WO2011122303A1

WO2011122303A1 - ガラスブランクの製造方法、磁気記録媒体基板の製造方法および磁気記録媒体の製造方法

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Publication number: WO2011122303A1
Application number: PCT/JP2011/055753
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Inventors: 誠大澤; 明村上; 伸博杉山; 崇佐藤; 英樹磯野; 基延越坂部; 秀和谷野; 孝朗本橋
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Filing date: 2011-03-11
Publication date: 2011-10-06
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Abstract

　１対のプレス成形型により水平方向から溶融ガラス塊をプレス成形してガラスブランクを製造する際に、シアマークをガラスブランクの中央部近傍に位置させること。　水平方向に対向配置された一対のプレス成形型の間に、溶融ガラス塊２４が落下してきた際に、溶融ガラス塊２４の上部表面に形成された分離痕２４Ａが一対のプレス成形型の少なくとも一方の成形面側に対向させた状態でプレス成形するガラスブランクの製造方法、および、これを用いた磁気記録媒体基板および磁気記録媒体の製造方法。

Description

ガラスブランクの製造方法、磁気記録媒体基板の製造方法および磁気記録媒体の製造方法

　本発明は、ガラスブランクの製造方法、磁気記録媒体基板の製造方法および磁気記録媒体の製造方法に関する。

　磁気記録媒体基板（磁気ディスク基板）を製造する方式としては、代表的には、（１）溶融ガラス塊を一対のプレス成形型によりプレス成形するプレス成形工程を経て作製する方式（以下、「プレス方式」と称す場合がある。特許文献１等参照）、および、（２）フロート法、ダウンドロー法などによってシート状ガラスを円盤状に切断加工する工程を経て作製する方法（以下、「シート状ガラス切断方式」と称す場合がある。特許文献２等参照）が挙げられる。

　特許文献２等に例示する従来のシート状ガラス切断方式では、シート状ガラスを円盤状に加工する円盤加工工程を経た後に、研磨工程として、ラッピング工程（粗研磨処理）と、ポリッシング工程（精密研磨処理）とを実施して、磁気記録媒体基板を得ていた。しかしながら、特許文献２に示されるシート状ガラス切断方式では、研磨工程として、ラッピング工程（粗研磨処理）を省いて、ポリッシング工程（精密研磨処理）のみを実施することが開示されている。

　これに対して、特許文献１等に例示される従来のプレス方式では、通常、下型上に溶融ガラス塊を配置した後、上型と下型とにより、溶融ガラス塊に対して鉛直方向から押圧力を加えて溶融ガラス塊をプレス成形する方式（以下、「垂直ダイレクトプレス」と称す場合がある）でプレス成形工程を実施した後、さらに、ラッピング工程、ポリッシング工程等を経て磁気記録媒体基板を得る。

　また、特許文献１に示されるプレス方式では、プレス成形工程を、水平方向に対向配置された一対のプレス成形型により、溶融ガラス塊に対して水平方向から押圧力を加える方式（以下、「水平ダイレクトプレス」と称す場合がある）で実施することが提案されている。そして、水平ダイレクトプレスを採用した場合のメリットおよびデメリットとして、（１）一対のプレス成形型を高速で移動させなければならないという困難性があること、（２）溶融ガラス塊を、その温度が高い状態でプレス成形できること、（３）より薄い厚さのガラス基板前駆体（ガラスブランク）が得られること、および、（４）研磨工程を軽減または省略できること、以上の４点が、特許文献２には開示されている。しかし、特許文献２にはどのような研磨工程が軽減、省略可能かは開示されていない。

　また、特許文献１等に例示されるプレス成形工程を実施する場合、プレス成形される溶融ガラス塊は、通常、鉛直方向の下方側へと垂下する溶融ガラス流の先端部を、一対のシアブレードを交叉させて切断することにより形成される。このため、溶融ガラス塊の表面には、シアブレードとの接触により生じた分離痕が形成される。したがって、垂直ダイレクトプレスにより、磁気記録媒体基板用のガラスブランクを作製した場合、ガラスブランクの両面に、分離痕に起因する微小な筋、溝、気泡等の異質な部分（以下、「シアマーク」と称す場合がある）が残留してしまうことになる。このため、このようなシアマークを有するガラスブランクの研磨代を小さくして、磁気記録媒体基板の生産性を向上等させるために、下型の成形面の中央部に窪み部を設けることが提案されている（特許文献３参照）。

特許第４３８０３７９号（段落００３１、図１～図９等）特開２００３－３６５２８号公報（図３～図６、図８等）特開２００１－１９２２１６号公報（請求項１、段落番号０００２～０００７、図１等）

　一方、磁気記録媒体基板の生産性を高める上では、磁気記録媒体基板の平坦度および板厚の均一性の確保、ならびに、板厚の調整等を主目的として実施されるラッピング工程の省略または短時間化は非常に効果的である。ラッピング工程は、その実施にラッピング装置が必要であり、磁気記録媒体基板を作製するための工数が多くなると共に、加工時間の増大を招くためである。また、ラッピング工程によってガラス表面にクラックを生じさせることもあり、ラッピング工程の省略化が検討されているのが現状である。ここでラッピング工程の省略という観点では、シート状ガラス切断方式の方と、プレス方式とを比較すると、フロート法、ダウンドロー法などにより作製された平坦度の高いシート状ガラスを利用して加工を行うシート状ガラス切断方式の方が有利である。しかしながら、プレス方式は、シート状ガラス切断方式と比較して、ガラスの利用効率が高いというメリットもある。

　垂直ダイレクトプレスを利用して作製されたガラスブランクに後加工を施すことで磁気記録媒体を作製する際に、ラッピング工程を省略または短時間化するためには、ガラスブランクの板厚偏差を小さくすると共に、平坦度を改善することが必要である。その理由は、ガラスブランクから磁気記録媒体基板を生産する過程で、ラッピング工程後、ガラス板の平坦度を修正する工程はなく、ラッピング工程を省略化するためには、磁気記録媒体基板の平坦度と同等のガラスブランクを用意しなければならないからである。ここで、垂直ダイレクトプレスによりガラスブランクを製造する場合、下型の温度は、高温の溶融ガラス塊が融着しないように溶融ガラス塊の温度よりも十分に低い温度に設定される。そのため、溶融ガラス塊が下型上に配置されてからプレス成形を開始するまでの間、溶融ガラス塊は下型に接している面から熱を奪われる。したがって、下型上に配置された溶融ガラス塊の下面の粘度が局所的に上昇する。その結果、プレス成形は、大きな粘度分布（温度分布）が生じた溶融ガラス塊に対して行われることになるため、プレスによって伸びにくい部分が生じる。また、プレス成形後の冷却速度もプレス成形されて板状に延伸されたガラス成形体の部位ごとに異なる。このため、垂直ダイレクトプレスを利用して作製されるガラスブランクでは、板厚偏差が増大したり、平坦度が悪化し易い。

　したがって、プレス方式により磁気記録媒体基板を製造する際に、ラッピング工程を省略または短時間化するためには、プレス成形の開始直前における溶融ガラス塊の粘度分布を均一にすればよい。このためには、ガラス流出口から鉛直方向の下方側へと流出する溶融ガラス流の先端部を分離して溶融ガラス塊を形成し、落下する溶融ガラス塊を、水平ダイレクトプレスによりプレス成形すればよい。この場合、溶融ガラス塊は、プレス成形されるまでの間、下型のような溶融ガラス塊よりも温度の低い部材に一時的に接触・保持されないため、プレス成形の開始直前において、溶融ガラス塊の粘度分布は均一に保たれる。よって、垂直ダイレクトプレスを利用してガラスブランクを作製した場合と比べて、水平ダイレクトプレスを利用してガラスブランクを作製した場合では、板厚偏差の増大および平坦度の低下を抜本的に抑制することが極めて容易である。それゆえ、この点のみに着目すれば、ラッピング工程の省略または短時間化は、容易に実現できると考えられる。

　しかしながら、垂直ダイレクトプレスを利用して作製されるガラスブランクでは、シアマークは、ガラスブランクの中央部近傍に残留するのに対して、水平ダイレクトプレスを利用して作製されるガラスブランクでは、ガラスブランクの中央部近傍からずれた位置にシアマークが残留する。そして、ガラスブランクの中央部近傍からずれた位置に残留するシアマークは、ガラスブランクを磁気記録媒体基板に加工する際に、中心孔を形成する中心孔形成工程を経た後にも、磁気記録媒体基板の主表面となる位置に残留する場合がある。したがって、水平ダイレクトプレスを採用することで、板厚偏差および平坦度が大幅に改善されたとしても、シアマークを除去するために、ラッピング工程を省略または短時間化することが困難となる。

　第一の本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、水平ダイレクトプレスにて作製されたガラスブランクを製造した場合に、シアマークがガラスブランクの中央部近傍に局在するガラスブランクの製造方法、当該ガラスブランクの製造方法を利用した磁気記録媒体基板の製造方法および磁気記録媒体の製造方法を提供することを課題とする。

　また、第二の本発明は、上記問題を解決するためになされたものであって、溶融ガラスをプレス成形して、板厚偏差が小さく、平坦度が高く、しかも中心孔あけ加工とともにシアマークを除去することができる磁気記録媒体基板用のガラスブランクを作製するガラスブランクの製造方法を提供すること、および、前記方法で作製したガラスブランクを、ラッピング工程を行わずに磁気記録媒体基板に加工する磁気記録媒体基板の製造方法、ならびに、前記方法で作製した基板を用いて磁気記録媒体を製造する方法を提供することを課題とする。

　本発明者らは、上記第一の本発明が対象とする課題を解決するため鋭意検討した結果、以下に示す知見を得た。まず、溶融ガラス流を切断すると溶融ガラス塊の上部と溶融ガラス流の下端に分離痕が生じる。そして、溶融ガラス流の下端の分離痕は、周りの高温のガラスにより加熱されて次の切断までに消失する。しかしながら、溶融ガラス塊の上部に形成された分離痕は、消失せずにそのまま残留する。このため、溶融ガラス塊の上部に形成された分離痕が、ガラスブランクにシアマークを生じさせる。そこで、本発明者らは、水平ダイレクトプレスを利用して作製されるガラスブランクにおいて、ガラスブランクの中央部近傍からずれた位置にシアマークが残留する原因を、落下する溶融ガラス塊を高速度カメラで撮影し、撮影画像をスロー再生することで検討した。

　まず、プレス成形型の成形面に接触した溶融ガラス塊は、成形面によって熱を奪われ、成形面に貼り付くように固化する。そして、溶融ガラス塊内部の低粘性のガラスが、プレスによって１対の成形面で挟まれた空間内に広がる。ここで、溶融ガラス塊が、切断時における向きを変えずに落下すると、プレス開始時の分離痕の位置は溶融ガラス塊の上部に存在することになる。そして、このまま溶融ガラス塊がプレスされれば、分離痕は、板状に薄くプレス成形された板状ガラスの外縁へと押し出されることになる。しかし、実際には、板状ガラスの中央部近傍の領域を除く主表面に分離痕が位置するようにプレス成形されていた。それゆえ、水平ダイレクトプレスを利用して作製されたガラスブランクには、磁気記録媒体基板の主表面となる位置にシアマークが残留するものと考えられる。なお、上述した位置に分離痕が移動する理由は、溶融ガラス塊の内部の低粘性のガラスが、分離痕を成形面側へと押し出すためであると推定される。

　したがって、ガラスブランクに残留するシアマークが、磁気記録媒体基板を作製する際に実施される中心孔形成工程において除去される領域内に存在するためには、プレス成形時に、溶融ガラス塊の表面に存在する分離痕は、溶融ガラス塊の表面のその他のどの部分よりも、プレス成形型の成形面に実質的に最初に接触できることが必要である。この場合、プレス成形により、溶融ガラス塊の表面に存在する分離痕を中心として、溶融ガラス塊を等方的に延伸させることができ、結果として、ガラスブランクの中央部近傍にシアマークを残留させることができる。このため、シアマークを除去するために、大きな研削代および／または研磨代を確保する必要が無く、ラッピング工程の省略または短時間化が実現できる。

　第一の本発明は、以上に説明した知見に基づきなされたものである。すなわち、
　第一の本発明のガラスブランクの製造方法は、連続的に流出する溶融ガラス流の先端部を分離して溶融ガラス塊を形成する溶融ガラス塊形成工程と、当該溶融ガラス塊形成工程を経た後に、下方へと落下する溶融ガラス塊を、溶融ガラス塊の落下方向に対して交叉する方向に対向配置された第一のプレス成形型および第二のプレス成形型によりプレス成形するプレス成形工程と、を少なくとも経てガラスブランクを製造し、プレス成形が、溶融ガラス流の先端部を分離する際に溶融ガラス塊表面に形成された分離痕が、第一のプレス成形型の成形面および第二のプレス成形型の成形面から選択される少なくとも一方の成形面に対向した状態で、溶融ガラス塊と、分離痕に対向する成形面とを接触させるように実施され、１枚のガラスブランクが、１枚の中心孔を有する磁気記録媒体基板を作製するために用いられることを特徴とする。

　第一の本発明のガラスブランクの製造方法の一実施態様は、溶融ガラス塊が、鉛直方向の下方側へと連続的に流出する溶融ガラス流の先端部を分離することにより形成され、プレス成形工程において、溶融ガラス流の先端部を分離する際に溶融ガラス塊の上部表面に形成された分離痕が、第一のプレス成形型の成形面および第二のプレス成形型の成形面から選択されるいずれか一方の成形面に対向した状態で、溶融ガラス塊と、分離痕に対向する成形面とを接触させることができるように、溶融ガラス塊を回転させるために、
　（１）溶融ガラス塊形成工程の実施中において、溶融ガラス塊として分離される溶融ガラス流の先端部、および、
　（２）溶融ガラス塊形成工程の終了直後からプレス成形工程の開始直前までの期間において、落下中の溶融ガラス塊、
　から選択される少なくとも一方の被プレス成形ガラス素材に、鉛直方向と平行を成す被プレス成形ガラス素材の中心軸に対して直交する方向に作用する力のベクトルの大きさの総和が、実質的に０を超えるように、鉛直方向に対して交叉する方向から外力を付与する外力付与工程を実施することが好ましい。

　第一の本発明のガラスブランクの製造方法の他の実施態様は、溶融ガラス流の垂下する方向と直交する平面における溶融ガラス流の先端部近傍の断面の形状が、長径と短径とを有する略楕円形状を成し、溶融ガラス流の先端部の分離が、溶融ガラス流の垂下する方向と略直交し、かつ、溶融ガラス流の先端部近傍の断面の長径方向と略一致する方向から、溶融ガラス流に対して、一対のシアブレードを互いに反対方向かつ鉛直方向に対して交叉する方向から貫入させることにより実施されることが好ましい。

　第一の本発明のガラスブランクの製造方法の他の実施態様は、溶融ガラス流の先端部の分離が、溶融ガラス流の垂下する方向と略直交する方向から、溶融ガラス流に対して、一対のシアブレードを互いに反対方向かつ鉛直方向に対して交叉する方向から貫入させることにより実施され、一対のシアブレードの刃部が分岐し、その形状がＶ字形状およびＵ字形状から選択されるいずれか一方の形状であることが好ましい。

　第一の本発明のガラスブランクの製造方法の他の実施態様は、プレス成形工程を実施する直前の溶融ガラス塊の表面に存在する分離痕が、溶融ガラス塊の中心点と、第一のプレス成形型の成形面および第二のプレス成形型の成形面から選択されるいずれか一方の成形面と、を最短距離で結ぶ直線上に位置していることが好ましい。

　第一の本発明のガラスブランクの製造方法の他の実施態様は、プレス成形工程の実施により、溶融ガラス塊が、第一のプレス成形型の成形面と第二のプレス成形型の成形面との間で完全に押広げられて板状ガラスに成形された際に、第一のプレス成形型および第二のプレス成形型の成形面の少なくとも板状ガラスと接触する領域が、平坦面を形成していることが好ましい。

　第一の本発明の磁気記録媒体基板の製造方法は、連続的に流出する溶融ガラス流の先端部を分離して溶融ガラス塊を形成する溶融ガラス塊形成工程と、当該溶融ガラス塊形成工程を経た後に、下方へと落下する溶融ガラス塊を、溶融ガラス塊の落下方向に対して交叉する方向に対向配置された第一のプレス成形型および第二のプレス成形型によりプレス成形するプレス成形工程と、を少なくとも経てガラスブランクを製造した後、さらに、ガラスブランクの主表面の中央部に中心孔を形成する中心孔形成工程と、主表面を研磨する研磨工程と、を少なくとも経て、１枚の上記ガラスブランクから１枚の磁気記録媒体基板を製造し、プレス成形が、溶融ガラス流の先端部を分離する際に溶融ガラス塊表面に形成された分離痕が、第一のプレス成形型の成形面および第二のプレス成形型の成形面から選択される少なくとも一方の成形面に対向した状態で、溶融ガラス塊と、分離痕に対向する成形面とを接触させるように実施されることを特徴とする。

