WO2011055850A1 - リン含有エポキシ樹脂、樹脂組成物、およびその難燃性硬化物 - Google Patents

リン含有エポキシ樹脂、樹脂組成物、およびその難燃性硬化物 Download PDF

Info

Publication number
WO2011055850A1
WO2011055850A1 PCT/JP2010/070066 JP2010070066W WO2011055850A1 WO 2011055850 A1 WO2011055850 A1 WO 2011055850A1 JP 2010070066 W JP2010070066 W JP 2010070066W WO 2011055850 A1 WO2011055850 A1 WO 2011055850A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
epoxy resin
phosphorus
type epoxy
resin
bpf
Prior art date
Application number
PCT/JP2010/070066
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
哲也 中西
秀安 朝蔭
秀征 村井
淳子 海東
Original Assignee
新日鐵化学株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 新日鐵化学株式会社 filed Critical 新日鐵化学株式会社
Publication of WO2011055850A1 publication Critical patent/WO2011055850A1/ja

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G59/00Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
    • C08G59/14Polycondensates modified by chemical after-treatment
    • C08G59/1433Polycondensates modified by chemical after-treatment with organic low-molecular-weight compounds
    • C08G59/1488Polycondensates modified by chemical after-treatment with organic low-molecular-weight compounds containing phosphorus
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G59/00Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
    • C08G59/18Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
    • C08G59/20Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the epoxy compounds used
    • C08G59/22Di-epoxy compounds
    • C08G59/30Di-epoxy compounds containing atoms other than carbon, hydrogen, oxygen and nitrogen
    • C08G59/304Di-epoxy compounds containing atoms other than carbon, hydrogen, oxygen and nitrogen containing phosphorus

