WO2012001912A1 - 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 - Google Patents

情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 Download PDF

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WO2012001912A1
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glass substrate
suction
information recording
polishing
adsorbing
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PCT/JP2011/003545
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Inventor
典子 島津
Original Assignee
コニカミノルタオプト株式会社
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    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
    • G11B5/8404—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers manufacturing base layers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B37/00—Lapping machines or devices; Accessories
    • B24B37/04—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces
    • B24B37/042—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces operating processes therefor

Definitions

  • the present invention relates to a method for producing a glass substrate for an information recording medium.
  • the glass substrate for information recording medium is usually manufactured through a lapping process (grinding process), a rough polishing process, and a precision polishing process after forming a glass base plate having through holes.
  • the precision polishing step is the final polishing step in the method of manufacturing the information recording medium glass substrate.
  • a polishing liquid containing colloidal silica as an abrasive and a polishing apparatus having a polishing pad are used.
  • the glass substrate is polished to a small surface roughness by the polishing pad, and the glass substrate and the polishing pad are wet with the polishing liquid, so the glass substrate is stuck to the polishing pad. Yes. Therefore, it is difficult to manually remove the glass substrate from the polishing apparatus in the extraction process. If you try to take it out by hand, the glass substrate may be damaged.
  • Patent Document 1 discloses an adsorbing tool that adsorbs a glass substrate and removes it from a polishing apparatus.
  • the suction tool disclosed in Patent Document 1 is connected to a connection portion connected to a suction means, a ventilation portion communicating with the connection portion, an open hole communicating with the ventilation portion and communicating with outside air, and a glass substrate as an article.
  • a suction part suction surface
  • the suction part increases the negative pressure of the suction hole so that the suction part adsorbs the glass substrate. It is a thing.
  • the glass substrate is adsorbed by the adsorbing part of the adsorber, if the foreign object adheres to the adsorbing part, the foreign object is strongly pressed against the surface of the glass substrate when adsorbing the glass substrate, It adheres to the glass substrate.
  • the foreign matter adhered to the glass substrate after the final polishing step cannot be removed sufficiently in the cleaning step because the polishing step is not performed thereafter, and eventually remains on the surface of the glass substrate for information recording media. .
  • the distance between the recording head and the information recording medium during recording has become very small.
  • the foreign matter adhering to the adsorbing part of the adsorbing tool is colloidal silica contained in the polishing liquid or bacteria (iron bacteria) generated in the polishing liquid or the adsorbing part. Further, it was found that the residue of foreign matter on the glass substrate surface becomes more prominent as the suction tool is used repeatedly.
  • the present invention is a glass for an information recording medium in which foreign matter is less likely to adhere to the suction portion of the suction tool, and even if the suction tool is repeatedly used, the foreign matter hardly remains on the surface of the glass substrate sucked by the suction tool. It aims at providing the manufacturing method of a board
  • One aspect of the present invention is to form a glass substrate for an information recording medium by polishing a disk-shaped glass base plate having a through-hole using a polishing liquid containing colloidal silica and a polishing apparatus having a polishing pad.
  • a method for producing a glass substrate for an information recording medium comprising: a final polishing step; and a step of taking out the glass substrate from a polishing apparatus by adsorbing the surface of the glass substrate after the final polishing step with an adsorbent having an adsorbing portion Then, the adsorbing part of the adsorbing tool is immersed in a weakly acidic or weakly alkaline storage liquid for a predetermined period when the glass substrate is not adsorbed.
  • FIG. 10A is a graph based on the number of foreign particles attached in FIG. 10A
  • FIG. 10B is a graph expressed based on the number of foreign particles attached in FIG. 10B
  • FIG. It is the figure represented on the graph based on the foreign material adhesion number of FIG.10 (c).
  • (A) is a chart showing the number of adhered foreign substances on the glass substrate for an information recording medium in the initial stage polished by the precision polishing apparatus in the process of the second embodiment
  • (b) is a precision polishing apparatus in the process of the second embodiment.
  • C is a chart showing the number of adhered foreign substances on the glass substrate for information recording medium in the middle period polished in step (c).
  • FIG. 12A is a graph represented based on the number of foreign matters attached in FIG. 12A
  • FIG. 12B is a diagram represented based on the number of foreign matters attached in FIG. 12B
  • FIG. It is the figure represented on the graph based on the foreign material adhesion number of FIG.12 (c).
  • (A) is a chart showing the number of adhered foreign substances on the glass substrate for an information recording medium in the initial stage polished by the precision polishing apparatus in the process of the third embodiment
  • (b) is a precision polishing apparatus in the process of the third embodiment.
  • FIG. 14A is a graph based on the number of foreign substances attached in FIG. 14A
  • FIG. 14B is a graph based on the number of foreign objects attached in FIG. 14B
  • FIG. It is the figure represented on the graph based on the foreign material adhesion number of FIG.14 (c).
  • FIG. 17 is a cross-sectional explanatory diagram when adsorbing an information recording medium glass substrate with the adsorbing tool of another embodiment of FIG. It is a bottom view of the suction tool of other embodiment.
  • FIG. 20 is a sectional view taken along line XX-XX in FIG.
  • FIG. 1 is a process diagram of the first embodiment of the manufacturing method of the present invention.
  • the manufacturing method of the glass substrate for information recording media includes a disk processing step, a lapping step (grinding step), a rough polishing step (primary polishing step), and a chemical strengthening step.
  • a precision polishing step (secondary polishing step) that is, a final polishing step, a final cleaning step, and an inspection step are included, and a glass substrate for an information recording medium is manufactured through these steps.
  • the disk processing step is a step of processing a glass base plate formed from a glass material having a predetermined composition into a plate shape into a disk-shaped glass base plate having a through hole.
  • a disk-shaped glass base plate having an outer diameter of 2.5 inches, 1.8 inches, 1 inch, 0.8 inches, etc. and a thickness of 2 mm, 1 mm, 0.63 mm, etc. is formed. Is done.
  • size and thickness of the glass base plate formed by a disk processing process are not specifically limited.
  • the glass material to be used is not particularly limited, and various materials can be used.
  • the lapping step is a step of processing the glass base plate into a predetermined plate thickness.
  • the lapping process is composed of two processes, a first lapping process and a second lapping process.
  • the first lapping step is a step of preliminarily adjusting the overall shape of the glass base plate, that is, the parallelism, flatness and thickness of the glass base plate by grinding (lapping) both sides of the glass base plate.
  • the second lapping step is a step in which both surfaces of the glass base plate are ground again to further finely adjust the parallelism, flatness and thickness of the glass base plate.
  • the rough polishing step is a step of improving the surface roughness so that the surface roughness finally required in the precision polishing step described later can be efficiently obtained.
  • the chemical strengthening step is a step of immersing the glass base plate in a chemical strengthening solution to form a chemical strengthening layer on the glass base plate.
