WO2011101361A1 - Gasmischer für dampfabscheidung - Google Patents

Gasmischer für dampfabscheidung Download PDF

Info

Publication number
WO2011101361A1
WO2011101361A1 PCT/EP2011/052258 EP2011052258W WO2011101361A1 WO 2011101361 A1 WO2011101361 A1 WO 2011101361A1 EP 2011052258 W EP2011052258 W EP 2011052258W WO 2011101361 A1 WO2011101361 A1 WO 2011101361A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
flow
mixing device
carrier gas
inlet channel
gas stream
Prior art date
Application number
PCT/EP2011/052258
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Markus Gersdorff
Baskar Pagadala Gopi
Martin Kunat
Original Assignee
Aixtron Se
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Aixtron Se filed Critical Aixtron Se
Publication of WO2011101361A1 publication Critical patent/WO2011101361A1/de

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/448Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials
    • C23C16/4486Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials by producing an aerosol and subsequent evaporation of the droplets or particles
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/455Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
    • C23C16/45512Premixing before introduction in the reaction chamber

Definitions

  • the invention relates to a device for homogenizing a vaporized aerosol and a device for depositing a polymer layer on a substrate with an injector for introducing small polymer particles in a carrier gas stream, with an evaporator in which the polymer particles are evaporated, and with a deposition device for depositing the Help the carrier gas flow in the deposition device transported polymer vapor as a polymer layer on a substrate.
  • DE 10 2008 026 974 A1 describes an apparatus for depositing polymeric para-xylylenes on a substrate.
  • the device has an evaporator unit with which a first, in particular solid starting material in the form of a polymer, for example a dimer, is evaporated in a carrier gas stream.
  • the vaporized in the heated evaporator dimer is fed to a downstream of the evaporator heatable separation chamber.
  • the dimer is decomposed into a monomer.
  • the monomer is brought from the carrier gas into a deposition chamber downstream of the separation chamber in the direction of flow, in which it flows through a gas inlet member into a process chamber.
  • the process chamber is located on a susceptor, a substrate which is cooled, so that the gaseous monomer can be deposited there to a polymer.
  • EP 1 095 169 B1 describes a brush dispenser for producing an aerosol.
  • the brush dispenser has a storage chamber in which a solid to be pulverized is located. This solid can also consist of compressed powder. By means of a punch, the solid is against the pressed rotating bristles of a brush wheel. The bristles dissolve matter particles from the front side of the solid and convey them into a gas stream.
  • the bristles are not arranged homogeneously in the circumferential direction of the bristle wheel, for example a different length and individual bristles also have different stiffnesses, their removal action is uneven. This has the consequence that different particle concentrations are brought into the carrier gas flow in succession. These particles are decomposed in a subsequent evaporator or vaporized into the gas phase. The then purely gaseous material flow then has different concentrations over time, that is, it is temporally inhomogeneous.
  • GB 1 356 040 describes a method for applying optical layers to a lens, wherein vaporized starting materials in a mixer are to mix with each other.
  • the mixer has meandering arranged gas conducting means.
  • US 2004/0089235 Al describes a mixing chamber for mixing gases.
  • the gases enter into different mixing ports in a mixing chamber, where they mix in a turbulent gas flow with each other.
  • DE 10 2008 017 076 B3, DE 10 2008 034 330 A1, DE 10 2008 026 974 A1, DE 100 64 178 A1, DE 30 35 992 A1, US 6,244,575 B1, US 2006/0137608 A1, US 5,256,060, US 4,874,634, EP 0 452 006 A2, JP 04318174A describe CVD devices in which a plurality of process gases are used, which are introduced separately from one another into a process chamber where there is a susceptor on which a layer is deposited whose constituents are connected to the Process gases are introduced into the process chamber. There, the process gases may mix in a portion of the process chamber upstream of the susceptor.
  • US 5,381,605 describes a source of an organometallic compound.
  • US 5,186,120, EP 1 132 504 A1 and JP 06116743A1 describe CVD coating devices in which the process gases are fed separately from one another to a mixing chamber which has a substantially tubular shape. The gases mixed in the mixing chamber are directed into a process chamber.
  • the invention has for its object to provide a gas flow with improved temporal homogeneity in a generic device.
  • the invention provides a mixing device which is connected in line with the evaporator and which is downstream of the evaporator in the flow direction.
  • a previously placed in a gas stream aerosol in the form of solid particles or liquid droplets is evaporated.
  • the required heat of vaporization can be removed from the gas stream. But it can also be supplied from the outside by means of a heater.
  • the mixing device according to the invention thus enters a Sieggas- ström, which carries the evaporated matter particles. Since the aerosol intake solution in the carrier gas stream has inhomogeneities, which are due to the design of the aerosol generator, the carrier gas flow carries time varying concentrations of the vaporized aerosol.
  • This temporally inhomogeneous gas stream is brought in the device according to the invention through a uniform inlet channel into the mixing device. He also emerges through a uniform outlet channel from the mixing device out again.
  • the gas stream entering the mixing device through the inlet channel which is preferably a single inlet channel, is divided into different partial streams.
  • the partial flows are not separated from each other by baffles or other conducting means, but form a laminar, ie vortex-free flow profile.
  • the gas stream entering through the inlet channel is fanned out such that in the form of a layered gas stream a multiplicity of partial streams is formed which have different lengths within the mixing device and which flow through the mixing device in dwell times different from one another.
  • the laminar streams flow through the mixer along different paths. Volume elements, which simultaneously enter through the inlet channel into the mixing device and which flow through the mixing device along different paths, thus emerge from the preferably single outlet channel at different times
  • Blender out On the other hand, there are also volume elements that enter the mixing device at different times through the inlet channel, which flow through the mixing device in such different ways that they emerge from the outlet channel at the same time. Thus, measures are provided that a temporal mixing of the entering into the inlet channel gas flow takes place.
  • the sub-streams are formed by the adjacent layers of laminar flow having different flow lengths and flow rates.
  • the mixing device is preferably formed by a hollow body.
  • the housing of the hollow body is preferably cylindrical.
  • the two End faces of the hollow cylinder preferably have a circular base crack.
  • the inlet channel or the outlet channel is in each case in the center of the cover plates.
  • the housing is preferably rotationally symmetrical. It can thus also have the shape of an ellipsoid, a sphere or a cone.
  • Within the hollow body is a deflection for the in the
  • Hollow body inflowing gas stream In the simplest case, this is a baffle plate, which is provided immediately before the mouth of the inlet channel within the housing. It may be a circular disk-shaped plate, against whose center the gas flow occurs. The gas flow is diverted approximately at right angles, widening, slowing down and forming a laminar flow within the mixer housing. It forms a first streamline, which is closest to the center of the housing. The volume elements transported along this streamline have the shortest residence time within the mixer. It also forms a second, along the housing wall extending streamline, which is the longest
  • Streamline is.
  • the volume elements transported along the streamline through the mixer have the largest residence time within the mixer housing.
  • a multiplicity of streamlines lying between these two streamlines form, along which volume elements of the gas flow at different flow rates.
  • At the same time in the mixer entering volume elements thus reach the outlet channel from the mixer housing at different times.
  • the mixer according to the invention thus homogenization of a gas stream can be realized.
  • the formation of the aerosol can be done with an injector. For example, a powder is introduced into a carrier gas stream with a brush injector. This can be diluted in a diluent downstream of the injector. The thinner is an evaporator, for example.
  • the matter particles are a dimer, for example a para-xylylene dimer
  • the temperature within the Evaporator can also be adjusted so that the dimer is decomposed in the evaporator to a monomer.
  • This monomer can then be fed in particular via heated supply lines to a gas inlet member of a deposition device. It flows there through the gas inlet member, which has the shape of a shower head, into a process chamber. The ceiling of the process chamber is formed by the said shower head.
  • the carrier gas flows with the gaseous monomer in the process chamber.
  • the bottom of the process chamber is formed by a, in particular water-cooled susceptor. At least one substrate is located on the susceptor. On the substrate surface, a polymer is deposited. The deposition process can be done in the low pressure range.
  • the device thus preferably comprises an aerosol injector, with which solid or liquid matter particles are introduced into a carrier gas stream, and an evaporation device with which these, in particular, organic matter particles are vaporized, this steam being supplied as an inhomogeneous gas stream through a line to the mixing device.