　第一の本発明の磁気記録媒体の製造方法は、連続的に流出する溶融ガラス流の先端部を分離して溶融ガラス塊を形成する溶融ガラス塊形成工程と、当該溶融ガラス塊形成工程を経た後に、下方へと落下する上記溶融ガラス塊を、溶融ガラス塊の落下方向に対して交叉する方向に対向配置された第一のプレス成形型および第二のプレス成形型によりプレス成形するプレス成形工程と、を少なくとも経てガラスブランクを製造し、さらに、ガラスブランクの主表面の中央部に中心孔を形成する中心孔形成工程と、主表面を研磨する研磨工程と、を少なくとも経て、１枚の上記ガラスブランクから１枚の磁気記録媒体基板を製造した後に、磁気記録媒体基板の主表面上に磁気記録層を形成する磁気記録層形成工程を少なくとも経て、磁気記録媒体を製造し、プレス成形が、溶融ガラス流の先端部を分離する際に溶融ガラス塊表面に形成された分離痕が、第一のプレス成形型の成形面および第二のプレス成形型の成形面から選択される少なくとも一方の成形面に対向した状態で、溶融ガラス塊と、分離痕に対向する成形面とを接触させるように実施されることを特徴とする。

　第一の本発明のシアブレードは、略板状の本体部と、当該本体部の端部側に設けられ、鉛直方向下方側へと連続的に流出する溶融ガラス流の先端部を、溶融ガラス流の垂下する方向と略直交する方向から切断する刃部と、本体部の下面側に設けられ、本体部側から刃部側へと伸びると共に、溶融ガラス流の切断に際して、刃部が溶融ガラス流へと接近し、喰い込む動作に連動して、先端部を押圧する押圧部材と、を少なくとも備えたことを特徴とする。

　第一の本発明のシアブレードの一実施態様は、押圧部材が、本体部に対して脱着可能に設けられ、本体部の下面に、押圧部材を取り付けるための取付部が設けられていることが好ましい。

　また、本発明者らは、上記第二の本発明が対象とする課題を解決するため鋭意検討した結果、以下に示す知見を得た。溶融ガラス流を切断すると溶融ガラス塊の上部と溶融ガラス流の下端に切断痕が生じるが、溶融ガラス流の下端の切断痕は、周りの高温のガラスにより加熱されて次の切断までに消失する。問題となるシアマークは溶融ガラス塊上部にできる切断痕である。

　落下する溶融ガラス塊をプレスする際の様子を高速度カメラで撮影し、スロー再生すると、プレス成形面に接触したガラスはプレス成形面によって熱を奪われ、プレス成形面に貼り付くように固化する。そして、ガラス塊内部の低粘性のガラスがプレスによってプレス成形面で挟まれた空間に広がる。

　溶融ガラス塊が向きを変えずに落下すると、プレス開始時のシアマークの位置は溶融ガラス塊上部にあることになる。このままガラスがプレスされればシアマークは薄板ガラスの外縁へと押し出されることになるが、実際にはガラス塊内部の低粘性のガラスがシアマークをプレス成形面へと押しやり、薄板ガラスの主表面にシアマークが残ってしまう。

　シアマークをプレス開始時にプレス成形面に接触させ、プレス成形面に貼り付けるように固化することができれば、溶融ガラス塊内部の低粘性ガラスによってシアマークの位置をコントロール不能な位置に押しやられずにすむ。そのためには、シアマークが形成されている位置を一番最初にプレスする必要がある。

　さらにシアマークを中心にガラスを均等に周囲に押し広げることができるので、シアマークをガラスブランクの中央部に局在させることができる。以下に示す第二の本発明のガラスブランク製造方法によって製造されるガラスブランクは、中心孔を有する磁気記録媒体に加工させるので、中心孔を形成する領域にシアマークを局在させることにより、中心孔あけ加工時にシアマークも除去することができる。したがって、主表面からシアマークを除去するために研削しろや研磨代を大きくとる必要がなくなる。

　第二の本発明は、上記第二の本発明が対象とする課題を解決するために、このような知見に基づきなされてものである。すなわち、
　第二の本発明のガラスブランクの製造方法は、ガラス流出口から流出する溶融ガラス流から溶融ガラス塊を分離し、プレス成形型を用いて薄板ガラスをプレス成形し、中心孔を有する磁気記録媒体基板に加工するためのガラスブランクを作製するガラスブランクの製造方法において、溶融ガラス塊を分離、落下させ、空中の溶融ガラス塊を対向するプレス成形面でプレスし、薄板ガラスを成形すること、および、溶融ガラス流から分離した部位がプレス成形面を向くように溶融ガラス塊の向きを変え、プレスを開始すること、を特徴とする。

　第二の本発明のガラスブランクの製造方法の一実施形態は、水平断面において、長径および短径を有するように溶融ガラス流の断面形状を制御し、シアブレードを用いて長径方向から溶融ガラス流を切断することが好ましい。

　第二の本発明のガラスブランクの製造方法の他の実施形態は、切断刃がＶ字形状もしくはＵ字形状の一対のシアブレードを交差することで、溶融ガラス流を切断することが好ましい。

　第二の本発明のガラスブランクの製造方法の他の実施形態は、溶融ガラス流切断時、溶融ガラス塊にトルクを加えて溶融ガラス塊の向きを変えることが好ましい。

　第二の本発明の磁気記録媒体基板の製造方法は、第二の本発明のガラスブランクの製造方法により作製されたガラスブランクの主表面を研磨する研磨工程と、主表面の中央に中心孔を設ける孔開け工程と、を少なくとも経て、磁気記録媒体基板を製造することを特徴とする。

　第二の本発明の磁気記録媒体の製造方法は、第二の本発明の磁気記録媒体基板の製造方法により作製された磁気記録媒体基板上に磁気記録層を形成する磁気記録層形成工程を少なくとも経て、磁気記録媒体を製造することを特徴とする。

　以上に説明したように、第一の本発明によれば、水平ダイレクトプレスにて作製されたガラスブランクを製造した場合に、シアマークがガラスブランクの中央部近傍に局在するガラスブランクの製造方法、当該ガラスブランクの製造方法を利用した磁気記録媒体基板の製造方法および磁気記録媒体の製造方法を提供することができる。

　また、第二の本発明によれば、溶融ガラスをプレス成形して、板厚偏差が小さく、平坦度が高く、しかも中心孔あけ加工とともにシアマークを除去することができる磁気記録媒体基板用のガラスブランクを作製するガラスブランクの製造方法を提供することができる。また、上記方法で作製したガラスブランクを、ラッピング工程を行わずに磁気記録媒体基板に加工する磁気記録媒体基板の製造方法、ならびに、前記方法で作製した基板を用いて磁気記録媒体を製造する方法を提供することができる。

第一の本実施形態のガラスブランクの製造方法の一例において、全工程の一部分を説明する模式断面図である。第一の本実施形態のガラスブランクの製造方法の一例において、全工程の他の部分を説明する模式断面図である。被プレス成形ガラス素材の上半球に対してＸ軸方向に作用する力のベクトルの一例を説明するグラフである。被プレス成形ガラス素材の上半球に対してＸ軸方向に作用する力のベクトルの一例を説明するグラフである。落下中の溶融ガラス塊の一例を示す模式断面図である。第一の本実施形態のガラスブランクの製造方法の一例において、全工程の他の部分を説明する模式断面図である。第一の本実施形態のガラスブランクの製造方法の一例において、全工程の他の部分を説明する模式断面図である。第一の本実施形態のガラスブランクの製造方法の一例において、全工程の他の部分を説明する模式断面図である。第一の本実施形態のガラスブランクの製造方法の一例において、全工程の他の部分を説明する模式断面図である。第一の本実施形態のガラスブランクの製造方法の一例において、全工程の他の部分を説明する模式断面図である。第一の本実施形態のガラスブランクの製造方法の一例において、全工程の他の部分を説明する模式断面図である。一対のシアブレードによる溶融ガラス流の先端部の分離の一例を示す模式断面図である。

第二の本実施形態のガラスブランクの製造方法を示すもので、水平方向から見たときの、ガラス流出口より流出する溶融ガラス流をシアブレードを用いて切断する様子を示したものである。第二の本実施形態のガラスブランクの製造方法を示すもので、溶融ガラス流を切断して溶融ガラス塊を分離するとともに、溶融ガラス塊上部に水平方向から力を加え、その向きを変える様子を示すものである。第二の本実施形態のガラスブランクの製造方法を示すもので、分離した溶融ガラス塊が回転しながら落下する様子を示すものである。第二の本実施形態のガラスブランクの製造方法を示すもので、対向するプレス成形面の間に溶融ガラス塊が回転しながら落下する様子を示すものである。第二の本実施形態のガラスブランクの製造方法を示すもので、溶融ガラス塊のプレス開始の様子を示すプレス成形型および溶融ガラス塊の垂直断面を示したものである。第二の本実施形態のガラスブランクの製造方法を示すもので、プレスによってガラスを薄板状に押し伸ばす過程を示すプレス成形型およびガラスの垂直断面である。第二の本実施形態のガラスブランクの製造方法を示すもので、プレスによって薄板ガラスに成形したときのプレス成形型および薄板ガラスの垂直断面を示すものである。第二の本実施形態のガラスブランクの製造方法を示すもので、プレス成形面を薄板ガラスに追従させながら薄板ガラスを冷却する様子を示すプレス成形型および薄板ガラスの垂直断面図である。第二の本実施形態のガラスブランクの製造方法を示すもので、薄板ガラスをプレス成形面の一方から離型する様子を示す垂直断面図である。第二の本実施形態のガラスブランクの製造方法を示すもので、薄板ガラスをプレス成形型から取り出す様子を示したものである。

１０　ガラス流出管
１２　ガラス流出口
２０　溶融ガラス流
２２　先端部（被プレス成形ガラス素材）
２４　溶融ガラス塊（被プレス成形ガラス素材）
２４Ａ　分離痕
２６　薄板ガラス
３０　下側ブレード（シアブレード）
３２　本体部
３２Ｂ　（本体部の）下面
３４　刃部
３４Ａ　（刃部の）先端
３４Ｕ　（刃部の）上面
３４Ｂ　（刃部の）下面
３６　押圧部材
３６Ａ　（押圧部材の）先端
３８　取付部
４０　上側ブレード（シアブレード）
４２　本体部
４２Ｂ　（本体部の）下面
４４　刃部
４４Ｕ　（刃部の）上面
４４Ｂ　（刃部の）下面
５０　第一のプレス成形型
５２　プレス成形型本体
５２Ａ　成形面
５４　ガイド部材
５４Ａ　ガイド面
６０　第二のプレス成形型
６２　プレス成形型本体
６２Ａ　成形面
６４　ガイド部材
６４Ａ　ガイド面

１　　　　　　　　ガラス流出管
２　　　　　　　　溶融ガラス流
３－１、３－２　　シアブレード
４　　　　　　　　溶融ガラス塊
５、６　　　　　　プレス成形型
５－１、５－２　　プレス成形型本体
６－１、６－２　　ガイド部材

＜第一の本実施形態＞
［ガラスブランクの製造方法］
　第一の本実施形態のガラスブランクの製造方法は、連続的に流出する溶融ガラス流の先端部を分離して溶融ガラス塊を形成する溶融ガラス塊形成工程と、当該溶融ガラス塊形成工程を経た後に、下方へと落下する上記溶融ガラス塊を、溶融ガラス塊の落下方向に対して交叉する方向に対向配置された第一のプレス成形型および第二のプレス成形型によりプレス成形するプレス成形工程と、を少なくとも経てガラスブランクを製造する。ここで、プレス成形は、溶融ガラス流の先端部を分離する際に上記溶融ガラス塊表面に形成された分離痕が、第一のプレス成形型の成形面および第二のプレス成形型の成形面から選択される少なくとも一方の成形面に対向した状態で、溶融ガラス塊と、分離痕に対向する成形面とを接触させるように実施され、１枚の上記ガラスブランクが、１枚の中心孔を有する磁気記録媒体基板を作製するために用いられることを特徴とする。

　第一の本実施形態のガラスブランクの製造方法では、溶融ガラス流から分離して形成された溶融ガラス塊が落下して、第一のプレス成形型の成形面と第二のプレス成形型の成形面との間に到達した状態では、分離時に溶融ガラス塊の表面に形成された分離痕が、少なくとも一方の成形面側に対向する。そして、この状態で、溶融ガラス塊は、第一のプレス成形型と第二のプレス成形型とにより、押圧され、プレス成形される。すなわち、シアマークの原因となる分離痕が、少なくとも一方の成形面側に対向した状態で、プレス成形工程が実施される。それゆえ、ガラスブランクに残留するシアマークは、ガラスブランクの中央部近傍に局在することになる。この場合、シアマークは、磁気記録媒体基板を作製する際に、中心孔を形成するためにガラスブランクの中央部部分（中心孔形成領域）と共に除去される。このため、シアマークを除去するために、大きな研削代および／または研磨代を確保する必要が無く、ラッピング工程の省略または短時間化が実現できる。

　なお、第一の本実施形態のガラスブランクの製造方法により製造された１枚のガラスブランクからは、１枚の磁気記録媒体のみが作製される。この場合、１枚のガラスブランクを作製する際に用いる溶融ガラス塊の体積は、ガラスの利用効率の観点から、１枚の磁気記録媒体基板の体積の２倍以下の範囲内が好ましく、１．３倍以下の範囲内がより好ましい。なお、参考までに述べれば、ガラスブランクを円盤形状とみなし、その直径をφb、厚みをｔb、磁気記録媒体基板の直径をφsubとすると、下式（１）を満たす場合には、１つの溶融ガラス塊の体積と等しい１枚のガラスブランクからは、２枚以上の磁気記録媒体基板が作製できないことになる。
・式（１）　φsub×２＞φb

　一方、溶融ガラス塊の体積Ｖgobは、温度変化によるガラスの体積変化を無視すれば、
ガラスブランクの体積と等しく、具体的には、下式（２）で表される。
・式（２）　Ｖgob＝π×（φb／２）^２×ｔb
　よって、下式（３）を満たす場合には、１つの溶融ガラス塊の体積と１枚のガラスブランクからは、１枚の磁気記録媒体基板しか作製できないことになる。
・式（３）　Ｖgob＜π×φsub^２×ｔb

　なお、第一のプレス成形型および第二のプレス成形型は、溶融ガラス塊の落下方向に対して交叉する方向に対向配置されていればよいが、通常は溶融ガラス塊の落下方向に対して直交する方向に対向配置されていることが特に好ましい。以下の説明においては、第一のプレス成形型および第二のプレス成形型は溶融ガラス塊の落下方向に対して直交する方向に対向配置されていることを前提として説明する。

　また、溶融ガラス流の先端部から分離された溶融ガラス塊は、何ら回転することなくそのまま第一のプレス成形型および第二のプレス成形型間に落下して、プレス成形されてもよく、あるいは、瞬間的に回転した後もしくは回転しながら第一のプレス成形型および第二のプレス成形型間に落下してプレス成形されてもよい。ここで、溶融ガラス塊が、何ら回転することなくそのまま第一のプレス成形型および第二のプレス成形型間に落下する場合、溶融ガラス塊の表面に形成される分離痕は、溶融ガラス塊が溶融ガラス流の先端部から分離された時点において、溶融ガラス塊の側面に位置することが必要である。

　一方、溶融ガラス塊は、通常、鉛直方向の下方側へと連続的に流出する溶融ガラス流の先端部を分離することにより形成される。この場合、溶融ガラス流から分離された直後の溶融ガラス塊には、その上部表面に分離痕が形成されることになる。この場合は、プレス成形工程において、溶融ガラス流の先端部を分離する際に溶融ガラス塊の上部表面に形成された分離痕が、第一のプレス成形型の成形面および第二のプレス成形型の成形面から選択されるいずれか一方の成形面に対向した状態で、溶融ガラス塊と、分離痕に対向する成形面とを接触させることができるように、溶融ガラス塊を回転させるために、（１）溶融ガラス塊形成工程の実施中において、溶融ガラス塊として分離される溶融ガラス流の先端部、および、（２）溶融ガラス塊形成工程の終了直後からプレス成形工程の開始直前までの期間において、落下中の溶融ガラス塊、から選択される少なくとも一方の被プレス成形ガラス素材に、鉛直方向と平行を成す被プレス成形ガラス素材の中心軸に対して直交する方向に作用する力のベクトルの大きさの総和が、実質的に０を超えるように、鉛直方向に対して交叉する方向から外力を付与する外力付与工程を実施することが必要である。