Definitions

  • the present invention relates to an epoxy resin, an epoxy resin composition, and a cured product applied to the field of electronic materials.
  • Epoxy resins are widely used in electronic parts, electrical equipment, automobile parts, FRP, sports equipment and the like because of their excellent adhesiveness, heat resistance and moldability.
  • copper-clad laminates and encapsulants used in electronic parts and electrical equipment are required to have flame resistance from the viewpoint of safety such as prevention of fire and delay, and brominated epoxy having these characteristics has been used in the past.
  • Resin is used.
  • Brominated epoxy resins are useful electrons and electrics because flame resistance is imparted by introducing halogen, especially bromine, into epoxy resins, and epoxy groups have high reactivity and excellent curability. It is positioned as a material.
  • looking at recent electronic devices there is an increasing trend of weight reduction, size reduction, and circuit miniaturization.
  • halides with a large specific gravity are not preferred from the viewpoint of recent weight reduction trends, and when used at high temperatures for a long period of time, the dissociation of halides occurs, thereby corroding fine wiring. There is a fear. Furthermore, harmful compounds such as halides are generated during the combustion of used electronic parts and electrical equipment, and the use of halogens has become a problem from the viewpoint of environmental safety. Recently, many studies have been made on inorganic materials such as aluminum hydroxide, phosphorus-containing compounds, nitrogen compounds, etc. as alternative materials for halogen-containing flame retardants. In particular, flame retardant formulations using phosphorus-containing compounds have recently been studied. Has been.
  • HCA 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide
  • HCA-HQ Its derivative 10- (2,5-dihydroxyphenyl) -9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide
  • HCA-HQ a flame-retardant epoxy resin that does not contain halogen into which these compounds have been introduced, and have disclosed them in Patent Document 2, Patent Document 3, Patent Document 4, and the like.
  • One of the application fields of epoxy resin is a laminate of electronic materials.
  • Patent Document 5 a method for improving heat resistance and flame retardancy while maintaining adhesive strength. That is, when a polyfunctional epoxy resin is blended to increase the crosslink density, high heat resistance can be obtained, but the cured product becomes brittle and the adhesive strength is significantly reduced. On the other hand, by introducing a rigid skeleton such as naphthalene and other polycyclic aromatics into the main chain, heat resistance and flame retardancy can be improved while maintaining adhesion, and phosphorus content can be reduced. Although possible, since a special epoxy resin containing a naphthalene ring is used as a raw material, it lacked versatility.
  • JP 60-126293 A Japanese Patent Laid-Open No. 04-011662 JP 2002-249540 A Japanese Patent Laid-Open No. 2003-040969 Japanese Patent Application No. 2007-054780 JP 2008-013526 A JP 2001-163952 A JP-A-10-259227 WO2007 / 083715 JP 2007-308642 A
  • the present invention provides a phosphorus-containing BPF type epoxy resin using a BPF type epoxy resin that is a general-purpose epoxy resin, and a flame-retardant phosphorus-containing BPF type epoxy resin cured product that further increases heat resistance while maintaining adhesion. It is.
  • BPF bisphenol F
  • o, o′-BFDGE a compound represented by the following general formula (1)
  • the gist of the present invention is that an epoxy resin (B) containing a bisphenol F-type epoxy resin (A) represented by the general formula (4) as an essential component and a phosphorus-containing material having a structure represented by the general formula (5) Phosphorus-containing epoxy resin (D) obtained by reacting with compound (C), wherein the bisphenol F-type epoxy resin (A) is o, o′-bisphenol F diglycidyl represented by the general formula (1) Ether (o, o′-BFDGE), o, p′-bisphenol F diglycidyl ether represented by general formula (2) (referred to as o, p′-BFDGE) and p, p ′ represented by general formula (3) O, o′-bisphenol F diglycidyl ether (o, o ′) containing bisphenol F diglycidyl ether (referred to as p, p′-BFDGE) and represented by the general formula (1) BFDGE) is a phosphorus-containing epoxy resin (B)
  • n is an integer of 0 or more.
  • the oxygen atom linked to the aromatic ring is bonded to the ortho position or the para position as viewed from the methylene group.
  • m is a number of either 0 or 1.
  • R1 and R2 are hydrocarbon groups, but may contain an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom, or a phosphorus atom. R1 and R2 may be connected to form a cyclic structure.
  • Y is a functional group having an aromatic ring having hydrogen or a hydroxyl group.
  • the content rate of the bisphenol F type epoxy resin (A) shown by General formula (4) is an epoxy resin (A) containing bisphenol F type epoxy resin (A) as an essential component ( It is desirable that it is 20% by weight or more and 85% by weight or less with respect to the sum of B) and the phosphorus-containing compound (C), and the phosphorus content is preferably 1.5% by weight or more and 5% by weight or less.
  • the gist of the present invention is a resin composition comprising the phosphorus-containing epoxy resin (D) described above as an essential component and a curing agent, and a cured flame retardant resin obtained by curing the resin composition. It is.
  • the present inventors have found that when a BPF type epoxy resin having a low content of o, o′-BFDGE is reacted with a phosphorus-containing compound, the resulting phosphorus-containing epoxy resin has crystallinity. Furthermore, as a result of lower melt viscosity than phosphorus-containing epoxy resin obtained by using BPF type epoxy resin with high content of o, o'-BFDGE, it is extremely excellent as a flame retardant epoxy resin for electronic materials. In addition, a resin composition composed of a phosphorus-containing epoxy resin as an essential component and a curing agent is excellent in curing reactivity, and the cured product is excellent in heat resistance. There is an effect of improving flammability.
  • FIG. 1 is a chromatogram of a compound represented by the general formula (4) according to the high performance liquid chromatography analysis method of the present invention. Specifically, it is the BPF type epoxy resin V described in the examples.
  • the peak (O), the peak (P), and the peak (Q) are the compound (o, o′-BFDGE) represented by the general formula (1) and the compound (o, p′-BFDGE) represented by the general formula (2), respectively. ), A compound (p, p′-BFDGE) represented by the general formula (3).
  • FIG. 2 is a chromatogram of the compound represented by the general formula (4) according to the gel permeation chromatography analysis method of the present invention. Specifically, it is the BPF type epoxy resin V described in the examples. Peak (R) is BFDGE, i.e. a mixture of o, o'-BFDGE and o, p'-BFDGE and p, p'-BFDGE.
  • BPF type epoxy resin one of the typical epoxy resins, is obtained by reacting bisphenol F (abbreviated as BPF) using epihalohydrin and alkali metal hydroxide as a raw material. In comparison, it is a low viscosity liquid resin.
  • BPF which is a raw material for BPF type epoxy resin, is obtained by dehydration condensation reaction of phenol and formaldehyde in the presence of an acid catalyst, but has two benzene nuclei because it is an ortho-para orientation reaction.
  • 2,2′-dihydroxydiphenylmethane hereinafter, o, o′-BPF
  • 2,4′-dihydroxydiphenylmethane hereinafter, o, p′-BPF
  • 4,4′-dihydroxydiphenylmethane hereinafter, p
  • p′-BPF 2,2′-dihydroxydiphenylmethane
  • p′-BPF 2,4′-dihydroxydiphenylmethane
  • p 4,4′-dihydroxydiphenylmethane
  • a binuclear substance that is, a dihydroxydiphenylmethane content of about 80% by weight or more is sold as BPF, and can be obtained from Mitsui Chemicals, Honshu Chemical Co., Ltd. and the like. Moreover, it can also obtain about what reduced the component more than 3 nuclei to near 0 weight% by distilling commercially available BPF.
  • Patent Document 6 uses a phosphoric acid aqueous solution as a catalyst and liquid-liquid under certain conditions.
  • Patent Document 7 discloses that a low-viscosity resin can be obtained by epoxidizing p, p′-BPF, and its cured product is It is disclosed that a product having excellent heat resistance can be obtained.
  • the BPF type epoxy resin obtained by using p, p′-BPF is a low-viscosity liquid just after production, but crystallization occurs with the passage of time. Storage stability occurs as a problem. The same applies to the BPF type epoxy resin obtained by using BPF having a high p, p′-BPF content, and the crystallization occurs over time although the strength of crystallinity varies depending on the composition.
  • Patent Document 8 discloses conditions for eliminating this crystallinity, and describes that high heat resistance and high adhesion to metal can be obtained.
  • Patent Document 9 states that by containing a certain amount of trifunctional components and o, p′-BPF, crystals are not precipitated after being stored at 5 ° C. for 1 week.
  • Patent Document 7 discloses a condition having high heat resistance and flame retardancy by using an epoxy resin in which a biphenol skeleton is used in combination with a BPF skeleton, but an epoxidized biphenol is a skeleton having high flame retardancy.
  • the epoxy resin obtained by copolymerization of BPF and epihalohydrin also has crystallinity and is solid. Therefore, it is necessary to work by heating, mixing and homogenizing at the time of use.
  • Biphenol is also inferior in versatility compared to BPF and is not economical.
  • BPF type epoxy resins that are generally sold are obtained by polycondensation of BPF and epihalohydrin as described above, and there are a variety of liquid units to solids depending on the repeating unit. Generally available from jER Corporation, DIC Corporation, Hexion Specialty Chemicals, and the like.
  • Typical BPF type epoxy resins of liquid grade include YDF-170 (manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.), jER806 (manufactured by jER Co., Ltd.), EPICLON 830 (manufactured by DIC Corporation), EPIKOTE 862 (manufactured by Hexion Specialty Chemicals Co., Ltd.), etc. Can be mentioned.
  • a resin used for general purposes is generally designed with a composition design that emphasizes storage stability. is there.
  • the area of o, o′-BFDGE relative to the sum of the areas of o, o′-BFDGE and o, p′-BFDGE and p, p′-BFDGE Is about 14 to 16 area%
  • the area of o, p′-BFDGE is about 45 to 48 area%
  • the area of p, p′-BFDGE is about 38 to 40 area%.
  • the o, o'-BFDGE content rate has exceeded 10 area%.
  • BPF which is a general-purpose and economical epoxy resin raw material
  • a modified isomer composition of BPF in particular, a highly productive BPF with reduced o, o′-BFDGE content
  • Storage stability due to crystallization of the epoxy resin has become a problem and has not been fully studied. That is, a method for obtaining an epoxy resin having high heat resistance, copper foil peeling strength, interlayer adhesion, flame retardancy and the like by controlling the isomer composition of BPF has not been known.
  • the BPF type epoxy resin having a high content of p, p′-BFDGE is a liquid epoxy resin having a low viscosity immediately after production and excellent workability, but when stored for a long time in a normal state such as room temperature, p , P′-BFDGE crystals are precipitated to form a solid resin, and operations such as heating, dissolution, and mixing are required before use, and therefore the resin is not necessarily excellent in workability.
  • a phosphorus-containing epoxy resin having no crystallinity can be obtained by reacting with a phosphorus-containing compound.
  • cured material of the phosphorus containing epoxy resin of this invention has high heat resistance compared with what is obtained from a BPF type
  • it did not decrease the adhesive strength but rather surprisingly, it was found that the adhesive strength between the copper foil and the laminated plate and the adhesive strength between the glass cloth and the glass cloth layer of the laminated plate were both increased.
  • the cured product has excellent properties compared to the cured product of phosphorus-containing epoxy resin obtained by using a BPF type epoxy resin having a high o, o'-BFDGE content. It is.
  • the BPF type epoxy resin used in the present invention is represented by the general formula (4), but the o, o′-BFDGE content is 10 area% or less.
  • the o, o′-BFDGE content here refers to the area% of the peak (O) with respect to the sum of the peak (O), peak (P), and peak (Q) in FIG.
  • the o, p′-BFDGE content rate is defined as the area% of the peak (P) with respect to the sum of the peak (O), peak (P), and peak (Q) in FIG. 1, and the p, p′-BFDGE content rate Is defined as the area of peak (Q) relative to the sum of peak (O), peak (P), and peak (Q) in FIG.
  • the phosphorus-containing epoxy resin of the present invention is obtained using a BPF type epoxy resin having an o, o′-BFDGE content of 10 area% or less, the o, o′-BFDGE content exceeds 10 area%.
  • melt viscosity is low and workability is excellent.
  • the physical properties of the cured product it exhibits high heat resistance as compared with a resin made by the prior art, and yet it has high adhesive strength and flame retardancy can also be improved.
  • the o, o'-BFDGE content is 0 area% or more and 10 area% or less, but it may be 0 area% or more and 8 area% or less. It is preferable. More preferably, it is 0 area% or more and 5 area% or less, and desirably 0 area% or more and 4.5 area% or less.
  • the o, o′-body content exceeds 10 area%, the amount of components remaining without being involved in the reaction during curing increases, which may affect heat resistance, adhesiveness, and flame retardancy. It is a problem.
  • the BPF type epoxy resin to be used is used in the range of 20% by weight to 85% by weight with respect to the phosphorus-containing epoxy resin obtained by the reaction. Preferably they are 22 to 80 weight%, More preferably, they are 24 to 75 weight%. In this calculation, the solid content does not take into account the diluent solvent.
  • the amount of the BPF type epoxy resin used is less than 20% by weight, there is no significant difference from the conventional technology, and when the amount used exceeds 85% by weight, the amount of the phosphorus-containing compound used is inevitably reduced. For this reason, lack of flame retardancy and crystal precipitation become problems.
  • the content of oligomer components of three or more nuclei contained in BPF is not particularly defined.
  • the content of oligomer components having three or more nuclei is generally less than 20% by weight, but it is not limited to this, and there are some which are hardly contained by distillation.
  • the compound represented by the general formula (4) used in the present invention also contains a polyfunctional epoxy resin derived from an oligomer component having three or more nuclei in BPF, but an important element is o, o′-BFDGE-containing. It is to use a BPF type epoxy resin with a low rate.
  • the manufacturing method of the phosphorus containing epoxy resin (D) of this invention is illustrated concretely.
  • the phosphorus-containing compound used when the BPF type epoxy resin according to the present invention is reacted with the phosphorus-containing compound to obtain the phosphorus-containing epoxy resin is represented by the general formula (5) (supra), and reacts with the epoxy group to bond.
  • Y is a functional group having hydrogen or an aromatic hydroxyl group
  • m is 0 or 1.
  • R 1 , R 2 Is an aromatic hydrocarbon group and may have heteroatoms such as oxygen, nitrogen, phosphorus and sulfur. This R 1 , R 2 May be independent from each other, or may be linked together to form a cyclic structure.
  • R 1 And R 2 are connected to form a cyclic structure from the viewpoint of suppressing bleed-out due to hydrolysis.
  • the compound represented by the general formula (5) is 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide (HCA) or its derivative 10- (2,5-dihydroxyphenyl).
  • phosphaphenanthrene-10-oxide HCA-HQ
  • phosphaphenanthrene-10-oxide HCA-NQ
  • an epoxy resin other than the BPF type epoxy resin according to the present invention may be used as long as the characteristics of the resin are not lost.
  • the epoxy resins used here are preferably those having two or more glycidyl groups in one molecule, but are not particularly limited. Specifically, Epototo YDC-1312, Epototo ZX-1027 (Hydroquinone type epoxy resin manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.), Epotot ZX-1251 (Biphenol type epoxy resin manufactured by Toto Kasei Corporation), Epototo YD-127, Epototo YD-128 Epototo YD-8125, Epototo YD-825GS, Epototo YD-011, Epototo YD-900, Epototo YD-901 (BPA type epoxy resin manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd.), Epototo YDPN-638 (manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.) Epoxy resin), Epototo YDCN-701 (Cresol novolak type epoxy resin manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.
  • phenols may be used.
  • the phenols used here are preferably those having two or more phenolic hydroxyl groups in one molecule, but are not particularly limited.
  • bisphenols typified by BPA and BPF bisphenols typified by BPA and BPF, novolak resins and resole resins typified by phenol novolac resins and cresol novolak resins, aralkyl resins having a xylylene skeleton, biphenol, naphthalenediol, hydroquinone, resorcinol, catechol
  • a method for obtaining the phosphorus-containing epoxy resin (D) of the present invention a phosphorus-containing compound selected from at least one of the compounds represented by HCA, HCA-HQ or HCA-NQ and a BPF type epoxy resin are mixed and stirred.
  • the method of making it react is mentioned.
  • As another method there is a method in which HCA and a quinone compound represented by benzoquinone or naphthoquinone are reacted in advance in an inert solvent, and then a BPF type epoxy resin or the like is added and stirred to react. At this time, the compound represented by benzoquinone is stoichiometrically excessive with respect to the quinone compound.
  • the reaction between the phosphorus-containing compound and the epoxy resin is usually performed at a reaction temperature in the range of 100 ° C. to 200 ° C. for a reaction time of 1 hour to 10 hours to obtain the phosphorus-containing epoxy resin (D) of the present invention. be able to.
  • a catalyst can be used as necessary to improve productivity. Furthermore, when the viscosity at the time of reaction is high, an inert solvent can be used as needed.
  • the catalyst include tertiary amines such as benzyldimethylamine, quaternary ammonium salts such as tetramethylammonium chloride, phosphines such as triphenylphosphine and tris (2,6-dimethoxyphenyl) phosphine,
  • Various catalysts such as phosphonium salts such as phenylphosphonium bromide and imidazoles such as 2-methylimidazole and 2-ethyl-4-methylimidazole can be used.
  • reaction solvent examples include toluene, xylene and the like, but are not limited thereto, and may be used alone or in combination of two or more.
  • the phosphorus content of the phosphorus-containing epoxy resin (D) of the present invention is preferably 1.5 to 5.0% by weight, more preferably 1.8 to 4.5% by weight. If the phosphorus content in the phosphorus-containing phenol resin is 1.5% by weight or less, flame retardancy may not be maintained. On the other hand, when the phosphorus content exceeds 5.0% by weight, the molecular weight becomes large, and the solvent solubility is remarkably deteriorated, so that handling becomes difficult.
  • Curing agents used when blended with the phosphorus-containing epoxy resin (D) of the present invention to obtain a curable resin composition include various phenol resins, acid anhydrides, amines, hydrazides, acidic polyesters, Aminotriazines and other known and commonly used curing agents for epoxy resins can be used, and these curing agents may be used alone or in combination of two or more. good.
  • the epoxy resin is used within a range that does not impair the properties of the phosphorus-containing epoxy resin (D). It may be used separately.
  • the epoxy resin used here is preferably one having at least two glycidyl groups in one molecule.
  • the curable resin composition comprising the phosphorus-containing epoxy resin (D) of the present invention as an essential component and a curing agent is blended with a tertiary amine, a quaternary ammonium salt, a phosphine, an imidazole, etc. as necessary.
  • the hardening accelerator of this can be mix
  • an organic solvent can also be used for viscosity adjustment.
  • organic solvent examples include ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, alcohols such as methanol and ethanol, and aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene. Of these solvents, only one kind may be used or two or more kinds may be used, and the resin concentration in the resin composition solution can be blended in the range of 20 wt% or more and less than 100 wt%.
  • the curable resin composition comprising the phosphorus-containing epoxy resin (D) of the present invention as an essential component and a curing agent or the like may be blended with a filler as necessary.
  • inorganic fillers such as aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, talc, calcined talc, clay, kaolin, titanium oxide, glass powder, fine powder silica, fused silica, crystalline silica, colloidal silica, porous silica, silica balloon, etc.
  • inorganic fillers such as aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, talc, calcined talc, clay, kaolin, titanium oxide, glass powder, fine powder silica, fused silica, crystalline silica, colloidal silica, porous silica, silica balloon, etc.
  • metal hydroxides such as aluminum hydroxide and magnesium hydroxide