  • FIG. 1 is a schematic representation of the overall device
  • FIG. 2 shows the injector unit with a thinner designed as a flow divider
  • FIG. the evaporation unit with a mixing device and a valve
  • FIG. 4 is a perspective view of the mixing device and Fig. 5 shows the operation of the mixing device.
  • the coating device for a layer consisting of an organic material, in particular for para-xylylene consists of an aerosol generator 1 and an evaporation unit 6, 7 downstream of it, a five / two-way valve 8 arranged downstream of this evaporation unit, and a deposition apparatus with a process chamber 9 and a gas inlet member 10, a susceptor 11, on which a substrate 12 can be placed to coat it.
  • a carrier gas 13 is mass flow controlled in a mass flow controller 3 and transported to an injector 2.
  • a reservoir 4 of the injector 2 is a solid, which is injected into the injector 2 in powder form in the gas stream.
  • an inert gas such as hydrogen or nitrogen injected solid state aerosol is fed to a flow divider 5, in which a large proportion of the injected powder is deposited again.
  • the branched off from the gas flow powder accumulates in a collecting container 14.
  • a subset of the aerosol is branched off from the input aerosol stream, so that an output gas stream is formed, which has a reduced particle density.
  • This gas stream is passed from the flow divider 5 in an evaporator 6.
  • the heated tube has a length of about 100cm.
  • the tube is heated to a temperature that not only allows the solid particles to evaporate, but also causes a partial decomposition of the vaporized solid.
  • the thus evaporated and optionally also decomposed solid-state aerosol is then passed into a mixer 7.
  • the mixer 7 is a lateral mixer in which the gas stream is fanned out into individual flow paths which have a different length. Consequently, different volume elements of the gas stream which have entered the mixer substantially simultaneously have a different residence time within the mixer.
  • a laminar flow with differently long flow paths preferably forms.
  • a homogenization of the gas flow takes place.
  • the volume elements entering the mixer at the same time move on different paths through the mixer housing and reach the outlet channel 31 of the mixer at different times.
  • the gas stream emerging from the mixer 7 enters a valve arrangement 8.
  • a first gas flow 27 flows in as a "run gas stream". This gas stream may already transport another vaporized polymer or other vaporized feedstock.
  • the gas flow 27 emerges as gas flow 27 'out of the valve arrangement 8 again.
  • a second gas stream 15, a "vent gas stream” enters, which also passes through the valve 8 and exits through a line 15 'again. Only the line 27 'is connected to a deposition device.
  • the deposition apparatus has a housing, a gas inlet member 10 disposed in the housing, and a susceptor 11 disposed below the gas inlet member 10 and capable of supporting one or more substrates 12 to be coated.
  • the gas inlet member 10 may have gas inlet openings arranged over a large area and thus be designed in the form of a shower head.
  • the susceptor 11 may have a support surface facing the gas inlet opening, onto which a substrate can be placed. The support surface can be formed by a cooling block, which is cooled, for example, with cooling water.
  • FIG. 2 schematically shows the injector 2, which is embodied as a brush dispenser, as described in principle by EP 1 095 169 B1.
  • a reservoir 4 in the form of a tube in which a solid 25 is located.
  • the solid 25 may be a pressed powder. It can also be a loose powder.
  • the solid 25 is pressed by means of a punch 26 against a peripheral region of the brush wheel 24.
  • the bristles of the brush wheel 24 carry from the end face of the solid 25 matter particles in the form of a powder. This powder is transported by the rotation of the brush wheel 24 in the carrier gas stream 13, which flows on the opposite side relative to the solid body 25 on the brush wheel 24.
  • the solid-state aerosol thus produced enters the diluter 5 through the supply line 17.
  • the diluent is capable of continuously diverting a subset of the aerosol stream flowing into the diluent 5. It thus acts as a current divider with respect to the powder injected into the carrier gas stream.
  • the flow divider 5 has a housing 23 which is gas-tight.
  • the housing 23 has on its underside a removable collecting container 14.
  • the supply line 17 In the housing 23 projects the supply line 17, which ends to form an outlet opening 16.
  • the supply line 17 extends through an opening of a flange plate, which closes the opening of a Genzousearmes. Transverse to this, in the horizontal direction extending housing arm extends a vertical housing arm.
  • a nozzle 20 In the flow direction behind the outlet opening 16 is a nozzle 20 which is connected to a discharge line 19.
  • Supply line 17 and discharge 19 are formed by tubes which are aligned with each other.
  • the discharge line 90 also extends through a closure cap, which closes an opening of a housing arm. This, in the horizontal direction extending housing arm is aligned with the supply line 17 associated housing arms.
  • the inlet nozzle 10 is located approximately in the middle of the vertical housing arm.
  • the nozzle 20 is formed by a conical nozzle body whose tip forms an inlet opening 18 of about one millimeter in diameter.
  • the edge of the inlet opening 18 is sharp-edged.
  • the opening area of the inlet opening 18 is at least a factor of ten smaller than the opening area of the outlet opening 16.
  • the nozzle 20 is located approximately centrally above the collecting container 14. Above the edge of the collecting container 14 is a substantially circular disk-shaped baffle plate 21, through the center of which Derivative 19 runs.
  • the baffle plate is thus set back in the flow direction with respect to the inlet opening 18.
  • the nozzle body of the nozzle 20 is plugged onto the end of the tube 19 forming the discharge line 19, which has substantially the same diameter as the tube forming the outlet opening 16 and forming the feed line 17.
  • the nozzle body 20 may be fastened by means of a grub screw on the tube outer wall.
  • the tip of the nozzle body is directed to the center of the inlet opening 16.
  • the operation of the flow divider 5 is the following:
  • the aerosol generated by the injector 2 is conveyed by means of the carrier gas 13 through the feed line 17 into the housing 23 of the diluent. It emerges from the outlet opening 16 of the feed line 17 and widens within the housing. see this.
  • the aerosol is conveyed against the inlet opening 18. Only a small number of the particles of matter emerging from the outlet opening 16 enter directly into the inlet opening 18. The majority of the matter particles flows around the nozzle 20 and against the baffle plate 21. The gas flow is widened and slows down. Since a total pressure of less than ten millibars prevails within the housing 23, the particles of matter transported past the nozzle 20 can settle to a large extent in the collecting container 14. A residual portion of the non-settled matter particles flows together with the carrier gas flow through the inlet opening 18 into the discharge line 19.
  • the flow divider 5 can thus reduce the aerosol concentration in a carrier gas, without changing the mass flow of the carrier gas, since the flow divider 5 is flowed through in the preferred embodiment of the total carrier gas.
  • FIG. 3 shows the tubular evaporator 6, which is arranged downstream of the current divider 5 in the current direction.
  • the jacket of the tubular evaporator is heated by a heater.
  • the aerosol flowing into the evaporator 6 is thereby vaporized.
  • the temperature of the evaporator 6 is preferably chosen so that after the evaporation of the aerosol and a decomposition of the aerosol takes place.
  • the mixer 7 arranged downstream of the evaporator 6 in the flow direction has a cylinder symmetry (compare FIG. 4), wherein the supply line 30 and the discharge line 31 lie in the cylinder axis 36 (see also FIG. 5).
  • the cylindrical body has two parallel cylindrical disks, each having an opening in the center. One opening forms the supply line 30 and the opening of the other plate, the discharge line 31.
  • the cylindrical cavity of the mixer 7 is bounded by a curved Umf angswand.
  • Within the cylindrical housing 35 there is a deflecting plate 28 arranged in the center in front of the mouth of the inlet channel 30. The gas stream entering through the inlet channel 30 in the radial direction relative to the axis 36 is discharged at the deflecting plate 28 in the radial direction.
  • a substantially laminar flow is formed. It forms a short streamline 34, which has the smallest radial distance from the axis 36. A multiplicity of further flow lines 33 extending further from the innermost streamline 34 and having a greater length than the innermost streamline 34 are formed. An outermost streamline 32 has the greatest length.
  • This mixer 7 is advantageous because manufacturing tolerances or the like on the brush wheel 24 time-varying particle concentrations are injected into the gas stream 13. This temporal inhomogeneity is compensated in the mixer 7.
  • the housing of the mixer 7 may be made of stainless steel.
  • the deflection plate 28 can be fastened to the housing wall opposite the inlet channel 30 by means of support rods 29. It is also possible to model the side of the deflection plate 28 facing the inlet channel 30 or the side of the deflection plate 28 facing the outlet channel 31 in a streamlined manner, in particular in order to avoid the formation of vertebrae. But it is also provided on the other hand, within the housing 35, the baffle 28 or more deflection Arrange plates so that deliberately create vortexes, since such vortex unfold a memory function and thus contribute to the homogenization.
  • the gas flow flowing in through the inlet channel 30 is thus fanned out into flow paths along which the gas molecules pass through the mixing chamber of the mixer 7 in a different residence time.

