WO2011117946A1 - 紫外線照射装置 - Google Patents

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    • G02F1/1303Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs

Definitions

  • the internal circulation system may be provided with a filter fan unit for supplying clean air into the processing chambers and a cooling unit for cooling the clean air.
  • a controller that inputs a relationship between the lighting integrated time of each of the linear light sources and the time extension rate for making the integrated light quantity constant during the lighting integrated time; the controller detects with the integrated wattmeter
  • the time for irradiating ultraviolet rays in each processing chamber may be set based on the accumulated lighting time and the time extension rate in the lighting accumulated time.
  • the linear light source 3 includes a fluorescent tube 1 that emits ultraviolet light such as black light, and a substantially semicircular cross section so as to surround the fluorescent tube 1. And a reflection plate 2 provided in an arc shape.
  • the fluorescent tube 1 is attached to a metal fitting (not shown) provided on the reflection plate 2.
  • the linear light source 3 is fixed to the base plate 5 via lamp holders 4 attached to both ends thereof.
  • black light is exemplified as the fluorescent tube constituting the linear light source 3, but in the present embodiment, a fluorescent tube that emits UV-B or narrow band UV-B is illustrated.
  • Embodiment 3 of the Invention >> 17 to 19 show Embodiment 3 of the ultraviolet irradiation device according to the present invention.
  • P Panel to be processed 3 Linear light sources 7a and 7b Distance adjusting unit 10
  • Panel holding unit 14
  • Integrating wattmeter 20
  • Processing chamber 22
  • Filter fan unit 25
  • Cooling unit 26
  • Internal circulation system 27
  • Control unit 28
  • Non-lighting detection unit 30

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Abstract

 各々、被処理パネル(P)を保持するためのパネル保持部、及び互いに平行に配設され、パネル保持部に保持された被処理パネル(P)に紫外線を照射するための複数の線状光源を内部に有し、互いに対向するように立設された複数の処理室(20)と、各処理室(20)の内部の空気を各処理室(20)の外部から循環するための内部循環系(26)とを備えている。

Description

紫外線照射装置
