WO2011059213A2 - 입체무늬 금속박막 제조방법 - Google Patents

입체무늬 금속박막 제조방법 Download PDF

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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
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    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
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    • C25D5/02—Electroplating of selected surface areas
    • C25D5/022—Electroplating of selected surface areas using masking means

Definitions

  • the present invention relates to a method for manufacturing a three-dimensional pattern metal thin film, specifically, a metal mold which is widely used as an interior and exterior material for industrial use such as exterior material, elevator interior material, cruise ship interior material, metal wall paper, etc. It relates to a three-dimensional pattern metal thin film manufacturing method capable of repeatedly producing a metal thin film having a three-dimensional pattern of a fine pattern by pre-plating the master mold.
  • rollers are stamped on metal surfaces using rolling rollers carved with mechanical patterns on stainless steel plates.
  • etching method in which a photoresist is applied to a stainless steel plate or a stainless steel sheet and then etched after exposure and development processes to form a pattern.
  • Photoresist is a polymer material that is widely used as a photocuring surface curing agent, and is a polymer composition system in which chemical properties of a molecular structure occur and physical properties change.
  • Another method is to manufacture a plate formed with a pattern on the metal by applying a method such as laser, scratching, hairline, sanding method, etc.
  • a method such as laser, scratching, hairline, sanding method, etc.
  • a number of manufacturing processes are involved, so Falls, is not environmentally friendly and also leads to an increase in manufacturing costs.
  • a fine pattern line width 20 ⁇ m or less
  • the present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and can represent a variety of images on the surface of the metal thin film, as well as the implementation of a fine pattern (line width of 20 ⁇ m or less) difficult to implement in the existing process is possible on the metal surface
  • a fine pattern line width of 20 ⁇ m or less
  • a photoresist is applied to a surface of a plate to be a substrate, a photomask is raised and exposed, followed by electroplating to produce a flat mold having a fine pattern of three-dimensional patterns grown.
  • a master mold for repetitive production of a three-dimensional pattern metal thin film;
  • B mounting the master mold to the electroplating tank;
  • C pre-plating the mounted master mold to grow into a three-dimensional pattern metal layer;
  • D separating the grown metal layer from the master mold;
  • E drying the separated metal layer;
  • F resin coating the dried metal layer.
  • the present invention can be represented on the metal surface is difficult to express the pattern can be produced in a variety of designs desired by the metal thin film, and the thickness of the thin film is easy to adjust according to the product group applied to the metal thin film having a three-dimensional pattern by electroplating As a result, the metal mold may be repeatedly produced by the master mold, thereby reducing the manufacturing process and the production cost.
  • FIG. 1 is a manufacturing process diagram for a method of manufacturing a three-dimensional pattern metal thin film according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a photomask for forming a three-dimensional pattern of a fine pattern in a flat metal mold.
  • 3 is a three-dimensional pattern fine pattern shape formed on a substrate.
  • Figure 4 is a three-dimensional metal film shape produced by the master mold.
  • the present invention is characterized by producing a metal thin film by growing the metal layer having a three-dimensional pattern by repeatedly pre-plating using a master mold formed with a three-dimensional pattern, unlike the conventional rolling roller, etching method, laser processing method such as have.
  • FIG. 1 is a process chart showing a three-dimensional pattern metal thin film manufacturing method according to an embodiment of the present invention.
  • a photoresist is applied to a surface of a plate S10 serving as a substrate (S20) to form a flat metal mold on which a fine pattern of a three-dimensional pattern is formed.
  • S30 is then exposed (S40) and then electroplated (S50) to produce a mold having a three-dimensional pattern formed with a fine pattern (S60).
  • the fine pattern corresponds to a metal layer grown through electroplating (A30), which will be described later, and may be modified into various shapes, not limited to existing shapes.
  • the plate mold (S60) can be produced in an area of a few meters, it can be produced a large area metal thin film and can be used repeatedly to use as a master mold (S60) to improve the mass productivity of the metal thin film. do.
  • the material for the substrate of the flat metal mold S60 may be a substrate made of various materials such as a stainless steel plate SUS, a copper metal plate, a nickel metal plate, a plastic to which conductivity is applied, and glass.
  • the photoresist After forming a negative photoresist layer or a positive photoresist layer on the surface of the plate, the negative layer or the positive layer is removed using a photo mask.
  • the master mold (S60) is electroplated to be mounted on a pole tank that can produce a three-dimensional metal thin film to grow a metal layer.
  • a release layer may be further formed on the surface of the master mold for easy separation from the metal layer grown through electroplating.
  • the plating liquid in the electroplating process (A30) may be a variety of metal materials such as copper, gold, silver, nickel, nickel-cobalt, invar.
  • the gold plating layer may be first grown on the surface of the flat metal mold (master mold), and the metal layer having the double plating layer structure may be grown by pre-plating with any one of copper, nickel, nickel-cobalt, and invar.
  • the metal layer A40 grown through electroplating is separated (A50) from the master and then subjected to a resin coating (A70) through a drying step (A60) to produce a three-dimensional metal thin film.
  • the thickness of the metal thin film has a thickness of several tens of micrometers according to the product family in which the metal thin film is used.
  • FIG. 2 is a photomask photograph for forming a fine pattern of a three-dimensional pattern on a flat metal mold
  • FIG. 3 is a photograph of a three-dimensional pattern micropattern formed on a substrate
  • FIG. 4 is a three-dimensional pattern of a metal thin film manufactured by a master mold. It is a photograph.

