WO2011036717A1 - 化合物薄膜太陽電池 - Google Patents

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Definitions

  • the present invention relates to a compound thin film solar cell.
  • I-III-VI 2 based compound semiconductor having a chalcopyrite structure is mainly composed of Cu as a group I element, In and / or Ga as a group III element, and Se and / or S as a group VI element.
  • a group I element In and / or Ga
  • Se and / or S as a group VI element
  • a compound thin film solar cell using Cu (In 1-x Ga x ) (Se 1-y S y ) 2 for the light absorption layer contains In and Ga as constituent elements.
  • In and Ga are rare metals, and there is a high possibility that stable supply will be difficult due to the fact that it is difficult to produce high-grade ores that have low resource reserves or that can be mined economically.
  • refining from ore is not easy because refining requires very high technology and large energy, and this is a factor that increases the price.
  • a highly efficient CIGS (Cu (In 1-x Ga x ) Se 2 ) solar cell is obtained with a thin film of a p-type semiconductor in which CIGS has a slight Group III excess composition from a constant ratio.
  • a multi-source deposition method particularly a three-stage method is used.
  • In, Ga, Se is vapor-deposited on the first layer to form an (In, Ga) 2 Se 3 film, and then only Cu and Se are supplied to make the composition of the entire film Cu-rich.
  • In, Ga, and Se fluxes are supplied again to make the final composition of the film (In, Ga) excessive.
  • the vapor deposition method can precisely control the chemical composition and can produce a highly efficient CIGS solar cell, but it is difficult to increase the area due to process limitations.
  • the compound thin film solar cell uses CuIn x Ga 1-x Se 2 (CIGS) (solid solution of CuInSe 2 and CuGaSe 2 ) or CdTe as a light absorption layer, and both are made of a material containing a harmful metal or a rare metal. Therefore, there is a problem that the environmental load is large and the manufacturing cost of the solar cell is increased.
  • CGS CuIn x Ga 1-x Se 2
  • the present invention aims to solve such a problem, and a compound thin film having a material structure that does not contain a harmful element typified by Se or Cd and a rare element typified by In or Ga as much as possible while maintaining high conversion efficiency. It aims at providing a solar cell and its manufacturing method.
  • the compound thin film solar cell includes a substrate, a back electrode provided on the substrate, a take-out electrode provided on the back electrode, a light absorption layer provided on the back electrode, and the light absorption layer.
  • a buffer layer provided; a transparent electrode layer provided on the buffer layer; an antireflection film provided on the transparent electrode layer; and a take-out electrode provided on the transparent electrode layer.
  • a compound thin film solar cell having a material configuration that contains as little a harmful element as typified by Se or Cd and a rare element typified by In or Ga as much as possible.
  • Se is used as a group VI element in a chalcopyrite compound semiconductor of the I-III-VI 2 system.
  • Se has strong toxicity and a large band gap, there are environmental problems and cost problems such as the need to use a large amount of rare metals such as Ga and In. Te is less toxic than Se, and has a preferable characteristic that the band gap is small and the amount of rare metal used can be reduced as compared with a chalcopyrite compound semiconductor using Se as a group VI.
  • CuAlTe 2 , CuGaTe 2 and CuInTe 2 all exhibit a chalcopyrite structure and form a solid solution.
  • Table 1 shows band gaps of chalcopyrite type compound semiconductors of the I-III-VI 2 system and the group VI element consisting of Te.
  • CuAlTe 2 in Table 1 is an experimental value obtained by the inventors, and values of CuGaTe 2 and CuInTe 2 are experimental values in the literature.
  • the band gap can be greatly modulated by changing only the group III element in the I-III-VI 2 system.
  • a preferred band gap for the solar spectrum is 1.0 eV to 1.5 eV.
  • the band gap of the optimal sunlight spectrum is often set to 1.4 eV to 1.5 eV. There is also a report that the conversion efficiency becomes maximum in the vicinity of 1.2 eV.
  • the band gap is preferably in the range of 1.0 eV to 1.5 eV, which is a preferable band gap for the light absorption layer of the solar cell.
  • the band gap is preferably in the range of 1.0 eV to 1.5 eV, which is a preferable band gap for the light absorption layer of the solar cell.
  • the band gap is preferably in the range of 1.0 eV to 1.5 eV, which is a preferable band gap for the light absorption layer of the solar cell.