  • a chemical strengthening solution to form a chemical strengthening layer on the glass base plate.
  • alkali metal ions such as lithium ions and sodium ions contained in the glass base plate are converted into potassium ions having a larger ion radius. It is carried out by an ion exchange method in which the alkali metal ion is substituted. Due to the strain caused by the difference in ion radius, compressive stress is generated in the ion-exchanged region, and the surface of the glass base plate is strengthened.
  • the precision polishing step (final polishing step) is a step of further precisely polishing the surface of the glass base plate after the rough polishing step.
  • the precision polishing step is performed using the polishing apparatus 5 shown in FIG. 4, a polishing liquid (slurry liquid) 57, the suction tool 1 shown in FIG. 5, and the storage liquid 6 shown in FIG.
  • As the polishing liquid 57 one containing colloidal silica as an abrasive is used.
  • the polishing apparatus 5 includes an apparatus main body 5a and a polishing liquid supply section 5b that supplies the polishing liquid 57 to the apparatus main body 5a.
  • the apparatus body 5a is provided with a disk-shaped upper surface plate 53 and a lower surface plate 54 that are arranged at intervals in the vertical direction so as to be parallel to each other and rotate in opposite directions.
  • the upper and lower surface plates 53 and 54 can be operated by separate driving.
  • Polishing pads 54b (shown in FIG. 8) for polishing both the front and back surfaces of the glass base plate 100 are attached to the opposing surfaces of the upper and lower surface plates 53 and 54, respectively.
  • a rotatable carrier 50 a is provided between the upper and lower surface plates 53, 54.
  • the carrier 50a is sandwiched between the upper and lower surface plates 53 and 54 via the polishing pad 54b.
  • the carrier 50a is provided with a plurality of base plate holding holes 50b.
  • the glass base plate 100 is fitted and disposed in the base plate holding hole 50b.
  • 100 glass base plates 100 are fitted and arranged in the carrier 50a, and 100 glass base plates 100 are processed in one process (one batch).
  • the carrier 50a revolves in the same direction as the lower surface plate 54 with respect to the center of rotation of the surface plates 53, 54 while rotating while holding the plurality of glass base plates 100.
  • the glass base plate is supplied by supplying the polishing liquid 57 between the upper surface plate 53 and the glass base plate 100 and between the lower surface plate 54 and the glass base plate 100, respectively. 100 precision polishing is performed.
  • the polishing liquid supply unit 5 b includes a liquid storage unit 51 and a liquid recovery unit 52.
  • the liquid reservoir 51 includes a liquid reservoir main body 51a, and a liquid supply pipe 51b extending from the liquid reservoir main body 51a to the apparatus main body 5a and having a discharge port 51e.
  • the liquid recovery part 52 is extended from the liquid recovery part main body 52a, the liquid recovery pipe 52b extended from the liquid recovery part main body 52a to the apparatus main body 5a, and from the liquid recovery part main body 52a to the polishing liquid supply part 5b. And a liquid return pipe 52c.
  • the polishing liquid 57 put in the liquid storage unit main body 51a is supplied to the apparatus main body part 5a from the discharge port 51e of the liquid supply pipe 51b, and is recovered from the apparatus main body part 5a to the liquid recovery unit main body 52a via the liquid recovery pipe 52b. Is done.
  • the recovered polishing liquid 57 is returned to the liquid storage part 51 through the liquid return pipe 52c and supplied again to the apparatus main body part 5a.
  • the suction tool 1 used in this embodiment includes a suction tool main body 2 and a suction part 3 as shown in FIGS.
  • the suction tool body 2 includes a gripping part 21 and a suction operation part 22.
  • the grip portion 21 is formed of a cylindrical body having a diameter that can be gripped by a hand.
  • a grip portion vent hole 23a is provided in the axial center portion of the grip portion 21 so as to penetrate both ends in the axial direction along the axial direction.
  • a suction device connection portion 24 is provided at the first end (upper end in the figure) of the grip portion 21 in the axial direction.
  • An opening / closing operation hole 25 is provided on the outer peripheral surface of the grip portion 21 so as to penetrate from the outer peripheral surface to the grip portion vent hole 23a.
  • the opening / closing operation hole 25 is formed of a size that can be closed with fingers of a hand.
  • the adsorption operation unit 22 is formed of a disk-like body having a diameter larger than that of the gripping unit 21 and is connected to a second end (lower end in the drawing) of the gripping unit 21 in the axial direction.
  • the adsorption operation unit 22 has two parts, a first adsorption operation unit 22a formed integrally with the gripping unit 21, and a second adsorption operation unit 22b attached to the first adsorption operation unit 22a. It is composed of
  • a holding portion vent hole 23b is provided inside the first suction operation portion 22a.
  • the first end (the upper end in the figure) of the holding portion vent hole 23b is in communication with the grip portion vent hole 23a.
  • branch holes 23c are provided at the second end (lower end in the figure) of the holding portion vent hole 23b.
  • Each of the branch holes 23c is formed to extend radially outward from the holding portion vent hole 23b.
  • the branch hole 23c is extended to the circumference of about 40 mm in diameter centering on the axial center of the 1st adsorption
  • the second suction operation unit 22b is composed of a disk-like body having substantially the same diameter as the first suction operation unit 22a.
  • a first end (upper end in the drawing) of the second suction operation unit 22b in the axial direction constitutes a connecting portion 22c that is connected to the first suction operation unit 22a.
  • the suction part 3 is provided at the second end (the lower end in the figure) in the axial direction of the second suction operation part 22b as described later.
  • the second suction operation portion 22b is provided with three suction through holes 23e that are opened from the connecting portion 22c to the suction portion 3 along the axial direction. These suction through holes 23e are formed at positions corresponding to the branch hole ends 23d of the branch holes 23c of the first suction operation portion 22a.
  • the second suction operation unit 22b configured as described above has the connecting portion 22c fitted to the first suction operation unit 22a and is fixedly connected via the bolt 5 in this state. In this connected state, each suction through hole 23e and the branch hole end 23d of the branch hole 23c of the suction operation unit 22 are in communication with each other.
  • suction through hole 23e, the holding portion vent hole 23b, and the grip portion vent hole 23a communicate with each other, and the suction vent passage 23 is configured by these.
  • the suction part 3 is provided on the end face of the second end of the second suction operation part 22b as described above. Moreover, this adsorption
  • the contact pad 32 is formed of a circular shape having an outer diameter that is approximately the same as the outer diameter of the suction operation unit 22 (49 mm in this embodiment).
  • the contact pad 32 includes three suction ports 33.
  • the suction ports 33 are respectively provided at positions corresponding to the suction through holes 23e of the second suction operation unit 22b.