Abstract

본 발명은 미세한 입체무늬가 형성되어 있는 입체 금속박막을 제조하는 방법에 관한 것으로, (A) 기판이 되는 판재의 표면에 포토레지스트를 도포하고 포토 마스크를 올려 노광한 후 전주도금하여 입체무늬의 미세패턴이 성장된 평판 금형을 제작하고 이를 입체무늬 금속박막의 반복적 생산을 위해 마스터 금형으로 사용하는 단계; (B) 상기 마스터 금형을 전주도금 탱크에 장착하는 단계; (C) 장착된 마스터 금형을 전주도금하여 입체무늬 형상의 금속층으로 성장시키는 단계; (D) 상기 성장된 금속층을 상기 마스터 금형으로부터 분리하는 단계; (E) 상기 분리된 금속층을 건조시키는 단계; 및 (F) 상기 건조된 금속층을 수지코팅하는 단계;를 포함하여 제조한다. 따라서, 본 발명에 의하면 금속표면이 경면박막을 가지는 것과 함께 입체감과 미려함을 극대화할 수 있어 산업용 내외장재로 활용하여 적용되는 제품의 가치를 높일 수 있는 입체 금속박막을 제공할 수 있다.

Description

입체무늬 금속박막 제조방법
본 발명은 입체무늬 금속박막 제조방법에 관한 것으로, 구체적으로는 가전제품의 외장재, 엘리베이터 내장재, 크루즈선 내장재, 금속벽지 등 산업용 내외장재로 널리 활용할 수 있는 금속박막을 입체무늬가 형성된 평판금형을 마스터 금형으로 하고 그 마스터 금형을 전주도금 하여 미세한 패턴의 입체무늬 형상을 가지는 금속박막을 반복적으로 제조할 수 있는 입체무늬 금속박막 제조방법에 관한 것이다.
기존에는 냉장고나 세탁기와 같은 가전제품의 외장재, 엘리베이터 내장재, 건축물의 외장재, 크루즈선의 실내 장식재 및 금속벽지로 사용하기 위해서는 스테인리스 판재에 기계적 무늬를 조각한 압연롤러를 이용하여 금속표면에 각인시키는 압연롤러 방식이나 스테인리스 판재에 포토레지스트를 도포하고 노광 및 현상 공정 후 에칭을 하여 무늬를 형성하는 에칭방식이 있다. 포토레지스트는 광경화 표면 경화제로 널리 사용되고 있는 고분자 재료로 분자구조의 화학적 변화가 일어나 물성 변화가 발생하는 고분자 조성물계이다. 또다른 방법으로는 레이저나 스크레칭, 헤어라인, 샌딩공법과 같은 방식을 적용하여 금속에 무늬가 형성된 판재를 제조하고 있는데 상기 설명과 같은 공법에서는 다수의 제조공정이 수반되어 제품의 양산성이 떨어지고 환경 친화적이지 못하고 또한 제조비용의 상승을 가져온다. 특히, 금속표면에 이미지를 표현하는데 있어 미세한 패턴(선폭 20 ㎛이하)의 구현이 어렵기 때문에 다양하고 미려한 이미지 구현에 한계가 있고 제품의 입체감 및 심미감을 표현하는데 있어서도 어려움이 따른다.
본 발명은 상술한 종래의 문제점을 해결하고자 안출된 것으로, 금속박막 표면에 다양한 이미지를 표현할 수 있는 것은 물론 기존의 공정에서는 구현하기 어려운 미세패턴(선폭 20 ㎛이하)의 구현이 가능하여 금속표면에 입체감과 미려함을 극대화할 수 있으며, 입체무늬가 형성된 평판 금형을 마스터로 이용하여 입체무늬 금속박막을 반복적으로 생산이 가능하기 때문에 양산성을 향상시킬 수 있는 입체무늬 금속박막 제조방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
본 발명에 따른 입체무늬 금속박막 제조방법은, (A) 기판이 되는 판재의 표면에 포토레지스트를 도포하고 포토 마스크를 올려 노광한 후 전주도금하여 입체무늬의 미세패턴이 성장된 평판 금형을 제작하고 이를 입체무늬 금속박막의 반복적 생산을 위해 마스터 금형으로 사용하는 단계; (B) 상기 마스터 금형을 전주도금 탱크에 장착하는 단계; (C) 장착된 마스터 금형을 전주도금하여 입체무늬 형상의 금속층으로 성장시키는 단계; (D) 상기 성장된 금속층을 상기 마스터 금형으로부터 분리하는 단계; (E) 상기 분리된 금속층을 건조시키는 단계; 및 (F) 상기 건조된 금속층을 수지코팅하는 단계;를 포함한다.
