WO2011010676A1 - ガス分離膜及び複合膜、それらの製造方法、それらを用いたモジュール、分離装置 - Google Patents
ガス分離膜及び複合膜、それらの製造方法、それらを用いたモジュール、分離装置 Download PDFInfo
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- 238000000926 separation method Methods 0.000 title claims abstract description 185
- 239000012528 membrane Substances 0.000 title claims abstract description 181
- 239000002131 composite material Substances 0.000 title claims abstract description 39
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 14
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 207
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 86
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims abstract description 67
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 claims abstract description 56
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 47
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 45
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 41
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims abstract description 40
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 37
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 32
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 claims abstract description 29
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 28
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 claims abstract description 27
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 18
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 106
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 81
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 claims description 53
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 claims description 53
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 32
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 15
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims description 9
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical compound S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 claims description 6
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 6
- 229910000037 hydrogen sulfide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 230000035699 permeability Effects 0.000 abstract description 33
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 106
- -1 propylene Chemical compound 0.000 description 80
- 239000000047 product Substances 0.000 description 28
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 27
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 24
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 239000010408 film Substances 0.000 description 20
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 17
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 16
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 13
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 12
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 12
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 11
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 10
- 125000005529 alkyleneoxy group Chemical group 0.000 description 10
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 10
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 9
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 9
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 9
- 235000019000 fluorine Nutrition 0.000 description 8
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 8
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 8
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 8
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 7
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 7
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 7
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 7
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 7
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 7
- VBHXIMACZBQHPX-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-trifluoroethyl prop-2-enoate Chemical compound FC(F)(F)COC(=O)C=C VBHXIMACZBQHPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 6
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 6
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 6
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 6
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 6
- 229920005597 polymer membrane Polymers 0.000 description 6
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- HFBMWMNUJJDEQZ-UHFFFAOYSA-N acryloyl chloride Chemical compound ClC(=O)C=C HFBMWMNUJJDEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 5
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 5
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 5
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 5
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 5
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 5
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 5
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 5
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000011160 research Methods 0.000 description 5
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 4
- 150000008365 aromatic ketones Chemical class 0.000 description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 4
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 4
- DOMLXBPXLNDFAB-UHFFFAOYSA-N ethoxyethane;methyl prop-2-enoate Chemical compound CCOCC.COC(=O)C=C DOMLXBPXLNDFAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 4
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 4
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 4
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 4
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 4
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004397 aminosulfonyl group Chemical group NS(=O)(=O)* 0.000 description 3
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 3
- HTZCNXWZYVXIMZ-UHFFFAOYSA-M benzyl(triethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](CC)(CC)CC1=CC=CC=C1 HTZCNXWZYVXIMZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 3
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 3
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 3
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 3
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 3
- 230000009878 intermolecular interaction Effects 0.000 description 3
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- GDOPTJXRTPNYNR-UHFFFAOYSA-N methyl-cyclopentane Natural products CC1CCCC1 GDOPTJXRTPNYNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N nitrogen oxide Inorganic materials O=[N] MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 3
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 3
- YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole-2-thiol Chemical compound C1=CC=C2SC(S)=NC2=C1 YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical group COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004182 2-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(Cl)=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical class C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 231100000987 absorbed dose Toxicity 0.000 description 2
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004442 acylamino group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004466 alkoxycarbonylamino group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005162 aryl oxy carbonyl amino group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005110 aryl thio group Chemical group 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- 125000005235 azinium group Chemical group 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical class C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical group C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 2
- 150000001642 boronic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 125000001951 carbamoylamino group Chemical group C(N)(=O)N* 0.000 description 2
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 2
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 2
- 238000001227 electron beam curing Methods 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 230000005281 excited state Effects 0.000 description 2
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 2
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- 239000012510 hollow fiber Substances 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001427 mPEG Polymers 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N mesitylene Substances CC1=CC(C)=CC(C)=C1 AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001827 mesitylenyl group Chemical group [H]C1=C(C(*)=C(C([H])=C1C([H])([H])[H])C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003345 natural gas Substances 0.000 description 2
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 2
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 2
- 125000001820 oxy group Chemical group [*:1]O[*:2] 0.000 description 2
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 2
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 2
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003847 radiation curing Methods 0.000 description 2
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 2
- 238000012552 review Methods 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 2
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 2
- 125000004469 siloxy group Chemical group [SiH3]O* 0.000 description 2
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 2
- 125000000475 sulfinyl group Chemical group [*:2]S([*:1])=O 0.000 description 2
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 125000004149 thio group Chemical group *S* 0.000 description 2
- 125000005628 tolylene group Chemical group 0.000 description 2
- 125000006839 xylylene group Chemical group 0.000 description 2
- PGSHZSDDBWTHDU-UHFFFAOYSA-N (3-oxobutan-2-ylideneamino) 4-methylbenzenesulfonate Chemical compound CC(=O)C(C)=NOS(=O)(=O)C1=CC=C(C)C=C1 PGSHZSDDBWTHDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MRUDPRFGMHTPFJ-UHFFFAOYSA-N (3-oxobutan-2-ylideneamino) acetate Chemical compound CC(=O)ON=C(C)C(C)=O MRUDPRFGMHTPFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SKCKRZWCOYHBEC-UHFFFAOYSA-N (3-oxobutan-2-ylideneamino) benzoate Chemical compound CC(=O)C(C)=NOC(=O)C1=CC=CC=C1 SKCKRZWCOYHBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFFCVOSCPLKMLG-UHFFFAOYSA-N (3-oxobutan-2-ylideneamino) propanoate Chemical compound CCC(=O)ON=C(C)C(C)=O JFFCVOSCPLKMLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVOMRRWJQOJMPA-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-trithiane Chemical compound C1CSSSC1 BVOMRRWJQOJMPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYSGHNMQYZDMIA-UHFFFAOYSA-N 1,3-Dimethyl-2-imidazolidinon Chemical compound CN1CCN(C)C1=O CYSGHNMQYZDMIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 1,3-Diphenylbenzene Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 1,3-dihydrobenzimidazole-2-thione Chemical compound C1=CC=C2NC(S)=NC2=C1 YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 1
- JLIGQOJMKHMGPV-UHFFFAOYSA-N 1-methoxy-4-phenylpyridin-1-ium Chemical compound C1=C[N+](OC)=CC=C1C1=CC=CC=C1 JLIGQOJMKHMGPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQTCQNIPQMJNTI-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethylpropan-1-one Chemical group CC(C)(C)[C]=O YQTCQNIPQMJNTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNIPJYFZGXJSDD-UHFFFAOYSA-N 2,4,5-triphenyl-1h-imidazole Chemical class C1=CC=CC=C1C1=NC(C=2C=CC=CC=2)=C(C=2C=CC=CC=2)N1 RNIPJYFZGXJSDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQDBORJXHYJUIV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-bromophenyl)-2-[2-(2-bromophenyl)-4,5-diphenylimidazol-2-yl]-4,5-diphenylimidazole Chemical compound BrC1=CC=CC=C1C1(C2(N=C(C(=N2)C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)C=2C(=CC=CC=2)Br)N=C(C=2C=CC=CC=2)C(C=2C=CC=CC=2)=N1 BQDBORJXHYJUIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CUDYYMUUJHLCGZ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxypropoxy)propan-1-ol Chemical compound COC(C)COC(C)CO CUDYYMUUJHLCGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYQVIILSLSOFDA-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methylphenyl)-2-[2-(2-methylphenyl)-4,5-diphenylimidazol-2-yl]-4,5-diphenylimidazole Chemical compound CC1=CC=CC=C1C1(C2(N=C(C(=N2)C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)C=2C(=CC=CC=2)C)N=C(C=2C=CC=CC=2)C(C=2C=CC=CC=2)=N1 GYQVIILSLSOFDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical group COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RFCQDOVPMUSZMN-UHFFFAOYSA-N 2-Naphthalenethiol Chemical compound C1=CC=CC2=CC(S)=CC=C21 RFCQDOVPMUSZMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WAEVWDZKMBQDEJ-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-methoxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound COC(C)COC(C)COC(C)CO WAEVWDZKMBQDEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GGDYAKVUZMZKRV-UHFFFAOYSA-N 2-fluoroethanol Chemical compound OCCF GGDYAKVUZMZKRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLGDWWCZQDIASO-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-(7-oxabicyclo[4.1.0]hepta-1,3,5-trien-2-yl)-2-phenylethanone Chemical class OC(C(=O)c1cccc2Oc12)c1ccccc1 NLGDWWCZQDIASO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NEAQRZUHTPSBBM-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-3,3-dimethyl-7-nitro-4h-isoquinolin-1-one Chemical compound C1=C([N+]([O-])=O)C=C2C(=O)N(O)C(C)(C)CC2=C1 NEAQRZUHTPSBBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BHMLTIAYKIBGRK-UHFFFAOYSA-N 2-imino-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(=N)C(=O)C1=CC=CC=C1 BHMLTIAYKIBGRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FLFWJIBUZQARMD-UHFFFAOYSA-N 2-mercapto-1,3-benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2OC(S)=NC2=C1 FLFWJIBUZQARMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001494 2-propynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])* 0.000 description 1
- ODSXJQYJADZFJX-UHFFFAOYSA-N 3,5-bis(trifluoromethyl)phenol Chemical compound OC1=CC(C(F)(F)F)=CC(C(F)(F)F)=C1 ODSXJQYJADZFJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BGNGWHSBYQYVRX-UHFFFAOYSA-N 4-(dimethylamino)benzaldehyde Chemical compound CN(C)C1=CC=C(C=O)C=C1 BGNGWHSBYQYVRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BAYGVMXZJBFEMB-UHFFFAOYSA-N 4-(trifluoromethyl)phenol Chemical compound OC1=CC=C(C(F)(F)F)C=C1 BAYGVMXZJBFEMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQBCQEDMLHHOMQ-UHFFFAOYSA-N 4-methoxycyclohexa-1,5-diene-1,4-diol Chemical compound COC1(O)CC=C(O)C=C1 WQBCQEDMLHHOMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000590 4-methylphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- ZRDSGWXWQNSQAN-UHFFFAOYSA-N 6-diazo-n-phenylcyclohexa-2,4-dien-1-amine Chemical compound [N-]=[N+]=C1C=CC=CC1NC1=CC=CC=C1 ZRDSGWXWQNSQAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJGDCISVLKPVQT-UHFFFAOYSA-N C(C)(=O)ON=C(C(=O)C1=CC=CC=C1)C.C(C)(=O)ON=C(C)C(CC)=O Chemical compound C(C)(=O)ON=C(C(=O)C1=CC=CC=C1)C.C(C)(=O)ON=C(C)C(CC)=O SJGDCISVLKPVQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JGYQQAPJOPJKKH-UHFFFAOYSA-N C1(C=CC=C1)[Ti](C1=C(C(=CC=C1F)N1CC=CC=C1)F)(C1=C(C(=CC=C1F)N1CC=CC=C1)F)C1C=CC=C1 Chemical compound C1(C=CC=C1)[Ti](C1=C(C(=CC=C1F)N1CC=CC=C1)F)(C1=C(C(=CC=C1F)N1CC=CC=C1)F)C1C=CC=C1 JGYQQAPJOPJKKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZLYSDJGEXGQDO-UHFFFAOYSA-N C1=CC=CC2=NCNC=C21 Chemical compound C1=CC=CC2=NCNC=C21 GZLYSDJGEXGQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WEIZCBQGLPHHDE-UHFFFAOYSA-N CS(=O)(=O)Nc1ccc(F)c(c1F)[Ti](C1C=CC=C1)(C1C=CC=C1)c1c(F)ccc(NS(C)(=O)=O)c1F Chemical compound CS(=O)(=O)Nc1ccc(F)c(c1F)[Ti](C1C=CC=C1)(C1C=CC=C1)c1c(F)ccc(NS(C)(=O)=O)c1F WEIZCBQGLPHHDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940126062 Compound A Drugs 0.000 description 1
- 241000196324 Embryophyta Species 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N Heterophylliin A Natural products O1C2COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC2C(OC(=O)C=2C=C(O)C(O)=C(O)C=2)C(O)C1OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N Maleimide Chemical compound O=C1NC(=O)C=C1 PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NPKSPKHJBVJUKB-UHFFFAOYSA-N N-phenylglycine Chemical compound OC(=O)CNC1=CC=CC=C1 NPKSPKHJBVJUKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 229920001214 Polysorbate 60 Polymers 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical class C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001800 Shellac Polymers 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 1
- 239000007877 V-601 Substances 0.000 description 1
- ZNZDJSGUWLGTLA-UHFFFAOYSA-N [(1-oxo-1-phenylpropan-2-ylidene)amino] benzoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C(C)=NOC(=O)C1=CC=CC=C1 ZNZDJSGUWLGTLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVWADWOERKNWRY-UHFFFAOYSA-N [2-(dimethylamino)phenyl]-phenylmethanone Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 RVWADWOERKNWRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 1
- 239000013543 active substance Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005599 alkyl carboxylate group Chemical group 0.000 description 1
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000005037 alkyl phenyl group Chemical group 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N alumane Chemical group [AlH3] AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 1
- MHDLAWFYLQAULB-UHFFFAOYSA-N anilinophosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)NC1=CC=CC=C1 MHDLAWFYLQAULB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 125000005427 anthranyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003235 aromatic polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000823 artificial membrane Substances 0.000 description 1
- 125000005161 aryl oxy carbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 125000002785 azepinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- CIZVQWNPBGYCGK-UHFFFAOYSA-N benzenediazonium Chemical compound N#[N+]C1=CC=CC=C1 CIZVQWNPBGYCGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003785 benzimidazolyl group Chemical group N1=C(NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N benzo-alpha-pyrone Natural products C1=CC=C2OC(=O)C=CC2=C1 ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 125000001164 benzothiazolyl group Chemical group S1C(=NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 1
- 125000000649 benzylidene group Chemical group [H]C(=[*])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 239000010796 biological waste Substances 0.000 description 1
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 238000010504 bond cleavage reaction Methods 0.000 description 1
- 244000309464 bull Species 0.000 description 1
- 125000000609 carbazolyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 1
- 229940026110 carbon dioxide / nitrogen Drugs 0.000 description 1
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 238000012663 cationic photopolymerization Methods 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000004568 cement Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 235000001671 coumarin Nutrition 0.000 description 1
- 125000000332 coumarinyl group Chemical class O1C(=O)C(=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 229920006037 cross link polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- DMSZORWOGDLWGN-UHFFFAOYSA-N ctk1a3526 Chemical group NP(N)(N)=O DMSZORWOGDLWGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- PESYEWKSBIWTAK-UHFFFAOYSA-N cyclopenta-1,3-diene;titanium(2+) Chemical class [Ti+2].C=1C=C[CH-]C=1.C=1C=C[CH-]C=1 PESYEWKSBIWTAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- LXCYSACZTOKNNS-UHFFFAOYSA-N diethoxy(oxo)phosphanium Chemical compound CCO[P+](=O)OCC LXCYSACZTOKNNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBAUUSKPFGFBQZ-UHFFFAOYSA-N diethylaminophosphonic acid Chemical compound CCN(CC)P(O)(O)=O NBAUUSKPFGFBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940028356 diethylene glycol monobutyl ether Drugs 0.000 description 1
- 230000029087 digestion Effects 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 150000002019 disulfides Chemical class 0.000 description 1
- YMRYNEIBKUSWAJ-UHFFFAOYSA-N ditert-butyl benzene-1,3-dicarboperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOC(=O)C1=CC=CC(C(=O)OOC(C)(C)C)=C1 YMRYNEIBKUSWAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 125000003754 ethoxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC)* 0.000 description 1
- 125000004705 ethylthio group Chemical group C(C)S* 0.000 description 1
- 238000000855 fermentation Methods 0.000 description 1
- 230000004151 fermentation Effects 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000002485 formyl group Chemical group [H]C(*)=O 0.000 description 1
- 239000003205 fragrance Substances 0.000 description 1
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000008246 gaseous mixture Substances 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000000717 hydrazino group Chemical group [H]N([*])N([H])[H] 0.000 description 1
- 239000000852 hydrogen donor Substances 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical class I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001841 imino group Chemical group [H]N=* 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 229910017053 inorganic salt Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000012280 lithium aluminium hydride Substances 0.000 description 1
- 238000000344 low-energy electron-beam lithography Methods 0.000 description 1
- VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L magnesium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Mg+2] VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000347 magnesium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001862 magnesium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical class CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001160 methoxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 1
- 125000006626 methoxycarbonylamino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002816 methylsulfanyl group Chemical group [H]C([H])([H])S[*] 0.000 description 1
- 125000004170 methylsulfonyl group Chemical group [H]C([H])([H])S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000010813 municipal solid waste Substances 0.000 description 1
- BZFWSDQZPYVFHP-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyl-4-methylsulfanylaniline Chemical compound CSC1=CC=C(N(C)C)C=C1 BZFWSDQZPYVFHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000025 natural resin Substances 0.000 description 1
- 239000008239 natural water Substances 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- JCXJVPUVTGWSNB-UHFFFAOYSA-N nitrogen dioxide Inorganic materials O=[N]=O JCXJVPUVTGWSNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 1
- 125000001209 o-nitrophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C(C([H])=C1[H])[N+]([O-])=O 0.000 description 1
- 239000003895 organic fertilizer Substances 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 125000004043 oxo group Chemical group O=* 0.000 description 1
- JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N oxolane-2,4-dione Chemical compound O=C1COC(=O)C1 JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- FZUGPQWGEGAKET-UHFFFAOYSA-N parbenate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 FZUGPQWGEGAKET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005548 perfluoropolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 125000003356 phenylsulfanyl group Chemical group [*]SC1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 1
- PTMHPRAIXMAOOB-UHFFFAOYSA-N phosphoric acid amide group Chemical group P(N)(O)(O)=O PTMHPRAIXMAOOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003018 phosphorus compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000005936 piperidyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002432 poly(vinyl methyl ether) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002959 polymer blend Polymers 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 229920002620 polyvinyl fluoride Polymers 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005554 pyridyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005030 pyridylthio group Chemical group N1=C(C=CC=C1)S* 0.000 description 1
- HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N pyrrolidin-2-one Chemical compound O=C1CCCN1 HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005493 quinolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000002407 reforming Methods 0.000 description 1
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010865 sewage Substances 0.000 description 1
- 239000004208 shellac Substances 0.000 description 1
- ZLGIYFNHBLSMPS-ATJNOEHPSA-N shellac Chemical compound OCCCCCC(O)C(O)CCCCCCCC(O)=O.C1C23[C@H](C(O)=O)CCC2[C@](C)(CO)[C@@H]1C(C(O)=O)=C[C@@H]3O ZLGIYFNHBLSMPS-ATJNOEHPSA-N 0.000 description 1
- 229940113147 shellac Drugs 0.000 description 1
- 235000013874 shellac Nutrition 0.000 description 1
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- 238000000629 steam reforming Methods 0.000 description 1
- 125000003011 styrenyl group Chemical class [H]\C(*)=C(/[H])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000000213 sulfino group Chemical group [H]OS(*)=O 0.000 description 1
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 1
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 1
- 150000003456 sulfonamides Chemical class 0.000 description 1
- 125000006296 sulfonyl amino group Chemical group [H]N(*)S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 1
- XTQHKBHJIVJGKJ-UHFFFAOYSA-N sulfur monoxide Chemical class S=O XTQHKBHJIVJGKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052815 sulfur oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 1
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical group C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 125000002088 tosyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1C([H])([H])[H])S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- PWBHRVGYSMBMIO-UHFFFAOYSA-M tributylstannanylium;acetate Chemical compound CCCC[Sn](CCCC)(CCCC)OC(C)=O PWBHRVGYSMBMIO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLGLQAWTXXGVEM-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol monomethyl ether Chemical group COCCOCCOCCO JLGLQAWTXXGVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229930195735 unsaturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 description 1
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 1
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- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
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- C08J2300/10—Polymers characterised by the presence of specified groups, e.g. terminal or pendant functional groups
- C08J2300/102—Polymers characterised by the presence of specified groups, e.g. terminal or pendant functional groups containing halogen atoms
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Definitions
- the present invention includes hydrogen, helium, carbon monoxide, carbon dioxide, hydrogen sulfide, oxygen, nitrogen, ammonia, sulfur oxides, nitrogen oxides, hydrocarbons such as methane and ethane, unsaturated hydrocarbons such as propylene, tetrafluoro
- the present invention relates to a novel gas separation membrane that can efficiently separate a specific gas from a gas mixture containing a gas such as a perfluoro compound such as ethane, and in particular, a gas separation membrane that selectively separates carbon dioxide from a gas mixture containing carbon dioxide, and this
- the present invention relates to a manufacturing method, a module using the same, and a separation device.
- the gas permeability (permeability coefficient) in the polymer membrane is expressed by the product of the solubility coefficient (solubility) of the gas in the polymer membrane and the diffusion coefficient (diffusivity) (Non-Patent Document 1). Therefore, in order to selectively improve the permeability (permeability coefficient) of carbon dioxide with respect to the separation target gas, the solubility coefficient (solubility) and / or diffusion coefficient (diffusibility) of carbon dioxide in the polymer membrane It is sufficient to selectively improve.
- Carbon dioxide has a quadrupole structure polarized in the molecule and has affinity with a chemical structure having polarity. For example, polyethylene glycol has been reported to have high solubility in carbon dioxide (Non-Patent Document). 2).
- Non-patent Document 3 a separation membrane containing a polyethyleneoxy (PEO) composition has been studied (Non-patent Document 3, Patent Documents 3 to 6).
- carbon dioxide CO 2 : 3.3 ⁇
- H 2 hydrogen
- Patent Document 4 it has separation selectivity. This is because carbon dioxide has a strong interaction with the polyethyleneoxy composition.
- Hydrogen is generally produced through steam reforming of natural gas and water gas shift, with about 40% of the composition being carbon dioxide and about 60% being a gaseous mixture of hydrogen.
- Non-Patent Documents 5, 6, and 7 As examples of gas separation membranes using fluorine compounds, plasma polymer thin films are known. These separation membranes have a carbon dioxide / nitrogen separation selectivity of 3.9-8. Since it was as low as 0, the performance was insufficient as a practical carbon dioxide separation membrane (Patent Documents 7 to 9).
- Patent Document 10 a method relating to a separation membrane using fluorine-containing polyimide has been studied.
- Patent Documents 8 and 9 Further improvement is required for the gas permeability and separation selectivity of the separation membrane.
- An object of the present invention is to provide a gas separation membrane and composite membrane excellent in gas permeability and separation selectivity, a method for producing the gas separation membrane and composite membrane, a gas mixture separation method, a module using the same, and a separation device And
- a gas separation membrane comprising a polymer containing at least one partial structure represented by the following general formula (I) and at least one partial structure represented by the following general formula (II) .
- R 1 and R a each independently represents a hydrogen atom or a substituent.
- J 1 represents —CO—, —COO—, —CONR 20 —, —OCO—, a methylene group, a phenylene group. , or -C 6 H 5 CO- .R 20 representing a group J 1 to.
- plurality of represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a .W 1 representing the aralkyl group is a single bond or a divalent linking group W 1 , R 1 and R a may be the same or different.
- each R 2 independently represents a hydrogen atom or a substituent.
- L 1 represents an n-valent linking group.
- N represents an integer of 2 or more.
- J 2 represents —CO—, — COO -, - CONR 6 -, - OCO-, a methylene group, a phenylene group, or -C .
- R represents a 6 H 5 CO- group 6 is a hydrogen atom, an alkyl group, .W 2 representing an aryl group, or an aralkyl group Represents a single bond or a divalent linking group, and a plurality of J 2 , W 2 and R 2 may be the same or different.
- at least one of R a in the general formula (I) and L 1 in the general formula (II) has a fluorine atom.
- R 7 represents a hydrogen atom or a substituent
- L 2 represents —CF 2 — or —CF 2 CF 2 O—
- l represents an integer of 1 or more.
- R 1 And W 1 have the same meanings as R 1 and W 1 in the general formula (I), and a plurality of R 1 , W 1 , L 2 , l and R 7 may be the same or different.
- L 3 is -CF 2 - or .W 2 and R 2 represents a -CF 2 CF 2 O- are the same meaning as W 2 and R 2 in the general formula (II)
- W 3 has the same meaning as W 2.
- R 3 has the same meaning as R 2.
- m, x and z each represent an integer of 1 or more, and a plurality of L 3 and m may be the same or different. .