  • the contact pad 32 is attached to the second end of the second suction operation unit 22b. In the attached state, the suction holes 33 of the contact pad 32 are used for suction of the suction air passage 23 in the suction tool body 2, respectively. It is in communication with the through hole 23e.
  • the suction tool 1 configured in this way is connected to the suction device connection portion 24 with the connection tool 26 of the connection hose 27 of the suction device (not shown), and the suction device is operated, for example, as shown in FIG.
  • the contact pad 32 of the suction portion 3 of the suction tool 1 is brought into contact with the surface of the glass substrate 100a on the polishing pad 54b of the lower surface plate 54 after the polishing of the surface by the polishing apparatus 5 is completed.
  • the opening / closing operation hole 25 is closed with, for example, a finger of a hand. Accordingly, the glass substrate 100 a can be sucked to the contact pad 32 by being sucked from the suction hole 33 through the suction vent path 23.
  • the storage liquid 6 is intended to make it difficult for colloidal silica to adhere to the adsorbing portion 3 of the adsorbing tool 1 and to make bacteria (iron bacteria) less likely to occur.
  • the adsorbing unit 3 of the adsorbing tool 1 is immersed in the storage liquid 6 for a predetermined period when the glass substrate is not adsorbed.
  • the suction unit 3 of the suction tool 1 every storage period in which the tool 1 is not used in this embodiment, about 35 minutes to 60 minutes, that is, about 35 minutes to 60 minutes each time 100 glass substrates 100a are sucked). Is immersed in the storage liquid 6.
  • the storage solution 6 one that exhibits weak acidity or one that exhibits weak alkalinity is used.
  • the storage liquid 6 is made weakly acidic by containing vitamin C or sulfamic acid in the storage liquid 6.
  • the storage liquid 6 is made weakly alkaline by containing potassium hydroxide in the storage liquid 6.
  • the storage liquid 6 is kept weakly acidic in the range of pH 5.5 to 6.5 or weakly alkaline in the range of pH 8.0 to 10.0.
  • the storage liquid 6 is stored in a container 7 having an opening 71 on the upper side, and the adsorbing portion 3 of the adsorbing tool 1 put in the container 7 from the opening 71 is immersed therein. It is like that.
  • the manufacturing process of the glass substrate for information recording media is not limited to the process in which the chemical strengthening process is performed before the precision polishing process as in the process of the first embodiment.
  • the process of 2nd Embodiment the process of 2nd Embodiment.
  • the chemical strengthening process is performed after the precision polishing process (the process of the second embodiment)
  • the foreign matter fixed to the glass substrate 100a may be more firmly fixed by the chemical strengthening process. It is done.
  • the measurement of the number of foreign matters is performed for each of arbitrary three sheets (NO. 1 to NO. 3 in FIG. 10A) of the first batch (initial stage) polished by the precision polishing apparatus in the process of the first embodiment.
  • the number of adhering foreign matters (FIG. 10 (c) and FIG. 11 (c)) of each of the three sheets (NO. 7 to NO. 9 in FIG. 10C) was measured.
  • the measurement of the number of adhered foreign substances was performed using an optical surface analyzer (OSA) “Candela” manufactured by KLA tencor.
  • OSA optical surface analyzer
  • the adsorbing part 3 of the adsorbing tool 1 was immersed in the storage liquid and stored before the first first batch (initial stage).
  • the suction tool used for the manufacturing method of the glass substrate for information recording media of this invention is not restricted to the thing of the said embodiment, It can change suitably.
  • the suction tool 200 is configured to allow the through hole 101 of the glass substrate 100a to communicate with the outside in a state where the suction portion 3 is in contact with the glass substrate 100a. It is preferable.
  • the suction tool 200 may include an external communication air passage 34.
  • the contact pad 32 of the suction portion 3 has a central hole 32 a as a communication opening having the same size as the through hole 101 of the glass substrate 100 a at the center. And a narrow groove 32b as a communication path formed by cutting a part of the contact pad 32 with a predetermined width from the center hole 32a to the outer peripheral end.
  • the central hole 32a and the groove 32b constitute an external communication air passage 34.
  • the other configuration of the suction tool 200 shown in FIGS. 16 and 17 is the same as that of the above-described suction tool 1 shown in FIGS.
  • the glass substrate 100a is penetrated during suction.
  • the air in the hole 101 is also sucked, and the polishing pad 54b may be sucked through the through hole 101 in some cases.
  • air can be introduced into the through hole 101 via the center hole 32a and the groove 32b constituting the external communication air passage 34 as shown in FIG. 33 and the through-hole 101 can reduce the risk of the polishing pad 54b being sucked.
  • the suction tool 200 configured so that the through hole 101 of the glass substrate 100a can communicate with the outside in a contact state in which the suction portion 3 is in contact with the glass substrate 100a.
  • the external communication air passage 34 is not limited to the one constituted by the center hole 32a and the groove 32b provided in the contact pad 32, and can be appropriately changed.
  • the external communication air passage 234 has a center hole 232 a as a communication hole provided in the contact pad 32, and a suction hole 22 in the suction tool body 2. It is good also as what is comprised from the external communication hole 231 as a communicating path provided so that it may communicate with the exterior.
  • the polisher 5 after adsorbing
  • the suction portion 3 of the suction tool 1 is immersed in the storage liquid every time one or more glass substrates 100a are taken out. You may do it. Or you may make it immerse the adsorption
  • the present embodiment there is little possibility of foreign matter adhering to the suction portion of the suction tool, and even if the suction tool is used repeatedly, the foreign matter remains on the surface of the glass substrate sucked by the suction tool.
  • a method of manufacturing a glass substrate for an information recording medium that is difficult to perform is provided. As a result, the generation of foreign matter on the surface of the information recording medium glass substrate can be significantly suppressed.
  • an adsorber that has a low possibility of foreign matter adhering to the adsorption portion and hardly retains foreign matter on the surface of the glass substrate adsorbed by the adsorption portion.
  • a method for producing a glass substrate for an information recording medium comprises: polishing a disk-shaped glass base plate having a through-hole using a polishing liquid containing colloidal silica and a polishing apparatus having a polishing pad;
  • a glass for an information recording medium comprising: a final polishing step for forming a substrate; and a step of taking out the glass substrate from a polishing apparatus by adsorbing the surface of the glass substrate after the final polishing step with an adsorbent having an adsorbing portion
  • a method for manufacturing a substrate wherein the adsorbing part of the adsorbing tool is immersed in a weakly acidic or weakly alkaline storage liquid for a predetermined period of time when the glass substrate is not adsorbed. .
  • the weak acidity of the storage solution includes, for example, those having a pH of 5.5 to 6.5.
  • colloidal silica can be hardly attached to the suction portion of the suction tool more reliably. Bacteria can also be generated more reliably and hardly.
  • Examples of the weak alkalinity of the storage solution include those having a pH of 8.0 to 10.0.
