WO2011093115A1 - 発光装置 - Google Patents

Abstract

　有機ＥＬ素子（１１）の種類に応じて共通層の膜厚が異なる有機ＥＬ素子を、少ない工程数で形成することのできる構成を有する複数の有機ＥＬ素子を備える発光装置（１）を提供する。発光装置は、支持基板と、所定の列方向に所定の間隔を開けて、列方向とは方向が異なる行方向に延びる複数本の隔壁（３）と、列方向に隣り合う隔壁同士の間それぞれにおいて、行方向に所定の間隔を開けて設けられる複数の有機ＥＬ素子と、を含み、複数の有機ＥＬ素子は、ｍ種類の有機ＥＬ素子に分類され、それぞれが、全ての種類の有機ＥＬ素子に共通して設けられる共通層と、該共通層を間に介在させて配置される一対の電極とを有し、支持基板の厚み方向の一方から見て、列方向に隣り合う隔壁同士の間の面積は、隔壁同士の間に設けられる有機ＥＬ素子の種類ごとに設定され、各有機ＥＬ素子の共通層の膜厚は、厚み方向の一方から見た隔壁同士の間の面積に応じて設定される。

Description

発光装置

　本発明は発光装置に関する。

　表示装置には液晶表示装置やプラズマ表示装置など、種々のものがある。その１つに、画素の光源として有機エレクトロルミネッセンス（Electroluminescent）（以下、ＥＬという。）素子を用いた表示装置がある。

　有機ＥＬ素子は表示装置において基板上に整列して配置されている。なお基板上には有機ＥＬ素子を区分けするための複数本の隔壁がストライプ状に配置されている。換言すると基板上には、複数本の隔壁によって画成される複数本の凹部がストライプ状に設けられている。そして複数の有機ＥＬ素子は、複数本の凹部にそれぞれ設けられ、各凹部において、凹部の延在する方向（以下において、「凹部の延在する方向」を行方向といい、この行方向に垂直な方向を例えば列方向ということがある。）に沿って所定の間隔を開けて配置されている。

　有機ＥＬ素子を用いたカラー表示装置には通常、所期の色を表現するために、赤色、緑色および青色のうちのいずれか１種の光を放つ３種類の有機ＥＬ素子が設けられる。例えばカラー表示装置は、赤色、緑色または青色を放つ複数の有機ＥＬ素子を各凹部に配列した以下の（Ｉ）～（ＩＩＩ）の３つの行を、繰り返しこの順序で列方向に配列することによって実現される。
（Ｉ）赤色の光を放つ複数の有機ＥＬ素子が所定の間隔を開けて配列される行
（ＩＩ）緑色の光を放つ複数の有機ＥＬ素子が所定の間隔を開けて配列される行
（ＩＩＩ）青色の光を放つ有機ＥＬ素子が所定の間隔を開けて配列される行

　有機ＥＬ素子は、一対の電極と、この電極間に設けられる発光層とを含んで構成される。上記３種類の有機ＥＬ素子は、赤色、緑色および青色のいずれか１種の光を放つ発光層を、有機ＥＬ素子の種類に応じて形成することにより作製することができる。この場合、有機ＥＬ素子の種類に応じて、所定の行（凹部）に、所定の色の光を放つ発光層を形成する必要がある。例えば赤色の光を放つ発光層を形成する場合、赤色の光を放つ発光層となる材料を含むインキを、この発光層が形成されるべき行（凹部）に供給し、さらにこれを固化することによって、赤色の光を放つ発光層を形成することができる。青色または緑色の光を放つ発光層も同様に、対応する色の光を放つ発光層となる材料を用いて形成される。このように３種類の発光層をそれぞれ所定の行（凹部）に形成する場合、各種の発光層が形成される行（凹部）に応じて、対応するインキを塗り分ける必要がある。

　有機ＥＬ素子は、電極間に発光層だけでなく、必要に応じて正孔注入層、正孔輸送層などを有することがある。正孔注入層、正孔輸送層などのように、発光層と比べると発光色にさほど影響を与えない層は、有機ＥＬ素子の発光色とは無関係に、すなわち有機ＥＬ素子の種類とは無関係に、３種類全ての有機ＥＬ素子に共通する層（以下、共通層ということがある。）として設けることができる。そのため、仮に全ての種類の有機ＥＬ素子の共通層を、全て同じ膜厚で形成する場合には、３種類全ての有機ＥＬ素子の共通層を同一の工程で形成することができる。すなわち共通層となる材料を含むインキを所定の行（凹部）に応じて塗り分ける必要はない。

　しかしながら例えば光共振を生じさせることを目的として一対の電極間の距離を調整するために、有機ＥＬ素子の種類ごとに共通層の膜厚を異ならせることもある。有機ＥＬ素子の種類に応じて共通層の膜厚を調整するためには、たとえ共通層の材料が、３種類全ての有機ＥＬ素子に共通であったとしても、インキの塗布量を有機ＥＬ素子の種類に応じて設定する必要がある。すなわち膜厚の厚い共通層を形成するためには、膜厚の薄い共通層を形成する際のインキの塗布量よりも、その分量を多くする必要がある。そのため従来の技術では、共通層であっても、発光層と同様に有機ＥＬ素子の種類に応じてインキを塗り分けていた（例えば特許文献１参照）。

特開２００９－１６４２３６号公報

　上述のように従来の技術では有機ＥＬ素子の種類ごとに共通層を異なる工程で形成していたため、工程数が増加するという問題がある。

　従って本発明の目的は、有機ＥＬ素子の種類に応じて共通層の膜厚が異なる有機ＥＬ素子を、少ない工程数で形成することのできる構成を有する複数の有機ＥＬ素子を備える発光装置を提供することである。

　本発明は、下記の［１］～［９］を提供する。
［１］　支持基板と、
　この支持基板上に設けられ、支持基板上において、所定の列方向に所定の間隔を開けて、前記列方向とは方向が異なる行方向に延びる複数本の隔壁と、
　列方向に隣り合う隔壁同士の間それぞれにおいて行方向に所定の間隔を開けて設けられる、複数の有機エレクトロルミネッセンス素子と、を含む発光装置であって、
　前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子は、それぞれ互いに異なる色の光を放つ２種類以上の有機エレクトロルミネッセンス素子に分類され、それぞれが、全ての種類の有機エレクトロルミネッセンス素子に共通して設けられる共通層と、該共通層を間に介在させて配置される一対の電極とを有し、
　前記支持基板の厚み方向の一方から見て、列方向に隣り合う隔壁同士の間の面積それぞれは、隔壁同士の間に設けられる有機エレクトロルミネッセンス素子の種類ごとに設定され、
　各有機エレクトロルミネッセンス素子の共通層の膜厚は、前記厚み方向の一方から見た隔壁同士の間の面積に応じて設定される、発光装置。
［２］　前記２種類以上の複数の有機エレクトロルミネッセンス素子は、
　　行方向には、所定の間隔を開けて同じ種類の有機エレクトロルミネッセンス素子が設けられ、
　　列方向には、前記２種類以上の有機エレクトロルミネッセンス素子を全種類順列させた所定の並びが、列方向に連続するように反復して並ぶように設けられている、［１］記載の発光装置。
［３］　各隔壁は、列方向に隣り合う隔壁に対向する側面が行方向に平らに延在しており、
　列方向に隣り合う隔壁同士の間隔それぞれは、隔壁同士の間に設けられる有機エレクトロルミネッセンス素子の種類ごとに設定される、［１］または［２］記載の発光装置。
［４］　前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子は、列方向には、有機エレクトロルミネッセンス素子の中心同士の間隔が等しくなるように、所定の間隔をあけて配置される、［１］～［３］のいずれか一項に記載の発光装置。
［５］　列方向に隣り合う隔壁同士の間隔それぞれは、隔壁同士の間に設けられる有機エレクトロルミネッセンス素子の種類に応じて、行方向に沿ってその広狭が変化するように設定される、［１］または［２］記載の発光装置。
［６］　前記支持基板の厚み方向の一方から見て、列方向に隣り合う隔壁同士の間の面積は、隔壁同士の間に設けられる有機エレクトロルミネッセンス素子の共通層の膜厚が、有機エレクトロルミネッセンス素子に光共振が生じる膜厚となるように設定される、［１］～［５］のいずれか一項に記載の発光装置。
［７］　前記支持基板の厚み方向の一方から見て、列方向に隣り合う隔壁同士の間の面積それぞれは、隔壁同士の間に設けられる有機エレクトロルミネッセンス素子の発光波長が短いほど、広く設定される、［１］～［６］のいずれか一項に記載の発光装置。
［８］　前記有機エレクトロルミネッセンス素子は、２種類以上の有機エレクトロルミネッセンス素子のうちで最も素子寿命の短い有機エレクトロルミネッセンス素子の行方向の幅が、最も広くなるように設定される、［１］～［７］のいずれか一項に記載の発光装置。
［９］　各有機エレクトロルミネッセンス素子は、複数の共通層を有し、
　各有機エレクトロルミネッセンス素子の全ての共通層の膜厚は、前記厚み方向の一方から見た隔壁同士の間の面積に応じて設定される、［１］～［８］のいずれか一項に記載の発光装置。