- Gas separation formed by a composition comprising at least one compound represented by the following general formula (Ia) and at least one compound represented by the following general formula (IIa) film.
- R 1 represents a hydrogen atom or a substituent.
- J 1 represents —CO—, —COO—, —CONR 3 —, —OCO—, a methylene group, a phenylene group, or —C 6 H.
- 4 represents a CO— group
- R 3 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or an aralkyl group
- W 1 represents a single bond or a divalent linking group
- A represents a fluorine atom or at least one fluorine atom Represents a substituent having
- each R 2 independently represents a hydrogen atom or a substituent.
- J 2 represents —CO—, —COO—, —CONR 4 —, —OCO—, a methylene group, a phenylene group, or — Represents a C 6 H 4 CO— group
- R 4 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or an aralkyl group
- W 2 represents a single bond or a divalent linking group
- L 1 represents a y valent linking group.
- Y represents an integer greater than or equal to 2.
- Plural J 2 , W 2 and R 2 may be the same or different.
- R 5 represents a hydrogen atom or a substituent.
- R 1 represents a hydrogen atom or a substituent.
- J 1 represents —CO—, —COO—, —CONR 20 —, —OCO—, Represents a methylene group, a phenylene group, or a —C 6 H 5 CO— group
- R 20 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or an aralkyl group
- W 1 represents a single bond or a divalent linking group.
- each R 2 independently represents a hydrogen atom or a substituent.
- L 2 represents an n-valent linking group having at least one fluorine atom.
- N represents an integer of 2 or more.
- J 2 represents —CO—, —COO—, —CONR 6 —, —OCO—, a methylene group, a phenylene group, or a —C 6 H 5 CO— group, wherein R 6 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or Represents an aralkyl group, W 2 represents a single bond or a divalent linking group, and a plurality of J 2 , W 2 and R 2 may be the same or different.
- [6] By a composition containing at least one compound represented by the general formula (Ia) described in [4] and at least one compound represented by the general formula (IIb) described in [5] A gas separation membrane formed. [7] The gas separation membrane according to [4] or [6] above, where
- R 7 represents a hydrogen atom or a substituent
- L 2 represents CF 2 or CF 2 CF 2 O.
- l represents an integer of 1 or more.
- R 1 and W 1 represent And the same as R 1 and W 1 in the general formula (Ia), and a plurality of L 2 may be the same or different.
- W 3 and W 4 each independently represents a single bond or a divalent linking group, m represents an integer of 1 or more, and R 2 each independently represents the above general formula.
- R 2 each independently represents the above general formula.
- L 3 represents —CF 2 — or —CF 2 CF 2 O—.
- a plurality of L 3 may be the same or different.
- a gas separation membrane containing a polymer containing at least one partial structure represented by the following general formula (I) and at least one partial structure represented by the following general formula (II) The method for producing a gas separation membrane according to any one of [1] to [9], wherein the gas separation membrane is formed by irradiation.
- R 1 and R a each independently represents a hydrogen atom or a substituent.
- J 1 represents —CO—, —COO—, —CONR 20 —, —OCO—, a methylene group, a phenylene group. , or -C 6 H 5 CO- .R 20 representing a group J 1 to.
- plurality of represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a .W 1 representing the aralkyl group is a single bond or a divalent linking group W 1 , R 1 and R a may be the same or different.
- R 2 when there are a plurality of R 2 s, each independently represents a hydrogen atom or a substituent.
- L 1 represents an n-valent linking group.
- N represents an integer of 2 or more.
- J 2 represents —CO—, —COO—, —CONR 6 —, —OCO—, a methylene group, a phenylene group, or a —C 6 H 5 CO— group, wherein R 6 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or an aralkyl group.
- W 2 represents a single bond or a divalent linking group, and a plurality of J 2 , W 2 and R 2 may be the same or different.) However, at least one of R a in the general formula (I) and L 1 in the general formula (II) has a fluorine atom.
- R a in the general formula (I) and L 1 in the general formula (II) has a fluorine atom.
- the gas separation membrane and composite membrane of the present invention have excellent gas permeability and separation selectivity. In particular, it has excellent carbon dioxide permeability and has excellent performance in carbon dioxide / methane and carbon dioxide / hydrogen separation selectivity. In particular, it has excellent stability and separation selectivity under humid conditions. Moreover, the manufacturing method of the gas separation membrane and composite membrane of this invention can form this gas separation membrane and this composite membrane efficiently. Furthermore, by using the gas separation membrane or composite membrane of the present invention, it can be applied to a high-performance gas separation membrane module, gas separation, and gas purification apparatus.
- the gas separation membrane of the present invention contains at least one polymer including a partial structure represented by the following general formula (I) and at least one partial structure represented by the following general formula (II). .
- R 1 and R a each independently represents a hydrogen atom or a substituent.
- J 1 represents —CO—, —COO—, —CONR 20 —, —OCO—, a methylene group, a phenylene group. , or -C 6 H 5 CO- .R 20 representing a group J 1 to.
- plurality of represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a .W 1 representing the aralkyl group is a single bond or a divalent linking group W 1 , R 1 and R a may be the same or different.
- .J 2 .n is representing an integer of 2 or more .L 1 representing each independently a hydrogen atom or a substituent if R 2 existing in plural numbers representative of the n-valent linking group - CO—, —COO—, —CONR 6 —, —OCO—, methylene group, phenylene group, or —C 6 H 5 CO— group, wherein R 6 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or an aralkyl group.
- W 2 represents a single bond or a divalent linking group, and a plurality of J 2 , W 2 and R 2 may be the same or different.) However, at least one of R a in the general formula (I) and L 1 in the general formula (II) has a fluorine atom.
- the general formula (I) is preferably the general formula (I-1), and the general formula (II) is preferably the general formula (VI).
- R 1 represents a hydrogen atom or a substituent.
- Substituent group Z An alkyl group (preferably an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 10 carbon atoms, such as methyl, ethyl, Iso-propyl, tert-butyl, n-octyl) , N-decyl, n-hexadecyl), a cycloalkyl group (preferably a cycloalkyl group having 3 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 3 to 10 carbon atoms, such as cyclopropyl, Cyclopentyl, cyclohexyl, etc.), an alkenyl group (preferably an alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms, more preferably 2 to 20 carbon atoms, particularly preferably 2 to 10 carbon atoms, such as
- An aryl group having 6 to 12 carbon atoms particularly preferably phenyl, p-methylphenyl, naphthyl, anthranyl, etc., an amino group (preferably having 0 to 30 carbon atoms, more preferably carbon
- an alkoxy group preferably A carbon atom having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 10 carbon atoms.
- a alkoxy group such as methoxy, ethoxy, butoxy, 2-ethylhexyloxy, etc.
- an aryloxy group preferably having 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, particularly preferably carbon atoms.
- 6-12 aryloxy groups such as phenyloxy, 1-naphthyloxy, 2-naphthyloxy and the like, and heterocyclic oxy groups (preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to carbon atoms).
- a heterocyclic oxy group having 1 to 12 carbon atoms such as pyridyloxy, pyrazyloxy, pyrimidyloxy, quinolyloxy and the like.
- An acyl group (preferably an acyl group having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as acetyl, benzoyl, formyl, pivaloyl, etc.), alkoxy A carbonyl group (preferably an alkoxycarbonyl group having 2 to 30 carbon atoms, more preferably 2 to 20 carbon atoms, particularly preferably 2 to 12 carbon atoms, such as methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, etc.), aryloxy A carbonyl group (preferably an aryloxycarbonyl group having 7 to 30 carbon atoms, more preferably 7 to 20 carbon atoms, particularly preferably 7 to 12 carbon atoms, such as phenyloxycarbonyl), an acyloxy group ( Preferably 2-30 carbon atoms, more preferably 2-20 carbon atoms, especially Preferably, it is an acyloxy group having 2 to 10 carbon atoms, such as acet
- alkoxycarbonylamino group preferably an alkoxycarbonylamino group having 2 to 30 carbon atoms, more preferably 2 to 20 carbon atoms, particularly preferably 2 to 12 carbon atoms, such as methoxycarbonylamino
- aryl Oxycarbonylamino group preferably an aryloxycarbonylamino group having 7 to 30 carbon atoms, more preferably 7 to 20 carbon atoms, particularly preferably 7 to 12 carbon atoms, and examples thereof include phenyloxycarbonylamino group
- a sulfonylamino group preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as methanesulfonylamino, benzenesulfonylamino, etc.
- a sulfamoyl group Preferably 0-30 carbon atoms, more preferred 0 to 20 carbon atoms, particularly preferably a sulfam
- a carbamoyl group (preferably a carbamoyl group having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, and examples thereof include carbamoyl, methylcarbamoyl, diethylcarbamoyl, phenylcarbamoyl and the like.
- An alkylthio group preferably an alkylthio group having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as methylthio and ethylthio
- an arylthio group Preferably, it is an arylthio group having 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, particularly preferably 6 to 12 carbon atoms, such as phenylthio, etc.
- a heterocyclic thio group preferably having 1 carbon atom
- a heterocyclic thio group e.g. pyridylthio, 2-benzoxazolyl thio, and 2-benzthiazolylthio the like.
- a sulfonyl group (preferably a sulfonyl group having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as mesyl, tosyl, etc.), a sulfinyl group (preferably A sulfinyl group having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as methanesulfinyl, benzenesulfinyl, etc.), ureido group (preferably having 1 carbon atom) -30, more preferably a ureido group having 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as ureido, methylureido, phenylureido, etc.), a phosphoramide group (preferably having a carbon number) A phosphoric acid amide group having 1 to 30, more preferably 1 to 20 carbon
- heteroatoms include nitrogen atoms, oxygen atoms, sulfur atoms, specifically imidazolyl, pyridyl, quinolyl, furyl, thienyl, piperidyl, morpholino, benzoxazolyl, benzimidazolyl, benzthiazolyl, carbazolyl Group, azepinyl group, etc.), silyl group (preferably a silyl group having 3 to 40 carbon atoms, more preferably 3 to 30 carbon atoms, particularly preferably 3 to 24 carbon atoms, such as trimethylsilyl, triphenyl And silyloxy group (preferably having 3 carbon atoms).
- silyl group preferably a silyl group having 3 to 40 carbon atoms, more preferably 3 to 30 carbon atoms, particularly preferably 3 to 24 carbon atoms, such as trimethylsilyl, triphenyl And silyloxy group (preferably having 3 carbon atoms).
- substituents may be further substituted with any one or more substituents selected from the above substituent group Z.
- R 1 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group, more preferably a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, and still more preferably a hydrogen atom.
- J 1 represents —CO—, —COO—, —CONR 20 —, —OCO—, a methylene group, a phenylene group, or a —C 6 H 4 CO— group.
- R 20 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or an aralkyl group, preferably a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group, and a preferred range thereof is synonymous with the preferred range of the alkyl group and aryl group described for the substituent Z. is there.
- J 1 is preferably —CO—, —COO— or —OCO—, particularly preferably —COO—.
- W 1 represents a single bond or a divalent linking group.
- the divalent linking group include a linear, branched or cyclic alkylene group (preferably an alkylene group having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 12 carbon atoms, and still more preferably 1 to 4 carbon atoms).
- a linear, branched or cyclic alkylene group preferably an alkylene group having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 12 carbon atoms, and still more preferably 1 to 4 carbon atoms.
- an alkyleneoxy group preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 12 carbon atoms, still more preferably carbon atoms.
- aralkylene group having 7 to 30 carbon atoms more preferably 7 to 13 carbon atoms.
- benzylidene, cinnamylidene, etc. an arylene group (preferably an arylene group having 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 15 carbon atoms, such as phenylene, cumenylene, mesitylene, tolylene, xylylene, etc. And the like.
- the further substituent is preferably a hydroxy group or a halogen atom, more preferably a hydroxy group or a fluorine atom, and particularly preferably a fluorine atom.
- an ether bond is included in the molecule.
- W 1 is preferably a single bond, an alkylene group or an alkyleneoxy group, and is preferably a single bond, an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms or an alkyleneoxy group having 1 to 4 carbon atoms.
- R a represents a hydrogen atom or a substituent, and examples thereof are selected from the groups described in the substituent group Z.
- R a is preferably a substituent having at least one fluorine atom.
- the “substituent having at least one fluorine atom” is preferably an alkyl group having at least one fluorine atom or an aryl group having at least one fluorine atom, and is an alkyl group having at least one fluorine atom. More preferably it is.
- R a is, in the case of substituents having at least one fluorine atom, and decreases the surface energy because the bonding force is strong polarizability of small carbon Fu' containing water repellent by intermolecular interaction is small, oil-repellent performance As expected, swelling of the film containing this composition during humidification can be suppressed.
- the “substituent having at least one fluorine atom” preferably has 1 to 50 carbon atoms, and more preferably 1 to 10 carbon atoms. If the carbon number is within this range, compatibility and flexibility of the gas separation membrane of the present invention are also preferable.
- the number of fluorine atoms is preferably 1 to 30, and more preferably 1 to 10. If the number of fluorine atoms is within this range, it is preferable from the viewpoint of providing compatibility and flexibility of the gas separation membrane of the present invention.
- R 2 represents a hydrogen atom or a substituent. Examples of the substituent have the same meaning as the substituent described in the substituent group Z, and R 2 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group, and more preferably a hydrogen atom.
- J 2 represents —CO—, —COO—, —CONR 6 —, —OCO—, a methylene group, a phenylene group, or a —C 6 H 5 CO— group.
- R 6 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or an aralkyl group.
- R 6 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or an aralkyl group, preferably a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group, and a preferable range thereof is synonymous with a preferable range of the alkyl group and aryl group described for the substituent Z. is there.
- W 2 represents a single bond or a divalent linking group. Examples of the divalent linking group include a linear, branched or cyclic alkylene group (preferably an alkylene group having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 12 carbon atoms, and still more preferably 1 to 4 carbon atoms).
- alkyleneoxy group preferably having 1 to 100 carbon atoms, more preferably 1 to 50 carbon atoms, still more preferably carbon atoms.
- W 2 is preferably a single bond, an alkylene group or an alkyleneoxy group, and is preferably a single bond, an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms or an alkyleneoxy group having 1 to 4 carbon atoms.
- L 1 represents an n-valent linking group, and specific examples thereof include the following structural units represented by (L-1) to (L-35) or a linking group constituted by a combination thereof. Can do.
- L 1 composed of a group selected from the above (L-1) to (L-35) is preferably an alkylene group, an alkyleneoxy group or an arylene group, more preferably an alkylene group or an alkyleneoxy group, More preferably, it has an ether bond in the molecule.
- n represents an integer of 2 or more.
- n is 2 to 6, more preferably 2 to 4.
- At least one of R a in the general formula (I) or the linking group L 1 in the general formula (II) is a substituent or a linking group having at least a fluorine atom.
- the partial structure represented by the general formula (I) is preferably a partial structure represented by the following general formula (I-1).
- R 7 represents a hydrogen atom or a substituent
- L 2 represents —CF 2 — or —CF 2 CF 2 O—
- l represents an integer of 1 or more.
- R 1 And W 1 have the same meanings as R 1 and W 1 in the general formula (I), and a plurality of R 1 , W 1 , L 2 , l and R 7 may be the same or different.
- R 7 represents a hydrogen atom or a substituent, preferably a hydrogen atom, an alkyl group, or a halogen, more preferably a hydrogen atom, an alkyl group, or a halogen, still more preferably a halogen, particularly a fluorine atom.
- L 2 represents —CF 2 — or —CF 2 CF 2 O—.
- l represents an integer of 1 or more, preferably 1 to 30, more preferably 1 to 10, and more preferably 1 to 5.
- R 1 and W 1 are synonymous with R 1 and W 1 in the general formula (I), and their preferred ranges are also the same.
- the partial structure represented by the general formula (II) is preferably a partial structure represented by the following general formula (II-1).
- L 3 represents —CF 2 — or —CF 2 CF 2 O—.
- m represents an integer of 1 or more, preferably 1 to 30, more preferably 1 to 10, and more preferably 1 to 5.
- W 2 and R 2 are synonymous with W 2 and R 2 in the general formula (II), W 3 is synonymous with W 2 , R 3 is synonymous with R 2 , and a preferred range is also the same.
- z represents an integer of 1 or more. Preferably, z is 1 to 6, more preferably 1 to 4.
- a gas separation membrane according to another embodiment of the present invention contains at least one compound represented by the following general formula (Ia) and at least one compound represented by the following general formula (IIa). It is formed by a thing.
- R 1 represents a hydrogen atom or a substituent.
- J 1 represents —CO—, —COO—, —CONR 3 —, —OCO—, a methylene group, a phenylene group, or —C 6 H.
- 4 represents a CO— group
- R 3 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or an aralkyl group
- W 1 represents a single bond or a divalent linking group
- A represents a fluorine atom or at least one fluorine atom Represents a substituent having
- Exemplary and preferred ranges of R 1, J 1, W 1 , and A in formula (Ia) are the same as illustrated and preferred ranges of R 1, J 1, W 1 , and A in the formula (I).
- R 2 when a plurality of R 2 are present, each independently represents a hydrogen atom or a substituent.
- J 2 represents —CO—, —COO—, —CONR 4 —, —OCO—, a methylene group, phenylene.
- R 4 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or an aralkyl group
- W 2 represents a single bond or a divalent linking group
- L 1 represents y.
- y represents an integer of 2 or more, and a plurality of J 2 , W 2 , and R 2 may be the same or different.
- R 2 , J 2 , W 2 , and y in the general formula (IIa) are the same as those of R 2 , J 2 , W 2 , and n in the general formula (II).
- the gas separation membrane according to another aspect of the present invention contains at least one compound represented by the following general formula (Ib) and at least one compound represented by the following general formula (IIb). It is formed by the composition.
- R 5 represents a hydrogen atom or a substituent.
- R 1 represents a hydrogen atom or a substituent.
- J 1 represents —CO—, —COO—, —CONR 20 —, —OCO—, Represents a methylene group, a phenylene group, or a —C 6 H 5 CO— group
- R 20 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or an aralkyl group
- W 1 represents a single bond or a divalent linking group.
- .J 2 .n is representing an integer of 2 or more .
- R 2 is representing a hydrogen atom or a substituent that represents an n-valent linking group having at least one fluorine atom - CO—, —COO—, —CONR 6 —, —OCO—, methylene group, phenylene group, or —C 6 H 5 CO— group, wherein R 6 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or an aralkyl group.
- W 2 represents a single bond or a divalent linking group, and a plurality of J 2 , W 2 , and R 2 may be the same or different.
- Exemplary and preferred ranges of R 1, J 1 and W 1 in the general formula (Ib) are the same as R 1, exemplary and preferred ranges of J 1 and W 1 of formula (I-1).
- Exemplary and preferred ranges of R 2, J 2, W 2 , and n in the general formula (IIb) is the same as illustrated and preferred ranges of the general formula (II) R 2, J 2 , W 2, and n.
- the gas separation membrane is formed of a composition containing at least one compound represented by the general formula (Ia) and at least one compound represented by the general formula (IIb). Gas separation membrane.
- the compound represented by the general formula (Ia) is preferably a compound represented by the following general formula (Ia-1).
- R 7 represents a hydrogen atom or a substituent
- L 2 represents CF 2 or CF 2 CF 2 O.
- l represents an integer of 1 or more.
- R 1 and W 1 represent And the same as R 1 and W 1 in the general formula (Ia), and a plurality of L 2 may be the same or different.
- the compound represented by the general formula (IIb) is preferably a compound represented by the following general formula (IIb-1).
- W 3 and W 4 each independently represents a single bond or a divalent linking group, m represents an integer of 1 or more, and R 2 each independently represents the above general formula.
- R 2 each independently represents the above general formula.
- L 3 represents —CF 2 — or —CF 2 CF 2 O—.
- a plurality of L 3 may be the same or different.
- R 2 in the general formula (IIb-1), and examples and preferred ranges of L 3 are the same as illustrated and preferred ranges of R 2, and L 1 in the general formula (II).
- Examples and preferred ranges of W 3 and W 4 are the same as those of W 2 and preferred ranges.
- the partial structure represented by the general formula (I-1) is preferably a partial structure represented by the following general formula (I-2).
- R 1 represents a hydrogen atom or a substituent
- R 8 , R 9 , R 10 and R 11 represent a hydrogen atom or a fluorine atom
- o is 0 or 1.
- R 1 , R 8 , R 9 , R 10 and R 11 present may be the same or different.
- R 1 is the same as the examples and preferred ranges of R 1 in formula (I).
- the compound represented by the general formula (Ia-1) is preferably a compound represented by the following general formula (Ia-2).
- the compound represented by the general formula (I-2) is preferably formed from a compound represented by the following general formula (Ia-2).
- the gas separation membrane according to the embodiment of the present invention is a polymer (in the case of being referred to as prepolymer (III)) including a partial structure represented by the following general formula (I-1) and a partial structure represented by the following general formula (III) It is preferable to contain.
- the prepolymer (III) contains a fluorine atom in the copolymer and a reactive group in the molecule, and is represented by the partial structure represented by the general formula (I) and the general formula (II).
- a polymer containing a partial structure when used in a separation membrane, excellent gas separation properties are exhibited.
- it since it is low in volatility and easy to adjust the viscosity, it is excellent in handleability during film formation.
- R 7 represents a hydrogen atom or a substituent
- L 2 represents CF 2 or CF 2 CF 2 O.
- l represents an integer of 1 or more.
- R 1 and W 1 represent the above general formula. It is synonymous with R 1 and W 1 in (Ia).
- W 12 and W 13 each independently represents a single bond or a divalent linking group.
- R 12 represents a hydrogen atom or a substituent
- J 12 has the same meaning as J 2 in formula (IIb-1).
- R 22 represents a hydrogen atom or an alkyl group.
- L 4 represents a divalent linking group.
- a plurality of R 7 , L 2 , 1, R 1 , W 1 , W 12 , W 13 , R 12 , J 12 , and R 22 may be the same or different. However, at least one of R 7 in the general formula (I-1) and L 4 in the general formula (III) has a fluorine atom. )
- R 1, W 1, L 2, R 1 of the exemplary and preferred ranges of l and R 7 of the general formula (Ia-1), W 1 , L 2 , L and R 7 are the same as the exemplified and preferred ranges.
- L 4 represents a divalent linking group, and specific examples thereof include the structural units represented by the above (L-1) to (L-35) or a linking group constituted by combining them. Can do.
- R 12 , W 12 , W 13 and J 12 are the same as the exemplified and preferred ranges of R 2 , W 2 , W 3 and J 2 in formula (IIb-1).
- R 22 represents a hydrogen atom or an alkyl group, preferably a hydrogen atom or a methyl group.
- the prepolymer (III) includes a partial structure represented by the following general formula (I-2) and a partial structure represented by the following general formula (III) (sometimes referred to as prepolymer (III-1)). It is particularly preferred.
- R 1 , R 8 , R 9 , R 10 and R 11 represent a hydrogen atom or a fluorine atom, and o is 0 or 1.
- R 1 , R 8 , R 9 , R 10 , R 11 and o are the same as those exemplified and preferred in the general formula (general formula (I-1)), and W 12 and W 13 each independently represent a single bond or a divalent linking group.
- R 12 represents a hydrogen atom or a substituent
- J 12 has the same meaning as J 2 in formula (IIb-1)
- R 22 represents a hydrogen atom or an alkyl group
- R 2 in formula (II) L 4 represents a divalent linking group, and a plurality of R 1 , R 8 , R 9 , R 10 , R 11 , o, W 12 , W 13 , R 12 , J 12 , L 4 , And R 22 may be the same or different.
- JP-A-2009-263703 and JP-A-2010-77322 can be referred to.
- a fluorine atom Is the largest electronegativity in the periodic table, and it is a small atom, but the electrons are strongly attracted by the positive charge of the nucleus, so the polarizability is considered to be a factor.
- a fluorine-based compound is a molecule having a locally polarized structure such as carbon dioxide (quadrupole) due to a CF polarization structure (electronegativity C: 2.5, F: 4.0).
- Perfluoropolymers that have a large number of fluorines are highly compatible with carbon dioxide, such as being soluble in supercritical carbon dioxide, even for compounds with molecular weights exceeding 10,000. It has been known.
- fluorine is a small molecule, electrons are strongly attracted to the positive charge of the nucleus and the polarizability is small. That is, it is known that a compound containing fluorine has a low intermolecular interaction and a low boiling point.
- methane which is a molecule larger than carbon dioxide
- methane is likely to diffuse and permeate, resulting in a decrease in the separation selectivity between carbon dioxide gas and methane gas.
