WO2013015335A1 - ガス分離複合膜、その製造方法、それを用いたガス分離モジュール、ガス分離装置およびガス分離方法 - Google Patents
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Definitions
- the present invention relates to a gas separation composite membrane, a production method thereof, a gas separation module, a gas separation apparatus and a gas separation method using the same.
- a material composed of a polymer compound has gas permeability specific to each material. Based on the property, it is known that a desired gas component can be separated by a film made of a specific polymer material.
- the industrial use of this gas separation membrane is related to the problem of global warming in recent years.
- Carbon dioxide can be saved from large-scale carbon dioxide generation sources such as thermal power plants, cement plants, and steelworks blast furnaces. Separation and collection have been studied and are attracting attention as a means for solving environmental problems.
- natural gas and biogas gas generated by fermentation and anaerobic digestion of biological waste, organic fertilizer, biodegradable substances, sewage, garbage, energy crops, etc.
- methane and carbon dioxide are mainly mixed gases of methane and carbon dioxide.
- Patent Documents 1 and 2 As a means for removing impurities such as carbon dioxide, a membrane separation method has been conventionally studied (Patent Documents 1 and 2).
- cellulose and polyimide have been studied as raw materials for refining natural gas.
- Patent Document 1 pp. 313-322 and Non-Patent Document 2, 3).
- Patent Document 3 In order to suppress the plasticization of the film, it is known that it is effective to introduce a crosslinked structure into the polymer compound constituting the film, and research has been continued on polyimide (Non-patent Document 1). Pp. 3-27).
- Patent Document 3 Non-Patent Documents 4, 5, 6 and the like are examples in which a cross-linked membrane is used as a gas separation membrane.
- Patent Document 3 Non-Patent Documents 4, 5, and 6
- a high temperature of 100 ° C. or higher is required for crosslinking, or a very long time is required for crosslinking. Therefore, it is still insufficient to provide a practical gas separation membrane having high durability and durability while maintaining high gas permeability and separation selectivity.
- the present invention provides a gas separation composite membrane that achieves high gas separation selectivity while achieving excellent gas permeability while having excellent gas permeability, a method for producing the same, and a method for producing the same.
- An object is to provide a module, a gas separation device, and a gas separation method used.
- the cross-linked polyimide resin is a gas separation composite membrane having a structure in which a polyimide compound is cross-linked with a cation cross-linkable functional group derived from the molecule or another molecule.
- the cation crosslinkable functional group includes at least one selected from the group consisting of an oxirane group, an oxetane group, a vinyl ether group, an alkenyl ether group, an arene ether group and a ketene acetal group.
- the polyimide compound includes a repeating unit represented by the following general formula (I), at least one repeating unit represented by the following general formula (II-a) or (II-b), and the following general formula: 6.
- the gas separation composite membrane according to any one of (1) to (4), which contains at least one repeating unit represented by (III-a) or (III-b).
- R represents an atomic group selected from the group consisting of the following general formulas (Ia) to (Ig)).
- X 1 represents a single bond or a divalent linking group.
- Y 1 represents a methylene group or a vinylene group.
- R 1 and R 2 each independently represent Represents a hydrogen atom or a substituent, and R 1 and R 2 may be bonded to each other to form a ring, and * represents a bonding site to the carbonyl group of the imide in the general formula (I).
- R 3 represents a substituent
- l1 represents an integer of 0 to 4.
- R 4 and R 5 each independently represents a substituent.
- R 4 and R 5 may be bonded to each other to form a ring
- m1 and n1 each independently represents an integer of 0 to 4.
- X 2 represents a single bond or a divalent linking group.
- R 6 , R 7 and R 8 each independently represents a substituent, and R 7 and R 8 are bonded to each other to form a ring.
- J 1 and J 2 and W 1 each independently represents a single bond or a divalent linking group, l2, m2 and n2 each independently represents an integer of 0 to 3.
- L 1 represents a divalent linking group.
- the supplied gas is a mixed gas of carbon dioxide and methane, the permeation rate of carbon dioxide at 40 ° C. and 8 atm is over 20 GPU, and the permeation rate ratio of carbon dioxide and methane (R CO2 / R).
- the gas separation composite membrane according to any one of (1) to (8), wherein CH4 ) is 20 or more.
- a method for producing a gas separation composite membrane having a gas separation layer containing a crosslinked polyimide resin on the upper side of a gas permeable support layer A coating liquid containing a polyimide compound having a cationic crosslinkable functional group and a crosslinking agent is applied to the upper side of the support layer, and the coating liquid is irradiated with actinic radiation or heat is applied to the crosslinkable functional group.
- (11) A gas separation module comprising the gas separation composite membrane according to any one of (1) to (9).
- (12) A gas separation device comprising the gas separation module according to (11).
- the gas separation composite membrane of the present invention realizes high gas separation selectivity while having excellent gas permeability, and further has high membrane forming suitability.
- a gas separation composite membrane that exhibits the above-described high performance can be manufactured.
- the gas separation composite membrane of the present invention has a gas separation layer containing a crosslinked polyimide resin on the gas permeable support layer.
- the crosslinked polyimide resin is obtained by crosslinking a polyimide compound with a cationic crosslinkable functional group in the molecule or derived from another molecule.
- This polyimide resin having a unique cross-linked structure exhibits an excellent effect for separating gases such as carbon dioxide. About this reason (action mechanism), although an unclear point is also included, it estimates as follows.
- the polyimide polymer chain is linked by a specific cationic crosslinking functional group, so that the crosslinking form is optimized, and the unique diffusion in combination with the solubility / diffusibility of the polyimide compound. It is thought that selectivity was exhibited (high gas selectivity). Further, it is considered that a crosslinked form that is homogeneous and does not deteriorate in the membrane is realized by cationic crosslinking, has good bendability, and is suitable for a thin support layer and exhibits excellent manufacturing aptitude.
- the present invention will be described in detail.
- FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a gas separation composite membrane 10 which is a preferred embodiment of the present invention.
- 1 is a gas separation layer
- 2 is a support layer which consists of a porous layer.
- FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing a gas separation composite membrane 20 which is a preferred embodiment of the present invention.
- a nonwoven fabric layer 3 is added as a support layer in addition to the gas separation layer 1 and the porous layer 2.
- the upper side of the support layer means that another layer may be interposed between the support layer and the gas separation layer.
- the direction in which the gas to be separated is supplied is “upper”, and the direction in which the separated gas is emitted is “lower”.
- the present invention is not construed as being limited by this description and the accompanying drawings.
- the gas separation composite membrane of the present invention may be formed and disposed on the surface or inner surface of a porous support (support layer), or may be formed by coating on the surface.
- a gas separation layer on at least the surface of the porous support, a composite membrane having the advantages of having both high separation selectivity, high gas permeability, and mechanical strength can be obtained.
- the thickness of the separation layer is preferably a thin film as much as possible under the condition of imparting high gas permeability while maintaining mechanical strength and separation selectivity.
- the thickness of the gas separation layer is not particularly limited, but is preferably 0.01 to 5.0 ⁇ m, and more preferably 0.1 to 2.0 ⁇ m.
- “kara” is used in the same meaning as “ ⁇ ”, and includes a numerical value or a number defined before and after that.
- the porous support (porous layer) preferably applied to the support layer is not particularly limited as long as it has the purpose of meeting mechanical strength and high gas permeability.
- it may be a raw material, it is preferably a porous film of an organic polymer, and the thickness thereof is 1 to 3000 ⁇ m, preferably 5 to 500 ⁇ m, more preferably 5 to 150 ⁇ m.
- the pore structure of this porous membrane is usually that the average pore diameter is 10 ⁇ m or less, preferably 0.5 ⁇ m or less, more preferably 0.2 ⁇ m or less, and the porosity is preferably 20 to 90%. Preferably, it is 30 to 80%.
- the gas permeability is preferably 3 ⁇ 10 ⁇ 5 cm 3 (STP) / cm 2 ⁇ sec ⁇ cmHg (30 GPU) or more in terms of carbon dioxide transmission rate.
- porous membrane materials include conventionally known polymers such as polyolefin resins such as polyethylene and polypropylene, fluorine-containing resins such as polytetrafluoroethylene, polyvinyl fluoride, and polyvinylidene fluoride, polystyrene, cellulose acetate, and polyurethane. And various resins such as polyacrylonitrile, polyphenylene oxide, polysulfone, polyethersulfone, polyimide, and polyaramid.
- the support layer is made of polyacrylonitrile, polysulfone, polyphenylene oxide from the viewpoint of achieving excellent production suitability when the polyimide compound is applied and crosslinked, and simultaneously achieving high gas permeability and separation selectivity. It is preferable that it is made of polyacrylonitrile.
- the shape of the porous membrane may be any shape such as a flat plate shape, a spiral shape, a tubular shape, and a hollow fiber shape.
- the support layer is preferably a thin and porous material because sufficient gas permeability can be secured.
- the thin film porous form is preferable.
- the above-mentioned thin and porous support layer may be damaged, and sufficient performance as a composite membrane may not be exhibited.
- the gas separation composite membrane using the cation crosslinkable polyimide compound employed in the present invention can be formed under mild conditions, exhibits excellent effects, and is suitable for both production and product quality. Can demonstrate high performance.
- a support is formed in order to further impart mechanical strength to the lower part of the porous layer (the side opposite to the gas separation layer) which is the support layer for forming the gas separation layer.
- a support include woven fabric, non-woven fabric, and net, but a non-woven fabric is preferably used from the viewpoint of film forming property and cost.
- the nonwoven fabric fibers made of polyester, polypropylene, polyacrylonitrile, polyethylene, polyamide or the like may be used alone or in combination.
- the nonwoven fabric can be produced, for example, by making a main fiber and a binder fiber uniformly dispersed in water using a circular net or a long net, and drying with a dryer.
- the molecular weight cut-off of the porous layer is preferably 100,000 or less, more preferably 70,000 to 5,000. By setting the molecular weight cut off in this range, when applying a polyimide solution on the porous support membrane, it is possible to build a thin layer with few defects while suppressing penetration into the lower layer of the support membrane. it can.
- the supplied gas is a mixed gas of carbon dioxide and methane
- the permeation rate of carbon dioxide at 40 ° C. and 8 atm is preferably more than 20 GPU, more preferably 20 to 300 GPU.
- the permeation rate ratio (R CO2 / R CH4 ) between carbon dioxide and methane is preferably 20 or more, more preferably 20-50.
- 1 GPU is 1 ⁇ 10 ⁇ 6 cm 3 (STP) / s ⁇ cm 2 ⁇ cmHg.
- the selective gas permeation involves a dissolution / diffusion mechanism in the membrane.
- a separation membrane containing a polyethyleneoxy (PEO) composition has been studied. (See Journal of Membrane Science, 1999, 160, 87-99). This is because carbon dioxide has a strong interaction with the polyethyleneoxy composition. Since this polyethyleneoxy membrane is a flexible rubber-like polymer membrane having a low glass transition temperature, the difference in diffusion coefficient due to the gas species is small, and the separation selectivity is mainly due to the effect of the difference in solubility.
- the glass transition temperature of the polyimide compound applied thereto is high, and it can be greatly improved in terms of the thermal durability of the film while exhibiting the above-described dissolution / diffusion action. it can.
- the polyimide compound forming the crosslinked polyimide resin, which is applied to the gas separation layer in the present invention, is not particularly limited, but is formed by cationic crosslinking.
- the functional group is not particularly limited as long as it can be cationically crosslinked, but preferably contains an atomic group having a cyclic structure.
- an epoxy (oxirane) group, an oxetane group, a vinyl ether group, an alkenyl ether group, an arene ether group and a ketene acetal group, or a group containing these groups is preferable.
- an oxirane group (oxirane ring), an oxetane group (oxetane ring), or a group containing these is preferable.
- the polyimide compound when the polyimide compound does not have a functional group that can be cationically crosslinked (although it may have a cationically crosslinkable functional group), the polyimide compound is allowed to coexist with the compound having the preferred cationically crosslinkable functional group, A desired crosslinked polyimide film can be obtained by applying appropriate heat or light energy.
- the polyimide compound preferably has a substituent capable of further crosslinking reaction with a compound having a cationic crosslinkable functional group.
- an amino group (amino group, An alkylamino group, an arylamino group, and a heterocyclic amino group, preferably an amino group having 0 to 30 carbon atoms, more preferably 0 to 20 carbon atoms, and particularly preferably 0 to 10 carbon atoms.
- Amino, etc. hydroxy group, mercapto group, sulfo group, carboxyl group, oxo group, nitro group, hydroxamic acid group, sulfino group, hydrazino group, imino group and the like.
- the term “compound” when the term “compound” is added at the end, it is used in the meaning of including the salt, complex, and ion thereof in addition to the compound itself. In addition, it is meant to include a derivative with a predetermined substituent or modified in a predetermined form within a range where a desired effect is exhibited. Further, in the present specification, when the term “group” is added to the end of a substituent, it means that the group may have an arbitrary substituent.
- polyimide film formation by cation crosslinking is typically divided into the following categories, taking into account the case of polyimide-derived crosslinkable functional groups and the case of other molecular crosslinkable functional groups. Is done.
- a crosslinked film is formed by combining a cationically crosslinkable compound and a polymer having a functional group that can be a proton source such as a hydroxyl group or a carboxyl group.
- both the polymer and the additive have a cationic crosslinkable functional group (for example, a combination of a polymer having an oxetane ring and an epoxy compound) to form a crosslinked film.
- the cross-linked polyimide resin of the present invention has a structure in which a polyimide compound is cross-linked with a cation cross-linkable functional group derived from the molecule or another molecule, but has a cation cross-linkable functional group before cross-linking in the side chain of the polyimide compound.
- a polyimide compound is cross-linked with a cation cross-linkable functional group derived from the molecule or another molecule, but has a cation cross-linkable functional group before cross-linking in the side chain of the polyimide compound.
- a radical crosslinkable functional group in a diamine component.
- the polyimide compound of the present invention comprises a tetracarboxylic acid component and a diamine compound component, but any tetracarboxylic acid component and diamine compound component may be used.
- the tetracarboxylic acid of the tetracarboxylic acid component and the diamine compound of the diamine compound component are aromatic, aliphatic, heterocyclic (aromatic heterocycle or non-aromatic heterocycle) tetracarboxylic acid, or diamine compound. May be.
- the tetracarboxylic acid component and the diamine compound component are preferably aromatic.
- tetracarboxylic acid component examples include a bis or tris aromatic dicarboxylic acid structure, a condensed polycyclic structure, an alicyclic structure, a heterocyclic structure, and a benzene monocyclic structure.
- a benzene monocyclic structure 1,2,4,5-benzenetetrayl and 1,2,3,4-benzenetetrayl can be mentioned, and 1,2,3,4-benzenetetrayl is preferred.
- the polyimide compound of the present invention particularly preferably contains a repeating unit represented by the following general formula (I).
- the polyimide compound of the present invention comprises a repeating unit represented by the following general formula (I), at least one repeating unit represented by the following general formula (II-a) or (II-b), and the following general formula ( Those containing at least one repeating unit represented by III-a) or (III-b) are preferred.
- R represents an atomic group selected from the group consisting of the following general formulas (Ia) to (Ig).
- X 1 represents a single bond or a divalent linking group.
- Y 1 represents a methylene group or a vinylene group.
- R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a substituent, and R 1 and R 2 may be bonded to each other to form a ring. * Represents a bonding site with the carbonyl group of the imide in the general formula (I).
- R 3 represents a substituent
- l1 represents an integer of 0 to 4.
- R 4 and R 5 each independently represent a substituent
- R 4 and R 5 may be bonded to each other to form a ring.
- m1 and n1 each independently represents an integer of 0 to 4.
- X 2 represents a single bond or a divalent linking group.
- R 6 , R 7 and R 8 each independently represent a substituent. R 7 and R 8 may be bonded to each other to form a ring.
- J 1 and J 2 and W 1 each represent a single bond or a divalent linking group.
- l2, m2, and n2 each independently represents an integer of 0 to 3.
- L 1 represents a divalent linking group, and L 2 represents a reactive group.
- p represents an integer of 0 or more. When p is 2 or more, a plurality of L 1 and J 2 may be the same or different.
- X 3 represents a single bond or a divalent linking group.
- R in the general formula (I) is sometimes referred to as a mother nucleus, and this mother nucleus (R) is represented by the general formulas (Ia), (Ia), (Ib), (Ic) It is preferable that the general formulas (Ia) and (Ic) are more preferable, and the general formula (Ia) is particularly preferable.
- ⁇ X 1 , X 2 , X 3 X 1 , X 2 and X 3 are contained in the general formulas (Ia), (II-b) and (III-b), and each independently represents a single bond or a divalent linking group.
- a single bond, —C (Ra) 2 — Ra represents a hydrogen atom or a substituent.
- Ra represents a substituent
- two Ras may be bonded to each other to form a ring.
- —O—, —SO 2 —, —CO—, —S— and more preferably —C (Ra) 2 —, —O—, —SO 2 —, —CO—. .
- Ra is preferably an alkyl group, and the alkyl group may be substituted with a halogen atom (particularly preferably a fluorine atom).
- —C (Ra) 2 — is preferably —C (CF 3 ) 2 —.
- the phrase “may be bonded to each other to form a ring” means that a ring structure may be formed by condensing with a single bond, a double bond or the like to form a condensed ring structure. May be formed.
- R 1 , R 2 R 1 and R 2 each independently represents a hydrogen atom or a substituent.
- This substituent is synonymous with what was prescribed
- R 1 and R 2 are preferably a hydrogen atom or an alkyl group, more preferably a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, and even more preferably a hydrogen atom.
- R 3 , R 4 , R 5 R 3 , R 4 and R 5 each independently represent a substituent, preferably an alkyl group, a hydroxyl group, a carboxyl group, a sulfonic acid group, an amino group or a halogen atom.
- This substituent is synonymous with what was prescribed
- l1, m1, and n1 each represents an integer of 0 to 4, preferably 1 to 4, and more preferably 3 to 4.
- R 4 and R 5 may be bonded to each other to form a ring, and R 4 and R 5 may be bonded to each other to form a divalent group such as —SO 2 —, —S—, —O—, or methylene. It may be.
- R 6 , R 7 , R 8 R 6 , R 7 and R 8 each independently represent a substituent, preferably an alkyl group, a hydroxyl group, a carboxyl group, a sulfonic acid group, an amino group or a halogen atom.
- This substituent is synonymous with what was prescribed
- l2, m2, and n2 each represents an integer of 0 to 3, preferably 1 to 3, and more preferably 2 to 3.
- R 7 and R 8 may be bonded to each other to form a ring.
- R 9 , R 10 , R 11 , R 12 and R 13 represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or an aralkyl group. Among them, * -CO-**, * -COO-**, * -CONR 9 -**, * -OCO-**, methylene group, phenylene group, or * -C 6 H 4 CO-** group It is preferable to represent.
- the preferred range of R 9 to R 13 is the same as the preferred range of the alkyl group and aryl group described in the substituent group Z described later.
- J 1 and J 2 are preferably * -CO-**, * -COO-** or * -OCO-**, and particularly preferably * -COO-**.
- ⁇ W 1 W 1 represents a single bond or a divalent linking group.
- the divalent linking group include a linear, branched or cyclic alkylene group (preferably an alkylene group having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 12 carbon atoms, and still more preferably 1 to 4 carbon atoms).
- a linear, branched or cyclic alkylene group preferably an alkylene group having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 12 carbon atoms, and still more preferably 1 to 4 carbon atoms.
- an alkyleneoxy group preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 12 carbon atoms, still more preferably carbon atoms.
- aralkylene group having 7 to 30 carbon atoms more preferably 7 to 13 carbon atoms.
- benzylidene, cinnamylidene, etc. an arylene group (preferably an arylene group having 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 15 carbon atoms, such as phenylene, cumenylene, mesitylene, tolylene, xylylene, etc.) And the like. These may further have a substituent.
- ⁇ L 1 L 1 represents a divalent linking group. Specific examples thereof include structural units represented by the following formulas (L-1) to (L-35) or a linking group constituted by a combination thereof. be able to.
- * of the following connecting group is a bond on the W 1 side, and ** is a bond on the J 2 side.
- L 1 is preferably a formula (L-1) to (L-35), an alkylene group, an alkyleneoxy group or an arylene group.
- ⁇ L 2 L 2 represents a cationically crosslinkable functional group.
- an epoxy group, an oxetane group, a vinyl ether group, an alkenyl ether group, an arene ether group and a ketene acetal group are preferable, an epoxy group, an oxetane group, a vinyl ether group and a ketene acetal group are more preferable, and an epoxy group or an oxetane group is Particularly preferred. It is also preferably used in combination with a compound containing an epoxy group and a compound containing an oxetane group.
