多くなりすぎると材料の冷間圧延時に、割れ、破断が多
発し、安定した冷間圧延作業を不可能にする。Ｃは、
０．０８５％を超えて多くなりすぎると、脱炭焼鈍時間
が長大なものとなり、生産性を損なう。Ａｌは窒素と結
合してＡｌＮを形成し、本発明の主インヒビターとなる
ものである。この範囲は酸可溶性ＡｌとしてＯ．０１０
〜０．０４０％とする。
【００１２】熱延板焼鈍は９５０℃〜１２００℃の公知
の方法で行う。公知の２段均熱法を用いてもよい。冷間
圧延率は高磁束密度を得る上から８０％以上必要であ
る。次に、本発明の特徴である冷延板の穿孔条件につい
て述べる。穿孔処理は最終板厚の前段階で行う。穿孔
（溝）の幅は１０〜５００μｍとする。５００μｍを超
すと磁束密度の劣化が大きくなり、鉄損低減効果が認め
られない。一方、１０μｍより狭くすることは非常に難
しい。
の方法で行う。公知の２段均熱法を用いてもよい。冷間
圧延率は高磁束密度を得る上から８０％以上必要であ
る。次に、本発明の特徴である冷延板の穿孔条件につい
て述べる。穿孔処理は最終板厚の前段階で行う。穿孔
（溝）の幅は１０〜５００μｍとする。５００μｍを超
すと磁束密度の劣化が大きくなり、鉄損低減効果が認め
られない。一方、１０μｍより狭くすることは非常に難
しい。
【００１３】溝の方向は圧延方向に対して９０°〜４５
°とする。４５°より小さくなると、磁区細分化効果が
弱くなり鉄損低減が小さい。溝の間隔は１〜２０mmとす
る。１mm未満は工業的に難しく、一方、２０mmを超える
と鉄損低減が小さくなる。点状の穿孔の場合、穿孔の間
隔は特に拘らないが、磁区は幅の最も広いもので２mm程
度であることから、これを超すことは好ましくない。溝
深さは溝形成時の板厚の１／３０〜１／８の範囲が良
い。１／３０より浅いと鉄損低減が弱く、１／８より深
いと磁束密度の劣化を招き鉄損特性も悪くなる。
°とする。４５°より小さくなると、磁区細分化効果が
弱くなり鉄損低減が小さい。溝の間隔は１〜２０mmとす
る。１mm未満は工業的に難しく、一方、２０mmを超える
と鉄損低減が小さくなる。点状の穿孔の場合、穿孔の間
隔は特に拘らないが、磁区は幅の最も広いもので２mm程
度であることから、これを超すことは好ましくない。溝
深さは溝形成時の板厚の１／３０〜１／８の範囲が良
い。１／３０より浅いと鉄損低減が弱く、１／８より深
いと磁束密度の劣化を招き鉄損特性も悪くなる。
【００１４】この溝形成にはレーザー光或いはプラズマ
炎を用いると効果的であるが、この他高圧水を用いても
良い。この後製品板厚まで圧延する。この圧延は溝形成
時に生じた形状不良やバリを除去すると同時に、熱影響
部の組織を改善し、磁区制御効果に加えてＧｏｓｓ組織
の発達を製品板厚に照射した場合に比較して更に促進す
る効果がある。この理由は定かではないが、熱影響部の
組織が圧延により歪導入され、その歪量がＧｏｓｓ組織
の発達に適した状態になっているためと推察している。
炎を用いると効果的であるが、この他高圧水を用いても
良い。この後製品板厚まで圧延する。この圧延は溝形成
時に生じた形状不良やバリを除去すると同時に、熱影響
部の組織を改善し、磁区制御効果に加えてＧｏｓｓ組織
の発達を製品板厚に照射した場合に比較して更に促進す
る効果がある。この理由は定かではないが、熱影響部の
組織が圧延により歪導入され、その歪量がＧｏｓｓ組織
の発達に適した状態になっているためと推察している。
【００１５】脱炭焼鈍は公知の方法で行う。スラブ加熱
温度が１２８０℃以下で製造する、例えば特開昭６１−
６０８９６号公報の方法で行う場合は、脱炭焼鈍後に窒
化処理を行う。これは、例えば特開平２−７７５２５号
公報に示されるような、水素、窒素、アンモニアの混合
ガス中でストリップを走行して行う。１３００℃以上の
高温スラブ加熱で製造される公知の製造方法には窒化す
る必要はない。次いで、公知の方法で焼鈍分離剤を塗布