- a unit portion It has been found that the appropriate number of fluorine atoms in the structure and the proportion of the partial structure in the polymer are important.
- the partial structures represented by the general formulas (I) to (II-1) can be obtained by copolymerizing monomers corresponding to the respective partial structures.
- Specific examples of preferred monomers (exemplified monomers M-1 to M-80) are listed below, but the present invention is not limited thereto.
- p, q, and r in a specific example represent arbitrary positive integers.
- Each of the compounds for synthesizing a polymer containing a partial structure represented by general formula (I) to general formula (II-1) of the present invention is commercially available or can be easily synthesized.
- the polymer according to the present invention may be a copolymer with another monomer.
- examples of other monomers used include acrylic esters, methacrylic esters, acrylamides, methacrylamides, vinyl esters, styrenes, acrylic acid, methacrylic acid, acrylonitrile, maleic anhydride, maleic imide, etc. These known monomers are also included.
- the gas separation membrane of the present invention is formed by curing by applying some energy by the function of the polymerizable group in the monomer corresponding to the partial structure of the general formulas (I) to (II-1). Can do.
- the method for producing a gas separation membrane of the present invention includes at least one polymer having a partial structure represented by the following general formula (I) and at least one partial structure represented by the following general formula (II). Is a manufacturing method in which a gas separation membrane containing is formed by irradiation with actinic radiation.
- R 1 and R a each independently represents a hydrogen atom or a substituent.
- J 1 represents —CO—, —COO—, —CONR 20 —, —OCO—, a methylene group, a phenylene group. , or -C 6 H 5 CO- .R 20 representing a group J 1 to.
- plurality of represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a .W 1 representing the aralkyl group is a single bond or a divalent linking group W 1 , R 1 and R a may be the same or different.
- R 2 represents a hydrogen atom or a substituent.
- L 1 represents an n-valent linking group.
- N represents an integer of 2 or more.
- J 2 represents —CO—, —COO—, —CONR 6 —, —OCO—, a methylene group, a phenylene group, or —C 6 H 5 CO— group,
- R 6 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or an aralkyl group
- W 2 represents a single bond.
- a divalent linking group and a plurality of J 2 , W 2 and R 2 may be the same or different.
- at least one of R a in the general formula (I) and L 1 in the general formula (II) has a fluorine atom.
- the actinic radiation is not particularly limited as long as it can impart energy capable of generating an initiating species in the film composition by the irradiation, and ⁇ -rays, ⁇ -rays, X-rays, ultraviolet rays, Including visible light, electron beam, and the like.
- ultraviolet rays and electron beams are preferred from the viewpoint of curing sensitivity and device availability, and ultraviolet rays are particularly preferred.
- the acceleration voltage is 30 to 1000 kV, preferably 50 to 300 kV.
- the absorbed dose is preferably 5 to 200 kGy (0.5 to 20 Mrad), more preferably 20 to 100 kGy (2 to 10 Mrad).
- the atmosphere in which the electron beam is irradiated is preferably a nitrogen atmosphere with an oxygen concentration of 200 ppm or less. Within this range, the crosslinking and curing reaction in the vicinity of the surface proceeds well.
- a mercury lamp is used as the ultraviolet light source.
- the mercury lamp uses a lamp of 20 to 240 W / cm 2 and is used at a speed of 0.3 to 20 m / min.
- the distance between the membrane and the mercury lamp is preferably 1 to 30 cm.
- UV / EB Curing Technology published by General Technology Center Co., Ltd.
- Applied Technology for Low Energy Electron Beam Irradiation 2000, issued by CMC Co., Ltd.
- the gas separation membrane of the present invention is formed of a composition containing at least one compound represented by the general formula (Ia) and at least one compound represented by the general formula (IIb).
- the compound represented by the general formula (Ia) is preferably a compound represented by the following general formula (Ia-1).
- R 7 represents a hydrogen atom or a substituent
- L 2 represents CF 2 or CF 2 CF 2 O.
- l represents an integer of 1 or more.
- R 1 and W 1 represent And the same as R 1 and W 1 in the general formula (Ia), and a plurality of L 2 may be the same or different.
- the compound represented by the general formula (IIb) is preferably a compound represented by the following general formula (IIb-1).
- W 3 and W 4 each independently represent a single bond or a divalent linking group, and m represents an integer of 1 or more.
- R 2 represents the general formula (IIa). in the same meaning as R 2, L 3 it is -CF 2 -. or an -CF 2 CF 2 O- L 3 existing in plural numbers may be the same or different).
- Exemplary and preferred ranges of R 2, l, and L 3 in the general formula (IIb-1) is the same as illustrated and preferred ranges of R 2, l, and L 3 in the general formula (II).
- Examples and preferred ranges of W 3 and W 4 are the same as those of W 1 and preferred ranges.
- the photopolymerization initiator in the present invention is a compound that undergoes a chemical change through the action of light or interaction with the electronically excited state of a sensitizing dye to generate at least one of radicals, acids, and bases. It is.
- the photopolymerization initiator is an active light to be irradiated, for example, 400 to 200 nm ultraviolet rays, far ultraviolet rays, g rays, h rays, i rays, KrF excimer laser rays, ArF excimer laser rays, electron rays, X rays, molecular rays. Or what has a sensitivity to an ion beam etc. can be selected suitably, and can be used.
- Preferred photopolymerization initiators include (a) aromatic ketones, (b) aromatic onium salt compounds, (c) organic peroxides, (d) hexaarylbiimidazole compounds, (e) ketoxime ester compounds, f) borate compounds, (g) azinium compounds, (h) metallocene compounds, (i) active ester compounds, (j) compounds having a carbon halogen bond, and the like.
- aromatic ketones include “RADIATION CURING IN POLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY” P. FOUASSIER J. F. Examples thereof include compounds having a benzophenone skeleton or a thioxanthone skeleton as described in RABEK (1993), p77-117. More preferable examples of (a) aromatic ketones include ⁇ -thiobenzophenone compounds described in JP-B-47-6416, benzoin ether compounds described in JP-B-47-3981, and ⁇ -substituted benzoin compounds described in JP-B-47-22326.
- JP-A-2-211452 P-Di (dimethylaminobenzoyl) benzene JP-A 61-194062 discloses a thio-substituted aromatic ketone
- JP-B-2-9597 discloses an acylphosphine sulfide
- JP-B-2-9596 discloses an acylphosphine
- JP-B-63-61950 discloses Examples thereof include thioxanthones and coumarins described in JP-B-59-42864.
- aromatic onium salts elements of Group V, VI and VII of the Periodic Table, specifically N, P, As, Sb, Bi, O, S, Se, Te, or I fragrances Group onium salts are included.
- diazonium salts such as benzenediazonium which may have a substituent
- diazonium salt resins formaldehyde resin of diazodiphenylamine, etc.
- N-alkoxy described in each specification of U.S. Pat. No. 2,833,827 Pyridinium salts etc.
- Japanese Patent No. 4,743,528, JP-A-63-138345, JP-A-63-142345, JP-A-63-142346, JP-B-46-42363, etc. Specifically, 1-methoxy-4-phenylpyridinium, tetrafluoroborate, etc.
- the compounds described in each publication are preferably used. These generate radicals and acids as active species.
- Organic peroxide includes almost all organic compounds having one or more oxygen-oxygen bonds in the molecule. Examples thereof include 3,3′4,4′-tetra- ( t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3'4,4'-tetra- (t-amylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3'4,4'-tetra- (t-hexylperoxycarbonyl) benzophenone 3,3'4,4'-tetra- (t-octylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3'4,4'-tetra- (cumylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3'4,4'- Peroxide esters such as tetra- (p-isopropylcumylperoxycarbonyl) benzophenone and di-t-butyldiperoxyisophthalate are preferred.
- hexaarylbiimidazoles examples include lophine dimers described in JP-B Nos. 45-37377 and 44-86516, such as 2,2′-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ′, 5.
- ketoxime esters 3-benzoyloxyiminobutan-2-one, 3-acetoxyiminobutan-2-one, 3-propionyloxyiminobutan-2-one, 2-acetoxyiminopentane-3-one 2-acetoxyimino-1-phenylpropan-1-one, 2-benzoyloxyimino-1-phenylpropan-1-one, 3-p-toluenesulfonyloxyiminobutan-2-one, 2-ethoxycarbonyloxy And imino-1-phenylpropan-1-one.
- Examples of (f) borate salts which are other examples of photopolymerization initiators that can be used in the present invention include US Pat. Nos. 3,567,453, 4,343,891 and European Patent 109. , 772 and 109,773, and the like.
- Other examples of the photopolymerization initiator examples include JP-A 63-138345, JP-A 63-142345, JP-A 63-142346, and JP-A 63-142346. Examples include compounds having an N—O bond described in JP-A-63-143537 and JP-B-46-42363.
- Examples of (h) metallocene compounds that are other examples of photopolymerization initiators include JP-A-59-152396, JP-A-61-151197, JP-A-63-41484, and JP-A-2.
- Examples include titanocene compounds described in JP-A No.-249 and JP-A-2-4705, and iron-arene complexes described in JP-A-1-304453 and JP-A-1-152109.
- Specific examples of the titanocene compound include di-cyclopentadienyl-Ti-di-chloride, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-phenyl, and di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3.
- Examples of the active ester compound include EP 0290750, 046083, 156153, 271851, and 0388343, U.S. Pat. No. 3,901,710. Nitrobenzester compounds described in JP-A-60-198538 and JP-A-53-133022, European Patent 0199672, Nos. 84515, 199672, 0441115, and 0101122, U.S. Pat. Nos. 4,618,564, 4,371,605, and 4,431,774.
- Preferable examples of the compound having a carbon halogen bond include, for example, Wakabayashi et al., Bull. Chem. Soc. Examples include compounds described in Japan, 42, 2924 (1969), compounds described in British Patent 1388492, compounds described in JP-A-53-133428, compounds described in German Patent 3333724, and the like. .
- the amount of the polymerization initiator used is preferably 0.01% by mass to 10% by mass, more preferably 0.1% by mass to 5% by mass, based on the amount of the polymerizable compound.
- a known compound having an action such as further improving sensitivity or suppressing polymerization inhibition by oxygen may be further added as a co-sensitizer.
- cosensitizers include amines such as M.I. R. Sander et al., “Journal of Polymer Society”, Volume 10, 3173 (1972), Japanese Patent Publication No. 44-20189, Japanese Patent Publication No. 51-82102, Japanese Patent Publication No. 52-134692, Japanese Patent Publication No. 59-138205. No. 60-84305, JP-A 62-18537, JP-A 64-33104, Research Disclosure 33825, and the like. Specific examples include triethanol. Examples include amines, ethyl p-dimethylaminobenzoate, p-formyldimethylaniline, p-methylthiodimethylaniline.
- examples include thiols and sulfides such as those described in JP-A-53-702, JP-B-55-500806, JP-A-5-142773, and JP-A-56-75643.
- examples include disulfide compounds, and specific examples include 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercapto-4 (3H) -quinazoline, ⁇ -mercaptonaphthalene, and the like.
- Other examples include amino acid compounds (eg, N-phenylglycine), organometallic compounds described in Japanese Patent Publication No. 48-42965 (eg, tributyltin acetate), and Japanese Patent Publication No. 55-34414.
- Hydrogen donors sulfur compounds (eg, trithiane) described in JP-A-6-308727, phosphorus compounds (diethylphosphite, etc.) described in JP-A-6-250387, Japanese Patent Application No. 6-191605 Examples thereof include Si—H and Ge—H compounds described in the specification.
- the gas separation membrane of the present invention has a glass transition point of less than 50 ° C. in that it achieves a flexible membrane quality with a large diffusion coefficient of gas in order to impart reverse carbon / hydrogen separation selectivity. Is preferred.
- the contact angle of the gas separation membrane of the present invention with respect to water is preferably 60 ° or more, and more preferably 80 ° or more.
- Various polymer compounds can be added to the gas separation membrane of the present invention in order to adjust the membrane properties.
- High molecular compounds include acrylic polymer, polyurethane resin, polyamide resin, polyester resin, epoxy resin, phenol resin, polycarbonate resin, polyvinyl butyral resin, polyvinyl formal resin, shellac, vinyl resin, acrylic resin, rubber resin Waxes and other natural resins can be used. Two or more of these may be used in combination.
- nonionic surfactants, cationic surfactants, organic fluoro compounds, and the like can be added to adjust liquid properties.
- the surfactant include alkylbenzene sulfonate, alkylnaphthalene sulfonate, higher fatty acid salt, sulfonate of higher fatty acid ester, sulfate ester of higher alcohol ether, sulfonate of higher alcohol ether, higher alkyl
- Anionic surfactants such as alkyl carboxylates of sulfonamides, alkyl phosphates, polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl phenyl ethers, polyoxyethylene fatty acid esters, sorbitan fatty acid esters, ethylene oxide adducts of acetylene glycol,
- Nonionic surfactants such as ethylene oxide adducts of glycerin and polyoxyethylene sorbitan fatty acid esters, and other amphoteric boundaries such as alkyl betaines and amide betaines
- polymer dispersant examples include polyvinyl pyrrolidone, polyvinyl alcohol, polyvinyl methyl ether, polyethylene oxide, polyethylene glycol, polypropylene glycol, and polyacrylamide.
- polyvinyl pyrrolidone is also preferably used.
- oligomers or prepolymers may be used.
- the polymer for obtaining the polymer compound may be a block copolymer or a copolymer having any form such as a random copolymer or a graft copolymer, but in particular, a block copolymer or a graft copolymer.
- a polymer it is preferable from a viewpoint of a viscosity and compatibility.
- the partial structure ratio between the general formula (I) and the general formula (II) is not particularly limited, but the partial structure having a plurality of cross-linked structures such as the general formula (II) or the general formula (II-1)
- the membrane strength and separation selectivity generally improve but the gas permeability tends to decrease.
- the molecular weight of the polymer including the partial structure represented by the general formula (I) to the general formula (II-1) is not particularly limited because it is a crosslinked film.
- the monomer corresponding to each partial structure is preferably a number average molecular weight of 100 to 10,000, more preferably 100 to 5,000.
- the conditions for forming the gas separation membrane of the present invention are not particularly limited, but the temperature is preferably ⁇ 30 to 100 ° C., more preferably ⁇ 10 to 80 ° C., and particularly preferably 5 to 50 ° C.
- a gas such as air or oxygen may coexist at the time of forming the film, but it is preferably in an inert gas atmosphere.
- an organic solvent can be added as a medium.
- organic solvents that can be used include hydrocarbon organic solvents such as n-hexane and n-heptane, ester organic solvents such as methyl acetate, ethyl acetate, and butyl acetate, methanol, Lower alcohols such as ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, isobutanol, tert-butanol, aliphatic ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, diacetone alcohol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, glycerin , Propylene glycol, ethylene glycol monomethyl or monoethyl ether, propylene glycol methyl ether, dipropylene glycol methyl ether, tripropylene glycol methyl ether,
- the thickness of the gas separation membrane of the present invention is preferably 0.01 to 100 ⁇ m, more preferably 0.1 to 10 ⁇ m.
- the gas separation membrane of the present invention is preferably formed on at least the surface of a porous support. More preferably, the gas separation membrane of the present invention is applied or dipped on at least the surface of the porous support and irradiated with actinic radiation.
- the gas separation membrane of the present invention may be formed on the surface and the inner surface of a porous support, or may be formed on at least the surface to form a composite membrane.
- the porous support used in the present invention is not particularly limited as long as it has the purpose of meeting the provision of mechanical strength and high gas permeability, and may be either organic or inorganic material.
- it is a porous film of an organic polymer, and the thickness thereof is 1 to 3000 ⁇ m, preferably 5 to 500 ⁇ m, more preferably 5 to 150 ⁇ m.
- the pore structure of this porous membrane is usually that the average pore diameter is 10 ⁇ m or less, preferably 0.5 ⁇ m or less, more preferably 0.2 ⁇ m or less, and the porosity is preferably 20 to 90%. Preferably, it is 30 to 80%.
- the gas permeability is preferably 10 5 1 cm 3 (STP) / cm ⁇ sec ⁇ cmHg or more in terms of carbon dioxide transmission rate.
- porous membrane materials include conventionally known polymers such as polyolefin resins such as polyethylene and polypropylene, fluorine-containing resins such as polytetrafluoroethylene, polyvinyl fluoride, and polyvinylidene fluoride, polystyrene, cellulose acetate, and polyurethane. And various resins such as polyacrylonitrile, polysulfone, polyethersulfone, polyimide, polyaramid and the like.
- the shape of the porous membrane can be any shape such as a flat plate shape, a spiral shape, a tubular shape, and a hollow fiber shape.
- the gas mixture separation method of the present invention uses the gas separation membrane of the present invention or the composite membrane in a method of separating an acidic gas from a gas mixture containing at least one kind of acidic gas by a gas separation membrane.
- the acid gas is preferably carbon dioxide or hydrogen sulfide.
- the components of the raw gas mixture are not particularly defined, but the main components of the gas mixture are preferably carbon dioxide and methane or carbon dioxide and hydrogen. .
- the gas mixture exhibits particularly excellent performance in the presence of acidic gases such as carbon dioxide and hydrogen sulfide, and preferably in the separation of hydrocarbons such as carbon dioxide and methane, carbon dioxide and nitrogen, and carbon dioxide and hydrogen. Demonstrate.
- the gas separation membrane of the present invention is preferably a composite membrane combined with a porous support, and more preferably a gas separation membrane module using this. Moreover, it can be set as the gas separation apparatus which has a means for carrying out separation collection
- the gas separation membrane of the present invention can be suitably used in a modular form. Examples of modules include spiral type, hollow fiber type, pleated type, tubular type, plate & frame type and the like. Further, the polymer membrane of the present invention may be applied to a gas separation / recovery device as a membrane / absorption hybrid method used in combination with an absorbing solution as described in JP-A-2007-297605, for example.
- the gas separation membrane of the present invention having the above excellent characteristics can be suitably used as a gas separation recovery method and a gas separation purification method.
- reaction mixture was ice-cooled, and then 1 ml of water, 1 ml of a 15% aqueous sodium hydroxide solution and 3 ml of water were carefully added dropwise into the system using a Pasteur pipette.
- the reaction mixture was further stirred for 30 minutes, and then the reaction mixture was filtered through Celite to remove the aluminum residue.
- the obtained filtrate was concentrated under reduced pressure using a rotary evaporator to obtain Compound (B). This compound (B) was immediately used for the next reaction without further purification.
- Prepolymer (M-72) In a 100 ml three-necked flask, 3 g of 30% by weight methyl ethyl ketone solution of polymer (E) synthesized as described above was added to 0.026 g of Karenz AOI (registered trademark, manufactured by Showa Denko KK). (0.18 mmol), TEMPO (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., product number T1560) 0.29 g (0.0019 mmol), Neostan U-600 (manufactured by Nitto Kasei Co., Ltd.) 0.86 mg (0.0013 mmol) was added. Thereafter, the polymer (M-72) was synthesized by heating and stirring at 45 ° C. for 6 hours under a nitrogen stream.
- Karenz AOI registered trademark, manufactured by Showa Denko KK
- TEMPO manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., product number T1560
- Neostan U-600 manufactured by Nitto Kasei Co., Ltd
- M-1 2,2,2-trifluoroethyl acrylate
- M-21 polyethylene glycol diacrylate
- the monomer mixture is immersed in a porous hydrophilic polyvinylidene difluoride (PVDF) membrane (Millipore hydrophilic Durapore (registered trademark), pore size: 0.1 ⁇ m) on a 10 cm square glass plate. Further, the film was sandwiched from above and below by another 10 cm square glass plate and pressure-bonded to remove bubbles in the film. The monomer-immersed PVDF film sandwiched between the two glass plates was exposed for 27 seconds at 10 mW using a photocuring apparatus (TCT1000B-28HE) manufactured by Sen Special Light Source Co., Ltd.
- PVDF polyvinylidene difluoride
- the glass plate was taken out, immersed in methanol, and the glass and the PVDF composite film were peeled off, followed by vacuum drying for 6 hours with a vacuum pump.
- the film thickness of the PVDF composite film after drying was measured with an electric micrometer (manufactured by Anritsu, K-402B), and the result was 120 ⁇ m.
- the obtained PVDF composite membrane was subjected to gas permeation of hydrogen (H 2 ), carbon dioxide (CO 2 ), nitrogen (N 2 ), and methane (CH 4 ) using a gas permeability measuring device (GTR-10XF manufactured by GTR Tech). The rate was measured.
- the gas permeability coefficient (Permeability) obtained by multiplying the measured value of gas permeability by the film thickness was compared in order to compare the difference between materials.
- Mn the number average molecular weight
- Mw the molecular weight
- the carbon dioxide permeability of the gas separation membrane of the present invention is 10 times or more excellent in CO 2 gas permeability compared to cellulose acetate and polyimide that have been put into practical use. Further, it can be seen from the glass transition point that the separation membrane material of the present invention is a flexible rubbery membrane.
- Gas separation selectivity was calculated as the ideal separation selectivity by dividing the transmittance or the permeation coefficient of each gas of CO 2 and H 2 and CO 2 and CH 4 .
- the gas separation selectivity of the composite membranes of Examples 1 to 16 and Comparative Examples 1 to 6 is shown in Table 2 below.
- the separation membrane using the polymer compound of the present invention is different from typical glassy polymer membranes such as cellulose acetate and polyimide, and CO 2 / H 2 separation selectivity has reverse separation selectivity. I can see that Furthermore, the CO 2 / CH 4 separation selectivity is greatly superior to the practical membrane level 10-15 described in the literature (Industrial. Engineering. Chemistry. Research. 2002, 41, 1393.). As in the present invention, a gas separation membrane having both CO 2 / H 2 reverse separation selectivity and high CO 2 / CH 4 separation selectivity means a flexible membrane structure.
- the PVDF and PTFE composite membrane of the present invention is a membrane that undergoes little mass change when immersed in water and is difficult to swell.
- the gas separation membrane of the present invention can be used as a package filled with membranes called modules or elements.
- the gas separation membrane has low separation selectivity when the polymer chain becomes loose.
- the gas separation membrane is used as a module, it is packed at a high density in order to increase the membrane surface area, so when the membrane swells due to the influence of impurities such as water, the space inside the module is crushed There is a concern that problems such as film breakage or module breakage due to non-uniform pressure applied under high pressure conditions may occur. For this reason, it is preferable that the swelling rate in the presence of impurities is low.
- gas separation membrane of the present invention can greatly suppress a decrease in gas separation selectivity under heating and humidification conditions.
- the gas separation membrane of the present invention has excellent gas permeability and gas separation selectivity, particularly excellent carbon dioxide permeability, and is excellent as a carbon dioxide / methane or carbon dioxide / hydrogen separation membrane. In particular, a decrease in separation selectivity under heating and humidification conditions is suppressed.
- the gas separation membrane and the composite membrane of the present invention can provide an excellent gas separation method, gas separation membrane module, and gas separation and gas purification apparatus including the gas separation membrane module.
- the gas separation membrane and composite membrane of the present invention have excellent gas permeability and separation selectivity. In particular, it has excellent carbon dioxide permeability and has excellent performance in carbon dioxide / methane and carbon dioxide / hydrogen separation selectivity. In particular, it has excellent stability and separation selectivity under humid conditions. Moreover, the manufacturing method of the gas separation membrane and composite membrane of this invention can form this gas separation membrane and this composite membrane efficiently. Furthermore, by using the gas separation membrane or composite membrane of the present invention, it can be applied to a high-performance gas separation membrane module, gas separation, and gas purification apparatus.