  • it functions as a flame retardant aid, and flame retardance can be ensured even if the phosphorus content is low.
  • the blending amount is 10% or more, the effect of impact resistance is high.
  • the adhesiveness which is a necessary item for use in a laminated board, is lowered.
  • organic fillers such as fiber fillers, such as glass fiber, a pulp fiber, a synthetic fiber, a ceramic fiber, fine particle rubber, and a thermoplastic elastomer, can also be contained in the said resin composition.
  • Examples of the electronic circuit board material obtained from the curable resin composition as described above include a resin sheet, a metal foil with resin, a prepreg, and a laminate.
  • the method for producing the resin sheet is not particularly limited.
  • a phosphorus-containing epoxy resin composition as described above is preferably used for a carrier film that does not dissolve in a curable resin composition such as a polyester film or a polyimide film. After coating to a thickness of 5 to 100 ⁇ m, it is dried by heating at 100 to 200 ° C. for 1 to 40 minutes to form a sheet.
  • a resin sheet is generally formed by a method called a casting method.
  • the thickness of the resin sheet is preferably 5 to 80 ⁇ m.
  • the resin-coated metal foil obtained from the curable resin composition as described above will be described.
  • the metal foil copper, aluminum, brass, nickel or the like alone, alloy, or composite metal foil can be used. It is preferable to use a metal foil having a thickness of 9 to 70 ⁇ m.
  • a method for producing a metal foil with a resin from a flame retardant resin composition comprising a phosphorus-containing phenol compound and a metal foil is not particularly limited.
  • the curable resin composition is provided on one surface of the metal foil.
  • a resin varnish whose viscosity is adjusted with a solvent is applied using a roll coater or the like, and then dried by heating to semi-cure the resin component (B-stage) to form a resin layer.
  • semi-curing the resin component for example, it can be dried by heating at 100 to 200 ° C. for 1 to 40 minutes.
  • the thickness of the resin portion of the metal foil with resin is preferably 5 to 110 ⁇ m.
  • the sheet-like substrate inorganic fibers such as glass, or woven or non-woven fabrics of organic fibers such as polyester, polyamine, polyacryl, polyimide, Kevlar, etc. can be used, but it is not limited thereto.
  • the method for producing the prepreg from the curable resin composition and the substrate is not particularly limited.
  • the substrate is immersed in a resin varnish whose viscosity is adjusted with a solvent of the epoxy resin composition and impregnated. It is obtained by heat-drying and semi-curing (B-stage) the resin component.
  • the amount of resin in the prepreg is preferably 30 to 80% by weight based on the whole.
  • a method for producing a laminate using the above resin sheet, metal foil with resin, prepreg and the like will be described.
  • a prepreg is used to form a laminate, one or more prepregs are laminated, a metal foil is placed on one or both sides to form a laminate, and this laminate is heated and pressurized to be laminated and integrated.
  • the metal foil a single, alloy, or composite metal foil of copper, aluminum, brass, nickel or the like can be used.
  • the conditions for heating and pressurizing the laminate may be adjusted as appropriate under the conditions for curing the curable resin composition, and heating and pressurizing. However, if the pressure at the time of pressurization is too low, bubbles are formed inside the resulting laminate.
  • a multilayer board can be produced by using the single-layer laminated board thus obtained as an inner layer material.
  • a circuit is formed on the laminate by an additive method, a subtractive method, or the like, and the formed circuit surface is treated with an acid solution to perform a blackening process to obtain an inner layer material.
  • An insulating layer is formed with a resin sheet, a metal foil with resin, or a prepreg on one or both sides of the inner layer material, and a multilayer plate is formed by forming a conductor layer on the surface of the insulating layer.
  • a resin sheet is arrange
  • a resin sheet is arrange
  • the inner layer material and the metal foil as the conductor layer are formed by using a cured resin sheet as an insulating layer.
  • a metal foil the thing similar to what was used for the laminated board used as an inner layer material can also be used.
  • the heating and pressing can be performed under the same conditions as the formation of the inner layer material.
  • the outermost circuit forming surface resin of the inner layer material is a phosphorus-containing epoxy resin composition or a flame-retardant epoxy resin composition containing a phosphorus-containing epoxy resin.
  • it is applied to a thickness of 5 to 100 ⁇ m and then dried by heating at 100 to 200 ° C.
  • a printed wiring board can be formed by further forming via holes and circuits on the surface of the multilayer laminate formed as described above by an additive method or a subtractive method. Further, by repeating the above method using this printed wiring board as an inner layer material, a multilayer board can be formed.
  • the insulating layer is formed of a metal foil with resin
  • the metal foil with resin is overlapped on the circuit formation surface of the inner layer material so that the resin layer of the metal foil with resin faces the circuit formation surface of the inner layer material. Arrange to form a laminate.
  • a cured product of the resin layer of the resin-coated metal foil is formed as an insulating layer, and the outer metal foil is formed as a conductor layer.
  • the heat and pressure molding can be performed under the same conditions as the formation of the inner layer material.
  • an insulating layer is formed using a prepreg
  • a laminate is formed by placing one or a plurality of laminated prepregs on the circuit forming surface of the inner layer material, and further placing a metal foil on the outside thereof. To do. Then, the laminate is heated and pressed to be integrally formed, whereby a cured product of the prepreg is formed as an insulating layer, and the outer metal foil is formed as a conductor layer.
  • a printed wiring board can be formed by further forming via holes and circuits on the surface of the multilayer laminate formed as described above by an additive method or a subtractive method. Further, by repeating the above method using this printed wiring board as an inner layer material, a multilayer board can be formed.
  • the BPF type epoxy resin examples are described in detail below, but the present invention is not limited thereto.
  • the BPF type epoxy resin those having different o, o′-BFDGE contents were used. Specifically, the BPF type epoxy resin V has an o, o′-BFDGE content of 4.4 area%, and the BPF type epoxy resin W has an o, o′-BFDGE content of 4.9 area.
  • the BPF type epoxy resin X has an o, o′-BFDGE content of 5.8 area%, and the BPF type epoxy resin Y has an o, o′-BFDGE content of 9.%.
  • the BPF type epoxy resin Z has a content of o, o′-BFDGE of 14.2 area%.
  • the BPF type epoxy resin Z is Epototo YDF-170 manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd.
  • the epoxy equivalent and other general properties are shown in Example Table 1.
  • BPF type epoxy resin it is abbreviated as BPF type epoxy resin, and the BPF type epoxy resin used in each synthesis example is specified in Example Table 2.
  • Epototo YDPN-638 manufactured by Toto Kasei Co., Ltd. was used as the phenol novolac type epoxy resin.
  • As the phosphorus compound HCA manufactured by Sanko Co., Ltd. and HCA-HQ manufactured by Sanko Co., Ltd. were used. Also, HCA manufactured by Sanko Co., Ltd.
  • o, o′-BFDGE is a peak (O)
  • o, p′-BFDGE is a peak (P)
  • p, p′-BFDGE is a peak (Q).
  • Each content rate is expressed by area% by dividing each peak area by the sum of the areas of peak (O), peak (P), and peak (Q). The content rate of each component was calculated
  • the BPF type epoxy resin has three kinds of isomers and polynuclear bodies which are by-products, and the analysis is very complicated. Therefore, the analysis was performed by the following method using BFDGE as a representative component.
  • HLC-8220 manufactured by Tosoh Corporation
  • TSK-GEL 2000HXL TSK-GEL 2000HXL
  • TSK-GEL 1000HXL all manufactured by Tosoh Corporation
  • the column chamber temperature was 40 ° C.
  • the eluent was tetrahydrofuran
  • the flow rate was 1 mL / min.
  • Detection was performed using a refractive index (RI) detector, and quantification was performed in area%.
  • FIG. 2 shows a GPC chart of the BPF type epoxy resin V used.
  • the peak (R) is a mixture of p, p′-BFDGE and o, p′-BFDGE and o, o′-BFDGE.
  • the high molecular weight component other than the peak (R) is an epoxidized product of a trinuclear or higher component contained in BPF, or a component represented by the general formula (4) where n is 1 or more, various by-products, etc. It is a mixture.
  • Example 1 A 2L separable flask equipped with a stirrer, a thermometer, a condenser, and a nitrogen inlet was charged with 209.0 g of the compound represented by HCA and 400.0 g of toluene, and dissolved by stirring at 75 ° C. When completely dissolved, 148.3 g of 1,4-naphthoquinone was added little by little while paying attention to the temperature, and the temperature was kept in the range of 80 ° C. to 90 ° C. for 30 minutes. Thereafter, the temperature was raised to the reflux temperature of toluene and maintained for 2 hours, followed by dehydration and aging in the system to obtain a phosphorus compound.
  • Example 2 As the BPF type epoxy resin, the same operation as in Example 1 was performed except that the BPF type epoxy resin W having a content of o, o′-BFDGE of 4.9 area% was used, and the solid content was 70% by weight. A phosphorus-containing epoxy resin solution was obtained.
  • Example 3 The same operation as in Example 1 was performed except that BPF type epoxy resin X having a content of o, o′-BFDGE of 5.8 area% was used as the BPF type epoxy resin, and the solid content was 70% by weight. A phosphorus-containing epoxy resin solution was obtained.
  • Example 4 The same operation as in Example 1 was performed except that BPF type epoxy resin Y having a content of o, o′-BFDGE of 9.5 area% was used as the BPF type epoxy resin, and the solid content was 70% by weight. A phosphorus-containing epoxy resin solution was obtained. Comparative Example 1 The same operation as in Example 1 was performed except that BPF type epoxy resin Z having a content of o, o′-BFDGE of 14.2 area% was used as the BPF type epoxy resin, and the solid content was 70% by weight. A phosphorus-containing epoxy resin solution was obtained.
  • Example 5 The same apparatus as in Example 1 was charged with 139.4 g of HCA and 290.0 g of toluene, and stirred and dissolved at 75 ° C.
  • Example 2 Thereafter, a phosphorus-containing epoxy resin solution having a solid content of 75% by weight was obtained in the same manner as in Example 1. Comparative Example 2 The same operation as in Example 5 was performed except that BPF type epoxy resin Z having a content of o, o′-BFDGE of 14.2 area% was used as the BPF type epoxy resin, and the solid content was 75% by weight. A phosphorus-containing epoxy resin solution was obtained.
  • Example 6 In the same apparatus as in Example 1, 313.5 g of HCA-HQ and 686.5 g of BPF type epoxy resin X having a content of o, o′-BFDGE of 5.8 area% were charged, and the temperature was raised to 150 ° C. The system was dehydrated.
  • Triphenylphosphine was dissolved in methyl ethyl ketone as a reaction catalyst and added to the reaction system. Triphenylphosphine was 0.1% by weight with respect to the phosphorus-containing compound. This was heated to 165 ° C. and reacted for 4 hours. After completion of the reaction, methyl ethyl ketone was added dropwise to the system while cooling and dissolved. The solid content of this resin solution was adjusted to 70% by weight. Comparative Example 3 As a BPF type epoxy resin, the same operation as in Example 6 was performed except that a BPF type epoxy resin Z having a content of o, o′-BFDGE of 14.2 area% was used, and the solid content was 75% by weight.
  • Example 7 Example 6 is the same as Example 6 except that 289.5 g of HCA-NQ and 710.5 g of BPF type epoxy resin X having a content of o, o′-BFDGE of 5.8 area% were charged in the same apparatus as in Example 1. The same operation was performed to obtain a phosphorus-containing epoxy resin solution having a solid content of 70% by weight. Comparative Example 4 As a BPF type epoxy resin, the same operation as in Example 6 was performed except that a BPF type epoxy resin Z having a content of o, o′-BFDGE of 14.2 area% was used, and the solid content was 75% by weight. A phosphorus-containing epoxy resin solution was obtained.
  • Comparative Example 5 The same apparatus as in Example 1 was charged with 139.4 g of HCA and 290.0 g of toluene, and stirred and dissolved at 75 ° C. When completely dissolved, 81.5 g of naphthoquinone was added little by little while paying attention to the temperature, and the temperature was kept in the range of 80 ° C. to 90 ° C. for 30 minutes. Thereafter, the temperature was raised to the reflux temperature of toluene and maintained for 2 hours, followed by dehydration and aging in the system to obtain a mixture of phosphorus compounds.
  • Comparative Example 7 The same apparatus as in Example 1 was charged with 83.6 g of HCA-HQ and 916.4 g of BPF type epoxy resin V, and the temperature was raised to 150 ° C. to dehydrate the system. Triphenylphosphine was dissolved in methyl ethyl ketone as a reaction catalyst and added to the reaction system. Triphenylphosphine was 0.1% by weight with respect to the phosphorus-containing compound. This was heated to 165 ° C. and reacted for 4 hours. After completion of the reaction, it was cooled as it was to obtain a semisolid phosphorus-containing epoxy resin. In Tables 3 and 4, the phosphorus content is not an analytical value but a theoretical value obtained from the amount charged.
  • Comparative Example 5 was a liquid resin containing no solvent.
  • the melt viscosity is M.M. S. Measurement was performed using CV-1S manufactured by T Engineering Co., Ltd., and JS52000 manufactured by Nihon Grease Co., Ltd. conforming to JIS Z8809 was used as a standard sample. The measurement temperature was 150 ° C.
  • the softening point was evaluated by the ring and ball method described in JIS K 5601-2-2, and all were evaluated in a glycerin bath.
  • the phenol novolac resin was prepared using BRG-555 manufactured by Showa Polymer Co., Ltd. so that the phenol novolac resin / methyl ethyl ketone was 90/10 (weight ratio).
  • the blending was performed according to the values shown in Tables 5 and 6. However, the values shown in the table are solid values, and the actual blending was performed in solution.
  • dicyandiamide was calculated and blended so that the ratio of 0.5 active hydrogen to one epoxy group. After blending an epoxy resin solution, a dicyandiamide solution, a phenol novolac resin solution, and a catalyst solution, a curable resin composition solution (varnish) was obtained by adding a dilute solution to a solid content of 50% by weight.
  • the copper foil used this time has a shine surface and a mat surface, but the mat surface was sandwiched so that the prepreg side and the shine surface were the laminate surface.
  • 0.2 mL of the curable resin composition solution was weighed on a hot plate heated to 160 ° C., transferred onto the hot plate, and the time required for gelation by stirring the composition with a Teflon rod was defined as varnish gel time.
  • the gelation here refers to the moment when the resin thickens over time and the reaction converges and there is no stringing between the Teflon rod and the resin.
  • 0.1 g of a resin semi-cured product (prepreg powder) obtained by loosening the prepreg on a hot plate heated to 170 ° C.
  • Thermomechanical analysis was performed using TMA / SS120U manufactured by Seiko Instruments Inc. A laminate having no copper foil was used as a test piece, and the linear expansion coefficient in the z-axis direction was measured. The test was performed at a temperature increase rate of 5 ° C./min from room temperature to 200 ° C. and performed for 2 cycles.
  • Tg TMA
  • Viscoelasticity measurement was performed using DMS120 manufactured by Seiko Instruments Inc. A laminate without a copper foil was used as a test piece. In the test, shear measurement was performed from room temperature to 280 ° C. at a rate of temperature increase of 2 ° C./min, and the maximum value of tan ⁇ at 10 Hz was defined as Tg (DMS).
  • DMS Differential scanning calorimetry was performed using a DSC6200 manufactured by Seiko Instruments Inc. A prepreg powder was used as a sample, and the test was performed for 2 cycles from room temperature to 200 ° C.
  • the temperature Tig at the inflection extrapolation point at which the heat capacity of the sample began to increase in the second cycle was defined as Tg (DSC).
  • the flammability test was performed according to Subject-94 Laboratory's Subject-94 (hereinafter referred to as UL-94). A laminate without a copper foil was used as a test piece. The determination was in accordance with the above-mentioned standard, and the total burning time of five test pieces was described in the item of total burning time.
  • the peel strength of the copper foil was measured by performing a peel test between the copper foil and the laminate in accordance with the test method described in JIS C-6481.
  • the gel fraction was determined by the following procedure. First, a laminate without a copper foil was cut out and subjected to thermogravimetric analysis to determine the resin content in the laminate. Using EXSTAR6000 manufactured by Seiko Instruments Inc., the temperature was raised from room temperature to 700 ° C. at 10 ° C./min in an air atmosphere, and when 700 ° C. was reached, the sample was kept for 1 hour for analysis. A cell made of platinum was used.
  • Table 3 shows the weight of the resin content after filtration and drying when the initial resin weight is 100% by weight. The formula used is shown below.
  • Gel fraction [%] ⁇ 1- (sample weight before extraction ⁇ sample weight after extraction) ⁇ (sample weight before extraction ⁇ resin content) ⁇ ⁇ 100 [%]
  • Examples 8 to 11 and Comparative Example 8 are curable resin compositions and cured products obtained using phosphorus-containing epoxy resins. These have the same phosphorus content and the same kind of curing agent, and differ only in the composition of the BPF type epoxy resin. First, the heat resistance was remarkably improved by decreasing the o, o′-BFDGE content of the BPF type epoxy resin.
  • the adhesive strength particularly the interlayer adhesive strength between the glass cloths. Furthermore, in the flame retardancy test, the cured phosphorus-containing epoxy resin obtained by using a BPF type epoxy resin having a low o, o′-BFDGE content rate has a shorter total combustion time and a higher flame retardancy. It was shown that. As a basis for this, a cured product using a resin having a high o, o′-BFDGE content has a low gel fraction, and many low molecular weight components were detected by GPC in tetrahydrofuran as an extraction solvent.
  • Example 12 Comparative Example 9 Since the amount of BPF type epoxy resin used in Example 12 and Comparative Example 9 is small compared to Example 8 and the like, the difference between Example 12 and Comparative Example 9 is compared with the difference between Example 8 and Comparative Example 8. However, the heat resistance of the BPF type epoxy resin having a low o, o′-BFDGE content was high and the interlayer adhesion was slightly improved.
  • the BPF type epoxy resin having a low o, o′-BFDGE content rate and the phosphorus-containing epoxy resin cured product obtained by using the BPF type epoxy resin have a shorter total combustion time and a higher difficulty. It was shown to have flammability.
  • Example 13 and Comparative Example 10 About Example 13 and Comparative Example 10, although the kind of phosphorus-containing compound is different from Example 8, etc., those using BPF type epoxy resin having a low o, o′-BFDGE content rate are heat resistant. High adhesion between layers.
  • Example 14 and Comparative Example 11 are the same as Example 13 and Comparative Example 10 except that the type of phosphorus-containing compound is different from Example 8 or the like, but a BPF type epoxy resin having a low o, o′-BFDGE content. For those using, the heat resistance was high and the interlayer adhesion was also improved.
  • Comparative Example 12 and Comparative Example 13 are formulations in which the amount of BPF type epoxy resin used was reduced, but this was a difference from the prior art and was at a level that was not significant. Comparative Example 14 When a large amount of BPF type epoxy resin is used, the amount of phosphorus-containing compound used is inevitably reduced. Therefore, when the obtained phosphorus-containing epoxy resin was allowed to stand at room temperature for 14 days, crystals were precipitated.
  • Tables 1 to 6 show the measurement results of the above examples and comparative examples. From the above, the phosphorus-containing epoxy obtained by using a BPF type epoxy resin having an o, o′-BFDGE content of 10 area% or less in a range of 20 wt% to 85 wt% with respect to the phosphorus-containing epoxy resin. It can be seen that the resin has high heat resistance and high adhesive strength.
  • mold epoxy resin with a low o, o'-BFDGE content rate tends to have a short total combustion time in a flame retardance test, it is highly flame-retardant. It can be said that it shows.
  • the reason why the high flame retardancy is expressed is that the cured product obtained by using the BPF type epoxy resin having a low o, o′-BFDGE content has a small weight loss due to the solvent extraction in the evaluation of the gel fraction. , O'-BFDGE It is thought that the hardened
  • the present invention can be used as a flame retardant epoxy resin for electronic materials.