 本発明は、紫外線照射装置に関し、特に、液晶表示パネルの製造に用いる紫外線照射装置に関するものである。
 近年、液晶表示パネルでは、応答速度やコントラストなどを向上させるために、パネル内に封入されたモノマーを含む液晶材料に電圧を印加しながら紫外線を照射して、液晶材料を構成する液晶分子のプレチルト角を制御するPSA(Polymer Sustained Alignment)という技術が注目されている。
 このPSA技術では、液晶材料に電圧を印加しながら紫外線を照射して液晶分子のプレチルト角を付与するためのポリマーを形成する1次照射と、1次照射で紫外線が照射された液晶材料に電圧を印加せずに紫外線を照射して残存するモノマー量を低減する2次照射とを行うことになる。
 例えば、特許文献1には、発光スペクトルのピークが320nm~380nmの間にあり、管長1cm当たりの入力電力が0.4W以上である蛍光ランプを発光部として有し、蛍光ランプの管壁温度を一定範囲内に制御する温度制御機構を設けてなる紫外線照射装置が開示されている。
特開平5-305259号公報
 ところで、PSA技術の2次照射では、被処理パネルに対して、例えば、1時間~3時間程度、紫外線を照射する必要があるので、2次照射を行うための紫外線照射装置では、処理能力が著しく低下してしまうという問題がある。また、PSA技術の2次照射では、被処理パネルにおける面内温度分布が不均一になると、残存するモノマーの反応(重合)が不十分になるおそれがある。
 本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、残存するモノマー量を確実に低減して、処理能力を向上させることにある。
 上記目的を達成するために、本発明は、互いに対向するように立設された複数の処理室と、各処理室の内部の空気を外部から循環するための内部循環系とを備えるようにしたものである。
 具体的に本発明に係る紫外線照射装置は、各々、被処理パネルを保持するためのパネル保持部、及び互いに平行に配設され、該パネル保持部に保持された被処理パネルに紫外線を照射するための複数の線状光源を内部に有し、互いに対向するように立設された複数の処理室と、上記各処理室の内部の空気を該各処理室の外部から循環するための内部循環系とを備えていることを特徴とする。
 上記の構成によれば、各々、被処理パネルを保持するためのパネル保持部、及び被処理パネルに紫外線を照射するための複数の線状光源が収容された複数の処理室が互いに対向するように立設されているので、被処理パネルを鉛直に設置して処理することになり、単位床面積当たりの処理パネル数が被処理パネルを水平に設置して処理する場合よりも増えるため、処理能力が向上する。そして、各処理室の内部の空気を外部から循環するための内部循環系が設けられているので、各処理室に収容された被処理パネルにおける面内温度分布が均一になるため、残存するモノマー量が確実に低減される。したがって、複数の処理室が互いに対向するように立設されていると共に、各処理室の内部の空気が内部循環系により外部から循環されているので、残存するモノマー量を確実に低減して、処理能力を向上させることが可能になる。
 上記内部循環系には、上記各処理室の内部に清浄な空気を供給するためのフィルターファンユニット、及び該清浄な空気を冷却するための冷却ユニットが設けられていてもよい。
 上記の構成によれば、内部循環系にフィルターファンユニット及び冷却ユニットが設けられているので、各処理室の内部(及び装置内部全体)の清浄度が高まると共に、各処理室の複数の線状光源により温まった空気が冷却されて各処理室の内部(及び装置内部全体)の温度が一定に保持される。
 上記各処理室には、上記パネル保持部に保持された被処理パネルと、上記各線状光源との距離を調節する距離調節部が設けられていてもよい。
 上記の構成によれば、各処理室に被処理パネルと各線状光源との距離を調節する距離調節部が設けられているので、各線状光源の照度及びその均一性の最適化が可能になる。
 上記各線状光源は、主波長が313nm、313nm及び334nm、又は334nm及び365nmの紫外線を放射する蛍光管であってもよい。
 上記の構成によれば、各線状光源の放射する紫外線の主波長が313nm、313nm及び334nm、又は334nm及び365nmであるので、本発明の作用効果が具体的に奏される。ここで、線状光源として、主波長が313nm、又は313nm及び334nmの紫外線を放射する蛍光管を用いた場合には、主波長が334nm及び365nmの紫外線を放射する蛍光管(ブラックライト)を用いた場合よりも、放射される紫外線が短波長になり、紫外線の照射時間が短く済むため、処理能力がいっそう向上する。なお、上記主波長の数値は、各蛍光管の代表値であり、測定装置及び測定条件などに依存するので、ある程度の範囲を有するものである(図11、図14及び図15参照)。
 上記各処理室には、上記各線状光源の不点灯を検知するための不点灯検知部が設けられていてもよい。