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Homogenisierung eines verdampften Aerosols mit einem Injektor (2) zum Einbringen von kleinen Materiepartikein in ein Trägergas (13), mit einem mit dem Injektor (2) leitungsverbundenen Verdampfer (6), in dem die vom Trägergas (13) in den Verdampfer (6) transportierten Materiepartikel verdampfen, und mit einer mit dem Verdampfer (6) leitungsverbundenen Mischeinrichtung (7), in welcher der die verdampften Materiepartikel transportierende Trägergasstrom in laminare Teilströme aufgefächert wird, die die Mischeinrichtung entlang voneinander verschiedenen Wegen in unterschiedlichen Verweilzeiten durchströmen.

Description

GASMISCHER FÜR DAMPFABSCHEIDUNG
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Homogenisierung eines verdampften Aerosols sowie eine Vorrichtung zum Abscheiden einer Polymerschicht auf einem Substrat mit einem Injektor zum Einbringen kleiner Polymerpartikel in einen Trägergasstrom, mit einem Verdampfer, in dem die Polymerpartikel verdampft werden, und mit einer Depositionseinrichtung zum Abscheiden des mit Hilfe des Trägergasstroms in die Depositionseinrichtung transportierten Polymerdampfs als Polymerschicht auf einem Substrat.
Die DE 10 2008 026 974 AI beschreibt eine Vorrichtung zum Abscheiden von polymeren Para-Xylylenen auf einem Substrat. Die Vorrichtung besitzt eine Verdampfereinheit, mit der ein erster, insbesondere fester Ausgangsstoff in Form eines Polymers, beispielsweise eines Dimers in einem Trägergasstrom verdampft wird. Das in dem beheizten Verdampfer verdampfte Dimer wird einer dem Verdampfer nachgeordneten beheizbaren Zerlegungskammer zugeleitet. In dieser Pyrolysekammer wird das Dimer in ein Monomer zerlegt. Das Monomer wird von dem Trägergas in eine der Zerlegungskammer in Stromrichtung nachgeordnete Depositionskammer gebracht, in der es durch ein Gaseinlassorgan in eine Prozesskammer einströmt. In der Prozesskammer liegt auf einem Suszeptor ein Substrat, welches gekühlt wird, so dass sich das gasförmige Monomer dort zu einem Polymer abscheiden kann.
Die EP 1 095 169 Bl beschreibt einen Bürstendosierer zum Erzeugen eines Aerosols. Der Bürstendosierer besitzt eine Bevorratungskammer, in welcher sich ein zu pulverisierender Festkörper befindet. Dieser Festkörper kann auch aus ge- presstem Pulver bestehen. Mittels eines Stempels wird der Festkörper gegen die sich drehenden Borsten eines Bürstenrades gedrückt. Die Borsten lösen von der Stirnseite des Festkörpers Materiepartikel und fördern diese in einen Gasstrom.
Da die Borsten in Umfangsrichtung des Borstenrades nicht homogen angeord- net sind, beispielsweise eine unterschiedliche Länge sowie einzelne Borsten auch unterschiedliche Steifigkeiten aufweisen, ist ihre Abtragswirkung ungleichmäßig. Dies hat zur Folge, dass zeitlich hintereinander unterschiedliche Partikelkonzentrationen in der Trägergasstrom gebracht werden. Diese Partikel werden in einem nachfolgenden Verdampfer zerlegt bzw. in die Gasphase ver- dampft. Der dann rein gasförmige Materialstrom hat dann zeitlich verschiedene Konzentrationen, ist also zeitlich inhomogen.
Die DE 38 02 732 AI beschreibt eine Vorrichtung und ein Verfahren zum Abscheiden von Galliumnitrit aus der Gasphase. Die gasförmigen Ausgangsstoffe Trimethylgallium und Ammoniak treten getrennt voneinander in eine Mischkammer, wo sie miteinander verwirbeln und dadurch gemischt werden. Die Mischkammer befindet sich in der Prozesskammer und stromaufwärts eines Substrates. Die gemischten Ausgangsstoffe treten unmittelbar vor dem Substrat aus der Mischkammer aus.
Die GB 1 356 040 beschreibt ein Verfahren um optische Schichten auf einer Linse aufzubringen, wobei verdampfte Ausgangsstoffe in einem Mischer sich miteinander vermischen sollen. Der Mischer besitzt mäanderförmig angeordnete Gasleitmittel.
Die US 2004/ 0089235 AI beschreibt eine Mischkammer zum Vermischen von Gasen. Die Gase treten in voneinander verschiedenen Eintrittsöffnungen in eine Mischkammer ein, wo sie sich in einer verwirbelten Gas Strömung miteinander vermischen. Die DE 10 2008 017 076 B3, DE 10 2008 034 330 AI, DE 10 2008 026 974 AI, DE 100 64 178 AI, DE 30 35 992 AI, US 6,244,575 Bl, US 2006/0137608 AI, US 5,256,060, US 4,874,634, EP 0 452 006 A2, JP 04318174A beschreiben CVD- Vorrichtungen, bei denen mehrere Prozessgase verwendet werden, die vonein- ander getrennt in eine Prozesskammer eingeleitet werden, wo sich ein Suszep- tor befindet, auf dem eine Schicht abgeschieden wird, deren Bestandteile mit den Prozessgasen in die Prozesskammer eingeleitet werden. Dort können sich die Prozessgase in einem stromaufwärts des Suszeptors liegenden Abschnitt der Prozesskammer mischen.
Die US 5,381,605 beschreibt eine Quelle für eine metallorganische Verbindung. Die US 5,186,120, EP 1 132 504 AI und JP 06116743A1 beschreiben CVD- Beschichtungseinrichtungen, bei denen die Prozessgase getrennt voneinander einer Mischkammer zugeleitet werden, die eine im Wesentlichen rohrförmige Gestalt aufweist. Die in der Mischkammer gemischten Gase werden in eine Prozesskammer geleitet.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, bei einer gattungsgemäßen Vorrichtung einen Gasstrom mit verbesserter zeitlicher Homogenität bereitzustellen.
Gelöst wird die Aufgabe durch die in den Ansprüchen angegebene Erfindung.