　本発明では、有機ＥＬ素子の種類に応じて膜厚の異なる共通層を同一の工程で形成することができるため、少ない工程数で形成することのできる構成を有する複数の有機ＥＬ素子を備える発光装置を実現することができる。

図１は、本発明にかかる実施形態の発光装置を模式的に示す平面図である。 図２は、発光装置を模式的に示す断面図である。 図３は、ｍ種類の有機ＥＬ素子のうちで最も素子寿命の短い有機ＥＬ素子が、行方向の幅が最も広い有機ＥＬ素子である発光装置を模式的に示す図である。 図４は、隔壁同士の間に設けられる有機ＥＬ素子の種類に応じて、行方向に沿って隔壁同士の間隔の広狭が変化する発光装置を模式的に表す平面図である。 図５は、複数の有機ＥＬ素子の中心同士の列方向Ｙの間隔Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３が周期的に変動する値に設定された発光装置を模式的に示す平面図である。

　以下、図面を参照して本発明の実施の一形態について説明する。なお以下の説明において、各図は発明が理解できる程度に構成要素の形状、大きさ及び配置が概略的に示されているに過ぎず、これにより本発明が特に限定されるものではない。また各図において、同様の構成成分については同一の符号を付して示し、その重複する説明を省略する場合がある。

　本発明の発光装置は、支持基板と、この支持基板上に設けられ、支持基板上において、所定の列方向に所定の間隔を開けて、前記列方向とは方向が異なる行方向に延びる複数本の隔壁と、列方向に隣り合う隔壁同士の間それぞれにおいて、行方向に所定の間隔を開けて設けられる複数の有機ＥＬ素子と、を含む発光装置であって、前記複数の有機ＥＬ素子は、それぞれ異なる色の光を放つｍ種類（記号「ｍ」は２以上の自然数を表す。）の有機ＥＬ素子に分類され、それぞれが、全ての種類の有機ＥＬ素子に共通して設けられる共通層と、該共通層を間に介在させて配置される一対の電極とを有し、前記支持基板の厚み方向の一方から見て（以下、「平面視で」ということがある。）、列方向に隣り合う隔壁同士の間の面積それぞれは、隔壁同士の間に設けられる有機ＥＬ素子の種類ごとに設定され、各有機ＥＬ素子の共通層の膜厚は、前記厚み方向の一方から見た隔壁同士の間の面積に応じて設定される。

　発光装置は例えば表示装置として利用される。表示装置には主にアクティブマトリクス駆動型の装置とパッシブマトリクス駆動型の装置とがあり、本発明は両方の駆動型の装置に適用可能であるが、本実施形態では一例としてアクティブマトリクス駆動型の表示装置について説明する。

　＜発光装置の構成＞
　まず発光装置の構成について説明する。図１は本実施形態の発光装置を模式的に示す平面図であり、図２は発光装置を模式的に示す断面図である。
　図１及び図２に示されるように、発光装置１は主に支持基板２と、この支持基板２上に形成される複数の有機ＥＬ素子１１（１１Ｒ、１１Ｇ、１１Ｂ）と、この複数の有機ＥＬ素子１１を区分けするために設けられる隔壁３と、各有機ＥＬ素子１１を電気的に絶縁する絶縁膜４とを含んで構成される。

　本実施形態では複数の有機ＥＬ素子１１はそれぞれ支持基板２上においてマトリクス状に配列される。すなわち複数の有機ＥＬ素子１１はそれぞれ行方向Ｘに所定の間隔を開けて配列されるとともに、列方向Ｙに所定の間隔を開けて配列される。なお本実施形態では行方向Ｘおよび列方向Ｙは、互いに直交する方向であって、かつ行方向Ｘおよび列方向Ｙそれぞれが支持基板２の厚み方向Ｚに対して直交する。

　本実施形態では行方向Ｘに互いに略平行に延在する複数本の直線状の隔壁３が支持基板２上に設けられる。この隔壁３は、平面視でいわゆるストライプ状に設けられる。各隔壁３はそれぞれ、列方向Ｙに隣り合う有機ＥＬ素子１１同士の間に設けられる。換言すると複数の有機ＥＬ素子１１は、列方向Ｙに隣り合う隔壁３同士の間に設けられる。複数の有機ＥＬ素子１１は隣り合う隔壁３同士の間それぞれに、行方向Ｘに所定の間隔を開けて配列されている。以下、列方向Ｙに隣り合う一対の隔壁３と支持基板２とによって規定される凹みを、凹部５ということがある。複数本の凹部５はそれぞれ所定の行に対応する。

　本実施形態では３種類の複数の有機ＥＬ素子１１が支持基板２上に設けられる。すなわち２以上の自然数を表す記号「ｍ」が、本実施形態では数値「３」を表す。ｍ種類（本実施形態では「ｍ＝３」）の複数の有機ＥＬ素子１１は、行方向Ｘには、所定の間隔を開けて同じ種類の有機ＥＬ素子１１が設けられ、列方向Ｙには、ｍ種類の有機ＥＬ素子１１を、互いに隣り合う有機ＥＬ素子１１同士それぞれの種類が重複しないように、全種類の有機ＥＬ素子１１を順列させた所定の並びが、列方向に連続するように反復して並べられており、前記所定の並び順で繰り返し設けられる。

　カラー表示装置用の発光装置１は、例えば（Ｉ）赤色の光を放つ複数の有機ＥＬ素子１１Ｒが行方向Ｘに所定の間隔を開けて配列される行、（ＩＩ）緑色の光を放つ複数の有機ＥＬ素子１１Ｇが行方向Ｘに所定の間隔を開けて配列される行、（ＩＩＩ）青色の光を放つ有機ＥＬ素子１１Ｂが行方向Ｘに所定の間隔を開けて配列される行を、この順序で、列方向Ｙに繰り返し（図１では下方から上方に繰り返し）配列することによって実現される。

　図３に示されるように、隔壁３は、延在方向に直交する断面が台形状である棒状の形態を有している。前記支持基板２の厚み方向の一方から見て、列方向に隣り合う隔壁３同士の間それぞれの面積は、隔壁３同士の間に設けられる有機ＥＬ素子１１の種類ごとに設定される。例えば上記（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）に対応する行は、それぞれ列方向に隣り合う隔壁３同士の間の平面視における面積が異なる。（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）の各行の列方向Ｙの幅は、隣り合う隔壁３同士それぞれの間隔Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３によって規定されるが、本実施の形態ではこの隣り合う隔壁３同士それぞれの間隔Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３をそれぞれ異ならせることによって、隣り合う隔壁３同士の間の平面視における面積を異ならせている。

　すなわち本実施形態では、列方向に隣り合う隔壁３同士の互いに対向する側面３ａが行方向Ｘに平らに延在しており、列方向Ｙに隣り合う隔壁３同士の間隔が、隣り合う隔壁３同士の間に設けられる有機ＥＬ素子１１の種類ごとに設定されることによって、列方向Ｙに隣り合う隔壁３同士の間の平面視における面積を、有機ＥＬ素子１１の種類ごとに異ならせている。

　なお列方向Ｙに隣り合う隔壁３同士の互いに対向する側面３ａが行方向に平らに延在するとは、所定の幅を有する隔壁３が、その幅を維持したまま行方向Ｘに略直線状に延在していることを意味し、行方向Ｘに沿って隔壁３の幅が変動する図４に示される隔壁３とは異なり、行方向Ｘに沿って隔壁３の幅がほぼ変動しないことを意味する。

　列方向Ｙに隣り合う複数の有機ＥＬ素子１１の中心Ｃ同士の間隔Ｐは、全て等しくてもよく、また１周期を数値「ｍ」とする周期的に変動する値に設定してもよい。後者の一例を図５に示す。図５に示されるように隣り合う隔壁３同士それぞれの間隔Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３は、例えば隣り合う隔壁３同士の間に設けられる有機ＥＬ素子の種類ごとに設定されるので、周期的に変動するが（図５では、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３の一組が１周期となる。）、この変動に合わせて、複数の有機ＥＬ素子１１の列方向Ｙの中心Ｃ同士の間隔Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３を周期的に変動させてもよい。この場合、全ての隔壁３の列方向Ｙの幅を等しくすることができる。他方、図１に示されるように、列方向Ｙに隣り合う複数の有機ＥＬ素子１１の中心Ｃ同士の間隔Ｐが全て等しくなるように有機ＥＬ素子１１を設ける場合、列方向Ｙについての隔壁３の配置される位置、隔壁３の列方向Ｙの幅を調整することによって、列方向に隣り合う隔壁３同士それぞれの間の平面視における面積を、有機ＥＬ素子１１の種類ごとに異ならせることができる。この場合、後述するノズルプリンティング法では、有機ＥＬ素子１１の種類にかかわらず等間隔でインキを塗布することができるため、インキの塗布装置の構成およびその調整が容易になる。

