WO2011012291A1 - Testsystem zur detektion von form- und/oder lagefehlern von wafern - Google Patents

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WO2011012291A1
WO2011012291A1 PCT/EP2010/004597 EP2010004597W WO2011012291A1 WO 2011012291 A1 WO2011012291 A1 WO 2011012291A1 EP 2010004597 W EP2010004597 W EP 2010004597W WO 2011012291 A1 WO2011012291 A1 WO 2011012291A1
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WO
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light source
test system
wafer
light
holding device
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Application number
PCT/EP2010/004597
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Inventor
Thomas Bee
Martin Wedler
Armin Seitz
Original Assignee
Amb Apparate + Maschinenbau Gmbh
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Publication date
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    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/8806—Specially adapted optical and illumination features
    • G—PHYSICS
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    • G01N21/9501—Semiconductor wafers
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
    • H01L21/67259—Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection
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    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
    • H01L21/67288—Monitoring of warpage, curvature, damage, defects or the like

Definitions

  • the invention relates to a test system for detecting shape and / or positional errors of wafers during a transfer process.
  • the wafers required for this purpose usually silicon wafers, for damage.
  • an optical detection of the outer edges that is to say a detection of form errors with respect to the outer contour of the thin disks, of the wafers has become established for this purpose.
  • a light source and the camera required to detect the outline have been arranged on the same side of the wafer to be examined. With the aid of reflection devices or directly via the reflection of the light pulse generated by the light source, the contours of the wafer were detected by the camera. Defective wafers can thus be recognized and separated from the current process.
  • the invention is therefore an object of the invention to provide a test system for detecting form and / or positional errors ' of wafers, which claimed a small footprint and its integration in production facilities is thus more easily possible.
  • the object is achieved by the features of the test system according to claim 1.
  • test system for the detection of shape and / or positional errors of wafers during a
  • Conversion process includes an optical
  • the test system comprises a holding device, on which the wafer to be examined is held and, in particular, also brought into a detection region of the detection device.
  • the detection device e.g. one
  • This arrangement has the advantage that the light source, which is responsible for generating the shadow image for the detection device, is arranged behind the wafer as seen from the camera.
  • the size of the light source must be only slightly larger than that of the wafer to be checked.
  • the conveyor belts of the system can be arranged close to the detection area of the detection device. An enlargement of the free area beyond, as required in the prior art due to the oblique incidence of light, is therefore superfluous.
  • the entire system thus builds more compact. This not only leads to a smaller space requirement, but also to a reduction in the cycle times, since the travel paths are reduced when converting a wafer from, for example, a conveyor to another conveyor. Furthermore, process reliability is also improved because of the shorter distances and the speeds and accelerations during the conversion can be reduced.
  • the light source comprises a primary light-generating device, e.g. in the form of a plurality of primary light source elements and a lens arranged between said light generating device and the holding device.
  • a diffuse light source can be generated by simple means, whereby aberrations caused by punctual primary light source elements are avoided.
  • the light source has a light-emitting planar surface, which is formed by the lens, wherein this light-emitting planar surface is larger than the wafer to be tested.
  • the plane of the light emitting surface and the plane in which the wafer is held by the holding device are in particular parallel.
  • the light-emitting surface is rectangular, wherein the ratio of the side lengths of the ratio of
  • the light source and the holding device are arranged on a common movement device and are moved together by them during the conversion process.
  • the joint movement of the light source and the holding device and thus ultimately of the wafer has the advantage that a standstill in a precise position to be controlled via the detection device is not required. There is no relative movement between the wafer and the light source.
  • the light source is preferably arranged directly at the pickup point of the movement device.
  • the forces resulting from the additional mass of the light source during acceleration can thus be kept low, thus simplifying the design of the movement device.
  • test system An advantageous embodiment of the test system according to the invention is shown in the drawing and will be explained in more detail in the following description. Show it:
  • FIG. 1 shows a simplified representation of a system with the test system according to the invention in a side view
  • Fig. 2 is a section through a through a
  • FIG. 3 is a plan view of the positioning head from the side facing the moving device.