  • Compound semiconductor in which group VI Te of the I-III-VI 2 system chalcopyrite compound semiconductor which is a light absorption layer is partially substituted with Se or S (the amount of Se, S is from the amount (mol) of Te) Can be used as the light absorption layer. At that time, it is desired that the chalcopyrite structure is maintained that the band gap is in the range of 1.0 to 1.5 eV.
  • FIG. 1 illustrates a molecular structure in which part of Te in a chalcopyrite type compound semiconductor CuAlTe 2 is replaced with O.
  • the optical band gap of the CuAlTe 2 thin film is 2.25 eV, and the band gap can be controlled to 1.0 eV by replacing Al with In or Ga.
  • Te has a lower vapor pressure than Se, it is easy to handle, and it is expected that the composition can be easily controlled when the film is formed. Furthermore, when a Te-based chalcopyrite compound semiconductor is used for the parent phase, the amount of In or Ga added to adjust to the optimum band gap can be reduced, so that segregation can be suppressed and a thin film having a uniform composition can be produced. .
  • FIG. 3 shows a schematic cross-sectional view of an example of a compound thin film solar cell according to the present invention.
  • the compound thin film solar cell includes a substrate 11, a back electrode 12, a light absorption layer 13, buffer layers 14 a and b, a transparent electrode layer 15, a takeout electrode 16, and an antireflection film 17.
  • the substrate 11 it is desirable to use blue plate glass, and it is also possible to use a metal plate such as stainless steel, Ti or Cr, or a resin such as polyimide.
  • a metal film such as W can be used. Among these, it is desirable to use a Mo film.
  • FIG. 4 shows the band structure of the pn junction interface in the compound thin film solar cell.
  • the chalcopyrite compound semiconductor of the light absorption layer 13 is a p-type semiconductor
  • the buffer layer 14a typified by CdS or ZnO: Mg functions as an n-type semiconductor
  • the buffer layer 14b typified by ZnO functions as an n + -type layer. Conceivable.
  • the conduction band discontinuity (CBO) ⁇ E c is preferably 0 eV or more and 0.4 eV or less, and more preferably 0.1 eV or more and 0.35 eV or less.
  • the conduction band structure or conduction band discontinuity can be directly evaluated by inverse photoelectron spectroscopy, which is the reverse process of photoemission.
  • the thickness of the window layer and buffer layer formed on the light absorption layer is quite thick, such as several ⁇ m and several tens of nm, respectively. In this case, it is necessary to remove each layer without damage or deterioration, and etching using a low ion beam is usually used.
  • the transparent electrode layer 15 is required to transmit sunlight and to have conductivity.
  • B from ZnO: Al or diborane containing 2 wt% of alumina (Al 2 O 3 ) is used as a dopant.
  • ZnO: B can be used.
  • the extraction electrode 16 for example, Al, Ag, or Au can be used.
  • MgF 2 is desirably used as the antireflection film 17.
  • Example 1 A blue glass substrate was used as the substrate 11, and a Mo thin film serving as the back electrode 12 was deposited by about 700 nm by sputtering. Sputtering was performed by applying RF 200 W in an Ar gas atmosphere using Mo as a target. After the Mo thin film to be the back electrode 12 was deposited, a Cu (Al 1-y In y ) Te 2 thin film to be the light absorption layer 13 was similarly deposited by about 2 ⁇ m by RF sputtering. Here, the target composition y was set to 0.8 so that the band gap was about 1.18 eV. Film formation was performed by applying RF 200 W in an Ar gas atmosphere.
  • the Cu (Al 1-y In y ) Te 2 thin film immediately after sputter deposition is amorphous and has a very small particle size, but is crystallized by heat treatment at a high temperature, and the particle size becomes 100 nm or more. This can contribute to higher efficiency of solar cells.
  • FIG. 5 is an X-ray diffraction result of a thin film in which CuAlTe 2 serving as a parent phase is deposited under the same conditions as the film forming conditions. It can be seen that the thin film to be the light absorption layer 13 manufactured under the film forming conditions is a single phase film having a chalcopyrite structure. It was estimated from the optical property evaluation of the produced CuAlTe 2 thin film that the optical band gap was 2.25 eV (FIG. 6).