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)

Abstract

一般式(4)で示されるビスフェノールF型エポキシ樹脂(A)を必須成分として含有するエポキシ樹脂(B)と、式(5)で示されるリン含有化合物(C)を反応して得られるリン含有エポキシ樹脂であって、前記一般式(4)で示されるビスフェノールF型エポキシ樹脂に含まれる成分のうち、式(1)で示される化合物の割合が、化学式(1)で示される化合物と化学式(2)で示される化合物と化学式(3)で示される化合物の和に対して、高速液体クロマトグラム上で0面積%以上10面積%以下であるリン含有エポキシ樹脂。

Description

リン含有エポキシ樹脂、樹脂組成物、およびその難燃性硬化物
 本発明は電子材料分野に応用されるエポキシ樹脂、エポキシ樹脂組成物、硬化物に関する。
 エポキシ樹脂は接着性、耐熱性、成形性に優れていることから電子部品、電気機器、自動車部品、FRP、スポーツ用品などに広範囲に使用されている。特に、電子部品、電気機器に使用される銅張積層板や封止材には火災の防止、遅延などといった安全性の観点から難燃性が要求され、従来からこれらの特性を有する臭素化エポキシ樹脂などが使用されている。エポキシ樹脂にハロゲン、特に臭素を導入することにより難燃性が付与されること、エポキシ基は高い反応性を有し、優れた硬化性が得られることから臭素化エポキシ樹脂は有用な電子、電気材料として位置づけられている。
 しかし最近の電子機器を見ると、軽量化、小型化、回路の微細化の傾向が強くなってきている。このような要求下において、比重の大きいハロゲン化物は最近の軽量化傾向の観点からは好ましくなく、また、高温で長期にわたって使用した場合、ハロゲン化物の解離が起こり、これによって微細な配線を腐食するおそれがある。さらに使用済みの電子部品、電気機器の燃焼の際にハロゲン化物などの有害化合物を発生し、環境安全性の視点からもハロゲンの利用が問題視されるようになってきた。
 最近ではハロゲン含有難燃剤の代替材料として、水酸化アルミニウムなどの無機材料、リン含有化合物、窒素化合物などの検討が数多くなされ、特にそのなかでも近年、リン含有化合物を用いた難燃化処方が検討されている。エポキシ樹脂を難燃化するリン含有化合物としてはリン酸エステルや赤リンなどを添加することが開示されているが、リン酸エステルは加水分解反応が起こるため、赤リンは高温・多湿雰囲気においてリン酸が発生し、耐マイグレーション性に影響を与える為、長期信頼性に問題があった。
 本発明者らは非特許文献1,非特許文献2および特許文献1で開示されている9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキシド(以下、HCAと略称)やその誘導体である10−(2,5−ジヒドロキシフェニル)−9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキシド(以下、HCA−HQと略称)は高温多湿雰囲気下においてもリン酸が遊離しない分子構造であると考え、これらの化合物を導入したハロゲンを含まない難燃性のエポキシ樹脂について鋭意検討し、特許文献2、特許文献3、特許文献4などに開示している。
 エポキシ樹脂の応用分野のひとつとして電子材料の積層板がある。本発明者らは電子材料用途のリン含有エポキシ樹脂について鋭意検討し、接着力を維持したまま耐熱性、難燃性を高める方法を特許文献5に開示している。すなわち、多官能のエポキシ樹脂を配合して架橋密度を高めた場合は、高い耐熱性は得ることができるが硬化物が脆くなり接着強度が著しく低下する。これに対してナフタレンをはじめとする多環芳香族など、剛直な骨格を主鎖に導入することにより接着力を維持したまま耐熱性や難燃性を向上し、リン含有率を低減することが可能であるが、ナフタレン環を含有する特殊なエポキシ樹脂を原料とするため、汎用性に欠けていた。
特開昭60−126293号公報 特開平04−011662号公報 特開2002−249540号公報 特開2003−040969号公報 特願2007−054780号 特開2008−013526公報 特開2001−163952号公報 特開平10−259227号公報 WO2007/083715 特開2007−308642号公報
I.G.M.Campbell and I.D.R.Stevens,Chemical Communications,第505−506頁(1966年) Zh.Obshch.Khim.,42(11),第2415−2418頁(1972)
 本発明は汎用エポキシ樹脂であるBPF型エポキシ樹脂を用いたリン含有BPF型エポキシ樹脂において、接着性を維持しつつ更に耐熱性を高めた難燃性リン含有BPF型エポキシ樹脂硬化物を提供するものである。
 上記の課題を解決するために、本発明者らは代表的なエポキシ樹脂のひとつ、ビスフェノールF型エポキシ樹脂(以下BPF型エポキシ樹脂、これに含まれる成分のうち2官能でありかつn=0であるものを特にBFDGEとする)の原料であるビスフェノールF(以下BPF)の組成にさかのぼり鋭意検討した結果、下記の一般式(1)で示される化合物(以下o,o’−BFDGEという)の含有率が低いBPF型エポキシ樹脂をリン含有化合物と反応することにより得られたリン含有エポキシ樹脂を提供すること、更に、このリン含有エポキシ樹脂を必須成分とし、硬化剤を配合してなる樹脂組成物、この樹脂組成物を硬化してなる難燃性樹脂硬化物を提供することによって課題を解決することができることを見いだした。
 すなわち、本願発明の要旨は、一般式(4)で示されるビスフェノールF型エポキシ樹脂(A)を必須成分として含有するエポキシ樹脂(B)と、一般式(5)で示される構造を有するリン含有化合物(C)とを反応して得られるリン含有エポキシ樹脂(D)であって、前記ビスフェノールF型エポキシ樹脂(A)は、一般式(1)で示されるo,o’−ビスフェノールFジグリシジルエーテル(o,o’−BFDGE)、一般式(2)で示されるo,p’−ビスフェノールFジグリシジルエーテル(o,p’−BFDGEという)および一般式(3)で示されるp,p’−ビスフェノールFジグリシジルエーテル(p,p’−BFDGEという)を含有し、且つ、一般式(1)で示されるo,o’−ビスフェノールFジグリシジルエーテル(o,o’−BFDGE)含有率が前記3種のビスフェノールFジグリシジルエーテル(BFDGE)の和に対して、高速液体クロマトグラム上で10面積%以下であることを特徴とする、リン含有エポキシ樹脂(D)である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000004
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000005
nは0以上の整数である。また、芳香環と連結する酸素原子はメチレン基から見てオルト位あるいはパラ位に結合する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000006
mは0あるいは1のいずれかの数字である。
R1,R2は炭化水素基であるが、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、リン原子を含有していてもよい。また、R1、R2が連結し環状構造をなしてもよい。
Yは水素またはヒドロキシル基を持つ芳香環を有する官能基である。
そして、リン含有エポキシ樹脂(D)としては、一般式(4)で示されるビスフェノールF型エポキシ樹脂(A)の含有率が、ビスフェノールF型エポキシ樹脂(A)を必須成分として含有するエポキシ樹脂(B)とリン含有化合物(C)の和に対して20重量%以上85重量%以下であることが望ましく、またリン含有率が1.5重量%以上5重量%以下であることが好ましい。
更に、本願発明の要旨は上記記載のリン含有エポキシ樹脂(D)を必須成分とし、硬化剤を配合してなる樹脂組成物であり、前記樹脂組成物を硬化してなる難燃性樹脂硬化物である。
 本発明者らはリン含有エポキシ樹脂について鋭意検討した結果、o,o’−BFDGEの含有率が低いBPF型エポキシ樹脂をリン含有化合物と反応した場合、得られるリン含有エポキシ樹脂は結晶性を有さず、o,o’−BFDGEの含有率が高いBPF型エポキシ樹脂を用いて得られるリン含有エポキシ樹脂と比較して溶融粘度が低下するという結果電子材料用途の難燃性エポキシ樹脂として極めて優れた性能を発揮し、またリン含有エポキシ樹脂を必須成分として硬化剤を配合してなる樹脂組成物は硬化反応性に優れ、さらにその硬化物は耐熱性に優れ、驚くべきことに接着性、難燃性が向上する効果を奏する。
 図1は本発明の高速液体クロマトグラフィー分析法にかかる、一般式(4)で示される化合物のクロマトグラムであり、具体的には実施例中に記載のBPF型エポキシ樹脂Vである。ピーク(O),ピーク(P),ピーク(Q)はそれぞれ一般式(1)で示される化合物(o,o’−BFDGE)、一般式(2)で示される化合物(o,p’−BFDGE)、一般式(3)で示される化合物(p,p’−BFDGE)である。
 図2は本発明のゲルパーミエーションクロマトグラフィー分析法にかかる、一般式(4)で示される化合物のクロマトグラムであり、具体的には実施例中に記載のBPF型エポキシ樹脂Vである。ピーク(R)はBFDGE、すなわちo,o’−BFDGEとo,p’−BFDGEとp,p’−BFDGEの混合物である。
 以下、本発明の実施の形態について、詳細に説明する。
代表的なエポキシ樹脂のひとつであるBPF型エポキシ樹脂はビスフェノールF(BPFと略称)を原料にエピハロヒドリンとアルカリ金属水酸化物等を用いて反応することで得られ、特徴はビスフェノールA型エポキシ樹脂と比較して低粘度の液状樹脂である。
 BPF型エポキシ樹脂の原料であるBPFはフェノールとホルムアルデヒドを酸触媒存在下において脱水縮合反応をして得られるものであるが、オルト・パラ配向性を有する反応であるため、2つのベンゼン核を有する2核体においては2,2’−ジヒドロキシジフェニルメタン(以下o,o’−BPF),2,4’−ジヒドロキシジフェニルメタン(以下o,p’−BPF),4,4’−ジヒドロキシジフェニルメタン(以下p,p’−BPF)の3種類のBPFが生成することが知られている。
 さらに、この生成したBPFと未反応のホルムアルデヒドおよびフェノールが反応することにより、3核体あるいはそれ以上の核体数の化合物が生成する。この反応時のモル比や触媒種、その他反応条件により目的の分子量分布を有するものを得ており、反応に用いられなかったフェノールは蒸留により回収し再使用している。この中で、2核体すなわちジヒドロキシジフェニルメタンの含有量がおおむね80重量%以上のものがBPFとして販売され、三井化学株式会社、本州化学工業株式会社などから入手が可能である。また、市販されているBPFを蒸留することにより、3核体以上の成分を限りなく0重量%近くにまで低減したものについても入手可能である。3核体以上の重合物を増やすことなく生産性を向上する方法にはいくつかの知見が得られており、たとえば特許文献6にはリン酸水溶液を触媒とし、ある特定の条件で液−液不均一反応をおこなうことで、3核体以上の重合物が生成する反応を抑制することが可能であると記載されている。
 BPFに含まれるo,o’−BPFとo,p’−BPFとp,p’−BPFの比率については使用する触媒種に大きく影響される。オルト位の反応がパラ位の反応よりも著しく遅い場合、パラ位の反応が選択的に進行し、3核体以上のノボラック樹脂が副生しにくくなって、フェノール/ホルムアルデヒドのモル比を小さくできる。すなわち仕込むフェノール量を少なくできるため加熱や冷却、反応後の蒸留によるフェノール回収にかかるエネルギーコストが小さくなり、さらにバッチあたりの生産量という視点でみると、ホルムアルデヒド量を増やせるため収量が多くなり、生産性は著しく向上する。なお、p,p’−BPF選択性の高い触媒を用いた場合でも1重量%程度のo,o’−BPFなどの副生物が混入するが、さらに精留や再結晶などの手法でp,p’−BPFの純度を高め、o,o’−BPF含有率を低減することができる。
 BPFを用いて得られるエポキシ樹脂についてはいくつかの先行文献があり、たとえば特許文献7にはp,p’−BPFをエポキシ化することにより、低粘度の樹脂を得られ、かつその硬化物は耐熱性に優れたものを得ることができると開示されている。しかしながら本発明者らの知見によればp,p’−BPFを用いて得られるBPF型エポキシ樹脂は、製造直後こそ低粘度の液状ではあるものの、時間の経過とともに結晶化が起こるため、長期の貯蔵安定性が問題として発生する。p,p’−BPF含有率の高いBPFを用いて得られるBPF型エポキシ樹脂も同様で、組成により結晶性の強さに強弱があるものの経時で結晶化がおこる。結晶化の速度はほぼp,p’−BFDGEの含有率に依存するが、エポキシ樹脂に硬化剤、触媒、フィラーなどを配合した硬化性樹脂組成物は結晶の析出が加速される場合がある。
 そのなかで特許文献8にはこの結晶性を解消できる条件について開示されており、高い耐熱性や金属との高い密着性を得られると記載されている。また特許文献9には3官能成分やo,p’−BPFをある一定量含有することで5℃で1週間保存して結晶が析出しないとしている。これらの先行文献の多くはo,p’−BFDGE成分、o,o’−BFDGE成分やBPF中に含まれる多官能成分のエポキシ化物を溶媒として用い、p,p’−BFDGEの結晶性を弱める条件について検討したものである。特許文献7および特許文献8には特に難燃性についての記述はない。
 さらに特許文献10ではBPF骨格にビフェノール骨格を併用したエポキシ樹脂を使用することで、高い耐熱性、難燃性を有する条件について開示されているが、ビフェノールのエポキシ化物は高い難燃性を有する骨格とされるが、結晶性が非常に強く、その融点も非常に高いため、BPFとエピハロヒドリンとの共重合により得られるエポキシ樹脂も結晶性を有し、固形となっている。そのため使用時に加熱、混合して均一化する作業が必要になる。また、ビフェノールもBPFと比較すると汎用性に劣り、また経済的なものではない。
 一般的に販売されているBPF型エポキシ樹脂は、前述の通りBPFとエピハロヒドリンを重縮合して得られるが、その繰り返し単位によって液状のものから固形のものまで多様に存在し、東都化成株式会社、jER株式会社、DIC株式会社、ヘキシオンスペシャリティケミカルズ社などより一般的に入手が可能である。代表的なグレードである液状のBPF型エポキシ樹脂はYDF−170(東都化成株式会社製)、jER806(jER株式会社製)、EPICLON830(DIC株式会社製)EPIKOTE862(ヘキシオンスペシャリティケミカルズ社製)などが挙げられる。液状樹脂中に結晶が析出した場合、使用する直前に再度溶解する工程が必要となり、作業性が悪くなるため、汎用で用いられる樹脂は貯蔵安定性を重視した組成設計としているのが一般的である。たとえば本発明で用いるHPLC分析法で測定した場合、YDF−170ではo,o’−BFDGEとo,p’−BFDGEとp,p’−BFDGEの面積の和に対するo,o’−BFDGEの面積が14面積%から16面積%程度であり、o,p’−BFDGEの面積が45面積%から48面積%程度であり、p,p’−BFDGEの面積が38面積%から40面積%程度である。そして他の市販品に関しても同様に、o,o’−BFDGE含有率は10面積%を超えているものとなっている。