　被プレス成形ガラス素材に対して外力付与工程を実施することにより、溶融ガラス流から分離して形成された溶融ガラス塊は回転することになる。このため、溶融ガラス塊が落下して、第一のプレス成形型の成形面と第二のプレス成形型の成形面との間に到達した段階では、分離時に溶融ガラス塊の上部表面に位置していた分離痕が、溶融ガラス塊の側面側に移動し、いずれか一方の成形面側に対向することになる。そして、この状態で、溶融ガラス塊は、第一のプレス成形型と第二のプレス成形型とにより、水平方向から押圧され、プレス成形される。すなわち、シアマークの原因となる分離痕が、いずれか一方の成形面側に対向した状態で、プレス成形工程が実施される。それゆえ、ガラスブランクに残留するシアマークは、ガラスブランクの中央部近傍に局在することになる。この場合、シアマークは、磁気記録媒体基板を作製する際に、中心孔を形成するためにガラスブランクの中央部部分（中心孔形成領域）と共に除去できる。このため、シアマークを除去するために、大きな研削代および／または研磨代を確保する必要が無く、ラッピング工程の省略または短時間化が実現できる。

　ここで、溶融ガラス塊が、いずれか一方の成形面に対向するように回転すればよい。この場合、「溶融ガラス塊が、いずれか一方の成形面に対向する」とは、プレス成形工程を実施する直前の溶融ガラス塊の表面に存在する分離痕が、（１）溶融ガラス塊の中心点と、第一のプレス成形型の成形面および第二のプレス成形型の成形面から選択されるいずれか一方の成形面と、を最短距離で結ぶ直線上に位置している場合のみならず、（２）当該直線に対して、溶融ガラス塊の中心点を起点として４５度程度以下の角度を成す範囲内に位置する場合も含む。なお、当該角度は、３０度以下が好ましく、１５度以下がより好ましい。上記（１）示す場合、プレス成形に際して、真っ先に分離痕と成形面とが接触し、この状態で溶融ガラス塊が、プレス成形されるため、ガラスブランクのほぼ中央部にシアマークが位置することになる。また、上記（２）に示す場合、プレス成形に際して、まず最初に、分離痕近傍の溶融ガラス塊の表面と、成形面とが接触することになる。この場合も、上記（１）と比べると、多少の位置ずれが生じ易くなるものの、ガラスブランクの中央部近傍にシアマークが位置することになる。なお、より確実にガラスブランクの中央部またはその近傍に、シアマークを存在させることができる観点からは、上記（１）に示す態様が最も好ましい。

　溶融ガラス塊形成工程における溶融ガラス塊の形成方法としては特に限定されないが、通常は、一対のシアブレードを用いて実施される。この場合、溶融ガラス流の先端部の分離が、溶融ガラス流の垂下する方向と略直交する方向から、溶融ガラス流に対して一対のシアブレードを交叉することにより実施される。なお、シアブレードの刃部の形状は、溶融ガラス流の先端部の分離（切断）に適した形状であれば特に限定されないが、Ｖ字形状またはＵ字形状から選択されるいずれか一方の形状であることが好ましい。

　なお、一対のシアブレードを用いる場合、溶融ガラス塊の形成に際して一対のシアブレードが互いに接近または離間する移動方向と、プレス成形に際して一対のプレス成形型が互いに接近または離間する移動方向とは、水平面において略平行であることが必要である。具体的には、これら２つの移動方向が水平面において成す角度は、１０度以下であることが必要であり、５度以下であることが好ましく、０度が最も好ましい。２つの移動方向が水平面において略平行である場合には、溶融ガラス塊が回転することにより、分離痕が溶融ガラス塊の上部表面から側面側へと移動した際に、プレス成形工程を実施する直前の溶融ガラス塊の表面に存在する分離痕が、一対のプレス成形型のいずれか一方の成形面に確実に対向することができる。なお、溶融ガラス塊の形成には、一般的に一対のシアブレードが用いられるが、特許文献２には、上述した２つの移動方向の水平面における位置関係については何らの開示も無い。

　図１、図２は、第一の本実施形態のガラスブランクの製造方法の一例を説明する模式断面図であり、具体的には、一対のシアブレードにより溶融ガラス流の先端部を切断する過程を示した図である。ここで、図１は、溶融ガラス流の先端部を切断する前の状態を示し、図２は、溶融ガラス流の先端部を切断終了の前後の状態を示したものである。

　まず、図１に示すように、上端部が不図示の溶融ガラス供給源に接続されたガラス流出管１０の下端部に設けられたガラス流出口１２から、溶融ガラス流２０を鉛直方向の下方側へと連続的に流出させる。一方、ガラス流出口１２よりも下方側には、溶融ガラス流２０の両側に、各々、第一のシアブレード（下側ブレード）３０と、第二のシアブレード（上側ブレード）４０とが、溶融ガラス流２０の垂下する方向の中心軸Ｄに対して略直交する方向に、配置されている。そして、下側ブレード３０および上側ブレード４０は、各々、矢印Ｘ１方向および矢印Ｘ２方向に移動することで、溶融ガラス流２０の両側から、溶融ガラス流２０の先端部２２側へと接近する。

　ここで、下側ブレード３０、上側ブレード４０は、略板状の本体部３２、４２と、本体部３２，４２の端部側に設けられ、鉛直方向下方側へと連続的に流出する溶融ガラス流２０の先端部２２を、溶融ガラス流の垂下する方向と略直交する方向から切断する刃部３４、４４とを有する。なお、刃部３４の上面３４Ｕおよび刃部４４の下面４４Ｂは、水平面と略一致する面を成し、刃部３４の下面３４Ｂおよび刃部４４の上面４４Ｕは、水平面に対して交叉するように傾斜した面を成す。さらに、下側ブレード３０は、本体部３２の下面３２Ｂ側に設けられ、本体部３２側から刃部３４側へと伸びると共に、溶融ガラス流２０の切断に際して、刃部３４が溶融ガラス流２０へと接近し、喰い込む動作に連動して、先端部２２を押圧する押圧部材３６を更に備えている。また、鉛直方向に対して、刃部３４の上面３４Ｕと、刃部４４の下面４４Ｂとは、略同程度の高さ位置となるように、下側ブレード３０および上側ブレード４０が配置される。

　なお、図１に示す例では、この押圧部材３６は、本体部３２に対して脱着可能に設けられた棒状部材であり、略板状の本体部３２と、略平行となるように本体部３２の下部に取り付けられている。また、本体部３２には、この押圧部材３６を取付けるための取付部３８が設けられている。そして、押圧部材３６の刃部３４側の先端３６Ａの位置は、長さの異なる押圧部材３６へ交換したり、あるいは、取付部３８に対して押圧部材３６を水平方向にスライドさせることなどにより調整可能である。ここで、矢印Ｘ１方向において、ガラス流出管１０の中心軸Ｄを基準として、押圧部材３６の先端３６Ａの位置は、刃部３４の先端３４Ａの位置と比べて、中心軸Ｄからより離れた位置となる範囲で調整される。先端３６Ａの位置が、この範囲を外れた場合、先端部２２の分離（切断）に際して、刃部３４よりも先に押圧部材３６が先端部２２に接触することになり、分離された先端部２２が、真下ではなく、斜め下方向に落下する可能性が高くなるからである。なお、押圧部材３６は、本体部３２に脱着不可能に一体的に設けられたものでもよく、また、棒状以外に板状などのその他の形状であってもよい。

　なお、溶融ガラス流２０の粘度は、先端部２２の分離や、プレス成形に適した粘度であれば特に限定されないが、通常は、５００ｄＰａ・ｓ～１０５０ｄＰａ・ｓの範囲内で、一定の値に制御されることが好ましい。

　次に、図２に示すように、下側ブレード３０および上側ブレード４０を、各々、矢印Ｘ１方向および矢印Ｘ２方向にさらに移動させることで、刃部３４の上面３４Ｕと、刃部４４の下面４４Ｂとが、部分的にほぼ隙間無く重なり合うように、下側ブレード３０および上側ブレード４０をそれぞれ水平方向に移動させる。すなわち、中心軸Ｄに対して下側ブレード３０および上側ブレード４０を垂直に交叉させる。これにより、溶融ガラス流２０に対して、その中心軸Ｄの近傍まで下側ブレード３０および上側ブレード４０が貫入して、先端部２２が、略球状の溶融ガラス塊２４として分離（切断）される。この際、分離痕（切断痕）２４Ａが、溶融ガラス塊２４の上部表面に形成される。

　また、切断と略前後して、押圧部材３６の先端３６Ａが、分離されつつある先端部（被プレス成形ガラス素材）２２および／または溶融ガラス流２０から完全に分離された溶融ガラス塊（被プレス成形ガラス素材）２４の上部側面に接触し、押圧する。この場合、被プレス成形ガラス素材２２、２４の上半球側には、鉛直方向と平行を成す被プレス成形ガラス素材２２，２４の中心軸Ｄに対して直交する方向（図中、矢印Ｘ１、矢印Ｘ２と平行なＸ軸方向）に作用する力のベクトルの大きさの総和が、実質的に０を超えるように、鉛直方向に対して交叉する方向から外力が付与されることになる。

　ここで、図３および図４は、被プレス成形ガラス素材２２、２４の上半球に対してＸ軸方向に作用する力のベクトルの一例を説明するグラフである。ここで、図３および図４中、横軸はＸ軸方向を意味し、原点０を起点として、右側方向が切断時における下側ブレード３０の進行方向であるＸ１方向を表し、左側方向が切断時における上側ブレード４０の進行方向であるＸ２方向を表す。また、図３および図４中に示すベクトル、Ｖ（３０Ａ）、Ｖ（４０）、Ｖ（３６）は、各々、下側ブレード３０、上側ブレード４０、押圧部材３６に起因するベクトル、すなわち、切断前後において、被プレス成形ガラス素材２２、２４の上部に加わる下側ブレード３０、上側ブレード４０、押圧部材３６に起因する３つの外力のうち、Ｘ軸方向に作用する成分の力を意味する。

　ここで、下側ブレード３０および上側ブレード４０に起因する２つのベクトルＶ（３０Ａ）およびＶ（４０）は、向きが正反対で、大きさが実質的に同一のベクトルである。そして、切断に際して、下側ブレード３０および上側ブレード４０が、溶融ガラス流２０に貫入し始めると、Ｖ（３０Ａ）およびＶ（４０）のベクトルの大きさは、０から増大して極大値を示した後、切断が完了し、溶融ガラス塊２４の上部表面が、下側ブレード３０および上側ブレード４０から離間した時点で、再び０になる。すなわち、これら２つのベクトルＶ（３０Ａ）およびＶ（４０）は、溶融ガラス塊形成工程において、ほぼ打ち消し合う関係になり、Ｖ（３０Ａ）およびＶ（４０）の大きさの差分が見かけ上、実質的に０を維持する。

　そして、分離されつつある先端部（被プレス成形ガラス素材）２２が、押圧部材３６の先端３６Ａにより押圧された場合には、図３に示すように、２つの常に打ち消し合うベクトルＶ（３０Ａ）およびＶ（４０）に加えて、向きがＸ１方向のベクトルＶ（３６）が新たに作用することになる。このため、Ｖ（３６）が新たに作用した分だけ、Ｘ軸方向に作用する力のベクトルの大きさの総和が、実質的に０を遥かに超えることになる。また、溶融ガラス流２０から分離された溶融ガラス塊（被プレス成形ガラス素材）２４が、押圧部材３６の先端３６Ａにより押圧された場合には、図３に示すベクトルＶ（３０Ａ）およびＶ（４０）の大きさは共に０となり、図４に示すように、ベクトルＶ（３６）のみが作用することになる。このため、Ｘ軸方向に作用する力のベクトルの大きさの総和が、実質的に０を遥かに超えることになる。

　なお、図２に示す例においては、溶融ガラス流２０に対して下側ブレード３０および下側ブレード４０が貫入しつつある図３に示す態様のみで、ベクトルＶ（３６）を作用させてもよいし、溶融ガラス流２０に対して下側ブレード３０および下側ブレード４０が貫入し終えた後の図４に示す態様のみで、ベクトルＶ（３６）を作用させてもよいし、図３および図４に示す態様の双方で、ベクトルＶ（３６）を作用させてもよい。

　そして、図３および／または図４に示す態様で、被プレス成形ガラス素材２２、２４に外力を加えられた場合、ベクトルＶ（３６）の作用する位置は、図２中において被プレス成形ガラス素材２２、２４の中心点Ｃに対して上部左側の位置であるため、被プレス成形ガラス素材２２、２４は、中心点Ｃに対して、図２において時計回り方向Ｒに回転することになる。このため、図５に示すように、溶融ガラス塊２４が鉛直方向の下方Ｙ１（落下方向）側へと落下する過程で、分離直後において、溶融ガラス塊２４の中心点Ｃに対して鉛直方向真上側に位置した分離痕２４Ａが、中心点Ｃに対して時計回り方向に移動することになる。

　なお、図２に示す例では、下側ブレード３０に取り付けられ、これと連動して被プレス成形ガラス素材２２、２４の上部側を押圧する押圧部材３６を用いている。しかしながら、被プレス成形ガラス素材２２、２４を押圧する押圧部材３６としては、下側ブレード３０，上側ブレード４０から分離した位置に配置して被プレス成形ガラス素材２２、２４を押圧してもよい。また、押圧部材３６による押圧は、図３および図４に例示したように、被プレス成形ガラス素材２２、２４のＸ軸方向に作用する力のベクトルの大きさの総和が、実質的に０を超えるように実施されるのであれば、被プレス成形ガラス素材２２、２４に対する押圧位置・押圧方向は、任意に選択できる。たとえば、被プレス成形ガラス素材２２、２４の下部側を、押圧部材３６により水平方向に押圧することができる。なお、被プレス成形ガラス素材２２、２４のＸ軸方向に作用する力のベクトルの大きさの総和が、実質的に０を超えない場合（０近傍である場合）とは、たとえば、溶融ガラス流２０の先端部２２を、単純に分離することだけを目的として、一対のシアブレードを水平方向に対して移動させ、互いの面が摺動するように、各々のシアブレードをＸ１方向およびＸ２方向に対して略同一の速度で移動させる場合等を意味する。また、図３および図４に例示したように、回転させることを目的としたＸ軸方向に作用する力のベクトルを生じさせる外力は、被プレス成形ガラス素材２２、２４に対して、鉛直方向に対して交叉する方向から付与するのであれば、外力を付与する方向、被プレス成形ガラス素材２２、２４に対して外力が付与される位置等は特に限定されない。しかしながら、この外力を付与する場合、外力を付与する方向上に、被プレス成形ガラス素材２２、２４の中心点Ｃ（但し、分離前の先端部２２については、溶融ガラス塊２４となった場合に中心点となる位置）が位置しないようにすることが特に好ましい。外力を付与する方向上に被プレス成形ガラス素材２２、２４の中心点Ｃが位置する場合、回転が生じにくくなるためである。なお、より正確に言えば、外力を付与する方向上に被プレス成形ガラス素材２２、２４の中心点Ｃが位置する場合、その瞬間においては、回転が生じる力が生じない。しかし、溶融ガラス塊２４は常に落下して中心点Ｃの位置が下方へと移動する上に、先端部２２も極めて短時間のうちに分離されて溶融ガラス塊２４として落下するため、外力を付与し続ける期間内においては、中心点Ｃが下方に移動することになる。このため、回転は生じにくくなるものの、回転が全く生じないことは無い。

　なお、溶融ガラス塊２４の回転を目的とした被プレス成形ガラス素材２２、２４に対する外力の付与は、押圧部材３６を用いる代わりに、シアブレードの形状や、一対のシアブレードの移動の速度・タイミングを制御することによっても可能である。たとえば、図１および図２において、押圧部材３６を有さない下側ブレードを用いる場合、（１）下面４４Ｂよりも分離されつつある先端部（被プレス成形ガラス素材）２２の上部表面に対する接触時間の長い下面３４Ｂに多数の突起を設けたり、下面３４Ｂの表面を粗面化処理したり、下面３４Ｂの表面を溶融ガラスに対してより濡れ性の高い材料でコーティングしたりするなどにより、分離されつつある先端部（被プレス成形ガラス素材）２２の上部表面に対して、Ｘ１方向にさらに外力を加わり易くすることができる。この場合、分離されつつある先端部（被プレス成形ガラス素材）２２の上部表面と、下面３４Ｂとの摩擦力が増大し、分離されつつある先端部（被プレス成形ガラス素材）２２の上部表面が、下面３４Ｂの移動に巻き込まれる形でＸ１方向に移動しやすくなるためである。この場合、切断中において、ベクトルＶ（３０Ａ）の大きさが、ベクトルＶ（４０）の大きさを常に上回ることになるので、Ｘ軸方向に作用する力のベクトルの大きさの総和が、実質的に０を遥かに超えることになる。

　（２）また、先に、上側ブレード４０をＸ２方向に移動させて溶融ガラス流２０に貫入させている最中に、押圧部材３６を有さない下側ブレードを上側ブレード４０に対して相対的により高速でＸ１方向に移動させて溶融ガラス流２０中に貫入させた場合、下側ブレード３０および上側ブレード４０の溶融ガラス流２０に対する貫入により生じる２つの相反する方向の外力の他に、分離されつつある先端部（被プレス成形ガラス素材）２２の上部表面に対する接触時間が、下面４４Ｂよりも長い下面３４Ｂによって、先端部（被プレス成形ガラス素材）２２の上部表面が、矢印Ｘ１方向側に強く擦られる第３の外力が作用することになる。この場合、切断の直前直後の段階では、第３の外力が強く作用することになり、Ｘ軸方向に作用する力のベクトルの大きさの総和が、実質的に０を遥かに超えることになる。