  • a ZnO thin film to which Mg was added as a buffer layer 14a was deposited to a thickness of about 50 nm. As shown in FIG. 4, the amount of Mg added was set to 20% so as to form a band offset at the interface between the light absorption layer 13 and the buffer layer 14a. RF sputter was used for film formation, but the output was 50 W in consideration of plasma damage at the interface.
  • a ZnO thin film was deposited as a buffer layer 14b, and then ZnO: Al containing 2 wt% of alumina (Al 2 O 3 ) to be the transparent electrode 15 was deposited to about 1 ⁇ m.
  • NiCr and Au were deposited by an evaporation method.
  • the film thickness was 100 nm and 300 nm, respectively.
  • MgF 2 was deposited as an antireflection film 17 to a thickness of about 500 nm by sputtering to produce the compound thin film solar cell shown in FIG.
  • Example 2 A blue glass substrate was used as the substrate 11, and a Mo thin film serving as the back electrode 12 was deposited by about 700 nm by sputtering. Sputtering was performed by applying RF 200 W in an Ar gas atmosphere using Mo as a target. After the Mo thin film serving as the back electrode 12 was deposited, a CuAlTe 2 thin film serving as the light absorption layer 13 was similarly deposited by about 2 ⁇ m by RF sputtering. Film formation was performed by applying RF 200 W in an Ar gas atmosphere.
  • the film formation chamber was evacuated, and heat treatment was performed in an ultrahigh vacuum atmosphere at 500 ° C.
  • the CuAlTe 2 thin film immediately after sputter deposition is amorphous and has a very small particle size, but is crystallized by heat treatment at a high temperature to have a particle size of 100 nm or more.