Zunächst und im Wesentlichen sieht die Erfindung eine mit dem Verdampfer leitungsverbundene Mischeinrichtung vor, die in Stromrichtung dem Verdamp- fer nachgeordnet ist. In dem Verdampfer wird ein zuvor in einen Gasstrom gebrachtes Aerosol in Form von Festkörperpartikeln oder Flüssigkeitströpfchen verdampft. Die erforderliche Verdampfungswärme kann dem Gasstrom entzogen werden. Sie kann aber auch von außen mittels einer Heizung zugeführt werden. In die erfindungsgemäße Mischeinrichtung tritt somit ein Trägergas- ström ein, der die verdampften Materiepartikel trägt. Da die Aerosoleinspei- sung in dem Trägergasstrom Inhomogenitäten aufweist, die durch die Bauart des Aerosolerzeugers bedingt sind, trägt der Trägergasstrom zeitlich variierende Konzentrationen des verdampften Aerosols. Dieser zeitlich inhomogene Gasstrom wird in der erfindungsgemäßen Vorrichtung durch einen einheitli- chen Eintrittskanal in die Mischeinrichtung gebracht. Er tritt auch durch einen einheitlichen Austrittskanal aus der Mischeinrichtung wieder heraus. In der Mischeinrichtung wird der durch den Eintrittskanal, bei dem es sich bevorzugt um einen einzigen Eintrittskanal handelt, in die Mischeinrichtung eintretende Gasstrom in verschiedene Teilströme aufgeteilt. Die Teilströme werden dabei nicht von Leitblechen oder anderen Leitmitteln voneinander getrennt, sondern bilden ein laminares, d. h. wirbelfreies Strömungsprofil aus. Insofern wird der durch den Eintrittskanal eintretende Gasstrom derart aufgefächert, dass sich in Form eines geschichteten Gasstroms eine Vielzahl von Teilströmen ausbildet, die innerhalb der Mischeinrichtung unterschiedliche Längen aufweisen und die die Mischeinrichtung in voneinander verschiedenen Verweilzeiten durchströmen. Die laminaren Teilströme durchströmen die Mischeinrichtung entlang von einander verschiedenen Wegen. Volumenelemente, die gleichzeitig durch den Eintrittskanal in die Mischeinrichtung eintreten und die entlang von einander verschiedenen Wegen die Mischeinrichtung durchströmen, treten somit zu verschiedenen Zeiten aus dem bevorzugt einzigen Austrittskanal aus der
Mischeinrichtung heraus. Andererseits gibt es auch Volumenelemente, die zu verschiedenen Zeiten durch den Eintrittskanal in die Mischeinrichtung eintreten, die derart auf voneinander verschiedenen Wegen die Mischeinrichtung durchströmen, dass sie gleichzeitig aus dem Austrittskanal austreten. Es sind somit Maßnahmen vorgesehen, dass eine zeitliche Durchmischung des in den Eintrittskanal eintretenden Gasstroms erfolgt. Die Teilströme werden von den aneinander angrenzenden Schichten einer laminaren Strömung ausgebildet, die unterschiedliche Strömungslängen und Strömungsgeschwindigkeiten besitzen. Die Mischeinrichtung wird vorzugsweise von einem Hohlkörper ausgebildet. Das Gehäuse des Hohlkörpers ist vorzugsweise zylinderförmig. Die beiden Stirnflächen des Hohlzylinders haben bevorzugt einen kreisförmigen Grund- riss. Der Eintrittskanal bzw. der Austrittskanal liegt jeweils im Zentrum der Deckplatten. Das Gehäuse ist bevorzugt rotationssymmetrisch. Es kann somit auch die Form eines Ellipsoids, einer Kugel oder eines Kegels aufweisen. Inner- halb des Hohlkörpers befindet sich eine Umlenkeinrichtung für den in den
Hohlkörper einströmenden Gasstrom. Im einfachsten Fall handelt es sich dabei um eine Umlenkplatte, die unmittelbar vor der Mündung des Eintrittskanales innerhalb des Gehäuses vorgesehen ist. Es kann sich dabei um eine kreisscheibenförmige Platte handeln, gegen deren Zentrum der Gasstrom tritt. Der Gas- ström wird etwa rechtwinklig abgeleitet und dabei aufgeweitet, verlangsamt und bildet innerhalb des Mischergehäuses eine laminare Strömung aus. Es bildet sich eine erste Stromlinie aus, die dem Zentrum des Gehäuses am nächsten liegt. Die entlang dieser Stromlinie transportierten Volumenelemente haben die kürzeste Verweilzeit innerhalb des Mischers. Es bildet sich ferner eine zweite, entlang der Gehäusewandung verlaufende Stromlinie aus, die die längste
Stromlinie ist. Die entlang dieser Stromlinie durch den Mischer transportierten Volumenelemente haben die größte Verweilzeit innerhalb des Mischergehäuses. Darüber hinaus bildet sich eine Vielzahl von zwischen diesen beiden Stromlinien liegenden Stromlinien aus, entlang derer Volumenelemente des Gases mit verschiedenen Strömungsgeschwindigkeiten strömen. Gleichzeitig in den Mischer eintretende Volumenelemente erreichen somit zu verschiedenen Zeiten den Austrittskanal aus dem Mischergehäuse. Mit dem erfindungsgemäßen Mischer ist somit eine Homogenisierung eines Gasstroms verwirklichbar. Die Bildung des Aerosols kann mit einem Injektor erfolgen. Beispielsweise wird mit einem Bürsteninjektor ein Pulver in einen Trägergasstrom gebracht. Dieses kann in einem mit dem Injektor nachgeordneten Verdünner verdünnt werden. Dem Verdünner ist ein Verdampfer bspw. in Form eines beheizten Rohres nachgeordnet, in dem das Pulver, bei dem es um ein Polymer handelt, verdampft wird. Handelt es sich bei den Materiepartikeln um ein Dimer, bei- spielsweise ein Para-Xylylen-Dimer, so kann die Temperatur innerhalb des Verdampfers auch so eingestellt werden, dass das Dimer im Verdampfer zu einem Monomer zerlegt wird. Dieses Monomer kann dann insbesondere über geheizte Zuleitungen einem Gaseinlassorgan einer Depositionseinrichtung zugeleitet werden. Es strömt dort durch das Gaseinlassorgan, welches die Form eines Duschkopfs aufweist, in eine Prozesskammer. Die Decke der Prozesskammer wird von dem besagten Duschkopf ausgebildet. Durch die siebartig angeordneten Öffnungen des Gaseinlassorganes strömt das Trägergas mit dem gasförmigen Monomer in die Prozesskammer. Der Boden der Prozesskammer wird von einem, insbesondere wassergekühlten Suszeptor ausgebildet. Auf dem Suszeptor liegt mindestens ein Substrat auf. Auf der Substratoberfläche wird ein Polymer abgeschieden. Der Abscheidungsprozess kann im Niedrigdruckbereich erfolgen. Die Vorrichtung umfasst somit bevorzugt einen Aerosolinjektor, mit dem feste oder flüssige Materiepartikel in einen Trägergasstrom eingebracht werden und eine Verdampfungseinrichtung, mit der diese insbe- sondere organischen Materiepartikel verdampft werden, wobei dieser Dampf als inhomogener Gasstrom durch eine Leitung der Mischeinrichtung zugeführt wird.
Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung wird nachfolgend anhand beigefügter Zeichnungen im Zusammenhang mit einer Vorrichtung zum Abscheiden von Parylene beschrieben. Es zeigen:
Fig. 1 eine schematische Darstellung der Gesamtvorrichtung; Fig. 2 die Injektoreinheit mit einem als Stromteiler ausgebildeten Verdünner; die Verdampfungseinheit mit einer Mischeinrichtung und einem Ventil;
Fig. 4 in perspektivischer Darstellung die Mischeinrichtung und Fig. 5 die Funktionsweise der Mischeinrichtung.
Die Beschichtungseinrichtung für eine aus einem organischen Material bestehende Schicht, insbesondere für Para-Xylylene besteht aus einem Aerosoler- zeuger 1 und einer diesem nachgeordneten Verdampfungseinheit 6, 7, einem dieser Verdampfungseinheit nachgeordneten Fünf/ Zwei- Wegeventil 8 und einer Depositionseinrichtung mit einer Prozesskammer 9 und einem Gaseinlassorgan 10, einem Suszeptor 11, auf dem ein Substrat 12 auflegbar ist, um es zu beschichten.