　分離直後において、溶融ガラス塊２４の中心点Ｃに対して鉛直方向真上側に位置した分離痕２４Ａが、中心点Ｃに対して、図５において時計回り方向に移動した溶融ガラス塊２４は、さらに鉛直方向の下方Ｙ１側に落下する。そして、溶融ガラス塊２４の落下方向Ｙ１に対して直交する方向に対向配置された第一のプレス成形型および第二のプレス成形型の間に進入する。ここで、図６に示すように、プレス成形を実施する前の第一のプレス成形型５０および第二のプレス成形型６０は、落下方向Ｙ１に対して線対称を成すように、互いに離間して配置されている。そして、溶融ガラス塊２４が、第一のプレス成形型５０および第二のプレス成形型６０の鉛直方向中央部近傍に到達するタイミングに合わせて、溶融ガラス塊２４を両側から押圧してプレス成形するために、第一のプレス成形型５０が矢印Ｘ１方向へと移動し、第二のプレス成形型６０が矢印Ｘ２方向へと移動する。

　ここで、プレス成形型５０、６０は、略円盤形状を有するプレス成形型本体５２、６２と、このプレス成形型本体５２、６２の外周端を囲うように配置されたガイド部材５４、６４とを有する。なお、図６は断面図であるため、図６中において、ガイド部材５４、６４は、プレス成形型本体５２、６２の両側に位置するように描かれている。ここで、プレス成形型本体５２、６２の一方の面は、成形面５２Ａ、６２Ａとなっている。そして、図６では、第一のプレス成形型５０と第二のプレス成形型６０とは、２つの成形面５２Ａ、６２Ａが対向するように対向配置されている。また、ガイド部材５４には、成形面５２Ａに対してＸ１方向に少しだけ突出した高さ位置にガイド面５４Ａが設けられ、ガイド部材６４には、成形面６２Ａに対してＸ２方向に少しだけ突出した高さ位置にガイド面６４Ａが設けられている。このため、プレス成形に際しては、ガイド面５４Ａとガイド面６４Ａとが接触するため、成形面５２Ａと成形面６２Ａとの間には隙間が形成される。このため、この隙間厚みが、第一のプレス成形型５０と第二のプレス成形型６０との間でプレス成形されて板状となる溶融ガラス塊２４の厚み、すなわち、ガラスブランクの厚みとなる。また、図６に示すように、成形面５２Ａ，６２Ａは、プレス成形工程の実施により、溶融ガラス塊２４が、第一のプレス成形型５０の成形面５２Ａと第二のプレス成形型６０の成形面６２との間で、鉛直方向に完全に押広げられて板状ガラスに成形された際に、成形面５２Ａ，６２Ａの少なくとも上記の板状ガラスと接触する領域が、平坦面を形成するように形成されている。

　プレス成形型５０、６０を構成する材料としては、耐熱性、加工性、耐久性を考慮すると金属または合金が好ましい。この場合、プレス成形型５０、６０を構成する金属または合金の耐熱温度は１０００℃以上が好ましく、１１００℃以上がより好ましい。プレス成形型５０、６０を構成する材料としては、具体的には、球状黒鉛鋳鉄（ＦＣＤ）、合金工具鋼（ＳＫＤ６１など）、高速鋼（ＳＫＨ）、超硬合金、コルモノイ、ステライトなどが好ましい。

　ガラスブランクは、溶融ガラス塊２４を成形面５２Ａ、６２Ａにより押圧してプレス成形することにより作製される。このため、成形面５２Ａ、６２Ａの表面粗さとガラスブランクの主表面の表面粗さとはほぼ同等になる。ガラスブランクの主表面の表面粗さ（中心線表面粗さＲａ）は、後述する後工程として実施されるスクライブ加工、および、ダイヤモンドシートを用いた研削加工を行う上で、１０μｍ以下の範囲とすることが望ましいため、プレス成形面の表面粗さ（中心線表面粗さＲａ）も１０μｍ以下の範囲とすることが好ましい。

　図６に示す溶融ガラス塊２４が、更に下方へと落下し、２つのプレス成形面５２Ａ、６２Ａ間に進入する。そして、図７に示すように、落下方向Ｙ１と平行を成すプレス成形面５２Ａ、６２Ａの上下方向の略中央部近傍に到達した時点で、溶融ガラス塊２４の両側表面が、プレス成形面５２Ａ、６２Ａに接触する。この場合、分離痕２４Ａと、溶融ガラス塊２４の中心点Ｃに対して分離痕２４Ａと点対称の位置にある溶融ガラス塊２４の表面部分とが、最初に、プレス成形面６２Ａと、プレス面５２Ａと略同時に接触することが好ましい。このプレス成形工程を実施する直前の段階において、溶融ガラス塊２４の中心点Ｃと、プレス成形面６２Ａとを最短距離で結ぶ直線Ｘ３に対して、分離痕２４Ａは、中心点Ｃを起点として０度の角度を成す位置に存在することになる。

　なお、プレス成形の開始時点まで、溶融ガラス塊２４は、回転し続けながら落下する態様であってもよい（以下、「回転継続型落下」と称す）。また、被プレス成形ガラス素材２２、２４に対して、Ｘ軸方向に作用する力のベクトルの大きさの総和が、実質的に０を超えるように、鉛直方向に対して交叉する方向から外力が加わった際に、瞬間的に回転した後、プレス成形の開始時点まで、この状態を維持しつつ溶融ガラス塊２４が落下する態様であってもよい（以下、「回転停止型落下」と称す）。しかしながら、いずれの場合であっても、図７に示すプレス成形工程を実施する直前段階では、既述したように、分離痕２４Ａが、直線Ｘ３に対して、溶融ガラス塊２４の中心点Ｃを起点として４５度以下の角度（以下、「回転角」と称す場合がある）を成す範囲内に位置することが必要である。

　ここで、プレス成形の開始時点における回転角を上記範囲内とするためには、（１）回転停止型落下の場合は、回転させる際の外力の向き・強さ等を制御することができ、（２）回転継続落下の場合は、ａ）回転させる際の外力の向き・強さ、および、ｂ）落下距離等を制御することができる。ここで、「落下距離」とは、図２に例示したような分離痕２４Ａが最初に形成される位置、すなわち、下側ブレード３０と上側ブレード４０とが垂直方向に重なる位置から、図７に例示したようなプレス成形の開始時点の位置、すなわち、落下方向Ｙ１と平行を成すプレス成形面５２Ａ、６２Ａの直径方向の略中央部近傍までの距離を意味する。なお、落下中の溶融ガラス塊２４の粘度増大によりプレス成形し難しくなったり、あるいは、落下速度が大きくなりすぎて、プレス位置の変動が生じないようにする観点も考慮して、落下距離は、１０００ｍｍ以下の範囲内で選択することが好ましく、５００ｍｍ以下の範囲内で選択することがより好ましく、３００ｍｍ以下の範囲内で選択することがさらに好ましく、２００ｍｍ以下の範囲内で選択することが最も好ましい。なお、落下距離の下限は特に限定されないが、実用上は７５ｍｍ以上であることが好ましい。

　プレス成形の開始時点における回転角を上記範囲内に調整する方法としては、たとえば、下記に示す方法（１）、（２）を採用することができる。
（１）溶融ガラス塊２４の分離条件（たとえば、シアブレード３０，４０の駆動タイミング）と、プレス成形型５０、６０の駆動タイミングとを一定とした状態で、溶融ガラス塊２４の落下の様子を高速度カメラでモニターする。そして、このモニター結果を元に、プレス成形の開始時点における回転角が上記範囲内となるように、落下距離を調整する。
（２）落下距離を一定とした状態で溶融ガラス塊２４の落下の様子を高速度カメラでモニターする。そして、このモニター結果を元に、プレス成形の開始時点における回転角が上記範囲内となるように、溶融ガラス塊２４の分離条件（たとえば、シアブレード３０，４０の駆動タイミング）とを調整する。

　なお、プレス成形開始時点における第一のプレス成形型５０および第二のプレス成形型６０の温度は、溶融ガラス塊２４を構成するガラス材料のガラス転移温度未満に設定されることが好ましい。これにより、溶融ガラス塊２４がプレス成形された際に、薄く延伸された溶融ガラス塊２４と、成形面５２Ａ、６２Ａとの間で融着が発生するのをより確実に防止できる。

　そして、溶融ガラス塊２４の表面が、成形面５２Ａ、６２Ａに接触すると、溶融ガラス塊２４は、成形面５２Ａ，６２Ａに貼り付くように固化する。そして、図８に示すように、溶融ガラス塊２４を、その両側から第一のプレス成形型５０および第二のプレス成形型６０により押圧し続けると、溶融ガラス塊２４は、溶融ガラス塊２４と成形面５２Ａ、６２Ａとが最初に接触した位置を中心に均等な厚みで押し広げられる。そして、図９に示すようにガイド面５４Ａとガイド面６４Ａとが接触するところまで、第一のプレス成形型５０および第二のプレス成形型６０により押圧し続けることで、成形面５２Ａ、６２Ａ間に、円盤状もしくは略円盤状の薄板ガラス２６に成形される。したがって、図７に示すように、分離痕２４Ａが、最初に成形面６２Ａと接触した場合には、薄板ガラス２６の成形面６２Ａと対向する面に分離痕２４Ａ（図９中、不図示）が位置することになる。

　ここで、図９に示す薄板ガラス２６は、最終的に得られるガラスブランクと実質的に同一の形状・厚みを有するものである。また、図７に示すプレス成形の開始時点の状態から、図９に示すガイド面５４Ａとガイド面６４Ａとが接触した状態となるまでに要する時間（以下、「プレス成形時間」と称す場合がある）は、溶融ガラス塊２４を薄板化する観点から、０．１秒以内とすることが好ましい。また、プレス成形に際して、ガイド面５４Ａとガイド面６４Ａとが接触した状態となることにより、成形面５２Ａと成形面６２Ａとの平行状態を維持することが容易となる。なお、プレス成形時間の上限は特に限定されない。

　なお、図９に示す状態となった後は、ガイド面５４Ａとガイド面６４Ａとが接触した状態を維持して、薄板ガラス２６の両面と成形面５２Ａ、６２Ａとが密着した状態を維持するように、第一のプレス成形型５０および第二のプレス成形型６０に対して印加するプレス圧力よりも十分に小さい圧力を加え続けることができる。そして、この状態を数秒間継続し、薄板ガラス２６を冷却する。ここで、第一のプレス成形型５０および第二のプレス成形型６０の間に挟持された状態での薄板ガラス２６の冷却は、薄板ガラス２６を構成するガラス材料の屈伏点以下となるまで実施することが好ましい。なお、上述した状態で、プレス圧力をより大きくすると、薄板ガラス２６が破損する場合がある。

　次に、図１０に示すように、第一のプレス成形型５０と第二のプレス成形型６０とを互いに離間させるように、第一のプレス成形型５０をＸ２方向へ移動させ、第二のプレス成形型６０をＸ１方向へ移動させる。これにより、成形面６２Ａと、薄板ガラス２６とを離型させる。次いで、図１１に示すように、成形面５２Ａと、薄板ガラス２６とを離型させて、薄板ガラス２６を鉛直方向の下方Ｙ１側に落下させて取り出す。なお、成形面５２Ａと薄板ガラス２６とを離型させる際には、薄板ガラス２６の外周方向から力を加えて薄板ガラス２６を剥がすように離型することができるし、薄板ガラスの表面を空冷してガラスを収縮させることで離型することもできる。この場合、薄板ガラス２６に大きな力を加えることなく、取出しを行うことができる。なお、プレス成形に際しては、水、空気などの冷却用媒体を用いて第一のプレス成形型５０および第二のプレス成形型６０を冷却し、成形面５２Ａ、６２Ａの温度が過度に上昇しないように制御してもよい。

　最後に、取出した薄板ガラス２６をアニールして歪を低減・除去し、磁気記録媒体基板を加工するための母材、すなわち、ガラスブランクを得る。そして、このガラスブランクの主表面の中央部近傍には、分離痕２４Ａに起因するシアマークが局在する。このため、磁気記録媒体基板を作製する際に実施される中心孔の形成加工によって、シアマークを含む領域を除去することができる。

　なお、溶融ガラス流２０の粘度が５００ｄＰａ・ｓ未満である場合、溶融ガラス流２０を空中に垂下した状態で、必要量の溶融ガラス塊２４を分離することが難しくなる場合がある。このため、溶融ガラス流２０の粘度が５００ｄＰａ・ｓ未満の場合、ガラス流出口１２の下方に溶融ガラス流２０の先端部２２を支持し、溶融ガラス塊２４を得るのに必要な量の溶融ガラスを蓄積してから溶融ガラス塊２４を分離する。そして、このようにして得られた、溶融ガラス塊２４に対して、中心点Ｃを起点として、溶融ガラス塊２４が回転するように外力を加えて落下させ、分離痕２４Ａの位置が成形面５２Ａまたは成形面６２Ａを向くようにしてプレス成形を開始すればよい。

　落下中の溶融ガラス塊２４をプレス成形することにより、プレス成形開始直前の溶融ガラス塊２４の粘度分布を均一化し、溶融ガラス塊２４を均等な厚さで薄く伸ばしやすくする。磁気記録媒体基板に設ける中心孔の内径が小さい場合は、ガラスブランクに形成されるシアマークのサイズを小さくし、ガラスブランクの中心孔が形成される範囲内にシアマークが収まるようにする。

　この場合、溶融ガラス流２０の垂下する方向と直交する平面における溶融ガラス流２０の先端部２２近傍の断面の形状が、長径と短径とを有する略楕円形状を成し、溶融ガラス流２０の先端部２２の分離が、溶融ガラス流２０の垂下する方向と略直交し、かつ、溶融ガラス流２０の先端部２２近傍の断面の長径方向と略一致する方向から、溶融ガラス流に対して、一対のシアブレードを互いに反対方向かつ鉛直方向に対して交叉する方向から貫入させることが有効である。このようにして、溶融ガラス流２０の先端部２２を分離することで、シアマークを小さくすることができる。そして、この場合、中心孔の内径が小さくても、ガラスブランクの中心孔が形成される範囲内にシアマークを局在させることができる。なお、溶融ガラス流２０の先端部２２近傍の断面形状を略楕円形状とするためには、たとえば、ガラス流出口１２の開口形状を細長くする方法や、溶融ガラス流２０を、その垂下する方向の両側から挟んで、断面形状が細長くなるように変形させる方法などが採用できる。また、シアマークを小さくする手法としては、刃部が分岐し、その形状がＶ字形状もしくはＵ字形状の一対のシアブレードを用いて溶融ガラス流を切断する方法も有効である。この場合、図２に例示したように、溶融ガラス流２０の先端部２２の分離は、溶融ガラス流２０の垂下する方向と略直交する方向から、溶融ガラス流２０に対して、一対のシアブレード３０、４０を互いに反対方向かつ鉛直方向に対して交叉する方向から貫入させることで実施される。

　また、ガラスブランクに形成されるシアマークの大きさは、ガラス流出口１２の内周長に応じて増減する。ガラス流出口１２の内周長の増加に伴い、シアマークの大きさも増加し、ガラス流出口１２の内周長の減少に伴い、シアマークの大きさも減少する。したがって、シアマークの大きさを中心孔径より小さくするには、単位時間当たりの溶融ガラス流２０の流出量が所定量になる範囲内でガラス流出口１２の内周長を小さく、すなわちガラス流出口１２の内径を小さくすればよい。例えば、流出する溶融ガラスの粘度を７００ｄＰａ・ｓとしたとき、ガラス流出口１２の内周長を４７ｍｍ（ガラス流出口１２が円形である場合は内径約１５ｍｍに相当）とすると、単位時間当たりの溶融ガラス流２０の流出量が５００ｇ／分（ガラスブランク５０枚分）、シアマークの大きさが１８ｍｍとなり、シアマークを２．５インチサイズの磁気記録媒体基板の中心孔径２０ｍｍより小さくすることができる。また、流出する溶融ガラス流２０の粘度を上記の値のままとし、ガラス流出口１２の内周長が４１ｍｍ（内径約１３ｍｍに相当）とすると、単位時間当たりの溶融ガラス流２０の流出量が３５０ｇ／分（ガラスブランク３５枚分）、シアマークの大きさが１５ｍｍとなり、シアマークを２．５インチサイズの磁気記録媒体基板の中心孔径２０ｍｍより小さくすることができる。このようにして磁気記録媒体基板の中心孔径に収まるようにシアマークの大きさを制御することができる。