  • Oxygen is ion-implanted into the prepared CuAlTe 2 thin film with an energy of 90 keV, and then recrystallization is performed with an excimer laser annealing to compensate for defects caused by the ion implantation. Replacement was performed.
  • a ZnO thin film to which Mg was added as a buffer layer 14a was deposited to a thickness of about 50 nm.
  • the amount of Mg added was set to 40% so as to form a band offset at the interface between the light absorption layer 13 and the buffer layer 14a.
  • RF sputter was used for film formation, but the output was 50 W in consideration of plasma damage at the interface.
  • a ZnO thin film was deposited as a buffer layer 14b, and then ZnO: Al containing 2 wt% of alumina (Al 2 O 3 ) to be the transparent electrode 15 was deposited to about 1 ⁇ m.
  • NiCr and Au were deposited by an evaporation method.
  • the film thickness was 100 nm and 300 nm, respectively.
  • MgF 2 was deposited as an antireflection film 17 to a thickness of about 500 nm by sputtering to produce the compound thin film solar cell shown in FIG.

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Abstract

　高い変換効率を維持したまま、ＳｅあるいはＣｄに代表される有害元素及びＩｎあるいはＧａに代表される希少元素をできる限り含まない材料構成による化合物薄膜太陽電池を提供することを目的とする。　化合物薄膜太陽電池は、基板と、前記基板上に設けられた裏面電極と、前記裏面電極上に設けられた取り出し電極と、前記裏面電極上に設けられた光吸収層と、前記光吸収層上に設けられたバッファ－層と、前記バッファー層上に設けられた透明電極層と、前記透明電極層上に設けられた反射防止膜と、前記透明電極層上に設けられた取り出し電極とを少なくとも備え、　前記光吸収層がＣｕ（Ａｌ１－ｘ－ｙＧａｘＩｎｙ）(Ｔｅ１－ｚＯｚ)２（ただし、ｘおよびｙは(数式１)の範囲かつｚ＝０、またはｘおよびｙは(数式２)の範囲かつ０．００１≦ｚ≦０．０６２５）であり、かつ前記化合物はカルコパイライト型の結晶構造をもつことを特徴とする。 （数式１）Ｅｇ＝２．２５－１．０２ｘ－１．２９ｙ　(１．５≧Ｅｇ≧１．０) （数式２）Ｅｇ＝２．２５－１．０２ｘ－１．２９ｙ　(２．２５≧Ｅｇ≧１．０)

Description

化合物薄膜太陽電池
　本発明は、化合物薄膜太陽電池に関する。
　太陽電池の光吸収層として用いられる化合物半導体としては、ＣｄＴｅに代表されるＩＩ－ＶＩ系とＣｕＩｎＳｅ２に代表されるＩ－ＩＩＩ－ＶＩ2系が広く知られている。カルコパイライト構造を有するＩ－ＩＩＩ－ＶＩ2系化合物半導体は、Ｉ族元素として、主にＣｕ、ＩＩＩ族元素としてＩｎ及び／又はＧａ、ＶＩ族元素としてＳｅ及び／又はＳで構成される。係る材料の多様性に伴い、材料を適時選定することでバンドギャップを容易に制御することが可能である。実際、ＣｕＩｎＳｅ２（Ｅｇ＝1．０４ｅＶ）とバンドギャップの大きなＣｕＧａＳｅ２（Ｅｇ＝1．６８ｅＶ）を固溶することで太陽光の吸収に最適な1．４ｅＶにバンドギャップを調整する取り組みも行われている。