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Abstract
ガス透過性及び分離選択性に優れたガス分離膜及び複合膜、ガス分離膜及び複合膜の製造方法、ガス混合物の分離方法、及びそれを用いたモジュール、分離装置の提供を目的とする。 少なくとも1種の下記一般式(I)で表される部分構造と、少なくとも1種の下記の一般式(II)で表される部分構造とを含むポリマーを含有することを特徴とするガス分離膜。(一般式(I)及び(II)中、R1、R2は及びRaは各々独立に水素原子又は置換基を表す。J1及びJ2は-CO-、-COO-、-CONR20-、-OCO-、メチレン基、フェニレン基、又は-C6H5CO-基を表す。R20は水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表す。L1はn価の連結基を表す。W1及びW2は単結合又は2価の連結基を表す。複数存在するJ1、W1、R1、J2、W2、R2及びRaは同一でも異なっていてもよい。nは2以上の整数を表す。) ただし、一般式(I)のRa及び一般式(II)のL1の少なくともいずれか一方は、フッ素原子を有する。
Description
本発明は、水素、ヘリウム、一酸化炭素、二酸化炭素、硫化水素、酸素、窒素、アンモニア、硫黄酸化物、窒素酸化物、メタン、エタンなどの炭化水素、プロピレンなどの不飽和炭化水素、テトラフルオロエタンなどのパーフルオロ化合物などのガスを含有する気体混合物から特定の気体を効率よく分離し得る新規なガス分離膜に関し、特に二酸化炭素を含む気体混合物から二酸化炭素を選択分離するガス分離膜及びこの製造方法、これを用いたモジュール、分離装置に関する。
従来より、高分子素材には、その素材に特有の気体透過性があるため、高分子素材から構成された膜によって、気体成分を分離できることが知られており、近年の地球環境温暖化における問題と関連して、火力発電所やセメントプラント、製鉄所高炉等の大規模な二酸化炭素発生源から二酸化炭素を省エネルギーで分離回収することの出来る可能性のある手段として着目されている。一方、天然ガスやバイオガス(生物の排泄物、有機質肥料、生分解性物質、汚水、ゴミ、エネルギー作物などの発酵、嫌気性消化により発生するガス)は主としてメタンと二酸化炭素の混合ガスであり、不純物を除去する手段として膜分離方法が従来より検討されてきた(特許文献1、特許文献2)。
ところで、高分子膜における気体の透過性(透過係数)は気体の高分子膜への溶解度係数(溶解性)と拡散係数(拡散性)との積で表される(非特許文献1)。それゆえに、二酸化炭素の透過性(透過係数)を分離対象ガスに対して選択的に向上させるためには、二酸化炭素の高分子膜に対する溶解度係数(溶解性)及び/又は拡散係数(拡散性)を選択的に向上させればよいことになる。二酸化炭素は分子内で分極した四重極子構造であり、極性を有する化学構造と親和性を有し、例えば、ポリエチレングリコールは二酸化炭素との溶解性が高いことが報告されている(非特許文献2)。
このような観点を活かし、ポリエチレンオキシ(PEO)組成を含む分離膜が検討されている(非特許文献3、特許文献3~6)。また、ポリエチレンオキシ組成を含む架橋高分子膜における特徴として水素(H2:2.9Å)よりも分子の動的直径の大きな二酸化炭素(CO2:3.3Å)がより透過しやすい、逆の分離選択性を有することも報告されている(非特許文献4)。これは二酸化炭素がポリエチレンオキシ組成との相互作用が強いことに起因する。水素は一般的に天然ガスの水蒸気改質、水性ガスシフトを経て製造されており、組成の約40%が二酸化炭素、約60%が水素の気体混合物である。濃度の低い不純物である二酸化炭素を選択透過、除去させることができれば分離精製方法として経済的により優れているといえる。
一方、二酸化炭素との溶解性に優れる化合物のそのほかの例として、フッ素を有する化合物が二酸化炭素への溶解性に優れることについて報告されている(非特許文献5、6、7)。気体分離膜として、フッ素化合物を用いた例としては、プラズマ重合体薄膜を形成したものなどが知られているが、これらの分離膜は二酸化炭素/窒素の分離選択性は3.9~8.0と低いために、実用的な二酸化炭素の分離膜としては性能不十分であった(特許文献7~9)。またフッ素含有ポリイミドを用いた分離膜に関する方法も検討されている(特許文献10)。しかしながら、分離膜の気体透過性や分離選択性にはさらなる改善が求められている(非特許文献8、9)。
ところで、高分子膜における気体の透過性(透過係数)は気体の高分子膜への溶解度係数(溶解性)と拡散係数(拡散性)との積で表される(非特許文献1)。それゆえに、二酸化炭素の透過性(透過係数)を分離対象ガスに対して選択的に向上させるためには、二酸化炭素の高分子膜に対する溶解度係数(溶解性)及び/又は拡散係数(拡散性)を選択的に向上させればよいことになる。二酸化炭素は分子内で分極した四重極子構造であり、極性を有する化学構造と親和性を有し、例えば、ポリエチレングリコールは二酸化炭素との溶解性が高いことが報告されている(非特許文献2)。
このような観点を活かし、ポリエチレンオキシ(PEO)組成を含む分離膜が検討されている(非特許文献3、特許文献3~6)。また、ポリエチレンオキシ組成を含む架橋高分子膜における特徴として水素(H2:2.9Å)よりも分子の動的直径の大きな二酸化炭素(CO2:3.3Å)がより透過しやすい、逆の分離選択性を有することも報告されている(非特許文献4)。これは二酸化炭素がポリエチレンオキシ組成との相互作用が強いことに起因する。水素は一般的に天然ガスの水蒸気改質、水性ガスシフトを経て製造されており、組成の約40%が二酸化炭素、約60%が水素の気体混合物である。濃度の低い不純物である二酸化炭素を選択透過、除去させることができれば分離精製方法として経済的により優れているといえる。
一方、二酸化炭素との溶解性に優れる化合物のそのほかの例として、フッ素を有する化合物が二酸化炭素への溶解性に優れることについて報告されている(非特許文献5、6、7)。気体分離膜として、フッ素化合物を用いた例としては、プラズマ重合体薄膜を形成したものなどが知られているが、これらの分離膜は二酸化炭素/窒素の分離選択性は3.9~8.0と低いために、実用的な二酸化炭素の分離膜としては性能不十分であった(特許文献7~9)。またフッ素含有ポリイミドを用いた分離膜に関する方法も検討されている(特許文献10)。しかしながら、分離膜の気体透過性や分離選択性にはさらなる改善が求められている(非特許文献8、9)。
永井一清監修 シーエムシー出版、「気体分離膜・透過膜・バリア膜の最新技術」、52-59頁
Journal of Physical Chemistry1990, 94, 2124-2128.
Journal of Membrane Science 1999, 160, 87-99.
Science,2006,311,639-642.
Organic Process Research & Development 2000, 4, 353-356.
Chemistry. Letters.,2000,522-523.
佐古猛監修、シーエムシー出版、2008年9月末発行「超臨界流体技術の開発と応用」v
Industrial.Engineering.Chemistry. Research.2008,47,2109.
Industrial.Engineering.Chemistry. Research.2002,41,1393.
水素製造においては改質のために水蒸気を使用しているため、水素/二酸化炭素の分離においては加温、加湿条件での安定的な分離選択性付与が望ましい。
しかしながら、本発明者らがこれらのポリエチレンオキシ組成を含むガス分離膜において検討した結果、加湿条件では膜の膨潤に伴いガス分離選択性が低下する問題が発生することがわかり、さらなる改善が必要であることがわかった。
本発明は、ガス透過性及び分離選択性に優れたガス分離膜及び複合膜、ガス分離膜及び複合膜の製造方法、ガス混合物の分離方法、及びそれを用いたモジュール、分離装置の提供を目的とする。
しかしながら、本発明者らがこれらのポリエチレンオキシ組成を含むガス分離膜において検討した結果、加湿条件では膜の膨潤に伴いガス分離選択性が低下する問題が発生することがわかり、さらなる改善が必要であることがわかった。
本発明は、ガス透過性及び分離選択性に優れたガス分離膜及び複合膜、ガス分離膜及び複合膜の製造方法、ガス混合物の分離方法、及びそれを用いたモジュール、分離装置の提供を目的とする。
上記の課題は以下の手段により達成された。すなわち
〔1〕
少なくとも1種の下記一般式(I)で表される部分構造と、少なくとも1種の下記の一般式(II)で表される部分構造とを含むポリマーを含有することを特徴とするガス分離膜。
〔1〕
少なくとも1種の下記一般式(I)で表される部分構造と、少なくとも1種の下記の一般式(II)で表される部分構造とを含むポリマーを含有することを特徴とするガス分離膜。
(一般式(I)中、R1及びRaは各々独立に水素原子又は置換基を表す。J1は-CO-、-COO-、-CONR20-、-OCO-、メチレン基、フェニレン基、又は-C6H5CO-基を表す。R20は水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表す。W1は単結合又は2価の連結基を表す。複数存在するJ1、W1、R1及びRaは同一でも異なっていてもよい。)
(一般式(II)中、R2は各々独立に水素原子又は置換基を表す。L1はn価の連結基を表す。nは2以上の整数を表す。J2は-CO-、-COO-、-CONR6-、-OCO-、メチレン基、フェニレン基、又は-C6H5CO-基を表す。R6は水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表す。W2は単結合又は2価の連結基を表す。複数存在するJ2、W2、R2は同一でも異なっていてもよい。)
ただし、一般式(I)のRa及び一般式(II)のL1の少なくともいずれか一方は、フッ素原子を有する。
〔2〕
前記一般式(I)で表される部分構造が下記一般式(I-1)で表される部分構造であることを特徴とする〔1〕に記載のガス分離膜。
ただし、一般式(I)のRa及び一般式(II)のL1の少なくともいずれか一方は、フッ素原子を有する。
〔2〕
前記一般式(I)で表される部分構造が下記一般式(I-1)で表される部分構造であることを特徴とする〔1〕に記載のガス分離膜。
(一般式(I-1)中、R7は水素原子又は置換基を表し、L2は-CF2-又は-CF2CF2O-を表す。lは1以上の整数を表す。R1及びW1は、前記一般式(I)におけるR1及びW1と同義である。複数存在するR1、W1、L2、l及びR7は同一でも異なっていてもよい。)
〔3〕
前記一般式(II)で表される部分構造が下記一般式(II-1)で表される部分構造であることを特徴とする〔1〕又は〔2〕に記載のガス分離膜。
〔3〕
前記一般式(II)で表される部分構造が下記一般式(II-1)で表される部分構造であることを特徴とする〔1〕又は〔2〕に記載のガス分離膜。
(一般式(II-1)中、L3は-CF2-又は-CF2CF2O-を表す。W2及びR2は前記一般式(II)におけるW2及びR2と同義である。W3はW2と同義である。R3はR2と同義である。m、x及びzは1以上の整数を表す。複数存在するL3、及びmは同一でも異なっていてもよい。)
〔4〕
少なくとも1種の下記一般式(Ia)で表される化合物と、少なくとも1種の下記の一般式(IIa)で表される化合物とを含有する組成物により形成されたことを特徴とするガス分離膜。
〔4〕
少なくとも1種の下記一般式(Ia)で表される化合物と、少なくとも1種の下記の一般式(IIa)で表される化合物とを含有する組成物により形成されたことを特徴とするガス分離膜。
(一般式(Ia)中、R1は水素原子又は置換基を表す。J1は-CO-、-COO-、-CONR3-、-OCO-、メチレン基、フェニレン基、又は-C6H4CO-基を表す。R3は水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表す。W1は単結合又は2価の連結基を表す。Aは、フッ素原子又は少なくとも一つのフッ素原子を有する置換基を表す。)
(一般式(IIa)中、R2は各々独立に水素原子又は置換基を表す。J2は-CO-、-COO-、-CONR4-、-OCO-、メチレン基、フェニレン基、又は-C6H4CO-基を表す。R4は水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表す。W2は単結合又は2価の連結基を表す。L1はy価の連結基を表す。yは2以上の整数を表す。複数存在するJ2、W2、R2は同一でも異なっていてもよい。)
〔5〕
少なくとも1種の下記一般式(Ib)で表される化合物と、少なくも1種の下記の一般式(IIb)で表される化合物とを含有する組成物により形成されたことを特徴とするガス分離膜。
〔5〕
少なくとも1種の下記一般式(Ib)で表される化合物と、少なくも1種の下記の一般式(IIb)で表される化合物とを含有する組成物により形成されたことを特徴とするガス分離膜。
(一般式(Ib)中、R5は水素原子又は置換基を表す。R1は水素原子又は置換基を表す。J1は-CO-、-COO-、-CONR20-、-OCO-、メチレン基、フェニレン基、又は-C6H5CO-基を表す。R20は水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表す。W1は単結合又は2価の連結基を表す。)
(一般式(IIb)中、R2は各々独立に水素原子又は置換基を表す。L2は少なくとも一つのフッ素原子を有するn価の連結基を表す。nは2以上の整数を表す。J2は-CO-、-COO-、-CONR6-、-OCO-、メチレン基、フェニレン基、又は-C6H5CO-基を表す。R6は水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表す。W2は単結合又は2価の連結基を表す。複数存在するJ2、W2、R2は同一でも異なっていてもよい。)
〔6〕
少なくとも1種の〔4〕に記載の一般式(Ia)で表される化合物と、少なくも1種の〔5〕に記載の一般式(IIb)で表される化合物とを含有する組成物により形成されたことを特徴とするガス分離膜。
〔7〕
前記一般式(Ia)で表される化合物が下記一般式(Ia-1)で表される化合物であることを特徴とする前記〔4〕又は〔6〕に記載のガス分離膜。
〔6〕
少なくとも1種の〔4〕に記載の一般式(Ia)で表される化合物と、少なくも1種の〔5〕に記載の一般式(IIb)で表される化合物とを含有する組成物により形成されたことを特徴とするガス分離膜。
〔7〕
前記一般式(Ia)で表される化合物が下記一般式(Ia-1)で表される化合物であることを特徴とする前記〔4〕又は〔6〕に記載のガス分離膜。
(一般式(Ia-1)中、R7は水素原子又は置換基を表し、L2はCF2又はCF2CF2Oを表す。lは1以上の整数を表す。R1及びW1は、前記一般式(Ia)におけるR1及びW1と同義である。複数存在するL2は同一でも異なっていてもよい。)
〔8〕
前記一般式(IIb)で表される化合物が下記一般式(IIb-1)で表される化合物であることを特徴とする前記〔5〕又は〔6〕に記載のガス分離膜。
〔8〕
前記一般式(IIb)で表される化合物が下記一般式(IIb-1)で表される化合物であることを特徴とする前記〔5〕又は〔6〕に記載のガス分離膜。
(一般式(IIb-1)中、W3及びW4はそれぞれ独立に、単結合又は二価の連結基を表し、mは1以上の整数を表す。R2は、それぞれ独立に前記一般式(IIb)におけるR2と同義であり、L3は-CF2-又は-CF2CF2O-を表す。複数存在するL3は同一でも異なっていてもよい。)
〔9〕
ガラス転移点が50℃未満であることを特徴とする〔1〕~〔8〕のいずれか一項に記載のガス分離膜。
〔10〕
多孔質性の支持体の少なくとも表面に、〔1〕~〔8〕のいずれか一項に記載のガス分離膜を形成することを特徴とする複合膜。
〔11〕
少なくとも1種の下記一般式(I)で表される部分構造と、少なくとも1種の下記の一般式(II)で表される部分構造とを含むポリマーを含有するガス分離膜を、活性放射線を照射することにより形成することを特徴とする〔1〕~〔9〕のいずれか一項に記載のガス分離膜の製造方法。
〔9〕
ガラス転移点が50℃未満であることを特徴とする〔1〕~〔8〕のいずれか一項に記載のガス分離膜。
〔10〕
多孔質性の支持体の少なくとも表面に、〔1〕~〔8〕のいずれか一項に記載のガス分離膜を形成することを特徴とする複合膜。
〔11〕
少なくとも1種の下記一般式(I)で表される部分構造と、少なくとも1種の下記の一般式(II)で表される部分構造とを含むポリマーを含有するガス分離膜を、活性放射線を照射することにより形成することを特徴とする〔1〕~〔9〕のいずれか一項に記載のガス分離膜の製造方法。
(一般式(I)中、R1及びRaは各々独立に水素原子又は置換基を表す。J1は-CO-、-COO-、-CONR20-、-OCO-、メチレン基、フェニレン基、又は-C6H5CO-基を表す。R20は水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表す。W1は単結合又は2価の連結基を表す。複数存在するJ1、W1、R1及びRaは同一でも異なっていてもよい。)
(一般式(II)中、R2は複数存在する場合は各々独立に水素原子又は置換基を表す。L1はn価の連結基を表す。nは2以上の整数を表す。J2は-CO-、-COO-、-CONR6-、-OCO-、メチレン基、フェニレン基、又は-C6H5CO-基を表す。R6は水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表す。W2は単結合又は2価の連結基を表す。複数存在するJ2、W2、R2は同一でも異なっていてもよい。)
ただし、一般式(I)のRa及び一般式(II)のL1の少なくともいずれか一方は、フッ素原子を有する。
〔12〕
多孔質性の支持体の少なくとも表面に、〔1〕~〔9〕のいずれか一項に記載のガス分離膜を、活性放射線を照射することにより形成することを特徴とする〔10〕に記載の複合膜の製造方法。
〔13〕
少なくとも一種の酸性ガスを含むガス混合物から酸性ガスを気体分離膜によって分離する方法において、〔1〕~〔9〕のいずれか一項に記載のガス分離膜又は〔10〕に記載の複合膜を用いることを特徴とするガス混合物の分離方法。
〔14〕
酸性ガスが二酸化炭素又は硫化水素であることを特徴とする〔13〕に記載のガス混合物の分離方法。
〔15〕
前記ガス混合物の主成分が二酸化炭素及びメタン又は二酸化炭素及び水素であることを特徴とする〔13〕に記載のガス混合物の分離方法。
〔16〕
〔1〕~〔9〕のいずれか一項に記載のガス分離膜又は〔10〕に記載の複合膜を含むガス分離膜モジュール。
〔17〕
〔16〕に記載のガス分離膜モジュールを少なくとも1種を含む気体分離装置。
ただし、一般式(I)のRa及び一般式(II)のL1の少なくともいずれか一方は、フッ素原子を有する。
〔12〕
多孔質性の支持体の少なくとも表面に、〔1〕~〔9〕のいずれか一項に記載のガス分離膜を、活性放射線を照射することにより形成することを特徴とする〔10〕に記載の複合膜の製造方法。
〔13〕
少なくとも一種の酸性ガスを含むガス混合物から酸性ガスを気体分離膜によって分離する方法において、〔1〕~〔9〕のいずれか一項に記載のガス分離膜又は〔10〕に記載の複合膜を用いることを特徴とするガス混合物の分離方法。
〔14〕
酸性ガスが二酸化炭素又は硫化水素であることを特徴とする〔13〕に記載のガス混合物の分離方法。
〔15〕
前記ガス混合物の主成分が二酸化炭素及びメタン又は二酸化炭素及び水素であることを特徴とする〔13〕に記載のガス混合物の分離方法。
〔16〕
〔1〕~〔9〕のいずれか一項に記載のガス分離膜又は〔10〕に記載の複合膜を含むガス分離膜モジュール。
〔17〕
〔16〕に記載のガス分離膜モジュールを少なくとも1種を含む気体分離装置。
本発明のガス分離膜及び複合膜は優れたガス透過性と分離選択性を有する。特に二酸化炭素の透過性に優れ、二酸化炭素/メタン、二酸化炭素/水素の分離選択性が優れる性能を有する。特に加湿条件での安定性及び分離選択性に優れる。また、本発明のガス分離膜及び複合膜の製造方法は、該ガス分離膜及び該複合膜を効率よく形成し得る。更に、本発明のガス分離膜又は複合膜を用いることにより高性能のガス分離膜モジュール、ガス分離、ガス精製装置に適用することができる。
以下に本発明について詳しく説明するが、本発明はこれにより限定して解釈されるものではない。
本発明のガス分離膜は、少なくとも1種の下記一般式(I)で表される部分構造と、少なくとも1種の下記の一般式(II)で表される部分構造とを含むポリマーを含有する。
(一般式(I)中、R1及びRaは各々独立に水素原子又は置換基を表す。J1は-CO-、-COO-、-CONR20-、-OCO-、メチレン基、フェニレン基、又は-C6H5CO-基を表す。R20は水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表す。W1は単結合又は2価の連結基を表す。複数存在するJ1、W1、R1及びRaは同一でも異なっていてもよい。)
(一般式(II)中、R2複数存在する場合は各々独立に水素原子又は置換基を表す。L1はn価の連結基を表す。nは2以上の整数を表す。J2は-CO-、-COO-、-CONR6-、-OCO-、メチレン基、フェニレン基、又は-C6H5CO-基を表す。R6は水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表す。W2は単結合又は2価の連結基を表す。複数存在するJ2、W2、R2は同一でも異なっていてもよい。)
ただし、一般式(I)のRa及び一般式(II)のL1の少なくともいずれか一方は、フッ素原子を有する。
ただし、一般式(I)のRa及び一般式(II)のL1の少なくともいずれか一方は、フッ素原子を有する。
本発明における一般式の関係について説明する。一般式(I)は好ましくは一般式(I-1)であり、一般式(II)は好ましくは一般式(VI)である。
〔一般式(I)で表される部分構造〕
一般式(I)で表される部分構造について詳しく説明する。一般式(I)においてR1は水素原子又は置換基を表す。
一般式(I)で表される部分構造について詳しく説明する。一般式(I)においてR1は水素原子又は置換基を表す。
R1が表す置換基としては、下記に示される置換基群Zより選ばれるいずれか1つを用いることができる。
置換基群Z:
アルキル基(好ましくは炭素数1~30、より好ましくは炭素数1~20、特に好ましくは炭素数1~10のアルキル基であり、例えばメチル、エチル、Iso-プロピル、tert-ブチル、n-オクチル、n-デシル、n-ヘキサデシル)、シクロアルキル基(好ましくは炭素数3~30、より好ましくは炭素数1~20、特に好ましくは炭素数3~10のシクロアルキル基であり、例えばシクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。)、アルケニル基(好ましくは炭素数2~30、より好ましくは炭素数2~20、特に好ましくは炭素数2~10のアルケニル基であり、例えばビニル、アリル、2-ブテニル、3-ペンテニルなどが挙げられる。)、アルキニル基(好ましくは炭素数2~30、より好ましくは炭素数2~20、特に好ましくは炭素数2~10のアルキニル基であり、例えばプロパルギル、3-ペンチニルなどが挙げられる。)、アリール基(好ましくは炭素数6~30、より好ましくは炭素数6~20、特に好ましくは炭素数6~12のアリール基であり、例えばフェニル、p-メチルフェニル、ナフチル、アントラニルなどが挙げられる。)、アミノ基(好ましくは炭素数0~30、より好ましくは炭素数0~20、特に好ましくは炭素数0~10のアミノ基であり、例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノ、ジフェニルアミノ、ジトリルアミノなどが挙げられる。)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1~30、より好ましくは炭素数1~20、特に好ましくは炭素数1~10のアルコキシ基であり、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシ、2-エチルヘキシロキシなどが挙げられる。)、アリールオキシ基(好ましくは炭素数6~30、より好ましくは炭素数6~20、特に好ましくは炭素数6~12のアリールオキシ基であり、例えばフェニルオキシ、1-ナフチルオキシ、2-ナフチルオキシなどが挙げられる。)、ヘテロ環オキシ基(好ましくは炭素数1~30、より好ましくは炭素数1~20、特に好ましくは炭素数1~12のヘテロ環オキシ基であり、例えばピリジルオキシ、ピラジルオキシ、ピリミジルオキシ、キノリルオキシなどが挙げられる。)、
置換基群Z:
アルキル基(好ましくは炭素数1~30、より好ましくは炭素数1~20、特に好ましくは炭素数1~10のアルキル基であり、例えばメチル、エチル、Iso-プロピル、tert-ブチル、n-オクチル、n-デシル、n-ヘキサデシル)、シクロアルキル基(好ましくは炭素数3~30、より好ましくは炭素数1~20、特に好ましくは炭素数3~10のシクロアルキル基であり、例えばシクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。)、アルケニル基(好ましくは炭素数2~30、より好ましくは炭素数2~20、特に好ましくは炭素数2~10のアルケニル基であり、例えばビニル、アリル、2-ブテニル、3-ペンテニルなどが挙げられる。)、アルキニル基(好ましくは炭素数2~30、より好ましくは炭素数2~20、特に好ましくは炭素数2~10のアルキニル基であり、例えばプロパルギル、3-ペンチニルなどが挙げられる。)、アリール基(好ましくは炭素数6~30、より好ましくは炭素数6~20、特に好ましくは炭素数6~12のアリール基であり、例えばフェニル、p-メチルフェニル、ナフチル、アントラニルなどが挙げられる。)、アミノ基(好ましくは炭素数0~30、より好ましくは炭素数0~20、特に好ましくは炭素数0~10のアミノ基であり、例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノ、ジフェニルアミノ、ジトリルアミノなどが挙げられる。)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1~30、より好ましくは炭素数1~20、特に好ましくは炭素数1~10のアルコキシ基であり、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシ、2-エチルヘキシロキシなどが挙げられる。)、アリールオキシ基(好ましくは炭素数6~30、より好ましくは炭素数6~20、特に好ましくは炭素数6~12のアリールオキシ基であり、例えばフェニルオキシ、1-ナフチルオキシ、2-ナフチルオキシなどが挙げられる。)、ヘテロ環オキシ基(好ましくは炭素数1~30、より好ましくは炭素数1~20、特に好ましくは炭素数1~12のヘテロ環オキシ基であり、例えばピリジルオキシ、ピラジルオキシ、ピリミジルオキシ、キノリルオキシなどが挙げられる。)、