　本実施形態では支持基板２と隔壁３との間に、各有機ＥＬ素子１１を電気的に絶縁する格子状の絶縁膜４が設けられる。この絶縁膜４は、行方向Ｘに延在する複数本の帯状の部分と、列方向Ｙに延在する複数本の帯状の部分とが一体的に形成されて構成される。格子状の絶縁膜４の開口６は、平面視で有機ＥＬ素子１１に重なる位置に形成される。絶縁膜４の開口６は平面視で例えば小判形、略円形、略楕円形および略矩形などの形状に形成される。前述の隔壁３は、絶縁膜４の一部を構成する、行方向Ｘに延在する部分上に設けられる。この絶縁膜４は必要に応じて設けられる。例えば、絶縁膜４は行方向Ｘまたは列方向Ｙに隣り合う有機ＥＬ素子１１同士それぞれの間の電気的な絶縁を確保するために設けられる。

　なお支持基板２の厚み方向Ｚに流れる電流は、絶縁膜４の開口６が形成されている領域にのみ流れるため、平面視で開口６と重なる領域のみが、それぞれ有機ＥＬ素子１１として機能し、発光する。

　列方向Ｙおよび行方向Ｘの平面視における有機ＥＬ素子１１の幅は、発光する領域によって規定されるため、それぞれ絶縁膜４の開口６の列方向Ｙおよび行方向Ｘの幅によって規定される。なお絶縁膜４を設けない場合、平面視における有機ＥＬ素子１１の列方向Ｙおよび行方向Ｘの幅は、後述する一方の電極１２の列方向Ｙおよび行方向Ｘの幅によって規定される。

　有機ＥＬ素子１１は、それぞれ異なる色の光を放つｍ種類（記号「ｍ」は２以上の自然数を表す。）の素子に分類される。支持基板２上に設けられる複数種類の有機ＥＬ素子１１それぞれは、全ての種類の有機ＥＬ素子１１に共通して設けられる共通層１４と、該共通層１４を間に介在させて配置される一対の電極（１２、１３）とを有する。また各有機ＥＬ素子１１の一対の電極間にはそれぞれ発光層１５が設けられている。

　共通層１４は有機ＥＬ素子１１の種類ごとにその膜厚が異なる。共通層１４の膜厚を有機ＥＬ素子の種類ごとに異ならせるのは、例えば光共振を生じさせるように一対の電極間の間隔を調整するために、共通層１４の膜厚を有機ＥＬ素子１１の種類ごとに調整したり、また発光層１５の種類に応じて最適な共通層１４の膜厚が存在することがあり、この最適値に合わせて有機ＥＬ素子１１の種類ごとに共通層１４の膜厚を調整したりすることがあるためである。

　このように有機ＥＬ素子１１の種類ごとに共通層１４の膜厚を調整することによって、発光層１５の材料に応じて最適な膜厚の共通層１４を形成したり、光共振が生じるように一対の電極間の間隔を調整したりすることができる。

　共通層１４には例えば、発光層１５とは異なる有機層、無機物と有機物とを含む層、および無機層などがある。共通層１４としては、具体的にはいわゆる正孔注入層、正孔輸送層、電子ブロック層、正孔ブロック層、電子輸送層、および電子注入層などが設けられる。図２に示される有機ＥＬ素子１１は、一例として一対の電極と１層の共通層１４と１層の発光層１５とからなる。後述するように、例えば有機ＥＬ素子１１は、一対の電極のうちの一方の電極１２に相当する陽極、共通層１４に相当する正孔注入層、発光層１５、一対の電極のうちの他方の電極１３に相当する陰極が、支持基板２側からこの順で積層されて構成される。

　なお以下では発光層１５よりも一方の電極１２寄りに一層の共通層１４が配置される構成の有機ＥＬ素子１１について説明するが、本発明はこの構成に限らず、複数の共通層１４が設けられてもよく、また発光層１５よりも他方の電極１３寄りに共通層１４が配置されていてもよく、さらには発光層１５と一方の電極１２側との間、及び発光層１５と他方の電極１３側と間の両方に、共通層１４が配置されていてもよい。

　なお一対の電極のうちのいずれか１つの電極は、発光層１５から放たれる光を透過して外界に出射させるために、光透過性を示す部材によって構成される。なお光透過性を示す電極であっても、電極に入射する光の全てを透過するわけではなく、その一部は反射される。

　そのためたとえ光透過性を示す電極で一方の電極１２を構成したいわゆるボトムエミッション型の有機ＥＬ素子１１であったとしても、一方の電極１２によって一旦反射され、さらに他方の電極１３によって反射された光と、発光層１５から放たれる光とが共振するため、図２に示される共通層１４の膜厚を調整することによって、光共振を生じさせることが可能である。

　また当然ながら、光透過性を示す電極によって他方の電極１３を構成したいわゆるトップエミッション型の有機ＥＬ素子１１の場合には、図２に示される共通層１４の膜厚を調整することによって、一方の電極１２で反射される光の光路長を調整することができるため、光共振を生じさせることができる。

　一対の電極（１２、１３）は、陽極と陰極とから構成される。陽極および陰極のうちの一方の電極としては、一対の電極のうちの一方の電極１２が、支持基板２寄りに配置され、陽極および陰極のうちの他方の電極としては、一対の電極のうちの他方の電極１３が、一方の電極１２よりも支持基板２から離間して配置される。

　本実施形態の発光装置１はアクティブマトリクス型の装置なので、一方の電極１２は、有機ＥＬ素子１１ごとに個別に設けられる。一方の電極１２は例えば板状であって、平面視で略矩形状に形成される。一方の電極１２は、各有機ＥＬ素子１１が設けられる位置に対応してマトリクス状に支持基板２上に設けられる。一方の電極１２それぞれは、行方向Ｘに所定の間隔を開けて配列されるとともに、列方向Ｙに所定の間隔を開けて配列される。すなわち一方の電極１２は、平面視で列方向Ｙに隣り合う隔壁３同士の間に設けられる。一方の電極１２は、隔壁３同士の間それぞれにおいて、行方向Ｘに所定の間隔で配列されている。本実施形態では一方の電極１２は、平面視で前述した絶縁膜４の開口６とほぼ同じ形状に形成され、この開口６よりも幅広に形成される。

　前述した格子状の絶縁膜４は平面視で一方の電極１２を除く領域に主に形成され、その一部が一方の電極１２の周縁を覆って形成されている。換言すると絶縁膜４には一方の電極１２上に開口６が形成されている。この開口６によって一方の電極１２の表面が絶縁膜４から露出する。また前述した複数本の隔壁３は、絶縁膜４の一部を構成する行方向Ｘに延在する複数本の帯状の部分上に設けられる。

　共通層１４は隣り合う隔壁３同士に挟まれた領域において行方向Ｘに延在する。すなわち共通層１４は、列方向Ｙに隣り合う隔壁３同士によって規定される複数の凹部５に、帯状に形成される。そして各有機ＥＬ素子１１の共通層１４の膜厚は、厚み方向の一方から見た隣り合う隔壁３同士の間の面積に応じて設定される。

　なお共通層１４は後述するように、共通層１４となる材料を含むインキを凹部５に塗布成膜し、さらにこれを固化することによって形成される。そして各凹部５には等しい量のインキが供給されるため、平面視における隔壁３同士の間の面積が広いほど、隔壁３同士の間に形成される共通層１４の膜厚は薄くなり、逆に、隔壁３同士の間の面積が広いほど、隔壁３同士の間に形成される共通層１４の膜厚は厚くなる。
　図２に示される例では隣り合う隔壁３同士の間隔は、Ｌ１＞Ｌ２＞Ｌ３の関係を満たすため、各共通層１４は、「Ｌ１に対応する領域の膜厚」＜「Ｌ２に対応する領域の膜厚」＜「Ｌ３に対応する領域の膜厚」となる。

　発光層１５は共通層１４と同様に、隣り合う隔壁３同士に挟まれた領域に行方向Ｘに延在する。すなわち発光層１５は、列方向Ｙに隣り合う隔壁３同士によって規定される凹部５に、帯状に形成される。なお本実施形態では発光層１５は共通層１４に積層されて設けられる。

　カラー表示装置の場合、上述したように例えば赤色、緑色および青色のうちのいずれか１種の光を放つ３種類の有機ＥＬ素子１１を支持基板２上に設ける必要がある。本実施形態では発光層１５の種類を異ならせることによって、赤色、緑色および青色のうちのいずれか１種の光を放つ３種類の有機ＥＬ素子１１を作製する。

　そのため（ｉ）赤色の光を放つ発光層が設けられる行、（ｉｉ）緑色の光を放つ発光層が設けられる行、（ｉｉｉ）青色の光を放つ発光層が設けられる行の３種類の行を、この順序で、列方向Ｙに繰り返し（図１では下方から上方に繰り返し）配列する。すなわち赤色の光を放つ発光層同士、緑色の光を放つ発光層同士、および青色の光を放つ発光層同士それぞれは、列方向Ｙに２行の間隔を開けるように配列され、行方向Ｘに延びる帯状の層として共通層上に順次積層される。