  • colloidal silica can be hardly attached to the suction portion of the suction tool more reliably. Bacteria can also be generated more reliably and hardly.
  • the suction tool is an suction tool used in the above-described method for manufacturing a glass substrate for an information recording medium, and has a suction tool body having a suction air passage connected to a suction device so as to be suckable, and communicates with the suction air passage.
  • a suction part provided on the suction tool main body, and in a contact state in which the suction part is in contact with the glass substrate for information recording medium, the through hole of the glass substrate and the outside are connected to each other. It is configured to be able to communicate.
  • the polishing pad provided in the polishing apparatus is sucked through the through hole, and the glass substrate must be sucked and removed from the polishing pad with a strong force.
  • the glass substrate must be sucked and removed from the polishing pad with a strong force.
  • the suction tool configured as described above
  • air can be introduced from the outside into the through hole by the external communication air passage even when the air in the through hole of the glass substrate is sucked during the suction.
  • the polishing pad can be made less likely to be sucked.
  • the present invention is expected to have a wide range of industrial applicability in the technical field of a method for producing a glass substrate for an information recording medium.

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Abstract

　コロイダルシリカを含有する研磨液と研磨パッドを有する研磨装置とを用いて最終研磨した情報記録媒体用ガラス基板を吸着具の吸着部で吸着して研磨装置から取り出した後、吸着具の吸着部を、前記ガラス基板を吸着していない非吸着時の所定の期間、弱酸性又は弱アルカリ性の保管液に浸漬する。これにより、吸着具の吸着部に異物が付着するおそれが少なく、吸着具で吸着した情報記録媒体用ガラス基板の表面に異物が残留し難い情報記録媒体用ガラス基板の製造方法が提供される。

Description

情報記録媒体用ガラス基板の製造方法
　本発明は、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法に関する。
　情報記録媒体用ガラス基板は、通常、貫通孔を有するガラス素板を形成した後に、ラッピング工程（研削工程）、粗研磨工程、精密研磨工程を経て製造される。精密研磨工程は、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法において最終の研磨工程である。精密研磨工程、すなわち最終研磨工程では、コロイダルシリカを研磨剤として含有する研磨液と、研磨パッドを有する研磨装置とが用いられる。最終研磨工程の終了後は、研磨装置からガラス基板を取り出す取出工程がある。その際、ガラス基板は研磨パッドによって表面粗さが小さい状態に研磨されていると共に、ガラス基板と研磨パッドとは研磨液で濡れているため、ガラス基板は研磨パッドに貼り付いた状態となっている。そのため、取出工程でガラス基板を研磨装置から手で取り出すことは難しい。あえて手で取り出そうとすると、ガラス基板に傷を付けるおそれがある。
　そこで、ガラス基板を吸着して研磨装置から取り出す吸着具が、例えば特許文献１に開示されている。この特許文献１に開示された吸着具は、吸引手段に接続される接続部と、接続部に連通する通気部と、通気部に連通し外気に通じる開放穴と、物品としてのガラス基板に対向する吸着部（吸着面）と、通気部に連通し吸着部に開口した吸引穴とを有し、開放穴を塞ぐことにより吸引穴の負圧を増大して吸着部でガラス基板を吸着するようにしたものである。
　上記のように、吸着具の吸着部でガラス基板を吸着する際、吸着部に異物が付着していると、ガラス基板を吸着した際に、異物がガラス基板の表面に強く押し付けられ、異物がガラス基板に固着する。最終研磨工程後にガラス基板に固着した異物は、そのあと研磨工程が行われないため、洗浄工程で十分に除去することができず、最終的に情報記録媒体用ガラス基板の表面に残留してしまう。近年、情報記録媒体の記録密度の向上に伴い、記録時における記録ヘッドと情報記録媒体との間隔が非常に小さくなっている。そのため、たとえわずかな異物でもガラス基板に残留していると、ヘッドクラッシュ（記録ヘッドと異物との衝突による記録障害）が誘発され得る。本発明者の検討の結果、吸着具の吸着部に付着する異物は、研磨液に含有されるコロイダルシリカや、研磨液あるいは吸着部に発生したバクテリア（鉄バクテリア）等であることがわかった。また、ガラス基板表面への異物の残留は、吸着具が繰り返し使用されるほど顕著となることがわかった。
特開２００７－２１６３１１号公報
　そこで、本発明は、吸着具の吸着部に異物が付着するおそれが少なく、たとえ吸着具が繰り返し使用されても、吸着具で吸着したガラス基板の表面に異物が残留し難い情報記録媒体用ガラス基板の製造方法の提供を目的とする。