 上記の構成によれば、各処理室に各線状光源の不点灯を検知するための不点灯検知部が設けられているので、各線状光源の点灯不良や球切れが目視せずに確認される。
 上記不点灯検知部は、上記各線状光源に接続されたインバーターの出力電流を測定して、該各線状光源の不点灯を検知するように構成されていてもよい。
 上記の構成によれば、不点灯検知部によって、各線状光源に接続されたインバーターの出力電流を測定して、各線状光源の不点灯を検知するので、各処理室又は各線状光源毎に照度センサーを設置する場合よりも設備コストが低減される。
 上記各処理室には、上記各線状光源の点灯積算時間を検知するための積算電力計が設けられていてもよい。
 上記の構成によれば、各処理室に各線状光源の点灯積算時間を検知するための積算電力計が設けられているので、点灯積算時間によって、例えば、紫外線を照射する時間の補正や各線状光源の出力比の調整が可能になる。
 上記各線状光源の点灯積算時間と、該点灯積算時間における積算光量を一定にするための時間延長率との関係が入力された制御部を有し、上記制御部は、上記積算電力計で検知された点灯積算時間及び該点灯積算時間における上記時間延長率に基づいて、上記各処理室における紫外線を照射する時間を設定するように構成されていてもよい。
 上記の構成によれば、各線状光源の点灯積算時間と時間延長率との関係が入力され、点灯積算時間及び時間延長率に基づいて各処理室における紫外線を照射する時間を設定する制御部を備えているので、経時変化による各線状光源の照度の低下に対して、紫外線の照射条件が自動で変更される。
 上記各線状光源の点灯積算時間と、該点灯積算時間における照度を一定にするための出力比との関係が入力された制御部を有し、上記制御部は、上記積算電力計で検知された点灯積算時間及び該点灯積算時間における上記出力比に基づいて、上記各処理室における上記各線状光源の出力比を設定するように構成されていてもよい。
 上記の構成によれば、各線状光源の点灯積算時間と出力比との関係が入力され、点灯積算時間及び出力比に基づいて各処理室における各線状光源の出力比を設定する制御部を備えているので、経時変化による各線状光源の照度の低下に対して、紫外線の照射条件が自動で変更される。
 上記各処理室は、装置本体に対して着脱可能に設けられていてもよい。
 上記の構成によれば、各処理室が装置本体に対して着脱可能に設けられているので、各処理室のパネル保持部に対する被処理パネルの取り外しが容易になる。
 本発明によれば、互いに対向するように立設された複数の処理室と、各処理室の内部の空気を外部から循環するための内部循環系とを備えているので、残存するモノマー量を確実に低減して、処理能力を向上させることができる。
図1は、実施形態1に係る紫外線照射装置の内部を斜方から見た概略図である。 図2は、図1に示す紫外線照射装置の内部におけるエアーフローの説明図である。 図3は、図1に示す紫外線照射装置に設けられた処理ユニットの内部を側方から見た概略図である。 図4は、図3に示す処理ユニットに設けられた処理室の内部を一方の側方から見た概略図である。 図5は、図4に示す処理室の内部を他方の側方から見た概略図である。 図6は、図4に示す処理室の内部を前方から見た概略図である。 図7は、図4に示す処理室の内部を下方から見た概略図である。 図8は、図4に示す処理室に設けられた距離調節部を側方から見た概略図である。 図9は、図4に示す処理室に設けられた他の距離調節部を側方から見た概略図である。 図10は、図1に示す紫外線照射装置の使用説明図である。 図11は、図1に示す紫外線照射装置に用いる線状光源の分光分布図である。 図12は、図4に示す処理室の内部における温度分布の説明図である。 図13は、図4に示す処理室の内部における照度分布の説明図である。 図14は、実施形態2に係る紫外線照射装置に用いる線状光源の分光分布図である。 図15は、図14に示す線状光源と異なる他の線状光源の分光分布図である。 図16は、図14に示す線状光源を備えた紫外線照射装置に設けられた不点灯検知部のブロック図である。 図17は、実施形態3に係る紫外線照射装置に用いる線状光源の照度推移のグラフである。 図18は、図17に示す照度推移の線状光源を用いる紫外線照射装置に設けられた制御部の概略図である。 図19は、図17に示す照度推移の線状光源を用いる紫外線照射装置に設けられた他の制御部の概略図である。
 以下、本発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、本発明は、以下の各実施形態に限定されるものではない。
 《発明の実施形態1》
 図1~図13は、本発明に係る紫外線照射装置の実施形態1を示している。具体的に、図1は、本実施形態の紫外線照射装置30の内部を斜方から見た概略図であり、図2は、紫外線照射装置30の内部におけるエアーフローの説明図である。また、図3は、紫外線照射装置30に設けられた処理ユニット21の内部を側方から見た概略図である。さらに、図4は、処理ユニット21に設けられた処理室20の内部を一方の側方から見た概略図であり、図5は、その他方の側方から見た概略図であり、図6は、その前方から見た概略図であり、図7は、その下方から見た概略図である。