　一対の電極のうちの他方の電極１３は発光層１５上に設けられる。なお本実施形態では他方の電極１３は複数の有機ＥＬ素子１１にまたがって連続して形成され、複数の有機ＥＬ素子１１に共通の電極として設けられる。すなわち他方の電極１３は、発光層１５上だけでなく隔壁３上にも形成され、発光層１５上の電極と隔壁３上の電極とが連なるように一面に形成される。

　＜発光装置の製造方法＞
　次に表示装置の製造方法について説明する。

　まず支持基板２を用意する。アクティブマトリクス型の表示装置の場合、この支持基板２として、複数の有機ＥＬ素子１１を個別に駆動する駆動回路が予め形成された基板を用いることができる。例えばＴＦＴ（Thin　Film　Transistor）基板を支持基板２として用いることができる。

　（一対の電極のうちの一方の電極を支持基板上に形成する工程）
　次に、用意した支持基板２上に複数の一方の電極１２をマトリクス状に形成する。一方の電極１２は、例えば支持基板２上に一面に導電性薄膜を形成し、導電性薄膜をフォトリソグラフィ法（以下の説明において、「フォトリソグラフィ法」には、マスクパターンの形成工程に引き続いて行われるエッチング工程などのパターニング工程が含まれる。）を用いてマトリクス状にパターニングすることにより形成される。また例えば一方の電極１２が形成されるパターンに対応する部位に開口が形成されたマスクパターンを支持基板２上に配置し、このマスクパターンを介して支持基板２上の所定の部位に導電性材料を選択的に堆積することにより、一方の電極１２をパターニングしてもよい。一方の電極１２の材料については後述する。なお本工程では一方の電極１２が予め形成された支持基板２を用意してもよい。

　次に本実施形態では支持基板２上に絶縁膜４を格子状に形成する。絶縁膜４は有機物または無機物によって構成される。絶縁膜４を構成する有機物としてはアクリル樹脂、フェノール樹脂、およびポリイミド樹脂などの樹脂を挙げることができる。また絶縁膜４を構成する無機物としてはＳｉＯ_ｘ、ＳｉＮ_ｘなどを挙げることができる。

　有機物からなる絶縁膜４を形成する場合、まず例えばポジ型またはネガ型の感光性樹脂を一面に塗布し、所定の部位を露光、現像する。さらにこれを硬化することによって、所定の部位に開口６が形成された絶縁膜４が形成される。なお感光性樹脂としてはフォトレジストを用いることができる。

　また無機物からなる絶縁膜４を形成する場合、無機物からなる薄膜をプラズマＣＶＤ法、スパッタ法などによって支持基板２の一面に形成する。次に所定の部位に開口６を形成することにより絶縁膜４が形成される。開口６は例えばフォトリソグラフィ法によって形成される。この開口６を形成することにより一方の電極１２の表面が露出する。

　次に本実施形態では複数本のストライプ状の隔壁３を絶縁膜４上に形成する。隔壁３は例えば絶縁膜４の材料として例示した材料を用いて、絶縁膜４を形成する方法と同様にしてストライプ状に形成することができる。なお本実施形態では各隔壁３は、上述したように隣り合う隔壁３同士の間隔Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３が、隔壁３同士の間に設けられる有機ＥＬ素子１１の種類に応じた間隔になるように形成される。

　隔壁３および絶縁膜４の形状、並びにこれらの配置は、画素数および解像度などの表示装置の仕様、並びに製造の容易さなどに応じて適宜設定される。例えば隔壁３の列方向Ｙの幅Ｔ１は、５μｍ～５０μｍ程度であり、隔壁３の高さＴ２は、０．５μｍ～５μｍ程度であり、列方向Ｙに隣り合う隔壁３同士の間隔Ｔ３、すなわち凹部５の列方向Ｙの幅Ｔ３は、１０μｍ～２００μｍ程度である。また絶縁膜４に形成される開口６の行方向Ｘおよび列方向Ｙの幅は、それぞれ１０μｍ～４００μｍ程度である。

　（共通層を形成する工程）
　次に本実施形態では一方の電極１２上に共通層１４を形成する。本工程では、共通層１４となる材料を含む液柱状のインキを隔壁３により規定される所定の行に供給しつつ、インキが供給される位置を前記行方向に移動することによって、所定の行に共通層１４を塗布成膜する。すなわちいわゆるノズルプリンティング法によって共通層を形成する。

　ノズルプリンティング法ではいわゆる一筆書きで各行（凹部）にインキを供給する。例えば支持基板２の上方に配置されるノズルから液柱状のインキを吐出しつつ、ノズルを行方向Ｘに往復移動させるとともに、ノズルの往復移動の折り返しの際に、支持基板２を列方向に１行分（図１ではＰで示される間隔）だけ移動させることによって、各行にインキを順次供給する。

　具体的にはノズルから液柱状のインキを吐出したまま、（１）所定の行上において、行方向Ｘの一端から他端に向けてノズルを移動し（往路）、（２）支持基板２を列方向Ｙに１行分だけ移動させ（折り返し）、（３）所定の行上において、行方向Ｘの他端から一端に向けてノズルを移動し（復路）、（４）支持基板２を列方向Ｙに１行分だけ移動させ（折り返し）、これら（１）～（４）の動作をこの順序で繰り返すことによって、全ての行に順次インキを供給する。なお図５に示される例では、ノズルの往復移動の折り返しの際に、Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３の順で繰り返し支持基板２を列方向に移動させればよい。

　このように一筆書きで各行（凹部）にインキを供給することによって、各行に等しい量のインキが供給される。
　図１に示されるように、列方向に隣り合う隔壁３同士の間の面積それぞれは、隔壁３同士の間に設けられる有機ＥＬ素子１１の種類ごとに異なるため、各行に等しい量のインキが供給されると、これが固化した後の共通層１４の膜厚は隔壁３同士の間の面積に応じた値となる。すなわち隔壁３同士の間の面積が広いほど、隔壁３同士の間に形成される共通層１４の膜厚は薄くなる。逆に、隔壁３同士の間の面積が広いほど、隔壁３同士の間に形成される共通層１４の膜厚は厚くなる。そのため有機ＥＬ素子１１の種類ごとにインキを塗り分けることなく、有機ＥＬ素子２２の種類ごとに共通層１４の膜厚を異ならせることができる。

　共通層１４は、隔壁３同士の間に供給されたインキを固化することによって形成することができる。インキの固化は、例えば溶媒を除去することによって行うことができる。溶媒の除去は、自然乾燥、加熱乾燥および真空乾燥などによって行うことができる。また光や熱などのエネルギーを加えることによって重合する材料を含むインキを用いた場合、隔壁３同士の間にインキを供給した後に光や熱などのエネルギーを加えることによってインキを固化してもよい。

　本実施形態では１本のノズルを用いてインキを塗布する工程について説明したが、他の実施形態では１本に限らず複数本のノズルを用いてインキを塗布してもよい。また本実施形態では１層の共通層１４をノズルプリンティング法で形成したが、複数の共通層１４が１つの有機ＥＬ素子１１に設けられる場合には、複数ある共通層１４のうちの少なくとも１層の共通層１４を上述したノズルプリンティング法によって形成すればよく、また複数の共通層１４を上述したノズルプリンティング法によって形成してもよい。

　（発光層を形成する工程）
　前述したようにカラー表示装置に用いられる発光装置１を作製する場合、３種類の有機ＥＬ素子１１を作製するために、例えば発光層１５の材料を有機ＥＬ素子１１の種類に応じて塗り分ける必要がある。３種類の発光層１５を行ごとに形成するためには、赤色の光を放つ材料を含む赤インキ、緑色の光を放つ材料を含む緑インキ、青色の光を放つ材料を含む青インキを、それぞれ列方向Ｙに２行の間隔を開けて塗布する必要がある。例えば赤インキ、緑インキ、青インキを所定の行に順次塗布することによって各発光層１５を塗布成膜することができる。赤インキ、緑インキ、青インキを所定の行に順次塗布する方法としては、印刷法、インクジェット法、ノズルプリンティング法などの塗布法が挙げられる。例えば前述した共通層１４を形成する方法において、ノズルの往復移動の折り返しの際に、支持基板２を列方向に３行分（図１では３×Ｐで示される間隔）だけ移動させることによって、各行にインキを順次供給し、共通層１４を形成する方法と同様の方法で発光層１５を形成してもよい。

　発光層１５を形成した後、必要に応じて所定の有機層などを所定の方法によって形成する。
これらは印刷法、インクジェット法、ノズルプリンティング法などの所定の塗布法、さらには所定の乾式法を用いて形成してもよい。

　（一対の電極のうちの他方の電極を形成する工程）
　次に他方の電極１３を形成する。前述したように本実施形態では他方の電極１３を支持基板２上の全面に形成する。これによって複数の有機ＥＬ素子１１を基板上に形成することができる。