アシル基(好ましくは炭素数1~30、より好ましくは炭素数1~20、特に好ましくは炭素数1~12のアシル基であり、例えばアセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルなどが挙げられる。)、アルコキシカルボニル基(好ましくは炭素数2~30、より好ましくは炭素数2~20、特に好ましくは炭素数2~12のアルコキシカルボニル基であり、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げられる。)、アリールオキシカルボニル基(好ましくは炭素数7~30、より好ましくは炭素数7~20、特に好ましくは炭素数7~12のアリールオキシカルボニル基であり、例えばフェニルオキシカルボニルなどが挙げられる。)、アシルオキシ基(好ましくは炭素数2~30、より好ましくは炭素数2~20、特に好ましくは炭素数2~10のアシルオキシ基であり、例えばアセトキシ、ベンゾイルオキシなどが挙げられる。)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2~30、より好ましくは炭素数2~20、特に好ましくは炭素数2~10のアシルアミノ基であり、例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノなどが挙げられる。)、
アルコキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数2~30、より好ましくは炭素数2~20、特に好ましくは炭素数2~12のアルコキシカルボニルアミノ基であり、例えばメトキシカルボニルアミノなどが挙げられる。)、アリールオキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数7~30、より好ましくは炭素数7~20、特に好ましくは炭素数7~12のアリールオキシカルボニルアミノ基であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノなどが挙げられる。)、スルホニルアミノ基(好ましくは炭素数1~30、より好ましくは炭素数1~20、特に好ましくは炭素数1~12であり、例えばメタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなどが挙げられる。)、スルファモイル基(好ましくは炭素数0~30、より好ましくは炭素数0~20、特に好ましくは炭素数0~12のスルファモイル基であり、例えばスルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイルなどが挙げられる。)、
カルバモイル基(好ましくは炭素数1~30、より好ましくは炭素数1~20、特に好ましくは炭素数1~12のカルバモイル基であり、例えばカルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイルなどが挙げられる。)、アルキルチオ基(好ましくは炭素数1~30、より好ましくは炭素数1~20、特に好ましくは炭素数1~12のアルキルチオ基であり、例えばメチルチオ、エチルチオなどが挙げられる。)、アリールチオ基(好ましくは炭素数6~30、より好ましくは炭素数6~20、特に好ましくは炭素数6~12のアリールチオ基であり、例えばフェニルチオなどが挙げられる。)、ヘテロ環チオ基(好ましくは炭素数1~30、より好ましくは炭素数1~20、特に好ましくは炭素数1~12のヘテロ環チオ基であり、例えばピリジルチオ、2-ベンズイミゾリルチオ、2-ベンズオキサゾリルチオ、2-ベンズチアゾリルチオなどが挙げられる。)、
スルホニル基(好ましくは炭素数1~30、より好ましくは炭素数1~20、特に好ましくは炭素数1~12のスルホニル基であり、例えばメシル、トシルなどが挙げられる。)、スルフィニル基(好ましくは炭素数1~30、より好ましくは炭素数1~20、特に好ましくは炭素数1~12のスルフィニル基であり、例えばメタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニルなどが挙げられる。)、ウレイド基(好ましくは炭素数1~30、より好ましくは炭素数1~20、特に好ましくは炭素数1~12のウレイド基であり、例えばウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイドなどが挙げられる。)、リン酸アミド基(好ましくは炭素数1~30、より好ましくは炭素数1~20、特に好ましくは炭素数1~12のリン酸アミド基であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられる。)、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子(例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子であり、より好ましくはフッ素原子が挙げられる)、
シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、オキソ基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基(好ましくは炭素数1~30、より好ましくは炭素数1~12のヘテロ環基であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル、ピリジル、キノリル、フリル、チエニル、ピペリジル、モルホリノ、ベンズオキサゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリル、カルバゾリル基、アゼピニル基などが挙げられる。)、シリル基(好ましくは炭素数3~40、より好ましくは炭素数3~30、特に好ましくは炭素数3~24のシリル基であり、例えばトリメチルシリル、トリフェニルシリルなどが挙げられる。)、シリルオキシ基(好ましくは炭素数3~40、より好ましくは炭素数3~30、特に好ましくは炭素数3~24のシリルオキシ基であり、例えばトリメチルシリルオキシ、トリフェニルシリルオキシなどが挙げられる。)などが挙げられる。これらの置換基は、更に上記置換基群Zより選択されるいずれか1つ以上の置換基により置換されてもよい。
R1は水素原子又はアルキル基であることが好ましく、水素原子、メチル基又はエチル基であることがより好ましく、水素原子であることが更に好ましい。
J1は-CO-、-COO-、-CONR20-、-OCO-、メチレン基、フェニレン基、又は-C6H4CO-基を表す。R20は水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表し、水素原子、アルキル基、アリール基が好ましく、その好ましい範囲は置換基Zで説明したアルキル基、アリール基の好ましい範囲と同義である。これらのうち、J1としては-CO-、-COO-又は-OCO-が好ましく、-COO-が特に好ましい。
W1は単結合又は2価の連結基を表す。2価の連結基としては、例えば、直鎖、分岐若しくは環状のアルキレン基(好ましくは炭素数1~30、より好ましくは炭素数1~12、更に好ましくは炭素数1~4のアルキレン基であり、例えばメチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン、へキシレン、オクチレン、デシレンなどが挙げられる。)、アルキレンオキシ基(好ましくは炭素数1~30、より好ましくは炭素数1~12、更に好ましくは炭素数1~4のアルキレンオキシ基であり、例えばメチレンオキシ、エチレンオキシ、プロピレンオキシ、ブチレンオキシ、ペンチレンオキシ、へキシレンオキシ、オクチレンオキシ、デシレンオキシなどが挙げられる。)、アラルキレン基(好ましくは炭素数7~30、より好ましくは炭素数7~13のアラルキレン基であり、例えばベンジリデン、シンナミリデンなどが挙げられる。)、アリーレン基(好ましくは炭素数6~30、より好ましくは炭素数6~15のアリーレン基であり、例えば、フェニレン、クメニレン、メシチレン、トリレン、キシリレンなどが挙げられる。)などが挙げられる。これらは更に置換基を有していてもよい。更なる置換基としてはヒドロキシ基又はハロゲン原子が好ましく、ヒドロキシ基又はフッ素原子がより好ましく、フッ素原子が特に好ましい。また、分子内にエーテル結合を含むことが好ましい。
W1は、単結合、アルキレン基又はアルキレンオキシ基が好ましく、単結合、炭素数1~4のアルキレン基又は炭素数1~4のアルキレンオキシ基であることが好ましい。
前記一般式(I)中、Raは水素原子又は置換基を表し、その例としては前記置換基群Zのなかで説明した基より選択される。
Raは、少なくとも一つのフッ素原子を有する置換基であることが好ましい。前記「少なくとも一つのフッ素原子を有する置換基」は、少なくとも一つのフッ素原子を有するアルキル基、又は少なくとも一つのフッ素原子を有するアリール基であることが好ましく、少なくとも一つのフッ素原子を有するアルキル基であることが更に好ましい。
Raが、少なくとも一つのフッ素原子を有する置換基の場合、炭素ーフッ素の結合力が強く分極率が小さいため表面エネルギーが低下し、分子間相互作用が小さいことによる撥水、撥油性能が期待され、本組成を含んだ膜の加湿時における膨潤を抑制することができる。
また、前記「少なくとも一つのフッ素原子を有する置換基」は、炭素数が1~50であることが好ましく、1~10であることがより好ましい。炭素数がこの範囲であれば相溶性、本発明のガス分離膜の柔軟性でも好ましい。フッ素原子の数は1~30であることが好ましく、1~10であることがより好ましい。フッ素原子の数がこの範囲であれば相溶性、本発明のガス分離膜の柔軟性を付与する観点であり好ましい。
Raは、少なくとも一つのフッ素原子を有する置換基であることが好ましい。前記「少なくとも一つのフッ素原子を有する置換基」は、少なくとも一つのフッ素原子を有するアルキル基、又は少なくとも一つのフッ素原子を有するアリール基であることが好ましく、少なくとも一つのフッ素原子を有するアルキル基であることが更に好ましい。
Raが、少なくとも一つのフッ素原子を有する置換基の場合、炭素ーフッ素の結合力が強く分極率が小さいため表面エネルギーが低下し、分子間相互作用が小さいことによる撥水、撥油性能が期待され、本組成を含んだ膜の加湿時における膨潤を抑制することができる。
また、前記「少なくとも一つのフッ素原子を有する置換基」は、炭素数が1~50であることが好ましく、1~10であることがより好ましい。炭素数がこの範囲であれば相溶性、本発明のガス分離膜の柔軟性でも好ましい。フッ素原子の数は1~30であることが好ましく、1~10であることがより好ましい。フッ素原子の数がこの範囲であれば相溶性、本発明のガス分離膜の柔軟性を付与する観点であり好ましい。
〔一般式(II)で表される部分構造〕
一般式(II)で表される部分構造について詳しく説明する。式中、R2水素原子又は置換基を表す。置換基の例としては、前記置換基群Zのなかで説明した置換基と同じ意味を表し、R2は好ましくは水素原子又はアルキル基であり、更に好ましくは水素原子である。
J2は-CO-、-COO-、-CONR6-、-OCO-、メチレン基、フェニレン基、又は-C6H5CO-基を表す。R6は水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表す。R6は水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表し、水素原子、アルキル基、アリール基が好ましく、その好ましい範囲は置換基Zで説明したアルキル基、アリール基の好ましい範囲と同義である。
W2は単結合又は2価の連結基を表す。2価の連結基としては、例えば、直鎖、分岐若しくは環状のアルキレン基(好ましくは炭素数1~30、より好ましくは炭素数1~12、更に好ましくは炭素数1~4のアルキレン基であり、例えばメチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン、へキシレン、オクチレン、デシレンなどが挙げられる。)、アルキレンオキシ基(好ましくは炭素数1~100、より好ましくは炭素数1~50、更に好ましくは炭素数1~20のアルキレンオキシ基であり、例えばメチレンオキシ、エチレンオキシ、プロピレンオキシ、ブチレンオキシ、ペンチレンオキシ、へキシレンオキシ、オクチレンオキシ、デシレンオキシなどが挙げられる。)、アラルキレン基(好ましくは炭素数7~30、より好ましくは炭素数7~13のアラルキレン基であり、例えばベンジリデン、シンナミリデンなどが挙げられる。)、アリーレン基(好ましくは炭素数6~30、より好ましくは炭素数6~15のアリーレン基であり、例えば、フェニレン、クメニレン、メシチレン、トリレン、キシリレンなどが挙げられる。)などが挙げられる。これらは更に置換基を有していてもよい。分子内にエーテル結合を有していることが好ましい。W2は、単結合、アルキレン基又はアルキレンオキシ基が好ましく、単結合、炭素数1~20のアルキレン基又は炭素数1~4のアルキレンオキシ基であることが好ましい。
L1はn価の連結基を表し、その具体的な例としては下記の(L-1)~(L-35)で表される構造単位又はこれらを組み合わせて構成される連結基を挙げることができる。
一般式(II)で表される部分構造について詳しく説明する。式中、R2水素原子又は置換基を表す。置換基の例としては、前記置換基群Zのなかで説明した置換基と同じ意味を表し、R2は好ましくは水素原子又はアルキル基であり、更に好ましくは水素原子である。
J2は-CO-、-COO-、-CONR6-、-OCO-、メチレン基、フェニレン基、又は-C6H5CO-基を表す。R6は水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表す。R6は水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表し、水素原子、アルキル基、アリール基が好ましく、その好ましい範囲は置換基Zで説明したアルキル基、アリール基の好ましい範囲と同義である。
W2は単結合又は2価の連結基を表す。2価の連結基としては、例えば、直鎖、分岐若しくは環状のアルキレン基(好ましくは炭素数1~30、より好ましくは炭素数1~12、更に好ましくは炭素数1~4のアルキレン基であり、例えばメチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン、へキシレン、オクチレン、デシレンなどが挙げられる。)、アルキレンオキシ基(好ましくは炭素数1~100、より好ましくは炭素数1~50、更に好ましくは炭素数1~20のアルキレンオキシ基であり、例えばメチレンオキシ、エチレンオキシ、プロピレンオキシ、ブチレンオキシ、ペンチレンオキシ、へキシレンオキシ、オクチレンオキシ、デシレンオキシなどが挙げられる。)、アラルキレン基(好ましくは炭素数7~30、より好ましくは炭素数7~13のアラルキレン基であり、例えばベンジリデン、シンナミリデンなどが挙げられる。)、アリーレン基(好ましくは炭素数6~30、より好ましくは炭素数6~15のアリーレン基であり、例えば、フェニレン、クメニレン、メシチレン、トリレン、キシリレンなどが挙げられる。)などが挙げられる。これらは更に置換基を有していてもよい。分子内にエーテル結合を有していることが好ましい。W2は、単結合、アルキレン基又はアルキレンオキシ基が好ましく、単結合、炭素数1~20のアルキレン基又は炭素数1~4のアルキレンオキシ基であることが好ましい。
L1はn価の連結基を表し、その具体的な例としては下記の(L-1)~(L-35)で表される構造単位又はこれらを組み合わせて構成される連結基を挙げることができる。
前記(L-1)~(L-35)より選択される基より構成されるL1はアルキレン基、アルキレンオキシ基又はアリーレン基が好ましく、アルキレン基、又はアルキレンオキシ基であることがより好ましく、分子内にエーテル結合を有していることが更に好ましい。
nは2以上の整数を表す。好ましくは、nは2~6であり、より好ましくは2~4である。一般式(I)のRa又は一般式(II)の連結基L1の少なくともいずれか一方は、少なくともフッ素原子を有する置換基又は連結基である。
nは2以上の整数を表す。好ましくは、nは2~6であり、より好ましくは2~4である。一般式(I)のRa又は一般式(II)の連結基L1の少なくともいずれか一方は、少なくともフッ素原子を有する置換基又は連結基である。
〔一般式(I-1)で表される部分構造〕
前記一般式(I)で表される部分構造が下記一般式(I-1)で表される部分構造であることが好ましい。
前記一般式(I)で表される部分構造が下記一般式(I-1)で表される部分構造であることが好ましい。
(一般式(I-1)中、R7は水素原子又は置換基を表し、L2は-CF2-又は-CF2CF2O-を表す。lは1以上の整数を表す。R1及びW1は、前記一般式(I)におけるR1及びW1と同義である。複数存在するR1、W1、L2、l及びR7は同一でも異なっていてもよい。)
一般式(I-1)で表される部分構造について詳しく説明する。R7は、水素原子又は置換基を表し、好ましくは水素原子、アルキル基、ハロゲン、であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、ハロゲンであり、更に好ましくはハロゲン、特にフッ素原子である。
L2は-CF2-又は-CF2CF2O-を表す。lは1以上の整数を表し、好ましくは1~30であり、更に好ましくは1~10であり、より好ましくは1~5である。
R1及びW1は、前記一般式(I)におけるR1及びW1と同義であり、その好ましい範囲も同じである。
R1及びW1は、前記一般式(I)におけるR1及びW1と同義であり、その好ましい範囲も同じである。
〔一般式(II-1)で表される部分構造〕
前記一般式(II)で表される部分構造が下記一般式(II-1)で表される部分構造であることが好ましい。
前記一般式(II)で表される部分構造が下記一般式(II-1)で表される部分構造であることが好ましい。
(一般(II-1)式中、L3は-CF2-又は-CF2CF2O-を表す。W2及びR2は前記一般式(II)におけるW2及びR2と同義である。W3はW2と同義である。R3はR2と同義である。m、x及びzは1以上の整数を表す。複数存在するL3、及びmは同一でも異なっていてもよい。)
一般式(II-1)で表される部分構造について詳しく説明する。L3は-CF2-又は-CF2CF2O-を表す。mは1以上の整数を表し、好ましくは1~30であり、更に好ましくは1~10であり、より好ましくは1~5である。
W2及びR2は前記一般式(II)におけるW2及びR2と同義であり、W3はW2と同義であり、R3はR2と同義であり、好ましい範囲も同様である。
zは1以上の整数を表す。好ましくはzは1~6であり、より好ましくは1~4である。
zは1以上の整数を表す。好ましくはzは1~6であり、より好ましくは1~4である。
本発明の他の態様のガス分離膜は、少なくとも1種の下記一般式(Ia)で表される化合物と、少なくとも1種の下記の一般式(IIa)で表される化合物とを含有する組成物により形成されたものである。
(一般式(Ia)中、R1は水素原子又は置換基を表す。J1は-CO-、-COO-、-CONR3-、-OCO-、メチレン基、フェニレン基、又は-C6H4CO-基を表す。R3は水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表す。W1は単結合又は2価の連結基を表す。Aは、フッ素原子又は少なくとも一つのフッ素原子を有する置換基を表す。)
一般式(Ia)におけるR1、J1、W1、及びAの例示及び好ましい範囲は一般式(I)のR1、J1、W1、及びAの例示及び好ましい範囲と同様である。
(一般式(IIa)中、R2複数存在する場合は各々独立に水素原子又は置換基を表す。J2は-CO-、-COO-、-CONR4-、-OCO-、メチレン基、フェニレン基、又は-C6H4CO-基を表す。R4は水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表す。W2は単結合又は2価の連結基を表す。L1はy価の連結基を表す。yは2以上の整数を表す。複数存在するJ2、W2、及びR2は同一でも異なっていてもよい。)
一般式(IIa)におけるR2、J2、W2、及びyの例示及び好ましい範囲は一般式(II)のR2、J2、W2、及びnの例示及び好ましい範囲と同様である。
本発明の他の態様のガス分離膜は、少なくとも1種の下記一般式(Ib)で表される化合物と、少なくも1種の下記の一般式(IIb)で表される化合物とを含有する組成物により形成されたものである。
(一般式(Ib)中、R5は水素原子又は置換基を表す。R1は水素原子又は置換基を表す。J1は-CO-、-COO-、-CONR20-、-OCO-、メチレン基、フェニレン基、又は-C6H5CO-基を表す。R20は水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表す。W1は単結合又は2価の連結基を表す。)
(一般式(IIb)中、R2は水素原子又は置換基を表す。L2は少なくとも一つのフッ素原子を有するn価の連結基を表す。nは2以上の整数を表す。J2は-CO-、-COO-、-CONR6-、-OCO-、メチレン基、フェニレン基、又は-C6H5CO-基を表す。R6は水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表す。W2は単結合又は2価の連結基を表す。複数存在するJ2、W2、及びR2は同一でも異なっていてもよい。)
一般式(Ib)におけるR1、J1及びW1の例示及び好ましい範囲は一般式(I-1)のR1、J1及びW1の例示及び好ましい範囲と同様である。
一般式(IIb)におけるR2、J2、W2、及びnの例示及び好ましい範囲は一般式(II)のR2、J2、W2、及びnの例示及び好ましい範囲と同様である。
一般式(IIb)におけるR2、J2、W2、及びnの例示及び好ましい範囲は一般式(II)のR2、J2、W2、及びnの例示及び好ましい範囲と同様である。
別の態様におけるガス分離膜は、少なくとも1種の前記一般式(Ia)で表される化合物と、少なくも1種の前記一般式(IIb)で表される化合物とを含有する組成物により形成されたガス分離膜である。
前記一般式(Ia)で表される化合物が下記一般式(Ia-1)で表される化合物であることが好ましい。
(一般式(Ia-1)中、R7は水素原子又は置換基を表し、L2はCF2又はCF2CF2Oを表す。lは1以上の整数を表す。R1及びW1は、前記一般式(Ia)におけるR1及びW1と同義である。複数存在するL2は同一でも異なっていてもよい。)
一般式(Ia-1)におけるR1、W1、l及びR7の例示及び好ましい範囲は一般式(I-1)のR1、W1、l及びR7の例示及び好ましい範囲と同様である。
前記一般式(IIb)で表される化合物が下記一般式(IIb-1)で表される化合物であることが好ましい。
(一般式(IIb-1)中、W3及びW4はそれぞれ独立に、単結合又は二価の連結基を表し、mは1以上の整数を表す。R2は、それぞれ独立に前記一般式(IIb)におけるR2と同義であり、L3は-CF2-又は-CF2CF2O-を表す。複数存在するL3は同一でも異なっていてもよい。)
一般式(IIb-1)におけるR2、及びL3の例示及び好ましい範囲は一般式(II)のR2、及びL1の例示及び好ましい範囲と同様である。W3、W4の例示及び好ましい範囲はW2の例示及び好ましい範囲と同様である。
一般式(I-1)で表される部分構造は更に、下記一般式(I-2)で表される部分構造であることが好ましい。
(一般式(I-2)中、R1は水素原子又は置換基を表す。R8、R9、R10及びR11は水素原子又はフッ素原子を表し、oは0又は1である。複数存在するR1、R8、R9、R10及びR11は同一でも異なっていてもよい。)
R1は一般式(I)のR1の例示及び好ましい範囲と同様である。
前記一般式(Ia-1)で表される化合物が下記一般式(Ia-2)で表される化合物であることが好ましい。 また、一般式(I-2)で表される化合物は、下記一般式(Ia-2)で表される化合物より形成されることが好ましい。
一般式(Ia-2)中、R1、R8、R9、R10及びR11及びoは前記一般式(I-2)で説明したR1、R8、R9、R10及びR11及びoと同義である。)
本発明の態様のガス分離膜は、下記一般式(I-1)で表される部分構造及び下記一般式(III)で表される部分構造とを含むポリマー(プレポリマー(III)と称する場合がある)を含有することが好ましい。
プレポリマー(III)はフッ素原子を共重合体中に含み、かつ分子内に反応性基を含み、前述の一般式(I)で表される部分構造と、一般式(II)で表される部分構造とを含むポリマーと同様に分離膜に用いると優れたガス分離性を奏する。また、揮発性が低く、粘度の調整がし易いため製膜の際の取り扱い性に優れる。
プレポリマー(III)はフッ素原子を共重合体中に含み、かつ分子内に反応性基を含み、前述の一般式(I)で表される部分構造と、一般式(II)で表される部分構造とを含むポリマーと同様に分離膜に用いると優れたガス分離性を奏する。また、揮発性が低く、粘度の調整がし易いため製膜の際の取り扱い性に優れる。
(上記一般式中、R7は水素原子又は置換基を表し、L2はCF2又はCF2CF2Oを表す。lは1以上の整数を表す。R1及びW1は、前記一般式(Ia)におけるR1及びW1と同義である。
W12及びW13はそれぞれ独立に、単結合又は二価の連結基を表す。R12は水素原子又は置換基を表し、J12は一般式(IIb-1)におけるJ2と同義である。R22は水素原子あるいはアルキル基を表す。L4は二価の連結基を表す。複数存在するR7、L2、l、R1、W1、W12、W13、R12、J12、及びR22は同一でも異なっていてもよい。
ただし、一般式(I-1)のR7及び一般式(III)のL4の少なくともいずれか一方は、フッ素原子を有する。)
W12及びW13はそれぞれ独立に、単結合又は二価の連結基を表す。R12は水素原子又は置換基を表し、J12は一般式(IIb-1)におけるJ2と同義である。R22は水素原子あるいはアルキル基を表す。L4は二価の連結基を表す。複数存在するR7、L2、l、R1、W1、W12、W13、R12、J12、及びR22は同一でも異なっていてもよい。
ただし、一般式(I-1)のR7及び一般式(III)のL4の少なくともいずれか一方は、フッ素原子を有する。)
一般式(I-1)及び一般式(III)において、R1、W1、L2、l及びR7の例示及び好ましい範囲は一般式(Ia-1)のR1、W1、L2、l及びR7の例示及び好ましい範囲と同様である。