 汎用でかつ経済的なエポキシ樹脂原料であるBPFの異性体組成を変えたもの、特にo,o’−BFDGE含有率を低減した生産性の高いBPFを用いて得られるエポキシ樹脂の物性については、エポキシ樹脂の結晶化による貯蔵安定性が問題となり充分に検討されていなかった。すなわちBPFの異性体組成を制御することにより、高い耐熱性、銅箔引きはがし強さ、層間接着力、難燃性などの硬化物性を有するエポキシ樹脂を得る方法は知られていなかった。
 前述の通り、p,p’−BFDGE含有率の高いBPF型エポキシ樹脂は製造直後こそ粘度が低く、作業性に優れる液状エポキシ樹脂であるものの、室温などの通常の状態で長期保存した場合、p,p’−BFDGEの結晶が析出して固体の樹脂となり、使用する前に加熱・溶解・混合などの作業が必要となるため、実際には必ずしも作業性に優れる樹脂ではない。しかしながら結晶性を有するBPF型エポキシ樹脂であってもリン含有化合物と反応することにより、結晶性を持たないリン含有エポキシ樹脂を得ることができる。また、本発明のリン含有エポキシ樹脂の硬化物はo,o’−BFDGE含有率が高いBPF型エポキシ樹脂より得られるものと比較して高い耐熱性を有する。しかしながら接着力が低下するということはなく、むしろ驚くべきことに銅箔と積層板との接着力、積層板のガラスクロスとガラスクロスの層間の接着力がともに高くなることを見いだした。さらには硬化物の難燃性についてもo,o’−BFDGE含有率の高いBPF型エポキシ樹脂を用いて得られるリン含有エポキシ樹脂の硬化物と比較して優れた性質を有することを見いだしたものである。
 本発明で用いるBPF型エポキシ樹脂は、一般式(4)で示されるものであるが、o,o’−BFDGE含有率が10面積%以下である。ここでいうo,o’−BFDGE含有率とは図1におけるピーク(O),ピーク(P),ピーク(Q)の和に対するピーク(O)の面積%を指す。なお、o,p’−BFDGE含有率とは図1におけるピーク(O),ピーク(P),ピーク(Q)の和に対するピーク(P)の面積%とし、p,p’−BFDGE含有率とは図1におけるピーク(O),ピーク(P),ピーク(Q)の和に対するピーク(Q)の面積と定義する。
 o,o’−BFDGE含有率が10面積%以下であるBPF型エポキシ樹脂を用いて本発明のリン含有エポキシ樹脂を得た場合、o,o’−BFDGE含有率が10面積%を越えて含有するBPF型エポキシ樹脂を用いて得られるリン含有エポキシ樹脂と比較して溶融粘度が低く、作業性に優れるものである。硬化物の物性としては従来技術にて作られる樹脂と比較して高い耐熱性を示し、それでありながら高い接着力を有する上、難燃性も向上することができる。
 本発明で用いるBPF型エポキシ樹脂を用いてリン含有エポキシ樹脂を得る場合、o,o’−BFDGE含有率が0面積%以上10面積%以下であるが、0面積%以上8面積%以下であれば好ましい。さらに好ましくは0面積%以上5面積%以下であり、望ましくは0面積%以上4.5面積%以下である。o,o’−体含有率が10面積%を越えて含有する場合は硬化時に反応に関与せずに残存する成分量が多くなり、耐熱性や接着性、難燃性に影響を与えることが問題である。
 さらに、用いるBPF型エポキシ樹脂は反応により得られるリン含有エポキシ樹脂に対して20重量%以上85重量%以下の範囲で使用する。好ましくは22重量%以上80重量%以下であり、さらに好ましくは24重量%以上75重量%以下である。なお、この計算では希釈溶剤を考慮しない固形分の値とする。BPF型エポキシ樹脂の使用量が20重量%を下回る場合、従来の技術との間に有意差がみられなくなり、85重量%を越えて使用する場合は必然的にリン含有化合物の使用量が減るために難燃性の不足や結晶の析出が問題となる。
 なお、本発明においてBPFに含まれる3核体以上のオリゴマー成分の含有率について特に定めるものではない。一般的に販売されているものは3核体以上のオリゴマー成分の含有率はおおむね20重量%未満であるが、これに限られるものではなく、また蒸留によりほとんど含有しないものもある。本発明で用いられる一般式(4)で示される化合物にはBPF中の3核体以上のオリゴマー成分に由来する多官能エポキシ樹脂も含有するが、特に重要な要素はo,o’−BFDGE含有率の低いBPF型エポキシ樹脂を用いることである。
 本発明のリン含有エポキシ樹脂(D)の製造方法を具体的に例示する。
 本発明にかかるBPF型エポキシ樹脂とリン含有化合物とを反応してリン含有エポキシ樹脂を得る際に用いるリン含有化合物は一般式(5)(前出)で示され、エポキシ基と反応し、結合することのできる官能基を1分子中にすくなくとも1つ有する。なお、一般式(5)において、Yとは水素または芳香族性水酸基を有する官能基であり、mは0または1である。また、R,Rは芳香族を含む炭化水素基であり、酸素、窒素、リン、硫黄などのヘテロ原子があってもよい。このR,Rは互いに独立していてもよいし、それぞれが連結して環状構造をなしてもよい。ただしmが1である場合はRとRが連結し環状構造を形成しているものが加水分解によるブリードアウト抑制の観点から好ましい。一般式(5)で示される化合物は具体的には9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキシド(HCA)やその誘導体である10−(2,5−ジヒドロキシフェニル)−9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキシド(HCA−HQ)、10−(2,7−ジヒドロキシナフチル)−9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキシド(HCA−NQ)が挙げられるが、これらに限定されるものではなく、単独で用いてもよいし、あるいは2種類以上を同時に用いてもよい。
 本発明のリン含有エポキシ樹脂(D)を反応によって得る際に、本発明にかかるBPF型エポキシ樹脂以外のエポキシ樹脂を樹脂の特性を失わない範囲で使用してもよい。ここで用いるエポキシ樹脂類は1分子中に2個以上のグリシジル基を持ったものが好ましいが、特に限定されるものではない。具体的にはエポトート YDC−1312、エポトート ZX−1027(東都化成株式会社製 ヒドロキノン型エポキシ樹脂)、エポトート ZX−1251(東都化成株式会社製 ビフェノール型エポキシ樹脂)、エポトート YD−127、エポトート YD−128、エポトート YD−8125、エポトート YD−825GS、エポトート YD−011、エポトート YD−900、エポトート YD−901(東都化成株式会社製 BPA型エポキシ樹脂)、エポトート YDPN−638(東都化成株式会社製 フェノールノボラック型エポキシ樹脂)、エポトート YDCN−701(東都化成株式会社製 クレゾールノボラック型エポキシ樹脂)、エポトート ZX−1201(東都化成株式会社製 ビスフェノールフルオレン型エポキシ樹脂)、NC−3000(日本化薬株式会社製 ビフェニレンメチレンフェノール型エポキシ樹脂)、EPPN−501H、EPPN−502H(日本化薬株式会社製 多官能エポキシ樹脂)、エポトート ZX−1355(東都化成株式会社製 ナフタレンジオール型エポキシ樹脂)、エポトート ESN−155、エポトート ESN−185V、エポトート ESN−175(東都化成株式会社製 β−ナフトールアラルキル型エポキシ樹脂)、エポトート ESN−355、エポトート ESN−375(東都化成株式会社製 ジヒドロキシナフタレンアラルキル型エポキシ樹脂)、エポトート ESN−475V、エポトート ESN−485(東都化成株式会社製 α−ナフトールアラルキル型エポキシ樹脂)等の多価フェノール樹脂等のフェノール化合物とエピハロヒドリンとから製造されるエポキシ樹脂、エポトート YH−434、エポトート YH−434GS(東都化成株式会社製 ジアミノジフェニルメタンテトラグリシジルアミン)等のアミン化合物とエピハロヒドリンとから製造されるエポキシ樹脂、エポトート YD−171(東都化成株式会社製 ダイマー酸型エポキシ樹脂)等のカルボン酸類とエピハロヒドリンとから製造されるエポキシ樹脂、エポトート FX−289B、エポトート FX−305(東都化成株式会社製 リン含有エポキシ樹脂)、フェノトート ERF−001(東都化成株式会社製 リン含有フェノキシ樹脂)等のエポキシ樹脂をリン含有フェノール化合物などの変性剤と反応して得られるリン含有エポキシ樹脂類などが挙げられるが、これらに限定されるものではなく単独で使用してもよく、あるいは2種類以上使用しても良い。
 本発明のリン含有エポキシ樹脂(D)を反応によって得る際に、フェノール類を用いてもよい。ここで用いるフェノール類は、1分子中に2個以上のフェノール性水酸基を持ったものが望ましいが特に限定されるものではない。具体的にはBPAやBPFなどに代表されるビスフェノール類、フェノールノボラック樹脂やクレゾールノボラック樹脂などに代表されるノボラック樹脂およびレゾール樹脂、キシリレン骨格を有するアラルキル樹脂、ビフェノール、ナフタレンジオール、ヒドロキノン、レゾルシノール、カテコールなどが挙げられるが、公知慣用であればこれらに限定されるものではなく、単独で使用してもよく、あるいは2種類以上使用しても良い。
 本発明のリン含有エポキシ樹脂(D)を得る方法としては、HCA、HCA—HQあるいはHCA—NQで示される化合物のうち少なくとも1種類から選ばれるリン含有化合物とBPF型エポキシ樹脂等を混合撹拌し、反応させる方法が挙げられる。他の方法としてはHCAとベンゾキノンあるいはナフトキノンで示されるキノン類化合物とをあらかじめ不活性溶媒中で反応せしめ、その後BPF型エポキシ樹脂等を加えて撹拌し反応させる方法が挙げられる。このときベンゾキノンで示される化合物はキノン化合物に対して量論的に過剰である。いずれの場合でも、通常リン含有化合物とエポキシ樹脂との反応は100℃から200℃の範囲の反応温度で1時間から10時間の反応時間でおこない、本発明のリン含有エポキシ樹脂(D)を得ることができる。また、この反応が遅い場合は必要に応じて触媒を使用して生産性の改善を図ることができる。さらに、反応時の粘度が高い場合は必要に応じて不活性溶媒を用いることができる。
 具体的な触媒としてはベンジルジメチルアミンなどの第3級アミン類、テトラメチルアンモニウムクロリド等の第4級アンモニウム塩類、トリフェニルホスフィン、トリス(2,6−ジメトキシフェニル)ホスフィンなどのホスフィン類、エチルトリフェニルホスホニウムブロミド等のホスホニウム塩類、2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール等のイミダゾール類等各種触媒を使用できる。また、反応溶媒の具体例はトルエン、キシレンなどが挙げられるがこれらに限定されるものではなく、単独で使用してもよいし2種類以上使用してもよい。
 本発明のリン含有エポキシ樹脂(D)のリン含有率は好ましくは1.5~5.0重量%、より好ましくは1.8~4.5重量%である。リン含有フェノール樹脂中のリン含有率が1.5重量%以下になると、難燃性を維持できないおそれがある。また、リン含有率が5.0重量%を越える場合は分子量が大きくなり、溶剤溶解性が著しく悪化するため取り扱いが難しくなる。
 本発明のリン含有エポキシ樹脂(D)と配合して硬化性樹脂組成物を得る際に使用する硬化剤としては、各種フェノール樹脂類や酸無水物類、アミン類、ヒドラジッド類、酸性ポリエステル類、アミノトリアジン類、その他公知慣用で使用されるエポキシ樹脂用硬化剤を使用することができ、これらの硬化剤は1種類だけ使用しても単独で使用してもよいし2種類以上使用しても良い。
 本発明のリン含有エポキシ樹脂(D)を必須成分とし、エポキシ樹脂硬化剤等を配合してエポキシ樹脂組成物を得る際に、リン含有エポキシ樹脂(D)の特性を損なわない範囲でエポキシ樹脂を別途用いてもよい。ここで用いるエポキシ樹脂は、少なくとも1分子中に2個以上のグリシジル基を持ったものが望ましい。具体的にはエポトート YDC−1312、エポトート ZX−1027(東都化成株式会社製 ヒドロキノン型エポキシ樹脂)、エポトート ZX−1251(東都化成株式会社製 ビフェノール型エポキシ樹脂)、エポトート YD−127、エポトート YD−128、エポトート YD−8125、エポトート YD−825GS、エポトート YD−011、エポトート YD−900、エポトート YD−901(東都化成株式会社製 BPA型エポキシ樹脂)、エポトート YDF−170、エポトート YDF−8170、エポトート YDF−870GS、エポトート YDF−2001(東都化成株式会社製 BPF型エポキシ樹脂)、エポトート YDPN−638(東都化成株式会社製 フェノールノボラック型エポキシ樹脂)、エポトート YDCN−701(東都化成株式会社製 クレゾールノボラック型エポキシ樹脂)、エポトート ZX−1201(東都化成株式会社製 ビスフェノールフルオレン型エポキシ樹脂)、NC−3000(日本化薬株式会社製 ビフェニレンメチレンフェノール型エポキシ樹脂)、EPPN−501H、EPPN−502H(日本化薬株式会社製 多官能エポキシ樹脂)エポトート ZX−1355(東都化成株式会社製 ナフタレンジオール型エポキシ樹脂)、エポトート ESN−155、エポトート ESN−185V、エポトート ESN−175(東都化成株式会社製 β−ナフトールアラルキル型エポキシ樹脂)、エポトート ESN−355、エポトート ESN−375(東都化成株式会社製 ジヒドロキシナフタレンアラルキル型エポキシ樹脂)、エポトート ESN−475V、エポトート ESN−485(東都化成株式会社製 α−ナフトールアラルキル型エポキシ樹脂)等の多価フェノール樹脂等のフェノール化合物とエピハロヒドリンとから製造されるエポキシ樹脂、エポトート YH−434、エポトート YH−434GS(東都化成株式会社製 ジアミノジフェニルメタンテトラグリシジルアミン)等のアミン化合物とエピハロヒドリンとから製造されるエポキシ樹脂、エポトート YD−171(東都化成株式会社製 ダイマー酸型エポキシ樹脂)等のカルボン酸類とエピハロヒドリンとから製造されるエポキシ樹脂、エポトート FX−289B、エポトート FX−305(東都化成株式会社製 リン含有エポキシ樹脂)、フェノトート ERF−001(東都化成株式会社製 リン含有フェノキシ樹脂)等のエポキシ樹脂をリン含有フェノール化合物などの変性剤と反応して得られるリン含有エポキシ樹脂類などが挙げられるが、これらに限定されるものではなく2種類以上併用しても良い。
 本発明のリン含有エポキシ樹脂(D)を必須成分とし、硬化剤を配合してなる硬化性樹脂組成物には必要に応じて第3級アミン、第4級アンモニウム塩、ホスフィン類、イミダゾール類等の硬化促進剤を配合することができる。