　Ｃｕ(Ｉｎ1－ｘＧａｘ)(Ｓｅ1－ｙＳｙ)２を光吸収層に用いた化合物薄膜太陽電池は、構成元素として、Ｉｎ及びＧａを含んでいる。Ｉｎ及びＧａは希少金属で、資源埋蔵量が少ないあるいは経済的に採掘可能な高品位の鉱石を産出することが困難である等の理由から安定供給が難しくなる可能性が高い。また、精錬に非常に高度な技術や大きなエネルギ－が必要などの理由により、鉱石からの精錬が容易ではなく、価格が高騰する要因となっている。
　高効率なＣＩＧＳ（Ｃｕ(Ｉｎ1－ｘＧａｘ)Ｓｅ２）太陽電池は、ＣＩＧＳが定比から若干ＩＩＩ族過剰組成を有するｐ型半導体の薄膜で得られる。作製法としては、多元蒸着法、特に３段階法が用いられる。３段階法では１層目にＩｎ,Ｇａ,Ｓｅを蒸着して(Ｉｎ,Ｇａ)2Ｓｅ3膜を形成し、次にＣｕとＳｅのみを供給して膜全体の組成をＣｕ過剰組成にし、最後に再びＩｎ,Ｇａ,Ｓｅフラックスを供給して、膜の最終組成が(Ｉｎ,Ｇａ)過剰組成にする。蒸着法は化学組成を精密に制御でき、高効率なＣＩＧＳ太陽電池を作製可能であるが、プロセスの制約上、大面積化が困難である。
特許第３２４４４０８号
　化合物薄膜太陽電池は光吸収層としてＣｕＩｎｘＧａ1－ｘＳｅ2（ＣＩＧＳ）（ＣｕＩｎＳｅ2及びＣｕＧａＳｅ2の固溶体）あるいはＣｄＴｅが用いられており、共に有害金属あるいは希少金属を含む材料で構成されており、環境負荷が大きく、太陽電池の製造コストが高くなるという問題がある。
　本発明は係る問題を解決することを目的とし、高い変換効率を維持したまま、ＳｅあるいはＣｄに代表される有害元素及びＩｎあるいはＧａに代表される希少元素をできる限り含まない材料構成による化合物薄膜太陽電池及びその製造方法を提供することを目的とする。
　化合物薄膜太陽電池は基板と、前記基板上に設けられた裏面電極と、前記裏面電極上に設けられた取り出し電極と、前記裏面電極上に設けられた光吸収層と、前記光吸収層上に設けられたバッファ－層と、前記バッファー層上に設けられた透明電極層と、前記透明電極層上に設けられた反射防止膜と、前記透明電極層上に設けられた取り出し電極とを少なくとも備え、前記光吸収層がＣｕ（Ａｌ１－ｘ－ｙＧａｘＩｎｙ）(Ｔｅ１－ｚＯｚ)２（ただし、ｘおよびｙは(数式１)の範囲かつｚ＝０、またはｘおよびｙは(数式２)の範囲かつ０．００１≦ｚ≦０．０６２５）であり、かつ前記化合物はカルコパイライト型の結晶構造をもつことを特徴とする。
（数式１）Ｅｇ＝２．２５－１．０２ｘ－１．２９ｙ　(１．５≧Ｅｇ≧１．０)
（数式２）Ｅｇ＝２．２５－１．０２ｘ－１．２９ｙ　(２．２５≧Ｅｇ≧１．０)
　本発明によれば、ＳｅあるいはＣｄに代表される有害元素及びＩｎあるいはＧａに代表される希少元素をできる限り含まない材料構成による化合物薄膜太陽電池が提供される。
ＣｕＡｌ（Ｔｅ１－ｚＯｚ）２（ｚ＝０．０３１２５）の単位胞の図である。 ＣｕＡｌ（Ｔｅ１－ｚＯｚ）２（ｚ＝０．０３１２５）の状態密度（Ａ）及びバンド図（Ｂ）である。 本発明の化合物薄膜太陽電池の基本構造の概念図である。 光吸収層とバッファ－層界面のバンドダイアグラムである。 ＣｕＡｌＴｅ２薄膜のＸ線回折結果である。 ＣｕＡｌＴｅ２薄膜の光学特性評価結果である。
　以下、本発明を実施するための形態について表及び図面を参照して詳細に説明する。
　従来はＩ－ＩＩＩ－ＶＩ2系のカルコパイライト型化合物半導体において、ＶＩ族元素にＳｅを用いている。しかし、Ｓｅには強い毒性があること、バンドギャップが大きくなることから、希少金属であるＧａやＩｎを多く用いる必要があることといった、環境問題やコストの問題がある。
　ＴｅはＳｅより毒性が低く、ＳｅをＶＩ族に用いたカルコパイライト型化合物半導体に比べてバンドギャップが小さく希少金属の使用量を少なくできるという好ましい特性がある。
　ＣｕＡｌＴｅ２、ＣｕＧａＴｅ２及びＣｕＩｎＴｅ２はいずれもカルコパイライト構造を示し、固溶体を形成する。
　表１にＩ－ＩＩＩ－ＶＩ2系でＶＩ族元素がＴｅから成るカルコパイライト型化合物半導体のバンドギャップを示す。表１のＣｕＡｌＴｅ2は発明者らの実験値でＣｕＧａＴｅ2とＣｕＩｎＴｅ2の値は文献の実験値である。表１から明らかなようにＩ－ＩＩＩ－ＶＩ2系でＩＩＩ族元素のみを変化させることでバンドギャップを大きく変調させることができる。
