JPH0379722A - 磁気特性の優れた一方向性珪素鋼板の製造方法 - Google Patents

磁気特性の優れた一方向性珪素鋼板の製造方法

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JPH0379722A
JPH0379722A JP21304389A JP21304389A JPH0379722A JP H0379722 A JPH0379722 A JP H0379722A JP 21304389 A JP21304389 A JP 21304389A JP 21304389 A JP21304389 A JP 21304389A JP H0379722 A JPH0379722 A JP H0379722A
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JP
Japan
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steel sheet
annealing
silicon steel
recrystallization annealing
laser beam
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Pending
Application number
JP21304389A
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English (en)
Inventor
Masatoshi Shinozaki
正利 篠崎
Keiji Nishimura
西村 恵次
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JFE Steel Corp
Original Assignee
Kawasaki Steel Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 く産業上の利用分野〉 本発明は磁気特性の優れた一方向性珪素鋼板の製造方法
に係り、特にゴス方位の2次再結晶粒を優先的に生長せ
しめて磁束密度を高くし、ひいては鉄tRを低くする方
法に関するものである。
〈従来の技術〉 一方向性珪素鋼板は変圧器などの鉄心として使われてお
り、磁束密度が高く、鉄損の低いものが要求されている
このためには2次再結晶粒の<OOH軸を圧延方向に揃
える必要があるが、その手段としてMnSやMnSeな
どの微細析出物に加えて、Sb(特公昭51−1346
9号公fly)、又はAs, Si, PbあるいはS
n(特公昭54−32412号公報)、又は少量のMo
 (特公昭57− L4131号公報)などをf:、J
JIIする方法がとられてきている。
そして最近では、このような成分元素の調整とともに、
熱間圧延と冷間圧延などの条件を適切に組み合わせるこ
とによって、磁束密度B1.値が1.907を超える高
磁束密度を有し、かつ鉄損W、7.。値が1.05w/
kg以下の一方向性珪素鋼板が製造されるようになって
きている。
しかしながら、そのような最近の一方向性珪素鋼板にお
いても、B1.値が1.957を超え、しかもW l 
ff/SI値が板厚0.24mmにおいて0.70w/
kg以下のものを製造することは容易ではなかった。
その理由として、上記特性を得るための最適な工程条件
範囲が非常に狭く、調帯の全領域で良好な特性を得るこ
とが困難であること、また、2次再結晶粒の方向性を揃
えるためには高い冷間圧延率とすることが必要であるが
、そのために2次再結晶核が生成しにくく、2次再結晶
が十分に起こらず、一部にゴス方位以外の1次再結晶粒
が正常粒に成長してしまったり、異常に大きい2次再結
晶粒が生成したりすることがあげられる。
〈発明が解決しようとする課題〉 本発明の目的は、従来水型を超える磁気特性を有する一
方向性珪素鋼板の製造方法を提供することである。
〈課題を解決するための手段〉 本発明は、Slを含む鋼スラブを熱間圧延後、1回又は
中間焼鈍を挟む2回以上の冷間圧延を施し、次いで脱炭
を兼ねた1次再結晶焼鈍に引き続き、2次再結晶焼鈍及
び純化焼鈍を施す一連の工程よりなる一方向性珪素鋼板
の製造方法において、1次再結晶焼鈍を施した後に、レ
ーザービームを照射し、2次再結晶焼鈍の前に予め2次
再結晶の核となりうる粗大粒を生成させることを特徴と
する特許 あり、望ましくは優れた一方向性珪素さらに鋼板表面の
酸化物を除去し、次いで平均粗さ(Ra)  0.4μ
以下の鏡面に研磨仕上げし、その上に蒸着法によって金
属の窒化物、炭化物、酸化物のうち、少なくとも1種以
上の極薄被膜を生成せしめたものである。
く作 用〉 本発明は、レーザービームを1次再結晶板の表面に照射
し、その熱により2次再結晶焼鈍の前に基地の結晶より
大きい結晶を予め生成させておき、それらが2次再結晶
の核となるようにしたものであり、従来の製造工程にレ
ーザービームを照射する工程を付加することによって、
2次再結晶組織の形成を半ば意図的に制でnできるよう
にしたものである。
従って、本発明が対象とする珪素鋼の化学組成はSiを
含有し、インヒビターとしてMnS, MnSe+Sb
, /VNなどを含む従来の一方向性珪素鋼板でよく、
また、熱間圧延,冷間圧延,1次再結晶焼鈍。
2次再結晶焼鈍などの工程条件も従来とられているもの
でよい.ただし、従来の化学組成と製造工程を採用する
場合、磁気特性が高いもの程好ましく、特にBlo4f