L4は二価の連結基を表し、その具体的な例としては前記の(L-1)~(L-35)で表される構造単位又はそれらを組み合わせて構成される連結基を挙げることができる。R12、W12、W13及びJ12は一般式(IIb-1)におけるR2、W2、W3及びJ2の例示及び好ましい範囲と同様である。R22は水素原子あるいはアルキル基を表し、好ましくは水素原子あるいはメチル基である。
L4は二価の連結基を表し、その具体的な例としては前記の(L-1)~(L-35)で表される構造単位又はそれらを組み合わせて構成される連結基を挙げることができる。R12、W12、W13及びJ12は一般式(IIb-1)におけるR2、W2、W3及びJ2の例示及び好ましい範囲と同様である。R22は水素原子あるいはアルキル基を表し、好ましくは水素原子あるいはメチル基である。
一般式(I-1)で表される部分構造及び一般式(III)で表される部分構造に対して、更に他のモノマーとの共重合成分(グラフト、ブロック、ランダム)を有していても良い。
プレポリマー(III)は、下記一般式(I-2)で表される部分構造及び下記一般式(III)で表される部分構造とを含むポリマー(プレポリマー(III-1)と称する場合がある)であることが特に好ましい。
(一般式(I-2)において、R1、R8、R9、R10及びR11は水素原子又はフッ素原子を表し、oは0又は1である。R1、R8、R9、R10、R11及びoは一般式(一般式(I-1))の例示及び好ましい範囲と同様である。W12及びW13はそれぞれ独立に、単結合又は二価の連結基を表す。R12は水素原子又は置換基を表し、J12は一般式(IIb-1)におけるJ2と同義である。R22は水素原子あるいはアルキル基を表す。前記一般式(II)におけるR2と同義であり、L4は二価の連結基を表す。複数存在するR1、R8、R9、R10、R11、o、W12、W13、R12、J12、L4、及びR22は同一でも異なっていてもよい。
プレポリマーの利用、合成法としては、特開2009-263703号及び特開2010-77322号等の記載を参考とすることができる。
本発明の一般式(I)で表される部分構造と、一般式(II)で表される部分構造とを含むポリマーを含む分離膜が気体分離において高性能を奏する機構については、まずフッ素原子は周期表の中で電気陰性度が最も大きく、また小さい原子であるが電子が原子核の陽電荷により強くひきつけられているため分極率は小さいことが要因として考えられる。一般的にフッ素系の化合物はC-Fの分極構造(電気陰性度C:2.5、F:4.0)のため二酸化炭素のような局所的に分極構造を有する分子(四重極子)と双極子-双極子間で相互作用しやすく、フッ素を多数有するパーフルオロポリマーは分子量が1万を越えるような化合物においても超臨界二酸化炭素に溶解するなど、二酸化炭素との相溶性が高いことが知られている。またフッ素は小さい分子なため電子は原子核の陽電荷に強く引き付けられて分極率は小さい。つまり、フッ素を有する化合物は分子間相互作用が小さく沸点が低いなどの特徴が知られている。
一般式(I-1)よりも一般式(I-2)が好ましく、一般式(Ia-1)よりも一般式(Ia-2)が好ましい関係について説明する。本発明者らが鋭意検討した結果、実際に本発明における検討においてもフルオロアルキル鎖を増やすほど、二酸化炭素ガスの透過性は大きくなるが、二酸化炭素ガスとメタンガスとの分離選択性は低下する。これは、推定ではあるがフルオロアルキル鎖を増やすことによる二酸化炭素の膜への溶解性の向上だけでなく、同時に分子間相互作用が小さくなり膜における自由体積分率が大きくなることに起因する拡散性が大きくなる効果も生じ、後者の寄与がより顕著なために、二酸化炭素よりも大きな分子であるメタンも拡散、透過しやすくなり、結果として二酸化炭素ガスとメタンガスとの分離選択性は低下するものと推定される。従って、二酸化炭素と水素ガスとの、又は二酸化炭素ガスとメタンガスとの高い分離選択性を保持しつつ、フッ素原子を含む部分構造を導入することによる膜の膨潤を抑制するためには、単位部分構造中の適切なフッ素原子数及びポリマーに占める部分構造の割合が重要であることを見出したものである。
前記一般式(I)~一般式(II-1)で表される部分構造は、それぞれの部分構造に対応するモノマーを共重合させることにより得ることができる。そのモノマーとして好ましい具体例(例示モノマーM-1~M-80)を以下に挙げるが、本発明はこれらに限るものではない。また具体例におけるp、q及びrは任意の正の整数を表す。
本発明の一般式(I)~一般式(II-1)の部分構造を含むポリマーを合成する前記各化合物は、市販されており、また容易に合成することもできる。
本発明にかかるポリマーは、他のモノマーとの共重合体であってもよい。用いられる他のモノマーとしては、例えば、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、ビニルエステル類、スチレン類、アクリル酸、メタクリル酸、アクリロニトリル、無水マレイン酸、マレイン酸イミド等の公知のモノマーも挙げられる。このようなモノマー類を共重合させることで、製膜性、膜強度、親水性、疎水性、溶解性、反応性、安定性等の諸物性を改善することができる。モノマーの合成法としては、例えば丸善株式会社 日本化学会編の「第5版 実験科学講座16 有機化合物の合成(II-1)」におけるエステル合成の項目や「第5版 実験科学講座26 高分子化学」におけるモノマーの取り扱い、精製の項目などを参考とすることができる。
本発明にかかるポリマーは、他のモノマーとの共重合体であってもよい。用いられる他のモノマーとしては、例えば、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、ビニルエステル類、スチレン類、アクリル酸、メタクリル酸、アクリロニトリル、無水マレイン酸、マレイン酸イミド等の公知のモノマーも挙げられる。このようなモノマー類を共重合させることで、製膜性、膜強度、親水性、疎水性、溶解性、反応性、安定性等の諸物性を改善することができる。モノマーの合成法としては、例えば丸善株式会社 日本化学会編の「第5版 実験科学講座16 有機化合物の合成(II-1)」におけるエステル合成の項目や「第5版 実験科学講座26 高分子化学」におけるモノマーの取り扱い、精製の項目などを参考とすることができる。
本発明のガス分離膜は、一般式(I)~一般式(II-1)の部分構造に対応するモノマーにおける重合性基の機能により、何らかのエネルギーを付与することで硬化することにより形成することができる。
〔ガス分離膜の製造方法〕
本発明のガス分離膜の製造方法は、少なくとも1種の下記一般式(I)で表される部分構造と、少なくとも1種の下記の一般式(II)で表される部分構造とを含むポリマーを含有するガス分離膜を、活性放射線を照射することにより形成する製造方法である。
本発明のガス分離膜の製造方法は、少なくとも1種の下記一般式(I)で表される部分構造と、少なくとも1種の下記の一般式(II)で表される部分構造とを含むポリマーを含有するガス分離膜を、活性放射線を照射することにより形成する製造方法である。
(一般式(I)中、R1及びRaは各々独立に水素原子又は置換基を表す。J1は-CO-、-COO-、-CONR20-、-OCO-、メチレン基、フェニレン基、又は-C6H5CO-基を表す。R20は水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表す。W1は単結合又は2価の連結基を表す。複数存在するJ1、W1、R1及びRaは同一でも異なっていてもよい。)
(一般式(II)中、R2は水素原子又は置換基を表す。L1はn価の連結基を表す。nは2以上の整数を表す。J2は-CO-、-COO-、-CONR6-、-OCO-、メチレン基、フェニレン基、又は-C6H5CO-基を表す。R6は水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表す。W2は単結合又は2価の連結基を表す。複数存在するJ2、W2、R2は同一でも異なっていてもよい。)
ただし、一般式(I)のRa及び一般式(II)のL1の少なくともいずれか一方は、フッ素原子を有する。
ただし、一般式(I)のRa及び一般式(II)のL1の少なくともいずれか一方は、フッ素原子を有する。
好ましくは後述する重合開始剤を含有し、活性放射線の照射により硬化することにより形成されるガス分離膜である。ここで活性放射線とは、その照射により膜組成物中において開始種を発生させうるエネルギーを付与することができるものであれば、特に制限はなく、広くα線、γ線、X線、紫外線、可視光線、電子線などを包含するものである。なかでも、硬化感度及び装置の入手容易性の観点から紫外線及び電子線が好ましく、特に紫外線が好ましい。
本発明において、紫外線を使用する場合には、後述の光重合開始剤を添加することが必要となる。電子線硬化の場合は、重合開始剤が不要であり、透過深さも深いので好ましい。電子線加速器としてはスキャニング方式、ダブルスキャニング方式又はカーテンビーム方式が採用できるが、好ましいのは比較的安価で大出力が得られるカーテンビーム方式である。電子線特性としては、加速電圧が30~1000kV、好ましくは50~300kVである。吸収線量として好ましくは5~200kGy(0.5~20Mrad)、より好ましくは20~100kGy(2~10Mrad)である。加速電圧及び吸収線量が上記範囲内であると、十分な量のエネルギーが透過し、エネルギー効率がよい。電子線を照射する雰囲気は窒素雰囲気により酸素濃度を200ppm以下にすることが好ましく、この範囲内では表面近傍の架橋、硬化反応が良好に進む。
紫外線光源としては、水銀灯が用いられる。水銀灯は20~240W/cm2のランプを用い、速度0.3~20m/分で使用される。膜と水銀灯との距離は一般に1~30cmであることが好ましい。卓上型紫外線硬化装置を用いる場合は、1秒~10分程度、素材、環境により光量、光源の配置を適宜調整したうえで硬化させるのが望ましい。
放射線硬化装置、条件などについては、「UV・EB硬化技術」((株)総合技術センター発行)や「低エネルギー電子線照射の応用技術」(2000年、(株)シーエムシー発行)などに記載されている公知のものを用いることができる。硬化時に加熱工程を併用してもよい。
本発明のガス分離膜は少なくとも1種の前記一般式(Ia)で表される化合物と、少なくも1種の一般式(IIb)で表される化合物とを含有する組成物により形成される。
前記一般式(Ia)で表される化合物が下記一般式(Ia-1)で表される化合物であることが好ましい。
前記一般式(Ia)で表される化合物が下記一般式(Ia-1)で表される化合物であることが好ましい。
(一般式(Ia-1)中、R7は水素原子又は置換基を表し、L2はCF2又はCF2CF2Oを表す。lは1以上の整数を表す。R1及びW1は、前記一般式(Ia)におけるR1及びW1と同義である。複数存在するL2は同一でも異なっていてもよい。)
一般式(Ia-1)におけるR1、W1、l及びR7の例示及び好ましい範囲は一般式(I-1)のR1、W1、l及びR7の例示及び好ましい範囲と同様である。
前記一般式(IIb)で表される化合物が下記一般式(IIb-1)で表される化合物であることが好ましい。
(一般式(IIb-1)中、W3及びW4はそれぞれ独立に、単結合又は二価の連結基を表し、mは1以上の整数を表す。R2は、前記一般式(IIa)におけるR2と同義であり、L3は-CF2-又は-CF2CF2O-を表す。複数存在するL3は同一でも異なっていてもよい。)
一般式(IIb-1)におけるR2、l、及びL3の例示及び好ましい範囲は一般式(II)のR2、l、及びL3の例示及び好ましい範囲と同様である。W3、W4の例示及び好ましい範囲はW1の例示及び好ましい範囲と同様である。
〔重合開始剤〕
本発明のガス分離膜を形成する工程において、ラジカル重合開始剤を添加することが好ましく、光重合開始剤を添加することが特に好ましい。
本発明における光重合開始剤は光の作用、又は、増感色素の電子励起状態との相互作用を経て、化学変化を生じ、ラジカル、酸及び塩基のうちの少なくともいずれか1種を生成する化合物である。
光重合開始剤は、照射される活性光線、例えば、400~200nmの紫外線、遠紫外線、g線、h線、i線、KrFエキシマレーザー光、ArFエキシマレーザー光、電子線、X線、分子線又はイオンビームなどに感度を有するものを適宜選択して使用することができる。
本発明のガス分離膜を形成する工程において、ラジカル重合開始剤を添加することが好ましく、光重合開始剤を添加することが特に好ましい。
本発明における光重合開始剤は光の作用、又は、増感色素の電子励起状態との相互作用を経て、化学変化を生じ、ラジカル、酸及び塩基のうちの少なくともいずれか1種を生成する化合物である。
光重合開始剤は、照射される活性光線、例えば、400~200nmの紫外線、遠紫外線、g線、h線、i線、KrFエキシマレーザー光、ArFエキシマレーザー光、電子線、X線、分子線又はイオンビームなどに感度を有するものを適宜選択して使用することができる。
具体的な光重合開始剤は当業者間で公知のものを制限なく使用でき、具体的には、例えば、Bruce M. Monroeら著、Chemical Revue,93,435(1993).や、R.S.Davidson著、Journal of Photochemistry and biology A :Chemistry,73.81(1993).や、J.P.Faussier’’Photoinitiated Polymerization-Theory and Applications’’:Rapra Review vol.9,Report,Rapra Technology(1998).や、M.Tsunooka et al.,Prog.Polym.Sci.,21,1(1996).に多く、記載されている。また、(有機エレクトロニクス材料研究会編、「イメージング用有機材料」、ぶんしん出版(1993年)、187~192ページ参照)に化学増幅型フォトレジストや光カチオン重合に利用される化合物が多く、記載されている。更には、F.D.Saeva,Topics in Current Chemistry,156,59(1990).、G.G.Maslak,Topics in Current Chemistry,168,1(1993).、H.B.Shuster et al,JACS,112,6329(1990).、I.D.F.Eaton et al,JACS,102,3298(1980).等に記載されているような、増感色素の電子励起状態との相互作用を経て、酸化的若しくは還元的に結合解裂を生じる化合物群も知られる。
好ましい光重合開始剤としては(a)芳香族ケトン類、(b)芳香族オニウム塩化合物、(c)有機過酸化物、(d)ヘキサアリールビイミダゾール化合物、(e)ケトオキシムエステル化合物、(f)ボレート化合物、(g)アジニウム化合物、(h)メタロセン化合物、(i)活性エステル化合物、(j)炭素ハロゲン結合を有する化合物等が挙げられる。
(a)芳香族ケトン類の好ましい例としては、「RADIATION CURING IN POLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY」J.P.FOUASSIER J.F.RABEK (1993)、p77~117記載のベンゾフェノン骨格或いはチオキサントン骨格を有する化合物等が挙げられる。より好ましい(a)芳香族ケトン類の例としては、特公昭47-6416記載のα-チオベンゾフェノン化合物、特公昭47-3981記載のベンゾインエーテル化合物、特公昭47-22326記載のα-置換ベンゾイン化合物、特公昭47-23664記載のベンゾイン誘導体、特開昭57-30704号公報記載のアロイルホスホン酸エステル、特公昭60-26483号公報記載のジアルコキシベンゾフェノン、特公昭60-26403号公報、特開昭62-81345号公報記載のベンゾインエーテル類、特公平1-34242号公報、米国特許第4,318,791号、ヨーロッパ特許0284561A1号記載のα-アミノベンゾフェノン類、特開平2-211452号公報記載のp-ジ(ジメチルアミノベンゾイル)ベンゼン、特開昭61-194062号公報記載のチオ置換芳香族ケトン、特公平2-9597号公報記載のアシルホスフィンスルフィド、特公平2-9596号公報記載のアシルホスフィン、特公昭63-61950号公報記載のチオキサントン類、特公昭59-42864号公報記載のクマリン類等を挙げることができる。
(b)芳香族オニウム塩としては、周期律表の第V、VI及びVII族の元素、具体的にはN、P、As、Sb、Bi、O、S、Se、Te、又はIの芳香族オニウム塩が含まれる。例えば、欧州特許104143号明細書、米国特許4837124号明細書、特開平2-150848号公報、特開平2-96514号公報に記載されるヨードニウム塩類、欧州特許370693号明細書、同233567号明細書、同297443号明細書、同297442号明細書、同279210号明細書、及び同422570号各明細書、米国特許3902144号明細書、同4933377号明細書、同4760013号明細書、同4734444号明細書、及び同2833827号明細書各明細書に記載されるスルホニウム塩類、ジアゾニウム塩類(置換基を有してもよいベンゼンジアゾニウム等)、ジアゾニウム塩樹脂類(ジアゾジフェニルアミンのホルムアルデヒド樹脂等)、N-アルコキシピリジニウム塩類等(例えば、米国特許4,743,528号明細書、特開昭63-138345号公報、特開昭63-142345号公報、特開昭63-142346号公報、及び特公昭46-42363号公報の各公報等に記載されるもので、具体的には1-メトキシ-4-フェニルピリジニウム テトラフルオロボレート等)、更には特公昭52-147277号公報、同52-14278号公報、及び同52-14279号公報の各公報記載の化合物が好適に使用される。これらは活性種としてラジカルや酸を生成する。
(c)「有機過酸化物」としては分子中に酸素-酸素結合を1個以上有する有機化合物のほとんど全てが含まれるが、その例としては、3,3′4,4′-テトラ-(t-ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3′4,4′-テトラ-(t-アミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3′4,4′-テトラ-(t-ヘキシルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3′4,4′-テトラ-(t-オクチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3′4,4′-テトラ-(クミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3′4,4′-テトラ-(p-イソプロピルクミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、ジ-t-ブチルジパーオキシイソフタレートなどの過酸化エステル系が好ましい。
(d)ヘキサアリールビイミダゾールとしては、特公昭45-37377号公報、特公昭44-86516号公報記載のロフィンダイマー類、例えば2,2′-ビス(o-クロロフェニル)-4,4′,5,5′-テトラフェニルビイミダゾール、2,2′-ビス(o-ブロモフェニル)-4,4′,5,5′-テトラフェニルビイミダゾール、2,2′-ビス(o,p-ジクロロフェニル)-4,4′,5,5′-テトラフェニルビイミダゾール、2,2′-ビス(o-クロロフェニル)-4,4′,5,5′-テトラ(m-メトキシフェニル)ビイミダゾール、2,2′-ビス(o,o′-ジクロロフェニル)-4,4′,5,5′-テトラフェニルビイミダゾール、2,2′-ビス(o-ニトロフェニル)-4,4′,5,5′-テトラフェニルビイミダゾール、2,2′-ビス(o-メチルフェニル)-4,4′,5,5′-テトラフェニルビイミダゾール、2,2′-ビス(o-トリフルオロフェニル)-4,4′,5,5′-テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。
(e)ケトオキシムエステルとしては3-ベンゾイロキシイミノブタン-2-オン、3-アセトキシイミノブタン-2-オン、3-プロピオニルオキシイミノブタン-2-オン、2-アセトキシイミノペンタン-3-オン、2-アセトキシイミノ-1-フェニルプロパン-1-オン、2-ベンゾイロキシイミノ-1-フェニルプロパン-1-オン、3-p-トルエンスルホニルオキシイミノブタン-2-オン、2-エトキシカルボニルオキシイミノ-1-フェニルプロパン-1-オン等が挙げられる。
本発明に用いることができる光重合開始剤の他の例である(f)ボレート塩の例としては米国特許3,567,453号明細書、同4,343,891号明細書、ヨーロッパ特許109,772号明細書、同109,773号明細書に記載されている化合物が挙げられる。
光重合開始剤の他の例である(g)アジニウム塩化合物の例としては、特開昭63-138345号公報、特開昭63-142345号公報、特開昭63-142346号公報、特開昭63-143537号公報並びに特公昭46-42363号公報に記載のN-O結合を有する化合物群を挙げることができる。
光重合開始剤の他の例である(g)アジニウム塩化合物の例としては、特開昭63-138345号公報、特開昭63-142345号公報、特開昭63-142346号公報、特開昭63-143537号公報並びに特公昭46-42363号公報に記載のN-O結合を有する化合物群を挙げることができる。
光重合開始剤の他の例である(h)メタロセン化合物の例としては、特開昭59-152396号公報、特開昭61-151197号公報、特開昭63-41484号公報、特開平2-249号公報、特開平2-4705号公報に記載のチタノセン化合物並びに、特開平1-304453号公報、特開平1-152109号公報に記載の鉄-アレーン錯体を挙げることができる。
上記チタノセン化合物の具体例としては、ジ-シクロペンタジエニル-Ti-ジ-クロライド、ジ-シクロペンタジエニル-Ti-ビス-フェニル、ジ-シクロペンタジエニル-Ti-ビス-2,3,4,5,6-ペンタフルオロフェニ-1-イル、ジ-シクロペンタジエニル-Ti-ビス-2,3,5,6-テトラフルオロフェニ-1-イル、ジ-シクロペンタジエニル-Ti-ビス-2,4,6-トリフルオロフェニ-1-イル、ジ-シクロペンタジエニル-Ti-2,6-ジフルオロフェニ-1-イル、ジ-シクロペンタジエニル-Ti-ビス-2,4-ジフルオロフェニ-1-イル、ジ-メチルシクロペンタジエニル-Ti-ビス-2,3,4,5,6-ペンタフルオロフェニ-1-イル、ジ-メチルシクロペンタジエニル-Ti-ビス-2,3,5,6-テトラフルオロフェニ-1-イル、ジ-メチルシクロペンタジエニル-Ti-ビス-2,4-ジフルオロフェニ-1-イル、ビス(シクロペンタジエニル)-ビス(2,6-ジフルオロ-3-(ピリ-1-イル)フェニル)チタニウム、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6-ジフルオロ-3-(メチルスルホンアミド)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6-ジフルオロ-3-(N-ブチルビアロイル-アミノ)フェニル〕チタン等を挙げることができる。
上記チタノセン化合物の具体例としては、ジ-シクロペンタジエニル-Ti-ジ-クロライド、ジ-シクロペンタジエニル-Ti-ビス-フェニル、ジ-シクロペンタジエニル-Ti-ビス-2,3,4,5,6-ペンタフルオロフェニ-1-イル、ジ-シクロペンタジエニル-Ti-ビス-2,3,5,6-テトラフルオロフェニ-1-イル、ジ-シクロペンタジエニル-Ti-ビス-2,4,6-トリフルオロフェニ-1-イル、ジ-シクロペンタジエニル-Ti-2,6-ジフルオロフェニ-1-イル、ジ-シクロペンタジエニル-Ti-ビス-2,4-ジフルオロフェニ-1-イル、ジ-メチルシクロペンタジエニル-Ti-ビス-2,3,4,5,6-ペンタフルオロフェニ-1-イル、ジ-メチルシクロペンタジエニル-Ti-ビス-2,3,5,6-テトラフルオロフェニ-1-イル、ジ-メチルシクロペンタジエニル-Ti-ビス-2,4-ジフルオロフェニ-1-イル、ビス(シクロペンタジエニル)-ビス(2,6-ジフルオロ-3-(ピリ-1-イル)フェニル)チタニウム、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6-ジフルオロ-3-(メチルスルホンアミド)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6-ジフルオロ-3-(N-ブチルビアロイル-アミノ)フェニル〕チタン等を挙げることができる。
(i)活性エステル化合物の例としては、欧州特許0290750号明細書、同046083号明細書、同156153号明細書、同271851号明細書、及び同0388343号明細書の各明細書、米国特許3901710号明細書、及び同4181531号各明細書、特開昭60-198538号公報、及び特開昭53-133022号公報の各公報に記載されるニトロベンズルエステル化合物、欧州特許0199672号明細書、同84515号明細書、同199672号明細書、同044115号明細書、及び同0101122号明細書の各明細書、米国特許4618564号明細書、同4371605号明細書、及び同4431774号明細書の各明細書、特開昭64-18143号公報、特開平2-245756号公報、及び特開平4-365048号公報の各公報記載のイミノスルホネート化合物、特公昭62-6223号公報、特公昭63-14340号公報、及び特開昭59-174831号公報の各公報に記載される化合物等が挙げられる。
(j)炭素ハロゲン結合を有する化合物の好ましい例としては、たとえば、若林ら著、Bull.Chem.Soc.Japan,42、2924(1969)記載の化合物、英国特許1388492号明細書記載の化合物、特開昭53-133428号公報記載の化合物、独国特許3337024号明細書記載の化合物等を挙げることができる。
また、F.C.Schaefer等によるJ.Org.Chem.29、1527(1964)記載の化合物、特開昭62-58241号公報記載の化合物、特開平5-281728号公報記載の化合物等を挙げることができる。ドイツ特許第2641100号明細書に記載されているような化合物、ドイツ特許第3333450号明細書に記載されている化合物、ドイツ特許第3021590号明細書に記載の化合物群、又はドイツ特許第3021599号明細書に記載の化合物群、等を挙げることができる。
重合開始剤の使用量は好ましくは、重合性化合物の量の0.01質量%~10質量%であり、より好ましくは0.1質量%~5質量%である。
〔共増感剤〕
更に本発明のガス分離膜の作製プロセスにおいて、感度を一層向上させる、又は酸素による重合阻害を抑制する等の作用を有する公知の化合物を共増感剤として、更に、加えてもよい。