  • Fig. 1 shows a schematic representation as a side view of a plant having a transfer device 1.
  • the transfer device 1 has a first region 2 and a second region 3.
  • wafers are to be converted from the first region 2 into the second region 3.
  • Implementation generally means picking up a wafer at a first location, positioning in or traversing the detection area, and then settling to a second location.
  • the first and second place may be identical.
  • the first region 2 has a first conveying device 4, which can be realized, for example, as a cord drive, conveyor belt or the like.
  • the second area 3 has a second conveyor 5.
  • the promotion of the individual wafers on the conveyors takes place in the arrow direction, wherein the wafers are supplied in a manner not shown, for example, in cassettes 6 of the first conveyor 4.
  • the conveying direction is of course only exemplary and the wafers could also be implemented in the opposite direction.
  • a distance is provided whose length in the transport direction corresponds at least to the width of the detection region B in the plane of the transport.
  • a further conveyor 7 can be seen, which is arranged in this section, but offset in the plane of the drawing to the first area and the second area. It thus arises between the first region 2 and the second region 3, a free area, which serves to detect shape and / or position errors.
  • the shape and / or position error of. Wafers are detected by means of a detection device, the detection device being referred to below as camera 8.
  • a camera 8 has an optical device and a detector 28.
  • a wafer 9 which is recorded in the first area 2, is held by the camera 8 or moved slowly through the detection area B.
  • the camera 8 detects the contours of the wafer 9 and can thus a rotation of the
  • Positioning head 10 with which the wafer 9 is converted from the first area 2 to the second area 3, is arranged on a moving device 11.
  • the movement device 11 is a so-called parallel robot, which can move the positioning head 10 in three dimensions.
  • the moving device 11 For picking up a wafer 9, the moving device 11 is guided over the first conveyor 4. When a wafer reaches the end of the first region 2 which is oriented towards the second region 3, the positioning device 10 is lowered by the movement device 4 and a wafer is picked up by the positioning device 10 on its holding device by means of negative pressure. During the movement toward the second area 3, where the wafer 9 is deposited on the second conveyor 5, the detection area B of the camera 8 is traversed. The edge of the detection area B is shown schematically in FIG. 1 by the dashed lines.
  • the light source 12 and the holding device 14 are arranged so that the light source 12 on the side facing away from the camera 8 side of the holding device 14 held on the wafer 9th is arranged.
  • the distance between the first region 2 and the second region 3 is preferably at least as great as the extent of the light source 12 in the transport plane.
  • the light source 12 comprises a housing 22, in which primary light source elements 23 are arranged as a light generating device. For clarity, only a small number of the light source elements 23 are shown in FIG. 2.
  • the housing 22 is closed by a diffusing screen 24, which forms a light-emitting surface 15.
  • the light generated by the primary light source elements 23 is scattered so that the wafer 9 from its in Fig. 2 upwards, ie in operation away from the camera 8, side by diffused light is illuminated.
  • the use of diffused light facilitates the detection of the wafer outline.
  • the light source 12, like the holding device 14, is fixed to a carrier element 13 of the positioning head 10.
  • the carrier element 13 simultaneously serves as a connection device in order to connect vacuum lines to the holding device 14.
  • a negative pressure is generated in the holding device 14, by means of which the wafers 9 can be held on the holding device 14.
  • the holding device 14 has for this purpose a plurality of openings which are provided on the side facing the camera 8. The openings are connected to the vacuum system. By turning on and off the vacuum wafer 9 can be added or stored.
  • the light source 12 is formed substantially flat parallelepiped, so that there is a rectangular outline of the light field. In the middle is an opening in the cuboid light source 12 is provided, through which the carrier 13 passes therethrough. In this way, the light source 12 is arranged together with the holding device 14 on the moving device 11. In this case, the light source 12 and the holding device 14 are arranged at a distance from one another.