　太陽光スペクトルに好ましいバンドギャップとしては１．０ｅＶから１．５ｅＶである。最適な太陽光スペクトルのバンドギャップとしては１．４ｅＶから１．５ｅＶとされることが多い。１．２ｅＶ近傍で変換効率が最大になるという報告もある。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　これらの固溶体は、最もバンドギャップの小さいＣｕＩｎＴｅ２の０．９６ｅＶから最もバンドギャップの大きいＣｕＡｌＴｅ2の２．２５ｅＶの間でバンッドギャップを自在に変調することができる。表２にＣｕＡｌＴｅ２のＡｌの一部をＧａあるいはＩｎで置換したときのバンドギャップを例示する。表中の数値は固溶体のモル比で表している。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
　ＣｕＡｌＴｅ2のＡｌの一部をＧａで置換した場合（Ｃｕ（Ａｌ１－ｘＧａｘ）Ｔｅ２）では太陽電池の光吸収層として好ましいバンドギャップである１．０ｅＶから１．５ｅＶの範囲とするためには、０．７３≦ｘ≦１．０の条件を満たす組成で固溶体を作製することが望まれる。
　ＣｕＡｌＴｅ2のＡｌの一部をＩｎで置換した場合（Ｃｕ（Ａｌ１－ｙＩｎｙ）Ｔｅ２）では太陽電池の光吸収層として好ましいバンドギャップである１．０ｅＶから１．５ｅＶの範囲とするためには、０．５８≦ｙ≦０．９７の条件を満たす組成で固溶体を作製することが望まれる。
　ＡｌをＩｎおよびＧａの両方の元素で置き換えることも可能である。その場合、組成範囲としてＣｕ（Ａｌ１－ｘ－ｙＧａｘＩｎｙ）Ｔｅ２（ただし、ｘおよびｙはＥｇ＝２．２５－１．０２ｘ－１．２９ｙ（１≧ｘ＋ｙ＞０、１．５≧Ｅｇ≧１．０)）を満たすことが望まれる。
　光吸収層であるＩ－ＩＩＩ－ＶＩ２系カルコパイライト型化合物半導体のＶＩ族のＴｅを一部Ｓｅ又はＳで部分的に置換した化合物半導体（Ｓｅ、Ｓの量はＴｅの量（ｍｏｌ）より少ない）を光吸収層として用いることもできる。その際、バンドギャップが１．０から１．５ｅＶの範囲内にあることカルコパイライト構造を保持していることが望まれる。
　高効率化のためにカルコパイライト型化合物半導体Ｃｕ（Ａｌ１－ｘ－ｙＧａｘＩｎｙ）Ｔｅ２の中間準位導入を検討した。種々の検討を行った結果、ＶＩ族のＴｅの一部を酸素で置換（Ｃｕ（Ａｌ１－ｘ－ｙＧａｘＩｎｙ）（Ｔｅ１－ｚＯｚ）２）することで、好適なバンドギャップの中間準位を形成することを見いだした。酸素置換において、具体的な検討は第一原理計算を用いて行った。図１にカルコパイライト型化合物半導体ＣｕＡｌＴｅ２のＴｅを一部Ｏで置換した分子構造を例示する。ＣｕＡｌＴｅ２の単位胞の格子定数にはａ＝５．９６４Å、ｃ＝１１．７８Å、バンドギャップにはバルク単結晶の値２．０６ｅＶを用いた。ユニットセルの全原子数６４個の中の３２個あるＴｅの一つを酸素で置換した系ＣｕＡｌ（Ｔｅ１－ｚＯｚ）２（ｚ＝０．０３１２５）の計算結果を例示として図２に示す。状態密度とバンド構造から、酸素置換によりギャップ内に顕著な中間準位の形成を確認した。計算結果から、ＣｕＡｌ（Ｔｅ１－ｚＯｚ）２の酸素置換量ｚは０．００１以上０．０６２５以下であると、中間準位が形成され、高い変換効率が望まれる。酸素置換量は、少ない程、状態密度は急峻になる。
　ＣｕＡｌＴｅ２薄膜の光学バンドギャップは２．２５ｅＶであり、ＡｌをＩｎあるいはＧａで置換することにより、バンドギャップを１．０ｅＶまで制御できる。種々のバンドギャップをもついずれの母相に対しても、中間準位を形成することにより、長波長側の光も取り込むことができ、太陽電池の高効率化が期待される。
ＴｅはＳｅに比べて蒸気圧が低いため扱いやすく、製膜を行ったときの組成の制御が容易であることが期待される。さらには、Ｔｅ系のカルコパイライト型化合物半導体を母相に用いると、最適なバンドギャップに調整するためのＩｎあるいはＧａの添加量を少なくできることで、偏析を抑制でき、均一組成の薄膜を作製できる。