본 발명은, 금속표면에 표현하기 난해한 무늬가 표현 가능하여 소비자가 원하는 다양한 디자인으로 금속박막 제조가 가능하며 입체무늬를 가지는 금속박막을 전주도금에 의해 적용되는 제품군에 따라 박막의 두께조절이 용이하고, 마스터 금형에 의해 반복적으로 금속박막을 생산할 수 있어 제조공정 및 생산원가를 줄일 수 있는 효과가 있다. 이상 본 발명을 첨부한 도면을 참조하여 실시 예로 설명하였지만, 보호범위를 한정하는 것이 아니고 본 발명의 보호 범위는 특허 청구범위에 기재된 사항과 그에 균등한 범위에 미치는 것으로 할 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 입체무늬 금속박막의 제조방법에 대한 제조 공정도.
도 2는 미세한 패턴의 입체무늬를 평판 금형에 형성시키기 위한 포토마스크.
도 3은 기판위에 형성된 입체무늬 미세패턴 형상.
도 4는 마스터 금형에 의해 제조된 입체 금속박막 형상.
이하에서는 본 발명에 따른 입체무늬 금속박막 제조방법을 도면을 참조하여 설명하기로 한다. 본 발명은 종래의 압연롤러나 에칭방식, 레이저 가공과 같은 방식과 달리 입체무늬가 형성된 마스터 금형을 사용하여 반복적으로 전주도금을 하여 입체무늬를 가진 금속층으로 성장시켜 금속박막을 제조하는 것을 특징으로 하고 있다.
실시예
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 입체무늬 금속박막 제조방법을 나타내는 공정도이다.
도 1에서와 같이, 먼저, 입체무늬의 미세패턴이 형성되어 있는 평판 금형을 제작하기 위해 기판이 되는 판재(S10)의 표면에 포토레지스트를 도포(S20)하고 다양한 형태의 무늬가 형성된 포토 마스크(S30)를 올려 노광(S40)한 후 전주도금(S50)하여 미세패턴으로 입체무늬가 형성된 금형을 제작한다(S60). 상기 미세패턴은 후술할 전주도금(A30)을 통해 성장되는 금속층에 대응하는 것으로, 기존의 기술적 제약에 의해 한정되어진 모양이 아니라 다양한 형상으로 변형이 가능하다. 상기 평판금형(S60)은 수 미터 크기의 면적으로 제작이 가능하기 때문에 대면적 크기의 금속박막을 제조할 수 있고 반복적으로 사용할 수 있어 금속박막의 양산성을 향상시키기 위한 마스터 금형(S60)으로 사용된다. 여기서 평판 금형(S60)의 기판이 되는 소재로는 스테인리스판(SUS), 구리 금속판, 니켈 금속판, 도전성이 부여된 플라스틱, 유리 등 다양한 소재의 기판이 될 수도 있다. 상기 포토레지스트를 도포하는데 있어 판재의 표면에 네가티브 포토레지스트층을 형성하거나 포지티브 포토레지스트층을 형성한 후 포토 마스크를 이용하여 네가티브층이나 포지티브층을 제거하게 된다.
다음으로, 상기 마스터 금형(S60)을 전주도금하여 입체 금속박막을 생산할 수 있는 전주탱크에 장착하여 금속층을 성장시킨다. 이때 마스터 금형의 표면에 전주도금을 통해 성장시킨 금속층과의 용이한 분리를 위하여 이형층을 더 형성할 수 도 있다. 여기서, 전주도금 공정(A30)에서의 도금액은 구리, 금, 은, 니켈, 니켈-코발트, 인바 등 다양한 금속물질이 될 수도 있다. 아울러, 평판 금형(마스터 금형) 표면에 금 도금층을 먼저 성장시키고 구리, 니켈, 니켈-코발트, 인바 중에 어느 하나의 물질을 사용하여 전주도금하여 2중 도금층 구조를 갖는 금속층을 성장시킬 수도 있다.
마지막으로, 전주도금을 통해 성장된 금속층(A40)을 마스터와 분리(A50)한 후 건조공정(A60)을 거쳐 수지코팅(A70)하면 입체 금속박막을 제조하게 된다. 이때 금속박막의 두께는 금속박막이 사용되는 제품군에 따라 수십 ㎛의 두께를 가지게 된다.
도 2 는 미세한 패턴의 입체무늬를 평판 금형에 형성시키기 위한 포토마스크사진이며, 도 3은 기판위에 형성된 입체무늬 미세패턴 형상의 사진이고, 도 4는 마스터 금형에 의해 제조된 입체무늬 금속박막 형상의 사진이다.
이와 같은 본 발명의 실시예에 따르면, 평판 금형을 마스터 금형으로 사용하여 반복적으로 금속박막 생산이 가능하고, 기존의 제조공정에서 구현하기 어려운 모양을 입체적으로 금속표면에 표현이 가능하여 금속박막이 적용되는 최종 제품의 가치를 더욱 더 향상시키는 효과를 제공한다.