 本発明のリン含有エポキシ樹脂(D)を必須成分とし、硬化剤等を配合してなる硬化性樹脂組成物には、粘度調整用として有機溶剤も用いることができる。用いることができる有機溶剤としては、エチレングリコールモノメチルエーテル等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、メタノール、エタノール等のアルコール類、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類等が挙げられ、これらの溶剤のうち1種類だけ使用しても2種類以上使用しても良く、樹脂組成物溶液中の樹脂濃度として20重量%以上100重量%未満の範囲で配合することができる。
 本発明のリン含有エポキシ樹脂(D)を必須成分とし、硬化剤等を配合してなる硬化性樹脂組成物には必要に応じて充填材を配合することも出来る。具体的には水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、タルク、焼成タルク、クレー、カオリン、酸化チタン、ガラス粉末、微粉末シリカ、溶融シリカ、結晶シリカ、コロイダルシリカ、ポーラスシリカ、シリカバルーン等の無機フィラーが挙げられるが、顔料等を配合しても良い。これらについては公知慣用のものを使用でき、単独で使用してもよいし2種以上を併用してもよい。一般的には無機充填材を用いる理由として、耐衝撃性の向上が挙げられる。
 また、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウムなどの金属水酸化物を用いた場合、難燃助剤として機能し、リン含有率が少なくても難燃性を確保することができる。特に配合量が10%以上の場合、耐衝撃性の効果が高い。しかしながら、配合量が150%を越えると積層板用途として必要な項目である接着性が低下する。また、ガラス繊維、パルプ繊維、合成繊維、セラミック繊維等の繊維質充填材や微粒子ゴム、熱可塑性エラストマーなどの有機充填材を上記樹脂組成物に含有することもできる。これも同様にこれらに限定されるものではなく、公知慣用のものを使用でき、単独で使用してもよいし2種以上を併用してもよい。
 上記のような硬化性樹脂組成物にて得られる電子回路基板用材料としては、樹脂シート、樹脂付き金属箔、プリプレグ、積層板が挙げられる。樹脂シートを製造する方法としては、特に限定するものではないが、例えばポリエステルフィルム、ポリイミドフィルムなどの硬化性樹脂組成物に溶解しないキャリアフィルムに、上記のようなリン含有エポキシ樹脂組成物を好ましくは5~100μmの厚みに塗布した後、100~200℃で1~40分加熱乾燥してシート状に成型する。一般にキャスティング法と呼ばれる方法で樹脂シートが形成されるものである。このときリン含有エポキシ樹脂組成物を塗布するシートにはあらかじめ離型剤にて表面処理を施しておくと、成型された樹脂シートを容易に剥離することが出来る。ここで樹脂シートの厚みは5~80μmに形成することが好ましい。
 次に、上記のような硬化性樹脂組成物にて得られる樹脂付き金属箔について説明する。金属箔としては、銅、アルミニウム、真鍮、ニッケル等の単独、合金、複合の金属箔を用いることができる。厚みとして9~70μmの金属箔を用いることが好ましい。リン含有フェノール化合物を含んでなる難燃性樹脂組成物及び金属箔から樹脂付き金属箔を製造する方法としては、特に限定するものではなく、例えば上記金属箔の一面に、上記硬化性樹脂組成物を溶剤で粘度調整した樹脂ワニスをロールコーター等を用いて塗布した後、加熱乾燥して樹脂成分を半硬化(Bステージ化)して樹脂層を形成することにより得られるものである。樹脂成分を半硬化するにあたっては、例えば100~200℃で1~40分間加熱乾燥することができる。ここで、樹脂付き金属箔の樹脂部分の厚みは5~110μmに形成することが望ましい。
 次に、上記のような硬化性樹脂組成物を用いて得られるプリプレグについて説明する。シート状基材としては、ガラス等の無機繊維や、ポリエステル等、ポリアミン、ポリアクリル、ポリイミド、ケブラー等の有機質繊維の織布又は不織布を用いることができるがこれに限定されるものではない。硬化性樹脂組成物及び基材からプリプレグを製造する方法としては、特に限定するものではなく、例えば上記基材を、上記エポキシ樹脂組成物を溶剤で粘度調整した樹脂ワニスに浸漬して含浸した後、加熱乾燥して樹脂成分を半硬化(Bステージ化)して得られるものであり、例えば100~200℃で1~40分間加熱乾燥することができる。ここで、プリプレグ中の樹脂量は、全体に対して30~80重量%とすることが好ましい。
 次に、上記のような樹脂シート、樹脂付き金属箔、プリプレグ等を用いて積層板を製造する方法を説明する。プリプレグを用いて積層板を形成する場合は、プリプレグを一又は複数枚積層し、片側又は両側に金属箔を配置して積層物を構成し、この積層物を加熱・加圧して積層一体化する。ここで金属箔としては、銅、アルミニウム、真鍮、ニッケル等の単独、合金、複合の金属箔を用いることができる。積層物を加熱加圧する条件としては、硬化性樹脂組成物が硬化する条件で適宜調整して加熱加圧すればよいが、加圧時の圧力があまり低いと、得られる積層板の内部に気泡が残留し、電気的特性が低下する場合があるため、成形性を満足する条件で加圧することが好ましい。
 例えば温度を160~220℃、圧力を0.5から5MPa、加熱加圧時間を40~240分間にそれぞれ設定することができる。更にこのようにして得られた単層の積層板を内層材として、多層板を作製することができる。この場合、まず積層板にアディティブ法やサブトラクティブ法等にて回路形成を施し、形成された回路表面を酸溶液で処理して黒化処理を施して、内層材を得る。この内層材の、片側又は両側の回路形成面に、樹脂シート、樹脂付き金属箔、又はプリプレグにて絶縁層を形成すると共に、絶縁層の表面に導体層を形成して、多層板を形成するものである。
 樹脂シートを用いて絶縁層を形成する場合は、複数枚の内層材の回路形成面に樹脂シートを配置して積層物を形成する。あるいは内層材の回路形成面と金属箔の間に樹脂シートを配置して積層物を形成する。そしてこの積層物を加熱加圧して一体成形することにより、樹脂シートの硬化物を絶縁層として形成すると共に、内層材の多層化を形成する。あるいは内層材と導体層である金属箔を樹脂シートの硬化物を絶縁層として形成するものである。ここで、金属箔としては、内層材として用いられる積層板に用いたものと同様のものを用いることもできる。
 また加熱加圧成形は、内層材の形成と同様の条件にて行うことができる。積層板に樹脂を塗布して絶縁層を形成する場合は、内層材の最外層の回路形成面樹脂をリン含有エポキシ樹脂組成物またはリン含有エポキシ樹脂を含んでなる難燃性エポキシ樹脂組成物を好ましくは5~100μmの厚みに塗布した後、100~200℃で1~90分加熱乾燥してシート状に成形する。一般にキャスティング法と呼ばれる方法で形成されるものである。乾燥後の厚みは5~80μmに形成することが望ましい。このようにして形成された多層積層板の表面に、更にアディティブ法やサブトラクティブ法にてバイアホール形成や回路形成をほどこして、プリント配線板を形成することができる。
 また更にこのプリント配線板を内層材として上記の工法を繰り返すことにより、更に多層の多層板を形成することができるものである。また樹脂付き金属箔にて絶縁層を形成する場合は、内層材の回路形成面に、樹脂付き金属箔を、樹脂付き金属箔の樹脂層が内層材の回路形成面と対向するように重ねて配置して、積層物を形成する。そしてこの積層物を加熱加圧して一体成形することにより、樹脂付き金属箔の樹脂層の硬化物を絶縁層として形成すると共に、その外側の金属箔を導体層として形成するものである。ここで加熱加圧成形は、内層材の形成と同様の条件にて行うことができる。
 またプリプレグを用いて絶縁層を形成する場合は、内層材の回路形成面に、プリプレグを一枚又は複数枚を積層したものを配置し、更にその外側に金属箔を配置して積層物を形成する。そしてこの積層物を加熱加圧して一体成形することにより、プリプレグの硬化物を絶縁層として形成すると共に、その外側の金属箔を導体層として形成するものである。ここで、金属箔としては、内層板として用いられる積層板に用いたものと同様のものを用いることもできる。また加熱加圧成形は、内層材の形成と同様の条件にて行うことができる。このようにして形成された多層積層板の表面に、更にアディティブ法やサブトラクティブ法にてバイアホール形成や回路形成をほどこして、プリント配線板を形成することができる。また更にこのプリント配線板を内層材として上記の工法を繰り返すことにより、更に多層の多層板を形成することができる。
 以下に詳細に実施例を記載するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
 BPF型エポキシ樹脂は、o,o’−BFDGE含有率の異なるものを使用した。具体的にはBPF型エポキシ樹脂Vは、o,o’−BFDGE含有率が4.4面積%のものであり、BPF型エポキシ樹脂Wは、o,o’−BFDGE含有率が4.9面積%のものであり、BPF型エポキシ樹脂Xは、o,o’−BFDGE含有率が5.8面積%のものであり、BPF型エポキシ樹脂Yは、o,o’−BFDGE含有率が9.5面積%のものであり、BPF型エポキシ樹脂Zは、o,o’−BFDGE含有率が14.2面積%のものである。なお、BPF型エポキシ樹脂Zは東都化成株式会社製のエポトートYDF−170である。エポキシ当量その他の一般性状については実施例表1に記載した。また、実施例表2中においてはBPF型エポキシ樹脂と略記されており、各合成例において使用したBPF型エポキシ樹脂は実施例表2中に指定したものである。
 フェノールノボラック型エポキシ樹脂は東都化成株式会社製エポトートYDPN−638を用いた。
 リン化合物として三光株式会社製HCA、三光株式会社製HCA−HQを用いた。また、三光株式会社製HCAと川崎化成工業株式会社製1,4−ナフトキノンをトルエン溶媒中で反応し、濾過洗浄後、再結晶により精製した10−(2,7−ジヒドロキシナフチル)−9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキシド(HCA−NQ)を用いた。ベンゾキノン化合物としては関東化学株式会社試薬特級1,4−ベンゾキノンを用いた。ナフトキノン化合物は川崎化成工業株式会社製1,4−ナフトキノンを用いた。
 その他特に記載のないものについては一般に販売されている試薬を用いて合成をおこなった。
 表2中、o,o’−BFDGE含有率は以下の手法で分析をおこない求めた。
分離カラムとしてCadenza CD−C18 CD006(インタクト株式会社製)を備えたAgilent 1100series(HewLettPackerd社製)を使用した。カラム室の温度は40℃とし、溶離液は(a)水と(b)アセトニトリルを用い、流量は1mL/minとして表1に示すグラジエント条件で分析をおこなった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000007
また、検出は吸光度検出器によりおこない、280nmの波長における吸収をもとに面積%で定量をおこなった。図1には使用したBPF型エポキシ樹脂VのHPLCチャートを示す。o,o’−BFDGEとはピーク(O)であり、o,p’−BFDGEとはピーク(P)であり、p,p’−BFDGEとはピーク(Q)である。また、それぞれの含有率は、それぞれのピーク面積をピーク(O)、ピーク(P)、ピーク(Q)の面積の和で除し、面積%で表記したものである。各成分の含有率は以下の式により求めた。
o,o’−BFDGE含有率[面積%]=(O)の面積/{(O)の面積+(P)の面積+(Q)の面積}×100%
o,p’−BFDGE含有率[面積%]=(P)の面積/{(O)の面積+(P)の面積+(Q)の面積}×100%
p,p’−BFDGE含有率[面積%]=(Q)の面積/{(O)の面積+(P)の面積+(Q)の面積}×100%
 BPF型エポキシ樹脂は3種の異性体や副生成物である多核体が存在し、分析が非常に複雑であるため、BFDGEを代表成分として、以下の手法で分析をおこなった。分離カラムとしてTSK−GEL 2000HXL、TSK−GEL 2000HXL、TSK−GEL 1000HXLの3本(すべて東ソー株式会社製)を直列に接続したものを備えたHLC−8220(東ソー株式会社製)を使用した。カラム室の温度は40℃とし、溶離液はテトラヒドロフランを用い、流量は1mL/minとした。また、検出は屈折率(RI)検出器を用いておこない、面積%で定量をおこなった。図2には使用したBPF型エポキシ樹脂VのGPCチャートを示す。ピーク(R)はp,p’−BFDGEとo,p’−BFDGEとo,o’−BFDGEとの混合物である。ピーク(R)以外の高分子量成分はBPF中に含まれる3核体以上の成分のエポキシ化物、あるいは一般式(4)で示される化合物においてnが1以上である成分や各種副生成物等の混合物である。表1中の2核体n=0成分含有率とはピーク(R)の面積を全面積で除し、面積%で表記したものである。
実施例1
 攪拌機、温度計、冷却管、窒素導入口を備えた2LのセパラブルフラスコにHCAで示される化合物を209.0g、トルエンを400.0g仕込み、75℃で撹拌溶解した。完全に溶解したら温度に注意しながら1,4−ナフトキノンを148.3g、少量ずつ仕込み、温度を80℃から90℃の範囲にして30分間保持した。その後トルエンの還流温度まで昇温後2時間保持して系内の脱水および熟成をおこない、リン化合物を得た。ここでo,o’−BFDGE含有率が4.4面積%であるBPF型エポキシ樹脂Vを642.7g仕込み、150℃まで昇温してトルエンの留去をおこなった。反応触媒としてトリフェニルホスフィンをトルエンに溶解し、反応系に添加した。トリフェニルホスフィンはリン含有化合物に対して0.1重量%とした。これを165℃まで昇温し、4時間反応をおこなった。反応終了後は少量ずつメチルエチルケトンを系内に滴下しつつ冷却し、溶解した。この樹脂溶液の固形分は70重量%になるように調整した。
実施例2
 BPF型エポキシ樹脂として、o,o’−BFDGEの含有率が4.9面積%であるBPF型エポキシ樹脂Wを用いた他は実施例1と同様の操作をおこない、固形分が70重量%であるリン含有エポキシ樹脂溶液を得た。
実施例3
 BPF型エポキシ樹脂として、o,o’−BFDGEの含有率が5.8面積%であるBPF型エポキシ樹脂Xを用いた他は実施例1と同様の操作をおこない、固形分が70重量%であるリン含有エポキシ樹脂溶液を得た。
実施例4
 BPF型エポキシ樹脂として、o,o’−BFDGEの含有率が9.5面積%であるBPF型エポキシ樹脂Yを用いた他は実施例1と同様の操作をおこない、固形分が70重量%であるリン含有エポキシ樹脂溶液を得た。
比較例1
 BPF型エポキシ樹脂として、o,o’−BFDGEの含有率が14.2面積%であるBPF型エポキシ樹脂Zを用いた他は実施例1と同様の操作をおこない、固形分が70重量%であるリン含有エポキシ樹脂溶液を得た。
実施例5
 実施例1と同様の装置にHCAを139.4g、トルエンを290.0g仕込み、75℃で撹拌溶解した。完全に溶解したら温度に注意しながらナフトキノンを71.4g、少量ずつ仕込み、温度を80℃から90℃の範囲にして30分間保持した。その後トルエンの還流温度まで昇温後2時間保持して系内の脱水および熟成をおこない、リン化合物の混合物を得た。ここでo,o’−BFDGE含有率が4.4面積%であるBPF型エポキシ樹脂Vを300.0gとフェノールノボラック型エポキシ樹脂を489.3g仕込み、150℃まで昇温してトルエンの留去をおこなった。以下、実施例1と同様の操作で固形分が75重量%であるリン含有エポキシ樹脂溶液を得た。