 まず、紫外線照射装置30を用いて紫外線を照射する被処理パネルP(例えば、図5参照)について説明する。
 被処理パネルPは、例えば、モバイル用途の複数の液晶表示パネルを多面取りで製造するための大判のパネルであり、複数のTFT(Thin Film Transistor)基板がマトリクス状に配置されたTFT母基板(不図示)と、TFT母基板に対向するように設けられ、各TFT基板に対応するように複数のCF(Color Filter)基板がマトリクス状に配置されたCF母基板(不図示)と、各TFT基板及び各CF基板の間に設けられた複数の液晶材料(不図示)と、各TFT基板及び各CF基板を互いに接着すると共に各TFT基板及び各CF基板の間に各液晶材料を封入するための複数のシール材(不図示)とを備えている。
 被処理パネルPに封入された各液晶材料は、印加電圧に応じて配向方向が変化する液晶分子(不図示)と、液晶分子のプレチルト角を付与するためにPSA技術の1次照射において紫外線を照射して形成されたポリマー(不図示)と、紫外線照射装置30を用いるPSA技術の2次照射において紫外線を照射してその残存量を低減するモノマー(不図示)とを含んでいる。
 次に、本実施形態の紫外線照射装置30について説明する。
 紫外線照射装置30は、図1及び図2に示すように、互いに対向するように立設された処理室(20、図3等参照)を含む複数の処理ユニット21と、各処理ユニット21の処理室(20)の内部の空気を外部から循環するための内部循環系26と、各処理ユニット21及び内部循環系26を制御するための制御部27とを備えている。
 処理ユニット21は、図3に示すように、把持部13、積算電力計14、コントロールパネル15及び覗き窓16が前面に設けられ、且つ被処理パネルPを内部に収容して被処理パネルPに紫外線を照射するための処理室20と、処理室20の背面に設けられ、キャッチスイッチ17及び複数のインバーター18が内蔵された背面ユニット19とを備え、図1に示すように、装置本体に対してそれぞれ前後方向にスライドして着脱可能に設けられている。
 把持部13は、作業者(M、図10参照)が処理ユニット21を把持するために設けられている。
 積算電力計14は、後述する線状光源(3)の点灯積算時間を検知するように構成されている。
 コントロールパネル15は、線状光源(3)の照射レシピの設定を行うと共に、照射状態(照射レシピ、照射設定時間、照射経過時間など)を表示するように構成されている。
 覗き窓16は、処理室20の内部における被処理パネルPの有無、及び線状光源(3)の点灯/不点灯を確認するために設けられている。
 キャッチスイッチ17は、装置本体に処理ユニット21を挿入した際に、押し込まれることにより、自動的に照射レシピのシーケンスが開始するように構成されている。
 インバーター18は、例えば、予熱タイプの2灯式のものであり、後述する複数に線状光源に対して2本毎に設けられている。
 処理室20は、図4~図7に示すように、その内部の空気を循環させるために上面及び下面のほぼ全面が開口すると共に被処理パネルPを脱着させるために一方の幅広の側面の全面が開口するように設けられた筐体11と、被処理パネルPを保持するために筐体11の内部に設けられたパネル保持部10と、パネル保持部10に保持された被処理パネルPに紫外線を照射するために筐体11の内部に互いに平行に配設された複数の線状光源3とを備えている。ここで、複数の線状光源3は、図4~図7に示すように、照度の均一性を向上させるために、被処理パネルPの周端よりも外側の領域にも、1、2本配設されている。
 パネル保持部10は、図5~図8に示すように、枠状に設けられた基板支持プレート6aと、基板支持プレート6aの内周端に取り付けられたパネル受け部8と、パネル受け部8に取り付けられた複数の基板固定用フック9とを備えている。
 基板支持プレート6aは、図8に示すように、筐体11の幅狭側面(前面及び後面)に一対の固定金具12(図5及び図7参照)を介して固定された枠状のベースプレート5に距離調節部7aを介して取り付けられている。
 ここで、図8は、処理室20に設けられた距離調節部7aを側方から見た概略図であり、図9は、距離調節部7aと異なる他の距離調節部7bを側方から見た概略図である。
 距離調節部7aは、図8に示すように、環状の複数のスペーサー7aaと、各スペーサー7aa及び基板支持プレート6aをベースプレート5に固定するためのボルト7abとを備え、スペーサー7aaの個数により、パネル保持部10に保持された被処理パネルPと各線状光源3との距離とを調整するように構成されている。なお、本実施形態では、複数のスペーサー7aa及びボルト7abを備えた距離調節部7aを例示したが、例えば、図9に示すように、L字金具7ba及びレールガイド7bbを備えた距離調節部7bであってもよい。具体的に距離調節部7bでは、図9に示すように、例えば、エヌアイシ・オートテック株式会社製のアルファフレーム(登録商標)などの一対のレールガイド7bbが筐体11の幅広側面(左面及び右面)に固定され、ベースプレート5に固定されたL字金具7ba及び基板保持プレート6bに固定されたL字金具7baが各レールガイド7bbにスライド移動及び固定可能に設けられている。