Ein Trägergas 13 wird in einem Massenflussregler 3 massenflussgeregelt und in einen Injektor 2 transportiert. In einem Vorratsbehälter 4 des Injektors 2 befindet sich ein Festkörper, der im Injektor 2 in Pulverform in den Gasstrom injiziert wird. Dieses, in einem Inertgas, beispielsweise Wasserstoff oder Stickstoff injizierte Festkörperaerosol wird einem Stromteiler 5 zugeleitet, in welchem ein großer Anteil des injizierten Pulvers wieder abgeschieden wird. Das aus dem Gasstrom abgezweigte Pulver sammelt sich in einem Sammelbehälter 14. In dem Stromteiler 5 wird aus dem Eingangs-Aerosolstrom eine Teilmenge des Aerosols abgezweigt, so dass sich ein Ausgangsgasstrom ausbildet, der eine verminderte Partikeldichte aufweist.
Der Gasstrom als solcher ändert sich nicht. Es ändert sich lediglich die Massen- flussrate der Materiepartikel. Dieser Gasstrom wird vom Stromteiler 5 in einen Verdampfer 6 geleitet. Es handelt sich hierum einen Röhrenverdampfer. Die geheizte Röhre besitzt etwa eine Länge von 100cm. Die Röhre ist auf eine Temperatur geheizt, die nicht nur die Festkörperpartikel verdampfen lässt, sondern die auch eine Teilzerlegung des verdampften Festkörpers bewirkt. Das derart verdampfte und gegebenenfalls auch zerlegte Festkörperaerosol wird dann in einen Mischer 7 geleitet. Bei dem Mischer 7 handelt es sich um einen lateralen Mischer, in dem der Gasstrom in einzelne Strömungswege aufgefächert wird, die eine unterschiedliche Länge besitzen. Demzufolge haben verschiedene, im Wesentlichen gleichzeitig in den Mischer eingetretene Volumenelemente des Gasstroms eine unterschied- liehe Verweilzeit innerhalb des Mischers. Im Mischer bildet sich bevorzugt eine laminare Strömung mit verschieden langen Strömungswegen aus. Dadurch findet eine Homogenisierung des Gasstroms statt. Die gleichzeitig in den Mischer eintretenden Volumenelemente bewegen sich auf unterschiedlichen Bahnen durch das Mischergehäuse und erreichen den Austrittskanal 31 des Mischers zu unterschiedlichen Zeiten.
Der aus dem Mischer 7 heraustretende Gasstrom tritt in eine Ventilanordnung 8 ein. In die Ventilanordnung 8 strömt ein erster Gasstrom 27 als "Run-Gasstrom" hinein. Dieser Gasstrom kann bereits ein anderes verdampftes Polymer oder einen anderen verdampften Ausgangsstoff transportieren. Der Gasstrom 27 tritt als Gasstrom 27'aus der Ventilanordnung 8 wieder heraus. In die Ventilanordnung 8 tritt ein zweiter Gasstrom 15, ein "Vent-Gasstrom" hinein, der ebenfalls durch das Ventil 8 hindurchtritt und durch eine Leitung 15' wieder austritt. Nur die Leitung 27' ist mit einer Depositionseinrichtung verbunden. Der vom Mi- scher 7 kommende Gasstrom kann durch Umschalten der Ventilanordnung 8 wahlweise dem "Run-Gasstrom" 27 oder dem "Vent-Gasstrom" 15 zugemischt werden.
Die Depositionseinrichtung besitzt ein Gehäuse, ein in dem Gehäuse angeord- netes Gaseinlassorgan 10 und einen Suszeptor 11, der unterhalb des Gaseinlas- sorganes 10 angeordnet ist, und der in der Lage ist, ein oder mehrere zu beschichtende Substrate 12 zu tragen. Hinsichtlich der Ausgestaltung der Depositionseinrichtung wird auf den Offenbarungsgehalt der DE 10 2008 026 974 AI verwiesen. Das Gaseinlassorgan 10 kann großflächig angeordnete Gaseinlass- Öffnungen aufweisen und so in der Form eines Duschkopfs ausgebildet sein. Der Suszeptor 11 kann eine zu der Gaseintrittsöffnung weisende Auflagefläche aufweisen, auf die ein Substrat aufgelegt werden kann. Die Auflagefläche kann von einem Kühlblock ausgebildet werden, der beispielsweise mit Kühlwasser gekühlt ist.
Die Figur 2 zeigt schematisch den Injektor 2, der als Bürstendosierer ausgeführt ist, wie er grundsätzlich von der EP 1 095 169 Bl beschrieben wird. Unterhalb einer rotierenden Bürste 24 in Form eines Bürstenrades befindet sich ein Vorratsbehälter 4 in Form eines Rohres, in dem sich ein Festkörper 25 befindet. Bei dem Festkörper 25 kann es sich um ein gepresstes Pulver handeln. Es kann sich aber auch um ein loses Pulver handeln. Der Festkörper 25 wird mittels eines Stempels 26 gegen einen Umfangsbereich des Bürstenrades 24 gepresst. Die Borsten des Bürstenrades 24 tragen von der Stirnfläche des Festkörpers 25 Materiepartikel in Form eines Pulvers ab. Diese Pulver wird durch die Drehung des Bürstenrades 24 in den Trägergasstrom 13 transportiert, der auf der gegenüberliegenden Seite bezogen auf den Festkörper 25 am Bürstenrad 24 vorbeiströmt.
Das so erzeugte Festkörperaerosol tritt durch die Zuleitung 17 in den Verdün- ner 5 ein. Der Verdünner ist in der Lage, von dem in den Verdünner 5 einströmenden Aerosolstrom kontinuierlich eine Teilmenge abzuzweigen. Er wirkt somit bezogen auf das in den Trägergasstrom injizierte Pulver als Stromteiler. Der Stromteiler 5 besitzt ein Gehäuse 23, welches gasdicht ist. Das Gehäuse 23 besitzt an seiner Unterseite einen abnehmbaren Sammelbehälter 14. in das Ge- häuse 23 ragt die Zuleitung 17, die unter Ausbildung einer Austrittsöffnung 16 endet. Die Zuleitung 17 durchragt dabei eine Öffnung einer Flanschplatte, die die Öffnung eines Gehäusearmes verschließt. Quer zu diesem, sich in Horizontalrichtung erstreckenden Gehäusearm erstreckt sich ein vertikaler Gehäusearm. In Stromrichtung hinter der Austrittsöffnung 16 befindet sich eine Düse 20, die mit einer Ableitung 19 verbunden ist. Zuleitung 17 und Ableitung 19 werden von Rohren ausgebildet, die miteinander fluchten. Die Ableitung 90 durchragt ebenfalls eine Verschlusskappe, die eine Öffnung eines Gehäusearms ver- schließt. Dieser, sich in Horizontalrichtung erstreckende Gehäusearm fluchtet mit den der Zuleitung 17 zugeordneten Gehäusearmen. Die Eintrittsdüse 10 liegt etwa in der Mitte des vertikalen Gehäusearms.