  • the plane of the light-emitting surface 15 and the plane in which the wafer 9 is held on the holding device 14 are preferably parallel.
  • the size of the light-emitting surface 15 is preferably matched to the detector 28 of the camera 8.
  • the light source 12 is therefore rectangular when the detector 28 of the camera 8 is also rectangular, the aspect ratios of the light source 12
  • the light source 12 may also have a different structure in which the primary light source elements 23 are arranged along the outer periphery of the light source 12, for example.
  • FIG. 3 shows a plan view of the positioning head 10. It can be seen that on the side facing the moving device 11, a reinforcing element 17 is provided, which extends along the diagonal of the light source 12. In this case, the reinforcing element 17 is preferably fixedly connected to a frame of the light source 12.
  • the arrangement of the primary light source elements 23 is also shown schematically once again. It is assumed in FIG. 3 that such primary light source elements 23 are arranged, in particular in the region which corresponds approximately to a projection of the edges of the wafer onto the light source 12. Diodes are particularly suitable as the primary light source elements 23 and here preferably in the red spectral range.
  • the description of the invention only describes the basic structure.
  • the structure of the moving device 11 or the light source 12, as already explained, may also be designed mechanically deviating therefrom.
  • the light source 12 is designed to be flat and is arranged on the side of the wafer 9 to be held away from the camera 8.
  • the penetration of the light source 12 through the carrier element 13 is advantageous because a uniform illumination of the wafer from the side facing away from the camera 8 can take place.
  • the free area between the first area 2 and the second area 3 can thus be considerably reduced compared to systems whose light source is arranged on the side of the wafer facing the camera 8 and which work with reflection.
  • the light source and the wafer do not move relative to each other during the conversion process from the region 2 into the region 3 and thus when passing through the detection region B of the detection device, aberrations are minimized. This significantly improves the accuracy of shape and / or position errors.

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Abstract

Die Erfindung betrifft ein Testsystem zur Detektion von Form- und/oder Lagefehlern von Wafern (9) während eines Umsetzvorgangs. Das Testsystem weist eine optische Erfassungsvorrichtung (8) und eine Haltevorrichtung (14) auf. Mit der Haltevorrichtung (14) ist ein Wafer (9) in einem Erfassungsbereich (B) der optischen Erfassungsvorrichtung (8) positionierbar. Auf einer von der Erfassungsvorrichtung (8) abgewandten Seite der Haltevorrichtung (14) ist eine Lichtquelle (12) angeordnet.

Description

Testsystem zur Detektion von Form- und/oder Lagefehlern von Wafern
Die Erfindung betrifft ein Testsystem zur Detektierung von Form- und/oder Lagefehlern von Wafern während eines Umsetzvorgangs . In der Halbleiterindustrie ist es üblich, während des Produktionsprozesses des Endprodukts die hierfür benötigten Wafer meist Siliziumwafer auf Schäden zu kontrollieren. Im Zuge zunehmender Automatisierung hat sich hierzu eine optische Erfassung der Außenkanten, also eine Detektion von Formfehlern bezüglich der Außenkontur der dünnen Scheiben, der Wafer durchgesetzt. Bislang wurden hierzu eine Lichtquelle und die zur Erfassung des Umrisses erforderliche Kamera auf derselben Seite des zu untersuchenden Wafers angeordnet. Mit Hilfe von Reflexionseinrichtungen oder direkt über die Reflexion des von der Lichtquelle erzeugten Lichtpulses wurden die Umrisse des Wafers durch die Kamera erfasst. Schadhafte Wafer können so erkannt und aus dem laufenden Prozess ausgegliedert werden.