 線状光源3は、図3、図4、図6、図8及び図9に示すように、ブラックライトなどの紫外線を放射する蛍光管1と、蛍光管1を包囲するように断面略半円弧状に設けられた反射板2とを備えている。ここで、蛍光管1は、反射板2に設けられた金具(不図示)に取り付けられている。また、線状光源3は、図4、図6~図8に示すように、その両端に取り付けられたランプホルダー4を介して、ベースプレート5に固定されている。
 蛍光管1は、図6に示すように、その両端部のフィラメントの近傍における経時変化による照度の低下の影響が少なくなるように、被処理パネルPの縦サイズよりも50mm~150mm程度長く設計されている。
 内部循環系26は、図1及び図2に示すように、各処理室20の内部に清浄な空気を供給するためのフィルターファンユニット22と、フィルターファンユニット22及び各処理ユニット21の間に配置され、フィルターファンユニット22からの空気を整流するために複数の貫通孔が形成されたパンチング板23aと、各処理室20から排出された(温まった)空気をリターンシャフト24に送り出すための可変ルーバーが設けられた空調仕切板23bと、空調仕切板23bから排出された(温まった)空気を装置上部に戻すためのリターンシャフト24と、リターンシャフト24から戻った(温まった)空気を冷却してフィルターファンユニット22に供給するための冷却ユニット25とを備え、制御部27により、例えば、冷却ユニット25の内部の冷却媒体の流量を制御して、内部温度が30±5℃に保持されるように構成されている。
 フィルターファンユニット22は、空気を循環させるために吸気側に設けられたファン(不図示)と、循環する空気中の異物を取り除くために排気側に設けられたフィルター(不図示)とを備えている。
 冷却ユニット25は、例えば、水などの冷却媒体が循環する配管がコイル状又はフィン状に設けられた熱交換器である。
 ここで、図10は、紫外線照射装置30の使用説明図である。
 上記構成の紫外線照射装置30において、被処理パネルPをセットする際には、まず、作業者Mが各処理ユニット21の把持部13を掴んで各処理ユニット21を装置本体から引き出し、続いて、図10に示すように、各処理ユニット21の処理室20に設けられたパネル保持部10に被処理パネルPを取り付けると共に、コントロールパネル15において線状光源3の照射レシピの設定を行い、その後、各処理ユニット21を装置本体に押し戻すことにより、キャッチスイッチ17が押し込まれ、各処理ユニット21における照射準備が整うことになる。
 次に、具体的に行った実験について、説明する。ここで、図11は、本発明の実施例で用いたブラックライトの分光分布図である。また、図12は、本発明の実施例の処理室の内部における温度分布の説明図であり、図13は、その処理室の内部における照度分布の説明図である。なお、図12及び図13では、縦軸が処理室の高さ方向を示し、横軸が処理室の前後方向を示している。
 具体的には、被処理パネルPとして、730mm×920mmの大判のパネルを用いた。また、内部循環系6による循環条件としては、通過風速を0.5m/秒~2m/秒とし、冷却コイル25の冷却能力を15kWとし、冷却水量を85L/分とした。さらに、照射条件としては、線状光源3の蛍光管1として、図11に示すような分光分布を有し、FHF32タイプであり、管外径が25.5mmであり、管長が1198mmであるブラックライトを14本用い、被処理パネルPの表面における照度を波長313nmで0.1mW/cm~1mW/cmとし、波長365nmで1mW/cm~10mW/cmとした。
 <温度分布>
 紫外線照射装置30を用いて上述した循環条件及び照射条件で被処理パネルPに対して紫外線を照射し、照射後15分経過した安定状態の被処理パネルPの表面温度を被処理パネルPに貼り付けた熱電対で測定して、その温度分布を評価した。
 被処理パネルPにおける温度分布は、図12及び下記の表1に示すように、被処理パネルPの表面温度が29.4℃~33.2℃となり、内部循環系6により、処理室20の内部温度が30±5℃になることが確認された。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
 <照度分布>
 紫外線照射装置30を用いて上述した循環条件及び照射条件で被処理パネルPに対して紫外線を照射し、照射後15分経過した安定状態の被処理パネルPの表面における照度を照度センサーで測定して、その照度分布を評価した。なお、照度の測定は、線状光源3と照度センサーとの距離が一定になるようにスライド移動可能な治具に照度センサーを取り付け、照度センサーを各測定点に移動させて行った。