Die Düse 20 wird von einem kegelförmigen Düsenkörper ausgebildet, dessen Spitze eine Eintrittsöffnung 18 von etwa einem Millimeter Durchmesser ausbildet. Der Rand der Eintrittsöffnung 18 ist scharfkantig. Die Öffnungsfläche der Eintrittsöffnung 18 ist mindestens um einen Faktor zehn kleiner als die Öffnungsfläche der Austrittsöffnung 16. Die Düse 20 befindet sich etwa mittig oberhalb des Sammelbehälters 14. Oberhalb des Randes des Sammelbehälters 14 befindet sich eine im Wesentlichen kreisscheibenförmige Prallplatte 21, durch deren Zentrum die Ableitung 19 verläuft. Die Prallplatte ist somit in Stromrichtung gegenüber der Eintrittsöffnung 18 rückversetzt. Der Düsenkörper der Düse 20 ist auf das Ende des die Ablei- tung 19 ausbildenden Rohres aufgesteckt, welches im Wesentlichen denselben Durchmesser aufweist, wie das die Austrittsöffnung 16 ausbildende, die Zuleitung 17 bildende Rohr. Der Düsenkörper 20 kann mittels einer Madenschraube auf der Rohraußenwand befestigt sein. Die Spitze des Düsenkörpers ist auf das Zentrum der Eintrittsöffnung 16 gerichtet.
Die Funktionsweise des Stromteilers 5 ist die folgende:
Das vom Injektor 2 erzeugte Aerosol wird mit Hilfe des Trägergases 13 durch die Zuleitung 17 in das Gehäuse 23 des Verdünners gefördert. Es tritt aus der Austrittsöffnung 16 der Zuleitung 17 aus und weitet sich innerhalb des Gehäu- ses auf. Das Aerosol wird gegen die Eintrittsöffnung 18 gefördert. Nur eine geringe Anzahl der aus der Austrittsöffnung 16 heraustretenden Materiepartikel treten direkt in die Eintrittsöffnung 18 hinein. Der überwiegende Teil der Materiepartikel strömt um die Düse 20 herum und gegen die Prallplatte 21. Der Gas- ström wird dabei aufgeweitet und verlangsamt sich. Da innerhalb des Gehäuses 23 ein Totaldruck von weniger als zehn Millibar herrscht, können sich die an der Düse 20 vorbei transportierten Materiepartikel zu einem großen Teil im Sammelbehälter 14 absetzen. Ein Restanteil der nicht abgesetzten Materiepartikel strömt zusammen mit dem Trägergasstrom durch die Eintrittsöffnung 18 in die Ableitung 19.
Mit dem Stromteiler 5 lässt sich somit die Aerosol-Konzentration in einem Trägergas reduzieren, ohne dass sich der Massenfluss des Trägergases ändert, da der Stromteiler 5 in der bevorzugten Ausgestaltung vom gesamten Trägergas durchströmt wird.
Die Figur 3 zeigt den rohrförmigen Verdampfer 6, der dem Stromsteiler 5 in Stromrichtung nachgeordnet ist. Der Mantel des rohrförmigen Verdampfers wird mit einer Heizeinrichtung aufgeheizt. Das in den Verdampfer 6 einströ- mende Aerosol wird dadurch verdampft. Die Temperatur des Verdampfers 6 wird bevorzugt so gewählt, dass nach dem Verdampfen des Aerosols auch eine Zerlegung des Aerosols stattfindet.
Der dem Verdampfer 6 in Stromrichtung nachgeordnete Mischer 7 besitzt eine Zylindersymmetrie (vgl. Figur 4), wobei die Zuleitung 30 und die Ableitung 31 in der Zylinderachse 36 liegt (siehe auch Figur 5). Der zylinderförmige Körper besitzt zwei parallel zueinander angeordnete zylinderförmige Scheiben, die jeweils im Zentrum eine Öffnung besitzen. Eine Öffnung bildet die Zuleitung 30 und die Öffnung der anderen Platte die Ableitung 31. Der zylinderförmige Hohlraum des Mischers 7 wird von einer gekrümmten Umf angswand begrenzt. Innerhalb des zylinderförmigen Gehäuses 35 befindet sich eine im Zentrum vor der Mündung des Eintrittskanals 30 angeordnete Umlenkplatte 28. Der durch den Eintrittskanal 30 in Radialrichtung bezogen auf die Achse 36 eintretende Gasstrom wird an der Umlenkplatte 28 in Radialrichtung abgeleitet. Dabei bil- det sich eine im Wesentlichen laminare Strömung aus. Es bildet sich eine kurze Stromlinie 34 aus, die die geringste radiale Entfernung zur Achse 36 besitzt. Es bilden sich eine Vielzahl weitere, entfernter von der innersten Stromlinie 34 verlaufende Stromlinien 33 aus, die eine größere Länge besitzen als die innerste Stromlinie 34. Eine äußerste Stromlinie 32 besitzt die größte Länge. Die entlang der Stromlinien 32 bis 34 strömenden Gasvolumina, die im Wesentlichen gleichzeitig aus dem Eintrittskanal 30 in das Gehäuse 35 des Mischers 7 einströmen, haben dadurch unterschiedliche Verweilzeiten innerhalb des Gehäuses 35, so dass eine Durchmischung und damit eine Homogenisierung des aus dem Austrittskanal 31 ausströmenden Gases stattgefunden hat. Dies hat zur Folge, dass gleichzeitig eintretende Volumenelemente zu unterschiedlichen Zeiten den Mischer 7 durch die Ableitung 31 verlassen.
Dieser Mischer 7 ist deshalb von Vorteil, weil zufolge Fertigungstoleranzen oder dergleichen am Bürstenrad 24 zeitlich variierende Partikelkonzentrationen in den Gasstrom 13 injiziert werden. Diese zeitliche Inhomogenität wird im Mischer 7 ausgeglichen.
Das Gehäuse des Mischers 7 kann aus Edelstahl bestehen. Die Umlenkplatte 28 kann mit Tragstangen 29 an der dem Eintrittskanal 30 gegenüberliegenden Ge- häusewandung befestigt sein. Es ist auch möglich, die zum Eintrittskanal 30 weisende Seite der Umlenkplatte 28 bzw. die zum Austrittskanal 31 weisende Seite der Umlenkplatte 28 strömungsgünstig zu modellieren, insbesondere um die Ausbildung von Wirbeln zu vermeiden. Es ist aber auch andererseits vorgesehen, innerhalb des Gehäuses 35 die Umlenkplatte 28 oder weitere Umlenk- platten so anzuordnen, dass bewusst Wirbel entstehen, da derartige Wirbel eine Speicherfunktion entfalten und somit zur Homogenisierung beitragen.
In dem Mischer wird der durch den Eintrittskanal 30 einströmende Gasstrom somit in Strömungswege aufgefächert, entlang derer die Gasmoleküle in unterschiedlicher Verweilzeit durch die Mischkammer des Mischers 7 treten.
Alle offenbarten Merkmale sind (für sich) erfindungswesentlich. In die Offenbarung der Anmeldung wird hiermit auch der Offenbarungsinhalt der zugehörigen/beigefügten Prioritätsunterlagen (Abschrift der Voranmeldung) vollinhaltlich mit einbezogen, auch zu dem Zweck, Merkmale dieser Unterlagen in Ansprüche vorliegender Anmeldung mit aufzunehmen. Die Unteransprüche charakterisieren in ihrer fakultativ nebengeordneten Fassung eigenständige erfinderische Weiterbildung des Standes der Technik, insbesondere um auf Basis dieser Ansprüche Teilanmeldungen vorzunehmen.
Bezugszeichenliste
1 Aerosolerzeuger 26 Stempel
2 Injektor 27 Run-Leitung 3 Massenflussregler 27' Leitung
4 Vorratsbehälter 28 Umlenkplatte
5 Stromteiler 29 Tragstange
6 Verdampfer 30 Eintrittskanal
7 Mischer 31 Austrittskanal 8 Ventilanordnung 32 Stromlinie
9 Depositionseinrichtung 33 Stromlinie
10 Gaseinlassorgan 34 Stromlinie
11 Suszeptor 35 Gehäuse
12 Substrat 36 Achse
13 Trägergas
14 Sammelbehälter
15 Vent-Leitung
15' Leitung
16 Austrittsöffnung
17 Zuleitung
18 Eintrittsöffnung
19 Ableitung
20 Düse
21 Prallplatte
22 Flanschverbindung
23 Gehäuse
24 Bürstenrad
25 Festkörper