- ⁇ P p represents an integer of 0 or more, preferably 0 to 10, and more preferably 0 to 5.
- Substituent group Z An alkyl group (preferably an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 10 carbon atoms, such as methyl, ethyl, iso-propyl, tert-butyl, n-octyl) , N-decyl, n-hexadecyl), a cycloalkyl group (preferably a cycloalkyl group having 3 to 30 carbon atoms, more preferably 3 to 20 carbon atoms, particularly preferably 3 to 10 carbon atoms, such as cyclopropyl, Cyclopentyl, cyclohexyl, etc.), an alkenyl group (preferably an alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms, more preferably 2 to 20 carbon atoms, particularly preferably 2 to 10 carbon atoms, such as vinyl, allyl, -Butenyl, 3-pentenyl, etc.), alky
- an aryl group having 6 to 12 carbon atoms such as phenyl, p-methylphenyl, naphthyl, anthranyl, etc.
- amino group amino group, alkylamino group, arylamino group, hetero
- a cyclic amino group preferably an amino group having 0 to 30 carbon atoms, more preferably 0 to 20 carbon atoms, particularly preferably 0 to 10 carbon atoms, such as amino, methylamino, dimethylamino, diethylamino, dibenzyl Amino, diphenylamino, ditolylamino, etc.
- alkoxy groups preferably having 1 carbon atom
- alkoxy groups preferably having 1 carbon atom
- an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms particularly preferably 1 to 10 carbon atoms, such as methoxy, ethoxy, butoxy, 2-ethylhexyloxy, etc.
- an aryloxy group preferably An aryloxy group having
- Heterocyclic oxy group (preferably a heterocyclic oxy group having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, and examples thereof include pyridyloxy, pyrazyloxy, pyrimidyloxy, quinolyloxy and the like. ),
- An acyl group (preferably an acyl group having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as acetyl, benzoyl, formyl, pivaloyl, etc.), alkoxy A carbonyl group (preferably an alkoxycarbonyl group having 2 to 30 carbon atoms, more preferably 2 to 20 carbon atoms, particularly preferably 2 to 12 carbon atoms, such as methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, etc.), aryloxy A carbonyl group (preferably an aryloxycarbonyl group having 7 to 30 carbon atoms, more preferably 7 to 20 carbon atoms, particularly preferably 7 to 12 carbon atoms, such as phenyloxycarbonyl), an acyloxy group ( Preferably 2-30 carbon atoms, more preferably 2-20 carbon atoms, especially Preferred are acyloxy groups having 2 to 10 carbon atoms, such as acetoxy and benzo
- alkoxycarbonylamino group preferably an alkoxycarbonylamino group having 2 to 30 carbon atoms, more preferably 2 to 20 carbon atoms, particularly preferably 2 to 12 carbon atoms, such as methoxycarbonylamino
- aryl Oxycarbonylamino group preferably an aryloxycarbonylamino group having 7 to 30 carbon atoms, more preferably 7 to 20 carbon atoms, particularly preferably 7 to 12 carbon atoms, and examples thereof include phenyloxycarbonylamino group
- a sulfonylamino group preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as methanesulfonylamino, benzenesulfonylamino, etc.
- a sulfamoyl group Preferably 0-30 carbon atoms, more preferred 0 to 20 carbon atoms, particularly preferably a sulfam
- a carbamoyl group (preferably a carbamoyl group having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, and examples thereof include carbamoyl, methylcarbamoyl, diethylcarbamoyl, phenylcarbamoyl and the like.
- An alkylthio group preferably an alkylthio group having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as methylthio and ethylthio
- an arylthio group Preferably, it is an arylthio group having 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, particularly preferably 6 to 12 carbon atoms, and examples thereof include phenylthio and the like, and a heterocyclic thio group (preferably having 1 carbon atom). To 30, more preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 1 carbon atoms.
- a heterocyclic thio group e.g. pyridylthio, 2-benzoxazolyl thio, and 2-benzthiazolylthio the like.
- a sulfonyl group (preferably a sulfonyl group having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as mesyl, tosyl, etc.), a sulfinyl group (preferably A sulfinyl group having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as methanesulfinyl, benzenesulfinyl, etc.), ureido group (preferably having 1 carbon atom) -30, more preferably a ureido group having 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as ureido, methylureido, phenylureido, etc.), a phosphoramide group (preferably having a carbon number) A phosphoric acid amide group having 1 to 30, more preferably 1 to 20 carbon
- a hetero atom of the ring group and the ring-constituting atoms for example, a nitrogen atom, an oxygen atom, and a sulfur atom are preferable.
- silyl group preferably a silyl group having 3 to 40 carbon atoms, more preferably 3 to 30 carbon atoms, particularly preferably 3 to 24 carbon atoms, such as trimethylsilyl, triphenyl, etc. Silyl, etc.
- silyloxy groups preferably charcoal Number 3 to 40, more preferably from 3 to 30 carbon atoms, particularly preferably a silyloxy group having 3 to 24 carbon atoms, for example trimethylsilyloxy, etc. triphenylsilyl oxy and the like.
- substituents may be further substituted with any one or more substituents selected from the above substituent group Z.
- substituents in one structural site when there are a plurality of substituents in one structural site, these substituents are connected to each other to form a ring, or condensed with a part or all of the structural site to form an aromatic ring or unsaturated A heterocycle may be formed.
- Polyimide can be synthesized by condensation polymerization of an acid anhydride and a diamine compound.
- a method described in a general book for example, published by NTS, edited by Ikuo Imai, edited by Rikio Yokota, latest polyimide: basics and applications, pages 3 to 49, etc.
- Specific examples of general acid anhydrides that can be used in the present invention include the following.
- polyimide compounds are given below, but the present invention is not limited thereto.
- these polymers may be used alone or in combination with a crosslinking agent described later.
- the molar ratio of the above chemical formula [the ratio of X / Y / Z to the specific unit 100 in the formula].
- the molecular weight is a mass average molecular weight.
- the polymer of the present invention may be a copolymer with other monomers.
- examples of other monomers include known acrylic esters, methacrylic esters, acrylamides, methacrylamides, vinyl esters, styrenes, acrylic acid, methacrylic acid, acrylonitrile, maleic anhydride, maleic imide, and the like. These monomers are also included. By copolymerizing such monomers, various physical properties such as film forming property, film strength, hydrophilicity, hydrophobicity, solubility, reactivity, and stability can be improved.
- Examples of the monomer synthesis method include, for example, the item of ester synthesis in “5th edition, Experimental Chemistry Course 16: Synthesis of Organic Compounds (II-1)” of Maruzen Co., Ltd., edited by The Chemical Society of Japan, and “5th edition, Experimental Chemistry Course” of the same edition. You can refer to the handling and purification items of monomers in “26 Polymer Chemistry”.
- the copolymerization ratio (R III ) of the structural units a) and (III-b) is not particularly limited, but is preferably the following.
- R II 0.01 to 90 mol% 0.1 to 90 mol% 1 to 90 mol%
- R III 0.01 to 17 mol% 0.1 to 10 mol% 1 to 10 mol%
- R IV * 0.01 to 90 mol% 0.1 to 90 mol% 1 to 90 mol%
- cationic crosslinking agent that can be used in combination with the polymer of the present invention are listed below, but the present invention is not limited thereto.
- n 10 to 1000.
- the gas separation composite membrane of the present invention can be formed by curing by applying some energy due to the function of the cationic crosslinkable functional group.
- oligomers and prepolymers may be used as the monomer corresponding to the partial structure represented by the general formulas (I), (II-a) and (II-b).
- the polymer of the present invention may be any form of a copolymer such as a block copolymer, a random copolymer, and a graft copolymer.
- the block copolymer and the graft copolymer have a viscosity and compatibility. From the viewpoint of
- the ratio of the partial structures represented by the general formulas (I), (II-a) and (II-b) is not particularly limited, but the composition ratio of the partial structures having a plurality of cross-linked structures increases.
- the composition ratio is 1 to 50% by mass, preferably 5 to 30%. It is preferable to use the mass% range as a guide, but the gas permeability and separation selectivity can be improved by changing the composition ratio according to the purpose of gas separation (recovery rate, purity, etc.) without being limited to this range. To be adjusted.
- the molecular weight of the polyimide compound is not particularly limited because it is a crosslinked film.
- the mass average molecular weight is preferably 1,000 to 1,000,000, more preferably 5,000 to 500,000, and still more preferably 5,000 to 100,000.
- the molecular weight and the degree of dispersion are values measured using a GPC (gel filtration chromatography) method, and the molecular weight is a weight average molecular weight in terms of polystyrene.
- the gel packed in the column used in the GPC method is preferably a gel having an aromatic compound as a repeating unit, and examples thereof include a gel made of a styrene-divinylbenzene copolymer. Two to six columns are preferably connected and used.
- the solvent used include ether solvents such as tetrahydrofuran and amide solvents such as N-methylpyrrolidinone.
- the measurement is preferably performed at a solvent flow rate in the range of 0.1 to 2 mL / min, and most preferably in the range of 0.5 to 1.5 mL / min. By performing the measurement within this range, the apparatus is not loaded and the measurement can be performed more efficiently.
- the measurement temperature is preferably 10 to 50 ° C, most preferably 20 to 40 ° C.
- the column and carrier to be used can be appropriately selected according to the physical properties of the polymer compound to be measured.
- the ratio [ ⁇ ] (number of crosslinking sites / number of imide groups) of imide groups and crosslinking sites of the polyimide compound in the crosslinked polyimide resin is 0.0001 to 0.45; It is preferably 01 to 0.3, more preferably 0.01 to 0.2, and still more preferably 0.01 to 0.1. Furthermore, when setting the low crosslinking site ratio, it is preferably 0.05 or less, more preferably 0.04 or less, and particularly preferably 0.02 or less.
- crosslinking site ratio [ ⁇ ] is based on the number of crosslinkable functional groups that have been cross-linked, and excludes the number of crosslinkable functional groups that have been introduced into the polyimide compound but have not been cross-linked. Calculated value (ratio). By setting this value to the above lower limit value or more, the film is plasticized under the influence of high CO 2 concentration conditions or aromatic compounds such as benzene, toluene and xylene contained in natural gas or hydrocarbon impurities such as hexane and heptane.
- the proportion of functional cross-linking groups (for example, cross-linkable functional group density [ ⁇ ] described later) is appropriately adjusted during the synthesis of the polyimide compound, or the cross-linking reaction conditions are changed. Or by adjusting the cross-linking conversion rate (for example, the ratio of the number of cross-linked functional groups to the total number of cross-linkable functional groups (cross-linking conversion rate) [ ⁇ ]).
- the cross-linking conversion rate for example, the ratio of the number of cross-linked functional groups to the total number of cross-linkable functional groups (cross-linking conversion rate) [ ⁇ ]).
- the cross-linking site ratio can be increased by increasing the composition ratio of the monomer having a cross-linking site within a predetermined range, increasing the reactivity, polyfunctionalizing, or using a material having another cross-linkable substituent. [ ⁇ ] can be increased.
- the crosslinked polyimide resin preferably has an ether structure at the crosslinked structure site, and the ether structure includes (—R′—O—R′—), —OCH (R ′′) CH 2 O. It preferably has a linking group of —, —OCH 2 CH (R ′′) CH 2 O—, —OCH 2 CH (R ′′) O—, where R ′ represents an alkylene group, and R ′′ represents an alkyl group. Means a group. These preferable ones are synonymous with the substituent group Z.
- —O—CO—R which is a terminal group in the following reaction scheme may be —O—R.
- R represents a hydrogen atom or a substituent.
- This crosslinkable functional group density can be adjusted by the amount of substrate (monomer) charged when the polyimide compound is synthesized.
- the cross-linking conversion rate [ ⁇ ] of the present invention is determined by the double bond peak (1640, 810 cm ⁇ 1 ) and 1 H-NMR before and after the cross-linking of the double bond in the reflection infrared spectroscopic measurement of the film. It can be calculated from the decrease.
- the crosslinking conversion rate is preferably 20% or more and 100% or less, more preferably 50% or more and 94% or less, and further preferably 30% or more and 89% or less.
- This crosslinking conversion rate can be adjusted according to the crosslinking conditions of the polyimide compound, and various adjustments can be made to the type of the cationic crosslinking reaction initiator, the temperature in the crosslinking reaction, the substrate concentration, the amount of heat, the amount of active radiation, and the irradiation time.
- the crosslinking conversion rate can be increased.
- the method for producing a gas separation membrane of the present invention is preferably a production method in which a coating liquid containing the polyimide compound is applied to a support and the coating film is formed by irradiating with active radiation.
- the component composition of the coating liquid (dope) for comprising a coating film is not specifically limited, It is preferable to contain the said polyimide compound and a polymerization initiator in an organic solvent.
- the content of the polyimide compound is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 30% by mass and more preferably 1 to 10% by mass in the coating solution.
- the concentration is low by setting the above lower limit or more, when the film is formed on the porous support, the surface layer that contributes to separation may be defective because it easily penetrates into the lower layer. Get higher.
- the concentration is not more than the above upper limit value, it is possible to minimize the thinning or the decrease in permeability when the concentration is high. This thinning or decrease in permeability is attributed to the fact that the pores are filled at a high concentration when the film is formed on the porous support.
- the gas separation membrane of the present invention can be appropriately produced by adjusting the molecular weight, structure, composition, and solution viscosity of the polymer in the separation layer.
- the organic solvent is not particularly limited, but hydrocarbon organic solvents such as n-hexane and n-heptane, ester organic solvents such as methyl acetate, ethyl acetate and butyl acetate, methanol, ethanol, n- Lower alcohols such as propanol, isopropanol, n-butanol, isobutanol, tert-butanol, aliphatic ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, diacetone alcohol, cyclopentanone, cyclohexanone, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol Glycerin, propylene glycol, ethylene glycol monomethyl or monoethyl ether, propylene glycol methyl ether, dipropylene glycol methyl ether, tripropylene glycol Ether-based organic solvents such as methyl ether,
- organic solvents are appropriately selected as long as they do not adversely affect the substrate, such as ester-based (preferably butyl acetate), alcohol-based (preferably methanol, ethanol, isopropanol).
- ester-based preferably butyl acetate
- alcohol-based preferably methanol, ethanol, isopropanol
- Isobutanol aliphatic ketones (preferably methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, diacetone alcohol, cyclopentanone, cyclohexanone)
- ether type ethylene glycol, diethylene glycol monomethyl ether, methyl cyclopentyl ether
- these can be used 1 type or in combination of 2 or more types.
- the actinic radiation is not particularly limited as long as it can impart energy capable of generating an initiating species in the film composition by the irradiation, and ⁇ -rays, ⁇ -rays, X-rays, ultraviolet rays, Visible light, electron beam, etc. are mentioned. Of these, ultraviolet rays and electron beams are preferred from the viewpoint of curing sensitivity and device availability, and ultraviolet rays are particularly preferred.
- the acceleration voltage is 30 to 1000 kV, preferably 50 to 300 kV.
- the absorbed dose is preferably 5 to 200 kGy (0.5 to 20 Mrad), more preferably 20 to 100 kGy (2 to 10 Mrad).
- the atmosphere in which the electron beam is irradiated is preferably a nitrogen atmosphere with an oxygen concentration of 200 ppm or less. Within this range, the crosslinking and curing reaction in the vicinity of the surface proceeds well.
- a mercury lamp is used as the ultraviolet light source.
- the mercury lamp uses a lamp of 20 to 240 W / cm 2 and is used at a speed of 0.3 to 20 m / min.
- the distance between the membrane and the mercury lamp is preferably 1 to 30 cm.
- UV / EB curing technology published by General Technology Center Co., Ltd.
- Applied technology of low energy electron beam irradiation 2000, issued by CMC Co., Ltd.
- a heating step may be added during curing.
- a photopolymerization initiator is a compound that undergoes a chemical change through the action of light or interaction with the electronically excited state of a sensitizing dye to generate at least one of radicals, acids, and bases.
- a polymerization initiator that generates an acid by reaction is more preferable.
- the photopolymerization initiator is an active light to be irradiated, for example, 400 to 200 nm ultraviolet rays, far ultraviolet rays, g rays, h rays, i rays, KrF excimer laser rays, ArF excimer laser rays, electron rays, X rays, molecular rays. Or what has a sensitivity to an ion beam etc. can be selected suitably, and can be used.
- Preferred photopolymerization initiators include (a) aromatic ketones, (b) aromatic onium salt compounds, (c) organic peroxides, (d) hexaarylbiimidazole compounds, (e) ketoxime ester compounds, f) borate compounds, (g) azinium compounds, (h) metallocene compounds, (i) active ester compounds, (j) compounds having a carbon halogen bond, and the like.
- aromatic ketones include those described in J. Org. P. FOUASSIER J. F. RABEK, “RADIATION CURING IN POLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY”, p77 to 117 (1993), compounds having a benzophenone skeleton or a thioxanthone skeleton, and the like. More preferable examples of (a) aromatic ketones include ⁇ -thiobenzophenone compounds described in JP-B-47-6416, benzoin ether compounds described in JP-B-47-3981, and JP-B-47-22326. ⁇ -substituted benzoin compounds described in JP-A No.
- JP-A-2-214552 P-di (dimethylaminobenzoyl) benzene described in JP-A-61-194062, a thio-substituted aromatic ketone described in JP-A-61-194062, an acylphosphine sulfide described in JP-B-2-9597, Examples include acylphosphine described in Japanese Patent No. 9596, thioxanthones described in Japanese Patent Publication No. 63-61950, and coumarins described in Japanese Patent Publication No. 59-42864.
- aromatic onium salts elements of Group V, VI and VII of the Periodic Table, specifically N, P, As, Sb, Bi, O, S, Se, Te or I aromatics Onium salt is included.
- Organic peroxide includes almost all organic compounds having one or more oxygen-oxygen bonds in the molecule. Examples thereof include 3,3 ′, 4,4′-tetra- (T-Butylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ′, 4,4′-tetra- (t-amylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ′, 4,4′-tetra- (t-hexylperoxy Carbonyl) benzophenone, 3,3 ′, 4,4′-tetra- (t-octylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ′, 4,4′-tetra- (cumylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ′ , 4,4'-Tetra- (p-isopropylcumylperoxycarbonyl) benzophenone, di-t-butyldiperoxyisophthalate Preferred.
- Examples of hexaarylbiimidazoles include lophine dimers described in JP-B Nos. 45-37377 and 44-86516, such as 2,2′-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o-bromophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o, p-dichlorophenyl) ) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetra (m-methoxyphenyl) biimidazole, 2 , 2′-bis (o, o′-dichlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimid
- ketoxime esters 3-benzoyloxyiminobutan-2-one, 3-acetoxyiminobutan-2-one, 3-propionyloxyiminobutan-2-one, 2-acetoxyiminopentane-3-one 2-acetoxyimino-1-phenylpropan-1-one, 2-benzoyloxyimino-1-phenylpropan-1-one, 3-p-toluenesulfonyloxyiminobutan-2-one, 2-ethoxycarbonyloxy And imino-1-phenylpropan-1-one.
- Examples of the borate salt are described in US Pat. Nos. 3,567,453, 4,343,891, European Patents 109772 and 109773. Compounds.
- Examples of azinium salt compounds include JP-A-63-138345, JP-A-63-142345, JP-A-63-142346, JP-A-63-143537, and JP-B-46. And a group of compounds having an N—O bond described in Japanese Patent No. 42363.
- the metallocene compounds are, for example, JP-A-59-152396, JP-A-61-151197, JP-A-63-41484, JP-A-2-249, and JP-A-2-4705. And the iron-arene complexes described in JP-A-1-304453 and JP-A-1-152109.
- Specific examples of the titanocene compound include di-cyclopentadienyl-Ti-di-chloride, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-phenyl, and di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3.
- JP-A-2-245756, and JP-A-4-365048 iminosulfonate compounds, JP-B-62-2623, JP-B-63-1340 and JP-A-59- And compounds described in each publication of No. 174831.
- (J) Preferred examples of the compound having a carbon halogen bond include those described in Wakabayashi et al., Bull. Chem. Soc. Japan, 42, 2924 (1969), a compound described in British Patent No. 1388492, a compound described in JP-A-53-133428, a compound described in German Patent No. 3333724 Etc.
- the amount of the polymerization initiator used is preferably 0.01 to 10 parts by mass, more preferably 0.1 to 5 parts by mass with respect to 1 part by mass of the polymerizable compound.
- Co-sensitizer Furthermore, in the process for producing a gas separation membrane of the present invention, a known compound having an action such as further improving sensitivity or suppressing polymerization inhibition by oxygen may be further added as a cosensitizer.