 被処理パネルPにおける照度分布は、図13及び下記の表2に示すように、距離調節部7aにより、蛍光管1の表面と被処理パネルPの表面との間の距離を、例えば、80mmとして、線状光源3の配置を最適化することにより、0.38mW/cm~0.44mW/cmとなり、蛍光管1の表面と被処理パネルPの表面との間の距離が、10mm~150mmであれば、被処理パネルPにおける照度の面内均一度が±10%以下になることが確認された。なお、表2における均一度は、(最大値-最小値)/(最大値+最小値)×100の値である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
 以上説明したように、本実施形態の紫外線照射装置30によれば、各々、被処理パネルPを保持するためのパネル保持部10、及び被処理パネルPに紫外線Lを照射するための複数の線状光源3が収容された複数の処理室20が互いに対向するように立設されているので、被処理パネルPを鉛直に設置して処理することになり、単位床面積当たりの処理パネル数が被処理パネルを水平に設置して処理する場合よりも増えるため、処理能力を向上させることができる。そして、各処理室20の内部の空気を外部から循環するための内部循環系26が設けられているので、各処理室20に収容された被処理パネルPにおける面内温度分布が均一になるため、残存するモノマー量を確実に低減することができる。したがって、複数の処理室20が互いに対向するように立設されていると共に、各処理室20の内部の空気が内部循環系26により外部から循環されているので、残存するモノマー量を確実に低減して、処理能力を向上させることができる。
 また、本実施形態の紫外線照射装置30によれば、内部循環系26にフィルターファンユニット22及び冷却ユニット25が設けられているので、各処理室20の内部及び装置内部全体)の清浄度が高まると共に、各処理室20の複数の線状光源3により温まった空気が冷却されて各処理室20の内部及び装置内部全体の温度を一定に保持することができる。
 また、本実施形態の紫外線照射装置30によれば、各処理室20に被処理パネルPと各線状光源3との距離を調節する距離調節部7a又は7bが設けられているので、各線状光源3の照度及びその均一性の最適化を図ることができる。
 また、本実施形態の紫外線照射装置30によれば、各処理ユニット21が装置本体に対して着脱可能に設けられているので、各処理ユニット21の処理室20のパネル保持部10に対して、被処理パネルPを容易に取り外しすることができる。
 《発明の実施形態2》
 図14~図16は、本発明に係る紫外線照射装置の実施形態2を示している。具体的に、図14は、本実施形態の紫外線照射装置に用いるUV-B蛍光管の分光分布図である。また、図15は、本実施形態の紫外線照射装置に用いるナローバンド蛍光管の分光分布図である。さらに、図16は、本実施形態の紫外線照射装置に設けられた不点灯検知部28のブロック図である。なお、以下の各実施形態において、図1~図13と同じ部分については同じ符号を付して、その詳細な説明を省略する。
 上記実施形態1では、線状光源3を構成する蛍光管として、ブラックライトを例示したが、本実施形態では、UV-B又はナローバンドUV-Bを発光する蛍光管を例示する。
 本実施形態の紫外線照射装置は、各処理室(20)に、UV-B又はナローバンドUV-Bを発光する複数の蛍光管(1)と、各蛍光管(1)の不点灯を検出するための不点灯検知部28(図16参照)と備えている。
 UV-B蛍光管は、図14に示すように、主波長313nm及び334nmの紫外線を放射するものである。なお、UV-B蛍光管としては、実施形態1のブラックライトと同様に、管外径が25.5mmであり、管長が1198mmであるFHF32タイプ相当のものが好適である。
 ナローバンド蛍光管は、図15に示すように、主波長313nmの紫外線を放射するものである。なお、ナローバンド蛍光管としては、管外径が40mmであり、管長が1200mmであるものが好適である。また、ナローバンド蛍光管では、管外径がUV-B蛍光管よりも大きくなってしまうので、単位面積当たりの照度を向上させる場合には、UV-B蛍光管の方が好適である。
 ここで、液晶材料に含有するモノマーは、一般的に、313nmの吸光特性が334nmの吸光特性よりも1桁以上大きいので、UV-B蛍光管又はナローバンド蛍光管を用いることにより、下記の表3に示すように、紫外線の照射時間を短縮することができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
 なお、表3の比較では、同じ照度で評価するために、ナローバンド蛍光管にフィルターを取り付けているが、フィルターを外したナローバンド蛍光管では、ブラックライト比で0.11まで照射時間を短縮することができる。