このような共増感剤の例としては、アミン類、例えばM. R. Sanderら著「Journal of Polymer Society」第10巻3173頁(1972)、特公昭44-20189号公報、特開昭51-82102号公報、特開昭52-134692号公報、特開昭59-138205号公報、特開昭60-84305号公報、特開昭62-18537号公報、特開昭64-33104号公報、Research Disclosure 33825号に記載の化合物等が挙げられ、具体的には、トリエタノールアミン、p-ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、p-ホルミルジメチルアニリン、p-メチルチオジメチルアニリン等が挙げられる。
更に本発明のガス分離膜の作製プロセスにおいて、感度を一層向上させる、又は酸素による重合阻害を抑制する等の作用を有する公知の化合物を共増感剤として、更に、加えてもよい。
このような共増感剤の例としては、アミン類、例えばM. R. Sanderら著「Journal of Polymer Society」第10巻3173頁(1972)、特公昭44-20189号公報、特開昭51-82102号公報、特開昭52-134692号公報、特開昭59-138205号公報、特開昭60-84305号公報、特開昭62-18537号公報、特開昭64-33104号公報、Research Disclosure 33825号に記載の化合物等が挙げられ、具体的には、トリエタノールアミン、p-ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、p-ホルミルジメチルアニリン、p-メチルチオジメチルアニリン等が挙げられる。
別の例としてはチオール及びスルフィド類、例えば、特開昭53-702号公報、特公昭55-500806号公報、特開平5-142772号公報記載のチオール化合物、特開昭56-75643号公報のジスルフィド化合物等が挙げられ、具体的には、2-メルカプトベンゾチアゾール、2-メルカプトベンゾオキサゾール、2-メルカプトベンゾイミダゾール、2-メルカプト-4(3H)-キナゾリン、β-メルカプトナフタレン等が挙げられる。
また別の例としては、アミノ酸化合物(例、N-フェニルグリシン等)、特公昭48-42965号公報に記載の有機金属化合物(例、トリブチル錫アセテート等)、特公昭55-34414号公報に記載の水素供与体、特開平6-308727号公報に記載のイオウ化合物(例、トリチアン等)、特開平6-250387号公報に記載のリン化合物(ジエチルホスファイト等)、特願平6-191605号明細書記載のSi-H、Ge-H化合物等が挙げられる。
また別の例としては、アミノ酸化合物(例、N-フェニルグリシン等)、特公昭48-42965号公報に記載の有機金属化合物(例、トリブチル錫アセテート等)、特公昭55-34414号公報に記載の水素供与体、特開平6-308727号公報に記載のイオウ化合物(例、トリチアン等)、特開平6-250387号公報に記載のリン化合物(ジエチルホスファイト等)、特願平6-191605号明細書記載のSi-H、Ge-H化合物等が挙げられる。
〔物性〕
本発明のガス分離膜は、二酸化炭素/水素の逆の分離選択性を付与するために、気体の拡散係数の大きい柔軟な膜質を達成するという点で、ガラス転移点が50℃未満であることが好ましい。
また本発明のガス分離膜の水に対する接触角は60°以上であることが好ましく、80°以上であることが、更に好ましい。
本発明のガス分離膜には、膜物性を調整するため、各種高分子化合物を添加することもできる。高分子化合物としては、アクリル系重合体、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、シェラック、ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ゴム系樹脂、ワックス類、その他の天然樹脂等が使用できる。また、これらは2種以上併用してもかまわない。
また、液物性調整のためにノニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤や、有機フルオロ化合物などを添加することもできる
本発明のガス分離膜は、二酸化炭素/水素の逆の分離選択性を付与するために、気体の拡散係数の大きい柔軟な膜質を達成するという点で、ガラス転移点が50℃未満であることが好ましい。
また本発明のガス分離膜の水に対する接触角は60°以上であることが好ましく、80°以上であることが、更に好ましい。
本発明のガス分離膜には、膜物性を調整するため、各種高分子化合物を添加することもできる。高分子化合物としては、アクリル系重合体、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、シェラック、ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ゴム系樹脂、ワックス類、その他の天然樹脂等が使用できる。また、これらは2種以上併用してもかまわない。
また、液物性調整のためにノニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤や、有機フルオロ化合物などを添加することもできる
界面活性剤の具体例としては、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、高級脂肪酸塩、高級脂肪酸エステルのスルホン酸塩、高級アルコールエーテルの硫酸エステル塩、高級アルコールエーテルのスルホン酸塩、高級アルキルスルホンアミドのアルキルカルボン酸塩、アルキルリン酸塩などのアニオン界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、アセチレングリコールのエチレンオキサイド付加物、グリセリンのエチレンオキサイド付加物、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステルなどの非イオン性界面活性剤、また、この他にもアルキルベタインやアミドベタインなどの両性界面活性剤、シリコン系界面活性剤、フッソ系界面活性剤などを含めて、従来公知である界面活性剤及びその誘導体から適宜選ぶことができる。
高分子分散剤として、具体的にはポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、ポリビニルメチルエーテル、ポリエチレンオキシド、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリアクリルアミド等が挙げられ、中でもポリビニルピロリドンを用いることも好ましい。
前記一般式(I)~(II-1)で表される部分構造に対応するモノマーとしては、オリゴマー、プレポリマーとしたものを用いてもよい。高分子化合物を得る上での重合体については、ブロック共重合体、或いはランダム共重合体、グラフト共重合体などのいずれの形態を有する共重合体でも良いが、特にブロック共重合体やグラフト共重合体を用いる場合には、粘度、相溶性の観点で好ましい。
前記一般式(I)と一般式(II)の部分構造比は、特に規定されるものではないが、一般式(II)又は一般式(II-1)のような架橋構造を複数有する部分構造の組成比が増加するに従い、分子構造の影響は多大にあるものの概して膜の強度、分離選択性は向上するが気体の透過性は低下する傾向があるため、それぞれ組成比として1~50質量%、好ましくは5~30質量%の範囲を目安として用いることが好ましいが、この範囲に限定されることなく、ガス分離の目的(回収率、純度など)に応じて組成比を変えることによりガス透過性と分離選択性を調整されるものである。
前記一般式(I)~一般式(II-1)で表される部分構造を含むポリマーの分子量は、架橋膜であるため特に限定されるものではない。各部分構造に対応するモノマーとしては、好ましくは数平均分子量として100~10,000であり、より好ましくは100~5,000である。
本発明のガス分離膜を形成する条件に特に制限はないが、温度は-30~100℃が好ましく、-10~80℃がより好ましく、5~50℃が特に好ましい。
本発明においては、膜を形成時に空気や酸素などの気体を共存させてもよいが、不活性ガス雰囲気下であることが望ましい。
また、本発明のガス分離膜を作製する際に、媒体として有機溶剤を添加することができる。具体的に使用できる有機溶剤としては特に限定されるものではないが、n-ヘキサン、n-ヘプタン等の炭化水素系有機溶剤、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系有機溶剤、メタノール、エタノール、n-プロパノール、イソプロパノール、n-ブタノール、イソブタノール、tert-ブタノール等の低級アルコール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジアセトンアルコール等の脂肪族ケトン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、グリセリン、プロピレングリコール、エチレングリコールモノメチル又はモノエチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテル、トリプロピレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールフェニルエーテル、プロピレングリコールフェニルエーテル、ジエチレングリコールモノメチル又はモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチル又はモノエチルエーテル、ジブチルブチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル系有機溶剤、N-メチルピロリドン、2-ピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルイミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミドなどが挙げられる。これらは、1種又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
本発明のガス分離膜の膜厚は0.01~100μmであることが好ましく、0.1~10μmであることがより好ましい。
本発明のガス分離膜の膜厚は0.01~100μmであることが好ましく、0.1~10μmであることがより好ましい。
〔複合膜〕
本発明の複合膜は、多孔質性の支持体の少なくとも表面に、本発明のガス分離膜を形成することが好ましい。多孔質性の支持体の少なくとも表面に、本発明のガス分離膜を、塗布又は浸漬し、活性放射線を照射することにより形成することがより好ましい。
本発明のガス分離膜は、多孔質性の支持体の表面及び内面に形成してもよく、少なくとも表面に形成して複合膜とすることができる。多孔質性の支持体の少なくとも表面に、本発明のガス分離膜を形成することで、高分離選択性と高ガス透過性、更には機械的強度を兼ね備えるという利点を有する複合膜とすることができる。分離層の膜厚としては機械的強度、分離選択性を維持しつつ高ガス透過性を付与する条件において可能な限り薄膜であることが好ましい。
本発明の複合膜は、多孔質性の支持体の少なくとも表面に、本発明のガス分離膜を形成することが好ましい。多孔質性の支持体の少なくとも表面に、本発明のガス分離膜を、塗布又は浸漬し、活性放射線を照射することにより形成することがより好ましい。
本発明のガス分離膜は、多孔質性の支持体の表面及び内面に形成してもよく、少なくとも表面に形成して複合膜とすることができる。多孔質性の支持体の少なくとも表面に、本発明のガス分離膜を形成することで、高分離選択性と高ガス透過性、更には機械的強度を兼ね備えるという利点を有する複合膜とすることができる。分離層の膜厚としては機械的強度、分離選択性を維持しつつ高ガス透過性を付与する条件において可能な限り薄膜であることが好ましい。
本発明で用いる多孔質支持体は、機械的強度及び高気体透過性の付与に合致する目的のものであれば、特に限定されるものではなく有機、無機どちらの素材であっても構わないが、好ましくは有機高分子の多孔質膜であり、その厚さは1~3000μm、好ましくは5~500μmであり、より好ましくは5~150μmである。この多孔質膜の細孔構造は、通常平均細孔直径が10μm以下、好ましくは0.5μm以下、より好ましくは0.2μm以下であり、空孔率は好ましくは20~90%であり、より好ましくは30~80%である。また、その気体透過率は二酸化炭素透過速度で1051cm3(STP)/cm・sec・cmHg以上であることが好ましい。多孔質膜の素材としては、従来公知の高分子、例えばポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂等、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン等の含フッ素樹脂等、ポリスチレン、酢酸セルロース、ポリウレタン、ポリアクリロニトリル、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリイミド、ポリアラミド等の各種樹脂を挙げることが出来る。多孔質膜の形状としては、平板状、スパイラル状、管状、中空糸状などいずれの形状をとることができる。
〔ガス混合物の分離方法〕
本発明のガス混合物の分離方法は、少なくとも一種の酸性ガスを含むガス混合物から酸性ガスを気体分離膜によって分離する方法において、本発明のガス分離膜又は前記複合膜を用いる。
酸性ガスが二酸化炭素又は硫化水素であることが好ましい。
本発明のガス混合物の分離方法は、少なくとも一種の酸性ガスを含むガス混合物から酸性ガスを気体分離膜によって分離する方法において、本発明のガス分離膜又は前記複合膜を用いる。
酸性ガスが二酸化炭素又は硫化水素であることが好ましい。
本発明のガス分離膜を用いる気体の分離方法において、原料の気体混合物の成分は特に規定されるものではないが、ガス混合物の主成分が二酸化炭素及びメタン又は二酸化炭素及び水素であることが好ましい。ガス混合物が二酸化炭素や硫化水素のような酸性ガス共存下で特に優れた性能を発揮し、好ましくは二酸化炭素とメタン等の炭化水素、二酸化炭素と窒素、二酸化炭素と水素の分離において優れた性能を発揮する。
〔ガス分離膜モジュール・気体分離装置〕
本発明のガス分離膜は多孔質支持体と組み合わせた複合膜とすることが好ましく、更にはこれを用いたガス分離膜モジュールとすることが好ましい。また、本発明のガス分離膜、複合膜又はガス分離膜モジュールを用いて、ガスを分離回収又は分離精製させるための手段を有する気体分離装置とすることができる。
本発明のガス分離膜はモジュール化して好適に用いることができる。モジュールの例としては、スパイラル型、中空糸型、プリーツ型、管状型、プレート&フレーム型などが挙げられる。また本発明の高分子膜は、例えば、特開2007-297605号に記載のような吸収液と併用した膜・吸収ハイブリッド法としての気体分離回収装置に適用してもよい。
本発明のガス分離膜は多孔質支持体と組み合わせた複合膜とすることが好ましく、更にはこれを用いたガス分離膜モジュールとすることが好ましい。また、本発明のガス分離膜、複合膜又はガス分離膜モジュールを用いて、ガスを分離回収又は分離精製させるための手段を有する気体分離装置とすることができる。
本発明のガス分離膜はモジュール化して好適に用いることができる。モジュールの例としては、スパイラル型、中空糸型、プリーツ型、管状型、プレート&フレーム型などが挙げられる。また本発明の高分子膜は、例えば、特開2007-297605号に記載のような吸収液と併用した膜・吸収ハイブリッド法としての気体分離回収装置に適用してもよい。
上記の優れた特性を有する本発明のガス分離膜は、ガス分離回収法、ガス分離精製法として好適に用いることができる。
以下に実施例に基づき本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。なお、文中「部」及び「%」とあるのは特に示さない限り質量基準とする。
〔合成例〕
<モノマー(M-41)、(M-45)及び(M-46)の合成>
<モノマー(M-41)、(M-45)及び(M-46)の合成>
モノマー(M-41)の合成
500mlの三口フラスコに無水テトラヒドロフラン200mlを入れ、窒素気流下、氷冷下において、更に水素化リチウムアルミニウム1.07g(28.2mmol)を加えて攪拌しているところに、化合物A(Exfluor社製、分子量=426.09)20g(46.9mmol)の無水テトラヒドロフラン溶液(100ml)を30分以上かけて滴下した。その後、室温下で4時間攪拌した。反応混合物をその後、氷冷したのち水を1ml、15%水酸化ナトリウム水溶液を1ml、更に水を3ml、注意深くパスツールピペットを用いて系内に滴下した。更に反応混合物を30分間攪拌した後、反応混合物をセライトろ過することによりアルミニウム残渣を取り除き、得られたろ液をロータリーエバポレーターにより減圧濃縮して化合物(B)を得た。この化合物(B)はこれ以上精製することなく、速やかに次の反応に用いた。
200mlの三口フラスコに前記化合物B(分子量=398.08)5.1g(12.8mmol)、アセトニトリル25mlを加えて、氷冷下で攪拌しているところに塩化アクリロイル(和光純薬株式会社製、製品番号:013-12485)1.27g(14.1mmol)、続いてトリエチルアミン(和光純薬株式会社製、製品番号:292-02646)2.1ml(15.4mmol)を滴下ロートでゆっくりと滴下した。氷冷下で30分攪拌した後、室温下で4時間攪拌した。その後、反応混合物を氷冷下まで冷却し、攪拌しながら水を加えた。反応混合物に酢酸エチルを加え、有機層と水層を分離し、水層を更に酢酸エチルで抽出した。集めた有機層に無水水酸化マグネシウムを加えたのち、無機塩をろ過により除き、更に重合禁止剤として4-メトキシハイドロキノン0.02gを加えてロータリーエバポレーターで濃縮してモノマーM-41(分子量=452.12)3.0gを得た。(収率:52%)
500mlの三口フラスコに無水テトラヒドロフラン200mlを入れ、窒素気流下、氷冷下において、更に水素化リチウムアルミニウム1.07g(28.2mmol)を加えて攪拌しているところに、化合物A(Exfluor社製、分子量=426.09)20g(46.9mmol)の無水テトラヒドロフラン溶液(100ml)を30分以上かけて滴下した。その後、室温下で4時間攪拌した。反応混合物をその後、氷冷したのち水を1ml、15%水酸化ナトリウム水溶液を1ml、更に水を3ml、注意深くパスツールピペットを用いて系内に滴下した。更に反応混合物を30分間攪拌した後、反応混合物をセライトろ過することによりアルミニウム残渣を取り除き、得られたろ液をロータリーエバポレーターにより減圧濃縮して化合物(B)を得た。この化合物(B)はこれ以上精製することなく、速やかに次の反応に用いた。
200mlの三口フラスコに前記化合物B(分子量=398.08)5.1g(12.8mmol)、アセトニトリル25mlを加えて、氷冷下で攪拌しているところに塩化アクリロイル(和光純薬株式会社製、製品番号:013-12485)1.27g(14.1mmol)、続いてトリエチルアミン(和光純薬株式会社製、製品番号:292-02646)2.1ml(15.4mmol)を滴下ロートでゆっくりと滴下した。氷冷下で30分攪拌した後、室温下で4時間攪拌した。その後、反応混合物を氷冷下まで冷却し、攪拌しながら水を加えた。反応混合物に酢酸エチルを加え、有機層と水層を分離し、水層を更に酢酸エチルで抽出した。集めた有機層に無水水酸化マグネシウムを加えたのち、無機塩をろ過により除き、更に重合禁止剤として4-メトキシハイドロキノン0.02gを加えてロータリーエバポレーターで濃縮してモノマーM-41(分子量=452.12)3.0gを得た。(収率:52%)
前記モノマー(M-41)の合成と同様にして、化合物(C)~(D)より、それぞれモノマー(M-45)(分子量=402)及び(M-46)(分子量=568)を得た。
<モノマー(M-51)、(M-52)及び(M-53)の合成>
モノマー(M-51)の合成
100mlの三口フラスコに2-フルオロエタノール(和光純薬工業株式会社製、製品番号:065-01891)2.9g(45.3mmol)、アセトニトリル29mlを加えて窒素気流下で攪拌しているところに氷冷下で攪拌しているところに、塩化アクリロイル(和光純薬株式会社製、製品番号:013-12485)4.0ml(49.8mmol)、を加えた。更にトリエチルアミン(和光純薬株式会社製、製品番号:292-02646)7.6ml(54.3mmol)を30分以上かけて滴下した。滴下終了後、氷冷却下で1時間攪拌した後、徐々に室温まで昇温した。反応混合物に水、酢酸エチルを加えて、抽出したのち、集めた酢酸エチル層を無水硫酸マグネシウムに乾燥させた。有機層を常圧で濃縮したのち、水流アスピレータで減圧蒸留(40℃/18mmHg)を実施し、化合物(M-51)を0.91g得た。(収率:17%)
1H-NMR(400MHz)d=6.47(dd,1H,J=2,23Hz),6.17(dd,1H,J=14,23Hz),5.89(dd,1H,J=2,14Hz),4.34-4.76(m,4H).
100mlの三口フラスコに2-フルオロエタノール(和光純薬工業株式会社製、製品番号:065-01891)2.9g(45.3mmol)、アセトニトリル29mlを加えて窒素気流下で攪拌しているところに氷冷下で攪拌しているところに、塩化アクリロイル(和光純薬株式会社製、製品番号:013-12485)4.0ml(49.8mmol)、を加えた。更にトリエチルアミン(和光純薬株式会社製、製品番号:292-02646)7.6ml(54.3mmol)を30分以上かけて滴下した。滴下終了後、氷冷却下で1時間攪拌した後、徐々に室温まで昇温した。反応混合物に水、酢酸エチルを加えて、抽出したのち、集めた酢酸エチル層を無水硫酸マグネシウムに乾燥させた。有機層を常圧で濃縮したのち、水流アスピレータで減圧蒸留(40℃/18mmHg)を実施し、化合物(M-51)を0.91g得た。(収率:17%)
1H-NMR(400MHz)d=6.47(dd,1H,J=2,23Hz),6.17(dd,1H,J=14,23Hz),5.89(dd,1H,J=2,14Hz),4.34-4.76(m,4H).
モノマー(M-52)の合成
200mlの三口フラスコにp-トリフルオロメチルフェノール(和光純薬工業株式会社製、製品番号:327-68402)8.1g(50.0mmol)、アセトニトリル40mlを加えて窒素気流下で攪拌しているところに氷冷下で攪拌しているところに、塩化アクリロイル(和光純薬株式会社製、製品番号:013-12485)4.4ml(55.0mmol)、を加えた。更にトリエチルアミン(和光純薬株式会社製、製品番号:292-02646)8.4ml(59.95mmol)を30分以上かけて滴下した。滴下終了後、氷冷却下で1時間攪拌した後、徐々に室温まで昇温した。反応混合物に水、酢酸エチルを加えて、抽出したのち、集めた酢酸エチル層を無水硫酸マグネシウムに乾燥させた。有機層を減圧濃縮したのち、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、化合物(M-52)を9.75g得た。(収率:90%)
1H-NMR(400MHz)d=7.67(dd,1H,J=2,12Hz),7.27(dd,2H,J=12Hz),6.65(br.dd,1H,J=1.2,23Hz),6.34(br.ddd,J=1.214,23Hz),6.07(br.dd,1H,J=1.2,14Hz).
200mlの三口フラスコにp-トリフルオロメチルフェノール(和光純薬工業株式会社製、製品番号:327-68402)8.1g(50.0mmol)、アセトニトリル40mlを加えて窒素気流下で攪拌しているところに氷冷下で攪拌しているところに、塩化アクリロイル(和光純薬株式会社製、製品番号:013-12485)4.4ml(55.0mmol)、を加えた。更にトリエチルアミン(和光純薬株式会社製、製品番号:292-02646)8.4ml(59.95mmol)を30分以上かけて滴下した。滴下終了後、氷冷却下で1時間攪拌した後、徐々に室温まで昇温した。反応混合物に水、酢酸エチルを加えて、抽出したのち、集めた酢酸エチル層を無水硫酸マグネシウムに乾燥させた。有機層を減圧濃縮したのち、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、化合物(M-52)を9.75g得た。(収率:90%)
1H-NMR(400MHz)d=7.67(dd,1H,J=2,12Hz),7.27(dd,2H,J=12Hz),6.65(br.dd,1H,J=1.2,23Hz),6.34(br.ddd,J=1.214,23Hz),6.07(br.dd,1H,J=1.2,14Hz).
モノマー(M-53)の合成
100mlの三口フラスコに3,5-ビストリフルオロメチルフェノール(和光純薬工業株式会社製、製品番号:329-34071)5.0g(38.2mmol)、アセトニトリル50mlを加えて窒素気流下、氷冷下でかくはんしているところに、塩化アクリロイル(和光純薬株式会社製、製品番号:013-12485)1.9ml(23.9mmol)、を加えた。更にトリエチルアミン(和光純薬株式会社製、製品番号:292-02646)3.6ml(26.1mmol)を30分以上かけて滴下した。滴下終了後、氷冷却下で1時間攪拌した後、徐々に室温まで昇温した。反応混合物に水、酢酸エチルを加えて、抽出したのち、集めた酢酸エチル層を無水硫酸マグネシウムに乾燥させた。有機層を減圧濃縮したのち、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、化合物(M-53)を3.03g得た。(収率:49%)
1H-NMR(400MHz)d=7.78(br.s,1H),7.65(br.s2H),6.68(dd,1H,J=1.6,23Hz),6.34(dd,J=14,23Hz),6.12(dd,1H,J=1.6,14Hz).
100mlの三口フラスコに3,5-ビストリフルオロメチルフェノール(和光純薬工業株式会社製、製品番号:329-34071)5.0g(38.2mmol)、アセトニトリル50mlを加えて窒素気流下、氷冷下でかくはんしているところに、塩化アクリロイル(和光純薬株式会社製、製品番号:013-12485)1.9ml(23.9mmol)、を加えた。更にトリエチルアミン(和光純薬株式会社製、製品番号:292-02646)3.6ml(26.1mmol)を30分以上かけて滴下した。滴下終了後、氷冷却下で1時間攪拌した後、徐々に室温まで昇温した。反応混合物に水、酢酸エチルを加えて、抽出したのち、集めた酢酸エチル層を無水硫酸マグネシウムに乾燥させた。有機層を減圧濃縮したのち、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、化合物(M-53)を3.03g得た。(収率:49%)
1H-NMR(400MHz)d=7.78(br.s,1H),7.65(br.s2H),6.68(dd,1H,J=1.6,23Hz),6.34(dd,J=14,23Hz),6.12(dd,1H,J=1.6,14Hz).