- cosensitizers include amines such as M.I. R. Sander et al., “Journal of Polymer Society”, Vol. 10, 3173 (1972), Japanese Examined Patent Publication No. 44-20189, Japanese Unexamined Patent Publication No. 51-82102, Japanese Unexamined Patent Publication No. 52-134692, Japanese Unexamined Patent Publication No. Sho. Compounds described in Japanese Patent Application Laid-Open No.
- thiols and sulfides for example, thiol compounds described in JP-A-53-702, JP-B-55-500806, JP-A-5-142772, and JP-A-56-75643.
- Specific examples include 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercapto-4 (3H) -quinazoline, ⁇ -mercaptonaphthalene, and the like.
- Still further examples include amino acid compounds (eg, N-phenylglycine), organometallic compounds described in Japanese Patent Publication No. 48-42965 (eg, tributyltin acetate), Japanese Patent Publication No. 55-34414.
- Various polymer compounds can be added to the gas separation membrane of the present invention in order to adjust the membrane properties.
- High molecular compounds include acrylic polymer, polyurethane resin, polyamide resin, polyester resin, epoxy resin, phenol resin, polycarbonate resin, polyvinyl butyral resin, polyvinyl formal resin, shellac, vinyl resin, acrylic resin, rubber resin Waxes and other natural resins can be used. Two or more of these may be used in combination.
- nonionic surfactants, cationic surfactants, organic fluoro compounds, and the like can be added to adjust liquid properties.
- the surfactant include alkylbenzene sulfonate, alkylnaphthalene sulfonate, higher fatty acid salt, sulfonate of higher fatty acid ester, sulfate ester of higher alcohol ether, sulfonate of higher alcohol ether, higher alkyl
- Anionic surfactants such as alkyl carboxylates of sulfonamides, alkyl phosphates, polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl phenyl ethers, polyoxyethylene fatty acid esters, sorbitan fatty acid esters, ethylene oxide adducts of acetylene glycol,
- Nonionic surfactants such as ethylene oxide adducts of glycerin and polyoxyethylene sorbitan fatty acid esters, and other amphoteric boundaries such as alkyl betaines and amide betaines
- polymer dispersant examples include polyvinyl pyrrolidone, polyvinyl alcohol, polyvinyl methyl ether, polyethylene oxide, polyethylene glycol, polypropylene glycol, and polyacrylamide.
- polyvinyl pyrrolidone is also preferably used.
- the conditions for forming the gas separation membrane of the present invention are not particularly limited, but the temperature is preferably ⁇ 30 to 100 ° C., more preferably ⁇ 10 to 80 ° C., and particularly preferably 5 to 50 ° C.
- a gas such as air or oxygen may coexist at the time of forming the film, but it is preferably in an inert gas atmosphere.
- an organic solvent can be added as a medium.
- organic solvents that can be used include hydrocarbon organic solvents such as n-hexane and n-heptane, ester organic solvents such as methyl acetate, ethyl acetate, and butyl acetate, methanol, Lower alcohols such as ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, isobutanol, tert-butanol, aliphatic ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, diacetone alcohol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, glycerin , Propylene glycol, ethylene glycol monomethyl or monoethyl ether, propylene glycol methyl ether, dipropylene glycol methyl ether, tripropylene glycol methyl ether, Ty
- the gas mixture separation method of the present invention is a method of separating an acidic gas from a gas mixture containing at least one kind of acidic gas by a gas separation membrane, and the acidic gas that can use the gas separation membrane of the present invention or the composite membrane is Carbon dioxide or hydrogen sulfide is preferred.
- the components of the raw gas mixture are not particularly defined, but the main components of the gas mixture are preferably carbon dioxide and methane or carbon dioxide and hydrogen. .
- the gas mixture exhibits particularly excellent performance in the presence of an acidic gas such as carbon dioxide or hydrogen sulfide, and preferably has excellent performance in separating hydrocarbons such as carbon dioxide and methane, carbon dioxide and nitrogen, and carbon dioxide and hydrogen. Demonstrate.
- the gas separation membrane of the present invention is preferably a composite membrane combined with a porous support, and more preferably a gas separation membrane module using this. Moreover, it can be set as the gas separation apparatus which has a means for carrying out the separation collection
- the gas separation membrane of the present invention can be suitably used in a modular form. Examples of modules include spiral type, hollow fiber type, pleated type, tubular type, plate & frame type and the like.
- the polymer membrane of the present invention may be applied to a gas separation / recovery device as a membrane / absorption hybrid method used in combination with an absorbing solution as described in JP 2007-297605 A, for example.
- the gas separation composite membrane of the present invention having the above excellent characteristics can be suitably used as a gas separation recovery method and a gas separation purification method.
- a gas separation purification method for example, hydrogen, helium, carbon monoxide, carbon dioxide, hydrogen sulfide, oxygen, nitrogen, ammonia, sulfur oxides, nitrogen oxides, hydrocarbons such as methane and ethane, unsaturated hydrocarbons such as propylene, tetrafluoroethane, etc.
- a gas separation membrane that can efficiently separate a specific gas from a gas mixture containing a gas such as a perfluoro compound, particularly a gas separation membrane that selectively separates carbon dioxide from a gas mixture containing carbon dioxide / hydrocarbon (methane). It is preferable to use this, and various modules and gas separation devices having excellent performance can be produced using this separation membrane.
- the gas separation membrane of the present invention has few pinholes, it is easy to produce a gas separation composite membrane with excellent performance.
- the reaction solution was stirred at 40 ° C. for 2.5 hours, 167 ml of toluene was added, and the mixture was further stirred at 180 ° C. for 3 hours.
- the azeotropic water-toluene mixture was removed with a Dean-Stark water separator.
- the reaction solution was cooled to around room temperature, and then diluted with 600 mL of acetone.
- the acetone dilution liquid of the reaction liquid was dripped at the place which added and stirred methanol 1.2L to a 5L stainless steel container.
- the resulting polymer crystals were suction filtered and blown dry at 60 ° C. to obtain 55.4 g of polymer (P-2).
- polymers (P-3), (P-4), (P-5), (P-8), (P-10), and (P-16) were synthesized.
- Example 101 In a 30 ml brown vial, 1.4 g of polymer (P-1) and 0.20 g of cross-linking agent (Exemplary compound R-1: manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., product number: B-1796) are mixed with 8.6 g of methyl ethyl ketone. After stirring for 30 minutes, 1.4 mg of tetraphenylphosphonium bromide (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., product number: T1069, hereinafter Ph 4 PBr) was further added, and the mixture was further stirred for 30 minutes.
- P-1 polymer
- cross-linking agent Exemplary compound R-1: manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., product number: B-1796
- a polyacrylonitrile porous membrane (manufactured by GMT) is allowed to stand on a 10 cm square clean glass plate, and the polymer solution is cast on the surface of the porous support membrane using an applicator. Then, the film was further dried at 70 ° C. for 15 minutes to obtain a cured film sample 101.
- the thickness of the polymer (P-1) layer was about 1.5 ⁇ m, and the thickness of the polyacrylonitrile porous film including the nonwoven fabric was about 180 ⁇ m.
- Example 102 In a 30 ml brown vial, 1.4 g of polymer (P-1) and 0.20 g of cross-linking agent (Exemplary compound R-1: manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., product number: B-1796) are mixed with 8.6 g of methyl ethyl ketone. After stirring for 30 minutes, 2 mg of tri-p-tolylsulfonium hexafluorophosphate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., product number: T2041, hereinafter Tol 3 SPF 6 ) was further added, followed by further stirring for 30 minutes.
- T2041 tri-p-tolylsulfonium hexafluorophosphate
- a polyacrylonitrile porous membrane (manufactured by GMT) is allowed to stand on a 10 cm square clean glass plate, and the polymer solution is cast onto the porous support membrane surface using an applicator. Using a photocuring apparatus (TCT1000B-28HE) manufactured by company, exposure was performed at 10 mW for 60 seconds to obtain a cured film sample 102.
- the thickness of the polymer (P-1) layer was about 1 ⁇ m, and the thickness of the polyacrylonitrile porous membrane including the nonwoven fabric was about 180 ⁇ m.
- sample composite membrane
- Table 2 Table 2
- Tol represents a tolyl group and Ph represents a phenyl group.
- the sign of “linked structure” indicates the following.
- polymer (A) 8.3 g of polymer (A).
- ethylene glycol was added in an equivalent amount of 3,5-diaminobenzoic acid, and the same method as described in US Pat. No. 7,247,191B2, was followed by polyacrylonitrile (PAN), Crosslinked composite membrane samples c11, c12, and c13 were prepared on the porous support membranes of polysulfone (Psf) and polyphenylene oxide (PPO) using an applicator in the same manner as sample 101.
- the obtained composite membrane was measured at 40 ° C. using a gas permeability measuring device (GTR-10XF manufactured by GTR Tech) and using a mixed gas (1: 1) of carbon dioxide (CO 2 ) and methane (CH 4 ).
- the gas permeability of CO 2 and CH 4 was measured at a pressure of 8 atm on the gas supply side.
- the gas permeability of the membrane was compared by calculating the gas permeation rate as gas permeability (Permeance).
- the gas separation membrane of the present invention is preferably used as a package filled with a membrane called a module or element.
- a gas separation membrane When a gas separation membrane is used as a module, it is packed with a high density to increase the membrane surface area, and a flat membrane must be bent and filled in a spiral shape, so that it must have sufficient bending strength. .
- the composite membrane obtained to confirm this performance was bent 180 ° and returned 50 times, and then it was confirmed whether the gas permeability could be measured again.
- B The transmittance could not be measured.
- the gas permeability (permeation speed), the permeation speed ratio (CO 2 / CH 4 selectivity in Table 3 below), and the results of the bending test are shown in Table 3 below.
- the crosslinking site ratio [ ⁇ ] is about 0.0001 to 0.45 for all the samples of the present invention, about 0.2 for all of the comparative samples c11 to c13, and about 0.1 for the comparative sample c14. It was 5.
- the crosslinkable functional group density [ ⁇ ] is 0.1 or less for all the samples of the present invention, 0.6 to 0.7 for all of the comparative samples c11 to c13, and 0.9 or more for the comparative sample c14. Met.