比較例2
 BPF型エポキシ樹脂として、o,o’−BFDGEの含有率が14.2面積%であるBPF型エポキシ樹脂Zを用いた他は実施例5と同様の操作をおこない、固形分が75重量%であるリン含有エポキシ樹脂溶液を得た。
実施例6
 実施例1と同様の装置にHCA—HQを313.5gとo,o’−BFDGEの含有率が5.8面積%であるBPF型エポキシ樹脂Xを686.5g仕込み、150℃まで昇温して系内の脱水をおこなった。反応触媒としてトリフェニルホスフィンをメチルエチルケトンに溶解し、反応系に添加した。トリフェニルホスフィンはリン含有化合物に対して0.1重量%とした。これを165℃まで昇温し、4時間反応をおこなった。反応終了後は少量ずつメチルエチルケトンを系内に滴下しつつ冷却し、溶解した。この樹脂溶液の固形分は70重量%になるように調整した。
比較例3
 BPF型エポキシ樹脂として、o,o’−BFDGEの含有率が14.2面積%であるBPF型エポキシ樹脂Zを用いた他は実施例6と同様の操作をおこない、固形分が75重量%であるリン含有エポキシ樹脂溶液を得た。
実施例7
 実施例1と同様の装置にHCA—NQを289.5gとo,o’−BFDGEの含有率が5.8面積%であるBPF型エポキシ樹脂Xを710.5g仕込んだ他は実施例6と同様の操作をおこない、固形分が70重量%であるリン含有エポキシ樹脂溶液を得た。
比較例4
 BPF型エポキシ樹脂として、o,o’−BFDGEの含有率が14.2面積%であるBPF型エポキシ樹脂Zを用いた他は実施例6と同様の操作をおこない、固形分が75重量%であるリン含有エポキシ樹脂溶液を得た。
比較例5
 実施例1と同様の装置にHCAを139.4g、トルエンを290.0g仕込み、75℃で撹拌溶解した。完全に溶解したら温度に注意しながらナフトキノンを81.5g、少量ずつ仕込み、温度を80℃から90℃の範囲にして30分間保持した。その後トルエンの還流温度まで昇温後2時間保持して系内の脱水および熟成をおこない、リン化合物の混合物を得た。ここでo,o’−BFDGE含有率が4.4面積%であるBPF型エポキシ樹脂Vを150.0gとフェノールノボラック型エポキシ樹脂を629.1g仕込み、150℃まで昇温してトルエンの留去をおこなった。以下、実施例1と同様の操作で固形分が75重量%であるリン含有エポキシ樹脂溶液を得た。
比較例6
 BPF型エポキシ樹脂として、o,o’−BFDGEの含有率が14.2面積%であるBPF型エポキシ樹脂Zを用いた他は比較例5と同様の操作をおこない、固形分が75重量%であるリン含有エポキシ樹脂溶液を得た。
比較例7
 実施例1と同様の装置にHCA−HQを83.6gとBPF型エポキシ樹脂Vを916.4g仕込み、150℃まで昇温して系内の脱水をおこなった。反応触媒としてトリフェニルホスフィンをメチルエチルケトンに溶解し、反応系に添加した。トリフェニルホスフィンはリン含有化合物に対して0.1重量%とした。これを165℃まで昇温し、4時間反応をおこなった。反応終了後はそのまま冷却し、半固形のリン含有エポキシ樹脂を得た。
 表3及び表4中、リン含有率は分析値ではなく、仕込量から求めた理論値を記載した。エポキシ当量はJIS K−7236により求めた値を記載した。外観については得られた樹脂溶液を4℃で2週間保持し、結晶析出の有無を確認した。ただし比較例5については溶剤を含まない液状樹脂とした。溶融粘度はM.S.Tエンジニアリング株式会社製CV−1Sを用いて測定をおこない、標準試料としてJIS Z8809に適合する日本グリース株式会社製JS52000を使用した。測定温度は150℃とした。また、軟化点はJIS K 5601−2−2に記載の環球法により評価し、すべてグリセリン浴中で評価をおこなった。
 ジシアンジアミドは日本カーバイド工業株式会社製DYHARD−IIIを用い、ジシアンジアミド/N,N−ジメチルホルムアミド/2−メトキシエタノール=4/15/15(重量比)となるよう調製した。フェノールノボラック樹脂は昭和高分子株式会社製BRG−555を用い、フェノールノボラック樹脂/メチルエチルケトン=90/10(重量比)になるように調製した。また、2−エチル−4−メチルイミダゾールは四国化成工業株式会社製2E4MZを用い、2−エチル−4−メチルイミダゾール/メチルエチルケトン=1/1(重量比)となるように触媒溶液を調製した。また、メチルエチルケトン/2−メトキシエタノール=1/1(重量比)の組成で希釈溶液を調製した。
 配合は表5及び表6記載の値に従っておこなった。ただし、表中記載の値は固形分値であり、実際の配合は溶液でおこなった。なお、ジシアンジアミドはエポキシ基1個に対して活性水素が0.5個の割合となるように計算して配合した。エポキシ樹脂溶液、ジシアンジアミド溶液、フェノールノボラック樹脂溶液、触媒溶液を配合後、固形分が50重量%になるように希釈溶液を加えて調整し、硬化性樹脂組成物溶液(ワニス)を得た。
 ガラスクロスは東洋紡株式会社製WEA116E106S136を用い、また、銅箔は三井金属鉱業株式会社3EC−IIIを用いた。
配合により得られた樹脂組成物溶液をガラスクロスに含浸し、150℃の熱風循環式オーブンで7分間乾燥をおこない、規定のサイズに切り出しプリプレグを得た。
得られたプリプレグを単純に4枚積層したものと、プリプレグを4枚積層して銅箔ではさんだものをつくり、これらを真空加熱プレスすることにより2種類の積層板を得た。真空加熱プレスの条件は、真空下130℃で15分の予備加熱の後、170℃、プレス圧2MPaで70分の条件で本硬化をおこなった。なお、今回用いた銅箔にはシャイン面とマット面があるが、マット面がプリプレグ側、シャイン面が積層板表面となるようにはさみこんだ。
 160℃に加熱したホットプレートに硬化性樹脂組成物溶液を0.2mLはかりとり、ホットプレート上に移し、テフロン棒で組成物を撹拌してゲル化に要するまでの時間をワニスゲルタイムとした。ここでいうゲル化とは時間の経過とともに樹脂が増粘して反応が収束に向かい、テフロン棒と樹脂の間で糸引きが無くなった瞬間のことをいう。また、170℃に加熱したホットプレートにプリプレグをほぐして得られる樹脂の半硬化物(プリプレグパウダー)を0.1gはかりとり、ホットプレート上に移し、テフロン棒で組成物を撹拌してゲル化に要するまでの時間をプリプレグゲルタイムとした。ここでいうゲル化も上記と同様で、時間の経過とともに樹脂が増粘して反応が収束に向かい、テフロン棒と樹脂の間で糸引きが無くなった瞬間のことをいう。
 熱機械分析はセイコーインスツルメンツ株式会社製TMA/SS120Uを用いておこなった。試験片には銅箔のない積層板を用い、z軸方向の線膨張率を測定した。試験は室温から200℃まで5℃/minの昇温速度で測定し、2サイクルおこなった。このときの加重は19.6Nとし、2サイクル目における線膨張率の変曲外挿点の温度をTg(TMA)とした。
 粘弾性測定はセイコーインスツルメンツ株式会社製DMS120を用いておこなった。試験片には銅箔のない積層板を用いた。試験は室温から280℃まで、2℃/minの昇温速度でずり測定をおこない、10Hzにおけるtan δの極大値の温度をTg(DMS)とした。
 示差走査熱量分析はセイコーインスツルメンツ株式会社製DSC6200を用いておこなった。サンプルはプリプレグパウダーを用い、試験は室温から200℃まで10℃/minの昇温速度で2サイクルおこなった。2サイクル目にサンプルの熱容量が大きくなり始める変曲外挿点の温度TigをTg(DSC)とした。
 燃焼性試験はUnderwriter LaboratoryのSubject−94(以下UL−94)に従い試験をおこなった。試験片には銅箔のない積層板を用いた。判定は上記規格に従い、燃焼時間合計の項目には5本の試験片の総燃焼時間を記載した。
 銅箔引きはがし強さはJIS C−6481に記載されている試験法に従い銅箔と積層板との間で剥離試験をおこない測定した。また、ガラスクロスとガラスクロスの層間も同様の手法で剥離試験をおこない、層間接着力を測定した。なお、測定は島津製作所株式会社製EZ−Sを用いておこなった。
 ゲル分率は以下の手順で求めた。まず銅箔のない積層板を切り出し、熱重量分析をおこない積層板中の樹脂の含有率を求めた。セイコーインスツルメンツ株式会社製EXSTAR6000を用い、空気雰囲気下で室温から700℃まで10℃/minで昇温し、700℃になったら1時間そのまま保持し、分析をおこなった。セルは白金製のものを用いた。分析終了後にセルに残されたものがガラスクロスのみであり、有機物がないことを目視により確認し、分析により得られた重量減少率を樹脂含有率とした。次に同じ積層板を10mm×2mm角の短冊状に切断し、軽く水洗して切断により発生した粉末を取り除いた後、100℃で24時間乾燥し、試料を約3g得た。これを精秤し、30mLのテトラヒドロフランを加えた。これを30分間超音波拡散処理をした後23.5時間室温で静置した。これを濾過、乾燥、精秤し、前後の試料重量変化をみた。表3には初期の樹脂分重量を100重量%としたときの濾過乾燥後の樹脂分重量を重量%で示した。用いた式を以下に示す。
 ゲル分率[%]={1−(抽出前の試料重量−抽出後の試料重量)÷(抽出前の試料重量×樹脂含有率)}×100[%]
実施例8から実施例11、比較例8
 実施例8から実施例11、および比較例8はリン含有エポキシ樹脂を用いて得られる硬化性樹脂組成物、硬化物である。これらはリン含有率、硬化剤の種類が同一の条件であり、BPF型エポキシ樹脂の組成のみが異なるものである。まずBPF型エポキシ樹脂のo,o’−BFDGE含有率が低くなることにより著しく耐熱性が向上した。また、驚くべきことに接着力、特にガラスクロス間の層間接着力に向上が見られた。さらに、難燃性試験においては、o,o’−BFDGE含有率の低いBPF型エポキシ樹脂を使用して得られるリン含有エポキシ樹脂硬化物の方が総燃焼時間が短く、高い難燃性を有することが示された。その根拠としてo,o’−BFDGE含有率の高い樹脂を用いた硬化物はゲル分率が低く、抽出溶媒であるテトラヒドロフラン中にはGPCにより多くの低分子量成分検出されたことから、硬化反応に関与せず、残存したモノマーあるいはオリゴマー成分が易分解成分、易燃焼成分として存在し機能する可能性があるため、硬化反応性が悪いo,o’−BFDGEを多く含有するものについては硬化反応性、耐熱性、難燃性、接着力などに与える影響が大きくなるものと考えられる。
実施例12、比較例9
 実施例12と比較例9についてはBPF型エポキシ樹脂の使用量が実施例8などと比較して少ないため、実施例12と比較例9の差は実施例8と比較例8の差と比較して小さくなっているものの、o,o’−BFDGE含有率が低いBPF型エポキシ樹脂を用いたものについては耐熱性が高く、層間接着力もわずかではあるが向上した。さらに、難燃性試験においては、o,o’−BFDGE含有率が低いBPF型エポキシ樹脂BPF型エポキシ樹脂を使用して得られるリン含有エポキシ樹脂硬化物の方が総燃焼時間が短く、高い難燃性を有することが示された。
実施例13、比較例10
 実施例13と比較例10については、実施例8などとはリン含有化合物の種類が異なっているが、o,o’−BFDGE含有率が低いBPF型エポキシ樹脂を用いたものについては耐熱性が高く、層間接着力も向上した。さらに、難燃性試験においては、o,o’−BFDGE含有率が低いBPF型エポキシ樹脂を使用して得られるリン含有エポキシ樹脂硬化物の方が総燃焼時間が短く、高い難燃性を有することが示された。
実施例14、比較例11
 実施例14と比較例11についても実施例13,比較例10と同様で実施例8などとはリン含有化合物の種類が異なっているが、o,o’−BFDGE含有率が低いBPF型エポキシ樹脂を用いたものについては耐熱性が高く、層間接着力も向上した。さらに、難燃性試験において、o,o’−BFDGE含有率が低いBPF型エポキシ樹脂を使用して得られるリン含有エポキシ樹脂硬化物の方が総燃焼時間が短く、高い難燃性を有することが示された。
比較例12、比較例13
 比較例12と比較例13は用いたBPF型エポキシ樹脂の使用量を少なくした処方であるが、こちらは従来技術との差が小さく、有意差とは言えないレベルとなっていた。
比較例14
 BPF型エポキシ樹脂を多く用いる場合、必然的にリン含有化合物の使用量が少なくなる。そのため、得られたリン含有エポキシ樹脂は室温で14日間放置したとき結晶が析出した。また、得られた硬化物は難燃性を有さなかった。
以上の実施例および比較例の測定結果を表1~表6に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000008
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000009
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000010
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000011
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000012
 以上のことから、o,o’−BFDGE含有率が10面積%以下であるBPF型エポキシ樹脂をリン含有エポキシ樹脂に対して20重量%以上85重量%以下の範囲で用いて得られるリン含有エポキシ樹脂は高い耐熱性と高い接着力を有することがわかる。また、o,o’−BFDGE含有率の低いBPF型エポキシ樹脂を使用して得られるリン含有エポキシ樹脂の硬化物のほうが難燃性試験における総燃焼時間が短い傾向にあることから高い難燃性を示すと言える。
 高い難燃性が発現する理由としては、o,o’−BFDGE含有率の低いBPF型エポキシ樹脂を用いて得られる硬化物はゲル分率の評価において溶媒抽出による重量減少が少なく、逆にo,o’−BFDGE含有率の高いBPF型エポキシ樹脂を用いて得られる硬化物は多くの成分が溶媒に抽出されたことに起因するものと考えられる。溶媒に抽出された成分を分析した結果o,o’−BFDGEや分子量の小さいオリゴマー成分が多く検出されたことから、o,o’−BFDGE含有率の高いBPF型エポキシ樹脂を使用した場合には硬化物の架橋が不十分となり、o,o’−BFDGEなどの揮発しやすい成分が易燃焼成分として働くため難燃性に劣ると考えられる。逆にo,o’−BFDGE含有率が低いBPF型エポキシ樹脂を用いて得られるリン含有エポキシ樹脂の硬化物は充分な架橋がなされるために難燃性に優れるものが得られたと考えられる。
[0103]ただし、原料として使用したBPF型エポキシ樹脂が反応により得られたリン含有エポキシ樹脂に対して85重量%を越える場合は、系内に残存するBPF型エポキシ樹脂が結晶化し、均一な樹脂とならないばかりか難燃性が不足するという結果を得た。
 本発明は、電子材料用途の難燃性エポキシ樹脂として利用することが出来る。