　図３に本発明に係る化合物薄膜太陽電池の一例の断面模式図を示す。化合物薄膜太陽電池は基板１１、裏面電極１２、光吸収層１３、バッファ－層１４ａ及びｂ、透明電極層１５、取り出し電極１６、反射防止膜１７から構成されている。
　基板１１としては、青板ガラスを用いることが望ましく、ステンレス、Ｔｉ又はＣｒ等の金属板あるいはポリイミド等の樹脂を用いることもできる。
　裏面電極としては、Ｗ等の金属膜を用いることができる。その中でも、Ｍｏ膜を用いることが望ましい。
　バッファ－層１４としては、ＣｄＳ、Ｚｎ（Ｏ，Ｓ，ＯＨ）或いはＭｇを添加したＺｎＯを用いることができる。図４に化合物薄膜太陽電池でのｐｎ接合界面のバンド構造を示す。光吸収層１３のカルコパイライト型化合物半導体はｐ型半導体、ＣｄＳあるいはＺｎＯ：Ｍｇに代表されるバッファ－層１４ａはｎ型半導体、ＺｎＯに代表されるバッファ－層１４ｂはｎ＋型層として機能すると考えられる。pn接合界面で伝導帯不連続量（ＣＢＯ）ΔＥｃを誘起するようにバッファ－層１４ａの材料を選定することによりキャリアの再結合を低減できる。伝導帯不連続量（ＣＢＯ）ΔＥｃは、０ｅＶ以上０．４ｅＶ以下であることが望ましく、０．１ｅＶ以上０．３５ｅＶ以下であることが、さらに望ましい。伝導帯構造或いは伝導帯不連続量は光電子放出の逆過程である逆光電子分光により直接評価できる。実際の太陽電池構造では、光吸収層上に形成される窓層及びバッファ－層の厚さはそれぞれ数μｍ及び数十ｎｍとかなり厚いため、表面から深い位置にある界面の評価を行うためには、損傷・劣化なしに各層を除去する必要があり、通常、低いイオンビ－ムによるエッチングが用いられる。
　透明電極層１５は太陽光を透過し、尚且つ導電性を有することが必要であり、例えば、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）を２ｗｔ％含有したＺｎＯ：Ａｌ或いはジボランからのＢをド－パントとしたＺｎＯ：Ｂを用いることができる。
　取り出し電極１６としては、例えば、Ａｌ、Ａｇ或いはＡｕを用いることができる。さらに、透明電極１５との密着性を向上させるために、Ｎｉ或いはＣｒを堆積させた後、Ａｌ、Ａｇ或いはＡｕを堆積させてもよい。
　反射防止膜１７としては、例えば、ＭｇＦ２を用いることが望ましい。
　以下、本発明の実施例を詳細に説明する。
（実施例１）
　基板１１として青板ガラス基板を用い、スパッタ法により裏面電極１２となるＭｏ薄膜を７００ｎｍ程度堆積した。スパッタは、Ｍｏをタ－ゲットとし、Ａｒガス雰囲気中でＲＦ２００Ｗ印加することにより行った。
　裏面電極１２となるＭｏ薄膜堆積後、光吸収層１３となるＣｕ（Ａｌ１－ｙＩｎｙ）Ｔｅ２薄膜を同じくＲＦスパッタにより２μｍ程度堆積した。ここでバンドギャップが１．１８ｅＶ程度になるように、タ－ゲットの仕込み組成のｙを０．８にした。製膜はＡｒガス雰囲気中でＲＦ２００Ｗ印加することにより行った。
　製膜後、製膜室を真空引きし、超高真空雰囲気５００℃にて加熱処理を行った。スパッタ製膜直後のＣｕ（Ａｌ１－ｙＩｎｙ）Ｔｅ２薄膜は、非晶質で粒径も非常に小さいが、高温での加熱処理を行うことにより、結晶化し、粒径も１００ｎｍ以上となり、太陽電池の高効率化に寄与できる。
　図５は母相となるＣｕＡｌＴｅ２を前記製膜条件と同様の条件にて堆積した薄膜のＸ線回折結果である。前記製膜条件にて作製した光吸収層１３となる薄膜がカルコパイライト型構造の単相膜となることが分かる。作製したＣｕＡｌＴｅ２薄膜の光学特性評価から光学バンドギャップが２．２５ｅＶであることを見積もった（図６）。
　得られた光吸収層１３の上にバッファ－層１４ａとしてＭｇを添加したＺｎＯ薄膜を５０ｎｍ程度堆積した。図４に示したように、光吸収層１３とバッファ－層１４ａ界面でバンドオフセットを形成するようにＭｇの添加量は２０％とした。製膜はＲＦスパッタを用いたが、界面でのプラズマダメ－ジを考慮して、５０Ｗの出力で行った。このバッファ－層１４ａ上にバッファ－層１４ｂとして、ＺｎＯ薄膜を堆積し、続いて、透明電極１５となるアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）を２ｗｔ％含有するＺｎＯ：Ａｌを１μｍ程度堆積した。取り出し電極１６として、ＮｉＣｒ及びＡｕを蒸着法にて堆積した。膜厚はそれぞれ１００ｎｍ及び３００ｎｍとした。最後に反射防止膜１７としてＭｇＦ２をスパッタ法により５００ｎｍ程度堆積することにより、図３に示した化合物薄膜太陽電池を作製した。