- the crosslinking rate [ ⁇ ] was 60 to 100 for all the samples of the present invention and 90 or more for all of the comparative samples.
- Sample No. What is represented by 1 ** is a sample of the present invention, and what is represented by c ** is a comparative sample.
- gas separation composite membrane of the present invention is imparted with high carbon dioxide permeability, separation selectivity, and bending strength.
- Example 2 The sample error rate was measured using each sample (gas separation composite membrane) produced in Example 1. (Sample error rate) 50 samples were prepared for each sample, and the hydrogen permeability of each sample was measured. The gas permeability of hydrogen exceeded 1,000,000 GPU (1 ⁇ 10 6 cm 3 / cm 2 ⁇ sec ⁇ cmHg). The sample was judged as a film with a pinhole, and the sample error rate was determined by the following formula. In addition, the thing with a delicate judgment of the presence or absence of a pinhole was counted as 0.5.
- the gas separation composite membrane of the present invention has a practical gas permeability without excessively high crosslinking site ratio, and is also excellent in mechanical strength. Furthermore, since a composite membrane with a porous support membrane can be obtained at a low temperature and in a short time, a practical gas separation composite membrane can be obtained regardless of the glass transition temperature of the porous support.
- the gas separation composite membrane of the present invention has excellent gas permeability and gas separation selectivity, particularly excellent carbon dioxide permeability, and is excellent as a carbon dioxide / methane separation membrane. Furthermore, since the composite film can be produced at a low temperature and in a short time, the production suitability is excellent.
- the gas separation membrane and the composite membrane of the present invention can provide an excellent gas separation method, gas separation membrane module, and gas separation and gas separation apparatus including the gas separation membrane module.
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Abstract
架橋ポリイミド樹脂を含有してなるガス分離層をガス透過性の支持層上側に有するガス分離複合膜であって、前記架橋ポリイミド樹脂は、ポリイミド化合物がその分子もしくは別分子由来のカチオン架橋性官能基で架橋された構造を有するガス分離複合膜、その製造方法、それを用いたガス分離モジュール、ガス分離装置およびガス分離方法。
Description
本発明は、ガス分離複合膜、その製造方法、それを用いたガス分離モジュール、ガス分離装置およびガス分離方法に関する。
高分子化合物からなる素材には、その素材ごとに特有の気体透過性がある。その性質に基づき、特定の高分子素材から構成された膜によって、所望の気体成分を分離できることが知られている。この気体分離膜の産業上の利用態様として、近年の地球環境温暖化における問題と関連し、火力発電所やセメントプラント、製鉄所高炉等の大規模な二酸化炭素発生源から、二酸化炭素を省エネルギーで分離回収することが検討され、環境問題の解決手段として着目されている。一方、天然ガスやバイオガス(生物の排泄物、有機質肥料、生分解性物質、汚水、ゴミ、エネルギー作物などの発酵、嫌気性消化により発生するガス)は主としてメタンと二酸化炭素の混合ガスであり、その二酸化炭素等の不純物を除去する手段として膜分離方法が従来検討されてきた(特許文献1、特許文献2)。特に天然ガスの精製では素材としてセルロースやポリイミドが検討されてきたが、実際のプラントにおける高圧条件および高二酸化炭素濃度では膜が可塑化し、これによる分離選択性の低下が問題となっていた(非特許文献1、313-322頁および非特許文献2、3)。この膜の可塑化を抑制するためには、膜を構成する高分子化合物に架橋構造を導入することが有効であることが知られており、ポリイミドで研究が続けられている(非特許文献1、3-27頁)。ガス分離膜に架橋構造の膜を利用したものとして、特許文献3、非特許文献4、5、6などが挙げられる。
Yuri Yampolskii,Benny Freeman,Membrane Gas Separation,2010,Johns Wiley & Sons Ltd.
Industrial & Engineering Chemistry Research,2008,47,2109
Industrial & Engineering Chemistry Research,2002,41,1393
Journal of Membrane Science,1999,155,145
Journal of Membrane Science,2000,175,181
European Polymer Journal,1997,33,1717
ところで、実用的なガス分離膜とするためには、薄層にすることで高ガス透過性を付与しなければならない。従来は単一素材を非対称膜とすることで、分離に寄与する部分をスキン層と呼ばれる薄層にして、高ガス透過性と分離選択性、さらには機械強度を満足させることが試みられていた。しかし、これらを単一素材で兼ね備えたものとすることは難しい。そのため、分離機能と機械強度を付与するための機能を別々の素材とする複合膜が性能とコストの観点から望ましく、水処理用の逆浸透膜では複合膜が主流となりつつある。
一方、ガス分離膜において分離層に架橋構造膜を利用した例は少ない(上記特許文献3、非特許文献4、5、6)。これらの方法では架橋に対して100℃以上の高温が必要であったり、架橋に対して非常に長い時間を要したりする。そのために、高いガス透過性と分離選択性を維持しつつ、製膜適性、さらには機械強度が高く、耐久性に優れた実用的なガス分離膜を提供するにはまだ不十分であった。
一方、ガス分離膜において分離層に架橋構造膜を利用した例は少ない(上記特許文献3、非特許文献4、5、6)。これらの方法では架橋に対して100℃以上の高温が必要であったり、架橋に対して非常に長い時間を要したりする。そのために、高いガス透過性と分離選択性を維持しつつ、製膜適性、さらには機械強度が高く、耐久性に優れた実用的なガス分離膜を提供するにはまだ不十分であった。
上記の点を考慮し、本発明は、優れたガス透過性を有しながら、高いガス分離選択性をも実現し、さらに高い製膜適性を達成するガス分離複合膜、その製造方法、それを用いたモジュール、ガス分離装置およびガス分離方法の提供を目的とする。
上記の課題は以下の手段により達成された。
(1)架橋ポリイミド樹脂を含有してなるガス分離層をガス透過性の支持層上側に有するガス分離複合膜であって、
前記架橋ポリイミド樹脂は、ポリイミド化合物がその分子もしくは別分子由来のカチオン架橋性官能基で架橋された構造を有するガス分離複合膜。
(2)前記カチオン架橋性官能基で架橋された構造がエーテル構造を有する(1)に記載のガス分離複合膜。
(3)前記カチオン架橋性官能基が環状構造の原子群を含む(1)または(2)に記載のガス分離複合膜。
(4)前記カチオン架橋性官能基が、オキシラン基、オキセタン基、ビニルエーテル基、アルケニルエーテル基、アレーンエーテル基およびケテンアセタール基からなる群から選ばれる少なくとも一種を含む(1)~(3)のいずれか1項に記載のガス分離複合膜。
(5)前記ポリイミド化合物が、下記一般式(I)で表される繰り返し単位と、下記一般式(II-a)または(II-b)で表される繰り返し単位の少なくとも一種と、下記一般式(III-a)または(III-b)で表される繰り返し単位の少なくとも一種とをそれぞれ含む(1)~(4)のいずれか1項に記載のガス分離複合膜。
前記架橋ポリイミド樹脂は、ポリイミド化合物がその分子もしくは別分子由来のカチオン架橋性官能基で架橋された構造を有するガス分離複合膜。
(2)前記カチオン架橋性官能基で架橋された構造がエーテル構造を有する(1)に記載のガス分離複合膜。
(3)前記カチオン架橋性官能基が環状構造の原子群を含む(1)または(2)に記載のガス分離複合膜。
(4)前記カチオン架橋性官能基が、オキシラン基、オキセタン基、ビニルエーテル基、アルケニルエーテル基、アレーンエーテル基およびケテンアセタール基からなる群から選ばれる少なくとも一種を含む(1)~(3)のいずれか1項に記載のガス分離複合膜。
(5)前記ポリイミド化合物が、下記一般式(I)で表される繰り返し単位と、下記一般式(II-a)または(II-b)で表される繰り返し単位の少なくとも一種と、下記一般式(III-a)または(III-b)で表される繰り返し単位の少なくとも一種とをそれぞれ含む(1)~(4)のいずれか1項に記載のガス分離複合膜。
(一般式(I)中、Rは下記一般式(I-a)~(I-g)からなる群から選択される原子群を表す。)
(一般式(I-a)~(I-g)中、X1は単結合または2価の連結基を表す。Y1はメチレン基またはビニレン基を表す。R1およびR2は各々独立に水素原子または置換基を表し、R1とR2が互いに結合して環を形成してもよい。*は一般式(I)におけるイミドのカルボニル基との結合部位を表す。)
(一般式(II-a)中、R3は置換基を表し、l1は0~4の整数を表す。一般式(II-b)中、R4およびR5は各々独立に置換基を表し、R4とR5が互いに結合して環を形成してもよい。m1およびn1は各々独立に0~4の整数を表す。X2は単結合または2価の連結基を表す。)
(一般式(III-a)および一般式(III-b)中、R6、R7およびR8は各々独立に置換基を表す。R7とR8が互いに結合して環を形成してもよい。J1およびJ2、W1は各々独立に単結合または2価の連結基を表す。l2、m2、n2は各々独立に0~3の整数を表す。L1は2価の連結基を表し、L2は反応性基を表す。pは0以上の整数を表す。pが2以上の場合、複数存在するL1、J2は同一でも異なっていてもよい。X3は単結合または2価の連結基を表す。)
(6)前記架橋性官能基が、オキセタン環またはオキシラン環を含む(1)~(5)のいずれか1項に記載のガス分離複合膜。
(7)前記支持層がガス分離層側の多孔質層とその逆側の不織布層とからなる(1)~(6)のいずれか1項に記載のガス分離複合膜。
(8)前記多孔質層の分画分子量が100,000以下である(7)に記載のガス分離複合膜。
(9)供給されるガスが二酸化炭素とメタンとの混合ガスであり、40℃、8気圧における二酸化炭素の透過速度が20GPU超であり、二酸化炭素とメタンとの透過速度比(RCO2/RCH4)が20以上である(1)~(8)のいずれか1項に記載のガス分離複合膜。
(10)架橋ポリイミド樹脂を含有してなるガス分離層をガス透過性の支持層上側に有するガス分離複合膜の製造方法であって、
カチオン架橋性の架橋性官能基を有するポリイミド化合物と架橋剤とを含む塗布液を前記支持層上側に塗布し、該塗布液に活性放射線を照射する、あるいは熱を付与することにより前記架橋性官能基を反応させ前記ポリイミド化合物を架橋するガス分離複合膜の製造方法。
(11)前記(1)~(9)のいずれか1項に記載のガス分離複合膜を具備するガス分離モジュール。
(12)前記(11)に記載のガス分離モジュールを備えたガス分離装置。
(13)前記(1)~(9)のいずれか1項に記載のガス分離複合膜を用いて、二酸化炭素およびメタンを含むガスから二酸化炭素を選択的に透過させるガス分離方法。
(6)前記架橋性官能基が、オキセタン環またはオキシラン環を含む(1)~(5)のいずれか1項に記載のガス分離複合膜。
(7)前記支持層がガス分離層側の多孔質層とその逆側の不織布層とからなる(1)~(6)のいずれか1項に記載のガス分離複合膜。
(8)前記多孔質層の分画分子量が100,000以下である(7)に記載のガス分離複合膜。
(9)供給されるガスが二酸化炭素とメタンとの混合ガスであり、40℃、8気圧における二酸化炭素の透過速度が20GPU超であり、二酸化炭素とメタンとの透過速度比(RCO2/RCH4)が20以上である(1)~(8)のいずれか1項に記載のガス分離複合膜。
(10)架橋ポリイミド樹脂を含有してなるガス分離層をガス透過性の支持層上側に有するガス分離複合膜の製造方法であって、
カチオン架橋性の架橋性官能基を有するポリイミド化合物と架橋剤とを含む塗布液を前記支持層上側に塗布し、該塗布液に活性放射線を照射する、あるいは熱を付与することにより前記架橋性官能基を反応させ前記ポリイミド化合物を架橋するガス分離複合膜の製造方法。
(11)前記(1)~(9)のいずれか1項に記載のガス分離複合膜を具備するガス分離モジュール。
(12)前記(11)に記載のガス分離モジュールを備えたガス分離装置。
(13)前記(1)~(9)のいずれか1項に記載のガス分離複合膜を用いて、二酸化炭素およびメタンを含むガスから二酸化炭素を選択的に透過させるガス分離方法。
本発明のガス分離複合膜は、優れたガス透過性を有しながら、高いガス分離選択性をも実現し、さらに高い製膜適性を有する。また、それを用いた高性能ガス分離モジュールおよび分離装置の提供を可能とする。さらに、上記の高性能を発揮するガス分離複合膜を製造することができる。
本発明の上記及び他の特徴および利点は、適宜添付の図面を参照して、下記の記載からより明らかになるであろう。
本発明の上記及び他の特徴および利点は、適宜添付の図面を参照して、下記の記載からより明らかになるであろう。
本発明のガス分離複合膜は、架橋ポリイミド樹脂を含有してなるガス分離層をガス透過性の支持層上側に有する。そして、前記架橋ポリイミド樹脂は、ポリイミド化合物がその分子内もしくは別分子由来のカチオン架橋性の官能基で架橋されてなる。この特有の架橋構造を持つポリイミド樹脂は、二酸化炭素を始めとしたガスの分離に優れた効果を発揮する。この理由(作用機構)については未解明の点も含むが、以下のように推定される。
気体分子が薄膜を透過する際、クヌーセン機構またはハーゲン・ポアズイユ機構(多孔質膜)、表面拡散機構(多孔質膜)、分子ふるい機構(多孔質膜)、溶解・拡散機構(非多孔質膜)等の関与が考慮される(日本ポリイミド・芳香族系高分子研究会編「新訂 最新ポリイミド ~基礎と応用~」,365-376頁参照)。ここで、CO2とCH4の分離についていうと両者はいずれも低分子量の化合物であり、しかも分離対象となる分子の大きさが近似している。このような場合には、上記の溶解・拡散機構の制御が重要となる(永井一清監修 シーエムシー出版,「気体分離膜・透過膜・バリア膜の最新技術」,52-59頁参照)。それゆえに、二酸化炭素の透過性(透過係数)を分離対象ガスに対して選択的に向上させるためには、二酸化炭素の高分子膜に対する溶解度係数(溶解性)および/または拡散係数(拡散性)を選択的に向上させればよいことになる。二酸化炭素は分子内で分極した四重極子構造であり、極性を有する化学構造と親和性を有し、例えば、ポリエチレングリコールは二酸化炭素との溶解性が高いことが報告されている(Journal of Physical Chemistry,1990,94,2124-2128参照)。このような観点を活かし、ポリエチレンオキシ(PEO)組成を含む分離膜が検討されている(Journal of Membrane Science,1999,160,87-99、特開平7-60079号公報、国際公開第08/143514号パンフレット、国際公開第08/143515号パンフレット、国際公開第08/143516号パンフレット参照)。これは二酸化炭素がポリエチレンオキシ組成との相互作用が強いことに起因する。このポリエチレンオキシ膜はガラス転移温度の低い柔軟なゴム状のポリマー膜であるため、ガス種による拡散係数の差は小さく、分離選択性は溶解度の差の効果によるものが主である。
これに対し、本発明では、特定のカチオン架橋官能基でポリイミドの高分子鎖が連結されたため、その架橋形態が好適化され、ポリイミド化合物が有する溶解・拡散性と相俟って、特有の拡散選択性を発揮したと考えられる(高ガス選択性)。また、カチオン架橋されることにより膜内で均質かつ劣化のない架橋形態が実現され、良好な曲げ性を有し、薄い支持層にも適合して優れた製造適性を発揮するものと考えられる。
以下、本発明について詳細に説明する。
以下、本発明について詳細に説明する。
[複合膜]
本発明の複合膜はガス透過性の支持層の上側に、架橋ポリイミド樹脂を含有してなるガス分離層が形成されている。この複合膜は、多孔質性の支持体の少なくとも表面に、上記のガス分離層をなす塗布液(ドープ)を塗布(本明細書において塗布とは浸漬により表面に付着される態様を含む意味である。)、活性放射線を照射することにより形成することが好ましい。図1は、本発明の好ましい実施形態であるガス分離複合膜10を模式的に示す断面図である。1はガス分離層、2は多孔質層からなる支持層である。図2は、本発明の好ましい実施形態であるガス分離複合膜20を模式的に示す断面図である。この実施形態では、ガス分離層1および多孔質層2に加え、支持層として不織布層3が追加されている。
本発明の複合膜はガス透過性の支持層の上側に、架橋ポリイミド樹脂を含有してなるガス分離層が形成されている。この複合膜は、多孔質性の支持体の少なくとも表面に、上記のガス分離層をなす塗布液(ドープ)を塗布(本明細書において塗布とは浸漬により表面に付着される態様を含む意味である。)、活性放射線を照射することにより形成することが好ましい。図1は、本発明の好ましい実施形態であるガス分離複合膜10を模式的に示す断面図である。1はガス分離層、2は多孔質層からなる支持層である。図2は、本発明の好ましい実施形態であるガス分離複合膜20を模式的に示す断面図である。この実施形態では、ガス分離層1および多孔質層2に加え、支持層として不織布層3が追加されている。
支持層上側とは、支持層とガス分離層との間に他の層が介在してもよい意味である。なお、上下の表現については、特に断らない限り、分離対象となるガスが供給される方向を「上」とし、分離されたガスが出される方向を「下」とする。ただし、この説明および添付の図面によって本発明が限定して解釈されるものではない。
本発明のガス分離複合膜は、多孔質性の支持体(支持層)の表面ないし内面にガス分離層を形成・配置するようにしてもよく、表面に塗布形成して複合膜としてもよい。多孔質性の支持体の少なくとも表面に、ガス分離層を形成することで、高分離選択性と高ガス透過性、更には機械的強度を兼ね備えるという利点を有する複合膜とすることができる。分離層の膜厚としては機械的強度、分離選択性を維持しつつ高ガス透過性を付与する条件において可能な限り薄膜であることが好ましい。
本発明のガス分離複合膜において、ガス分離層の厚さは特に限定されないが、0.01~5.0μmであることが好ましく、0.1~2.0μmであることがより好ましい。なお、本明細書において「から」は「~」と同じ意味で用い、その前後で規定される数値ないし番号を含む意味である。
支持層に好ましく適用される多孔質支持体(多孔質層)は、機械的強度および高気体透過性の付与に合致する目的のものであれば、特に限定されるものではなく有機、無機どちらの素材であっても構わないが、好ましくは有機高分子の多孔質膜であり、その厚さは1~3000μm、好ましくは5~500μmであり、より好ましくは5~150μmである。この多孔質膜の細孔構造は、通常平均細孔直径が10μm以下、好ましくは0.5μm以下、より好ましくは0.2μm以下であり、空孔率は好ましくは20~90%であり、より好ましくは30~80%である。また、その気体透過率は二酸化炭素透過速度で3×10-5cm3(STP)/cm2・sec・cmHg(30GPU)以上であることが好ましい。多孔質膜の素材としては、従来公知の高分子、例えばポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂等、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン等の含フッ素樹脂等、ポリスチレン、酢酸セルロース、ポリウレタン、ポリアクリロニトリル、ポリフェニレンオキシド、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリイミド、ポリアラミド等の各種樹脂を挙げることができる。なかでも、前記ポリイミド化合物を塗布して架橋するときの製造適正に優れ、高いガス透過性と分離選択性とを同時に達成する観点から、支持層が、ポリアクリロニトリル、ポリスルホン、ポリフェニレンオキシドからなるものであることが好ましく、ポリアクリロニトリルからなるものであることがより好ましい。多孔質膜の形状は、平板状、スパイラル状、管状、中空糸状などいずれの形状でも構わない。
本発明においては、ガス分離層を形成する支持層を適用することを必須の要件とする。この支持層は上述したように薄く、多孔質な素材であることが、十分なガス透過性を確保でき好ましい。また、後述するガス分離層の優れたガス分離選択性を最大限に引き出すためにも、薄膜多孔質の形態が好ましい。一方、ガス分離膜の成形に高温・長時間等のシビアな反応条件が課される場合には、上述した薄く多孔質の支持層を損傷し、複合膜として十分な性能を発揮できない場合がある。かかる観点から、本発明が採用するカチオン架橋性のポリイミド化合物を利用したガス分離複合膜は穏和な条件で製膜することができ、優れた効果を発揮し、製造適正と、製品品質との両面で高い性能を発揮しうる。
本発明においては、ガス分離層を形成する支持層である多孔質層の下部(ガス分離層とは反対側)にさらに機械的強度を付与するために支持体が形成されていることが望ましい。このような支持体としては、織布、不織布、ネット等が挙げられるが、製膜性およびコスト面から不織布が好適に用いられる。不織布としてはポリエステル、ポリプロピレン、ポリアクリロニトリル、ポリエチレン、ポリアミド等からなる繊維を単独あるいは複数を組み合わせて用いてもよい。不織布は、例えば、水に均一に分散した主体繊維とバインダー繊維を円網や長網等で抄造し、ドライヤーで乾燥することにより製造できる。また、毛羽を除去したり機械的性質を向上させたり等の目的で、不織布を2本のロール挟んで圧熱加工を施すことも好ましい。
前記多孔質層の分画分子量は、100,000以下であることが好ましく、70,000~5,000であることがより好ましい。分画分子量をこの範囲とすることで、ポリイミド溶液を多孔質支持膜上に塗布する際に、支持膜下層への浸透を抑制しながら、薄層でかつ欠陥の少ない分離層を構築することができる。
前記多孔質層の分画分子量は、100,000以下であることが好ましく、70,000~5,000であることがより好ましい。分画分子量をこの範囲とすることで、ポリイミド溶液を多孔質支持膜上に塗布する際に、支持膜下層への浸透を抑制しながら、薄層でかつ欠陥の少ない分離層を構築することができる。
とりわけ、供給されるガスが二酸化炭素とメタンとの混合ガスであり、40℃、8気圧における二酸化炭素の透過速度が20GPU超であることが好ましく、20~300GPUであることがより好ましい。二酸化炭素とメタンとの透過速度比(RCO2/RCH4)は20以上であることが好ましく、20~50であることがより好ましい。