<プレポリマー(M-71)~(M-74)の合成>
プレポリマー(M-71)の合成
100ml三口フラスコ中に、アクリル酸2,2,2-トリフルオロエチル(M-1)3.3g(21mmol)、ポリ(エチレングリコール)メチルエーテルアクリレート(M-31)(Aldrich社製、製品番号:45,499-0、Mn=480)6.7g、ブレンマーAE400(日油株式会社製)1.0g(約1.9mmol)、更にメチルエチルケトン24.7gを加え、窒素気流下、内温75℃で攪拌しているところに、V-601(和光純薬株式会社製)89mg(0.39mmol)のメチルエチルケトン1g溶液を滴下し、反応混合物を窒素気流下、75℃で6時間攪拌することでポリマー(E)のメチルエチルケトン溶液を得た。(質量平均分子量:71,000、数平均分子量:32,000、測定:東ソー株式会社製HLC-8220GPC)続いて、ポリマー混合物を氷冷下、塩化アクリロイル(和光純薬株式会社製、製品番号:013-12485)を0.17ml(2.1mmol),加えて攪拌しているところにトリエチルアミン0.32ml(2.3mmol)を滴下した。反応混合物は氷冷下で1時間攪拌したあと更に室温に昇温し、1時間攪拌した。生じた塩酸塩をろ過により取り除いた後、ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮し、プレポリマー(M-71)を得た。
100ml三口フラスコ中に、アクリル酸2,2,2-トリフルオロエチル(M-1)3.3g(21mmol)、ポリ(エチレングリコール)メチルエーテルアクリレート(M-31)(Aldrich社製、製品番号:45,499-0、Mn=480)6.7g、ブレンマーAE400(日油株式会社製)1.0g(約1.9mmol)、更にメチルエチルケトン24.7gを加え、窒素気流下、内温75℃で攪拌しているところに、V-601(和光純薬株式会社製)89mg(0.39mmol)のメチルエチルケトン1g溶液を滴下し、反応混合物を窒素気流下、75℃で6時間攪拌することでポリマー(E)のメチルエチルケトン溶液を得た。(質量平均分子量:71,000、数平均分子量:32,000、測定:東ソー株式会社製HLC-8220GPC)続いて、ポリマー混合物を氷冷下、塩化アクリロイル(和光純薬株式会社製、製品番号:013-12485)を0.17ml(2.1mmol),加えて攪拌しているところにトリエチルアミン0.32ml(2.3mmol)を滴下した。反応混合物は氷冷下で1時間攪拌したあと更に室温に昇温し、1時間攪拌した。生じた塩酸塩をろ過により取り除いた後、ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮し、プレポリマー(M-71)を得た。
プレポリマー(M-72)の合成
100ml三口フラスコ中に、前述のようにして合成したポリマー(E)のメチルエチルケトン30質量%溶液3gに、カレンズAOI(登録商標、昭和電工株式会社製)0.026g(0.18mmol)、TEMPO(東京化成工業株式会社製、製品番号T1560)0.29g(0.0019mmol)、ネオスタンU-600(日東化成株式会社製)を0.86mg(0.0013mmol)加えたのち、窒素気流下で45℃で6時間加熱攪拌することでポリマー(M-72)を合成した。
100ml三口フラスコ中に、前述のようにして合成したポリマー(E)のメチルエチルケトン30質量%溶液3gに、カレンズAOI(登録商標、昭和電工株式会社製)0.026g(0.18mmol)、TEMPO(東京化成工業株式会社製、製品番号T1560)0.29g(0.0019mmol)、ネオスタンU-600(日東化成株式会社製)を0.86mg(0.0013mmol)加えたのち、窒素気流下で45℃で6時間加熱攪拌することでポリマー(M-72)を合成した。
プレポリマー(M-73)の合成
100ml三口フラスコ中に、前述のようにして合成したポリマー(E)のメチルエチルケトン30質量%溶液3gに、グリシジルメタクリレート(東京化成工業株式会社製、製品番号:M0590)g(mmol)、TEMPO(東京化成工業株式会社製、製品番号T1560)0.29g(0.0019mmol)、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド(東京化成工業株式会社、製品番号:B0444)0.007g(0.032mmol)加えたのち、窒素気流下で70℃で6時間加熱攪拌することでポリマー(M-73)を合成した。
100ml三口フラスコ中に、前述のようにして合成したポリマー(E)のメチルエチルケトン30質量%溶液3gに、グリシジルメタクリレート(東京化成工業株式会社製、製品番号:M0590)g(mmol)、TEMPO(東京化成工業株式会社製、製品番号T1560)0.29g(0.0019mmol)、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド(東京化成工業株式会社、製品番号:B0444)0.007g(0.032mmol)加えたのち、窒素気流下で70℃で6時間加熱攪拌することでポリマー(M-73)を合成した。
プレポリマー(M-74)の合成:VEEA
100ml三口フラスコ中に、上記のスキームのようにして合成したポリマー(F)のメチルエチルケトン30質量%溶液3gに、VEEA(日本触媒株式会社製)0.03g(0.16mmol)、TEMPO(東京化成工業株式会社製、製品番号T1560)0.29g(0.0019mmol)、トリフルオロ酢酸(和光純薬株式会社製)を1滴加えたのち、窒素気流下で40℃で2時間加熱攪拌することでポリマー(M-74)を合成した。
100ml三口フラスコ中に、上記のスキームのようにして合成したポリマー(F)のメチルエチルケトン30質量%溶液3gに、VEEA(日本触媒株式会社製)0.03g(0.16mmol)、TEMPO(東京化成工業株式会社製、製品番号T1560)0.29g(0.0019mmol)、トリフルオロ酢酸(和光純薬株式会社製)を1滴加えたのち、窒素気流下で40℃で2時間加熱攪拌することでポリマー(M-74)を合成した。
〔実施例1〕
30ml褐色バイアル瓶に、アクリル酸2,2,2-トリフルオロエチル(M-1)(東京化成工業株式会社製、製品番号:A1152)を2.8g、ポリエチレングリコールジアクリレート(M-21)(Aldrich社製、製品番号:45,500-8、Mn=700)を1.2gを混合して30分攪拌したのち、更に1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(Aldrich社製、製品番号:40,561-2)を4mg加えて、更に30分攪拌した。
10cm四方のガラス板上に、多孔質親水性ポリビニリデンジフルオライド(PVDF)膜(ミリポア製親水性デュラポア(登録商標)、孔径0.1μm)を静置しているところに前記モノマー混合物を浸漬させ、更に、もう一枚の10cm四方のガラス板で上下より挟みこみ、圧着することにより膜中の気泡を除去した。この二枚のガラス板に挟み込まれたモノマー浸漬PVDF膜をセン特殊光源株式会社製光硬化装置(TCT1000B-28HE)を用いて、10mWにて27秒間露光させた。その後、ガラス板を取り出した後、メタノールに浸漬させ、ガラスとPVDF複合膜を剥離させた後、真空ポンプにて減圧乾燥を6時間実施した。乾燥後のPVDF複合膜の膜厚をエレクトリックマイクロメーター(アンリツ製、K-402B)により測定した結果120μmであった。得られたPVDF複合膜をガス透過率測定装置(GTRテック社製GTR-10XF)にて水素(H2)、二酸化炭素(CO2)、窒素(N2)、メタン(CH4)のガス透過率を測定した。膜のガス透過性は膜厚に反比例するために素材間差を比較するためにガス透過率測定値に膜厚を乗じたガス透過係数(Permeability)を算出することにより比較した。ガス透過係数の単位はBarrer(バーラー)単位(1Barrer=1×10-10cm3(STP)・cm/(s・cm2・cmHg))で表した。
30ml褐色バイアル瓶に、アクリル酸2,2,2-トリフルオロエチル(M-1)(東京化成工業株式会社製、製品番号:A1152)を2.8g、ポリエチレングリコールジアクリレート(M-21)(Aldrich社製、製品番号:45,500-8、Mn=700)を1.2gを混合して30分攪拌したのち、更に1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(Aldrich社製、製品番号:40,561-2)を4mg加えて、更に30分攪拌した。
10cm四方のガラス板上に、多孔質親水性ポリビニリデンジフルオライド(PVDF)膜(ミリポア製親水性デュラポア(登録商標)、孔径0.1μm)を静置しているところに前記モノマー混合物を浸漬させ、更に、もう一枚の10cm四方のガラス板で上下より挟みこみ、圧着することにより膜中の気泡を除去した。この二枚のガラス板に挟み込まれたモノマー浸漬PVDF膜をセン特殊光源株式会社製光硬化装置(TCT1000B-28HE)を用いて、10mWにて27秒間露光させた。その後、ガラス板を取り出した後、メタノールに浸漬させ、ガラスとPVDF複合膜を剥離させた後、真空ポンプにて減圧乾燥を6時間実施した。乾燥後のPVDF複合膜の膜厚をエレクトリックマイクロメーター(アンリツ製、K-402B)により測定した結果120μmであった。得られたPVDF複合膜をガス透過率測定装置(GTRテック社製GTR-10XF)にて水素(H2)、二酸化炭素(CO2)、窒素(N2)、メタン(CH4)のガス透過率を測定した。膜のガス透過性は膜厚に反比例するために素材間差を比較するためにガス透過率測定値に膜厚を乗じたガス透過係数(Permeability)を算出することにより比較した。ガス透過係数の単位はBarrer(バーラー)単位(1Barrer=1×10-10cm3(STP)・cm/(s・cm2・cmHg))で表した。
〔比較例1及び比較例2〕
酢酸セルロース、ポリイミドについては文献値(松本幹治、高圧ガス、Vol.39、No.8、5 (2002))を参考とした。酢酸セルロースの非対称膜は例えば、中尾真一、吉川正和監修、膜学実験法-人工膜編-(日本膜学会)の3~8頁に記載の方法などを参考として調製することができる。
酢酸セルロース、ポリイミドについては文献値(松本幹治、高圧ガス、Vol.39、No.8、5 (2002))を参考とした。酢酸セルロースの非対称膜は例えば、中尾真一、吉川正和監修、膜学実験法-人工膜編-(日本膜学会)の3~8頁に記載の方法などを参考として調製することができる。
〔比較例3〕
実施例1のアクリル酸2,2,2-トリフルオロエチルの(M-1)代わりに、ポリ(エチレングリコール)メチルエーテルアクリレート(M-31)(Aldrich社製、製品番号:45,499-0、Mn=454)2.8gに変えた以外は実施例1と同様の操作によりPVDF複合膜を作製し、ガス透過率を測定した。
実施例1のアクリル酸2,2,2-トリフルオロエチルの(M-1)代わりに、ポリ(エチレングリコール)メチルエーテルアクリレート(M-31)(Aldrich社製、製品番号:45,499-0、Mn=454)2.8gに変えた以外は実施例1と同様の操作によりPVDF複合膜を作製し、ガス透過率を測定した。
〔実施例2~16、比較例4~6〕
前記実施例1の(M-1)の代わりに(M-3)に(実施例2)、(M-1)の代わりに(M-31)に、(M-21)の代わりに(M-45)に(実施例3)、(M-1)の代わりに(M-31)に、(M-21)の代わりに(M-46)に(実施例4)、(M-21)の代わりに(M-45)に(実施例5)、(M-21)の代わりに(M-46)に(実施例6)、(M-1)の代わりに(M-41)に(実施例7)、(M-1)の代わりに(M-9)に、PVDFの代わりに多孔質親水性ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)膜(ミリポア製親水性オムニポア(登録商標)、孔径0.1μm)に(実施例8)、(M-1)の代わりに(M-10)に(実施例9)、(M-1)の代わりに(M-51)に(実施例10)、(M-1)の代わりに(M-52)に(実施例11)、(M-1)の代わりに(M-53)に(実施例12)、(M-1)及び(M-21)の代わりに(M-71)に(実施例13)、(M-1)及び(M-21)の代わりに(M-72)に(実施例14)、(M-1)及び(M-21)の代わりに(M-73)に(実施例15)、(M-1)及び(M-21)の代わりに(M-74)に(実施例16)、比較例3のポリエチレングリコールジアクリレート(M-21)(Aldrich社製、製品番号:45,500-8、Mn=700)をポリエチレングリコールジアクリレート(M-21)(Aldrich社製、製品番号:47,652-9、Mn=575)に(比較例4)、比較例3のポリエチレングリコールジアクリレート(M-21)(Aldrich社製、製品番号:45,500-8、Mn=700)をポリエチレングリコールジアクリレート(M-21)(Aldrich社製、製品番号:43,744-1、Mn=258)に(比較例5)に、実施例1のアクリル酸2,2,2-トリフルオロエチル(M-1)の代わりにアクリル酸エチル(和光純薬株式会社製、製品番号:056-00426、比較例6)に、変えた以外は同様の操作によりPVDFあるいはPTFE複合膜を作製し、ガス透過率を測定した。
前記実施例1の(M-1)の代わりに(M-3)に(実施例2)、(M-1)の代わりに(M-31)に、(M-21)の代わりに(M-45)に(実施例3)、(M-1)の代わりに(M-31)に、(M-21)の代わりに(M-46)に(実施例4)、(M-21)の代わりに(M-45)に(実施例5)、(M-21)の代わりに(M-46)に(実施例6)、(M-1)の代わりに(M-41)に(実施例7)、(M-1)の代わりに(M-9)に、PVDFの代わりに多孔質親水性ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)膜(ミリポア製親水性オムニポア(登録商標)、孔径0.1μm)に(実施例8)、(M-1)の代わりに(M-10)に(実施例9)、(M-1)の代わりに(M-51)に(実施例10)、(M-1)の代わりに(M-52)に(実施例11)、(M-1)の代わりに(M-53)に(実施例12)、(M-1)及び(M-21)の代わりに(M-71)に(実施例13)、(M-1)及び(M-21)の代わりに(M-72)に(実施例14)、(M-1)及び(M-21)の代わりに(M-73)に(実施例15)、(M-1)及び(M-21)の代わりに(M-74)に(実施例16)、比較例3のポリエチレングリコールジアクリレート(M-21)(Aldrich社製、製品番号:45,500-8、Mn=700)をポリエチレングリコールジアクリレート(M-21)(Aldrich社製、製品番号:47,652-9、Mn=575)に(比較例4)、比較例3のポリエチレングリコールジアクリレート(M-21)(Aldrich社製、製品番号:45,500-8、Mn=700)をポリエチレングリコールジアクリレート(M-21)(Aldrich社製、製品番号:43,744-1、Mn=258)に(比較例5)に、実施例1のアクリル酸2,2,2-トリフルオロエチル(M-1)の代わりにアクリル酸エチル(和光純薬株式会社製、製品番号:056-00426、比較例6)に、変えた以外は同様の操作によりPVDFあるいはPTFE複合膜を作製し、ガス透過率を測定した。
〔ガス透過率、ガラス転移点〕
実施例1~16及び比較例1~6の複合膜について、上記のようにガス透過率を測定した。ガス透過係数を以下の表1に示す。また各モノマーの組み合わせにおいて、単独で光硬化させて得られた膜をEXSTAR TG/DTA6200(SIIナノテクノロジー株式会社)にてTGDTA測定を実施し、熱分解温度を測定した後、、SIIナノテクノロジー株式会社製、DSC-6200にてガラス転移点を測定した。
実施例1~16及び比較例1~6の複合膜について、上記のようにガス透過率を測定した。ガス透過係数を以下の表1に示す。また各モノマーの組み合わせにおいて、単独で光硬化させて得られた膜をEXSTAR TG/DTA6200(SIIナノテクノロジー株式会社)にてTGDTA測定を実施し、熱分解温度を測定した後、、SIIナノテクノロジー株式会社製、DSC-6200にてガラス転移点を測定した。
表中のMnは数平均分子量、Mwは分子量を表す。
本発明のガス分離膜の二酸化炭素透過性は、実用化されている酢酸セルロースやポリイミドと比較して10倍以上CO2ガス透過性に優れることがわかる。またガラス転移点から本発明の分離膜素材は柔軟なゴム状膜であることが分かる。
〔ガス分離選択性〕
ガス分離選択性はCO2とH2及びCO2とCH4の各ガス単独の透過率あるいは透過係数の除算による理想分離選択性として算出した。実施例1~16及び比較例1~6の複合膜の気体分離選択性を以下の表2に示す。
ガス分離選択性はCO2とH2及びCO2とCH4の各ガス単独の透過率あるいは透過係数の除算による理想分離選択性として算出した。実施例1~16及び比較例1~6の複合膜の気体分離選択性を以下の表2に示す。
本発明の高分子化合物を用いた分離膜は、酢酸セルロースやポリイミドのような代表的なガラス状高分子膜とは異なり、CO2/H2分離選択性は逆の分離選択性を有していることがわかる。更にCO2/CH4分離選択性については、文献(Industrial.Engineering.Chemistry.Research.2002,41,1393.)に記載の実用膜の水準10-15と比較して大きく優れる。本発明のように、CO2/H2逆の分離選択性を有しつつ、高いCO2/CH4分離選択性を両立しているガス分離膜は、柔軟な膜構造であることを意味し、すなわち従来の酢酸セルロースやポリイミドのようなガラス状高分子膜で知られている1MPa以上の高圧あるいは高CO2濃度での分離といった厳しい使用環境において膜の可塑化による分離選択性の低下現象を、本発明のガス分離膜では最小限度に抑制することが出来ることが期待される。
〔加温、加湿条件(40℃、80%湿度)における気体分離選択性〕
実施例1~16及び比較例3~6のPVDFあるいはPTFE複合膜について、加温、加湿条件(40℃、Rh80%湿度)におけるガス分離選択性を比較した。
実施例1~16及び比較例3~6のPVDFあるいはPTFE複合膜について、加温、加湿条件(40℃、Rh80%湿度)におけるガス分離選択性を比較した。
〔膨潤率〕
次に、実施例1~16及び比較例3~6のPVDFあるいはPTFE複合膜を100mlのイオン交換水に浸漬させた。室温下で24時間静置したのち、イオン交換水から取り出し、ろ紙で膜表面の余分な水分を除去したのち浸漬前後における質量変化より膨潤率(膨潤率0を質量変化なしと規定)を調べた。
次に、実施例1~16及び比較例3~6のPVDFあるいはPTFE複合膜を100mlのイオン交換水に浸漬させた。室温下で24時間静置したのち、イオン交換水から取り出し、ろ紙で膜表面の余分な水分を除去したのち浸漬前後における質量変化より膨潤率(膨潤率0を質量変化なしと規定)を調べた。
本発明のPVDF及びPTFE複合膜は水浸漬における質量変化が小さく、膨潤しにくい膜であることがわかる。前述したように、本発明のガス分離膜はモジュール又はエレメントと呼ばれる膜が充填されたパッケージとして使用することができる。ガス分離膜は、表4に記載したように、高分子鎖の絡み合いが緩くなると分離選択性が低下する。更に、ガス分離膜をモジュールとして使用する場合は膜表面積を大きくするために高密度に充填されているため、水などの不純物の影響により膜が膨潤してしまうとモジュール内部の空間を押し潰し、高圧条件において圧力が不均一にかかることに伴う膜破壊又はモジュール破壊などの問題が生じる懸念がある。このため、不純物存在下での膨潤率は低いことが好ましい。
本発明のガス分離膜は加温、加湿条件でのガス分離選択性の低下を大きく抑制できていることがわかる。
上記の結果より、本発明のガス分離膜は、優れたガス透過性とガス分離選択性、特に二酸化炭素の透過性に優れ、二酸化炭素/メタン、二酸化炭素/水素の分離膜として優れる。特に加温、加湿条件における分離選択性の低下が抑制される。本発明のガス分離膜及び複合膜により、優れた気体分離方法、ガス分離膜モジュール、ガス分離膜モジュールを含むガス分離、ガス精製装置を提供することができる。
本発明のガス分離膜及び複合膜は優れたガス透過性と分離選択性を有する。特に二酸化炭素の透過性に優れ、二酸化炭素/メタン、二酸化炭素/水素の分離選択性が優れる性能を有する。特に加湿条件での安定性及び分離選択性に優れる。また、本発明のガス分離膜及び複合膜の製造方法は、該ガス分離膜及び該複合膜を効率よく形成し得る。更に、本発明のガス分離膜又は複合膜を用いることにより高性能のガス分離膜モジュール、ガス分離、ガス精製装置に適用することができる。
本発明を詳細にまた特定の実施態様を参照して説明したが、本発明の精神と範囲を逸脱することなく様々な変更や修正を加えることができることは当業者にとって明らかである。
本出願は、2009年7月21日出願の日本特許出願(特願2009-170508)に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。
本出願は、2009年7月21日出願の日本特許出願(特願2009-170508)に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。
Claims (17)
- 少なくとも1種の下記一般式(I)で表される部分構造と、少なくとも1種の下記の一般式(II)で表される部分構造とを含むポリマーを含有することを特徴とするガス分離膜。
ただし、一般式(I)のRa及び一般式(II)のL1の少なくともいずれか一方は、フッ素原子を有する。 - 少なくとも1種の下記一般式(Ia)で表される化合物と、少なくとも1種の下記の一般式(IIa)で表される化合物とを含有する組成物により形成されたことを特徴とするガス分離膜。
- 少なくとも1種の下記一般式(Ib)で表される化合物と、少なくも1種の下記の一般式(IIb)で表される化合物とを含有する組成物により形成されたことを特徴とするガス分離膜。
- 少なくとも1種の請求項4に記載の一般式(Ia)で表される化合物と、少なくも1種の請求項5に記載の一般式(IIb)で表される化合物とを含有する組成物により形成されたことを特徴とするガス分離膜。
- ガラス転移点が50℃未満であることを特徴とする請求項1~8のいずれか一項に記載のガス分離膜。
- 多孔質性の支持体の少なくとも表面に、請求項1~8のいずれか一項に記載のガス分離膜を形成することを特徴とする複合膜。
- 少なくとも1種の下記一般式(I)で表される部分構造と、少なくとも1種の下記の一般式(II)で表される部分構造とを含むポリマーを含有するガス分離膜を、活性放射線を照射することにより形成することを特徴とする請求項1~9のいずれか一項に記載のガス分離膜の製造方法。
ただし、一般式(I)のRa及び一般式(II)のL1の少なくともいずれか一方は、フッ素原子を有する。 - 多孔質性の支持体の少なくとも表面に、請求項1~9のいずれか一項に記載のガス分離膜を、活性放射線を照射することにより形成することを特徴とする請求項10に記載の複合膜の製造方法。
- 少なくとも一種の酸性ガスを含むガス混合物から酸性ガスを気体分離膜によって分離する方法において、請求項1~9のいずれか一項に記載のガス分離膜又は請求項10に記載の複合膜を用いることを特徴とするガス混合物の分離方法。
- 酸性ガスが二酸化炭素又は硫化水素であることを特徴とする請求項13に記載のガス混合物の分離方法。
- 前記ガス混合物の主成分が二酸化炭素及びメタン又は二酸化炭素及び水素であることを特徴とする請求項13に記載のガス混合物の分離方法。
- 請求項1~9のいずれか一項に記載のガス分離膜又は請求項10に記載の複合膜を含むガス分離膜モジュール。
- 請求項16に記載のガス分離膜モジュールを少なくとも1種を含む気体分離装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009-170508 | 2009-07-21 | ||
JP2009170508 | 2009-07-21 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
WO2011010676A1 true WO2011010676A1 (ja) | 2011-01-27 |
Family
ID=43499148
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PCT/JP2010/062272 WO2011010676A1 (ja) | 2009-07-21 | 2010-07-21 | ガス分離膜及び複合膜、それらの製造方法、それらを用いたモジュール、分離装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2011041938A (ja) |
WO (1) | WO2011010676A1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013024594A1 (ja) * | 2011-08-17 | 2013-02-21 | 日東電工株式会社 | 二酸化炭素分離膜の製造方法および二酸化炭素分離膜 |
CN105431220A (zh) * | 2013-07-30 | 2016-03-23 | 富士胶片株式会社 | 酸性气体分离用层积体和具备该层积体的酸性气体分离用组件 |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2546320A1 (en) | 2011-07-13 | 2013-01-16 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Wavelength converting element |
WO2016047351A1 (ja) * | 2014-09-22 | 2016-03-31 | 富士フイルム株式会社 | ガス分離膜、ガス分離モジュール、ガス分離装置、及びガス分離方法 |
WO2018159563A1 (ja) * | 2017-02-28 | 2018-09-07 | 富士フイルム株式会社 | 分離用複合膜、分離膜モジュール、分離装置、分離膜形成用組成物、及び分離用複合膜の製造方法 |
KR102268129B1 (ko) | 2017-10-16 | 2021-06-22 | 주식회사 엘지화학 | 비반응성 불소계 화합물 및 이를 포함하는 광중합성 조성물 |
KR101986119B1 (ko) * | 2018-01-23 | 2019-09-03 | 연세대학교 산학협력단 | 자가-가교가 가능한 공중합체를 이용한 기체 분리막 및 그 제조방법 |
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-
2010
- 2010-07-20 JP JP2010163441A patent/JP2011041938A/ja active Pending
- 2010-07-21 WO PCT/JP2010/062272 patent/WO2011010676A1/ja active Application Filing
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2011041938A (ja) | 2011-03-03 |
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