Bei den bestehenden Systemen ist es nachteilig, dass auf der Seite der Kamera, um dieser die Sicht nicht zu nehmen, um die Kamera herum Lichtquellenelemente verteilt angeordnet sein müssen. Es ergibt sich somit ein lateraler Abstand zwischen der optischen Erfassungseinrichtung und der Lichtquelle. Auf dem Lichtweg zum Wafer oder einer Spiegeleinrichtung und zurück dürfen daher keine abschattenden Elemente angeordnet sein, wodurch es unter Umständen zu einer erheblichen Vergrößerung der Anlage kommen kann. Insbesondere sind beispielsweise Förderelemente, zwischen denen die Wafer umgesetzt werden sollen, mit einem erheblichen Abstand zueinander anzubringen, um den optischen Pfad zur Detektion offen zu lassen . Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, ein Testsystem zur Detektion von Form- und/oder Lagefehlern ' von Wafern zu schaffen, welches einen geringen Platzbedarf beansprucht und dessen Integration in Produktionsanlagen somit leichter möglich ist. Die Aufgabe wird durch die Merkmale des Testsystems nach Anspruch 1 gelöst.
Das erfindungsgemäße Testsystem zur Detektion von Form- und/oder Lagefehlern von Wafern während eines
Umsetzvorgangs umfasst eine optische
Erfassungseinrichtung, zur Detektion der Lage (Verdrehung um eine senkrecht zur Waferebene verlaufende Achse) und/oder Beschädigungen von Wafern. Ferner umfasst das Testsystem eine Haltevorrichtung, an der der zu untersuchende Wafer gehalten und insbesondere auch in einen Erfassungsbereich der Erfassungsvorrichtung gebracht wird. Auf der von der Erfassungsvorrichtung, z.B. einer
Kamera, abgewandten Seite der Haltevorrichtung und damit des Wafers ist die zur Erzeugung eines Schattenbilds verwendete Lichtquelle angeordnet.
Diese Anordnung hat den Vorteil, dass die Lichtquelle, die zur Erzeugung des Schattenbilds für die Erfassungsvorrichtung verantwortlich ist, von der Kamera aus gesehen hinter dem Wafer angeordnet ist. Damit muss die Größe der Lichtquelle nur geringfügig größer als die des zu überprüfenden Wafers sein. Insbesondere können die Förderbänder der Anlage bis nahe an den Erfassungsbereich der Erfassungsvorrichtung heran angeordnet werden. Eine Vergrößerung des freien Bereichs darüber hinaus, wie im Stand der Technik aufgrund des schrägen Lichteinfalls erforderlich, ist damit überflüssig. Die gesamte Anlage baut somit kompakter. Dies führt nicht nur zu einem geringeren Raumbedarf, sondern auch zu einer Reduzierung der Taktzeiten, da die Verfahrwege beim Umsetzen eines Wafers von beispielsweise einer Fördervorrichtung zu einer anderen Fördervorrichtung reduziert werden. Ferner wird auch die Prozesssicherheit verbessert, da aufgrund der geringeren Abstände auch die Verfahrgeschwindigkeiten und Beschleunigungen beim Umsetzen reduziert werden können.
Die Unteransprüche betreffen vorteilhafte Weiterbildungen des erfindungsgemäßen Testsystems .
Insbesondere ist es vorteilhaft, dass die Lichtquelle eine primäre Lichterzeugungseinrichtung z.B. in Form von einer Mehrzahl an primären Lichtquellenelementen und eine zwischen dieser Lichterzeugungseinrichtung und der Haltevorrichtung angeordnete Streuscheibe aufweist. Auf diese Weise lässt sich mit einfachen Mitteln eine diffuse Lichtquelle erzeugen, wodurch Abbildungsfehler durch punktuelle primäre Lichtquellenelemente vermieden werden. Dabei ist es insbesondere vorteilhaft, dass die Lichtquelle eine lichtemittierende ebene Fläche aufweist, die durch die Streuscheibe gebildet wird, wobei diese lichtemittierende ebene Fläche größer als der zu testende Wafer ist. Die Ebene der lichtemittierenden Fläche und die Ebene in der der Wafer durch die Haltevorrichtung gehalten wird, sind dabei insbesondere parallel. Eine solche Anordnung, bei der das diffuse Licht durch eine parallel zur Waferebene ausgerichtete lichtemittierende Fläche abgegeben wird hat den Vorteil, dass bei Erzeugung des Schattenbilds auf dem Detektor der Erfassungsvorrichtung keine Fehler durch Reflexionen an Unebenheiten oder ähnlichem stattfinden können.