なお、1GPUは1×10-6cm3(STP)/s・cm2・cmHgである。
なお、1GPUは1×10-6cm3(STP)/s・cm2・cmHgである。
上記選択的なガス透過には膜への溶解・拡散機構が関与すると考えられることは前述のとおりであるが、このような観点を活かし、ポリエチレンオキシ(PEO)組成を含む分離膜が検討されている(Journal of Membrane Science,1999,160,87-99参照)。これは二酸化炭素がポリエチレンオキシ組成との相互作用が強いことに起因する。このポリエチレンオキシ膜はガラス転移温度の低い柔軟なゴム状のポリマー膜であるため、ガス種による拡散係数の差は小さく、分離選択性は溶解度の差の効果によるものが主である。これに対し、本発明によれば、そこに適用されるポリイミド化合物のガラス転移温度が高く、上記溶解・拡散作用を発揮させながら、膜の熱的な耐久性という観点でも大幅に改善することができる。
[ポリイミド化合物]
(カチオン架橋性官能基)
本発明においてガス分離層に適用される、架橋ポリイミド樹脂をなすポリイミド化合物は特に限定されないが、カチオン架橋により形成されるものである。ポリイミド化合物に直接カチオン架橋性官能基が置換されている場合、その官能基としては、カチオン架橋し得るものであれば特に限定されるものではないが、環状構造の原子群を含むことが好ましい。
具体的にはエポキシ(オキシラン)基、オキセタン基、ビニルエーテル基、アルケニルエーテル基、アレーンエーテル基およびケテンアセタール基、またはこれらの基を含む基であることが好ましい。なかでも、オキシラン基(オキシラン環)、オキセタン基(オキセタン環)、またはこれらを含む基が好ましい。
(カチオン架橋性官能基)
本発明においてガス分離層に適用される、架橋ポリイミド樹脂をなすポリイミド化合物は特に限定されないが、カチオン架橋により形成されるものである。ポリイミド化合物に直接カチオン架橋性官能基が置換されている場合、その官能基としては、カチオン架橋し得るものであれば特に限定されるものではないが、環状構造の原子群を含むことが好ましい。
具体的にはエポキシ(オキシラン)基、オキセタン基、ビニルエーテル基、アルケニルエーテル基、アレーンエーテル基およびケテンアセタール基、またはこれらの基を含む基であることが好ましい。なかでも、オキシラン基(オキシラン環)、オキセタン基(オキセタン環)、またはこれらを含む基が好ましい。
一方、ポリイミド化合物にカチオン架橋し得る官能基を有していない場合(カチオン架橋性の官能基を有していてもよいが)、上記の好ましいカチオン架橋性の官能基を有する化合物と共存させ、適切な熱あるいは光エネルギーを付与することで所望の架橋ポリイミド膜を得ることができる。その場合、ポリイミド化合物はカチオン架橋性の官能基を有する化合物とさらに架橋反応することができるような置換基を有していることが望ましく、このような置換基としては、アミノ基(アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基を含み、好ましくは炭素数0~30、より好ましくは炭素数0~20、特に好ましくは炭素数0~10のアミノ基であり、例えばアミノ、メチルアミノなどが挙げられる。)、ヒドロキシ基、メルカプト基、スルホ基、カルボキシル基、オキソ基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基などが挙げられる。
なお、本明細書において「化合物」という語を末尾に付して呼ぶときには、当該化合物そのものに加え、その塩、錯体、そのイオンを含む意味に用いる。また、所望の効果を奏する範囲で、所定の置換基を伴ったあるいは所定の形態で修飾された誘導体を含む意味である。また、本明細書において置換基に関して「基」という語を末尾に付して呼ぶときには、その基に任意の置換基を有していてもよい意味である。
カチオン架橋によるポリイミド膜の生成の形態としては、ポリイミド由来の架橋性官能基による場合とそれ以外の別分子の架橋性官能基に由来する場合とを考慮し、典型的には、下記に大別される。
(i)ポリマーがカチオン架橋性の官能基を有している場合であって単独で架橋膜を形成する形態。
(ii)カチオン架橋性の化合物と、水酸基やカルボキシル基のようなプロトン源となり得る官能基を有しているポリマーとを組み合わせて架橋膜を形成する形態。
(iii)ポリマーも添加剤もともにカチオン架橋性の官能基を有しており(例えば、オキセタン環を有するポリマーとエポキシ化合物の組み合わせ、など)両者により架橋膜を形成する形態。
(i)ポリマーがカチオン架橋性の官能基を有している場合であって単独で架橋膜を形成する形態。
(ii)カチオン架橋性の化合物と、水酸基やカルボキシル基のようなプロトン源となり得る官能基を有しているポリマーとを組み合わせて架橋膜を形成する形態。
(iii)ポリマーも添加剤もともにカチオン架橋性の官能基を有しており(例えば、オキセタン環を有するポリマーとエポキシ化合物の組み合わせ、など)両者により架橋膜を形成する形態。
本発明の架橋ポリイミド樹脂は、ポリイミド化合物がその分子もしくは別分子由来のカチオン架橋性官能基で架橋された構造を有するが、架橋前のカチオン架橋性官能基は、ポリイミド化合物の側鎖に有するものが好ましく、ポリイミド化合物のテトラカルボン酸成分に有しても、ジアミン成分に有していてもよい。
本発明においては、ラジカル架橋性官能基をジアミン成分に有することが好ましい。
本発明においては、ラジカル架橋性官能基をジアミン成分に有することが好ましい。
本発明のポリイミド化合物は、テトラカルボン酸成分とジアミン化合物成分からなるが、テトラカルボン酸成分とジアミン化合物成分はどのようなものでも構わない。
テトラカルボン酸成分のテトラカルボン酸や、ジアミン化合物成分のジアミン化合物は、芳香族でも、脂肪族でも、ヘテロ環(芳香族ヘテロ環や非芳香族ヘテロ環)のテトラカルボン酸や、ジアミン化合物であってもよい。
本発明においては、テトラカルボン酸成分、ジアミン化合物成分は芳香族のものが好ましい。
テトラカルボン酸成分は、ビスもしくはトリス芳香族ジカルボン酸構造、縮合多環構造、脂環構造、ヘテロ環構造、ベンゼン単環構造が挙げられる。
ベンゼン単環構造の場合、1,2,4,5-ベンゼンテトライル、1,2,3,4-ベンゼンテトライルが挙げられるが、1,2,3,4-ベンゼンテトライルが好ましい。
本発明のポリイミド化合物は、下記一般式(I)で表される繰り返し単位を含むことが特に好ましい。
テトラカルボン酸成分のテトラカルボン酸や、ジアミン化合物成分のジアミン化合物は、芳香族でも、脂肪族でも、ヘテロ環(芳香族ヘテロ環や非芳香族ヘテロ環)のテトラカルボン酸や、ジアミン化合物であってもよい。
本発明においては、テトラカルボン酸成分、ジアミン化合物成分は芳香族のものが好ましい。
テトラカルボン酸成分は、ビスもしくはトリス芳香族ジカルボン酸構造、縮合多環構造、脂環構造、ヘテロ環構造、ベンゼン単環構造が挙げられる。
ベンゼン単環構造の場合、1,2,4,5-ベンゼンテトライル、1,2,3,4-ベンゼンテトライルが挙げられるが、1,2,3,4-ベンゼンテトライルが好ましい。
本発明のポリイミド化合物は、下記一般式(I)で表される繰り返し単位を含むことが特に好ましい。
本発明のポリイミド化合物は、下記一般式(I)で表される繰り返し単位と、下記一般式(II-a)または(II-b)で表される繰り返し単位の少なくとも一種と、下記一般式(III-a)または(III-b)で表される繰り返し単位の少なくとも一種とをそれぞれ含むものが好ましい。
一般式(I)において、Rは下記一般式(I-a)~(I-g)からなる群から選択される原子群を表す。
一般式(I-a)~(I-g)中、X1は単結合または2価の連結基を表す。Y1はメチレン基またはビニレン基を表す。R1およびR2は各々独立に水素原子または置換基を表し、R1とR2が互いに結合し環を形成してもよい。*は一般式(I)におけるイミドのカルボニル基との結合部位を表す。
一般式(II-a)中、R3は置換基を表し、l1は0~4の整数を表す。一般式(II-b)中、R4およびR5は各々独立に置換基を表し、R4とR5が互いに結合して環を形成してもよい。m1およびn1は各々独立に0~4の整数を表す。X2は単結合または2価の連結基を表す。
一般式(III-a)、(III-b)中、R6、R7およびR8は各々独立に置換基を表す。R7とR8が互いに結合して環を形成してもよい。J1およびJ2、W1は単結合または2価の連結基を表す。l2、m2、n2は各々独立に0~3の整数を表す。L1は2価の連結基を表し、L2は反応性基を表す。pは0以上の整数を表す。pが2以上の場合、複数存在するL1、J2は同一でも異なっていてもよい。X3は単結合または2価の連結基を表す。
一般式(I)におけるRを母核と呼ぶことがあるが、この母核(R)は一般式(I-a)、(I-a)、(I-b)、(I-c)であることが好ましく、一般式(I-a)、(I-c)であることがより好ましく、一般式(I-a)であることが特に好ましい。
・X1、X2、X3
X1、X2、X3は一般式(I-a)、(II-b)、(III-b)に含まれ、各々独立に、単結合または2価の連結基を表す。具体的には、単結合、-C(Ra)2-(Raは水素原子または置換基を表す。Raが置換基の場合、2個のRaが互いに結合して環を形成してもよい。)、-O-、-SO2-、-CO-、-S-であることが好ましく、-C(Ra)2-、-O-、-SO2-、-CO-であることがより好ましい。
Raはアルキル基が好ましく、該アルキル基にハロゲン原子(特に好ましくはフッ素原子)が置換してもよい。-C(Ra)2-は中でも-C(CF3)2-が好ましい。
なお、本明細書において「互いに結合して環を形成してもよい」というときには、単結合、二重結合等により結合して環状構造を形成するものであっても、縮合して縮環構造を形成するものであってもよい。
X1、X2、X3は一般式(I-a)、(II-b)、(III-b)に含まれ、各々独立に、単結合または2価の連結基を表す。具体的には、単結合、-C(Ra)2-(Raは水素原子または置換基を表す。Raが置換基の場合、2個のRaが互いに結合して環を形成してもよい。)、-O-、-SO2-、-CO-、-S-であることが好ましく、-C(Ra)2-、-O-、-SO2-、-CO-であることがより好ましい。
Raはアルキル基が好ましく、該アルキル基にハロゲン原子(特に好ましくはフッ素原子)が置換してもよい。-C(Ra)2-は中でも-C(CF3)2-が好ましい。
なお、本明細書において「互いに結合して環を形成してもよい」というときには、単結合、二重結合等により結合して環状構造を形成するものであっても、縮合して縮環構造を形成するものであってもよい。
・R1、R2
R1、R2は各々独立に水素原子または置換基を表す。該置換基は、後述の置換基群Zで規定したものと同義であり、好ましい範囲も同じである。
R1、R2は各々独立に水素原子または置換基を表す。該置換基は、後述の置換基群Zで規定したものと同義であり、好ましい範囲も同じである。
R1、R2は水素原子またはアルキル基が好ましく、水素原子、メチル基またはエチル基がより好ましく、水素原子が更に好ましい。
・R3、R4、R5
R3、R4、R5は各々独立に置換基を表し、アルキル基、水酸基、カルボキシル基、スルホン酸基、アミノ基またはハロゲン原子が好ましい。該置換基は、後述の置換基群Zで規定したものと同義であり、好ましい範囲も同じである。l1、m1、n1は0~4の整数を表すが、1~4が好ましく、3~4がより好ましい。
R4とR5が互いに結合して環を形成してもよく、R4とR5が互いに結合して、-SO2-、-S-、-O-、メチレンのような2価の基となってもよい。
R3、R4、R5は各々独立に置換基を表し、アルキル基、水酸基、カルボキシル基、スルホン酸基、アミノ基またはハロゲン原子が好ましい。該置換基は、後述の置換基群Zで規定したものと同義であり、好ましい範囲も同じである。l1、m1、n1は0~4の整数を表すが、1~4が好ましく、3~4がより好ましい。
R4とR5が互いに結合して環を形成してもよく、R4とR5が互いに結合して、-SO2-、-S-、-O-、メチレンのような2価の基となってもよい。
・R6、R7、R8
R6、R7、R8は各々独立に置換基を表し、アルキル基、水酸基、カルボキシル基、スルホン酸基、アミノ基またはハロゲン原子が好ましい。該置換基は、置換基群Zで規定したものと同義であり、好ましい範囲も同じである。l2、m2、n2は0~3の整数を表すが、1~3が好ましく、2~3がより好ましい。
R7とR8が互いに結合して環を形成してもよい。
R6、R7、R8は各々独立に置換基を表し、アルキル基、水酸基、カルボキシル基、スルホン酸基、アミノ基またはハロゲン原子が好ましい。該置換基は、置換基群Zで規定したものと同義であり、好ましい範囲も同じである。l2、m2、n2は0~3の整数を表すが、1~3が好ましく、2~3がより好ましい。
R7とR8が互いに結合して環を形成してもよい。
・J1、J2
J1、J2は単結合または2価の連結基を表し、*-O-**、*-S-**、*-CO-**、*-C(=O)O-**、*-CONR9-**、*-OC(=O)-**、*-COO-N+(R9)(R10)(R11)-**、*-SO3 -N+(R11)(R12)(R13)-**、メチレン基、フェニレン基、または*-C6H5CO-**基を表す。*はJ2のときL1側、J1のときフェニレン基側の結合手を表し、**はその逆の結合手を表す。R9、R10、R11、R12およびR13は水素原子、アルキル基、アリール基、またはアラルキル基を表す。中でも、*-CO-**、*-COO-**、*-CONR9-**、*-OCO-**、メチレン基、フェニレン基、または*-C6H4CO-**基を表すことが好ましい。R9~R13の好ましい範囲は、後述の置換基群Zで説明するアルキル基、アリール基の好ましい範囲と同じである。これらのうち、J1、J2としては*-CO-**、*-COO-**または*-OCO-**が好ましく、*-COO-**が特に好ましい。
J1、J2は単結合または2価の連結基を表し、*-O-**、*-S-**、*-CO-**、*-C(=O)O-**、*-CONR9-**、*-OC(=O)-**、*-COO-N+(R9)(R10)(R11)-**、*-SO3 -N+(R11)(R12)(R13)-**、メチレン基、フェニレン基、または*-C6H5CO-**基を表す。*はJ2のときL1側、J1のときフェニレン基側の結合手を表し、**はその逆の結合手を表す。R9、R10、R11、R12およびR13は水素原子、アルキル基、アリール基、またはアラルキル基を表す。中でも、*-CO-**、*-COO-**、*-CONR9-**、*-OCO-**、メチレン基、フェニレン基、または*-C6H4CO-**基を表すことが好ましい。R9~R13の好ましい範囲は、後述の置換基群Zで説明するアルキル基、アリール基の好ましい範囲と同じである。これらのうち、J1、J2としては*-CO-**、*-COO-**または*-OCO-**が好ましく、*-COO-**が特に好ましい。
・W1
W1は単結合または2価の連結基を表す。2価の連結基としては、例えば、直鎖、分岐もしくは環状のアルキレン基(好ましくは炭素数1~30、より好ましくは炭素数1~12、更に好ましくは炭素数1~4のアルキレン基であり、例えばメチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン、へキシレン、オクチレン、デシレンなどが挙げられる。)、アルキレンオキシ基(好ましくは炭素数1~30、より好ましくは炭素数1~12、更に好ましくは炭素数1~4のアルキレンオキシ基であり、例えばメチレンオキシ、エチレンオキシ、プロピレンオキシ、ブチレンオキシ、ペンチレンオキシ、へキシレンオキシ、オクチレンオキシ、デシレンオキシなどが挙げられる。)、アラルキレン基(好ましくは炭素数7~30、より好ましくは炭素数7~13のアラルキレン基であり、例えばベンジリデン、シンナミリデンなどが挙げられる。)、アリーレン基(好ましくは炭素数6~30、より好ましくは炭素数6~15のアリーレン基であり、例えば、フェニレン、クメニレン、メシチレン、トリレン、キシリレンなどが挙げられる。)などが挙げられる。これらは更に置換基を有していてもよい。
W1は単結合または2価の連結基を表す。2価の連結基としては、例えば、直鎖、分岐もしくは環状のアルキレン基(好ましくは炭素数1~30、より好ましくは炭素数1~12、更に好ましくは炭素数1~4のアルキレン基であり、例えばメチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン、へキシレン、オクチレン、デシレンなどが挙げられる。)、アルキレンオキシ基(好ましくは炭素数1~30、より好ましくは炭素数1~12、更に好ましくは炭素数1~4のアルキレンオキシ基であり、例えばメチレンオキシ、エチレンオキシ、プロピレンオキシ、ブチレンオキシ、ペンチレンオキシ、へキシレンオキシ、オクチレンオキシ、デシレンオキシなどが挙げられる。)、アラルキレン基(好ましくは炭素数7~30、より好ましくは炭素数7~13のアラルキレン基であり、例えばベンジリデン、シンナミリデンなどが挙げられる。)、アリーレン基(好ましくは炭素数6~30、より好ましくは炭素数6~15のアリーレン基であり、例えば、フェニレン、クメニレン、メシチレン、トリレン、キシリレンなどが挙げられる。)などが挙げられる。これらは更に置換基を有していてもよい。
・L1
L1は2価の連結基を表し、その具体的な例としては下記の式(L-1)~(L-35)で表される構造単位またはこれらを組み合わせて構成される連結基を挙げることができる。なお、下記連結基の*がW1側の結合手であり、**がJ2側の結合手である。
L1は2価の連結基を表し、その具体的な例としては下記の式(L-1)~(L-35)で表される構造単位またはこれらを組み合わせて構成される連結基を挙げることができる。なお、下記連結基の*がW1側の結合手であり、**がJ2側の結合手である。
L1は、式(L-1)~(L-35)、アルキレン基、アルキレンオキシ基またはアリーレン基が好ましい。
・L2
L2はカチオン架橋性の官能基を表す。中でも、エポキシ基、オキセタン基、ビニルエーテル基、アルケニルエーテル基、アレーンエーテル基およびケテンアセタール基であることが好ましく、エポキシ基、オキセタン基、ビニルエーテル基、ケテンアセタール基がより好ましく、エポキシ基あるいはオキセタン基が特に好ましい。エポキシ基を含有する化合物とオキセタン基を含有する化合物を併用することも好ましく用いられる。
L2はカチオン架橋性の官能基を表す。中でも、エポキシ基、オキセタン基、ビニルエーテル基、アルケニルエーテル基、アレーンエーテル基およびケテンアセタール基であることが好ましく、エポキシ基、オキセタン基、ビニルエーテル基、ケテンアセタール基がより好ましく、エポキシ基あるいはオキセタン基が特に好ましい。エポキシ基を含有する化合物とオキセタン基を含有する化合物を併用することも好ましく用いられる。
・p
pは0以上の整数を表し、0~10が好ましく、0~5がより好ましい。pを上記下限値以上とすることで架橋反応をすることができ、上記上限値以下とすることで透過性の低下を抑制することができる。
pは0以上の整数を表し、0~10が好ましく、0~5がより好ましい。pを上記下限値以上とすることで架橋反応をすることができ、上記上限値以下とすることで透過性の低下を抑制することができる。
置換基群Z:
アルキル基(好ましくは炭素数1~30、より好ましくは炭素数1~20、特に好ましくは炭素数1~10のアルキル基であり、例えばメチル、エチル、iso-プロピル、tert-ブチル、n-オクチル、n-デシル、n-ヘキサデシル)、シクロアルキル基(好ましくは炭素数3~30、より好ましくは炭素数3~20、特に好ましくは炭素数3~10のシクロアルキル基であり、例えばシクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。)、アルケニル基(好ましくは炭素数2~30、より好ましくは炭素数2~20、特に好ましくは炭素数2~10のアルケニル基であり、例えばビニル、アリル、2-ブテニル、3-ペンテニルなどが挙げられる。)、アルキニル基(好ましくは炭素数2~30、より好ましくは炭素数2~20、特に好ましくは炭素数2~10のアルキニル基であり、例えばプロパルギル、3-ペンチニルなどが挙げられる。)、アリール基(好ましくは炭素数6~30、より好ましくは炭素数6~20、特に好ましくは炭素数6~12のアリール基であり、例えばフェニル、p-メチルフェニル、ナフチル、アントラニルなどが挙げられる。)、アミノ基(アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基を含み、好ましくは炭素数0~30、より好ましくは炭素数0~20、特に好ましくは炭素数0~10のアミノ基であり、例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノ、ジフェニルアミノ、ジトリルアミノなどが挙げられる。)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1~30、より好ましくは炭素数1~20、特に好ましくは炭素数1~10のアルコキシ基であり、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシ、2-エチルヘキシロキシなどが挙げられる。)、アリールオキシ基(好ましくは炭素数6~30、より好ましくは炭素数6~20、特に好ましくは炭素数6~12のアリールオキシ基であり、例えばフェニルオキシ、1-ナフチルオキシ、2-ナフチルオキシなどが挙げられる。)、ヘテロ環オキシ基(好ましくは炭素数1~30、より好ましくは炭素数1~20、特に好ましくは炭素数1~12のヘテロ環オキシ基であり、例えばピリジルオキシ、ピラジルオキシ、ピリミジルオキシ、キノリルオキシなどが挙げられる。)、
アルキル基(好ましくは炭素数1~30、より好ましくは炭素数1~20、特に好ましくは炭素数1~10のアルキル基であり、例えばメチル、エチル、iso-プロピル、tert-ブチル、n-オクチル、n-デシル、n-ヘキサデシル)、シクロアルキル基(好ましくは炭素数3~30、より好ましくは炭素数3~20、特に好ましくは炭素数3~10のシクロアルキル基であり、例えばシクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。)、アルケニル基(好ましくは炭素数2~30、より好ましくは炭素数2~20、特に好ましくは炭素数2~10のアルケニル基であり、例えばビニル、アリル、2-ブテニル、3-ペンテニルなどが挙げられる。)、アルキニル基(好ましくは炭素数2~30、より好ましくは炭素数2~20、特に好ましくは炭素数2~10のアルキニル基であり、例えばプロパルギル、3-ペンチニルなどが挙げられる。)、アリール基(好ましくは炭素数6~30、より好ましくは炭素数6~20、特に好ましくは炭素数6~12のアリール基であり、例えばフェニル、p-メチルフェニル、ナフチル、アントラニルなどが挙げられる。)、アミノ基(アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基を含み、好ましくは炭素数0~30、より好ましくは炭素数0~20、特に好ましくは炭素数0~10のアミノ基であり、例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノ、ジフェニルアミノ、ジトリルアミノなどが挙げられる。)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1~30、より好ましくは炭素数1~20、特に好ましくは炭素数1~10のアルコキシ基であり、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシ、2-エチルヘキシロキシなどが挙げられる。)、アリールオキシ基(好ましくは炭素数6~30、より好ましくは炭素数6~20、特に好ましくは炭素数6~12のアリールオキシ基であり、例えばフェニルオキシ、1-ナフチルオキシ、2-ナフチルオキシなどが挙げられる。)、ヘテロ環オキシ基(好ましくは炭素数1~30、より好ましくは炭素数1~20、特に好ましくは炭素数1~12のヘテロ環オキシ基であり、例えばピリジルオキシ、ピラジルオキシ、ピリミジルオキシ、キノリルオキシなどが挙げられる。)、
アシル基(好ましくは炭素数1~30、より好ましくは炭素数1~20、特に好ましくは炭素数1~12のアシル基であり、例えばアセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルなどが挙げられる。)、アルコキシカルボニル基(好ましくは炭素数2~30、より好ましくは炭素数2~20、特に好ましくは炭素数2~12のアルコキシカルボニル基であり、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げられる。)、アリールオキシカルボニル基(好ましくは炭素数7~30、より好ましくは炭素数7~20、特に好ましくは炭素数7~12のアリールオキシカルボニル基であり、例えばフェニルオキシカルボニルなどが挙げられる。)、アシルオキシ基(好ましくは炭素数2~30、より好ましくは炭素数2~20、特に好ましくは炭素数2~10のアシルオキシ基であり、例えばアセトキシ、ベンゾイルオキシなどが挙げられる。)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2~30、より好ましくは炭素数2~20、特に好ましくは炭素数2~10のアシルアミノ基であり、例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノなどが挙げられる。)、
アルコキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数2~30、より好ましくは炭素数2~20、特に好ましくは炭素数2~12のアルコキシカルボニルアミノ基であり、例えばメトキシカルボニルアミノなどが挙げられる。)、アリールオキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数7~30、より好ましくは炭素数7~20、特に好ましくは炭素数7~12のアリールオキシカルボニルアミノ基であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノなどが挙げられる。)、スルホニルアミノ基(好ましくは炭素数1~30、より好ましくは炭素数1~20、特に好ましくは炭素数1~12であり、例えばメタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなどが挙げられる。)、スルファモイル基(好ましくは炭素数0~30、より好ましくは炭素数0~20、特に好ましくは炭素数0~12のスルファモイル基であり、例えばスルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイルなどが挙げられる。)、
カルバモイル基(好ましくは炭素数1~30、より好ましくは炭素数1~20、特に好ましくは炭素数1~12のカルバモイル基であり、例えばカルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイルなどが挙げられる。)、アルキルチオ基(好ましくは炭素数1~30、より好ましくは炭素数1~20、特に好ましくは炭素数1~12のアルキルチオ基であり、例えばメチルチオ、エチルチオなどが挙げられる。)、アリールチオ基(好ましくは炭素数6~30、より好ましくは炭素数6~20、特に好ましくは炭素数6~12のアリールチオ基であり、例えばフェニルチオなどが挙げられる。)、ヘテロ環チオ基(好ましくは炭素数1~30、より好ましくは炭素数1~20、特に好ましくは炭素数1~12のヘテロ環チオ基であり、例えばピリジルチオ、2-ベンズイミゾリルチオ、2-ベンズオキサゾリルチオ、2-ベンズチアゾリルチオなどが挙げられる。)、
スルホニル基(好ましくは炭素数1~30、より好ましくは炭素数1~20、特に好ましくは炭素数1~12のスルホニル基であり、例えばメシル、トシルなどが挙げられる。)、スルフィニル基(好ましくは炭素数1~30、より好ましくは炭素数1~20、特に好ましくは炭素数1~12のスルフィニル基であり、例えばメタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニルなどが挙げられる。)、ウレイド基(好ましくは炭素数1~30、より好ましくは炭素数1~20、特に好ましくは炭素数1~12のウレイド基であり、例えばウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイドなどが挙げられる。)、リン酸アミド基(好ましくは炭素数1~30、より好ましくは炭素数1~20、特に好ましくは炭素数1~12のリン酸アミド基であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられる。)、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子(例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子であり、より好ましくはフッ素原子が挙げられる)、
シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、オキソ基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基(好ましくは炭素数1~30、より好ましくは炭素数1~12のヘテロ環基であり、環構成原子のヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子が好ましく、例えばイミダゾリル、ピリジル、キノリル、フリル、チエニル、ピペリジル、モルホリノ、ベンズオキサゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリル、カルバゾリル、アゼピニルなどが挙げられる。)、シリル基(好ましくは炭素数3~40、より好ましくは炭素数3~30、特に好ましくは炭素数3~24のシリル基であり、例えばトリメチルシリル、トリフェニルシリルなどが挙げられる。)、シリルオキシ基(好ましくは炭素数3~40、より好ましくは炭素数3~30、特に好ましくは炭素数3~24のシリルオキシ基であり、例えばトリメチルシリルオキシ、トリフェニルシリルオキシなどが挙げられる。)などが挙げられる。これらの置換基は、更に上記置換基群Zより選択されるいずれか1つ以上の置換基により置換されてもよい。
なお、1つの構造部位に複数の置換基があるときには、それらの置換基は互いに連結して環を形成していたり、上記構造部位の一部または全部と縮環して芳香族環もしくは不飽和複素環を形成していたりしてもよい。
なお、1つの構造部位に複数の置換基があるときには、それらの置換基は互いに連結して環を形成していたり、上記構造部位の一部または全部と縮環して芳香族環もしくは不飽和複素環を形成していたりしてもよい。
ポリイミドは酸無水物とジアミン化合物との縮合重合により合成することができる。その方法としては一般的な書籍(例えば、株式会社エヌ・ティー・エス発行,今井淑夫、横田力男編著,最新ポリイミド~基礎と応用~,3~49頁など)に記載の方法を適宜選択することができる。本発明で使用し得る一般的な酸無水物の具体例としては例えば以下のようなものが挙げられる。
さらに一般的なジアミン化合物の具体例としては以下のようなものが挙げられる。
ポリイミド化合物として好ましい具体例を以下に挙げるが、本発明はこれらに限るものではない。本発明の架橋膜を得るに際しては、これらのポリマーを単独で用いても、または後述する架橋剤と組み合わせて用いても良い。
上記化学式のモル比〔式中の特定ユニット100に対するX/Y/Zの比率〕である。
また、分子量は質量平均分子量である。
また、分子量は質量平均分子量である。
本発明のポリマーは、他のモノマーとの共重合体であってもよい。他のモノマーとしては、例えば、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、ビニルエステル類、スチレン類、アクリル酸、メタクリル酸、アクリロニトリル、無水マレイン酸、マレイン酸イミド等の公知のモノマーも挙げられる。このようなモノマー類を共重合させることで、製膜性、膜強度、親水性、疎水性、溶解性、反応性、安定性等の諸物性を改善することができる。モノマーの合成法としては、例えば丸善株式会社 日本化学会編の「第5版 実験化学講座16 有機化合物の合成(II-1)」におけるエステル合成の項目や同編の「第5版 実験化学講座26 高分子化学」におけるモノマーの取り扱い、精製の項目などを参考にすることができる。
本発明において一般式(I)の構成単位の共重合比(RI)、一般式(II-a)および(II-b)の構成単位の共重合比(RII)、一般式(III-a)および(III-b)の構成単位の共重合比(RIII)は特に限定されないが下記であることが好ましい。
好ましい より好ましい 特に好ましい
RII 0.01~90mol% 0.1~90mol% 1~90mol%
RIII 0.01~17mol% 0.1~10mol% 1~10mol%
RIV * 0.01~90mol% 0.1~90mol% 1~90mol%
RII 0.01~90mol% 0.1~90mol% 1~90mol%
RIII 0.01~17mol% 0.1~10mol% 1~10mol%
RIV * 0.01~90mol% 0.1~90mol% 1~90mol%
*RIVはその他の構成単位の共重合比である。ただし、RI、RII、RIIIおよびRIVの各好ましい範囲において、RI=RII+RIII+RIVを満たす。
次ぎに、本発明のポリマーと組み合わせて用いることのできるカチオン架橋剤として好ましい具体例を以下に挙げるが、本発明はこれらに限るものではない。
上記のR-4におけるnは10~1000である。
本発明のガス分離複合膜は、カチオン架橋性官能基の機能により、何らかのエネルギーを付与することで硬化することにより形成することができる。
前記一般式(I)、(II-a)、(II-b)で表される部分構造に対応するモノマーとしては、オリゴマー、プレポリマーとしたものを用いてもよい。本発明の重合体は、ブロック共重合体、ランダム共重合体、グラフト共重合体などのいずれの形態の共重合体でも良いが、特にブロック共重合体やグラフト共重合体が、粘度、相溶性の観点で好ましい。
前記一般式(I)、(II-a)、(II-b)で表される部分構造の比率は、特に規定されるものではないが、架橋構造を複数有する部分構造の組成比が増加するに従い、分子構造の影響は多大にあるものの概して膜の強度、分離選択性は向上するが気体の透過性は低下する傾向があるため、それぞれ組成比として1~50質量%、好ましくは5~30質量%の範囲を目安として用いることが好ましいが、この範囲に限定されることなく、ガス分離の目的(回収率、純度など)に応じて組成比を変えることによりガス透過性と分離選択性を調整されるものである。
前記ポリイミド化合物の分子量は、架橋膜であるため特に限定されるものではない。好ましくは質量平均分子量として1,000~1000,000であり、より好ましくは5,000~500,000であり、さらに好ましくは5,000~100,000である。
分子量および分散度は特に断らない限りGPC(ゲルろ過クロマトグラフィー)法を用いて測定した値とし、分子量はポリスチレン換算の質量平均分子量である。GPC法に用いるカラムに充填されているゲルは芳香族化合物を繰り返し単位に持つゲルが好ましく、例えばスチレン-ジビニルベンゼン共重合体からなるゲルが挙げられる。カラムは2~6本連結させて用いることが好ましい。用いる溶媒は、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、N-メチルピロリジノン等のアミド系溶媒が挙げられる。測定は、溶媒の流速が0.1~2mL/minの範囲で行うことが好ましく、0.5~1.5mL/minの範囲で行うことが最も好ましい。この範囲内で測定を行うことで、装置に負荷がかからず、さらに効率的に測定ができる。測定温度は10~50℃で行うことが好ましく、20~40℃で行うことが最も好ましい。なお、使用するカラムおよびキャリアは測定対象となる高分子化合物の物性に応じて適宜選定することができる。
[架橋ポリイミド樹脂]
(架橋サイト比[η])
本発明においては、前記架橋ポリイミド樹脂における、前記ポリイミド化合物のイミド基と架橋サイトとの比[η](架橋サイトの数/イミド基の数)が0.0001~0.45であり、0.01~0.3であることが好ましく、0.01~0.2であることがより好ましく、0.01~0.1であることがさらに好ましい。さらに、低架橋サイト比の設定にする場合には、0.05以下が好ましく、0.04以下がより好ましく、0.02以下が特に好ましい。
(架橋サイト比[η])
本発明においては、前記架橋ポリイミド樹脂における、前記ポリイミド化合物のイミド基と架橋サイトとの比[η](架橋サイトの数/イミド基の数)が0.0001~0.45であり、0.01~0.3であることが好ましく、0.01~0.2であることがより好ましく、0.01~0.1であることがさらに好ましい。さらに、低架橋サイト比の設定にする場合には、0.05以下が好ましく、0.04以下がより好ましく、0.02以下が特に好ましい。
本明細書において「架橋サイト比[η]」は、架橋された架橋性官能基の数に基づくものであり、ポリイミド化合物に導入されていても、架橋されなかった架橋性官能基の数は除かれた算定値(比率)である。この値を上記下限値以上とすることで、高CO2濃度条件あるいは天然ガス中に含まれるベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族化合物あるいはヘキサン、ヘプタンなどの炭化水素不純物の影響による膜の可塑化にともなう分離選択性の低下を最小限に抑制することができ、上記上限値以下とすることで、架橋密度向上に伴うガス透過率の低下を最小限に抑制することができ、さらには折り曲げ時のクラック、脆性といった機械強度も改善することができる。
この架橋サイト比を所望の範囲とするには、ポリイミド化合物の合成時に適宜官能性架橋基の存在割合(例えば、後述する架橋性官能基密度[γ])を調整したり、架橋反応条件を変化させたりして架橋転化率(例えば、架橋性官能基の総数に対する架橋された官能基の数の比率(架橋転化率)[α])を調整することにより行うことができ、計算上は[η]=[γ]×[α]/200となる。具体的には、所定の範囲内で架橋サイトをもつモノマーの組成比を増やす、反応性を高める、多官能化する、あるいは別の架橋性置換基を有する素材を併用することで、架橋サイト比[η]を高めることができる。
(架橋構造)
本発明においては、架橋ポリイミド樹脂が、その架橋構造部位にエーテル構造を有することが好ましく、該エーテル構造には、(-R’-O-R’-)、-OCH(R”)CH2O-、-OCH2CH(R”)CH2O-、-OCH2CH(R”)O-という連結基を有することが好ましい。ここで、R’はアルキレン基を意味し、R”はアルキル基を意味する。これらの好ましいものは置換基群Zと同義である。下記に架橋反応の例を反応スキームで示すが、本発明がこれに限定して解釈されるのもではない。例えば、下記反応スキーム中の末端基である-O-CO-Rは、-O-Rであったりしてもよい。ここでRは水素原子または置換基を表す。
本発明においては、架橋ポリイミド樹脂が、その架橋構造部位にエーテル構造を有することが好ましく、該エーテル構造には、(-R’-O-R’-)、-OCH(R”)CH2O-、-OCH2CH(R”)CH2O-、-OCH2CH(R”)O-という連結基を有することが好ましい。ここで、R’はアルキレン基を意味し、R”はアルキル基を意味する。これらの好ましいものは置換基群Zと同義である。下記に架橋反応の例を反応スキームで示すが、本発明がこれに限定して解釈されるのもではない。例えば、下記反応スキーム中の末端基である-O-CO-Rは、-O-Rであったりしてもよい。ここでRは水素原子または置換基を表す。
(架橋性官能基密度[γ])
一般式(I)で表される繰り返し単位に対する、一般式(III-a)および(III-b)の官能基L2の数の比率を架橋性官能基密度[γ]という。このγ(官能基L2の数/一般式(I)で表される繰り返し単位の数)の好ましい範囲は、0.003~0.68であり、さらに好ましくは0.003~0.56である。
一般式(I)で表される繰り返し単位に対する、一般式(III-a)および(III-b)の官能基L2の数の比率を架橋性官能基密度[γ]という。このγ(官能基L2の数/一般式(I)で表される繰り返し単位の数)の好ましい範囲は、0.003~0.68であり、さらに好ましくは0.003~0.56である。
この架橋性官能基密度は、ポリイミド化合物を合成するときの基質(モノマー)の仕込み量で調節することができる。
(架橋転化率[α])
本発明の架橋転化率[α]は、膜の反射型赤外分光法測定において、二重結合部位のピーク(1640、810cm-1)および1H-NMRにより、二重結合ピークの架橋前後における減少により算出することができる。架橋転化率は20%以上100%以下が好ましく、50%以上94%以下がより好ましく、30%以上89%以下がさらに好ましい。
本発明の架橋転化率[α]は、膜の反射型赤外分光法測定において、二重結合部位のピーク(1640、810cm-1)および1H-NMRにより、二重結合ピークの架橋前後における減少により算出することができる。架橋転化率は20%以上100%以下が好ましく、50%以上94%以下がより好ましく、30%以上89%以下がさらに好ましい。
この架橋転化率は、ポリイミド化合物の架橋条件により調節を行うことができ、カチオン架橋反応開始剤の種類、架橋反応における温度、基質濃度、熱量、活性放射線の光量および照射時間を各種調整することで、架橋転化率を高めることができる。
[ガス分離膜の製造方法]
本発明のガス分離膜の製造方法は、好ましくは、上記ポリイミド化合物を含有する塗布液を支持体に塗布し、その塗布膜を、活性放射線を照射することにより形成する製造方法である。塗布膜を構成するための塗布液(ドープ)の成分組成は特に限定されないが、上記ポリイミド化合物と重合開始剤とを有機溶剤中に含むことが好ましい。ポリイミド化合物の含有量は特に限定されないが、塗布液中に、0.1~30質量%含まれることが好ましく、1~10質量%含まれることがより好ましい。上記下限値以上とすることで、濃度が薄い場合には、多孔質支持体上に製膜した際に、容易に下層に浸透してしまうために分離に寄与する表層に欠陥が生じる可能性が高くなる。一方、上記上限値以下とすることで濃度が高い場合における、薄層化あるいは透過性の低下を最低限に抑制することができる。この薄層化あるいは透過性の低下は、多孔質支持体上に製膜した際に孔内に高濃度に充填されてしまうことに起因する。本発明のガス分離膜は、分離層のポリマーの分子量、構造、組成さらには溶液粘度を調整することで適切に製造することができる。
本発明のガス分離膜の製造方法は、好ましくは、上記ポリイミド化合物を含有する塗布液を支持体に塗布し、その塗布膜を、活性放射線を照射することにより形成する製造方法である。塗布膜を構成するための塗布液(ドープ)の成分組成は特に限定されないが、上記ポリイミド化合物と重合開始剤とを有機溶剤中に含むことが好ましい。ポリイミド化合物の含有量は特に限定されないが、塗布液中に、0.1~30質量%含まれることが好ましく、1~10質量%含まれることがより好ましい。上記下限値以上とすることで、濃度が薄い場合には、多孔質支持体上に製膜した際に、容易に下層に浸透してしまうために分離に寄与する表層に欠陥が生じる可能性が高くなる。一方、上記上限値以下とすることで濃度が高い場合における、薄層化あるいは透過性の低下を最低限に抑制することができる。この薄層化あるいは透過性の低下は、多孔質支持体上に製膜した際に孔内に高濃度に充填されてしまうことに起因する。本発明のガス分離膜は、分離層のポリマーの分子量、構造、組成さらには溶液粘度を調整することで適切に製造することができる。
〔有機溶剤〕
有機溶剤としては、特に限定されるものではないが、n-ヘキサン、n-ヘプタン等の炭化水素系有機溶剤、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系有機溶剤、メタノール、エタノール、n-プロパノール、イソプロパノール、n-ブタノール、イソブタノール、tert-ブタノール等の低級アルコール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジアセトンアルコール、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等の脂肪族ケトン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、グリセリン、プロピレングリコール、エチレングリコールモノメチルもしくはモノエチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテル、トリプロピレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールフェニルエーテル、プロピレングリコールフェニルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルもしくはモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルもしくはモノエチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、メチルシクロペンチルエーテル、ジオキサン等のエーテル系有機溶剤、N-メチルピロリドン、2-ピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルイミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミドなどが挙げられる。
有機溶剤としては、特に限定されるものではないが、n-ヘキサン、n-ヘプタン等の炭化水素系有機溶剤、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系有機溶剤、メタノール、エタノール、n-プロパノール、イソプロパノール、n-ブタノール、イソブタノール、tert-ブタノール等の低級アルコール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジアセトンアルコール、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等の脂肪族ケトン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、グリセリン、プロピレングリコール、エチレングリコールモノメチルもしくはモノエチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテル、トリプロピレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールフェニルエーテル、プロピレングリコールフェニルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルもしくはモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルもしくはモノエチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、メチルシクロペンチルエーテル、ジオキサン等のエーテル系有機溶剤、N-メチルピロリドン、2-ピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルイミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミドなどが挙げられる。
これらの有機溶剤は支持体を浸蝕するなどの悪影響を及ぼさない範囲で適切に選択されるものであるが、好ましくは、エステル系(好ましくは酢酸ブチル)、アルコール系(好ましくはメタノール、エタノール、イソプロパノール、イソブタノール)、脂肪族ケトン(好ましくは、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジアセトンアルコール、シクロペンタノン、シクロヘキサノン)、エーテル系(エチレングリコール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、メチルシクロペンチルエーテル)が好ましく、さらに好ましくは脂肪族ケトン系、アルコール系、エーテル系である。またこれらは、1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
好ましくは後述する重合開始剤を含有し、活性放射線の照射により硬化することにより形成されるガス分離膜である。ここで活性放射線とは、その照射により膜組成物中において開始種を発生させうるエネルギーを付与することができるものであれば、特に制限はなく、広くα線、γ線、X線、紫外線、可視光線、電子線などが挙げられる。なかでも、硬化感度および装置の入手容易性の観点から紫外線および電子線が好ましく、特に紫外線が好ましい。
本発明において、紫外線を使用する場合には、後述の光重合開始剤を添加することが必要となる。電子線硬化の場合は、重合開始剤が不要であり、透過深さも深いので好ましい。電子線加速器としてはスキャニング方式、ダブルスキャニング方式またはカーテンビーム方式が採用できるが、好ましいのは比較的安価で大出力が得られるカーテンビーム方式である。電子線特性としては、加速電圧が30~1000kV、好ましくは50~300kVである。吸収線量として好ましくは5~200kGy(0.5~20Mrad)、より好ましくは20~100kGy(2~10Mrad)である。加速電圧および吸収線量が上記範囲内であると、十分な量のエネルギーが透過し、エネルギー効率がよい。電子線を照射する雰囲気は窒素雰囲気により酸素濃度を200ppm以下にすることが好ましく、この範囲内では表面近傍の架橋、硬化反応が良好に進む。
紫外線光源としては、水銀灯が用いられる。水銀灯は20~240W/cm2のランプを用い、速度0.3~20m/分で使用される。膜と水銀灯との距離は一般に1~30cmであることが好ましい。卓上型紫外線硬化装置を用いる場合は、1秒~10分程度、素材、環境により光量、光源の配置を適宜調整したうえで硬化させるのが望ましい。
放射線硬化装置、条件などについては、「UV・EB硬化技術」((株)総合技術センター発行)や「低エネルギー電子線照射の応用技術」(2000年,(株)シーエムシー発行)などに記載されている公知のものを用いることができる。硬化時に加熱工程を加えてもよい。
〔重合開始剤〕