　本発明の一局面は、貫通孔を有する円盤状のガラス素板を、コロイダルシリカを含有する研磨液と研磨パッドを有する研磨装置とを用いて研磨して、情報記録媒体用ガラス基板を形成する最終研磨工程と、その最終研磨工程後のガラス基板の表面を、吸着部を有する吸着具によって吸着して、前記ガラス基板を研磨装置から取り出す取出工程とを含む情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、前記ガラス基板を吸着していない非吸着時の所定の期間、前記吸着具の吸着部を弱酸性又は弱アルカリ性の保管液に浸漬するようにしたことを特徴とする。
　上記並びにその他の本発明の目的、特徴及び利点は、以下の詳細な記載と添付図面とから明らかになるであろう。
本発明の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法の第１実施形態の工程図である。 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法の第２実施形態の工程図である。 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法の第３実施形態の工程図である。 精密研磨工程で用いる一実施形態の研磨装置の説明図である。 本発明の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法で用いる一実施形態の吸着具の正面図である。 図５の底面図である。 図６のＶＩＩ―ＶＩＩ線断面図である。 吸着具で情報記録媒体用ガラス基板を吸着する際の断面説明図である。 吸着部を保管液に浸漬させた状態の説明図である。 （ａ）は、第１実施形態の工程における精密研磨装置で研磨した初期の情報記録媒体用ガラス基板の異物付着数を表した図表、（ｂ）は、第１実施形態の工程における精密研磨装置で研磨した中期の情報記録媒体用ガラス基板の異物付着数を表した図表、（ｃ）は、第１実施形態の工程における精密研磨装置で研磨した後期の情報記録媒体用ガラス基板の異物付着数を表した図表である。 （ａ）は、図１０（ａ）の異物付着数に基づいてグラフに表した図、（ｂ）は、図１０（ｂ）の異物付着数に基づいてグラフに表した図、（ｃ）は、図１０（ｃ）の異物付着数に基づいてグラフに表した図である。 （ａ）は、第２実施形態の工程における精密研磨装置で研磨した初期の情報記録媒体用ガラス基板の異物付着数を表した図表、（ｂ）は、第２実施形態の工程における精密研磨装置で研磨した中期の情報記録媒体用ガラス基板の異物付着数を表した図表、（ｃ）は、第２実施形態の工程における精密研磨装置で研磨した後期の情報記録媒体用ガラス基板の異物付着数を表した図表である。 （ａ）は、図１２（ａ）の異物付着数に基づいてグラフに表した図、（ｂ）は、図１２（ｂ）の異物付着数に基づいてグラフに表した図、（ｃ）は、図１２（ｃ）の異物付着数に基づいてグラフに表した図である。 （ａ）は、第３実施形態の工程における精密研磨装置で研磨した初期の情報記録媒体用ガラス基板の異物付着数を表した図表、（ｂ）は、第３実施形態の工程における精密研磨装置で研磨した中期の情報記録媒体用ガラス基板の異物付着数を表した図表、（ｃ）は、第３実施形態の工程における精密研磨装置で研磨した後期の情報記録媒体用ガラス基板の異物付着数を表した図表である。 （ａ）は、図１４（ａ）の異物付着数に基づいてグラフに表した図、（ｂ）は、図１４（ｂ）の異物付着数に基づいてグラフに表した図、（ｃ）は、図１４（ｃ）の異物付着数に基づいてグラフに表した図である。 他の実施形態の吸着具の底面図である。 図１６のＸＶＩＩ－ＸＶＩＩ線断面図である。 図１６の他の実施形態の吸着具で情報記録媒体用ガラス基板を吸着する際の断面説明図である。 更に他の実施形態の吸着具の底面図である。 図１９のＸＸ－ＸＸ線断面図である。
　以下、本発明を具体的に説明する。図１は、本発明の製造方法の第１実施形態の工程図である。
　この実施形態では、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法は、図１に示すように円盤加工工程と、ラッピング工程（研削工程）と、粗研磨工程（１次研磨工程）と、化学強化工程と、精密研磨工程（２次研磨工程）、すなわち最終研磨工程と、最終洗浄工程と、検査工程とを含み、これらの工程を経て情報記録媒体用ガラス基板が製造される。
　円盤加工工程は、所定の組成のガラス素材から板状に成形したガラス素板を、貫通孔を有する円盤状のガラス素板に加工する工程である。この円盤加工工程で、例えば、外径が２．５インチ、１．８インチ、１インチ、０．８インチ等で、厚みが２ｍｍ、１ｍｍ、０．６３ｍｍ等の円盤状のガラス素板が形成される。円盤加工工程で形成されるガラス素板の大きさや厚さは特に限定されない。用いるガラス素材も特に限定されず、種々のものを使用できる。
　ラッピング工程（研削工程）は、上記ガラス素板を所定の板厚に加工する工程である。この実施形態では、ラッピング工程は、第１ラッピング工程と第２ラッピング工程との２つの工程から構成されている。
　第１ラッピング工程は、ガラス素板の裏表の両面を研削（ラッピング）加工し、ガラス素板の全体形状、すなわちガラス素板の平行度、平坦度及び厚みを予備調整する工程である。
　第２ラッピング工程は、ガラス素板の両表面を再び研削加工し、ガラス素板の平行度、平坦度及び厚みをさらに微調整する工程である。
　粗研磨工程は、後述の精密研磨工程で最終的に必要とされる面粗さを効率よく得ることができるように、面粗さを向上させる工程である。
　化学強化工程は、化学強化液にガラス素板を浸漬してガラス素板に化学強化層を形成する工程である。化学強化層を形成することで、ガラス素板の耐衝撃性、耐振動性及び耐熱性等を向上させることができる。
　化学強化工程は、例えば、加熱された化学強化処理液にガラス素板を浸漬することによって、ガラス素板に含まれるリチウムイオン、ナトリウムイオン等のアルカリ金属イオンを、それよりイオン半径の大きなカリウムイオン等のアルカリ金属イオンによって置換するイオン交換法によって行われる。イオン半径の違いによって生じる歪みにより、イオン交換された領域に圧縮応力が発生し、ガラス素板の表面が強化される。
　精密研磨工程（最終研磨工程）は、粗研磨工程後のガラス素板の表面をさらに精密に研磨する工程である。精密研磨工程は、図４に示す研磨装置５と、研磨液（スラリー液）５７と、図５に示す吸着具１と、図９に示す保管液６とを用いて行なわれる。研磨液５７は、研磨材としてコロイダルシリカを含有するものが使用される。
　研磨装置５は、この実施形態では、例えば図４に示すような両面同時研磨可能な装置が使用される。この研磨装置５は、装置本体部５ａと、装置本体部５ａに研磨液５７を供給する研磨液供給部５ｂとを備えている。
　装置本体部５ａは、互いに平行になるように上下に間隔を隔てて配置され、互いに逆方向に回転する円盤状の上定盤５３と下定盤５４とを備えている。この上下の定盤５３、５４はそれぞれ別駆動で動作することができる。