Vorzugsweise ist die lichtemittierende Fläche rechteckig, wobei das Verhältnis der Seitenlängen dem Verhältnis der
Seitenlängen eines Detektors der Erfassungsvorrichtung entspricht. Bei einer solchen aufeinander abgestimmten
Größe und Geometrie der lichtemittierenden ebenen Fläche und des Detektors der Erfassungsvorrichtung wird eine gleichmäßige Ausleuchtung des Detektors erreicht. Eine fehlerhafte Auswertung aufgrund von Hell-/Dunkel-Bereichen auf dem Detektor wird somit vermieden. Weiterhin ist es vorteilhaft, wenn die Lichtquelle und die Haltevorrichtung an einer gemeinsamen Bewegungsvorrichtung angeordnet sind und durch diese während des Umsetzvorgangs gemeinsam bewegt werden. Die gemeinsame Bewegung der Lichtquelle und der Haltevorrichtung und somit letztlich des Wafers hat den Vorteil, dass ein Stillstand in einer präzisen anzusteuernden Position über der Erfassungsvorrichtung nicht erforderlich ist. Es existiert keine Relativbewegung zwischen dem Wafer und der Lichtquelle. Da somit eine kontinuierliche Bewegung beim Umsetzen aus einer Position A in eine Position B des Wafers möglich ist, wird die Taktzeit weiter reduziert.
Um Bewegungsschwingungen zu minimieren ist die Lichtquelle vorzugsweise unmittelbar an dem Aufnahmepunkt der Bewegungsvorrichtung angeordnet. Die aus der zusätzlichen Masse der Lichtquelle resultierenden Kräfte bei Beschleunigung können somit gering gehalten werden, womit die Auslegung der Bewegungsvorrichtung vereinfacht wird.
Ein vorteilhaftes Ausführungsbeispiel des erfindungsgemäßen Testsystems ist in der Zeichnung dargestellt und wird in der nachfolgenden Beschreibung näher erläutert. Es zeigen:
Fig. 1 eine vereinfachte Darstellung einer Anlage mit dem erfindungsgemäßen Testsystem in einer Seitenansicht ; Fig. 2 einen Schnitt durch einen durch eine
Bewegungsvorrichtung geführten Positionierkopf sowie dessen Lage über der Erfassungsvorrichtung während der Detektion; und Fig. 3 eine Draufsicht auf den Positionierkopf von der der Bewegungsvorrichtung zugewandten Seite.
Bevor auf die Anordnung und Ausbildung des Positionierkopfes mit der Lichtquelle im Einzelnen eingegangen wird, soll zunächst die gesamte Anlage, in die das Testsystem integriert ist, zum besseren Verständnis erläutert werden. Fig. 1 zeigt eine schematische Darstellung als Seitenansicht von einer Anlage, die eine Umsetzvorrichtung 1 aufweist. Die ümsetzvorrichtung 1 weist einen ersten Bereich 2 und einen zweiten Bereich 3 auf. Ohne Beschränkung sei hier zur Verdeutlichung des erfindungsgemäßen Systems davon ausgegangen, dass Wafer von dem ersten Bereich 2 in den zweiten Bereich 3 umzusetzen sind. Umsetzung bedeutet aber allgemein das Aufnehmen eines Wafers an einem ersten Ort, das Positionieren im oder Durchlaufen des Erfassungsbereichs sowie das anschließende Absetzen an einem zweiten Ort. Der erste und zweite Ort können auch identisch sein. Der erste Bereich 2 weist hierzu eine erste Fördereinrichtung 4 auf, die beispielsweise als Schnurtrieb, Förderband oder dergleichen realisiert sein kann. In gleicher Weise weist der zweite Bereich 3 eine zweite Fördereinrichtung 5 auf. Die Förderung der einzelnen Wafer auf den Fördereinrichtungen erfolgt in Pfeilrichtung, wobei die Wafer auf nicht gezeigte Weise z.B. in Kassetten 6 der ersten Fördereinrichtung 4 zugeführt werden. Die Förderrichtung ist selbstverständlich nur beispielhaft und die Wafer könnten auch in entgegengesetzter Richtung umgesetzt werden.