本発明のガス分離膜を形成する工程において、カチオン重合開始剤を添加することが好ましく、光重合開始剤を添加することが特に好ましい。
光重合開始剤は光の作用、または増感色素の電子励起状態との相互作用を経て、化学変化を生じ、ラジカル、酸および塩基のうちの少なくともいずれか1種を生成する化合物であり、光反応により酸を発生する重合開始剤がより好ましい。
光重合開始剤は、照射される活性光線、例えば、400~200nmの紫外線、遠紫外線、g線、h線、i線、KrFエキシマレーザー光、ArFエキシマレーザー光、電子線、X線、分子線またはイオンビームなどに感度を有するものを適宜選択して使用することができる。
本発明のガス分離膜を形成する工程において、カチオン重合開始剤を添加することが好ましく、光重合開始剤を添加することが特に好ましい。
光重合開始剤は光の作用、または増感色素の電子励起状態との相互作用を経て、化学変化を生じ、ラジカル、酸および塩基のうちの少なくともいずれか1種を生成する化合物であり、光反応により酸を発生する重合開始剤がより好ましい。
光重合開始剤は、照射される活性光線、例えば、400~200nmの紫外線、遠紫外線、g線、h線、i線、KrFエキシマレーザー光、ArFエキシマレーザー光、電子線、X線、分子線またはイオンビームなどに感度を有するものを適宜選択して使用することができる。
具体的な光重合開始剤は当業者間で公知のものを制限なく使用でき、具体的には、例えば、Bruce M. Monroeら著,Chemical Revue,93,435(1993)や、R.S.Davidson著,Journal of Photochemistry and biology A :Chemistry,73.81(1993)や、J.P.Faussier’Photoinitiated Polymerization-Theory and Applications’:Rapra Review,vol.9,Report,Rapra Technology(1998)や、M.Tsunooka et al.,Prog.Polym.Sci.,21,1(1996)に多く記載されている。また、(有機エレクトロニクス材料研究会編,「イメージング用有機材料」,ぶんしん出版(1993年),187~192ページ参照)に化学増幅型フォトレジストや光カチオン重合に利用される化合物が多く記載されている。更には、F.D.Saeva,Topics in Current Chemistry,156,59(1990)、G.G.Maslak,Topics in Current Chemistry,168,1(1993)、H.B.Shuster et al,J.Am.Chem.Soc.,112,6329(1990)、I.D.F.Eaton et al,J.Am.Chem.Soc.,102,3298(1980)等に記載されているような、増感色素の電子励起状態との相互作用を経て、酸化的もしくは還元的に結合解裂を生じる化合物群も知られる。
好ましい光重合開始剤としては(a)芳香族ケトン類、(b)芳香族オニウム塩化合物、(c)有機過酸化物、(d)ヘキサアリールビイミダゾール化合物、(e)ケトオキシムエステル化合物、(f)ボレート化合物、(g)アジニウム化合物、(h)メタロセン化合物、(i)活性エステル化合物、(j)炭素ハロゲン結合を有する化合物等が挙げられる。
(a)芳香族ケトン類の好ましい例としては、J.P.FOUASSIER J.F.RABEK,「RADIATION CURING IN POLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY」,p77~117(1993)に記載のベンゾフェノン骨格またはチオキサントン骨格を有する化合物等が挙げられる。より好ましい(a)芳香族ケトン類の例としては、特公昭47-6416号公報に記載のα-チオベンゾフェノン化合物、特公昭47-3981号公報に記載のベンゾインエーテル化合物、特公昭47-22326号公報に記載のα-置換ベンゾイン化合物、特公昭47-23664号公報に記載のベンゾイン誘導体、特開昭57-30704号公報に記載のアロイルホスホン酸エステル、特公昭60-26483号公報に記載のジアルコキシベンゾフェノン、特公昭60-26403号公報、特開昭62-81345号公報に記載のベンゾインエーテル類、特公平1-34242号公報、米国特許第4,318,791号明細書、ヨーロッパ特許第0284561A1号明細書に記載のα-アミノベンゾフェノン類、特開平2-211452号公報に記載のp-ジ(ジメチルアミノベンゾイル)ベンゼン、特開昭61-194062号公報記に載のチオ置換芳香族ケトン、特公平2-9597号公報に記載のアシルホスフィンスルフィド、特公平2-9596号公報に記載のアシルホスフィン、特公昭63-61950号公報に記載のチオキサントン類、特公昭59-42864号公報に記載のクマリン類等を挙げることができる。
(b)芳香族オニウム塩としては、周期律表の第V、VIおよびVII族の元素、具体的にはN、P、As、Sb、Bi、O、S、Se、TeまたはIの芳香族オニウム塩が含まれる。例えば、欧州特許第104143号明細書、米国特許第4,837,124号明細書、特開平2-150848号公報、特開平2-96514号公報に記載されるヨードニウム塩類、欧州特許第370693号明細書、同第233567号明細書、同第297443号明細書、同第297442号明細書、同第279210号明細書および同第422570号各明細書、米国特許第3,902,144号明細書、同第4,933,377号明細書、同第4,760,013号明細書、同第4,734,444号明細書および同第2833827号明細書各明細書に記載されるスルホニウム塩類、ジアゾニウム塩類(置換基を有してもよいベンゼンジアゾニウム等)、ジアゾニウム塩樹脂類(ジアゾジフェニルアミンのホルムアルデヒド樹脂等)、N-アルコキシピリジニウム塩類等(例えば、米国特許第4,743,528号明細書、特開昭63-138345号公報、特開昭63-142345号公報、特開昭63-142346号公報および特公昭46-42363号公報の各公報等に記載されるもので、具体的には1-メトキシ-4-フェニルピリジニウム テトラフルオロボレート等)、更には特公昭52-147277号公報、同52-14278号公報および同52-14279号公報の各公報に記載の化合物が好適に使用される。これらは活性種としてラジカルや酸を生成する。
(c)「有機過酸化物」としては分子中に酸素-酸素結合を1個以上有する有機化合物のほとんど全てが含まれるが、その例としては、3,3’,4,4’-テトラ-(t-ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’-テトラ-(t-アミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’-テトラ-(t-ヘキシルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’-テトラ-(t-オクチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’-テトラ-(クミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’-テトラ-(p-イソプロピルクミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、ジ-t-ブチルジパーオキシイソフタレートなどの過酸化エステル系が好ましい。
(d)ヘキサアリールビイミダゾールとしては、特公昭45-37377号公報、特公昭44-86516号公報に記載のロフィンダイマー類、例えば2,2’-ビス(o-クロロフェニル)-4,4’,5,5’-テトラフェニルビイミダゾール、2,2’-ビス(o-ブロモフェニル)-4,4’,5,5’-テトラフェニルビイミダゾール、2,2’-ビス(o,p-ジクロロフェニル)-4,4’,5,5’-テトラフェニルビイミダゾール、2,2’-ビス(o-クロロフェニル)-4,4’,5,5’-テトラ(m-メトキシフェニル)ビイミダゾール、2,2’-ビス(o,o’-ジクロロフェニル)-4,4’,5,5’-テトラフェニルビイミダゾール、2,2’-ビス(o-ニトロフェニル)-4,4’,5,5’-テトラフェニルビイミダゾール、2,2’-ビス(o-メチルフェニル)-4,4’,5,5’-テトラフェニルビイミダゾール、2,2’-ビス(o-トリフルオロフェニル)-4,4’,5,5’-テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。
(e)ケトオキシムエステルとしては3-ベンゾイロキシイミノブタン-2-オン、3-アセトキシイミノブタン-2-オン、3-プロピオニルオキシイミノブタン-2-オン、2-アセトキシイミノペンタン-3-オン、2-アセトキシイミノ-1-フェニルプロパン-1-オン、2-ベンゾイロキシイミノ-1-フェニルプロパン-1-オン、3-p-トルエンスルホニルオキシイミノブタン-2-オン、2-エトキシカルボニルオキシイミノ-1-フェニルプロパン-1-オン等が挙げられる。
(f)ボレート塩の例としては米国特許第3,567,453号明細書、同第4,343,891号明細書、ヨーロッパ特許第109772号明細書、同第109773号明細書に記載されている化合物が挙げられる。
(g)アジニウム塩化合物の例としては、特開昭63-138345号公報、特開昭63-142345号公報、特開昭63-142346号公報、特開昭63-143537号公報または特公昭46-42363号公報に記載のN-O結合を有する化合物群を挙げることができる。
(g)アジニウム塩化合物の例としては、特開昭63-138345号公報、特開昭63-142345号公報、特開昭63-142346号公報、特開昭63-143537号公報または特公昭46-42363号公報に記載のN-O結合を有する化合物群を挙げることができる。
(h)メタロセン化合物は、例えば特開昭59-152396号公報、特開昭61-151197号公報、特開昭63-41484号公報、特開平2-249号公報、特開平2-4705号公報に記載のチタノセン化合物ならびに、特開平1-304453号公報、特開平1-152109号公報に記載の鉄-アレーン錯体を挙げることができる。
上記チタノセン化合物の具体例としては、ジ-シクロペンタジエニル-Ti-ジ-クロライド、ジ-シクロペンタジエニル-Ti-ビス-フェニル、ジ-シクロペンタジエニル-Ti-ビス-2,3,4,5,6-ペンタフルオロフェニ-1-イル、ジ-シクロペンタジエニル-Ti-ビス-2,3,5,6-テトラフルオロフェニ-1-イル、ジ-シクロペンタジエニル-Ti-ビス-2,4,6-トリフルオロフェニ-1-イル、ジ-シクロペンタジエニル-Ti-2,6-ジフルオロフェニ-1-イル、ジ-シクロペンタジエニル-Ti-ビス-2,4-ジフルオロフェニ-1-イル、ジ-メチルシクロペンタジエニル-Ti-ビス-2,3,4,5,6-ペンタフルオロフェニ-1-イル、ジ-メチルシクロペンタジエニル-Ti-ビス-2,3,5,6-テトラフルオロフェニ-1-イル、ジ-メチルシクロペンタジエニル-Ti-ビス-2,4-ジフルオロフェニ-1-イル、ビス(シクロペンタジエニル)-ビス(2,6-ジフルオロ-3-(ピリ-1-イル)フェニル)チタニウム、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6-ジフルオロ-3-(メチルスルホンアミド)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6-ジフルオロ-3-(N-ブチルビアロイル-アミノ)フェニル〕チタン等を挙げることができる。
上記チタノセン化合物の具体例としては、ジ-シクロペンタジエニル-Ti-ジ-クロライド、ジ-シクロペンタジエニル-Ti-ビス-フェニル、ジ-シクロペンタジエニル-Ti-ビス-2,3,4,5,6-ペンタフルオロフェニ-1-イル、ジ-シクロペンタジエニル-Ti-ビス-2,3,5,6-テトラフルオロフェニ-1-イル、ジ-シクロペンタジエニル-Ti-ビス-2,4,6-トリフルオロフェニ-1-イル、ジ-シクロペンタジエニル-Ti-2,6-ジフルオロフェニ-1-イル、ジ-シクロペンタジエニル-Ti-ビス-2,4-ジフルオロフェニ-1-イル、ジ-メチルシクロペンタジエニル-Ti-ビス-2,3,4,5,6-ペンタフルオロフェニ-1-イル、ジ-メチルシクロペンタジエニル-Ti-ビス-2,3,5,6-テトラフルオロフェニ-1-イル、ジ-メチルシクロペンタジエニル-Ti-ビス-2,4-ジフルオロフェニ-1-イル、ビス(シクロペンタジエニル)-ビス(2,6-ジフルオロ-3-(ピリ-1-イル)フェニル)チタニウム、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6-ジフルオロ-3-(メチルスルホンアミド)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6-ジフルオロ-3-(N-ブチルビアロイル-アミノ)フェニル〕チタン等を挙げることができる。
(i)活性エステル化合物は、例えば欧州特許第0290750号明細書、同第046083号明細書、同第156153号明細書、同第271851号明細書および同第0388343号明細書の各明細書、米国特許第3,901,710号明細書および同第4,181,531号各明細書、特開昭60-198538号公報および特開昭53-133022号公報の各公報に記載されるニトロベンズルエステル化合物、欧州特許第0199672号明細書、同第84515号明細書、同第199672号明細書、同第044115号明細書および同第0101122号明細書の各明細書、米国特許第4,618,564号明細書、同第4,371,605号明細書および同第4,431,774号明細書の各明細書、特開昭64-18143号公報、特開平2-245756号公報および特開平4-365048号公報の各公報に記載のイミノスルホネート化合物、特公昭62-6223号公報、特公昭63-14340号公報および特開昭59-174831号公報の各公報に記載される化合物等が挙げられる。
(j)炭素ハロゲン結合を有する化合物の好ましい例は、例えば、若林ら著,Bull.Chem.Soc.Japan,42,2924(1969)に記載の化合物、英国特許第1388492号明細書に記載の化合物、特開昭53-133428号公報に記載の化合物、独国特許第3337024号明細書に記載の化合物等を挙げることができる。
また、F.C.Schaefer等によるJ.Org.Chem.,29,1527(1964)に記載の化合物、特開昭62-58241号公報に記載の化合物、特開平5-281728号公報に記載の化合物等を挙げることができる。ドイツ特許第2641100号明細書に記載されているような化合物、ドイツ特許第3333450号明細書に記載されている化合物、ドイツ特許第3021590号明細書に記載の化合物群またはドイツ特許第3021599号明細書に記載の化合物群等を挙げることができる。
重合開始剤の使用量は好ましくは、重合性化合物1質量部に対して、0.01質量部~10質量部であり、より好ましくは0.1質量部~5質量部である。
〔共増感剤〕
更に本発明のガス分離膜の作製プロセスにおいて、感度を一層向上させる、または酸素による重合阻害を抑制する等の作用を有する公知の化合物を共増感剤として、更に、加えてもよい。
このような共増感剤の例としては、アミン類、例えばM. R. Sanderら著,「Journal of Polymer Society」,第10巻,3173頁(1972)、特公昭44-20189号公報、特開昭51-82102号公報、特開昭52-134692号公報、特開昭59-138205号公報、特開昭60-84305号公報、特開昭62-18537号公報、特開昭64-33104号公報、Research Disclosure,33825号に記載の化合物等が挙げられ、具体的には、トリエタノールアミン、p-ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、p-ホルミルジメチルアニリン、p-メチルチオジメチルアニリン等が挙げられる。
更に本発明のガス分離膜の作製プロセスにおいて、感度を一層向上させる、または酸素による重合阻害を抑制する等の作用を有する公知の化合物を共増感剤として、更に、加えてもよい。
このような共増感剤の例としては、アミン類、例えばM. R. Sanderら著,「Journal of Polymer Society」,第10巻,3173頁(1972)、特公昭44-20189号公報、特開昭51-82102号公報、特開昭52-134692号公報、特開昭59-138205号公報、特開昭60-84305号公報、特開昭62-18537号公報、特開昭64-33104号公報、Research Disclosure,33825号に記載の化合物等が挙げられ、具体的には、トリエタノールアミン、p-ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、p-ホルミルジメチルアニリン、p-メチルチオジメチルアニリン等が挙げられる。
別の例としてはチオールおよびスルフィド類、例えば、特開昭53-702号公報、特公昭55-500806号公報、特開平5-142772号公報に記載のチオール化合物、特開昭56-75643号公報のジスルフィド化合物等が挙げられ、具体的には、2-メルカプトベンゾチアゾール、2-メルカプトベンゾオキサゾール、2-メルカプトベンゾイミダゾール、2-メルカプト-4(3H)-キナゾリン、β-メルカプトナフタレン等が挙げられる。
また、さらに別の例としては、アミノ酸化合物(例えば、N-フェニルグリシン等)、特公昭48-42965号公報に記載の有機金属化合物(例えば、トリブチル錫アセテート等)、特公昭55-34414号公報に記載の水素供与体、特開平6-308727号公報に記載のイオウ化合物(例えば、トリチアン等)、特開平6-250387号公報に記載のリン化合物(例えば、ジエチルホスファイト等)、特開平8-65779号公報に記載のSi-H、Ge-H化合物等が挙げられる。
また、さらに別の例としては、アミノ酸化合物(例えば、N-フェニルグリシン等)、特公昭48-42965号公報に記載の有機金属化合物(例えば、トリブチル錫アセテート等)、特公昭55-34414号公報に記載の水素供与体、特開平6-308727号公報に記載のイオウ化合物(例えば、トリチアン等)、特開平6-250387号公報に記載のリン化合物(例えば、ジエチルホスファイト等)、特開平8-65779号公報に記載のSi-H、Ge-H化合物等が挙げられる。
〔その他の成分等〕
本発明のガス分離膜には、膜物性を調整するため、各種高分子化合物を添加することもできる。高分子化合物としては、アクリル系重合体、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、シェラック、ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ゴム系樹脂、ワックス類、その他の天然樹脂等が使用できる。また、これらは2種以上併用してもかまわない。
また、液物性調整のためにノニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤や、有機フルオロ化合物などを添加することもできる。
本発明のガス分離膜には、膜物性を調整するため、各種高分子化合物を添加することもできる。高分子化合物としては、アクリル系重合体、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、シェラック、ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ゴム系樹脂、ワックス類、その他の天然樹脂等が使用できる。また、これらは2種以上併用してもかまわない。
また、液物性調整のためにノニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤や、有機フルオロ化合物などを添加することもできる。
界面活性剤の具体例としては、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、高級脂肪酸塩、高級脂肪酸エステルのスルホン酸塩、高級アルコールエーテルの硫酸エステル塩、高級アルコールエーテルのスルホン酸塩、高級アルキルスルホンアミドのアルキルカルボン酸塩、アルキルリン酸塩などのアニオン界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、アセチレングリコールのエチレンオキサイド付加物、グリセリンのエチレンオキサイド付加物、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステルなどの非イオン性界面活性剤、また、この他にもアルキルベタインやアミドベタインなどの両性界面活性剤、シリコン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤などを含めて、従来公知である界面活性剤およびその誘導体から適宜選ぶことができる。
高分子分散剤として、具体的にはポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、ポリビニルメチルエーテル、ポリエチレンオキシド、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリアクリルアミド等が挙げられ、中でもポリビニルピロリドンを用いることも好ましい。
本発明のガス分離膜を形成する条件に特に制限はないが、温度は-30~100℃が好ましく、-10~80℃がより好ましく、5~50℃が特に好ましい。
本発明においては、膜を形成時に空気や酸素などの気体を共存させてもよいが、不活性ガス雰囲気下であることが望ましい。
また、本発明のガス分離膜を作製する際に、媒体として有機溶剤を添加することができる。具体的に使用できる有機溶剤としては特に限定されるものではないが、n-ヘキサン、n-ヘプタン等の炭化水素系有機溶剤、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系有機溶剤、メタノール、エタノール、n-プロパノール、イソプロパノール、n-ブタノール、イソブタノール、tert-ブタノール等の低級アルコール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジアセトンアルコール等の脂肪族ケトン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、グリセリン、プロピレングリコール、エチレングリコールモノメチルもしくはモノエチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテル、トリプロピレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールフェニルエーテル、プロピレングリコールフェニルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルもしくはモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルもしくはモノエチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル系有機溶剤、N-メチルピロリドン、2-ピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルイミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミドなどが挙げられる。これらは、1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
本発明のガス分離膜の膜厚は0.01~100μmであることが好ましく、0.1~10μmであることがより好ましい。
本発明のガス分離膜の膜厚は0.01~100μmであることが好ましく、0.1~10μmであることがより好ましい。
[ガス混合物の分離方法]
本発明のガス混合物の分離方法は、少なくとも一種の酸性ガスを含むガス混合物から酸性ガスを気体分離膜によって分離する方法において、本発明のガス分離膜または前記複合膜を用いることができる酸性ガスが二酸化炭素または硫化水素であることが好ましい。
本発明のガス混合物の分離方法は、少なくとも一種の酸性ガスを含むガス混合物から酸性ガスを気体分離膜によって分離する方法において、本発明のガス分離膜または前記複合膜を用いることができる酸性ガスが二酸化炭素または硫化水素であることが好ましい。
本発明のガス分離膜を用いる気体の分離方法において、原料の気体混合物の成分は特に規定されるものではないが、ガス混合物の主成分が二酸化炭素およびメタンまたは二酸化炭素および水素であることが好ましい。ガス混合物が二酸化炭素や硫化水素のような酸性ガス共存下で特に優れた性能を発揮し、好ましくは二酸化炭素とメタン等の炭化水素、二酸化炭素と窒素、二酸化炭素と水素の分離に優れた性能を発揮する。
[ガス分離膜モジュール・気体分離装置]
本発明のガス分離膜は多孔質支持体と組み合わせた複合膜とすることが好ましく、更にはこれを用いたガス分離膜モジュールとすることが好ましい。また、本発明のガス分離膜、複合膜またはガス分離膜モジュールを用いて、ガスを分離回収または分離精製させるための手段を有する気体分離装置とすることができる。