Claims (5)

  1. 一般式(4)で示されるビスフェノールF型エポキシ樹脂(A)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-I000001
    (式中nは0以上の整数である。また、芳香環と連結する酸素原子はメチレン基から見てオルト位あるいはパラ位に結合する。)
    を必須成分として含有するエポキシ樹脂(B)と、式(5)、
    Figure JPOXMLDOC01-appb-I000002
    (式中R、Rは炭化水素基であるが、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、リン原子を含有していてもよく、またR、Rが連結し環状構造をなしていてもよい。Yは水素またはヒドロキシル基を持つ芳香環を有する官能基である。mは0または1の何れかの数字である。)
    で示されるリン含有化合物(C)を反応して得られるリン含有エポキシ樹脂(D)であって、前記一般式(4)で示されるビスフェノールF型エポキシ樹脂に含まれる成分のうち、式(1)で示される化合物の割合が、化学式(1)で示される化合物と化学式(2)で示される化合物と化学式(3)で示される化合物の和に対して、高速液体クロマトグラム上で0面積%以上10面積%以下であることを特徴とするリン含有エポキシ樹脂。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-I000003
  2. 一般式(4)で示されるビスフェノールF型エポキシ樹脂の含有率が、一般式(4)で示されるビスフェノールF型エポキシ樹脂(A)を必須成分として含有するエポキシ樹脂(B)と一般式(5)で示される構造を有するリン含有化合物(C)の和に対して20重量%以上85重量%以下である請求項1記載のリン含有エポキシ樹脂。
  3. リン含有率が1.5重量%以上5重量%以下である請求項1記載のリン含有エポキシ樹脂。
  4. 請求項1−3の何れかの項に記載のリン含有エポキシ樹脂を必須成分とし、硬化剤を配合してなるリン含有エポキシ樹脂。
  5. 請求項4に記載の樹脂組成物を硬化してなる難燃性樹脂硬化物。
PCT/JP2010/070066 2009-11-05 2010-11-04 リン含有エポキシ樹脂、樹脂組成物、およびその難燃性硬化物 WO2011055850A1 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009-253612 2009-11-05
JP2009253612A JP5686512B2 (ja) 2009-11-05 2009-11-05 リン含有エポキシ樹脂、樹脂組成物、およびその難燃性硬化物

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2011055850A1 true WO2011055850A1 (ja) 2011-05-12

Family

ID=43970081

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2010/070066 WO2011055850A1 (ja) 2009-11-05 2010-11-04 リン含有エポキシ樹脂、樹脂組成物、およびその難燃性硬化物

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP5686512B2 (ja)
TW (1) TW201122050A (ja)
WO (1) WO2011055850A1 (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5911700B2 (ja) * 2011-11-11 2016-04-27 新日鉄住金化学株式会社 難燃性エポキシ樹脂及び該エポキシ樹脂を必須成分とする組成物、硬化物
WO2013187184A1 (ja) * 2012-06-15 2013-12-19 新日鉄住金化学株式会社 リン含有エポキシ樹脂及び該エポキシ樹脂を必須成分とする組成物、硬化物
JP6697903B2 (ja) * 2016-02-29 2020-05-27 日鉄ケミカル&マテリアル株式会社 ビスフェノールf型エポキシ樹脂及びその製造方法
WO2023167148A1 (ja) * 2022-03-03 2023-09-07 日鉄ケミカル&マテリアル株式会社 リン含有(メタ)アクリロイル化合物、その製造方法、及びリン含有(メタ)アクリロイル化合物を含む難燃性樹脂組成物、硬化物、並びに電子回路基板用積層板

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2000044805A1 (fr) * 1999-01-28 2000-08-03 Takeda Chemical Industries, Ltd. Vinylesters retardateurs de flamme, resines et compositions de resines contenant lesdits vinylesters, et produits durcis obtenus a partir de ceux-ci
JP2000309624A (ja) * 1999-02-23 2000-11-07 Dainippon Ink & Chem Inc 難燃性エポキシ樹脂組成物及び難燃性エポキシ樹脂の製造方法
JP2001278950A (ja) * 2000-03-31 2001-10-10 Dainippon Ink & Chem Inc エポキシ樹脂組成物
JP2006342217A (ja) * 2005-06-07 2006-12-21 Sanko Kk リン含有難燃性ビスフェノール型エポキシ樹脂の製造方法並びにリン含有難燃性ビスフェノール型エポキシ樹脂及びリン含有難燃性ビスフェノール型エポキシ樹脂組成物
JP2007291227A (ja) * 2006-04-25 2007-11-08 Toto Kasei Co Ltd 難燃性炭素繊維強化複合材料
WO2008133246A1 (ja) * 2007-04-24 2008-11-06 Panasonic Electric Works Co., Ltd. エポキシ樹脂組成物、樹脂フィルム、プリプレグ、及び多層プリント配線板
WO2009060987A1 (ja) * 2007-11-09 2009-05-14 Tohto Kasei Co., Ltd. リン含有エポキシ樹脂及びリン含有エポキシ樹脂組成物、その製造方法と該樹脂及び該樹脂組成物を用いた硬化性樹脂組成物及び硬化物

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2000044805A1 (fr) * 1999-01-28 2000-08-03 Takeda Chemical Industries, Ltd. Vinylesters retardateurs de flamme, resines et compositions de resines contenant lesdits vinylesters, et produits durcis obtenus a partir de ceux-ci
JP2000309624A (ja) * 1999-02-23 2000-11-07 Dainippon Ink & Chem Inc 難燃性エポキシ樹脂組成物及び難燃性エポキシ樹脂の製造方法
JP2001278950A (ja) * 2000-03-31 2001-10-10 Dainippon Ink & Chem Inc エポキシ樹脂組成物
JP2006342217A (ja) * 2005-06-07 2006-12-21 Sanko Kk リン含有難燃性ビスフェノール型エポキシ樹脂の製造方法並びにリン含有難燃性ビスフェノール型エポキシ樹脂及びリン含有難燃性ビスフェノール型エポキシ樹脂組成物
JP2007291227A (ja) * 2006-04-25 2007-11-08 Toto Kasei Co Ltd 難燃性炭素繊維強化複合材料
WO2008133246A1 (ja) * 2007-04-24 2008-11-06 Panasonic Electric Works Co., Ltd. エポキシ樹脂組成物、樹脂フィルム、プリプレグ、及び多層プリント配線板
WO2009060987A1 (ja) * 2007-11-09 2009-05-14 Tohto Kasei Co., Ltd. リン含有エポキシ樹脂及びリン含有エポキシ樹脂組成物、その製造方法と該樹脂及び該樹脂組成物を用いた硬化性樹脂組成物及び硬化物

Also Published As

Publication number Publication date
JP2011099019A (ja) 2011-05-19
JP5686512B2 (ja) 2015-03-18
TW201122050A (en) 2011-07-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI695022B (zh) 含有噁唑烷酮環的環氧樹脂、其製造方法、環氧樹脂組成物、其固化物及其應用
EP2532710B1 (en) Phenol resin composition, curable resin composition, cured products thereof, and printed circuit board
JP5632163B2 (ja) リン含有エポキシ樹脂及びリン含有エポキシ樹脂組成物、その製造方法と該樹脂及び該樹脂組成物を用いた硬化性樹脂組成物及び硬化物
EP2409979A1 (en) Process for production of phosphorus-atom-containing phenol, novel phosphorus-atom-containing phenol, curable resin composition, cured product thereof, printed circuit board, and semiconductor sealing material
EP2537853A1 (en) Phosphorus-atom-containing oligomers, process for producing same, curable resin composition, cured product thereof, and printed wiring board
KR101903190B1 (ko) 난연성 에폭시 수지 및 그 에폭시 수지를 필수 성분으로 하는 조성물, 경화물
CN110520433B (zh) 含磷酚化合物、含磷环氧树脂、其固化性树脂组合物或环氧树脂组合物及其固化物
US20200087444A1 (en) Epoxy resin, production method, and epoxy resin composition and cured product thereof
EP3845578B1 (en) Phosphorous-containing epoxy resin, epoxy resin composition, prepreg, laminated plate, material for circuit board and cured product
JP6956570B2 (ja) リン含有エポキシ樹脂、その製造方法、エポキシ樹脂組成物及びその硬化物
JP7368551B2 (ja) エポキシ樹脂組成物の製造方法、及びビフェニルアラルキル型フェノール樹脂の使用方法
WO2022124252A1 (ja) 多価ヒドロキシ樹脂、エポキシ樹脂、それらの製造方法、エポキシ樹脂組成物及びその硬化物
EP2682398A1 (en) Phosphorus-atom-containing oligomer composition, curable resin composition, substance resulting from curing same, and printed circuit board
JP5686512B2 (ja) リン含有エポキシ樹脂、樹脂組成物、およびその難燃性硬化物
JP6799376B2 (ja) オキサジン樹脂組成物及びその硬化物
JP2020122034A (ja) エポキシ樹脂組成物及びその硬化物
JP5587542B2 (ja) リン含有エポキシ樹脂およびリン含有エポキシ樹脂組成物、その製造方法と該樹脂および該樹脂組成物を用いた硬化性樹脂組成物および硬化物
JP7387413B2 (ja) エポキシ樹脂組成物、それを使用した積層板及びプリント回路基板
JP7211744B2 (ja) エポキシ樹脂組成物およびその硬化物
TWI468416B (zh) 含磷酚化合物及其製造方法,使用該化合物之硬化性樹脂組成物及硬化物
JP7415550B2 (ja) 硬化性樹脂組成物、その硬化物、及び半導体封止材料
TWI807099B (zh) 含磷硬化劑、含有該含磷硬化劑及環氧樹脂的環氧樹脂組成物,以及其硬化物
JP5653374B2 (ja) リン含有エポキシ樹脂、該樹脂を含有するエポキシ樹脂組成物、該樹脂を含有する硬化性エポキシ樹脂組成物、及びそれらから得られる硬化物
JP5322286B2 (ja) リン含有フェノール樹脂、該樹脂の製造方法、該樹脂を用いたリン含有エポキシ樹脂組成物および該組成物の硬化物
WO2021246339A1 (ja) エポキシ樹脂組成物及びその硬化物

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 10828408

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 10828408

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1