Zwischen dem ersten Bereich 2 und dem zweiten Bereich 3 ist ein Abstand vorgesehen, dessen Länge in Transportrichtung mindestens der Breite des Erfassungsbereichs B in der Ebene des Transports entspricht. In der Zeichnung ist eine weitere Fördereinrichtung 7 erkennbar, die in diesem Abschnitt angeordnet ist, allerdings in die Zeichenebene hineinversetzt zu dem ersten Bereich und dem zweiten Bereich. Es entsteht damit zwischen dem ersten Bereich 2 und dem zweiten Bereich 3 ein freier Bereich, der zur Erfassung von Form- und/oder Lagefehlern dient. Die Form- und/oder Lagefehler der. Wafer werden mit Hilfe einer Erfassungsvorrichtung detektiert, wobei die Erfassungsvorrichtung im Nachfolgenden als Kamera 8 bezeichnet wird. Eine solche Kamera 8 weist eine optische Einrichtung und einen Detektor 28 auf. Zur Erfassung wird ein Wafer 9, der im ersten Bereich 2 aufgenommen wird, über die Kamera 8 gehalten oder langsam durch den Erfassungsbereich B bewegt. Die Kamera 8 detektiert die Umrisse des Wafers 9 und kann so eine Verdrehung des
Wafers 9 um die in der Fig. 1 schematisch dargestellte
Kameraachse 29 (Lagefehler) oder aber Kantenbeschädigungen
(Formfehler) am Umfang des Wafers 9 erkennen. Ein
Positionierkopf 10, mit dem der Wafer 9 von dem ersten Bereich 2 zu dem zweiten Bereich 3 umgesetzt wird, ist an einer Bewegungsvorrichtung 11 angeordnet. Die Bewegungsvorrichtung 11 ist im dargestellten Fall ein sogenannter Parallelroboter, der den Positionierkopf 10 in drei Dimensionen bewegen kann.
Zum Aufnehmen eines Wafers 9 wird die Bewegungsvorrichtung 11 über die erste Fördereinrichtung 4 geführt. Erreicht ein Wafer das zum zweiten Bereich 3 orientierte Ende des ersten Bereichs 2, so wird durch die Bewegungsvorrichtung 4 der Positionierkopf 10 abgesenkt und mittels Unterdruck ein Wafer durch die Positioniervorrichtung 10 an dessen Haltevorrichtung aufgenommen. Während des Bewegens in Richtung zu dem zweiten Bereich 3 hin, wo der Wafer 9 auf der zweiten Fördereinrichtung 5 abgelegt wird, wird der Erfassungsbereich B der Kamera 8 durchlaufen. Der Rand des Erfassungsbereichs B ist in der Fig. 1 schematisch durch die gestrichelten Linien dargestellt.
Der Positionierkopf 10 umfasst neben der eigentlichen und nachfolgend noch erläuterten Haltevorrichtung 14 eine Lichtquelle 12. Die Lichtquelle 12 und die Haltevorrichtung 14 sind so angeordnet, dass die Lichtquelle 12 auf der von der Kamera 8 abgewandten Seite des an der Haltevorrichtung 14 gehaltenen Wafers 9 angeordnet ist. Der Abstand zwischen dem ersten Bereich 2 und dem zweiten Bereich 3 ist vorzugsweise wenigstens so groß wie die Erstreckung der Lichtquelle 12 in der Transportebene .