本発明のガス分離膜はモジュール化して好適に用いることができる。モジュールの例としては、スパイラル型、中空糸型、プリーツ型、管状型、プレート&フレーム型などが挙げられる。また本発明の高分子膜は、例えば、特開2007-297605号公報に記載のような吸収液と併用した膜・吸収ハイブリッド法としての気体分離回収装置に適用してもよい。
本発明のガス分離膜は多孔質支持体と組み合わせた複合膜とすることが好ましく、更にはこれを用いたガス分離膜モジュールとすることが好ましい。また、本発明のガス分離膜、複合膜またはガス分離膜モジュールを用いて、ガスを分離回収または分離精製させるための手段を有する気体分離装置とすることができる。
本発明のガス分離膜はモジュール化して好適に用いることができる。モジュールの例としては、スパイラル型、中空糸型、プリーツ型、管状型、プレート&フレーム型などが挙げられる。また本発明の高分子膜は、例えば、特開2007-297605号公報に記載のような吸収液と併用した膜・吸収ハイブリッド法としての気体分離回収装置に適用してもよい。
上記の優れた特性を有する本発明のガス分離複合膜は、ガス分離回収法、ガス分離精製法として好適に用いることができる。例えば、水素、ヘリウム、一酸化炭素、二酸化炭素、硫化水素、酸素、窒素、アンモニア、硫黄酸化物、窒素酸化物、メタン、エタンなどの炭化水素、プロピレンなどの不飽和炭化水素、テトラフルオロエタンなどのパーフルオロ化合物などのガスを含有する気体混合物から特定の気体を効率よく分離し得るガス分離膜、特に二酸化炭素/炭化水素(メタン)を含む気体混合物から二酸化炭素を選択分離するガス分離膜に使用することが好ましく、この分離膜を用いて優れた性能の各種モジュールやガス分離装置を作製することができる。また、本発明のガス分離膜はピンホールの発生が少ないことから、優れた性能のガス分離複合膜の製造も容易となる。
以下に実施例に基づき本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。なお、単に「部」や「%」のみの表記は、特に示さない限り質量基準とする。
〔合成例〕
<ポリマー(P-1)、(P-2)の合成>
下記反応スキームでポリマー(P-1)を合成した。
<ポリマー(P-1)、(P-2)の合成>
下記反応スキームでポリマー(P-1)を合成した。
ポリマー(P-1)の合成
1Lの三口フラスコにN-メチルピロリドン123ml、6FDA(東京化成工業株式会社製、製品番号:H0771)54.97g(0.124mol)を加えて40℃で溶解させ、窒素気流下で攪拌しているところに、2,3,5,6-テトラメチルフェニレンジアミンTeMPD(東京化成工業株式会社製、製品番号:T1457)8.13g(0.049mol)、m-フェニレンジアミン(和光純薬株式会社製、製品番号:164-01515)6.69g(0.062mol)、3,5-ジアミノ安息香酸DABA(東京化成工業株式会社製、製品番号:D0294)1.971g(0.012mol)のN-メチルピロリドン84.0ml溶液を30分かけて系内を40℃に保ちつつ滴下した。反応液を40℃で2.5時間攪拌した後、ピリジン(和光純薬株式会社製、製品番号:166-22575)2.94g(0.037mol)、無水酢酸(和光純薬株式会社製、製品番号:018-00286)31.58g(0.31mol)をそれぞれ加えて、さらに80℃で3時間攪拌した。その後、反応液にアセトン676.6mLを加え、希釈した。5Lステンレス容器にメタノール1.15L、アセトン230mLを加えて攪拌しているところに、反応液のアセトン希釈液を滴下した。得られたポリマー結晶を吸引ろ過し、60℃で送風乾燥させて60.1gのポリマー(P-1)を得た。
1Lの三口フラスコにN-メチルピロリドン123ml、6FDA(東京化成工業株式会社製、製品番号:H0771)54.97g(0.124mol)を加えて40℃で溶解させ、窒素気流下で攪拌しているところに、2,3,5,6-テトラメチルフェニレンジアミンTeMPD(東京化成工業株式会社製、製品番号:T1457)8.13g(0.049mol)、m-フェニレンジアミン(和光純薬株式会社製、製品番号:164-01515)6.69g(0.062mol)、3,5-ジアミノ安息香酸DABA(東京化成工業株式会社製、製品番号:D0294)1.971g(0.012mol)のN-メチルピロリドン84.0ml溶液を30分かけて系内を40℃に保ちつつ滴下した。反応液を40℃で2.5時間攪拌した後、ピリジン(和光純薬株式会社製、製品番号:166-22575)2.94g(0.037mol)、無水酢酸(和光純薬株式会社製、製品番号:018-00286)31.58g(0.31mol)をそれぞれ加えて、さらに80℃で3時間攪拌した。その後、反応液にアセトン676.6mLを加え、希釈した。5Lステンレス容器にメタノール1.15L、アセトン230mLを加えて攪拌しているところに、反応液のアセトン希釈液を滴下した。得られたポリマー結晶を吸引ろ過し、60℃で送風乾燥させて60.1gのポリマー(P-1)を得た。
ポリマー(P-2)の合成
1Lの三口フラスコにN-メチルピロリドン167g、6FDA(東京化成工業株式会社製、製品番号:H0771)54.97g(0.124mol)を加えて40℃で溶解させ、窒素気流下で攪拌しているところに、2,3,5,6-テトラメチルフェニレンジアミン(東京化成工業株式会社製、製品番号:T1457)8.13g(0.049mol)、m-フェニレンジアミン(和光純薬株式会社製、製品番号:164-01515)6.69g(0.062mol)、2,4-ジアミノフェノール二塩酸塩(東京化成工業株式会社製、製品番号:D0080)1.971g(0.012mol)および炭酸リチウム(和光純薬株式会社製、製品番号:126-01135)1.773g(0.024mol)を少しずつ添加した。反応液を40℃で2.5時間攪拌した後、トルエンを167ml加えて、さらに180℃で3時間攪拌した。共沸された水-トルエン混合物をディーンスターク水分離機で除去した。反応終了後、室温付近まで冷却した後、反応液にアセトン600mLを加え、希釈した。5Lステンレス容器にメタノール1.2Lを加えて攪拌しているところに、反応液のアセトン希釈液を滴下した。得られたポリマー結晶を吸引ろ過し、60℃で送風乾燥させて55.4gのポリマー(P-2)を得た。
1Lの三口フラスコにN-メチルピロリドン167g、6FDA(東京化成工業株式会社製、製品番号:H0771)54.97g(0.124mol)を加えて40℃で溶解させ、窒素気流下で攪拌しているところに、2,3,5,6-テトラメチルフェニレンジアミン(東京化成工業株式会社製、製品番号:T1457)8.13g(0.049mol)、m-フェニレンジアミン(和光純薬株式会社製、製品番号:164-01515)6.69g(0.062mol)、2,4-ジアミノフェノール二塩酸塩(東京化成工業株式会社製、製品番号:D0080)1.971g(0.012mol)および炭酸リチウム(和光純薬株式会社製、製品番号:126-01135)1.773g(0.024mol)を少しずつ添加した。反応液を40℃で2.5時間攪拌した後、トルエンを167ml加えて、さらに180℃で3時間攪拌した。共沸された水-トルエン混合物をディーンスターク水分離機で除去した。反応終了後、室温付近まで冷却した後、反応液にアセトン600mLを加え、希釈した。5Lステンレス容器にメタノール1.2Lを加えて攪拌しているところに、反応液のアセトン希釈液を滴下した。得られたポリマー結晶を吸引ろ過し、60℃で送風乾燥させて55.4gのポリマー(P-2)を得た。
同様にしてポリマー(P-3)、(P-4)、(P-5)、(P-8)、(P-10)、(P-16)を合成した。
〔実施例1〕
〔試料101〕
30ml褐色バイアル瓶に、ポリマー(P-1)を1.4g、架橋剤(例示化合物R-1:東京化成工業株式会社製、製品番号:B-1796)0.20gをメチルエチルケトン8.6gに混合して30分攪拌した後、更にテトラフェニルホスホニウムブロミド(東京化成工業株式会社製、製品番号:T1069、以下Ph4PBr)を1.4mg加えて、更に30分攪拌した。10cm四方の清浄なガラス板上に、ポリアクリロニトリル多孔質膜(GMT社製)を静置し、前記ポリマー液を、アプリケータを用いて多孔質支持膜表面にキャストさせ、室温で5分ほど静置した後、さらに70℃で15分乾燥させ、硬化膜試料101を得た。ポリマー(P-1)層の厚さは約1.5μmであり、ポリアクリロニトリル多孔質膜の厚さは不織布を含めて約180μmであった。
〔試料101〕
30ml褐色バイアル瓶に、ポリマー(P-1)を1.4g、架橋剤(例示化合物R-1:東京化成工業株式会社製、製品番号:B-1796)0.20gをメチルエチルケトン8.6gに混合して30分攪拌した後、更にテトラフェニルホスホニウムブロミド(東京化成工業株式会社製、製品番号:T1069、以下Ph4PBr)を1.4mg加えて、更に30分攪拌した。10cm四方の清浄なガラス板上に、ポリアクリロニトリル多孔質膜(GMT社製)を静置し、前記ポリマー液を、アプリケータを用いて多孔質支持膜表面にキャストさせ、室温で5分ほど静置した後、さらに70℃で15分乾燥させ、硬化膜試料101を得た。ポリマー(P-1)層の厚さは約1.5μmであり、ポリアクリロニトリル多孔質膜の厚さは不織布を含めて約180μmであった。
〔試料102〕
30ml褐色バイアル瓶に、ポリマー(P-1)を1.4g、架橋剤(例示化合物R-1:東京化成工業株式会社製、製品番号:B-1796)0.20gをメチルエチルケトン8.6gに混合して30分攪拌した後、更にトリ-p-トリルスルホニウムヘキサフルオロホスファート(東京化成工業社製、製品番号:T2041、以下Tol3SPF6)を2mg加えて、更に30分攪拌した。10cm四方の清浄なガラス板上に、ポリアクリロニトリル多孔質膜(GMT社製)を静置し、前記ポリマー液を、アプリケータを用いて多孔質支持膜表面にキャストさせ、速やかにセン特殊光源株式会社製光硬化装置(TCT1000B-28HE)を用いて、10mWで60秒間露光させ、硬化膜試料102を得た。ポリマー(P-1)層の厚さは約1μmであり、ポリアクリロニトリル多孔質膜の厚さは不織布を含めて約180μmであった。
30ml褐色バイアル瓶に、ポリマー(P-1)を1.4g、架橋剤(例示化合物R-1:東京化成工業株式会社製、製品番号:B-1796)0.20gをメチルエチルケトン8.6gに混合して30分攪拌した後、更にトリ-p-トリルスルホニウムヘキサフルオロホスファート(東京化成工業社製、製品番号:T2041、以下Tol3SPF6)を2mg加えて、更に30分攪拌した。10cm四方の清浄なガラス板上に、ポリアクリロニトリル多孔質膜(GMT社製)を静置し、前記ポリマー液を、アプリケータを用いて多孔質支持膜表面にキャストさせ、速やかにセン特殊光源株式会社製光硬化装置(TCT1000B-28HE)を用いて、10mWで60秒間露光させ、硬化膜試料102を得た。ポリマー(P-1)層の厚さは約1μmであり、ポリアクリロニトリル多孔質膜の厚さは不織布を含めて約180μmであった。
〔試料103~118〕
前記試料101あるいは試料102のポリマー、架橋剤、添加剤を下記表2のように変更し、ポリアクリロニトリル多孔質膜上に塗布することで各試料(複合膜)を作製した。
前記試料101あるいは試料102のポリマー、架橋剤、添加剤を下記表2のように変更し、ポリアクリロニトリル多孔質膜上に塗布することで各試料(複合膜)を作製した。
なお、上記表2において、Tolはトリル基を表し、Phはフェニル基を表す。
また、「連結構造」(何れもエーテル結合を含む架橋構造である)の符号は、以下を示す。
A:ビニルエーテル由来、 B:オキシラン由来、 C:オキセタン由来
また、「連結構造」(何れもエーテル結合を含む架橋構造である)の符号は、以下を示す。
A:ビニルエーテル由来、 B:オキシラン由来、 C:オキセタン由来
〔試料c11~c13〕
米国特許第7,247,191B2号明細書に記載のポリマー
1Lの三口フラスコにN-メチルピロリドン100ml、6FDA(東京化成株式会社製、製品番号:H0771)12.0g(0.027mol)を加えて40℃で溶解させ、窒素気流下で攪拌しているところに、2,4-ジアミノメシチレン(東京化成株式会社製、製品番号:T1275)3.25g(0.0216mol)、3,5-ジアミノ安息香酸(東京化成株式会社製、製品番号:D0294)0.82g(0.0054mol)のN-メチルピロリドン65ml溶液を30分かけて系内を40℃に保ちつつ滴下した。反応液を40℃で2.5時間攪拌した後、ピリジン(和光純薬株式会社製、製品番号:043799)0.64g(0.0081mol)、無水酢酸(和光純薬株式会社製、製品番号:036292)6.89g(0.068mol)をそれぞれ加えて、さらに80℃で3時間攪拌した。その後、反応液にアセトン150mLを加え、希釈した。5Lステンレス容器にメタノール1.5Lを加えて攪拌しているところに、反応液のアセトン希釈液を滴下した。得られたポリマー結晶を吸引ろ過し、60℃で送風乾燥させて8.3gのポリマー(A)を得た。このポリマー(A)にエチレングリコールを3,5-ジアミノ安息香酸の等量分加えて、米国特許第7,247,191B2号明細書に記載の方法と同様の方法で、ポリアクリロニトリル(PAN)、ポリスルホン(Psf)およびポリフェニレンオキシド(PPO)の各多孔質支持膜上に試料101と同様にアプリケータを用いて架橋複合膜試料c11、c12、c13を調製した。
米国特許第7,247,191B2号明細書に記載のポリマー
1Lの三口フラスコにN-メチルピロリドン100ml、6FDA(東京化成株式会社製、製品番号:H0771)12.0g(0.027mol)を加えて40℃で溶解させ、窒素気流下で攪拌しているところに、2,4-ジアミノメシチレン(東京化成株式会社製、製品番号:T1275)3.25g(0.0216mol)、3,5-ジアミノ安息香酸(東京化成株式会社製、製品番号:D0294)0.82g(0.0054mol)のN-メチルピロリドン65ml溶液を30分かけて系内を40℃に保ちつつ滴下した。反応液を40℃で2.5時間攪拌した後、ピリジン(和光純薬株式会社製、製品番号:043799)0.64g(0.0081mol)、無水酢酸(和光純薬株式会社製、製品番号:036292)6.89g(0.068mol)をそれぞれ加えて、さらに80℃で3時間攪拌した。その後、反応液にアセトン150mLを加え、希釈した。5Lステンレス容器にメタノール1.5Lを加えて攪拌しているところに、反応液のアセトン希釈液を滴下した。得られたポリマー結晶を吸引ろ過し、60℃で送風乾燥させて8.3gのポリマー(A)を得た。このポリマー(A)にエチレングリコールを3,5-ジアミノ安息香酸の等量分加えて、米国特許第7,247,191B2号明細書に記載の方法と同様の方法で、ポリアクリロニトリル(PAN)、ポリスルホン(Psf)およびポリフェニレンオキシド(PPO)の各多孔質支持膜上に試料101と同様にアプリケータを用いて架橋複合膜試料c11、c12、c13を調製した。
〔試料c14〕
European Polymer Journal,vol33,No.10-12,1717-1721(1997)を参照し、光硬化架橋ポリイミド-ポリフェニレンオキシド(PPO)複合膜試料c14(比較試料)を作製した。
European Polymer Journal,vol33,No.10-12,1717-1721(1997)を参照し、光硬化架橋ポリイミド-ポリフェニレンオキシド(PPO)複合膜試料c14(比較試料)を作製した。
(ガス透過率の測定)
得られた複合膜はガス透過率測定装置(GTRテック社製GTR-10XF)を使用し、二酸化炭素(CO2)、メタン(CH4)の混合ガス(1:1)を用いて、40℃、ガス供給側の圧力を8気圧としてCO2、CH4のガス透過率を測定した。膜のガス透過性は、ガス透過率(Permeance)としてガス透過速度を算出することにより比較した。ガス透過率(ガス透過速度)の単位はGPU(ジーピーユー)単位〔1GPU=1×10-6cm3(STP)/cm2・sec・cmHg〕で表した。
また、得られた二酸化炭素の透過速度(RCO2)とメタンの透過速度(RCH4)から、透過速度比〔(RCO2)/(RCH4)〕を求めた。
得られた複合膜はガス透過率測定装置(GTRテック社製GTR-10XF)を使用し、二酸化炭素(CO2)、メタン(CH4)の混合ガス(1:1)を用いて、40℃、ガス供給側の圧力を8気圧としてCO2、CH4のガス透過率を測定した。膜のガス透過性は、ガス透過率(Permeance)としてガス透過速度を算出することにより比較した。ガス透過率(ガス透過速度)の単位はGPU(ジーピーユー)単位〔1GPU=1×10-6cm3(STP)/cm2・sec・cmHg〕で表した。
また、得られた二酸化炭素の透過速度(RCO2)とメタンの透過速度(RCH4)から、透過速度比〔(RCO2)/(RCH4)〕を求めた。
(折り曲げ試験[膜加工適性試験])
本発明のガス分離膜はモジュールまたはエレメントと呼ばれる膜が充填されたパッケージとして使用することが望ましい。ガス分離膜をモジュールとして使用する場合は膜表面積を大きくするために高密度に充填されているため、平膜ではスパイラル状に折り曲げて充填するため、十分な折曲げ強度が付与されていなければならない。本性能を確認するために得られた複合膜を180°折り曲げては戻す操作を50回実施した後、再度ガス透過率が測定できたか否かを確認した。
A:問題なく透過率の測定ができた
B:透過率の測定ができなかった
本発明のガス分離膜はモジュールまたはエレメントと呼ばれる膜が充填されたパッケージとして使用することが望ましい。ガス分離膜をモジュールとして使用する場合は膜表面積を大きくするために高密度に充填されているため、平膜ではスパイラル状に折り曲げて充填するため、十分な折曲げ強度が付与されていなければならない。本性能を確認するために得られた複合膜を180°折り曲げては戻す操作を50回実施した後、再度ガス透過率が測定できたか否かを確認した。
A:問題なく透過率の測定ができた
B:透過率の測定ができなかった
ガス透過率(透過速度)、透過速度比(下記表3中ではCO2/CH4選択性)、折り曲げ試験の結果を下記表3に示す。なお、架橋サイト比[η]は、本発明の試料はいずれも約0.0001~0.45であり、比較試料c11~c13はいずれも約0.2であり、比較試料c14が約0.5であった。架橋性官能基密度[γ]は、本発明の試料はいずれも0.1以下であり、比較試料c11~c13はいずれも0.6~0.7であり、比較試料c14は0.9以上であった。架橋率[α]は、本発明の試料はいずれも60~100、比較試料がいずれも90以上であった。
なお、試料No.1**で表されるものが本発明の試料であり、c**で表されるものが比較試料である。
なお、試料No.1**で表されるものが本発明の試料であり、c**で表されるものが比較試料である。
上記表3中の略号は下記の通りである。
PAN: ポリアクリロニトリル
PSf: ポリスルホン
PPO: ポリフェニレンオキシド
室温:約25℃
Radical:ラジカル架橋
Ester:エステル交換反応
PAN: ポリアクリロニトリル
PSf: ポリスルホン
PPO: ポリフェニレンオキシド
室温:約25℃
Radical:ラジカル架橋
Ester:エステル交換反応
本発明のガス分離複合膜は高い二酸化炭素透過性と分離選択性、さらには折り曲げ強度が付与されていることがわかる。
〔実施例2〕
実施例1で作製した各試料(ガス分離複合膜)を用いてサンプルエラー率を測定した。
(サンプルエラー率)
各試料を各々50サンプル作製し、その折の水素の透過率を測定し、水素のガス透過率の値が1,000,000GPU(1×106cm3/cm2・sec・cmHg)を越えたサンプルをピンホール有りの膜として判断し、下記式によりサンプルエラー率を求めた。
なお、ピンホール有無の判断が微妙なものは0.5としてカウントした。
実施例1で作製した各試料(ガス分離複合膜)を用いてサンプルエラー率を測定した。
(サンプルエラー率)
各試料を各々50サンプル作製し、その折の水素の透過率を測定し、水素のガス透過率の値が1,000,000GPU(1×106cm3/cm2・sec・cmHg)を越えたサンプルをピンホール有りの膜として判断し、下記式によりサンプルエラー率を求めた。
なお、ピンホール有無の判断が微妙なものは0.5としてカウントした。
サンプルエラー率=(ピンホール有りの膜数/50)×100
得られた結果を下記表4に示す。
[表4]
――――――――――――――――――――――
試料No. サンプルエラー率[%]
――――――――――――――――――――――
101 3
102 2
103 3
104 3
105 4
106 3
107 4
108 3
109 3
110 2
111 2
112 3
113 1
114 2
115 4
116 2
117 2
118 3
c11 -
c12 -
c13 23
c14 33
――――――――――――――――――――――
――――――――――――――――――――――
試料No. サンプルエラー率[%]
――――――――――――――――――――――
101 3
102 2
103 3
104 3
105 4
106 3
107 4
108 3
109 3
110 2
111 2
112 3
113 1
114 2
115 4
116 2
117 2
118 3
c11 -
c12 -
c13 23
c14 33
――――――――――――――――――――――
上記の結果より、本発明のガス分離複合膜は、いずれもピンホールが少ない。このように本発明により、ピンホールの少ない良好なガス分離層の膜を作製することができることがわかる。
本発明のガス分離複合膜は、架橋サイト比が高すぎることがなく実用的なガス透過性を有し、さらには機械強度にも優れる。さらには低温、短時間で多孔質支持膜との複合膜を得ることができるため、多孔質支持体のガラス転移温度によらず、実用的なガス分離複合膜を得ることができる。
上記の結果より、本発明のガス分離複合膜は、優れたガス透過性とガス分離選択性、特に二酸化炭素の透過性に優れ、二酸化炭素/メタンの分離膜として優れることが分かる。さらには低温、短時間で複合膜を作製することができるために、製造適性に優れる。そして、本発明のガス分離膜および複合膜により、優れた気体分離方法、ガス分離膜モジュール、ガス分離膜モジュールを含むガス分離、ガス分離装置を提供することができることが分かる。
本発明をその実施態様とともに説明したが、我々は特に指定しない限り我々の発明を説明のどの細部においても限定しようとするものでなく、添付の請求項の範囲に示した発明の精神と範囲に反することなく幅広く解釈されるべきであると考える。
本願は、2011年7月28日に日本で特許出願された特願2011-165377に基づく優先権を主張するものであり、これはここに参照してその内容を本明細書の記載の一部として取り込む。
1 ガス分離層
2 多孔質層
3 不織布層
10、20 ガス分離複合膜
2 多孔質層
3 不織布層
10、20 ガス分離複合膜
Claims (13)
- 架橋ポリイミド樹脂を含有してなるガス分離層をガス透過性の支持層上側に有するガス分離複合膜であって、
前記架橋ポリイミド樹脂は、ポリイミド化合物がその分子もしくは別分子由来のカチオン架橋性官能基で架橋された構造を有するガス分離複合膜。 - 前記カチオン架橋性官能基で架橋された構造がエーテル構造を有する請求項1に記載のガス分離複合膜。
- 前記カチオン架橋性官能基が環状構造の原子群を含む請求項1または2に記載のガス分離複合膜。
- 前記カチオン架橋性官能基が、オキシラン基、オキセタン基、ビニルエーテル基、アルケニルエーテル基、アレーンエーテル基およびケテンアセタール基からなる群から選ばれる少なくとも一種を含む請求項1~3のいずれか1項に記載のガス分離複合膜。
- 前記ポリイミド化合物が、下記一般式(I)で表される繰り返し単位と、下記一般式(II-a)または(II-b)で表される繰り返し単位の少なくとも一種と、下記一般式(III-a)または(III-b)で表される繰り返し単位の少なくとも一種とをそれぞれ含む請求項1~4のいずれか1項に記載のガス分離複合膜。
- 前記架橋性官能基が、オキセタン環またはオキシラン環を含む請求項1~5のいずれか1項に記載のガス分離複合膜。
- 前記支持層がガス分離層側の多孔質層とその逆側の不織布層とからなる請求項1~6のいずれか1項に記載のガス分離複合膜。
- 前記多孔質層の分画分子量が100,000以下である請求項7に記載のガス分離複合膜。
- 供給されるガスが二酸化炭素とメタンとの混合ガスであり、40℃、8気圧における二酸化炭素の透過速度が20GPU超であり、二酸化炭素とメタンとの透過速度比(RCO2/RCH4)が20以上である請求項1~8のいずれか1項に記載のガス分離複合膜。
- 架橋ポリイミド樹脂を含有してなるガス分離層をガス透過性の支持層上側に有するガス分離複合膜の製造方法であって、
カチオン架橋性の架橋性官能基を有するポリイミド化合物と架橋剤とを含む塗布液を前記支持層上側に塗布し、該塗布液に活性放射線を照射する、あるいは熱を付与することにより前記架橋性官能基を反応させ前記ポリイミド化合物を架橋するガス分離複合膜の製造方法。 - 請求項1~9のいずれか1項に記載のガス分離複合膜を具備するガス分離モジュール。
- 請求項11に記載のガス分離モジュールを備えたガス分離装置。
- 請求項1~9のいずれか1項に記載のガス分離複合膜を用いて、二酸化炭素およびメタンを含むガスから二酸化炭素を選択的に透過させるガス分離方法。
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