し、仕上げ焼鈍を行う。
温度が１２８０℃以下で製造する、例えば特開昭６１−
６０８９６号公報の方法で行う場合は、脱炭焼鈍後に窒
化処理を行う。これは、例えば特開平２−７７５２５号
公報に示されるような、水素、窒素、アンモニアの混合
ガス中でストリップを走行して行う。１３００℃以上の
高温スラブ加熱で製造される公知の製造方法には窒化す
る必要はない。次いで、公知の方法で焼鈍分離剤を塗布
し、仕上げ焼鈍を行う。
【００１６】
［実施例１］Ｃ：０．０８０％、Ｓｉ：３．２５％、Ｍ
ｎ：０．０７５％、Ｓ：０．０２５％、酸可溶性Ａｌ：
０．０２７％、Ｎ：０．００７８％、Ｓｎ：０．１２
％、Ｃｕ：０．０７％を含む熱延板を１１２０℃×３分
焼鈍した後８０℃のお湯に投入し冷却した。この後、酸
洗し０．３５mmまで冷延した。この冷延板にレーザー光
で圧延方向に直角に点列の穿孔処理を点列のピッチ５m
m、穿孔間隔５０μｍ、深さを表２のように変えて行っ
た。
ｎ：０．０７５％、Ｓ：０．０２５％、酸可溶性Ａｌ：
０．０２７％、Ｎ：０．００７８％、Ｓｎ：０．１２
％、Ｃｕ：０．０７％を含む熱延板を１１２０℃×３分
焼鈍した後８０℃のお湯に投入し冷却した。この後、酸
洗し０．３５mmまで冷延した。この冷延板にレーザー光
で圧延方向に直角に点列の穿孔処理を点列のピッチ５m
m、穿孔間隔５０μｍ、深さを表２のように変えて行っ
た。
【００１７】
【表２】
【００１８】この後０．２７mmまで冷延して製品板厚に
仕上げた。次いで、油洗し脱炭焼鈍を８５０℃×１２０
秒で湿水素、窒素雰囲気中で行った。次いで、ＭｇＯ、
ＴｉＯ2 を主成分とする焼鈍分離剤を塗布し、１２００
℃、２０時間の仕上げ焼鈍を行った。この後水洗し、無
水クロム酸、燐酸アルミニウムを主成分とする張力コー
ティングを施した後、磁気測定を行った。結果を表３に
示す。本発明の範囲で低鉄損が得られている。
仕上げた。次いで、油洗し脱炭焼鈍を８５０℃×１２０
秒で湿水素、窒素雰囲気中で行った。次いで、ＭｇＯ、
ＴｉＯ2 を主成分とする焼鈍分離剤を塗布し、１２００
℃、２０時間の仕上げ焼鈍を行った。この後水洗し、無
水クロム酸、燐酸アルミニウムを主成分とする張力コー
ティングを施した後、磁気測定を行った。結果を表３に
示す。本発明の範囲で低鉄損が得られている。
【００１９】
【表３】
【００２０】［実施例２］Ｃ：０．０５５％、Ｓｉ：
３．３０％、Ｍｎ：０．１０％、Ｐ：０．０２５％、
Ｓ：０．００８％、酸可溶性Ａｌ：０．０２７％、Ｓ
ｎ：０．０５％、Ｃｒ：０．１２％、Ｎ：０．００７６
％を含む熱延板を１１２０℃＋９００℃で焼鈍した後酸
洗し、次のような冷延板を造り、レーザー光により点状
の穿孔を圧延方向と９０°方向に５mm間隔で照射した
（表４）。
３．３０％、Ｍｎ：０．１０％、Ｐ：０．０２５％、
Ｓ：０．００８％、酸可溶性Ａｌ：０．０２７％、Ｓ
ｎ：０．０５％、Ｃｒ：０．１２％、Ｎ：０．００７６
％を含む熱延板を１１２０℃＋９００℃で焼鈍した後酸
洗し、次のような冷延板を造り、レーザー光により点状
の穿孔を圧延方向と９０°方向に５mm間隔で照射した
（表４）。
【００２１】
【表４】
【００２２】この後、条件のものは追加圧延をして、
０．２６mmに仕上げた。両方の材料はこの後８３０℃×
１２０秒の脱炭焼鈍を湿水素、窒素ガス雰囲気中で行っ
た。この後、窒化処理を７５０℃×３０秒、水素、窒
素、アンモニア混合ガス中で行い、鋼板の窒素量を２０
０ppm に調整した。次いで、ＭｇＯとＴｉＯ2 を主成分
とする焼鈍分離剤を塗布した後、１２００℃×２０時間
の仕上げ焼鈍を行った。この後、燐酸アルミニウム、無
水クロム酸を主成分とする張力コーティングを施した。
磁気特性と鋼板穿孔部の形状の状態を表５及び図２に示
す。図２（ａ）は試料に、図２（ｂ）は試料にそれ
ぞれ対応する鋼板形状（断面図）である。本発明の方法
は、磁気特性、鋼板形状とも優れている。