（実施例２）
　基板１１として青板ガラス基板を用い、スパッタ法により裏面電極１２となるＭｏ薄膜を７００ｎｍ程度堆積した。スパッタは、Ｍｏをタ－ゲットとし、Ａｒガス雰囲気中でＲＦ２００Ｗ印加することにより行った。
　裏面電極１２となるＭｏ薄膜堆積後、光吸収層１３となるＣｕＡｌＴｅ２薄膜を同じくＲＦスパッタにより２μｍ程度堆積した。製膜はＡｒガス雰囲気中でＲＦ２００Ｗ印加することにより行った。
　製膜後、製膜室を真空引きし、超高真空雰囲気５００℃にて加熱処理を行った。スパッタ製膜直後のＣｕＡｌＴｅ２薄膜は、非晶質で粒径も非常に小さいが、高温での加熱処理を行うことにより、結晶化し、粒径も１００ｎｍ以上とした。
　作製したＣｕＡｌＴｅ２薄膜に９０ｋｅＶのエネルギ－で酸素をイオン注入し、その後、イオン注入によりできた欠陥を補償するために、エキシマレ－ザ－アニ－ルにより再結晶化を行い、ＴｅのＯによる部分置換を行った。
　得られた光吸収層１３の上にバッファ－層１４ａとしてＭｇを添加したＺｎＯ薄膜を５０ｎｍ程度堆積した。ワイドギャップのＣｕＡｌＴｅ２に対して、光吸収層１３とバッファ－層１４ａ界面でバンドオフセットを形成するようにＭｇの添加量は４０％とした。製膜はＲＦスパッタを用いたが、界面でのプラズマダメ－ジを考慮して、５０Ｗの出力で行った。このバッファ－層１４ａ上にバッファ－層１４ｂとして、ＺｎＯ薄膜を堆積し、続いて、透明電極１５となるアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）を２ｗｔ％含有するＺｎＯ：Ａｌを１μｍ程度堆積した。取り出し電極１６として、ＮｉＣｒ及びＡｕを蒸着法にて堆積した。膜厚はそれぞれ１００ｎｍ及び３００ｎｍとした。最後に反射防止膜１７としてＭｇＦ２をスパッタ法により５００ｎｍ程度堆積することにより、図３に示した化合物薄膜太陽電池を作製した。
１１…基板、１２…裏面電極、１３…光吸収層、１４ａ…バッファ－層、１４b…バッファ－層、１５…透明電極層、１６…取り出し電極、１７…反射防止膜
 

Claims (5)

  1. 　基板と、
    　前記基板上に設けられた裏面電極と、
    　前記裏面電極上に設けられた取り出し電極と、
    　前記裏面電極上に設けられた光吸収層と、
    　前記光吸収層上に設けられたバッファ－層と、
    　前記バッファー層上に設けられた透明電極層と、
    　前記透明電極層上に設けられた反射防止膜と、
    　前記透明電極層上に設けられた取り出し電極とを少なくとも備え、
    　前記光吸収層がＣｕ（Ａｌ１－ｘ－ｙＧａｘＩｎｙ）(Ｔｅ１－ｚＯｚ)２（ただし、ｘおよびｙは(数式１)の範囲かつｚ＝０、またはｘおよびｙは(数式２)の範囲かつ０．００１≦ｚ≦０．０６２５）であり、かつ前記化合物はカルコパイライト型の結晶構造をもつことを特徴とする化合物薄膜太陽電池。
    （数式１）Ｅｇ＝２．２５－１．０２ｘ－１．２９ｙ　(１．５≧Ｅｇ≧１．０)
    （数式２）Ｅｇ＝２．２５－１．０２ｘ－１．２９ｙ　(２．２５≧Ｅｇ≧１．０)
  2. 　前記光吸収層のＴｅの一部がＳｅ、Ｓ又はＳｅ及びＳのいずれかで置換され、
    　置換されたＳｅ，Ｓの総ｍｏｌ数がＴｅのｍｏｌ数より少ないことを特徴とする請求項１に記載の化合物薄膜太陽電池。
  3. 　前記バッファ－層がＣｄＳ、Ｚｎ（Ｏ，Ｓ，ＯＨ）またはＺｎＯ：Ｍｇであることを特徴とする請求項１に記載の化合物薄膜太陽電池。
  4. 　前記光吸収層と前記バッファ－層の界面で形成されるバンド構造の伝導帯不連続量（ΔＥｃ）が０＜ΔＥｃ≦０．４ｅＶであることを特徴とする請求項１に記載の化合物薄膜太陽電池。
  5. 　前記透明電極層にＺｎＯ、ＺｎＯ：Ａｌ又はＺｎＯ：Ｂを用いることを特徴とする請求項１に記載の化合物薄膜太陽電池。
     
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