 不点灯検知部28は、図16に示すように、各線状光源3とインバーター19との間の配線に介在して、その配線に流れる電力値を測定するためのクランプテスタなどの複数の電流センサー28aと、各電流センサー28aが接続され、入力端子A~Dから入力される制御信号により、各電流センサー28aで測定した電流値を順次読み取り、読み取った電流値が正常な場合に正常信号を出力端子Dから出力し、読み取った電流値が所定値以下の場合に異常信号を出力端子Eから出力するためのスキャナー部28bと、スキャナー部28bからの異常信号により、全ての線状光源3による紫外線の照射を中止すると共にそれまでの照射経過時間を保持するためのタイマー部28cとを備えている。
 なお、上記実施形態1では、蛍光管として、ブラックライトを用いているので、目視で点灯不良や球切れを確認できるが、本実施形態では、UV-B蛍光管又はナローバンド蛍光管を用いているので、目視で点灯不良や球切れを安全対策上、確認できないので、不点灯検知部28は不可欠な構成要素である。また、本実施形態では、インバーターの電流値の出力を検知する方式の不点灯検知部28を例示したが、照度センサーで不点灯を検出する方式であってもよい。
 本実施形態の紫外線照射装置によれば、上記実施形態1と同様に、残存するモノマー量を確実に低減して、処理能力を向上させることができると共に、各線状光源3がUV-B(主波長:313nm程度/334nm程度)又はナローバンドUV-B(主波長:313nm程度)を発光する蛍光管であるので、各線状光源3から放射する紫外線が、例えば、ブラックライト(主波長:334nm程度/365nm程度)よりも短波長になり、上記実施形態1のブラックライトを用いた場合よりも紫外線の照射時間が短くなるため、処理能力をいっそう向上させることができる。
 また、本実施形態の紫外線照射装置によれば、各処理室に各線状光源3の不点灯を検知するための不点灯検知部28が設けられているので、各線状光源3の点灯不良や球切れを目視せずに確認することができる。
 また、本実施形態の紫外線照射装置によれば、不点灯検知部28によって、各線状光源3に接続されたインバーター19の出力電流を測定して、各線状光源3の不点灯を検知するので、各処理室20又は各線状光源3毎に照度センサーを設置する場合よりも設備コストを低減することができる。
 また、本実施形態の紫外線照射装置によれば、不点灯検知部28により紫外線の照射を中止した際の照射経過時間がタイマー部28cに保持されるので、処理開始後、何分、経過したか容易に判明し、異常のあった蛍光管を交換した後に、タイマー部28cを再開させることにより、処理時間を再入力するような手間を省略することができると共に、リワークの精度を向上させることができる。
 《発明の実施形態3》
 図17~図19は、本発明に係る紫外線照射装置の実施形態3を示している。
 上記各実施形態では、線状光源の経時変化を考慮していなかったが、本実施形態では、線状光源の経時変化を考慮した装置構成を例示する。
 図17は、本実施形態の紫外線照射装置に用いるUV-B蛍光管の照度推移のグラフである。
 UV-B蛍光管は、一般的に、図17に示すように、点灯積算時間の累積と共に、照度が低下してしまう。そして、図17に示すUV-B蛍光管の場合には、xを点灯積算時間とし、yを照度とすると、y=-0.0498Ln(x)-0.684という近似式(決定係数R=0.9903)が成立する。
 これにより、下記の表4に示すように、線状光源の点灯積算時間と、その点灯積算時間における積算光量を一定にするための時間延長率との関係が導出される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
 ここで、図18は、本実施形態の紫外線照射装置に設けられた制御部の概略図である。
 この制御部(27)は、図18に示すように、その内部に表4の記録テーブルが入力されていると共に、積算電力計(カウンター)14で検知された点灯積算時間、及びその点灯積算時間における表4の時間延長率に基づいて、元々の設定照射時間に時間延長率を乗ずることにより導出された実際の照射時間を照射時間タイマーに自動入力して、各処理室20における紫外線の実際に必要な照射時間を自動で設定するように構成されている。
 また、上述した近似式により、下記の表5に示すように、線状光源の点灯積算時間と、その点灯積算時間における照度を一定にするための出力比との関係が導出される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
 ここで、図19は、本実施形態の紫外線照射装置に設けられた他の制御部の概略図である。
 この制御部(27)は、図19に示すように、その内部に表5の記録テーブルが入力されていると共に、積算電力計(カウンター)14で検知された点灯積算時間、及びその点灯積算時間における表5の出力比に基づいて、各処理室20における各線状光源3の出力比を設定して、照度を自動で一定にするディマー機能を有している。