０．２６mmに仕上げた。両方の材料はこの後８３０℃×
１２０秒の脱炭焼鈍を湿水素、窒素ガス雰囲気中で行っ
た。この後、窒化処理を７５０℃×３０秒、水素、窒
素、アンモニア混合ガス中で行い、鋼板の窒素量を２０
０ppm に調整した。次いで、ＭｇＯとＴｉＯ2 を主成分
とする焼鈍分離剤を塗布した後、１２００℃×２０時間
の仕上げ焼鈍を行った。この後、燐酸アルミニウム、無
水クロム酸を主成分とする張力コーティングを施した。
磁気特性と鋼板穿孔部の形状の状態を表５及び図２に示
す。図２（ａ）は試料に、図２（ｂ）は試料にそれ
ぞれ対応する鋼板形状（断面図）である。本発明の方法
は、磁気特性、鋼板形状とも優れている。
【００２３】
【表５】
【００２４】
【発明の効果】本発明により、鉄損と形状の両方とも良
好な一方向性電磁鋼板が得られる。
好な一方向性電磁鋼板が得られる。
【図１】穿孔深さと鉄損の関係を示す図表である。
【図２】（ａ）、（ｂ）は鋼板断面を示す模式図であ
る。
る。
１：地鉄
２：レーザー照射部
３：フォルステライト＋コーティング
４：板表面
５：バリ
フロントページの続き
(72)発明者 熊野 知二
北九州市戸畑区飛幡町１番１号 新日本
製鐵株式会社 八幡製鐵所内
(72)発明者 岩永 功
北九州市戸畑区飛幡町１番１号 新日本
製鐵株式会社 八幡製鐵所内
(72)発明者 黒木 克郎
北九州市戸畑区大字中原46−59 日鐵プ
ラント設計株式会社内
(56)参考文献 特開 平７−138648（ＪＰ，Ａ)
特開 平６−220542（ＪＰ，Ａ)
特開 平５−320767（ＪＰ，Ａ)
特開 平５−222489（ＪＰ，Ａ)
特開 平５−202450（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
C21D 8/12
H01F 1/16
Claims (4)
- 【請求項１】 方向性電磁鋼板を製造するに際し、その
最終冷延の途中板厚段階で、鋼板表面に圧延方向に対し
９０°から４５°の範囲で幅が１０〜５００μｍ、深さ
が板厚ｔ×１／８〜ｔ×１／３０、間隔が圧延方向に１
〜２０mmの溝を点状或いは線状に形成した後、最終板厚
まで圧延することを特徴とする低鉄損一方向性電磁鋼板
の製造方法。 - 【請求項２】 重量比で、 Ｓｉ：２．５〜４．０％、 Ｃ ：０．０８５％以下、 酸可溶性Ａｌ：０．０１０〜０．０４０％、を含む珪素
鋼熱延板を９５０〜１２００℃で焼鈍後急冷し、最終冷
延率８０％以上で製品板厚とし、脱炭焼鈍をし、仕上げ
焼鈍をする一方向性電磁鋼板の製造において、その最終
冷延の途中板厚段階で、鋼板表面に圧延方向に対し９０
°から４５°の範囲で幅が１０〜５００μｍ、深さが板
厚ｔ×１／８〜ｔ×１／３０、間隔が圧延方向に１〜２
０mmの溝を点状或いは線状に形成した後、最終板厚まで
圧延することを特徴とする低鉄損一方向性電磁鋼板の製
造方法。 - 【請求項３】 重量比で、 Ｓｉ：２．５〜４．０％、 Ｃ ：０．０８５％以下、 酸可溶性Ａｌ：０．０１０〜０．０４０％、を含む珪素
鋼熱延板を公知の方法で焼鈍した後急冷し、最終冷延率
８０％以上で製品板厚とし、脱炭焼鈍をし、窒化処理を
し、仕上げ焼鈍をする一方向性電磁鋼板製造において、
その最終冷延の途中板厚段階で、鋼板表面に圧延方向に
対し９０°から４５°の範囲で幅が１０〜５００μｍ、
深さが板厚ｔ×１／８〜ｔ×１／３０、間隔が圧延方向
に１〜２０mmの溝を点状或いは線状に形成した後、最終
板厚まで圧延することを特徴とする低鉄損一方向性電磁
鋼板の製造方法。 - 【請求項４】 レーザー光或いはプラズマ炎を照射して
穿孔する請求項１、２又は３のいずれかに記載の低鉄損
一方向性電磁鋼板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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