　上下の定盤５３、５４の対向するそれぞれの面にガラス素板１００の表裏の両面を研磨するための研磨パッド５４ｂ（図８に図示）が貼り付けられている。上下の定盤５３、５４の間には、回転可能なキャリア５０ａが設けられている。キャリア５０ａは、研磨パッド５４ｂを介して上下の定盤５３、５４に挟まれている。
　キャリア５０ａには、複数の素板保持用孔５０ｂが設けられている。この素板保持用孔５０ｂにガラス素板１００が嵌め込まれて配置される。この実施形態では、キャリア５０ａに１００枚のガラス素板１００が嵌め込まれて配置され、一回の処理（１バッチ）で１００枚のガラス素板１００が処理される。
　キャリア５０ａは、複数のガラス素板１００を保持した状態で、自転しながら、定盤５３、５４の回転中心に対して下定盤５４と同じ方向に公転する。このように動作している研磨装置５において、研磨液５７を上定盤５３とガラス素板１００との間及び下定盤５４とガラス素板１００との間にそれぞれ供給することにより、ガラス素板１００の精密研磨が行われる。
　研磨液供給部５ｂは、液貯留部５１と液回収部５２とを備えている。液貯留部５１は、液貯留部本体５１ａと、液貯留部本体５１ａから装置本体部５ａに延ばされ、吐出口５１ｅを有する液供給管５１ｂとを備えている。
　液回収部５２は、液回収部本体５２ａと、液回収部本体５２ａから装置本体部５ａに延ばされた液回収管５２ｂと、液回収部本体５２ａから研磨液供給部５ｂに延ばされた液戻し管５２ｃとを備えている。
　液貯留部本体５１ａに入れられた研磨液５７は、液供給管５１ｂの吐出口５１ｅから装置本体部５ａに供給され、装置本体部５ａから液回収管５２ｂを介して液回収部本体５２ａに回収される。
　回収された研磨液５７は、液戻し管５２ｃを介して液貯留部５１に戻され、再度、装置本体部５ａに供給される。
　次に、この実施形態で用いる吸着具１について説明する。この実施形態で用いる吸着具１は、図５～７に示すように、吸着具本体２と、吸着部３とを備えている。吸着具本体２は、把持部２１と、吸着操作部２２とを備えている。
　把持部２１は、手で把持できる程度の径を有する円柱状体から構成されている。把持部２１の内部の軸心部に、軸方向に沿って軸方向の両端を貫通するようにあけられた把持部用通気孔２３ａが設けられている。
　把持部２１における軸方向の第１端（図の上端）には、吸引装置接続部２４が設けられている。この吸引装置接続部２４に図示しない吸引装置が接続されることにより、把持部用通気孔２３ａが吸引装置に吸引可能に接続される。
　把持部２１における外周面には、その外周面から把持部用通気孔２３ａに貫通するようにあけられた開閉操作用孔２５が設けられている。この開閉操作用孔２５は、この実施形態では、手の指で塞ぐことができる大きさのものから構成されている。
　吸着操作部２２は、把持部２１よりも径が大きい円板状体から構成され、把持部２１の軸方向の第２端（図の下端）に連結されている。この実施形態では、吸着操作部２２は、把持部２１と一体的に形成された第１吸着操作部２２ａと、第１吸着操作部２２ａに取り付けられた第２吸着操作部２２ｂとの２つの部分から構成されている。
　第１吸着操作部２２ａの内部には、保持部用通気孔２３ｂが設けられている。この保持部用通気孔２３ｂの第１端（図の上端）は、把持部用通気孔２３ａと連通されている。
　保持部用通気孔２３ｂの第２端（図の下端）には、３つの分岐孔２３ｃが設けられている。分岐孔２３ｃは、それぞれ、保持部用通気孔２３ｂから径方向外方に延ばされるように形成されている。この実施形態では、分岐孔２３ｃは、第１吸着操作部２２ａの軸心を中心とした略直径４０ｍｍの円周上まで延ばされ、その円周上に分岐孔端２３ｄが形成されている。
　第２吸着操作部２２ｂは、第１吸着操作部２２ａと略同じ径の円板状体から構成されている。第２吸着操作部２２ｂにおける軸方向の第１端（図の上端）は、第１吸着操作部２２ａに連結される連結部２２ｃを構成している。一方、第２吸着操作部２２ｂにおける軸方向の第２端（図の下端）には、後述のように吸着部３が設けられている。
　第２吸着操作部２２ｂには、連結部２２ｃから吸着部３に軸方向に沿って貫通するようにあけられた３つの吸引用貫通孔２３ｅが設けられている。これらの吸引用貫通孔２３ｅは、第１吸着操作部２２ａの分岐孔２３ｃの分岐孔端２３ｄに対応する位置に形成されている。
　そして、このように構成された第２吸着操作部２２ｂは、連結部２２ｃが第１吸着操作部２２ａに合わされ、その状態でボルト５を介して固定的に連結されている。この連結状態で、各吸引用貫通孔２３ｅと吸着操作部２２の分岐孔２３ｃの分岐孔端２３ｄとが合致して連通されている。
　これにより、吸引用貫通孔２３ｅと、保持部用通気孔２３ｂと、把持部用通気孔２３ａとが連通し、これらによって吸引用通気路２３が構成されている。
　吸着部３は、上述のように、第２吸着操作部２２ｂの第２端の端面に設けられている。又、この吸着部３は、この実施形態では、当接パッド３２を備えている。当接パッド３２は、吸着操作部２２の外径と同程度（この実施形態では、４９ｍｍ）の外径を有する円形状のものから構成されている。当接パッド３２は、３つの吸引口３３を備えている。
　吸引口３３は、それぞれ、第２吸着操作部２２ｂの吸引用貫通孔２３ｅに対応する位置に設けられている。
　当接パッド３２は、第２吸着操作部２２ｂの第２端に取り付けられ、その取り付け状態で、当接パッド３２の吸引孔３３は、それぞれ、吸着具本体２における吸引用通気路２３の吸引用貫通孔２３ｅに合致して連通している。
　このように構成された吸着具１は、吸引装置接続部２４に吸引装置（図示せず）の接続ホース２７の接続具２６を接続し、吸引装置を作動させた状態で、例えば図８に示すように、研磨装置５によって表面を研磨し終えて下定盤５４の研磨パッド５４ｂ上にあるガラス基板１００ａの表面に、吸着具１の吸着部３の当接パッド３２が当接される。
　そして、この状態で、開閉操作用孔２５を、例えば手の指で塞ぐ。これにより、吸引用通気路２３を介して吸引孔３３から吸引して当接パッド３２にガラス基板１００ａを吸着できる。
　保管液６は、吸着具１の吸着部３に、コロイダルシリカが付着し難くするとともに、バクテリア（鉄バクテリア）が発生し難くするためのものである。この実施形態では、この保管液６に、吸着具１の吸着部３を、ガラス基板を吸着していない非吸着時の所定の期間、浸漬しておく。
　この実施形態では、研磨装置５で研磨した１バッチ分のガラス基板１００ａを研磨装置５から取り出してから、次の１バッチ分のガラス素材１００が研磨装置５で研磨され終えるまでの期間、すなわち吸着具１を使用しない保管の期間（この実施形態では、３５分～６０分程度、すなわち１００枚のガラス基板１００ａを吸着する毎に３５分～６０分程度）毎に、吸着具１の吸着部３を保管液６に浸漬しておく。
　この保管液６は、弱酸性を呈するもの、あるいは、弱アルカリ性を呈するものが用いられる。この実施形態では、保管液６に、ビタミンＣ又はスルファミン酸を含ませることにより保管液６を弱酸性のものにしている。あるいは、保管液６に、水酸化カリウムを含ませることにより保管液６を弱アルカリ性のものにしている。
　具体的には、保管液６は、ｐＨが５．５～６．５の範囲の弱酸性に、又は、ｐＨが８．０～１０．０の範囲の弱アルカリ性に保持されている。