　図１２は、一対のシアブレードによる溶融ガラス流の先端部の分離の一例を示す模式断面図である。ここで、図１１は、具体的には、図１において、中心軸Ｄと直交する面における溶融ガラス流２０の断面（水平断面）が略楕円形状を成す場合について示した図である。ここで、図中、一点鎖線Ｓは、水平断面が楕円形状の溶融ガラス流２０の長径方向と一致する方向を意味し、矢印Ｘ１方向および矢印Ｘ２方向と平行を成す。図１１に示す例では、溶融ガラス流２０の垂下する方向（中心軸Ｄ）と直交し、かつ、溶融ガラス流２０の水平断面の長径方向Ｓと一致する方向から、溶融ガラス流２０に対して、一対のシアブレード３０、４０を互いに反対方向かつ鉛直方向（中心軸Ｄ）に対して交叉する方向から貫入させる（下側ブレード３０をＸ１方向へと移動させ、上側ブレード４０をＸ２方向へと移動させることで貫入させる）。

　第一の本実施形態のガラスブランクの製造方法では、水平ダイレクトプレスを利用してガラスブランクを製造するため、板厚偏差および平坦度の小さいガラスブランクを容易に得ることができる。なお、作製されるガラスブランクの板厚偏差は、１０μｍ以下が好ましく、平坦度は、１０μｍ以下が好ましく、８μｍ以下がより好ましく、６μｍ以下がさらに好ましく、４μｍ以下が特に好ましい。

　第一の本実施形態のガラスブランクの製造方法は、板厚に対する直径の比（直径／板厚）が５０～１５０のガラスブランクの製造に好適である。ここで、直径とはガラスブランクの長径と短径との相加平均である。プレス成形型５０、６０によってガラスブランクの外周端面を規制しないので、外周端面は自由表面となる。ここで、製造されるガラスブランクの真円度は特に限定されないが、±０．５ｍｍ以内とすることが好ましい。

　ガラスブランクの直径については特に制限はないが、直径の設定は、後述するようにガラスブランクから磁気記録媒体基板を加工する際に行うスクライブ加工や外周加工時の除去量を基板の直径に加えた値を目処に行うことが好ましい。

　ガラスブランクの板厚は０．７５～１．１ｍｍの範囲が好ましく、０．７５～１．０ｍｍの範囲がより好ましい。ガラスブランクの板厚、板厚偏差、平坦度、直径、真円度の測定は、三次元測定器、マイクロメータを用いて行えばよい。

　使用するガラスの組成は、磁気記録媒体基板に求められる性質に応じて適宜選択すればよく、たとえば、アルミノシリケートガラス、ソーダライムガラス、ソーダアルミノケイ酸ガラス、アルミノボロシリケートガラス、ボロシリケートガラス、などを挙げることができる。また、これらのガラスは加熱処理により結晶化する結晶化ガラスであってもよく、加熱処理により結晶化した後に加工して磁気記録媒体基板に仕上げることもできる。

　磁気ディスク等の磁気記録媒体の製造に利用される磁気記録媒体基板に使用されるガラスには、化学的耐久性があり、剛性が大きく、高い熱膨張係数を有することが望まれる。さらに、抗折強度を高めることを重視する場合は、化学強化が可能な組成であることが求められ、また、磁気記録媒体の製造過程で高温熱処理を行う場合は、耐熱性の高い組成であることが望まれる。

　化学的耐久性があり、剛性が大きく、高い熱膨張係数を有するガラスとして、
酸化物基準に換算し、モル％表示にて、
１）ＳｉＯ_２を５０～７５％、
２）Ａｌ_２Ｏ_３を０～１５％、
３）Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏから選択される少なくとも１種の金属酸化物を合計で３～３５％、
４）ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯおよびＺｎＯから選択される少なくとも１種の金属酸化物を合計で０～３５％、ならびに、
５）ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、Ｌａ_２Ｏ_３、Ｙ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｎｂ_２Ｏ_５およびＨｆＯ_２から選択される少なくとも１種の金属酸化物を合計で０～１５％含むガラスを例示することができる。

　なお、清澄時の泡切れを改善するため、Ｓｎ酸化物およびＣｅ酸化物を外割り合計含有量で０．１～３．５質量％の範囲で添加することが望ましい。この場合、Ｓｎ酸化物とＣｅ酸化物との合計含有量に対するＳｎ酸化物の含有量の質量比（Ｓｎ酸化物の質量／（Ｓｎ酸化物の質量＋Ｃｅ酸化物の質量））は０．０１～０．９９である。以下、特記しない限り、ガラス成分の含有量、合計含有量はモル％にて表示するが、Ｓｎ酸化物、Ｃｅ酸化物の含有量は質量％にて表示するものとする。

　ＳｉＯ_２は、ガラスのネットワーク形成成分であり、ガラス安定性、化学的耐久性、特に耐酸性を向上させる働きをする必須成分である。ＳｉＯ_２の含有量が５０％未満だと上記働きを十分得ることができず、７５％を超えるとガラス中に未溶解物が生じたり、清澄時のガラスの粘性が高くなりすぎて泡切れが不十分になる場合がある。したがって、ＳｉＯ_２の含有量は５０～７５％であることが好ましい。

　Ａｌ_２Ｏ_３もガラスのネットワーク形成に寄与し、ガラス安定性、化学的耐久性を向上させる働きをするとともに、化学強化時のイオン交換速度を増加させる働きもする。Ａｌ_２Ｏ_３の含有量が１５％を超えるとガラスの溶融性が低下し、未溶解物が生じやすくなる場合がある。また、熱膨張係数が低下し、ヤング率低下する場合がある。したがって、Ａｌ_２Ｏ_３の含有量は０～１５％であることが好ましい。

　Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏは、ガラスの溶融性および成形性を向上させる働きをする。また、熱膨張係数を増加させる働きもする。Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏの含有量が３％未満であると上記働きを十分得ることができない場合があり、３５％を超えると化学的耐久性、特に耐酸性が低下したり、ガラスの熱的安定性が低下する場合がある。また、ガラス転移温度が低下し、耐熱性も低下する場合がある。したがって、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏの含有量は３～３５％であることが好ましく、５～３５％であることがより好ましい。なお、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏのうち、ガラス転移温度を低下させる働きが最も大きいものはＬｉ_２Ｏである。

　ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯおよびＺｎＯは、ガラスの溶融性、成形性、ヤング率を向上させる働きをする。また、熱膨張係数、ヤング率を増加させる働きもする。しかし、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯおよびＺｎＯの合計含有量が３５％を超えると化学的耐久性やガラスの熱的安定性が低下する場合がある。したがって、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯおよびＺｎＯの合計含有量は０～３５％であることが好ましい。

　ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、Ｌａ_２Ｏ_３、Ｙ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｎｂ_２Ｏ_５およびＨｆＯ_２は、化学的耐久性、特に耐アルカリ性を改善し、ガラス転移温度を高めて耐熱性を改善し、ヤング率や破壊靭性を高める働きをする。しかし、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、Ｌａ_２Ｏ_３、Ｙ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｎｂ_２Ｏ_５およびＨｆＯ_２の合計含有量が１５％を越えるとガラスの溶融性が低下し、ガラス中にガラス原料の未溶解物が残ってしまう場合がある。したがって、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、Ｌａ_２Ｏ_３、Ｙ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｎｂ_２Ｏ_５およびＨｆＯ_２の合計含有量は、０～１５%であることが好ましい。

　上記の組成範囲に含まれる組成範囲を以下に例示する。なお、ガラス成分の含有量、合計含有量は、特記しない限りモル％にて表示するものとする。

　第１のガラスは、化学強化の効率を重視したものであり、その組成範囲は、
１）ＳｉＯ_２の含有量：６０～７５%、
２）Ａｌ_２Ｏ_３の含有量：３～１２％、
３）Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏから選択される少なくとも１種の金属酸化物の合計含有量：２０～３５％（好ましくは２０～３０％）、
４）ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯおよびＺｎＯから選択される少なくとも１種の金属酸化物の合計含有量：０～５％、ならびに
５）ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、Ｌａ_２Ｏ_３、Ｙ_２Ｏ_３、Ｙｂ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｎｂ_２Ｏ_５およびＨｆＯ_２から選択される少なくとも１種の金属酸化物の合計含有量：０～７％、
である。

　第２のガラスは、化学的耐久性を重視したものであり、その組成範囲は、
１）ＳｉＯ_２の含有量：６０～７５%、
２）Ａｌ_２Ｏ_３の含有量：１～１５％、
３）Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏから選択される少なくとも１種の金属酸化物の合計含有量：１５～２５％、
４）ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯおよびＺｎＯから選択される少なくとも１種の金属酸化物の合計含有量：１～６％、ならびに、
５）ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、Ｌａ_２Ｏ_３、Ｙ_２Ｏ_３、Ｙｂ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｎｂ_２Ｏ_５およびＨｆＯ_２から選択される少なくとも１種の金属酸化物の合計含有量：０．１～９％（好ましくは０．５～９％、より好ましくは1～９％）、
である。

　第３のガラスは、高剛性を重視したものであり、その組成範囲は、
１）ＳｉＯ_２の含有量：５０～７０%、
２）Ａｌ_２Ｏ_３の含有量：１～８％、
３）Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏから選択される少なくとも１種の金属酸化物の合計含有量：１２～２２％、
４）ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯおよびＺｎＯから選択される少なくとも１種の金属酸化物の合計含有量：１０～２０％、ならびに、
５）ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、Ｌａ_２Ｏ_３、Ｙ_２Ｏ_３、Ｙｂ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｎｂ_２Ｏ_５およびＨｆＯ_２から選択される少なくとも１種の金属酸化物の合計含有量：３～１０％、
である。

　第４のガラスは、高耐熱性を重視したものであり、その組成範囲は、
１）ＳｉＯ_２の含有量：５０～７０%、
２）Ａｌ_２Ｏ_３の含有量：１～１０％、
３）Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏから選択される少なくとも１種の金属酸化物の合計含有量：５～１７％（但し、Ｌｉ_２Ｏの含有量：０～５％、好ましくは０～１％）、
４）ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯおよびＺｎＯから選択される少なくとも１種の金属酸化物の合計含有量：１０～２５％、
５）ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、Ｌａ_２Ｏ_３、Ｙ_２Ｏ_３、Ｙｂ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｎｂ_２Ｏ_５およびＨｆＯ_２から選択される少なくとも１種の金属酸化物の合計含有量：１～１２％、
である。

　第５のガラスは、高耐熱性、高剛性、および高熱膨張を重視したものであり、その組成範囲は、
１）ＳｉＯ_２の含有量：５０～７５%、
２）Ａｌ_２Ｏ_３の含有量：０～５％、
３）Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏから選択される少なくとも１種の金属酸化物の合計含有量：３～１５％（但し、Ｌｉ_２Ｏの含有量：０～１％）、
４）ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯおよびＺｎＯから選択される少なくとも１種の金属酸化物の合計含有量：１４～３５％、ならびに、
５）ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、Ｌａ_２Ｏ_３、Ｙ_２Ｏ_３、Ｙｂ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｎｂ_２Ｏ_５およびＨｆＯ_２から選択される少なくとも１種の金属酸化物の合計含有量：２～９％、
である。

［磁気記録媒体基板の製造方法］
　第一の本実施形態の磁気記録媒体基板の製造方法は、第一の本実施形態のガラスブランクの製造方法により作製されたガラスブランクの主表面の中央部に中心孔を形成する中心孔形成工程と、主表面を研磨する研磨工程と、を少なくとも経て、磁気記録媒体基板を製造することを特徴とする。

　まず、第一の本実施形態のガラスブランクの製造方法により製造されたガラスブランクに対してスクライブが行われる。スクライブとは、成形されたガラスブランクを所定のサイズのリング形状とするために、ガラスブランクの表面に超鋼合金製あるいはダイヤモンド粒子からなるスクライバにより２つの同心円（内側同心円および外側同心円）状の切断線（線状のキズ）を設けることをいう。なお、ガラスブランクに残存するシアマークは内側同心円の内側に局在する。２つの同心円の形状にスクライブされたガラスブランクは、部分的に加熱され、ガラスの熱膨張の差異により、外側同心円の外側部分および内側同心円の内側部分が除去される。これにより、真円形状かつリング状のディスク状ガラスとなる。内側同心円の内側部分の除去が中心孔を形成する中心孔形成工程に相当し、この加工によってシアマークが除去される。

　スクライブ加工する場合、ガラスブランクの主表面の粗さが１μｍ以下であれば、スクライバを用いて好適に切断線を設けることができる。なお、ガラスブランクの主表面の粗さが１μｍを超える場合、スクライバが表面凹凸に追従せず、切断線を一様に設けることが困難となる場合がある。この場合は、ガラスブランクの主表面を平滑化してからスクライブを行う。

　次に、スクライブしたガラスの形状加工が行われる。形状加工は、チャンファリング（外周端部および内周端部の面取り）を含む。チャンファリングでは、リング形状のガラスの外周端部および内周端部に、ダイヤモンド砥石により面取りが施される。

　次にディスク状ガラスの端面研磨が行われる。端面研磨では、ディスク状ガラスの内周側端面および外周側端面をブラシ研磨により鏡面仕上げを行う。このとき、酸化セリウム等の微粒子を遊離砥粒として含むスラリーが用いられる。端面研磨を行うことにより、ガラスの端面での塵等が付着した汚染、ダメージあるいはキズ等の損傷の除去を行うことにより、ナトリウムやカリウム等のコロージョンの原因となるイオン析出の発生を防止することができる。次に、ディスク状ガラスの主表面に第１研磨が施される。第１研磨は、主表面に残留したキズ、歪みの除去を目的とする。

　第１研磨による取り代は、たとえば数μｍ～１０μｍ程度である。第１研磨工程、および後述する第２研磨工程では、両面研磨装置が用いられる。両面研磨装置は、研磨パッドを用い、ディスク状ガラスと研磨パッドとを相対的に移動させて研磨を行う装置である。

　両面研磨装置はそれぞれ所定の回転比率で回転駆動されるインターナルギアおよび太陽ギアを有する研磨用キャリア装着部と、この研磨用キャリア装着部を挟んで互いに逆回転駆動される上定盤および下定盤とを有する。上定盤および下定盤のディスク状ガラスと対向する面には、それぞれ後述する研磨パッドが貼り付けられている。インターナルギアおよび太陽ギアに噛合するように装着した研磨用キャリアは遊星歯車運動をして、太陽ギアの周囲を自転しながら公転する。

　研磨用キャリアにはそれぞれ複数のディスク状ガラスが保持されている。上定盤は上下方向に移動可能であって、ディスク状ガラスの表裏の主表面に研磨パッドを加圧する。そして研磨砥粒（研磨材）を含有するスラリー（研磨液）を供給しつつ、研磨用キャリアの遊星歯車運動と、上定盤および下定盤が互いに逆回転することにより、ディスク状ガラスと研磨パッドとは相対的に移動して、ディスク状ガラスの表裏の主表面が研磨される。なお、第１研磨工程では、研磨パッドとしてたとえば硬質樹脂ポリッシャ、研磨材としてはたとえば酸化セリウム砥粒、が用いられる。

　次に、第１研磨後のディスク状ガラスは化学強化される。化学強化に使用する溶融塩として、たとえば硝酸カリウム（６０質量％）と硝酸ナトリウム（４０質量％）の混合溶融塩等を用いることができる。化学強化では、溶融塩が、たとえば３００℃～４００℃に加熱され、洗浄したディスク状ガラスが、たとえば２００℃～３００℃に予熱された後、ガラスが溶融塩中に、たとえば３時間～４時間浸漬される。この浸漬の際には、ディスク状ガラスの両主表面全体が化学強化されるように、複数のディスク状ガラスが端面で保持されるように、ホルダに収納した状態で行うことが好ましい。

　このように、ディスク状ガラスを溶融塩に浸漬することによって、ディスク状ガラスの表層のリチウムイオンおよびナトリウムイオンが、溶融塩中のイオン半径が相対的に大きいナトリウムイオンおよびカリウムイオンにそれぞれ置換され、約５０～２００μｍの厚さの圧縮応力層が形成される。これにより、ディスク状ガラスが強化されて良好な耐衝撃性が備わるようになる。なお、化学強化処理されたガラスは洗浄される。たとえば、硫酸で洗浄された後に、純水、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）等で洗浄される。

　次に、化学強化されて十分に洗浄されたディスク状ガラスに第２研磨が施される。第２研磨による取り代は、たとえば１μｍ程度である。第２研磨は、主表面を鏡面状に仕上げることを目的とする。第２研磨工程では、第１研磨工程と同様に、両面研磨装置を用いてディスク状ガラスに対する研磨が行われるが、使用する研磨液（スラリー）に含有される研磨砥粒、および研磨パッドの組成が異なる。第２研磨工程では、第１研磨工程よりも、使用する研磨砥粒の粒径を小さくし、研磨パッドの硬さを柔らかくする。たとえば、第２研磨工程では、研磨パッドとしてたとえば軟質発砲樹脂ポリッシャ、研磨材としてはたとえば、第１研磨工程で用いる酸化セリウム砥粒よりも微細な酸化セリウム砥粒、またはコロイダルシリカ等が用いられる。第２研磨工程で研磨されたディスク状ガラスは、再度洗浄される。洗浄では、中性洗剤、純水、ＩＰＡが用いられる。