Die Fig. 2 zeigt eine vergrößerte Ansicht in einer Schnittdarstellung des Positionierkopfs 10. Die Lichtquelle 12 umfasst ein Gehäuse 22, in dem primäre Lichtquellenelemente 23 als Lichterzeugungseinrichtung angeordnet sind. Zur Verdeutlichung sind nur eine geringe Anzahl der Lichtquellenelemente 23 in der Fig. 2 gezeigt. Zu der zu der Haltevorrichtung 14 hin orientierten Seite wird das Gehäuse 22 durch eine Streuscheibe 24, die eine lichtemittierende Fläche 15 bildet, verschlossen. Mit Hilfe der lichtemittierenden Fläche 15, die vorzugsweise eben ist, wird das durch die primären Lichtquellenelemente 23 erzeugte Licht so gestreut, dass der Wafer 9 von seiner in der Fig. 2 nach oben, also im Betrieb von der Kamera 8 weg, gerichteten Seite durch diffuses Licht beleuchtet wird. Die Verwendung diffusen Lichts erleichtert die Detektion des Waferumrisses .
Die Lichtquelle 12 ist ebenso wie die Haltevorrichtung 14 an einem Trägerelement 13 des Positionierkopfs 10 fixiert. Das Trägerelement 13 dient gleichzeitig als Anschlusseinrichtung, um Unterdruckleitungen mit der Haltevorrichtung 14 zu verbinden. Mittels dieser Unterdruckleitungen wird in der Haltevorrichtung 14 ein Unterdruck erzeugt, durch den die Wafer 9 an der Haltevorrichtung 14 gehalten werden können. Die Haltevorrichtung 14 weist hierzu eine Mehrzahl von Öffnungen auf, die an der der Kamera 8 zugewandten Seite vorgesehen sind. Die Öffnungen sind mit dem Unterdrucksystem verbunden. Durch An- und Abschalten des Vakuums können Wafer 9 aufgenommen oder abgelegt werden.
Die Lichtquelle 12 ist im Wesentlichen flach quaderförmig ausgebildet, sodass sich ein rechteckiger Umriss des Lichtfelds ergibt. In der Mitte ist eine Öffnung in der quaderförmigen Lichtquelle 12 vorgesehen, durch die der Träger 13 hindurch dringt. Auf diese Weise ist die Lichtquelle 12 gemeinsam mit der Haltevorrichtung 14 an der Bewegungsvorrichtung 11 angeordnet. Dabei sind die Lichtquelle 12 und die Haltevorrichtung 14 beabstandet zueinander angeordnet. Die Ebene der lichtemittierenden Fläche 15 und die Ebene, in der der Wafer 9 an der Haltevorrichtung 14 gehalten wird, sind vorzugsweise parallel. Die Größe der lichtemittierenden Fläche 15 ist vorzugsweise auf den Detektor 28 der Kamera 8 abgestimmt.
Die Lichtquelle 12 ist daher rechteckig ausgeführt, wenn der Detektor 28 der Kamera 8 ebenfalls rechteckig ist, wobei die Seitenverhältnisse der Lichtquelle 12
(insbesondere der lichtemittierenden Fläche 15) und des Detektors 28 der Kamera 8 identisch sind. Die Lichtquelle 12 kann auch einen hiervon abweichenden Aufbau zeigen, bei dem die primären Lichtquellenelemente 23 beispielsweise entlang des äußeren Umfangs der Lichtquelle 12 angeordnet sind.
Die Fig. 3 zeigt eine Draufsicht auf den Positionierkopf 10. Es ist zu erkennen, dass auf der der Bewegungsvorrichtung 11 zugewandten Seite ein Verstärkungselement 17 vorgesehen ist, welches sich entlang der Diagonalen der Lichtquelle 12 erstreckt. Dabei ist das Verstärkungselement 17 vorzugsweise fest mit einem Rahmen der Lichtquelle 12 verbunden. In der Draufsicht ist außerdem die Anordnung der primären Lichtquellenelemente 23 noch einmal schematisch dargestellt. In der Fig. 3 wird davon ausgegangen, dass insbesondere in dem Bereich, welcher etwa einer Projektion der Kanten des Wafers auf die Lichtquelle 12 entspricht, solche primären Lichtquellenelemente 23 angeordnet sind. Als primäre Lichtquellenelemente 23 eignen sich insbesondere Dioden und hier vorzugsweise im roten Spektralbereich.