　ｐＨが５．５未満となると、水素結合によってコロイダルシリカが吸着具１の吸着部３に付き易くなる。また、ｐＨが６．５を超え、８．０未満の中性では、バクテリア（鉄バクテリア）が吸着具１の吸着部３に発生し易くなって、発生したバクテリアがガラス基板１００ａに残留するとともに、最終洗浄工程で用いる洗浄液にも持ち込まれることになる。
　ｐＨが１０．０を超えると、吸着具１の吸着部３（当接パッド３２）のイソシアネート基とコロイダルシリカとが反応して吸着部３にコロイダルシリカが付き易くなってしまう。
　この実施形態では、保管液６は、図９に示すように、上方に開口７１を有する容器７に収納され、容器７にその開口７１から入れられた吸着具１の吸着部３が浸漬されるようになっている。
　なお、情報記録媒体用ガラス基板の製造工程は、上記第１実施形態の工程のように化学強化工程を精密研磨工程の前に行なうものに限らず、例えば図２に示すように化学強化工程を精密研磨工程の後に行なってもよい（以下、化学強化工程を精密研磨工程の後に行なう工程を第２実施形態の工程という）。また、図３に示すように化学強化工程を省略するようにしてもよい（以下、化学強化工程を有しない工程を第３実施形態の工程という）。化学強化工程を精密研磨工程の後に行う場合（第２実施形態の工程）、ガラス基板１００ａに固着した異物が化学強化工程によりさらに強固に固着される場合があるため、本発明は特に好適に用いられる。
　次に、最終洗浄工程後における情報記録媒体用ガラス基板の異物数の測定を行ったので説明する。この測定は、上記第１～第３実施形態の工程により製造した情報記録媒体用ガラス基板のそれぞれについて、次のようにして行なった。
　第１～第３実施形態の工程のそれぞれにおける精密研磨工程（最終研磨工程）の研磨装置で同時に研磨した１バッチ分のガラス基板を吸着具１を用いて連続的に吸着して取り出した。その取り出し後、その研磨装置で次の１バッチ分の研磨が終了するまでの研磨の期間、吸着具１の吸着部３を、予め作成しておいた種々のｐＨの保管液（ｐＨ１、ｐＨ３、ｐＨ５、ｐＨ５．５、ｐＨ６、ｐＨ６．５、ｐＨ７、ｐＨ８、ｐＨ９、ｐＨ１０、ｐＨ１１、ｐＨ１３のもの（図１０、図１２、図１４参照））のそれぞれに浸漬させて保管しておいた。そして、各ｐＨの保管液で浸漬した吸着具１で吸着して取り出したガラス基板の異物数を測定した。
　異物数の測定は、第１実施形態の工程における精密研磨装置で研磨した最初の１バッチ目（初期）の任意の３枚（図１０（ａ）のＮＯ．１～ＮＯ．３）のそれぞれの異物付着数（図１０（ａ）及び図１１（ａ））と、第１実施形態の工程における精密研磨装置で研磨した１０バッチ目（中期）の任意の３枚（図１０（ｂ）のＮＯ．４～ＮＯ．６）のそれぞれの異物付着数（図１０（ｂ）及び図１１（ｂ））と、第１実施形態の工程における精密研磨装置で研磨した２０バッチ目（後期）の任意の３枚（図１０（ｃ）のＮＯ．７～ＮＯ．９）のそれぞれの異物付着数（図１０（ｃ）及び図１１（ｃ））を測定した。
　同様に、第２実施形態の工程における精密研磨装置で研磨した最初の１バッチ目（初期）の任意の３枚（図１２（ａ）のＮＯ．１０～ＮＯ．１２）のそれぞれの異物付着数（図１２（ａ）及び図１３（ａ））と、第２実施形態の工程における精密研磨装置で研磨した１０バッチ目（中期）の任意の３枚（図１２（ｂ）のＮＯ．１３～ＮＯ．１５）のそれぞれの異物付着数（図１２（ｂ）及び図１３（ｂ））と、第２実施形態の工程における精密研磨装置で研磨した２０バッチ目（後期）の任意の３枚（図１２（ｃ）のＮＯ．１６～ＮＯ．１８）のそれぞれの異物付着数（図１２（ｃ）及び図１３（ｃ））を測定した。
　同様に、第３実施形態の工程における精密研磨装置で研磨した最初の１バッチ目（初期）の任意の３枚（図１４（ａ）のＮＯ．１９～ＮＯ．２１）のそれぞれの異物付着数（図１４（ａ）及び図１５（ａ））と、第３実施形態の工程における精密研磨装置で研磨した１０バッチ目（中期）の任意の３枚（図１４（ｂ）のＮＯ．２２～ＮＯ．２４）のそれぞれの異物付着数（図１４（ｂ）及び図１５（ｂ））と、第３実施形態の工程における精密研磨装置で研磨した２０バッチ目（後期）の任意の３枚（図１４（ｃ）のＮＯ．２５～ＮＯ．２７）のそれぞれの異物付着数（図１４（ｃ）及び図１５（ｃ））を測定した。
　なお、異物付着数の測定は、ＫＬＡ　ｔｅｎｃｏｒ社製の光学表面アナライザ（ＯＳＡ）「Ｃａｎｄｅｌａ」を用いて行なった。また、いずれの工程も、最初の１バッチ目（初期）の前にも吸着具１の吸着部３を保管液に浸漬して保管しておいた。
　以上の結果は、第１～第３実施形態の３種の工程のすべてで、吸着具１の吸着部３をｐＨ５．５～６．５又はｐＨ８．０～１０．０の保管液に浸漬しておくと、安定して異物数の少ない基板を得ることができることを示している。
　なお、本発明の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法に用いる吸着具は、上記実施形態のものに限らず、適宜変更できる。例えば、図１６～図１８に示すように、吸着具２００は、吸着部３をガラス基板１００ａに当接させた状態で、ガラス基板１００ａの貫通孔１０１と外部とを連通し得るように構成されることが好ましい。例えば、吸着具２００は、外部連通用通気路３４を備えてもよい。
　詳しくは、図１６、図１７に示すように、吸着部３の当接パッド３２には、その中心部に、ガラス基板１００ａの貫通孔１０１と同程度の大きさの連通口としての中心孔３２ａと、その中心孔３２ａから外周端まで、当接パッド３２の一部を所定幅でカットするようにして形成された連通路としての細幅状の溝３２ｂとが設けられている。これらの中心孔３２ａと溝３２ｂとによって、外部連通用通気路３４が構成されている。なお、図１６、図１７に示す吸着具２００のその他の構成は、図５～図７に示す上述の吸着具１と同様の構成である。
　例えば外部連通用通気路３４を有しない図５～図７に示す吸着具１においては、例えば当接パッド３２が押圧や経年劣化によって歪を持つような場合には、吸着に際してガラス基板１００ａの貫通孔１０１の空気も吸引して、貫通孔１０１を通じて研磨パッド５４ｂが吸引されてしまう場合がある。このような場合には、ガラス基板１００ａを研磨パッド５４ｂから取り外す際にガラス基板１００ａの表面に強い力をかける必要が生じ、当接パッド３２が有する異物がガラス基板１００ａの表面に固着し易くなってしまう。その結果、ガラス基板１００ａの表面に残留する異物が当接パッド３２での吸着によって多量に増加する。
　しかし、図１６、図１７に示す吸着具２００においては、図１８に示すように外部連通用通気路３４を構成する中心孔３２ａ及び溝３２ｂを介して貫通孔１０１に空気を導入でき、吸引口３３及び貫通孔１０１を通じて研磨パッド５４ｂが吸引されるおそれの少ないものにできる。
　従って、当接パッド３２が有する異物がガラス基板１００ａの表面に固着するおそれの少ないものにできる。しかも、ガラス基板１００ａを研磨パッド５４ｂから取り外し易いものにできる。よって、吸着部３をガラス基板１００ａに当接させた当接状態で、ガラス基板１００ａの貫通孔１０１と外部とを連通し得るように構成された吸着具２００を用いることが好ましい。