　第２研磨により、たとえば、主表面の平坦度が４μｍ以下であり、主表面の粗さが０．２ｎｍ以下の磁気ディスク用ガラス基板が得られる。この後、磁気ディスク用ガラス基板に、磁性層等の各層が成膜されて、磁気ディスクが作製される。

　なお、化学強化工程は、第１研磨工程と第２研磨工程との間に行われるが、この順番に限定されない。第１研磨工程の後に第２研磨工程が行われる限り、化学強化工程は、適宜配置することができる。たとえば、ａ）第１研磨工程、ｂ）第２研磨工程、ｃ）化学強化工程の順（以下、「工程順序１」と称す場合がある）でもよい。但し、工程順序１では、化学強化工程により生じうる表面凹凸が除去されないことになるため、ａ）第１研磨工程、ｂ）化学強化工程、ｃ）第２研磨工程の順で実施する工程順序が、より好ましい。

［磁気記録媒体の製造方法］
　第一の本実施形態の磁気記録媒体の製造方法は、第一の本実施形態の磁気記録媒体基板の製造方法によりより作製された磁気記録媒体基板上に磁気記録層を形成する磁気記録層形成工程を少なくとも経て、磁気記録媒体を製造することを特徴とする。

　第一の本実施形態の磁気記録媒体基板の製造方法により作製した磁気記録媒体基板（磁気ディスク用ガラス基板）の主表面上に、磁性層等の層を成膜して、磁気記録媒体基板（磁気ディスク）を作製する。たとえば、基板主表面側から、付着層、軟磁性層、非磁性下地層、垂直磁気記録層、保護層および潤滑層を順次積層する。付着層には、たとえばＣｒ合金等が用いられ、ガラス基板との接着層として機能する。軟磁性層には、たとえばＣｏＴａＺｒ合金等が用いられ、非磁性下地層には、たとえばグラニュラー非磁性層等が用いられ、垂直磁気記録層には、たとえばグラニュラー磁性層等が用いられる。また、保護層には、水素カーボンからなる材料が用いられ、潤滑層には、たとえばフッ素系樹脂等が用いられる。

　より具体的には、ガラス基板に対して、インライン型スパッタリング装置を用いて、ガラス基板の両主表面に、ＣｒＴｉの付着層、ＣｏＴａＺｒ／Ｒｕ／ＣｏＴａＺｒの軟磁性層、ＣｏＣｒＳｉＯ₂の非磁性グラニュラー下地層、ＣｏＣｒＰｔ－ＳｉＯ₂・ＴｉＯ₂のグラニュラー磁性層、水素化カーボン保護膜を順次成膜する。さらに、成膜された最上層にディップ法によりパーフルオロポリエーテル潤滑層を成膜して磁気記録媒体（磁気ディスク）を得る。

＜第二の本実施形態＞
　［ガラスブランクの製造方法］
　第二の本実施形態のガラスブランクの製造方法は、ガラス流出口から流出する溶融ガラス流から溶融ガラス塊を分離し、プレス成形型を用いて薄板ガラスをプレス成形し、中心孔を有する磁気記録媒体基板に加工するためのガラスブランクを作製するガラスブランクの製造方法において、溶融ガラス塊を分離、落下させ、空中の溶融ガラス塊を対向するプレス成形面でプレスし、薄板ガラスを成形すること、および、溶融ガラス流から分離した部位がプレス成形面を向くように溶融ガラス塊の向きを変え、プレスを開始すること、を特徴とする。

　以下、図面を参照しながら、第二の本実施形態のガラスブランクの製造方法について説明する。図１３は、ガラス流出管１の下端に開口したガラス流出口から流出する溶融ガラス流２を空中に垂下する。溶融ガラス流２の切断は一対のシアブレード３－１、３－２の先端を交差させ、ガラスを剪断して行う。シアブレード３－１の下面には溶融ガラス塊の上部を水平方向から押して回転のトルクを加えるための突起３－１－ａが設けられている。突起３－１－aの水平方向の長さは調整可能となっている。溶融ガラスの流出粘度は、ガラス流出管１の温度を調整することによって、５００ｄＰａ・ｓ～１０５０ｄＰａ・ｓの範囲で一定となるように制御される。

　図１４は、シアブレード３－１、３－２の先端を隙間ができないように交差させて溶融ガラス流２の下部を切断し、溶融ガラス塊４を分離する瞬間の様子を示したものである。突起３－１－ａが溶融ガラス塊４の分離直後に溶融ガラス塊４の上部を水平方向から押して時計まわりに回転させるためのトルクを加える。なお、突起３－１－ａをシアブレードから分離してシアブレード３－１の動きに同期して溶融ガラス塊４の上部を水平方向に押して回転のトルクを加えるようにしたり、溶融ガラス塊の下部を水平方向に押して、溶融ガラス塊４を時計まわりに回転させるようにしてもよい。

　図１５は、分離した溶融ガラス塊が時計まわりに回転しながら落下する様子を示したものである。切断、分離時に溶融ガラス塊４の頂部にはシアブレードによる剪断痕、いわゆるシアマーク４－aができるが、溶融ガラス塊４の回転とともにシアマーク４－ａは水平方向に回転する。

　図１６は、プレス成形型５、６の垂直断面を示したものである。プレス成形型５は、プレス成形面５－１－ａを有するプレス成形型本体５－１、プレス成形型本体５－１の周りに取り付けられ、プレス成形時にプレス成形面同士の間隔が薄板ガラスの板厚と等しくなるようにプレス成形型６と当接してプレス成形面同士の間隔を定め、かつ薄板ガラスの主表面にプレス成形型本体５－１を追従される際にプレス成形型本体５－１をガイドするガイド部材５－２などによって構成される。

　プレス成形型を構成する材料としては、耐熱性、加工性、耐久性を考慮すると金属または合金が好ましい。中でもプレス成形型として使用する際の耐熱温度が１０００℃以上、好ましくは１１００℃以上の金属または合金がより好ましい。具体的には、球状黒鉛鋳鉄（ＦＣＤ）、合金工具鋼（ＳＫＤ６１など）、高速鋼（ＳＫＨ）、超硬合金、コルモノイ、ステライトなどが好ましい。

　プレス成形面をガラスに転写してガラスブランクの主表面を成形するため、プレス成形面の表面粗さとガラスブランク主表面の表面粗さとはほぼ同等になる。ガラスブランク主表面の表面粗さは、後述するスクライブ加工とダイヤモンドシートを用いた研削加工を行う上で、０．０１～１０μｍの範囲とすることが望ましいため、プレス成形面の表面粗さも０．０１～１０μｍの範囲とすることが好ましい。

　プレス成形型６は、プレス成形面６－１－ａを有するプレス成形型本体６－１、プレス成形型本体６－１の周りに取り付けられ、プレス成形時にプレス成形面同士の間隔が薄板ガラスの板厚と等しくなるようにプレス成形型５と当接してプレス成形面同士の間隔を定め、かつ薄板ガラスの主表面にプレス成形型本体６－１を追従される際にプレス成形型本体６－１をガイドするガイド部材６－２などによって構成される。

　図１６において、溶融ガラス塊４をプレスするため、前進駆動中のプレス成形型５、６の間に溶融ガラス塊４が回転しながら落下してくる。

　図１７は、プレス成形面５－１－ａ、６－１－ａによる溶融ガラス塊４のプレスが開始された瞬間を示したものである。ここで、シアマーク４－ａが最初にプレス成形面６－１－ａと接触している。この状態を実現するため、溶融ガラス塊４を回転させるためのトルクの大きさ、溶融ガラス塊４の落下距離を調整する。落下距離は溶融ガラス塊の粘度が上昇してプレス成形に適した粘度範囲を逸脱しないよう、また落下速度が大きくなり過ぎてプレスの位置が変動しないようにするため、１０００ｍｍ以下とすることが好ましく、５００ｍｍ以下とすることがより好ましく、３００ｍｍ以下とすることがさらに好ましく、２００ｍｍ以下とすることが一層好ましい。

　溶融ガラス塊の表面がプレス成形面に接触すると、プレス成形面に貼り付くように固化する。プレスを進行させると、溶融ガラス塊とプレス成形面とが最初に接触した位置を中心にガラスが均等な厚みで押し広げられ、円盤状もしくは略円盤状の薄板ガラスに成形される。

　図１８は、上記プレスの過程でガラスが押し広げられる様子を示したものである。シアマーク周辺はプレス成形面６－１－ａと最初に接触し、貼り付くように固化するため、薄板ガラスの中央部表面に残る。

　図１９は、ガイド部材５－１の当接面５－１－ａとガイド部材６－１の当接面６－１－ａを当接させてプレス成形面５－１－ａとプレス成形面６－１－ａの間隔をガラスブランクの板厚に相当する距離に規定した状態を示している。当接面５－１－ａと当接面６－１－ａの当接は、プレス成形面５－１－ａとプレス成形面６－１－ａとの平行状態を維持する働きもする。図１７に示すプレス開始から図１９に示す型閉めまでの時間を、溶融ガラス塊を薄板化するために０．１秒以内にすることが好ましい。

　図２０では、当接面５－１－ａと当接面６－１－ａとを当接した状態で、プレス成形面５－１－ａ、６－１－ａとが薄板ガラスの主表面に密着した状態を維持するように、プレス成形型本体５－１、６－１にプレス圧力よりも十分小さい圧力を加えている。この状態でプレス圧力を大きくするとガラスを破損するおそれがある。この状態を数秒間継続し、薄板ガラスを冷却する。

　次に、図２１に示すようにプレス成形型５、６を後退してプレス成形面６－１－ａから薄板ガラス４－Ｂを離型する。次いで、図２２に示すようにプレス成形面５－１－ａから薄板ガラス４－Ｂを離型し、取り出す。プレス成形面５－１－ａから薄板ガラス４－Ｂを離型する際には、薄板ガラスの外周方向から力を加えて薄板ガラスを剥がすように離型すると薄板ガラスに大きな力を加えることなく、プレス成形型からの取り出しを行うことができる。

　取り出した薄板ガラスをアニールして歪を低減、除去し、磁気記録媒体用基板を加工するための母材、すなわち、ガラスブランクとする。ガラスブランクの主表面中央にシアマークが局在するため、基板を作製する際の中心孔あけ加工によって、シアマークを含む領域を除去することができる。

　なお、５００ｄＰａ・ｓ未満になると溶融ガラス流を空中に垂下した状態で必要量の溶融ガラス塊を分離することが難しくなる。流出時の粘度が５００ｄＰａ・ｓ未満の溶融ガラスについては、ガラス流出口下方に溶融ガラス流の下端を支持し、溶融ガラス塊を得るのに必要な量の溶融ガラスを蓄積してから溶融ガラス塊を分離し、溶融ガラス塊に回転のトルクを加えて落下させ、シアマークの位置がプレス成形面を向くようにしてプレスを開始すればよい。

　落下中の溶融ガラス塊をプレス成形することにより、プレス開始直前の溶融ガラス塊の粘度分布を均一化し、ガラスを均等な厚さで薄く伸ばしやすくする。基板に設ける中心孔の内径が小さい場合は、シアマークのサイズを小さくし、中心孔が設けられる範囲内にシアマークが収まるようにする。

　具体的には、垂下する溶融ガラス流の水平断面が細長い形、すなわち、長径および短径を有する断面形状になるように溶融ガラス流の断面形状を制御する。例えば、ガラス流出口の形状を細長くして溶融ガラス流の断面形状を細長くしたり、溶融ガラス流の側面を対向する２方向から挟んで断面形状を細長くする。そして、シアブレードを用いて長径方向から溶融ガラス流を切断する。長径方向から溶融ガラス流を剪断することにより、シアマークを小さくすることができ、中心孔の内径が小さい場合でも中心孔を設ける範囲内にシアマークを局在させることができる。シアマークを小さくする手法としては、切断刃がＶ字形状もしくはＵ字形状の一対のシアブレードを交差して溶融ガラス流を切断する方法も有効である。

　以上の方法によれば、好ましくは、板厚偏差が１０μｍ以下、平坦度が１０μｍ以下のガラスブランクを作製することができる。ガラスブランクの平坦度の好ましい範囲は８μｍ以下、より好ましい範囲は６μｍ以下、さらに好ましい範囲は４μｍ以下である。

　第二の本実施形態のガラスブランクの製造方法は、板厚に対する直径の比（直径／板厚）が５０～１５０のガラスブランクの製造に好適である。ここで、直径とはガラスブランクの長径と短径の相加平均である。プレス成形型によってガラスブランクの外周面を規制しないので、前記外周面は自由表面となるが、成形されるガラスブランクの真円度は±０．５ｍｍ以内となる。

　ガラスブランクの直径については特に制限はないが、前記直径の設定は、後述するようにガラスブランクから磁気記録媒体基板を加工する際に行うスクライブ加工や外周加工時の除去量を基板の直径に加えた値を目処に行うことが好ましい。

　ガラスブランクの板厚は０．７５～１．１ｍｍの範囲、好ましくは０．７５～１．０ｍｍの範囲、より好ましくは０．９０～０．９２ｍｍの範囲である。ガラスブランクの板厚、板厚偏差、平坦度、直径、真円度の測定は、三次元測定器、マイクロメータを用いて行えばよい。

　使用するガラスの組成は、磁気記録媒体基板に求められる性質に応じて適宜選択すればよく、例えば、アルミノシリケートガラス、ソーダライムガラス、ソーダアルミノケイ酸ガラス、アルミノボロシリケートガラス、ボロシリケートガラス、などを挙げることができる。また、これらのガラスは加熱処理により結晶化する結晶化ガラスであってもよく、加熱処理により結晶化した後に加工して基板に仕上げることもできる。

　磁気ディスク等の磁気記録媒体の基板に使用されるガラスには、化学的耐久性があり、剛性が大きく、高い熱膨張係数を有することが望まれる。さらに、抗折強度を高めることを重視する場合は、化学強化可能な組成であることが求められ、また、磁気記録媒体の製造過程で高温熱処理を行う場合は、耐熱性の高い組成であることが望まれる。

　化学的耐久性があり、剛性が大きく、高い熱膨張係数を有するガラスとして、
酸化物基準に換算し、モル％表示にて、
　　ＳｉＯ_２を５０～７５％、
　　Ａｌ_２Ｏ_３を０～１５％、
　　Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ及びＫ_２Ｏを合計で３～３５％、
　　ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ及びＺｎＯを合計で０～３５％、及び
　　ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、Ｌａ_２Ｏ_３、Ｙ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｎｂ_２Ｏ_５及びＨｆＯ_２を合計で０～１５％含むガラスを例示することができる。

　なお、清澄時の泡切れを改善するため、Ｓｎ酸化物及びＣｅ酸化物を外割り合計含有量で０．１～３．５質量％添加することが望ましい。この場合、Ｓｎ酸化物とＣｅ酸化物の合計含有量に対するＳｎ酸化物の含有量の質量比（Ｓｎ酸化物の質量／（Ｓｎ酸化物の質量＋Ｃｅ酸化物の質量））は０．０１～０．９９である。以下、特記しない限り、ガラス成分の含有量、合計含有量はモル％にて表示するが、Ｓｎ酸化物、Ｃｅ酸化物の含有量は質量％にて表示するものとする。

　ＳｉＯ_２は、ガラスのネットワーク形成成分であり、ガラス安定性、化学的耐久性、特に耐酸性を向上させる働きをする必須成分である。ＳｉＯ_２の含有量が５０％未満だと上記働きを十分得ることができず、７５％を超えるとガラス中に未溶解物が生じたり、清澄時のガラスの粘性が高くなりすぎて泡切れが不十分になる。したがって、ＳｉＯ_２の含有量は５０～７５％であることが好ましい。

　Ａｌ_２Ｏ_３もガラスのネットワーク形成に寄与し、ガラス安定性、化学的耐久性を向上させる働きをするとともに、化学強化時のイオン交換速度を増加させる働きもする。Ａｌ_２Ｏ_３の含有量が１５％を超えるとガラスの溶融性が低下し、未溶解物が生じやすくなる。また、熱膨張係数が低下し、ヤング率も低下する。したがって、Ａｌ_２Ｏ_３の含有量は０～１５％であることが好ましい。

　Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ及びＫ_２Ｏは、ガラスの溶融性および成形性を向上させる働きをする。また、熱膨張係数を増加させる働きもする。Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ及びＫ_２Ｏの含有量が３％未満であると上記働きを十分得ることができず、３５％を超えると化学的耐久性、特に耐酸性が低下したり、ガラスの熱的安定性が低下する。また、ガラス転移温度が低下し、耐熱性も低下する。したがって、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ及びＫ_２Ｏの含有量は３～３５％であることが好ましく、５～３５％であることがより好ましい。なお、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ及びＫ_２Ｏのうち、ガラス転移温度を低下させる働きが最も大きいものはＬｉ_２Ｏである。

　ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ及びＺｎＯは、ガラスの溶融性、成形性、ヤング率を向上させる働きをする。また、熱膨張係数、ヤング率を増加させる働きもする。しかし、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ及びＺｎＯの合計含有量が３５％を超えると化学的耐久性やガラスの熱的安定性が低下する。したがって、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ及びＺｎＯの合計含有量は０～３５％であることが好ましい。

　ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、Ｌａ_２Ｏ_３、Ｙ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｎｂ_２Ｏ_５及びＨｆＯ_２は、化学的耐久性、特に耐アルカリ性を改善し、ガラス転移温度を高めて耐熱性を改善し、ヤング率や破壊靭性を高める働きをする。しかし、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、Ｌａ_２Ｏ_３、Ｙ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｎｂ_２Ｏ_５及びＨｆＯ_２の合計含有量が１５％を越えるとガラスの溶融性が低下し、ガラス中にガラス原料の未溶解物が残ってしまう。したがって、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、Ｌａ_２Ｏ_３、Ｙ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｎｂ_２Ｏ_５及びＨｆＯ_２の合計含有量は、０～１５%であることが好ましい。

　第１のガラスは、化学強化の効率を重視したものであり、その組成範囲は、
　　ＳｉＯ_２の含有量：６０～７５%、
　　Ａｌ_２Ｏ_３の含有量：３～１２％、
　　Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ及びＫ_２Ｏの合計含有量：２０～３５％（好ましくは２３～３５％）、
　　ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ及びＺｎＯの合計含有量：０～５％、
　　ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、Ｌａ_２Ｏ_３、Ｙ_２Ｏ_３、Ｙｂ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｎｂ_２Ｏ_５及びＨｆＯ_２の合計含有量：０～７％、
である。

　第２のガラスは、化学的耐久性を重視したものであり、その組成範囲は、
　　ＳｉＯ_２の含有量：６０～７５%、
　　Ａｌ_２Ｏ_３の含有量：１～１５％、
　　Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ及びＫ_２Ｏの合計含有量：１５～２５％、
　　ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ及びＺｎＯの合計含有量：１～６％、
　　ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、Ｌａ_２Ｏ_３、Ｙ_２Ｏ_３、Ｙｂ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｎｂ_２Ｏ_５及びＨｆＯ_２の合計含有量：０．１～９％（好ましくは０．５～９％、より好ましくは１～９％）、
である。

　第３のガラスは、高剛性を重視したものであり、その組成範囲は、
　　ＳｉＯ_２の含有量：５０～７０%、
　　Ａｌ_２Ｏ_３の含有量：１～８％、
　　Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ及びＫ_２Ｏの合計含有量：１２～２２％、
　　ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ及びＺｎＯの合計含有量：１０～２０％、
　　ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、Ｌａ_２Ｏ_３、Ｙ_２Ｏ_３、Ｙｂ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｎｂ_２Ｏ_５及びＨｆＯ_２の合計含有量：３～１０％、
である。

　第４のガラスは、高耐熱性を重視したものであり、その組成範囲は、
　　ＳｉＯ_２の含有量：５０～７０%、
　　Ａｌ_２Ｏ_３の含有量：１～１０％、
　　Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ及びＫ_２Ｏの合計含有量：５～１７％
　　（うちＬｉ_２Ｏの含有量：０～５％、好ましくは０～１％）、
　　ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ及びＺｎＯの合計含有量：１０～２５％、
　　ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、Ｌａ_２Ｏ_３、Ｙ_２Ｏ_３、Ｙｂ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｎｂ_２Ｏ_５及びＨｆＯ_２の合計含有量：１～１２％、
である。

　第５のガラスは、高耐熱性、高剛性、及び高熱膨張を重視したものであり、その組成範囲は、
　　ＳｉＯ_２の含有量：５０～７５%、
　　Ａｌ_２Ｏ_３の含有量：０～５％、
　　Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ及びＫ_２Ｏの合計含有量：３～１５％
　　（うちＬｉ_２Ｏの含有量：０～１％）、
　　ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ及びＺｎＯの合計含有量：１４～３５％、
　　ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、Ｌａ_２Ｏ_３、Ｙ_２Ｏ_３、Ｙｂ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｎｂ_２Ｏ_５及びＨｆＯ_２の合計含有量：２～９％、
である。

［磁気記録媒体基板の製造方法］
　第二の本実施形態の磁気記録媒体基板の製造方法は、第二の本実施形態のガラスブランクの製造方法により作製されたガラスブランクの主表面を研磨する研磨工程と、主表面の中央に中心孔を設ける孔開け工程と、を少なくとも経て、磁気記録媒体基板を製造することを特徴とする。

　まず、プレス成形して得られたガラスブランクに対してスクライブが行われる。スクライブとは、成形されたガラスブランクを所定のサイズのリング形状とするために、ガラスブランクの表面に超鋼合金製あるいはダイヤモンド粒子からなるスクライバにより２つの同心円（内側同心円および外側同心円）状の切断線（線状のキズ）を設けることをいう。なお、ガラスブランクに残存するシアマークは内側同心円の内側に局在する。２つの同心円の形状にスクライブされたガラスブランクは、部分的に加熱され、ガラスの熱膨張の差異により、外側同心円の外側部分および内側同心円の内側部分が除去される。これにより、真円形状のディスク状ガラスとなる。内側同心円の内側部分の除去が中心孔あけ加工に相当し、この加工によってシアマークが除去される。

　ガラスブランクの主表面の粗さが１μｍ以下であるため、スクライバを用いて好適に切断線を設けることができる。なお、ガラスブランクの主表面の粗さが１μｍを越える場合、スクライバが表面凹凸に追従せず、切断線を一様に設けることはできないので、主表面を平滑化してからスクライブを行う。

　次にディスク状ガラスの端面研磨が行われる。端面研磨では、ガラスの内周側端面及び外周側端面をブラシ研磨により鏡面仕上げを行う。このとき、酸化セリウム等の微粒子を遊離砥粒として含むスラリーが用いられる。端面研磨を行うことにより、ガラスの端面での塵等が付着した汚染、ダメージあるいはキズ等の損傷の除去を行うことにより、ナトリウムやカリウム等のコロージョンの原因となるイオン析出の発生を防止することができる。次に、ディスク状ガラスの主表面に第１研磨が施される。第１研磨は、主表面に残留したキズ、歪みの除去を目的とする。

　第１研磨による取り代は、例えば数μｍ～１０μｍ程度である。取り代の大きい研削工程を行わずに済むため、ガラスには、研削工程に起因するキズ、歪み等は生じない。よって、第１研磨工程における取り代は少なくて済む。第１研磨工程、及び後述する第２研磨工程では、両面研磨装置が用いられる。両面研磨装置は、研磨パッドを用い、ディスク状ガラスと研磨パッドとを相対的に移動させて研磨を行う装置である。

　両面研磨装置はそれぞれ所定の回転比率で回転駆動されるインターナルギア及び太陽ギアを有する研磨用キャリア装着部と、この研磨用キャリア装着部を挟んで互いに逆回転駆動される上定盤及び下定盤とを有する。上定盤および下定盤のディスク状ガラスと対向する面には、それぞれ後述する研磨パッドが貼り付けられている。インターナルギアおよび太陽ギアに噛合するように装着した研磨用キャリアは遊星歯車運動をして、太陽ギアの周囲を自転しながら公転する。

　研磨用キャリアにはそれぞれ複数のディスク状ガラスが保持されている。上定盤は上下方向に移動可能であって、ディスク状ガラスの表裏の主表面に研磨パッドを加圧する。そして研磨砥粒（研磨材）を含有するスラリー（研磨液）を供給しつつ、研磨用キャリアの遊星歯車運動と、上定盤および下定盤が互いに逆回転することにより、ディスク状ガラスと研磨パッドとは相対的に移動して、ディスク状ガラスの表裏の主表面が研磨される。なお、第１研磨工程では、研磨パッドとして例えば硬質樹脂ポリッシャ、研磨材としては例えば酸化セリウム砥粒、が用いられる。

　次に、第１研磨後のディスク状ガラスは化学強化される。化学強化液として、例えば硝酸カリウム（６０％）と硝酸ナトリウム（４０％）の混合液等を用いることができる。化学強化では、化学強化液が、例えば３００℃～４００℃に加熱され、洗浄したガラスが、例えば２００℃～３００℃に予熱された後、ガラスが化学強化液中に、例えば３時間～４時間浸漬される。この浸漬の際には、ガラスの両主表面全体が化学強化されるように、複数のガラスが端面で保持されるように、ホルダに収納した状態で行うことが好ましい。

　このように、ガラスを化学強化液に浸漬することによって、ガラスの表層のリチウムイオン及びナトリウムイオンが、化学強化液中のイオン半径が相対的に大きいナトリウムイオン及びカリウムイオンにそれぞれ置換され、約５０～２００μｍの厚さの圧縮応力層が形成される。これにより、ガラスが強化されて良好な耐衝撃性が備わるようになる。なお、化学強化処理されたガラスは洗浄される。例えば、硫酸で洗浄された後に、純水、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）等で洗浄される。

　次に、化学強化されて十分に洗浄されたガラスに第２研磨が施される。第２研磨による取り代は、例えば１μｍ程度である。第２研磨は、主表面を鏡面状に仕上げることを目的とする。第２研磨工程では、第１研磨工程と同様に、両面研磨装置を用いてディスク状ガラスに対する研磨が行われるが、使用する研磨液（スラリー）に含有される研磨砥粒、および研磨パッドの組成が異なる。第２研磨工程では、第１研磨工程よりも、使用する研磨砥粒の粒径を小さくし、研磨パッドの硬さを柔らかくする。例えば、第２研磨工程では、研磨パッドとして例えば軟質発砲樹脂ポリッシャ、研磨材としては例えば、第１研磨工程で用いる酸化セリウム砥粒よりも微細な酸化セリウム砥粒、が用いられる。
　第２研磨工程で研磨されたディスク状ガラスは、再度洗浄される。洗浄では、中性洗剤、純水、ＩＰＡが用いられる。

　第２研磨により、主表面の平坦度が４μｍ以下であり、主表面の粗さが０．２ｎｍ以下の磁気ディスク用ガラス基板が得られる。この後、磁気ディスク用ガラス基板に、磁性層等の各層が成膜されて、磁気ディスクが作製される。

　なお、化学強化工程は、第１研磨工程と第２研磨工程との間に行われるが、この順番に限定されない。第１研磨工程の後に第２研磨工程が行われる限り、化学強化工程は、適宜配置することができる。例えば、第１研磨工程→第２研磨工程→化学強化工程（以下、工程順序１）の順でもよい。但し、工程順序１では、化学強化工程により生じうる表面凹凸が除去されないことになるため、第１研磨工程→化学強化工程→第２研磨工程の工程順序が、より好ましい。

［磁気記録媒体の製造方法］
　第二の本実施形態の磁気記録媒体の製造方法は、第二の本実施形態の磁気記録媒体基板の製造方法によりより作製された磁気記録媒体基板上に磁気記録層を形成する磁気記録層形成工程を少なくとも経て、磁気記録媒体を製造することを特徴とする。

　前述の方法で作製した磁気記録媒体基板（磁気ディスク用ガラス基板）の主表面上に、磁性層等の層を成膜して、磁気記録媒体基板（磁気ディスク）を作製する。例えば、基板主表面側から、付着層、軟磁性層、非磁性下地層、垂直磁気記録層、保護層および潤滑層を順次積層する。付着層には、例えばＣｒ合金等が用いられ、ガラス基板との接着層として機能する。軟磁性層には、例えばＣｏＴａＺｒ合金等が用いられ、非磁性下地層には、例えばグラニュラー非磁性層等が用いられ、垂直磁気記録層には、例えばグラニュラー磁性層等が用いられる。また、保護層には、水素カーボンからなる材料が用いられ、潤滑層には、例えばフッ素系樹脂等が用いられる。

＜第一の本発明の実施例＞
　以下、実施例により第一の本発明をより詳細に説明するが、第一の本発明は以下の実施例に限られるものではない。

（実施例１）
－ガラスブランクの作製および評価－
　表１に示す組成のガラスが得られるように酸化物、炭酸塩、硝酸塩、水酸化物などの原料を秤量し、十分混合して調合原料とした。この原料をガラス溶解炉内の溶融槽内に投入し、加熱、溶融し、得られた溶融ガラスを溶融槽から清澄槽へと流して清澄槽内で脱泡を行った。さらに、溶融ガラスを、作業槽へと流して作業槽内で攪拌、均質化し、作業槽の底部に取り付けたガラス流出管から流出させた。溶融槽、清澄槽、作業槽、ガラス流出パイプはそれぞれ温度制御され、各槽およびガラス流出パイプにおいて溶融ガラスの温度・粘度を所定の範囲に制御した。ガラス流出管より流出する溶融ガラスを鋳型に鋳込み成形した。得られたガラスを試料として、ガラス転移温度、液相温度を測定した。ガラス転移温度と液相温度の測定方法を以下に示す。

（１）ガラス転移温度Ｔｇ
　各ガラスのガラス転移温度Ｔｇを、熱機械分析装置（ＴＭＡ）を用いて測定した。
（２）液相温度
　白金ルツボにガラス試料を入れ、所定温度にて２時間保持し、炉から取り出し冷却後、結晶析出の有無を顕微鏡により観察し、結晶の認められない最低温度を液相温度(L.T.)とした。
　各ガラスのガラス転移温度と液相温度とを表１に示す。

　表１に示すガラス組成および特性を有するガラスを使用して順次、ガラスブランクを作製した。ガラスブランクの作製は、図１～図１１に示す方法により実施した。この際、溶融ガラス流２０の粘度は５００～１０５０ｄＰａ・ｓの範囲で一定となるように調整した。

　ガラス流出口１２の開口部の形状は長径２８ｍｍ、短径８ｍｍの楕円状とし、溶融ガラス流２０の切断はガラス流出口１２の長径に平行な方向から刃部３４、４４の形状がＶ字状の一対のシアブレード３０Ａ、４０により垂下する溶融ガラス流２０を剪断して行った。また、プレス成形型５０、６０を構成するプレス成形型本体５２、６２、ガイド部材５４、６４は、鋳鉄（ＦＣＤ）製とした。

　次に、落下距離を１５０ｍｍに固定した上で、溶融ガラス塊２４が落下する様子を高速度カメラでモニターし、分離痕２４Ａが成形面に対向した状態でプレス成形できるようにシアブレード３０Ａ、４０の駆動およびプレス成形型５０，６０の駆動のタイミングを調整した。そして、このような条件設定を行った後にプレス成形を実施した。なお、図７に示すプレス開始から図９に示すガイド面５４Ａとガイド面６４Ａとが接触し終える状態までの時間を０．１秒以内とし、プレス圧力を６．７ＭＰａ程度とした。次いで、図９に示す状態を維持したまま、プレス圧力を下げて数秒程度、成形面５２Ａ、６２Ａを薄板ガラス２６に密着した状態を保ち、薄板ガラス２６を冷却させる。薄板ガラスは冷却過程で収縮するが、プレス成形型を薄板ガラスの収縮に追従させてガラスとプレス成形面の接触が維持されるようにして薄板ガラスを冷却する。次にプレス圧力を解除して、図１０および図１１に示すように第一のプレス成形型５０と第二のプレス成形型６０とを互いに離間させ、薄板ガラス２６、すなわち、ガラスブランクを離型し、取り出した。

　得られたガラスブランクの直径、真円度、板厚、板厚偏差、平坦度を三次元測定器、マイクロメータを用いて測定したところ、表１に示すＮｏ．１～Ｎｏ．６のガラスからなるガラスブランクにおいて、いずれも直径は７５ｍｍ、真円度は±０．５ｍｍ以内、板厚は０．９０ｍｍ、板厚偏差は１０μｍ以下、平坦度は４μｍ以下であった。なお、上記測定結果から、直径／板厚比は８３．３であった。

　また、得られたガラスブランクの主表面を観察したところ、一方の主表面の中央部にシアマークが認められた。シアマークはガラスブランクの中心から半径１５ｍｍの円内に局在しており、磁気記録媒体基板の作製に際して内径２０ｍｍの中心孔を形成する際に、完全に除去できることが判った。なお、得られたガラスブランクはアニールして、歪を低減・除去した。

　なお、溶融ガラス塊２４が形成されてから、プレス成形が完了するまでの過程を高速カメラで撮影した。その結果、溶融ガラス塊２４は、落下中に９０度回転し、一対のシアブレード３０Ａ、４０により分離された直後の溶融ガラス塊２４の上部表面に位置していた分離痕２４Ａは、図７に例示するプレス成形開始時点において、溶融ガラス塊２４表面のいずれの部分よりも最初に成形面６２Ａに接触していることが確認された。

－磁気記録媒体基板の作製および評価－
　作製したガラスブランクを用い、磁気記録媒体基板の外周となる部分と中心孔となる部分にスクライブ加工を施した。こうした加工で、外側および内側に２つの同心円状の溝を形成した。次いで、スクライブ加工した部分を部分的に加熱して、ガラスの熱膨張の差異により、スクライブ加工した溝に沿ってクラックを発生させ、外側同心円の外側部分と内側部分とを除去した。これにより、真円形状かつリング状のディスク状ガラスを得た。そして、この加工によってシアマークが完全に除去された。