　以上説明したように、支持基板２の厚み方向の一方から見て、列方向に隣り合う隔壁３同士の間の面積それぞれを、隔壁３同士の間に設けられる有機ＥＬ素子１１の種類ごとに設定することによって、ノズルプリンティング法を用いて各行に等しい量のインキを供給したとしても、有機ＥＬ素子１１の種類ごとに共通層１４の膜厚を異ならせることができる。従来の技術では有機ＥＬ素子１１の種類ごとにインキを塗り分けて共通層１４の膜厚を調整していたところを、本発明では有機ＥＬ素子１１の種類ごとにインキを塗り分けることなく、有機ＥＬ素子１１の種類ごとに共通層１４の膜厚を異ならせることができるため、従来の技術に比べて工程数を削減することができる。

　また各隔壁３が、列方向に隣り合う隔壁３に対向する側面３ａが行方向に平らに延在しており、隔壁３同士の間隔を調整することによって、列方向に隣り合う隔壁３同士の間の面積それぞれが、隔壁３同士の間に設けられる有機ＥＬ素子１１の種類ごとに設定される場合（図１参照）、隔壁３の側面３ａが凹凸ではなく平らに形成される。このような側面３ａが平らな隔壁３同士の間に、塗布法によって薄膜を形成することにより平坦な膜（共通層１４および発光層１５など）を得ることができる。共通層１４または発光層１５を塗布法によって形成する際には、インキが徐々に乾燥して固化し、隔壁３の側面３ａに沿って膜が形成されるので、隔壁３の側面３ａは平らな方が、平坦な膜が得られるからである。

　また複数の有機ＥＬ素子１１が、有機ＥＬ素子１１の中心Ｃ同士の間隔が列方向に等しくなるように、所定の間隔をあけて配置される場合、ノズルプリンティング法では、有機ＥＬ素子１１の種類にかかわらず等間隔（図１ではＰで示される間隔）でインキを塗布することができるので、インキの塗布装置の構成およびその調整が容易になる。

　また前記支持基板２の厚み方向の一方から見て、列方向に隣り合う隔壁３同士の間の面積それぞれは、隔壁３同士の間に設けられる有機ＥＬ素子１１の共通層１４の膜厚が有機ＥＬ素子１１に光共振が生じる膜厚となるように設定されることが好ましい。光共振は一対の電極の間隔を調整することによって生じさせることができる。一対の電極の間隔は共通層１４の膜厚の調整によって調整することができる。すなわち共通層１４の膜厚を調整することによって光共振を生じさせることができる。

　なお本明細書において「光共振」とは、電極で反射される反射光と、発光層１５から放たれる光とが強め合う、または反射光同士が強め合うことによって、特定の波長の光強度を強める作用を意味する。そして光共振が生じるように共通層１４の膜厚を調整することによって、スペクトルを狭帯化するとともに、発光効率を向上させることができる。たとえば光共振は、電極によって反射されて発光層１５に戻ってくる光と、発光層１５から放たれる光との位相差が２π（ラジアン）の整数倍となるように、共通層１４の膜厚を調整すればよい。

　また前記支持基板２の厚み方向の一方から見て、列方向に隣り合う隔壁３同士の間の面積それぞれは、隔壁３同士の間に設けられる有機ＥＬ素子１１の発光波長が短いほど、広く設定されることが好ましい。以下、前述の実施形態に則して説明する。発光波長は、青色の光が最も短く、緑色の光が中間の長さであり、赤色の光が最も長い。そのため、青色の光を放つ有機ＥＬ素子１１Ｂ、緑色の光を放つ有機ＥＬ素子１１Ｇ、赤色の光を放つ有機ＥＬ素子１１Ｒがそれぞれ設けられる隔壁３同士の間の面積を、面積ＳＢ、面積ＳＧ、面積ＳＲとすると、「面積ＳＢ」＞「面積ＳＧ」＞「面積ＳＲ」の関係を満たす。

　共通層１４の膜厚は、隔壁３同士の間の面積とは逆に、面積が広いほど薄く、面積が狭いほど厚くなる。そのため、有機ＥＬ素子１１Ｂ、有機ＥＬ素子１１Ｇ、有機ＥＬ素子１１Ｒの各共通層１４の膜厚をそれぞれ、膜厚ＬＢ、膜厚ＬＧ、膜厚ＬＲとすると、「膜厚ＬＢ」＜「膜厚ＬＧ」＜「膜厚ＬＲ」の関係を満たす。

　そして光が共振するときの一対の電極の間隔は、離散的に存在するが、そのうちで最も狭い間隔は、発光波長が短いほど狭い。そのため光共振を生じさせるには、「膜厚ＬＢ」＜「膜厚ＬＧ」＜「膜厚ＬＲ」の関係を満たすことが好ましく、隔壁３同士の間に設けられる有機ＥＬ素子１１の発光波長が短いほど、隔壁３同士の間の面積を広く設定することによって、光が共振するときの一対の電極の間隔と発光波長との関係と同様に、有機ＥＬ素子１１の発光波長が短いほど、一対の電極の間隔を狭くすることができる。

　ｍ種類（記号「ｍ」は２以上の自然数を表す。）の有機ＥＬ素子１１のうちで最も素子寿命の短い有機ＥＬ素子１１が、行方向の幅が最も広い有機ＥＬ素子１１であることが好ましい。なお素子寿命とは、有機ＥＬ素子を定電流駆動したときに、輝度が駆動開始時から初期輝度の８０％に低下するまでに要した時間を意味する。

　他の実施形態として、ｍ種類（記号「ｍ」は２以上の自然数を表す。）の有機ＥＬ素子１１のうちで最も素子寿命の短い有機ＥＬ素子１１が、行方向の幅が最も広い有機ＥＬ素子である発光装置１を、図３に模式的に示す。

　前述したように、平面視における有機ＥＬ素子１１の列方向Ｙおよび行方向Ｘの幅は、発光する領域によって規定されるため、平面視における有機ＥＬ素子１１の列方向Ｙおよび行方向Ｘの幅は、それぞれ絶縁膜４の開口６の列方向Ｙおよび行方向Ｘの幅によって規定される。そのためｍ種類（記号「ｍ」は２以上の自然数を表す。）の有機ＥＬ素子１１のうちで最も素子寿命の短い有機ＥＬ素子１１が、絶縁膜４の開口６の列方向Ｙの幅が最も広くなるように設定すればよい。

　例えば青色の光を放つ有機ＥＬ素子１１Ｂの素子寿命が最も短く、緑色の光を放つ有機ＥＬ素子１１Ｇの素子寿命が次に短く、赤色の光を放つ有機ＥＬ素子１１Ｒの素子寿命が最も長い場合、青色の光を放つ有機ＥＬ素子１１Ｂの列方向Ｙの幅を最も長く、緑色の光を放つ有機ＥＬ素子１１Ｇの列方向Ｙの幅を次に長く、赤色の光を放つ有機ＥＬ素子１１Ｒの列方向Ｙの幅を最も短くすればよい。

　このように有機ＥＬ素子１１の幅を規定することによって、素子寿命が短い有機ＥＬ素子１１ほどその発光面積を大きくし、単位面積当たりの発光量を低減することによって、駆動時の負荷を低減することができる。これによって発光面積が同一であれば素子寿命が短い有機ＥＬ素子の素子寿命を、他の有機ＥＬ素子の素子寿命に合わせて長くすることができる。

　特に発光波長の短い有機ＥＬ素子ほど素子寿命が短い傾向にあるため、列方向に隣り合う隔壁３同士の間の面積それぞれを、隔壁３同士の間に設けられる有機ＥＬ素子１１の発光波長が短いほど、広く設定するとともにｍ種類（記号「ｍ」は２以上の自然数を表す。）の有機ＥＬ素子１１のうちで最も素子寿命の短い有機ＥＬ素子を、その行方向の幅が最も広い有機ＥＬ素子とすることができ、光共振を生じさせるとともに、発光面積が同一であれば素子寿命が短い有機ＥＬ素子の素子寿命を、他の有機ＥＬ素子の素子寿命に合わせて長くすることができる。

　またさらに他の実施形態では、各有機ＥＬ素子１１は、複数の共通層１４を有し、各有機ＥＬ素子１１の全ての共通層１４の膜厚が前記厚み方向の一方から見た隔壁３同士間の面積に応じて設定されることが好ましい。従来の技術としては、電極間に設けられる所定の一層の膜厚を調整することによって、一対の電極間の距離を調整する方法が知られている。

　本実施形態では、列方向に隣り合う隔壁３同士の間の面積それぞれを、隔壁３同士の間に設けられる有機ＥＬ素子１１の種類ごとに設定することによって、各有機ＥＬ素子１１の全ての共通層１４の膜厚を、有機ＥＬ素子１１の種類ごとに調整することができる。
　このように複数の共通層１４を全て少しずつ調整することによって、所定の一層の膜厚のみを調整する従来の技術に比べて、各共通層１４の膜厚の調整量を少なくすることができる。これによって、共通層１４の膜厚を調整することに起因する素子特性への影響を抑制することができる。

　また他の実施形態では、隔壁３同士の間に設けられる有機ＥＬ素子の種類に応じて、行方向に沿って隔壁３同士の間隔の広狭（大きさ）が変化するようにしてもよい。他の実施形態の一例として、隔壁同士の間に設けられる有機ＥＬ素子の種類に応じて、行方向に沿って隔壁同士の間隔の広狭が変化する発光装置１を模式的に表す平面図を図４に示す。