Claims

ANSPRÜCHE
Vorrichtung zur Homogenisierung eines verdampften Aerosols mit einem Injektor (2) zum Einbringen von kleinen Materiepartikeln in ein Trägergas (13), mit einem mit dem Injektor (2) leitungsverbundenen Verdampfer (6), in dem die vom Trägergas (13) in den Verdampfer (6) transportierten Materiepartikel verdampfen, und mit einer mit dem Verdampfer (6) leitungsverbundenen Mischeinrichtung (7), in welcher der die verdampften Materiepartikel transportierende Trägergasstrom in laminare Teilströme aufge- fächert wird, die die Mischeinrichtung entlang voneinander verschiedenen Wegen in unterschiedlichen Verweilzeiten durchströmen.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder insbesondere danach, dadurch gekennzeichnet, dass die Mischeinrichtung (7) einen insbesondere einzigen Eintrittskanal (30) zum Eintritt des Gases und einen insbesondere einzigen
Austrittskanal (31) zum Austritt des Gases aufweist sowie eine dem Eintrittskanal (30) benachbarte Stromumlenkeinrichtung (28) zum Auffächern des durch den Eintrittskanal (30) in die Mischeinrichtung (7) eintretenden Gases, insbesondere in ein laminares Strömungsprofil.
3. Vorrichtung nach Anspruch 2 oder insbesondere danach, dadurch gekennzeichnet, dass die Mischeinrichtung (7) ein im Wesentlichen zylinderförmiges Gehäuse aufweist mit zwei parallel zueinander verlaufenden Platten, die jeweils in ihren Zentren den Eintrittskanal (30) bzw. den Aus- trittskanal (31) ausbilden, wobei die Umlenkeinrichtung (28) derart ausgebildet und angeordnet ist, dass der Gasstrom im Wesentlichen von einer axialen Einspeiserichtung in eine Radialrichtung umgelenkt wird.
4. Vorrichtung nach Anspruch 1, 2 oder 3 oder insbesondere danach, da- durch gekennzeichnet, dass die Umlenkeinrichtung eine vor der Mün- dung des Eintrittskanals (30) innerhalb des zylinderförmigen Hohlraums des Gehäuses (35) angeordnete Umlenkplatte (28) ist.
Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4 oder insbesondere danach, dadurch gekennzeichnet, dass die Mischeinrichtung (7) von einem rotationssymmetrischen Hohlkörper (35) ausgebildet ist, wobei der Eintrittskanal (30) und der Austrittskanal (31) in der Symmetrieachse liegen.
Vorrichtung nach Anspruch 5 oder insbesondere danach, dadurch gekennzeichnet, dass der Hohlkörper (35) und die stromabwärts des Eintrittskanals (30) angeordnete Stromumlenkeinrichtung (28) so ausgestaltet ist, dass sich -bezogen auf eine durch den Eintrittskanal (30) und den Austrittskanal (31) gehende Symmetrieachse (36)- eine dieser radial nächstliegende Strömungsbahn ausbildet, entlang derer ein Teilstrom (34) mit minimaler Verweilzeit durch die Mischeinrichtung strömt und dass sich eine der Symmetrieachse (36) radial außenliegende Strömungsbahn (32) ausbildet, entlang derer ein Teilstrom mit maximaler Verweilzeit durch die Mischeinrichtung strömt, und dass sich zwischen diesen beiden Teilströmen (32, 34) ein laminares Strömungsprofil ausbildet mit Strömungsbahnen, entlang derer Teilströme strömen mit von innen nach außen stetig ansteigender Verweilzeit.
Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 6 oder insbesondere danach, dadurch gekennzeichnet, dass die Teilströme von einer laminaren Strömung innerhalb des Gehäuses (35) ausgebildet werden und voneinander verschiedene Längen aufweisen.
8. Vorrichtung zum Abscheiden einer organischen Schicht, insbesondere einer Polymerschicht auf einem Substrat mit einem Injektor (2) zum Einbringen kleiner Polymerpartikel in einen Trägergasstrom (13), mit einem Verdampfer (6), in dem die Polymerpartikel verdampft werden, und mit einer Depositionseinrichtung (9) zum Abscheiden des mit Hilfe des Trägergasstroms in die Depositionseinrichtung (9) transportierten Polymerdampfs als Polymerschicht auf einem Substrat, gekennzeichnet durch eine mit dem Verdampfer (6) leitungsverbundene Mischeinrichtung (7), in welcher der die verdampften Materiepartikel transportierende Trägergasstrom in Teilströme unterschiedlicher Verweilzeit im Mischer aufgeteilt wird, insbesondere gemäß einem der Ansprüche 1 bis 7.
Vorrichtung nach Anspruch 8 oder insbesondere danach, dadurch gekennzeichnet, dass der Injektor (2) ein Bürstendosierer ist.
Vorrichtung nach Anspruch 8 oder 9 oder insbesondere danach, gekennzeichnet durch einen mit dem Injektor (2) leitungsverbundenen Verdünner (5), welchem der die Materiepartikel transportierende Gasstrom zugeleitet wird und in welchem aus dem Gasstrom kontinuierlich eine Teilmenge der Materiepartikel abgezweigt wird.
Verfahren zur Homogenisierung insbesondere eines verdampften Aerosols, dadurch gekennzeichnet, dass ein die verdampften Materiepartikel transportierender Trägergasstrom durch einen Eintrittskanal (30) in eine Mischeinrichtung (7) eintreten, in der der Trägergasstrom in Teilströme eines laminaren Strömungsprofils aufgefächert wird, die mit einer unterschiedlich langen Verweilzeit durch die Mischeinrichtung (7) strömen und der derart gemischte Trägergasstrom durch einen Austrittskanal (31) aus dem Mischer (7) heraustritt.
12. Verfahren nach Anspruch 11 oder insbesondere danach, dadurch gekennzeichnet, dass der durch den Eintrittskanal (30) in die Mischeinrichtung (7) eintretende Trägergasstrom mit einer Umlenkeinrichtung 28 derart umgelenkt wird, dass sich ein erster Teilstrom (34) ausbildet, der entlang einer kürzesten Stromlinie die Mischeinrichtung (7) in einer minimalen Verweilzeit durchströmt und dass sich entfernt vom ersten Teilstrom (34) ein zweiter Teilstrom (32) ausbildet, der auf einen längsten Strömungs- bahn die Mischeinrichtung (7) mit maximaler Verweilzeit durchströmt, wobei sich das laminare Strömungsprofil zwischen dem ersten Teilstrom (34) und dem zweiten Teilstrom (32) ausbildet.
13. Verfahren nach Anspruch 11 oder 12 oder insbesondere danach, gekenn- zeichnet durch eine rotationssymmetrische Anordnung des Strömungsprofils, wobei ein einziger Eintrittskanal (30) und ein einziger Austrittskanal (31) in der Rotationsachse (36) liegen.
PCT/EP2011/052258 2010-02-19 2011-02-16 Gasmischer für dampfabscheidung WO2011101361A1 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102010000479A DE102010000479A1 (de) 2010-02-19 2010-02-19 Vorrichtung zur Homogenisierung eines verdampften Aerosols sowie Vorrichtung zum Abscheiden einer organischen Schicht auf einem Substrat mit einer derartigen Homogenisierungseinrichtung
DE102010000479.0 2010-02-19

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2011101361A1 true WO2011101361A1 (de) 2011-08-25

Family

ID=43902991

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/EP2011/052258 WO2011101361A1 (de) 2010-02-19 2011-02-16 Gasmischer für dampfabscheidung

Country Status (3)

Country Link
DE (1) DE102010000479A1 (de)
TW (1) TW201139710A (de)
WO (1) WO2011101361A1 (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114105679A (zh) * 2021-11-25 2022-03-01 西安鑫垚陶瓷复合材料有限公司 化学气相渗透导流设备及利用其制备陶瓷复材管件的方法

Citations (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1356040A (en) 1970-12-09 1974-06-12 Mettler Instrumente Ag Methods of producing thin uniform optical layers on substrates
DE3035992A1 (de) 1980-09-24 1982-05-19 The University of Delaware, Newark, Del. Verfahren und vorrichtung zum auftragen von materialien durch aufdampfen
JPS62278273A (ja) * 1986-05-26 1987-12-03 Nec Corp プラズマcvd装置
DE3802732A1 (de) 1987-01-31 1988-08-11 Toyoda Gosei Kk Verfahren und vorrichtung zur zuechtung von galliumnitrid aus der gasphase
US4874634A (en) 1987-04-16 1989-10-17 U.S. Philips Corp. Vapor phase deposition of cadmium and mercury telluride for electronic device manufacture
EP0452006A2 (de) 1990-03-30 1991-10-16 Atsushi Ogura Verbundfilm und Verfahren zu seiner Herstellung
JPH04318174A (ja) 1991-04-18 1992-11-09 Hitachi Electron Eng Co Ltd Teosガス供給装置
US5186120A (en) 1989-03-22 1993-02-16 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Mixture thin film forming apparatus
US5256060A (en) 1992-01-28 1993-10-26 Digital Equipment Corporation Reducing gas recirculation in thermal processing furnace
JPH06116743A (ja) 1992-10-02 1994-04-26 Vacuum Metallurgical Co Ltd ガス・デポジション法による微粒子膜の形成法およびその形成装置
US5381605A (en) 1993-01-08 1995-01-17 Photonics Research Incorporated Method and apparatus for delivering gas
JPH11329116A (ja) * 1998-05-13 1999-11-30 Fujikura Ltd 酸化物超電導導体の製造装置および製造方法
US6244575B1 (en) 1996-10-02 2001-06-12 Micron Technology, Inc. Method and apparatus for vaporizing liquid precursors and system for using same
US20010019747A1 (en) * 1997-09-29 2001-09-06 Affinito John D. Plasma enhanced chemical deposition with low vapor pressure compounds
EP1132504A1 (de) 2000-02-28 2001-09-12 Horiba, Ltd. Verfahren und Vorrichtung zur Abscheidung von dünnen Schichten, FT-IR Gasanalysator dafür, und Mischgasversogungsvorrichtung für en solches Abscheidungsverfahren
DE10064178A1 (de) 1999-12-24 2001-09-20 Murata Manufacturing Co Verfahren und Vorrichtung zur Ausbildung einer Dünnschicht
EP1095169B1 (de) 1998-06-15 2002-05-02 Siemens Aktiengesellschaft Verfahren und vorrichtung zum erzeugen eines pulveraerosols sowie deren verwendung
JP2003239072A (ja) * 2002-02-14 2003-08-27 Ulvac Japan Ltd 成膜装置
US20040089235A1 (en) 2001-12-03 2004-05-13 Takakazu Yamada Mixer, and device and method for manufacturing thin-film
US20060137608A1 (en) 2004-12-28 2006-06-29 Choi Seung W Atomic layer deposition apparatus
US20090186479A1 (en) * 2008-01-18 2009-07-23 Tokyo Electron Limited Semiconductor processing system including vaporizer and method for using same
DE102008017076B3 (de) 2008-04-01 2009-09-03 Helmholtz-Zentrum Berlin Für Materialien Und Energie Gmbh Chemisches Dampfabscheide-Verfahren unter Atmosphärendruck zur Herstellung einer n-halbleitenden Metallsulfid-Dünnschicht
DE102008026974A1 (de) 2008-06-03 2009-12-10 Aixtron Ag Verfahren und Vorrichtung zum Abscheiden dünner Schichten aus polymeren Para-Xylylene oder substituiertem Para-Xylylene
DE102008034330A1 (de) 2008-07-23 2010-01-28 Ionbond Ag Olten CVD-Reaktor zur Abscheidung von Schichten aus einem Reaktionsgasgemisch auf Werkstücken