　また、外部連通用通気路３４は、当接パッド３２に設けた中心孔３２ａと溝３２ｂとから構成する形態のものに限らず、適宜変更できる。例えば、図１９、図２０に示すように、外部連通用通気路２３４は、当接パッド３２に設けた連通口としての中心孔２３２ａと、吸着具本体２の吸着操作部２２に、中心孔２３２ａと外部とを連通するように設けた連通路としての外部連通孔２３１とから構成されるものとしてもよい。
　また、上記実施形態では、吸着具１を、研磨装置５で研磨した１バッチ分のガラス基板１００ａを全て吸着して取り出してから、研磨装置５で次の１バッチ分のガラス基板１００ａの研磨が終了するまでの期間、保管液に浸漬するようにしているが、この形態のものに限らず、適宜変更できる。
　例えば、研磨装置５で研磨した１バッチ分のガラス基板１００ａを吸着して取り出す際に、１枚又は複数枚のガラス基板１００ａを取り出す毎に、吸着具１の吸着部３を保管液に浸漬するようにしてもよい。あるいは、研磨装置５で研磨した２以上のバッチ毎に、吸着具１の吸着部３を保管液に浸漬するようにしてもよい。
　以上説明したように、本実施形態によれば、吸着具の吸着部に異物が付着するおそれが少なく、たとえ吸着具が繰り返し使用されても、吸着具で吸着したガラス基板の表面に異物が残留し難い情報記録媒体用ガラス基板の製造方法が提供される。結果として、情報記録媒体用ガラス基板の表面における異物の発生を大幅に抑制できる。また、吸着部に異物が付着するおそれが少なく、吸着部で吸着したガラス基板の表面に異物が残留し難い吸着具が提供される。
　上記情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及び吸着具の技術的特徴をまとめると下記のようになる。
　情報記録媒体用ガラス基板の製造方法は、貫通孔を有する円盤状のガラス素板を、コロイダルシリカを含有する研磨液と研磨パッドを有する研磨装置とを用いて研磨して、情報記録媒体用ガラス基板を形成する最終研磨工程と、その最終研磨工程後のガラス基板の表面を、吸着部を有する吸着具によって吸着して、前記ガラス基板を研磨装置から取り出す取出工程とを含む情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、前記ガラス基板を吸着していない非吸着時の所定の期間、前記吸着具の吸着部を弱酸性又は弱アルカリ性の保管液に浸漬するようにしたことを特徴とする。
　このような構成によれば、保管液を弱酸性又は弱アルカリ性とすることにより、吸着具の吸着部における異物の発生や付着を抑制し、結果として、ガラス基板の表面における異物の発生や残留を大幅に抑制できることが見出された。
　前記保管液の弱酸性とは、例えば、ｐＨが５．５～６．５のものが挙げられる。
　このような構成によれば、より確実に、吸着具の吸着部にコロイダルシリカが付き難くできる。また、バクテリアも、より確実に、発生し難くできる。
　前記保管液の弱アルカリ性とは、例えば、ｐＨが８．０～１０．０のものが挙げられる。
　このような構成によれば、より確実に、吸着具の吸着部にコロイダルシリカが付き難くできる。また、バクテリアも、より確実に、発生し難くできる。
　吸着具は、上述の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法に用いる吸着具であって、吸引装置に吸引可能に接続される吸引用通気路を有する吸着具本体と、前記吸引用通気路と連通した吸引口を有し前記吸着具本体に設けられた吸着部とを備え、前記吸着部を情報記録媒体用ガラス基板に当接させた当接状態で、前記ガラス基板の貫通孔と外部とを連通し得るように構成されたことを特徴とする。
　例えば吸着に際してガラス基板の貫通孔の空気も吸引すると、貫通孔を介して研磨装置に設けられた研磨パッドが吸引されてしまい、ガラス基板を強い力で吸着して研磨パッドから外さなければならない。その結果、吸着具の吸着部に付着している異物がガラス基板の吸着に際してガラス基板の表面に付着するおそれが高くなる。
　しかし、上記のように構成した吸着具を用いれば、吸着に際してガラス基板の貫通孔の空気を吸引しても、外部連通用通気路によって、貫通孔に外部から空気を導入でき、貫通孔を介して研磨パッドが吸引されるおそれの少ないものにできる。
　したがって、ガラス基板を強い力で吸着する必要のないものにでき、吸着部が有する異物がガラス基板の表面に付着するおそれの少ないものにできる。
　この出願は、２０１０年６月３０日に出願された日本国特許出願特願２０１０－１４８９６５を基礎とするものであり、その内容は、本願に含まれるものである。
　本発明を表現するために、上述において図面を参照しながら実施形態を通して本発明を適切且つ十分に説明したが、当業者であれば上述の実施形態を変更および／または改良することは容易に為し得ることであると認識すべきである。したがって、当業者が実施する変更形態または改良形態が、請求の範囲に記載された請求項の権利範囲を離脱するレベルのものでない限り、当該変更形態または当該改良形態は、当該請求項の権利範囲に包括されると解釈される。
　本発明は、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法の技術分野において広範な産業上の利用可能性が期待される。

Claims (4)

  1. 　貫通孔を有する円盤状のガラス素板を、コロイダルシリカを含有する研磨液と研磨パッドを有する研磨装置とを用いて研磨して、情報記録媒体用ガラス基板を形成する最終研磨工程と、その最終研磨工程後のガラス基板の表面を、吸着部を有する吸着具によって吸着して、前記ガラス基板を研磨装置から取り出す取出工程とを含む情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、
    　前記ガラス基板を吸着していない非吸着時の所定の期間、前記吸着具の吸着部を弱酸性又は弱アルカリ性の保管液に浸漬するようにしたことを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
  2. 　前記保管液として、ｐＨが５．５～６．５のものを用いることを特徴とする請求項１に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
  3. 　前記保管液として、ｐＨが８．０～１０．０のものを用いることを特徴とする請求項１に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
  4. 　吸引装置に吸引可能に接続される吸引用通気路を有する吸着具本体と、前記吸引用通気路と連通した吸引口を有し前記吸着具本体に設けられた吸着部とを備え、前記吸着部を情報記録媒体用ガラス基板に当接させた当接状態で、前記ガラス基板の貫通孔と外部とを連通し得るように構成された吸着具を用いることを特徴とする請求項１～３のいずれか一項に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
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