　図４に示されるように、本実施形態では隔壁３の側面３ａに行方向Ｘに沿って、隔壁３から露出する面（支持基板）の面積を変化させる凹凸（凸部）を形成する。例えば平面視における各凸部の大小を、有機ＥＬ素子１１の種類ごとに設定することによって、列方向に隣り合う隔壁３同士間の面積それぞれを、隔壁３同士の間に設けられる有機ＥＬ素子１１の種類ごとに設定することができる。具体的には平面視で、隔壁３同士の間の面積を小さくする場合には、各凸部の平面視における面積を大きくし、隔壁３同士の間の面積を大きくする場合には、各凸部の平面視における面積を小さくすればよい。

　なお図４では、所定の行に臨む一対の隔壁３の側面３ａの両方に、凹凸を形成しているが、凹凸は、一対の隔壁３の側面３ａの一方のみに設けてもよい。また全ての隔壁３の側面３ａに凹凸を形成してもよい。さらには図４に示されるように、所定の行に臨む一対の隔壁３の側面３ａの両方が平坦な隔壁３を設けてもよい。

　また平面視で、列方向Ｙの一方に隣り合う隔壁３に向けて突出する凸部は、例えば行方向Ｘに隣り合う有機ＥＬ素子１１と有機ＥＬ素子１１との間に設けることが好ましい。隔壁３に凸部を設けることによって有機ＥＬ素子１１の設けられる領域が制限されることもありうるが、行方向Ｘに隣り合う有機ＥＬ素子１１同士の間に位置するように凸部を設けることによって、有機ＥＬ素子１１の設けられる面積が制限されることを可能な範囲で抑制することができ、結果として開口率の低下を抑制することができる。

　以上の実施形態では２以上の自然数を表す記号「ｍ」が、数値「３」を表すものとして説明したが、ｍは２でも４以上でもよい。例えばｍ＝４とした場合に、光の３原色である赤、緑、青の光に加えて、赤、緑、青の３色のうちの１色ではあるが、スペクトルが他の１色と少し異なる色の光を放つ有機ＥＬ素子を設けてもよい。

　具体的には赤色、緑色の光を放つ有機ＥＬ素子に加えて、深い青色、浅い青色の光を放つ有機ＥＬ素子を設けてもよい。すなわち同じ青色ではあってもスペクトルが互いに異なる深い青色、浅い青色の光を放つ２種類の有機ＥＬ素子を設けてもよい。

　この場合、青色の光を放つ有機ＥＬ素子を２種類設けることになるが、その構成としては以下のものが考えられる。
（１）種類が互いに異なる青色材料を用いて形成された種類の異なる発光層を有する２種類の有機ＥＬ素子
（２）同じ青色材料から形成された種類の同じ発光層を有するが、共通層の膜厚が互いに異なる２種類の有機ＥＬ素子

　（２）の有機ＥＬ素子は、共通層の膜厚が互いに異なるため、共振周波数が異なり、結果として出射する光のスペクトルが互いに異なる。

　例えば同じ青であっても、深い青色の光を放つ有機ＥＬ素子と、浅い青色の光を放つ有機ＥＬ素子とで、発光効率や素子寿命などの素子特性に差がある場合がある。この場合には、通常の発光では、深い青色および浅い青色のうちで、素子特性の高い一方の青色の有機ＥＬ素子を発光させておき、特に他方の青色が必要となるときにのみ、素子特性の低い他方の青色の有機ＥＬ素子を発光させてもよい。

　＜有機ＥＬ素子の構成＞
　以下、有機ＥＬ素子１１の構成について説明する。前述したように有機ＥＬ素子１１には種々の層構成がある。以下では有機ＥＬ素子１１の層構造、各層の構成、および各層の形成方法の一例について説明する。

　有機ＥＬ素子１１は、一対の電極と、該一対の電極間に配置される発光層１５が設けられる。陽極と陰極との間には、発光層に限らずに、発光層とは異なる有機層が設けられてもよく、さらには発光層とは異なる無機層が設けられる場合もある。発光層とは異なる層として、本実施形態ではｍ種類の有機ＥＬ素子１１に共通する共通層１４が一対の電極間に設けられる。

　有機層を構成する有機物としては、低分子化合物でも高分子化合物でもよく、また低分子化合物と高分子化合物との混合物でもよいが、高分子化合物が好ましく、ポリスチレン換算の数平均分子量が１０^３～１０^８である高分子化合物が好ましい。

　有機層を塗布法によって形成する場合には、一般的に高分子化合物は低分子化合物に比べて溶媒への溶解性が良好なため、溶媒への溶解性が良好な高分子化合物が好ましい。

　陰極と発光層との間に設けられる層としては、電子注入層、電子輸送層、正孔ブロック層などを挙げることができる。陰極と発光層との間に電子注入層と電子輸送層との両方の層が設けられる場合、陰極に近い層を電子注入層といい、発光層に近い層を電子輸送層という。

　陽極と発光層との間に設けられる層としては、正孔注入層、正孔輸送層、電子ブロック層などを挙げることができる。正孔注入層と正孔輸送層との両方の層が設けられる場合、陽極に近い層を正孔注入層といい、発光層に近い層を正孔輸送層という。

　これら陰極と発光層との間に設けられる層、および陽極と発光層との間に設けられる層は、共通層として、全ての有機ＥＬ素子に共通して設けることができる。なおこれら共通層のうちで塗布法によって形成することができる共通層は、前述した本発明の液柱状のインキを塗布する方法によって形成することが好ましい。

　有機ＥＬ素子１１の素子構成の一例を以下に示す。
ａ）陽極／発光層／陰極
ｂ）陽極／正孔注入層／発光層／陰極
ｃ）陽極／正孔注入層／発光層／電子注入層／陰極
ｄ）陽極／正孔注入層／発光層／電子輸送層／陰極
ｅ）陽極／正孔注入層／発光層／電子輸送層／電子注入層／陰極
ｆ）陽極／正孔輸送層／発光層／陰極
ｇ）陽極／正孔輸送層／発光層／電子注入層／陰極
ｈ）陽極／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／陰極
ｉ）陽極／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／電子注入層／陰極
ｊ）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／陰極
ｋ）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子注入層／陰極
ｌ）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／陰極
ｍ）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／電子注入層／陰極
ｎ）陽極／発光層／電子注入層／陰極
ｏ）陽極／発光層／電子輸送層／陰極
ｐ）陽極／発光層／電子輸送層／電子注入層／陰極
　記号「／」は記号「／」を挟む各層が互いに隣接して積層されていることを示している。以下の記載においても同じである。
　さらに有機ＥＬ素子１１は、２層以上の発光層を有していてもよく、また２層以上の発光層を有し、電荷を発生する電荷発生層を隣り合う発光層間に介在させたいわゆるマルチフォトン型の有機ＥＬ素子を構成してもよい。

　有機ＥＬ素子１１は、封止のための封止膜または封止板などの封止部材でさらに覆われていてもよい。

　本実施形態の有機ＥＬ素子１１は、電極との密着性向上、電極からの電荷注入性の改善のために、電極に隣接して膜厚が２ｎｍ以下である絶縁層をさらに設けてもよい。また界面での密着性向上、混合の防止などのために、前述した各層間に薄いバッファー層を挿入してもよい。

　積層する層の順序、層数、および各層の厚さについては、発光効率、素子寿命を勘案して適宜設定することができる。また有機ＥＬ素子は、陽極および陰極のうちで、陽極を支持基板寄りに配置し、陰極を支持基板から離間した位置に配置してもよく、また逆に陰極を支持基板寄りに配置し、陽極を支持基板から離間した位置に配置してもよい。具体的には上記ａ）～ｐ）の構成において、左側の層から順に支持基板に各層を積層してもよく、逆に右側の層から順に支持基板に各層を積層してもよい。

　次に有機ＥＬ素子１１を構成する各層の材料および形成方法についてより具体的に説明する。

　＜支持基板＞
　支持基板２には例えばガラス、プラスチック、およびシリコン基板、並びにこれらを積層したものなどが用いられる。また有機ＥＬ素子１１をその上に形成するための支持基板２として、予め電気回路が形成された基板を用いてもよい。なおボトムエミッション型の有機ＥＬ素子を搭載する場合、支持基板２としては光透過性を示す部材が用いられる。

　＜陽極＞
　発光層１５から放たれる光が陽極を通って出射する構成の有機ＥＬ素子の場合、陽極には光透過性を示す電極が用いられる。光透過性を示す電極としては、電気伝導度の高い金属酸化物、金属硫化物および金属などの薄膜を用いることができ、光透過率の高いものが好適に用いられる。

　具体的には酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）、金、白金、銀、および銅などから成る薄膜が用いられ、これらの中でもＩＴＯ、ＩＺＯ、または酸化スズから成る薄膜が好適に用いられる。陽極の作製方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、メッキ法などを挙げることができる。また陽極として、ポリアニリンもしくはその誘導体、ポリチオフェンもしくはその誘導体などの有機の透明導電膜を用いてもよい。