Die Darstellung der Erfindung beschreibt selbstverständlich nur den grundsätzlichen Aufbau. Insbesondere kann der Aufbau der Bewegungsvorrichtung 11 oder der Lichtquelle 12 wie bereits erläutert auch mechanisch hiervon abweichend ausgeführt sein. Als wesentlich zu erachten ist, dass die Lichtquelle 12 flächig ausgeführt ist und auf der von der Kamera 8 abgewandten Seite des zu haltenden Wafers 9 angeordnet ist. Insbesondere die Durchdringung der Lichtquelle 12 durch das Trägerelement 13 ist vorteilhaft, weil so eine gleichmäßige Beleuchtung der Wafer von der der Kamera 8 abgewandten Seite erfolgen kann. Der freie Bereich zwischen dem ersten Bereich 2 und dem zweiten Bereich 3 kann damit wie schon erläutert gegenüber Systemen, deren Lichtquelle auf der der Kamera 8 zugewandten Seite des Wafers angeordnet sind und die mit Reflektion arbeiten, erheblich verkleinert werden. Da sich ferner Lichtquelle und Wafer während des Umsetzvorgangs aus dem Bereich 2 in den Bereich 3 und damit beim Durchlaufen des Erfassungsbereichs B der Erfassungsvorrichtung nicht relativ zueinander bewegen, sind Abbildungsfehler minimiert. Dies verbessert die Genauigkeit von Form- und/oder Lagefehlern erheblich.

Claims

Ansprüche
1. Testsystem zur Detektion von Form- und/oder
Lagefehlern von Wafern (9) während eines Umsetzvorgangs, wobei das Testsystem eine optische Erfassungsvorrichtung (8) und eine Haltevorrichtung (14) aufweist, mit der ein Wafer (9) in einem Erfassungsbereich (B) der optischen Erfassungsvorrichtung (8) positionierbar ist, und wobei auf eine von der optischen Erfassungsvorrichtung (8) abgewandten Seite der Haltevorrichtung (14) eine
Lichtquelle (12) angeordnet ist.
2. Testsystem nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
dass die Lichtquelle (12) eine primäre
Lichterzeugungseinrichtung (23) und eine zwischen der primären Lichterzeugungseinrichtung und der
Haltevorrichtung (14) angeordnete Streuscheibe (24) aufweist .
3. Testsystem nach Anspruch 1 oder 2,
dadurch gekennzeichnet,
dass die Lichtquelle (12) eine lichtemittierende ebene Fläche (15) aufweist, die größer als der zu testende Wafer (9) ist, wobei die Ebene der lichtemittierenden Fläche (15) und die Ebene, in der der Wafer (9) durch die Haltevorrichtung (14) gehalten werden kann, parallel sind.
4. Testsystem nach einem der Ansprüche 1 bis 4,
dadurch gekennzeichnet,
dass die ebene lichtemittierende Fläche (15) rechteckig ist und das Verhältnis der Seitenlängen dem Verhältnis der Seitenlängen eines Detektors (28) der
Erfassungsvorrichtung (14) entspricht.
5. Testsystem nach einem der Ansprüche 1 bis 3,
dadurch gekennzeichnet,
dass die Lichtquelle (12) und die Haltevorrichtung (14) gemeinsam an einer Bewegungsvorrichtung (11) angeordnet sind.
6. Testsystem nach Anspruch 5,
dadurch gekennzeichnet,
dass die Lichtquelle (12) in direkter räumlicher Nähe an einem Aufnahmepunkt der BewegungsVorrichtung (11) angeordnet ist.
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