　次に、ディスク状ガラスをチャンファリングなどにより形状加工を施し、さらに端面研磨を行った。次に、ディスク状ガラスの主表面に第１研磨を施した後、ガラスを溶融塩に浸漬して化学強化した。

　化学強化後、十分に洗浄したディスク状ガラスに対し、第２研磨を施した。第２研磨工程後、ディスク状ガラスを再度洗浄して磁気記録媒体基板を作製した。磁気記録媒体基板の外径は６５ｍｍ、中心孔径は２０ｍｍ、厚さは０．８ｍｍで、主表面の平坦度が４μｍ以下、主表面の粗さが０．２ｎｍ以下であった。

－磁気記録媒体の作製および評価－
　作製した磁気記録媒体基板の両主表面上に、インライン型スパッタリング装置を用いて、順に、ＣｒＴｉの付着層、ＣｏＴａＺｒ／Ｒｕ／ＣｏＴａＺｒの軟磁性層、ＣｏＣｒＳｉＯ₂の非磁性グラニュラー下地層、ＣｏＣｒＰｔ－ＳｉＯ₂・ＴｉＯ₂のグラニュラー磁性層、水素化カーボン保護膜を成膜し、最上層にディップ法によりパーフルオロポリエーテル潤滑層を成膜して磁気記録媒体（磁気ディスク）を得た。このようにして得た磁気ディスクをハードディスクドライブに組み込み、動作確認をしたところ所期の性能を得ることができた。

（比較例１）
　先端同士を突き当てて溶融ガラスを切断する突き当て式２枚ブレードを用いて溶融ガラス塊を分離した以外は実施例１と同様にしてガラスブランクを作製した。なお、上記突き当て式シアブレードには、実施例１で用いたシアブレードに設けられたような押圧部材はない。得られたガラスブランクの直径、真円度、板厚、板厚偏差、平坦度を三次元測定器、マイクロメータを用いて測定したところ、表１に示すＮｏ．１～Ｎｏ．６のガラスからなるガラスブランクにおいて、いずれも直径は７５ｍｍ、真円度は±０．５ｍｍ以内、板厚は０．９０ｍｍ、板厚偏差は１０μｍ以下、平坦度は４μｍ以下であった。なお、上記測定結果から、直径／板厚比は８３．３であった。

　また、得られたガラスブランクを観察したところ、シアマークが認められた。シアマークはガラスブランクの外周端面や、その近傍の主表面に局在しており、磁気記録媒体基板の作製に際して内径２０ｍｍの中心孔を形成する際に、シアマークを完全に除去できないことが判った。また、磁気記録媒体基板の作製に際して、研削代を５０μｍ程度に設定してラッピング工程を実施しなければ、シアマークを完全に除去できなかった。

　なお、溶融ガラス塊２４が形成されてから、プレス成形が完了するまでの過程を高速カメラで撮影した。その結果、溶融ガラス塊２４の回転が不足しており、分離痕２４Ａがプレス成形面に対向する前にプレスが開始されていることがわかった。

（比較例２）
　実施例１と同様に、交差式シアブレードを使用し、溶融ガラス塊の分離を行った。そして、水平面における、一対のシアブレードの移動方向と、一対のプレス成形型の移動方向とを、略平行な状態から大幅にずらした状態でプレス成形を行った以外は実施例１と同様にしてガラスブランクを作製した。得られたガラスブランクの表面を観察したところ、シアマークがガラスブランクの中央から離れた周辺部に形成されていた。したがって、中心孔形成工程だけではシアマークを除去することができなかった。

　なお、溶融ガラス塊２４が形成されてから、プレス成形が完了するまでの過程を高速カメラで撮影した。その結果、分離痕が、成形面と全く対向していない状態でプレスが開始されていることがわかった。

（比較例３）
　落下距離を１００ｍｍに変更した以外は実施例１と同様にしてガラスブランクを作製した。得られたガラスブランクの表面を観察したところ、シアマークがガラスブランクの中央から離れた周辺部に形成されていた。したがって、中心孔形成工程だけではシアマークを除去することができなかった。

（比較例４）
　シアブレード３０Ａ、４０の駆動およびプレス成形型５０，６０の駆動のタイミングをずらした以外は実施例１と同様にしてガラスブランクを作製した。得られたガラスブランクの表面を観察したところ、シアマークがガラスブランクの中央から離れた周辺部に形成されていた。したがって、中心孔形成工程だけではシアマークを除去することができなかった。

（実施例２）
　ガラス流出口１２の開口部の形状を長径３０ｍｍ、短径１０ｍｍの楕円状とし、実施例１と比べて、開口部の形状をやや大きめに変更した以外は、実施例１と同様にしてガラスブランクを作製した。得られたガラスブランクの表面を観察したところ、シアマークはガラスブランクの中央にあったものの、中心孔形成工程で形成する中心孔の範囲からシアマークの一部がはみ出しており、中心孔形成工程だけではシアマークを完全に除去することができなかった。しかしながら、ラッピング工程を実施することでシアマークを完全に除去することができた。なお、ラッピング工程における研削量は、比較例１の５０μｍと比べて非常に小さい３０μｍであった。

＜第二の本発明の実施例＞
　以下、実施例により第二の本発明をより詳細に説明するが、第二の本発明は以下の実施例に限られるものではない。

（実施例１）
　表２に示す組成のガラスが得られるように酸化物、炭酸塩、硝酸塩、水酸化物などの原料を秤量し、十分混合して調合原料とした。この原料をガラス溶解炉内の溶融槽内に投入し、加熱、溶融し、得られた溶融ガラスを溶融槽から清澄槽へと流して清澄槽内で脱泡を行い、さらに作業槽へと流して作業槽内で攪拌、均質化し、作業槽の底部に取り付けたガラス流出管から流出した。溶融槽、清澄槽、作業槽、ガラス流出パイプはそれぞれ温度制御され、各工程においてガラスの温度、粘度が最適状態に保たれる。ガラス流出管より流出する溶融ガラスを鋳型に鋳込み成形した。得られたガラスを試料として、ガラス転移温度、液相温度を測定した。ガラス転移温度と液相温度の測定方法を以下に示す。

（１）ガラス転移温度Ｔｇ
　各ガラスのガラス転移温度Ｔｇを、熱機械分析装置（ＴＭＡ）を用いて測定した。
（２）液相温度
　白金ルツボにガラス試料を入れ、所定温度にて２時間保持し、炉から取り出し冷却後、結晶析出の有無を顕微鏡により観察し、結晶の認められない最低温度を液相温度(L.T.)とした。
　各ガラスのガラス転移温度と液相温度を表２に示す。

　これらのガラスを使用して順次、ガラスブランクを作製した。ガラスブランクの作製は、図１３～図２２に示す方法による。溶融ガラスの流出粘度は５００～１０５０ｄＰａ・ｓの範囲で一定となるように調整した。

　ガラス流出口の形状は長径２８ｍｍ、短径８ｍｍの楕円とし、溶融ガラス流の切断はガラス流出口の長径に平行な方向から一対のＶ字状のシアブレードで垂下する溶融ガラス流を剪断して行った。プレス成形型本体５－１、６－１、ガイド部材５－１、６－１は、鋳鉄（ＦＣＤ）製とした。

　溶融ガラス塊が分離してからプレスされるまでの落下距離が２００ｍｍ以内となるようにプレス成形型の高さを調整した。プレス開始から型閉めまでの時間を０．１秒以内とし、プレス圧力を６．７ＭＰａ程度とした。次いで圧力を下げて数秒程度、両プレス成形面をガラスに密着した状態を保ち、ガラスを冷却させる。次にプレス圧力を解除し、プレス成形型を後退させ、ガラスブランクを離型し、取り出す。なお、上記一連の工程において、冷却媒体を用いてプレス成形型を冷却し、温度上昇を抑制するようにしてもよい。

　得られたガラスブランクの直径、真円度、板厚、板厚偏差、平坦度を三次元測定器、マイクロメータを用いて測定したところ、直径は７５ｍｍ、真円度は±０．５ｍｍ以内、板厚は０．９０ｍｍ、板厚偏差は１０μｍ以下、平坦度は４μｍ以下であった。なお、上記測定結果から、直径／板厚比は８３．３と求まる。

　得られたガラスブランクの主表面を観察したところ、一方の主表面の中央部にシアマークの痕跡が認められた。シアマークはガラスブランクの中心から半径５ｍｍの円内に局在しており、内径２０ｍｍの中心孔をあける際、完全に除去される。ガラスブランクはアニールされ歪が低減、除去される。

（実施例２）
　実施例１において作製したガラスブランクを用い、磁気ディスク基板の外周となる部分と中心孔になる部分にスクライブ加工を施した。こうした加工で、外側および外側に２つの同心円状の溝を形成する。次いで、スクライブ加工した部分を部分的に加熱して、ガラスの熱膨張の差異により、スクライブ加工した溝に沿ってクラックを発生させ、外側同心円の外側部分と内側部分とが除去される。これにより、真円形状のディスク状ガラスとなる。この加工によってシアマークの痕跡が完全に除去される。

　次に、ディスク状ガラスをチャンファリングなどにより形状加工を施し、さらに端面研磨を行った。次に、ディスク状ガラスの主表面に第１研磨を施した後、ガラスを化学強化液に浸漬して化学強化する。

　化学強化後、十分に洗浄したガラスに対し、第２研磨を施した。第２研磨工程後、ディスク状ガラスを再度洗浄して磁気ディスク用ガラス基板を作製した。基板の外径は６５ｍｍ、中心孔径は２０ｍｍ、厚さは０．８ｍｍで、主表面の平坦度が４μｍ以下、主表面の粗さが０．２ｎｍ以下であり、ラッピング工程なしに所望形状の磁気記録媒体基板を得ることができた。

（実施例３）
　実施例２において作製した磁気記録媒体基板（磁気ディスク用ガラス基板）の両主表面上に、インライン型スパッタリング装置を用いて、順に、ＣｒＴｉの付着層、ＣｏＴａＺｒ／Ｒｕ／ＣｏＴａＺｒの軟磁性層、ＣｏＣｒＳｉＯ₂の非磁性グラニュラー下地層、ＣｏＣｒＰｔ－ＳｉＯ₂・ＴｉＯ₂のグラニュラー磁性層、水素化カーボン保護膜を成膜し、最上層にディップ法によりパーフルオロポリエーテル潤滑層を成膜して磁気記録媒体（磁気ディスク）を得た。このようにして得た磁気ディスクをハードディスクドライブに組み込み、動作確認をしたところ所期の性能を得ることができた。

Claims

　連続的に流出する溶融ガラス流の先端部を分離して溶融ガラス塊を形成する溶融ガラス塊形成工程と、
　当該溶融ガラス塊形成工程を経た後に、下方へと落下する上記溶融ガラス塊を、上記溶融ガラス塊の落下方向に対して交叉する方向に対向配置された第一のプレス成形型および第二のプレス成形型によりプレス成形するプレス成形工程と、を少なくとも経てガラスブランクを製造し、
　上記プレス成形が、
　上記溶融ガラス流の先端部を分離する際に上記溶融ガラス塊表面に形成された分離痕が、上記第一のプレス成形型の成形面および上記第二のプレス成形型の成形面から選択される少なくとも一方の成形面に対向した状態で、上記溶融ガラス塊と、上記分離痕に対向する成形面とを接触させるように実施され、
　１枚の上記ガラスブランクが、１枚の中心孔を有する磁気記録媒体基板を作製するために用いられることを特徴とするガラスブランクの製造方法。
　請求項１に記載のガラスブランクの製造方法において、
　前記溶融ガラス塊が、鉛直方向の下方側へと連続的に流出する溶融ガラス流の先端部を分離することにより形成され、
　前記プレス成形工程において、前記溶融ガラス流の先端部を分離する際に前記溶融ガラス塊の上部表面に形成された分離痕が、前記第一のプレス成形型の成形面および前記第二のプレス成形型の成形面から選択されるいずれか一方の成形面に対向した状態で、前記溶融ガラス塊と、前記分離痕に対向する成形面とを接触させることができるように、前記溶融ガラス塊を回転させるために、
　（１）前記溶融ガラス塊形成工程の実施中において、前記溶融ガラス塊として分離される前記溶融ガラス流の先端部、および、
　（２）前記溶融ガラス塊形成工程の終了直後から前記プレス成形工程の開始直前までの期間において、落下中の前記溶融ガラス塊、
　から選択される少なくとも一方の被プレス成形ガラス素材に、鉛直方向と平行を成す上記被プレス成形ガラス素材の中心軸に対して直交する方向に作用する力のベクトルの大きさの総和が、実質的に０を超えるように、鉛直方向に対して交叉する方向から外力を付与する外力付与工程を実施することを特徴とするガラスブランクの製造方法。
　請求項２に記載のガラスブランクの製造方法において、
　前記溶融ガラス流の垂下する方向と直交する平面における前記溶融ガラス流の先端部近傍の断面の形状が、長径と短径とを有する略楕円形状を成し、
　前記溶融ガラス流の先端部の分離が、前記溶融ガラス流の垂下する方向と略直交し、かつ、前記溶融ガラス流の先端部近傍の断面の長径方向と略一致する方向から、前記溶融ガラス流に対して、一対のシアブレードを互いに反対方向かつ鉛直方向に対して交叉する方向から貫入させることにより実施されることを特徴とするガラスブランクの製造方法。
　請求項２または３に記載のガラスブランクの製造方法において、　
　前記溶融ガラス流の先端部の分離が、前記溶融ガラス流の垂下する方向と略直交する方向から、前記溶融ガラス流に対して、一対のシアブレードを互いに反対方向かつ鉛直方向に対して交叉する方向から貫入させることにより実施され、
　上記一対のシアブレードの刃部が分岐し、その形状がＶ字形状およびＵ字形状から選択されるいずれか一方の形状であることを特徴とするガラスブランクの製造方法。
　請求項１～４のいずれか１つに記載のガラスブランクの製造方法において、
　前記プレス成形工程を実施する直前の前記溶融ガラス塊の表面に存在する前記分離痕が、
　前記溶融ガラス塊の中心点と、前記第一のプレス成形型の成形面および前記第二のプレス成形型の成形面から選択されるいずれか一方の成形面と、を最短距離で結ぶ直線上に位置していることを特徴とするガラスブランクの製造方法。
　請求項１～５のいずれか１つに記載のガラスブランクの製造方法において、
　前記プレス成形工程の実施により、前記溶融ガラス塊が、前記第一のプレス成形型の成形面と前記第二のプレス成形型の成形面との間で完全に押広げられて板状ガラスに成形された際に、
　前記第一のプレス成形型および前記第二のプレス成形型の成形面の少なくとも上記板状ガラスと接触する領域が、平坦面を形成していることを特徴とするガラスブランクの製造方法。
　連続的に流出する溶融ガラス流の先端部を分離して溶融ガラス塊を形成する溶融ガラス塊形成工程と、
　当該溶融ガラス塊形成工程を経た後に、下方へと落下する上記溶融ガラス塊を、上記溶融ガラス塊の落下方向に対して交叉する方向に対向配置された第一のプレス成形型および第二のプレス成形型によりプレス成形するプレス成形工程と、を少なくとも経てガラスブランクを製造した後、さらに、
　上記ガラスブランクの主表面の中央部に中心孔を形成する中心孔形成工程と、
　上記主表面を研磨する研磨工程と、
を少なくとも経て、１枚の上記ガラスブランクから１枚の磁気記録媒体基板を製造し、
　上記プレス成形が、
　上記溶融ガラス流の先端部を分離する際に上記溶融ガラス塊表面に形成された分離痕が、上記第一のプレス成形型の成形面および上記第二のプレス成形型の成形面から選択される少なくとも一方の成形面に対向した状態で、上記溶融ガラス塊と、上記分離痕に対向する成形面とを接触させるように実施されることを特徴とする磁気記録媒体基板の製造方法。
　連続的に流出する溶融ガラス流の先端部を分離して溶融ガラス塊を形成する溶融ガラス塊形成工程と、
　当該溶融ガラス塊形成工程を経た後に、下方へと落下する上記溶融ガラス塊を、上記溶融ガラス塊の落下方向に対して交叉する方向に対向配置された第一のプレス成形型および第二のプレス成形型によりプレス成形するプレス成形工程と、を少なくとも経てガラスブランクを製造し、さらに、
　上記ガラスブランクの主表面の中央部に中心孔を形成する中心孔形成工程と、
　上記主表面を研磨する研磨工程と、
を少なくとも経て、１枚の上記ガラスブランクから１枚の磁気記録媒体基板を製造した後に、
　上記磁気記録媒体基板の主表面上に磁気記録層を形成する磁気記録層形成工程を少なくとも経て、磁気記録媒体を製造し、
　上記プレス成形が、
　上記溶融ガラス流の先端部を分離する際に上記溶融ガラス塊表面に形成された分離痕が、上記第一のプレス成形型の成形面および上記第二のプレス成形型の成形面から選択される少なくとも一方の成形面に対向した状態で、上記溶融ガラス塊と、上記分離痕に対向する成形面とを接触させるように実施されることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。