　陽極には、光を反射する材料を用いてもよい。光を反射する材料としては、仕事関数３．０ｅＶ以上の金属、金属酸化物、金属硫化物が好ましい。

　陽極の膜厚は、光の透過性と電気伝導度とを考慮して、適宜選択することができる。陽極の膜厚は、例えば１０ｎｍ～１０μｍであり、好ましくは２０ｎｍ～１μｍであり、さらに好ましくは５０ｎｍ～５００ｎｍである。

　＜正孔注入層＞
　正孔注入層を構成する正孔注入材料としては、酸化バナジウム、酸化モリブデン、酸化ルテニウム、および酸化アルミニウムなどの酸化物、フェニルアミン化合物、スターバースト型アミン化合物、フタロシアニン化合物、アモルファスカーボン、ポリアニリン、およびポリチオフェン誘導体などを挙げることができる。

　正孔注入層の成膜方法としては、例えば正孔注入材料を含む溶液からの成膜を挙げることができる。溶液からの成膜に用いられる溶液の溶媒としては、正孔注入材料を溶解させるものであれば特に制限はなく、例えば、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタンなどの塩素溶媒、テトラヒドロフランなどのエーテル溶媒、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素溶媒、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチルセルソルブアセテートなどのエステル溶媒、および水を挙げることができる。

　溶液からの成膜方法としては、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイアーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、インクジェットプリント法、ノズルプリンティング法などの塗布法を挙げることができ、正孔注入層は、上述したノズルプリンティング法によって形成することが好ましい。

　正孔注入層の膜厚は、電気的な特性や成膜の容易性などを勘案して適宜設定される。正孔注入層の膜厚は、例えば１ｎｍ～１μｍであり、好ましくは２ｎｍ～５００ｎｍであり、さらに好ましくは５ｎｍ～２００ｎｍである。

　＜正孔輸送層＞
　正孔輸送層を構成する正孔輸送材料としては、ポリビニルカルバゾール若しくはその誘導体、ポリシラン若しくはその誘導体、側鎖若しくは主鎖に芳香族アミンを有するポリシロキサン誘導体、ピラゾリン誘導体、アリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、トリフェニルジアミン誘導体、ポリアニリン若しくはその誘導体、ポリチオフェン若しくはその誘導体、ポリアリールアミン若しくはその誘導体、ポリピロール若しくはその誘導体、ポリ（ｐ－フェニレンビニレン）若しくはその誘導体、又はポリ（２，５－チエニレンビニレン）若しくはその誘導体などを挙げることができる。

　これらの中で正孔輸送材料としては、ポリビニルカルバゾール若しくはその誘導体、ポリシラン若しくはその誘導体、側鎖若しくは主鎖に芳香族アミン化合物基を有するポリシロキサン誘導体、ポリアニリン若しくはその誘導体、ポリチオフェン若しくはその誘導体、ポリアリールアミン若しくはその誘導体、ポリ（ｐ－フェニレンビニレン）若しくはその誘導体、又はポリ（２，５－チエニレンビニレン）若しくはその誘導体などの高分子正孔輸送材料が好ましく、さらに好ましくはポリビニルカルバゾール若しくはその誘導体、ポリシラン若しくはその誘導体、側鎖若しくは主鎖に芳香族アミンを有するポリシロキサン誘導体である。低分子の正孔輸送材料の場合には、高分子バインダーに分散させて用いることが好ましい。

　正孔輸送層の成膜方法には、特に制限はない。低分子の正孔輸送材料を用いる場合には、高分子バインダーと正孔輸送材料とを含む混合液からの成膜を挙げることができ、高分子の正孔輸送材料を用いる場合には、正孔輸送材料を含む溶液からの成膜を挙げることができる。

　溶液からの成膜に用いられる溶液の溶媒としては、正孔輸送材料を溶解させるものであれば特に制限はなく、例えば正孔注入層を溶液から成膜する際に用いられる溶液の溶媒として例示したものを用いることができる。

　溶液からの成膜方法としては、前述した正孔注入層の成膜法と同様の塗布法を挙げることができ、正孔輸送層は、上述したノズルプリンティング法によって形成することが好ましい。

　混合する高分子バインダーとしては、電荷輸送を極度に阻害しないものが好ましく、また可視光に対する吸収の弱いものが好適に用いられ、例えばポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリシロキサンなどを挙げることができる。

　正孔輸送層の膜厚は、電気的な特性、成膜の容易性などを勘案して適宜設定される。正孔輸送層の膜厚は、例えば１ｎｍ～１μｍであり、好ましくは２ｎｍ～５００ｎｍであり、さらに好ましくは５ｎｍ～２００ｎｍである。

　＜発光層＞
　発光層１５は通常、主として蛍光及び／又はりん光を発光する有機物、またはこの有機物とこれを補助するドーパントとから形成される。ドーパントは、例えば発光効率を向上させ、発光波長を変化させるために加えられる。なお有機物は、低分子化合物でも高分子化合物でもよく、発光層１５は、ポリスチレン換算の数平均分子量が、１０^３～１０^８である高分子化合物を含むことが好ましい。発光層１５を構成する発光材料としては、例えば以下の色素材料、金属錯体材料、高分子材料、ドーパント材料を挙げることができる。

　（色素材料）
　色素材料としては、例えば、シクロペンダミン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体化合物、トリフェニルアミン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ピラゾロキノリン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアリーレン誘導体、ピロール誘導体、チオフェン環化合物、ピリジン環化合物、ペリノン誘導体、ペリレン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、オキサジアゾールダイマー、ピラゾリンダイマー、キナクリドン誘導体、クマリン誘導体などを挙げることができる。

　（金属錯体材料）
　金属錯体材料としては、例えばＴｂ、Ｅｕ、Ｄｙなどの希土類金属、またはＡｌ、Ｚｎ、Ｂｅ、Ｉｒ、Ｐｔなどを中心金属に有し、オキサジアゾール、チアジアゾール、フェニルピリジン、フェニルベンゾイミダゾール、キノリン構造などを配位子に有する金属錯体を挙げることができ、例えばイリジウム錯体、白金錯体などの三重項励起状態からの発光を有する金属錯体、アルミニウムキノリノール錯体、ベンゾキノリノールベリリウム錯体、ベンゾオキサゾリル亜鉛錯体、ベンゾチアゾール亜鉛錯体、アゾメチル亜鉛錯体、ポルフィリン亜鉛錯体、フェナントロリンユーロピウム錯体などを挙げることができる。

　（高分子材料）
　高分子材料の例としては、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリシラン誘導体、ポリアセチレン誘導体、ポリフルオレン誘導体、ポリビニルカルバゾール誘導体、上記色素材料、金属錯体発光材料を高分子化したものなどを挙げることができる。

　上記発光性材料のうち、青色に発光する材料としては、ジスチリルアリーレン誘導体、オキサジアゾール誘導体、およびそれらの重合体、ポリビニルカルバゾール誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体などを挙げることができる。なかでも高分子材料のポリビニルカルバゾール誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体などが好ましい。

　また緑色に発光する材料の例としては、キナクリドン誘導体、クマリン誘導体、およびそれらの重合体、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体などを挙げることができる。なかでも高分子材料のポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体などが好ましい。

　また赤色に発光する材料の例としては、クマリン誘導体、チオフェン環化合物、およびそれらの重合体、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリフルオレン誘導体などを挙げることができる。なかでも高分子材料のポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリフルオレン誘導体などが好ましい。

　（ドーパント材料）
　ドーパント材料としては、例えばペリレン誘導体、クマリン誘導体、ルブレン誘導体、キナクリドン誘導体、スクアリウム誘導体、ポルフィリン誘導体、スチリル色素、テトラセン誘導体、ピラゾロン誘導体、デカシクレン、フェノキサゾンなどを挙げることができる。なお、このような発光層の厚さは、通常約２ｎｍ～２００ｎｍである。

　発光材料の成膜方法の例としては、印刷法、インクジェットプリント法、ノズルプリンティング法などを挙げることができる。たとえば上述したようにノズルプリンティング法によってｍ種類の色ごとにインキを塗り分けることができる。

　＜電子輸送層＞
　電子輸送層を構成する電子輸送材料としては、公知の電子輸送材料を使用できる。電子輸送材料の例としては、オキサジアゾール誘導体、アントラキノジメタン若しくはその誘導体、ベンゾキノン若しくはその誘導体、ナフトキノン若しくはその誘導体、アントラキノン若しくはその誘導体、テトラシアノアンスラキノジメタン若しくはその誘導体、フルオレノン誘導体、ジフェニルジシアノエチレン若しくはその誘導体、ジフェノキノン誘導体、又は８－ヒドロキシキノリン若しくはその誘導体の金属錯体、ポリキノリン若しくはその誘導体、ポリキノキサリン若しくはその誘導体、ポリフルオレン若しくはその誘導体などを挙げることができる。