 本実施形態の紫外線照射装置によれば、上記実施形態1と同様に、残存するモノマー量を確実に低減して、処理能力を向上させることができると共に、各線状光源の点灯積算時間と時間延長率との関係が入力され、点灯積算時間及び時間延長率に基づいて各処理室における紫外線を照射する時間を設定する、又は、各線状光源の点灯積算時間と出力比との関係が入力され、点灯積算時間及び出力比に基づいて各処理室における各線状光源の出力比を設定する制御部を備えているので、経時変化による各線状光源の照度の低下に対して、紫外線の照射条件を自動で変更することができる。
 また、本実施形態の紫外線照射装置によれば、点灯積算時間と照度との関係を利用して、定期的な照度測定が不要になるので、作業者の員数を削減することができると共に、装置稼働率を向上させることができる。
 また、本実施形態の紫外線照射装置によれば、紫外線の照射条件が自動で変更されるので、人的な作業ミスを抑制することができる。
 また、本実施形態の紫外線照射装置によれば、面内照度測定を行うために必要となる照度センサーやその駆動機構を省略することができるので、設備コストを低減することができる。
 なお、上記各実施形態では、PSA技術に用いる紫外線照射装置を例示したが、本発明は、例えば、紫外線硬化樹脂を硬化させる一般的な紫外線照射装置にも適用することができる。
 以上説明したように、本発明は、PSA技術の2次照射において、残存するモノマー量を確実に低減して、処理能力を向上させることができるので、液晶表示パネルの製造について有用である。
P   被処理パネル
3   線状光源
7a,7b  距離調節部
10  パネル保持部
14  積算電力計
20  処理室
22  フィルターファンユニット
25  冷却ユニット
26  内部循環系
27  制御部
28  不点灯検知部
30  紫外線照射装置

Claims (10)

  1.  各々、被処理パネルを保持するためのパネル保持部、及び互いに平行に配設され、該パネル保持部に保持された被処理パネルに紫外線を照射するための複数の線状光源を内部に有し、互いに対向するように立設された複数の処理室と、
     上記各処理室の内部の空気を該各処理室の外部から循環するための内部循環系とを備えていることを特徴とする紫外線照射装置。
  2.  請求項1に記載された紫外線照射装置において、
     上記内部循環系には、上記各処理室の内部に清浄な空気を供給するためのフィルターファンユニット、及び該清浄な空気を冷却するための冷却ユニットが設けられていることを特徴とする紫外線照射装置。
  3.  請求項1又は2に記載された紫外線照射装置において、
     上記各処理室には、上記パネル保持部に保持された被処理パネルと、上記各線状光源との距離を調節する距離調節部が設けられていることを特徴とする紫外線照射装置。
  4.  請求項1乃至3の何れか1つに記載された紫外線照射装置において、
     上記各線状光源は、主波長が313nm、313nm及び334nm、又は334nm及び365nmの紫外線を放射する蛍光管であることを特徴とする紫外線照射装置。
  5.  請求項4に記載された紫外線照射装置において、
     上記各処理室には、上記各線状光源の不点灯を検知するための不点灯検知部が設けられていることを特徴とする紫外線照射装置。
  6.  請求項5に記載された紫外線照射装置において、
     上記不点灯検知部は、上記各線状光源に接続されたインバーターの出力電流を測定して、該各線状光源の不点灯を検知するように構成されていることを特徴とする紫外線照射装置。
  7.  請求項1乃至6の何れか1つに記載された紫外線照射装置において、
     上記各処理室には、上記各線状光源の点灯積算時間を検知するための積算電力計が設けられていることを特徴とする紫外線照射装置。
  8.  請求項7に記載された紫外線照射装置において、
     上記各線状光源の点灯積算時間と、該点灯積算時間における積算光量を一定にするための時間延長率との関係が入力された制御部を有し、
     上記制御部は、上記積算電力計で検知された点灯積算時間及び該点灯積算時間における上記時間延長率に基づいて、上記各処理室における紫外線を照射する時間を設定するように構成されていることを特徴とする紫外線照射装置。
  9.  請求項7に記載された紫外線照射装置において、
     上記各線状光源の点灯積算時間と、該点灯積算時間における照度を一定にするための出力比との関係が入力された制御部を有し、
     上記制御部は、上記積算電力計で検知された点灯積算時間及び該点灯積算時間における上記出力比に基づいて、上記各処理室における上記各線状光源の出力比を設定するように構成されていることを特徴とする紫外線照射装置。
  10.  請求項1乃至9の何れか1つに記載された紫外線照射装置において、
     上記各処理室は、装置本体に対して着脱可能に設けられていることを特徴とする紫外線照射装置。
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