lが1.90T程度得られているのものが適している。
さらに、冷間圧延率に関しては、従来では2次再結晶が
起こらないほどの高圧延率は採用できなかったが、本発
明ではレーザービーム類!・tにより、2次再結晶核を
容易に生成せしめることができるので、特に最近のよう
に鉄損低減のためできるだけ薄いゲージの一方向性珪素
鋼板が要求される場合は好都合である。
レーザービーム照射の作用するところは1次再結晶粒の
中に比較的大きい結晶粒を意図して作り、それを2次再
結晶粒の核とするところにある.そのためにはレーザー
ビームの照射によって1次再結晶板の表面層を粒成長が
起き得る温度以上で、かつ融点未満にしなければならな
い。
レーザービーム照射の方法としては特に制限はなく、鋼
板全面に照射をしてもよいが、2次再結晶粒径を制1n
するためにある程度ビッヂをあけながら部分的に照射し
てもよい.また、ビームは連続であってもよいが、必ず
しも連続である必要はなく、断続的に照射して全体的に
格子状にすることでもよい.ビームの径も任意でよいが
、照射によってlケ以上の粗大1次再結晶粒が得られる
大きさである必要がある。
レーザービームを照射された部分の鋼板表面は他の部分
より温度が上界して1次再結晶粒が戒長する、そのとき
ゴス方位(1101<001>のみの1次再結晶粒を成
長させることが望ましいが、現実には種々の方位のもの
が成長する。しかし、本発明者は、続く2次再結晶焼鈍
後に残っているのはゴス方位のものだけであることを知
見した。
この理由はおそらく基地の粒の結晶主方位が(111)
  NINであるためゴス方位に近い粒のみ選択的に成
長するのであろうと推測される。
また、レーザービームを照射すればなぜ磁束密度が高く
なるのかということについては明確な理由付けはまだで
きていないが、通常の方法で2次再結晶をさせた個々の
結晶粒の方位を測定してみると一般に粒径の小さいもの
の方が方位の揃い方が悪いということを経験することか
ら、このような小さい2次再結晶粒が本発明の方法では
含まれないためであろう。
本発明ではこのようにレーザー処理された方法で製造さ
れた鋼板を、さらに鏡面研磨仕上げし、金属の窒化物等
の薄膜を被覆することにより、より低い鉄mを得ること
ができる。その理由は従来から知られているように磁区
の微細化によるものである。磁区の微細化のためには、
平均粗さRaで0.4n以下の鏡面に研磨仕上げするこ
とが好ましく、また極″”i!i被膜としてはTL N
b+ SL  V等の金属の窒化物、炭化物及び酸化物
の1種以上が利用できる。
以下、実施例により本発明をより詳細に説明する。
〈実施例〉 実施例I C: 0.035%、 St ? 3.30%、 Mn
 : 0.06%、Se:0.025%、 #!  0
.031%、  N : 0.0068%を含むスラブ
を熱間圧延し、2.5閤厚の熱延板とした。
次に、この熱延板を1回冷延法によって0.24mの最
終厚にしく冷間圧延率9084%)、脱炭焼鈍後にレー
ザービームを格子状に照射した。照射間隔は5.0閣と
し、ビーム径は約120nとした。出力は200Wとし
、照射時間は1点当たり2〜3×10−へ3であった・ 次に、この照射板を11□中で1180℃X5hのボッ
クス焼鈍を行い、2次再結晶と純化を完了させた。
実施例2 実施例1”i?得られた最終焼鈍仮に研磨を施し、Ra
で0.1−以下に仕上げたのち、400℃に保った上に
イオンブレーティングにより膜厚1nのTiNを被覆し
た。
比較例 実施例1のうちレーザービーム照射しないでボックス焼
鈍した鋼板を用意した。
これらの鋼板の磁気特性値は表1に示すとおりであった
表  l このように1次再結晶板にレーザービーム照射を施した
ものは、照射しない比較例に比べてB1゜値とW、7.
。値が向上し、さらに実施例2にみるようにレーザービ
ーム照射材にイオンブレーティングしたものはw+tz
se値が大幅に改善された。
〈発明の効果〉 本発明により、従来水準より磁束密度が高く、鉄損の低
い一方向性珪素鋼板を製造することができるようになっ
た。
このことはトランスの小型化を一層促進し、また使用時
のエネルギー損失低減効果が大きく、産業界への貢献は
大なるものがある。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 Siを含む鋼スラブを熱間圧延後、1回又は中間焼
    鈍を挟む2回以上の冷間圧延を施し、次いで脱炭を兼ね
    た1次再結晶焼鈍に引き続き、2次再結晶焼鈍及び純化
    焼鈍を施す一連の工程よりなる一方向性珪素鋼板の製造
    方法において、1次再結晶焼鈍を施した後に、レーザー
    ビームを照射し、2次再結晶焼鈍の前に予め2次再結晶
    の核となりうる粗大粒を生成させることを特徴とする磁
    気特性の優れた一方向性珪素鋼板の製造方法。 2 請求項1記載の純化焼鈍後に、鋼板表面の酸化物を
    除去し、次いで平均粗さ(Ra)0.4μm以下の鏡面
    に研磨仕上げし、その上に蒸着法によって金属の窒化物
    、炭化物、酸化物のうち、少なくとも1種以上の極薄被
    膜を生成せしめることを特徴とする磁気特性の優れた一
    方向性珪素鋼板の製造方法。
JP21304389A 1989-08-21 1989-08-21 磁気特性の優れた一方向性珪素鋼板の製造方法 Pending JPH0379722A (ja)

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