　これらのうち、電子輸送材料としては、オキサジアゾール誘導体、ベンゾキノン若しくはその誘導体、アントラキノン若しくはその誘導体、又は８－ヒドロキシキノリン若しくはその誘導体の金属錯体、ポリキノリン若しくはその誘導体、ポリキノキサリン若しくはその誘導体、ポリフルオレン若しくはその誘導体が好ましく、２－（４－ビフェニリル）－５－（４－ｔ－ブチルフェニル）－１，３，４－オキサジアゾール、ベンゾキノン、アントラキノン、トリス（８－キノリノール）アルミニウム、ポリキノリンがさらに好ましい。

　電子輸送層の成膜法としては特に制限はない。低分子の電子輸送材料を用いる場合には、粉末からの真空蒸着法、または溶液若しくは溶融状態からの成膜を挙げることができ、高分子の電子輸送材料を用いる場合には、溶液または溶融状態からの成膜を挙げることができる。なお溶液または溶融状態からの成膜する場合には、高分子バインダーを併用してもよい。溶液からの成膜方法としては、前述した正孔注入層の成膜法と同様の塗布法を挙げることができる。

　電子輸送層の膜厚は、電気的な特性や成膜の容易性などを勘案して適宜設定される。電子輸送層の膜厚は、例えば１ｎｍ～１μｍであり、好ましくは２ｎｍ～５００ｎｍであり、さらに好ましくは５ｎｍ～２００ｎｍである。

　＜電子注入層＞
　電子注入層を構成する材料としては、発光層１５の種類に応じて最適な材料が適宜選択される。電子注入層を構成する材料の例としては、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アルカリ金属およびアルカリ土類金属のうちの１種類以上含む合金、アルカリ金属若しくはアルカリ土類金属の酸化物、ハロゲン化物、炭酸塩、またはこれらの物質の混合物などを挙げることができる。アルカリ金属、アルカリ金属の酸化物、ハロゲン化物、および炭酸塩の例としては、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、酸化リチウム、フッ化リチウム、酸化ナトリウム、フッ化ナトリウム、酸化カリウム、フッ化カリウム、酸化ルビジウム、フッ化ルビジウム、酸化セシウム、フッ化セシウム、炭酸リチウムなどを挙げることができる。また、アルカリ土類金属、アルカリ土類金属の酸化物、ハロゲン化物、炭酸塩の例としては、マグネシウム、カルシウム、バリウム、ストロンチウム、酸化マグネシウム、フッ化マグネシウム、酸化カルシウム、フッ化カルシウム、酸化バリウム、フッ化バリウム、酸化ストロンチウム、フッ化ストロンチウム、炭酸マグネシウムなどを挙げることができる。電子注入層は、２層以上を積層した積層体で構成されてもよく、例えばＬｉＦ膜及びＣａ膜の積層体などを挙げることができる。電子注入層は、蒸着法、スパッタリング法、印刷法などにより形成される。電子注入層の膜厚としては、１ｎｍ～１μｍ程度が好ましい。

　＜陰極＞
　陰極の材料としては、仕事関数が小さく、発光層１５への電子注入が容易で、電気伝導度が高い材料が好ましい。また陽極側から光を取出す有機ＥＬ素子では、発光層からの光を陰極で陽極側に反射するために、陰極の材料としては可視光反射率の高い材料が好ましい。

　陰極の材料には、例えばアルカリ金属、アルカリ土類金属、遷移金属および周期表１３族金属などを用いることができる。
　陰極の材料としては、例えばリチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、アルミニウム、スカンジウム、バナジウム、亜鉛、イットリウム、インジウム、セリウム、サマリウム、ユーロピウム、テルビウム、イッテルビウムなどの金属、前記金属のうちの２種以上の合金、前記金属のうちの１種以上と、金、銀、白金、銅、マンガン、チタン、コバルト、ニッケル、タングステン、錫のうちの１種以上との合金、またはグラファイト若しくはグラファイト層間化合物などが用いられる。合金の例としては、マグネシウム－銀合金、マグネシウム－インジウム合金、マグネシウム－アルミニウム合金、インジウム－銀合金、リチウム－アルミニウム合金、リチウム－マグネシウム合金、リチウム－インジウム合金、カルシウム－アルミニウム合金などを挙げることができる。

　また、陰極としては導電性金属酸化物および導電性有機物などから成る透明導電性電極を用いることができる。具体的には、導電性金属酸化物の例として酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ、ＩＴＯ、およびＩＺＯを挙げることができ、導電性有機物の例としてポリアニリンもしくはその誘導体、ポリチオフェンもしくはその誘導体などを挙げることができる。なお、陰極は、２層以上を積層した積層体で構成されていてもよい。なお、電子注入層が陰極として用いられる場合もある。

　陰極の膜厚は、電気伝導度、耐久性を考慮して適宜設定される。陰極の膜厚は、例えば１０ｎｍ～１０μｍであり、好ましくは２０ｎｍ～１μｍであり、さらに好ましくは５０ｎｍ～５００ｎｍである。

　陰極の作製方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、また金属薄膜を熱圧着するラミネート法などを挙げることができる。

　＜絶縁層＞
　絶縁層の材料の例としては、金属フッ化物、金属酸化物、有機絶縁材料などを挙げることができる。膜厚が２ｎｍ以下である絶縁層を設けた有機ＥＬ素子としては、陰極に隣接して膜厚が２ｎｍ以下である絶縁層を設けたもの、陽極に隣接して膜厚が２ｎｍ以下である絶縁層を設けたものを挙げることができる。

　１　発光装置
　２　支持基板
　３　隔壁
　３ａ　側面
　４　絶縁膜
　５　凹部
　６　開口
　１１　有機ＥＬ素子
　１２　一方の電極
　１３　他方の電極
　１４　共通層
　１５　発光層

Claims (9)

1. 　支持基板と、
   　この支持基板上に設けられ、支持基板上において、所定の列方向に所定の間隔を開けて、前記列方向とは方向が異なる行方向に延びる複数本の隔壁と、
   　列方向に隣り合う隔壁同士の間それぞれにおいて行方向に所定の間隔を開けて設けられる、複数の有機エレクトロルミネッセンス素子と、を含む発光装置であって、
   　前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子は、それぞれ互いに異なる色の光を放つ２種類以上の有機エレクトロルミネッセンス素子に分類され、それぞれが、全ての種類の有機エレクトロルミネッセンス素子に共通して設けられる共通層と、該共通層を間に介在させて配置される一対の電極とを有し、
   　前記支持基板の厚み方向の一方から見て、列方向に隣り合う隔壁同士の間の面積それぞれは、隔壁同士の間に設けられる有機エレクトロルミネッセンス素子の種類ごとに設定され、
   　各有機エレクトロルミネッセンス素子の共通層の膜厚は、前記厚み方向の一方から見た隔壁同士の間の面積に応じて設定される、発光装置。
2. 　前記２種類以上の複数の有機エレクトロルミネッセンス素子は、
   　　行方向には、所定の間隔を開けて同じ種類の有機エレクトロルミネッセンス素子が設けられ、
   　　列方向には、前記２種類以上の有機エレクトロルミネッセンス素子を全種類順列させた所定の並びが、列方向に連続するように反復して並ぶように設けられている、請求項１記載の発光装置。
3. 　各隔壁は、列方向に隣り合う隔壁に対向する側面が行方向に平らに延在しており、
   　列方向に隣り合う隔壁同士の間隔それぞれは、隔壁同士の間に設けられる有機エレクトロルミネッセンス素子の種類ごとに設定される、請求項１記載の発光装置。
4. 　前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子は、列方向には、有機エレクトロルミネッセンス素子の中心同士の間隔が等しくなるように、所定の間隔をあけて配置される、請求項１記載の発光装置。
5. 　列方向に隣り合う隔壁同士の間隔それぞれは、隔壁同士の間に設けられる有機エレクトロルミネッセンス素子の種類に応じて、行方向に沿ってその広狭が変化するように設定される、請求項１記載の発光装置。
6. 　前記支持基板の厚み方向の一方から見て、列方向に隣り合う隔壁同士の間の面積は、隔壁同士の間に設けられる有機エレクトロルミネッセンス素子の共通層の膜厚が、有機エレクトロルミネッセンス素子に光共振が生じる膜厚となるように設定される、請求項１記載の発光装置。
7. 　前記支持基板の厚み方向の一方から見て、列方向に隣り合う隔壁同士の間の面積それぞれは、隔壁同士の間に設けられる有機エレクトロルミネッセンス素子の発光波長が短いほど、広く設定される、請求項１記載の発光装置。
8. 　前記有機エレクトロルミネッセンス素子は、２種類以上の有機エレクトロルミネッセンス素子のうちで最も素子寿命の短い有機エレクトロルミネッセンス素子の行方向の幅が、最も広くなるように設定される、請求項１記載の発光装置。
9. 　各有機エレクトロルミネッセンス素子は、複数の共通層を有し、
   　各有機エレクトロルミネッセンス素子の全ての共通層の膜厚は、前記厚み方向の一方から見た隔壁同士の間の面積に応じて設定される、請求項１記載の発光装置。

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