Claims (6)

  1. 입체무늬 금속박막 제조에 있어서,
    (A) 기판이 되는 판재의 표면에 포토레지스트를 도포하고 포토 마스크를 올려 노광한 후 전주도금하여 입체무늬의 미세패턴이 성장된 평판 금형을 제작하고 이를 입체무늬 금속박막의 반복적 생산을 위해 마스터 금형으로 사용하는 단계;
    (B) 상기 마스터 금형을 전주도금 탱크에 장착하는 단계;
    (C) 장착된 마스터 금형을 전주도금하여 입체무늬 형상의 금속층으로 성장시키는 단계;
    (D) 상기 성장된 금속층을 상기 마스터 금형으로부터 분리하는 단계;
    (E) 상기 분리된 금속층을 건조시키는 단계; 및
    (F) 상기 건조된 금속층을 수지코팅하는 단계;를 포함하는 입체무늬 금속박막 제조방법.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 (A) 단계에서,
    상기 평판 금형의 기판은 스테인리스판(SUS), 구리판, 니켈 금속판, 도전성이 부여된 플라스틱, 유리 중 어느 하나를 사용하는 것을 특징으로 하는 입체무늬 금속박막 제조방법.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 (A) 단계에서,
    상기 포토레지스트를 도포하는데 있어서 네가티브 포토레지스트층을 형성하거나 포지티브 포토레지스트층을 형성하는 방법 중 어느 하나의 방법을 사용하는 것을 특징으로 하는 입체무늬 금속박막 제조방법.
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 (D) 단계에서,
    상기 입체무늬 금속층을 상기 마스터 금형으로부터 분리를 용이하게 하기 위해 이형층을 더 형성하는 것을 특징으로 하는 입체무늬 금속박막 제조방법.
  5. 제 1항에 있어서,
    상기 (C) 단계에서,
    상기 도금액은 구리, 금, 은, 니켈, 니켈-코발트, 인바 중 어느 하나의 물질을 사용하는 것을 특징으로 하는 입체무늬 금속박막 제조방법.
  6. 제 1항에 있어서,
    상기 (C) 단계에서,
    상기 마스터 금형 표면에 금 도금층을 먼저 성장시키고 구리, 니켈, 니켈-코발트, 인바 중에 어느 하나의 물질을 사용하여 전주도금하여 2중 도금층 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 입체무늬 금속박막 제조방법.
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