Patent Citations (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1356040A (en) 1970-12-09 1974-06-12 Mettler Instrumente Ag Methods of producing thin uniform optical layers on substrates
DE3035992A1 (de) 1980-09-24 1982-05-19 The University of Delaware, Newark, Del. Verfahren und vorrichtung zum auftragen von materialien durch aufdampfen
JPS62278273A (ja) * 1986-05-26 1987-12-03 Nec Corp プラズマcvd装置
DE3802732A1 (de) 1987-01-31 1988-08-11 Toyoda Gosei Kk Verfahren und vorrichtung zur zuechtung von galliumnitrid aus der gasphase
US4874634A (en) 1987-04-16 1989-10-17 U.S. Philips Corp. Vapor phase deposition of cadmium and mercury telluride for electronic device manufacture
US5186120A (en) 1989-03-22 1993-02-16 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Mixture thin film forming apparatus
EP0452006A2 (de) 1990-03-30 1991-10-16 Atsushi Ogura Verbundfilm und Verfahren zu seiner Herstellung
JPH04318174A (ja) 1991-04-18 1992-11-09 Hitachi Electron Eng Co Ltd Teosガス供給装置
US5256060A (en) 1992-01-28 1993-10-26 Digital Equipment Corporation Reducing gas recirculation in thermal processing furnace
JPH06116743A (ja) 1992-10-02 1994-04-26 Vacuum Metallurgical Co Ltd ガス・デポジション法による微粒子膜の形成法およびその形成装置
US5381605A (en) 1993-01-08 1995-01-17 Photonics Research Incorporated Method and apparatus for delivering gas
US6244575B1 (en) 1996-10-02 2001-06-12 Micron Technology, Inc. Method and apparatus for vaporizing liquid precursors and system for using same
US20010019747A1 (en) * 1997-09-29 2001-09-06 Affinito John D. Plasma enhanced chemical deposition with low vapor pressure compounds
JPH11329116A (ja) * 1998-05-13 1999-11-30 Fujikura Ltd 酸化物超電導導体の製造装置および製造方法
EP1095169B1 (de) 1998-06-15 2002-05-02 Siemens Aktiengesellschaft Verfahren und vorrichtung zum erzeugen eines pulveraerosols sowie deren verwendung
DE10064178A1 (de) 1999-12-24 2001-09-20 Murata Manufacturing Co Verfahren und Vorrichtung zur Ausbildung einer Dünnschicht
EP1132504A1 (de) 2000-02-28 2001-09-12 Horiba, Ltd. Verfahren und Vorrichtung zur Abscheidung von dünnen Schichten, FT-IR Gasanalysator dafür, und Mischgasversogungsvorrichtung für en solches Abscheidungsverfahren
US20040089235A1 (en) 2001-12-03 2004-05-13 Takakazu Yamada Mixer, and device and method for manufacturing thin-film
JP2003239072A (ja) * 2002-02-14 2003-08-27 Ulvac Japan Ltd 成膜装置
US20060137608A1 (en) 2004-12-28 2006-06-29 Choi Seung W Atomic layer deposition apparatus
US20090186479A1 (en) * 2008-01-18 2009-07-23 Tokyo Electron Limited Semiconductor processing system including vaporizer and method for using same
DE102008017076B3 (de) 2008-04-01 2009-09-03 Helmholtz-Zentrum Berlin Für Materialien Und Energie Gmbh Chemisches Dampfabscheide-Verfahren unter Atmosphärendruck zur Herstellung einer n-halbleitenden Metallsulfid-Dünnschicht
DE102008026974A1 (de) 2008-06-03 2009-12-10 Aixtron Ag Verfahren und Vorrichtung zum Abscheiden dünner Schichten aus polymeren Para-Xylylene oder substituiertem Para-Xylylene
DE102008034330A1 (de) 2008-07-23 2010-01-28 Ionbond Ag Olten CVD-Reaktor zur Abscheidung von Schichten aus einem Reaktionsgasgemisch auf Werkstücken

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
MOERMAN I: "INFLUENCE OF GAS MIXING ON THE LATERAL UNIFORMITY IN HORIZONTAL MOVPE REACTORS", JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH, ELSEVIER, AMSTERDAM, NL, vol. 107, no. 1 / 04, 1 January 1991 (1991-01-01), pages 175 - 180, XP000246592, ISSN: 0022-0248, DOI: DOI:10.1016/0022-0248(91)90452-B *

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114105679A (zh) * 2021-11-25 2022-03-01 西安鑫垚陶瓷复合材料有限公司 化学气相渗透导流设备及利用其制备陶瓷复材管件的方法

Also Published As

Publication number Publication date
DE102010000479A1 (de) 2011-08-25
TW201139710A (en) 2011-11-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP2716139B1 (de) Vorrichtung und verfahren zur erzeugung eines kalten, homogenen plasmas unter atmosphärendruckbedingungen
US20230416921A1 (en) Method and apparatus for atmospheric pressure plasma jet coating deposition on a substrate
DE102014106523A1 (de) Vorrichtung und Verfahren zum Versorgen einer CVD- oder PVD-Beschichtungseinrichtung mit einem Prozessgasgemisch
WO2002027078A1 (de) Verfahren zum abscheiden von insbesondere kristallinen schichten, gaseinlassorgan sowie vorrichtung zur durchführung des verfahrens
EP1322801A1 (de) Gaseinlassorgan für cvd-verfahren und vorrichtung
DE102011051263A1 (de) Vorrichtung zur Aerosolerzeugung und Abscheiden einer lichtemittierenden Schicht
DE102015121253A1 (de) Vorrichtung zum Erzeugen eines atmosphärischen Plasmastrahls zur Behandlung der Oberfläche eines Werkstücks
DE102008026001B4 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Erzeugung und Bearbeitung von Schichten auf Substraten unter definierter Prozessatmosphäre und Heizelement
DE102006019643A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur pneumatischen, tribostatischen Pulverbeschichtung von Werkstücken
DE102006026576A1 (de) Vorrichtung und Verfahren zum Aufdampfen eines pulverförmigen organischen Ausgangsstoffs
EP1364076B1 (de) Vorrichtung und verfahren zum zuführen eines in die gasform gebrachten flüssigen ausgangsstoffes in einen cvd-reaktor
DE102012220986B4 (de) Dosiereinheit und ihre Verwendung
WO2011101361A1 (de) Gasmischer für dampfabscheidung
DE102010000388A1 (de) Gaseinlassorgan mit Prallplattenanordnung
EP1939329B1 (de) Bausatz zur Herstellung eines Prozessreaktors für die Ausbildung metallischer Schichten auf einem oder auf mehreren Substraten
DE102007055936B4 (de) Aerosolerzeugerdüse, Aerosolerzeugersystem, Beschichtungssystem und Verfahren
DE102017103047A1 (de) Aerosolverdampfer
EP1186347A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Zerstäuben von Flüssigkeiten
DE102010000480A1 (de) Vorrichtung zum Abscheiden einer organischen Schicht, insbesondere einer Polymerschicht mit einem Aerosolerzeuger sowie ein hierzu geeigneter Aerosolerzeuger
WO2017121704A1 (de) Vorrichtung zum bereitstellen eines prozessgases in einer beschichtungseinrichtung
DE19960333A1 (de) Vorrichtung zum Herstellen eines Gasgemisches
WO2001055478A2 (de) Verfahren und vorrichtung zum abscheiden eines in flüssiger form vorliegenden prekursors auf einem substrat
DE102019105163B3 (de) Plasmadüse und Plasmavorrichtung
DE60110176T2 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Flüssigkeiten mit ultrafeinen, zusammengesetzten Partikeln
DE102019110036A1 (de) Vorrichtung und Verfahren zum Erzeugen eines in einem Fluidstrom geförderten Pulvers

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 11706499

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 11706499

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1