WO2011004758A1 - 太陽電池の製造方法及び太陽電池 - Google Patents

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龍男 重田
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株式会社シンク・ラボラトリー
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    • H01L31/0224—Electrodes
    • H01L31/022408—Electrodes for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier
    • H01L31/022425—Electrodes for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier for solar cells
    • H01L31/022433—Particular geometry of the grid contacts
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    • Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy

Definitions

  • the present invention relates to a solar cell manufacturing method and a solar cell in which electrodes are printed by a gravure offset printing method or a printing method using a gravure plate with a cushion layer.
  • Patent Document 1 when producing a solar cell in which an electrode is formed on a semiconductor surface such as silicon, it has been common to print the electrode by screen printing (for example, Patent Document 1).
  • the thickness of the coating film is constant, and the line width of about 30 ⁇ m is the limit.
  • the applicant of the present application can achieve a resolution of 12800 dpi or more, which is four times higher than that of a relatively inexpensive conventional laser exposure apparatus having a resolution of about 3200 dpi.
  • Patent Document 3 A high-resolution laser exposure apparatus that can also be used has been proposed (Patent Document 3).
  • the present invention has been made in view of the above-described problems of the prior art, and an object of the present invention is to provide a solar cell having a high-definition electrode with good current collection efficiency and a method for manufacturing the solar cell.
  • the solar cell according to the present invention includes a semiconductor layer, a mesh-like fine wire electrode printed on the surface of the semiconductor layer with a conductive ink using a line width of 1 to 10 ⁇ m and a height of 1 to 10 ⁇ m, and a surface of the semiconductor layer.
  • a bus bar electrode printed using a conductive ink with a line width of 50 to 100 ⁇ m and a height of 15 to 100 ⁇ m, and a back electrode provided on the back surface of the semiconductor layer, and the mesh fine wire electrode and the bus bar electrode are cushioned It is printed by a printing method using a gravure plate-making roll with a layer or a gravure offset printing method.
  • the gravure printing roll with cushion layer refers to a gravure printing roll provided with an elastic layer as a cushion layer.
  • a bus-bar electrode is a thick electrode for connecting solar cells to each other.
  • various inorganic compound materials such as single crystal silicon, single crystal germanium, polycrystalline silicon, microcrystalline silicon, amorphous silicon, GaAs, InP, AlGaAs, CdS, CdTe, and Cu 2 S can be applied as the semiconductor layer. .
  • the conductive ink for example, those described in Patent Document 4 can be used. Moreover, what adjusted the viscosity etc. with the solvent etc. about the electrically conductive paste which contained particles, such as Ag, Cu, and Ni, as electroconductive powder can be used.
  • Patent Document 7 The basic configuration of a solar cell is widely known and disclosed in, for example, Patent Document 7.
  • the method for producing a solar cell according to the present invention is a method for producing the solar cell, and a conductive ink is used on the surface of the semiconductor layer by a printing method using a gravure plate with a cushion layer or a gravure offset printing method. Further, it is characterized in that a mesh-like fine wire electrode having a line width of 1 to 10 ⁇ m and a height of 1 to 10 ⁇ m and a bus bar electrode having a line width of 50 to 100 ⁇ m and a height of 15 to 100 ⁇ m are printed.
  • 1st aspect of the manufacturing method of the gravure printing roll which concerns on this invention is a manufacturing method of the gravure printing roll used for the printing method using the said gravure printing roll with a cushion layer, Comprising: The process of preparing a plate base material, It includes a cushion layer forming step of forming a cushion layer made of rubber or resin on the plate base material, and a gravure cell forming step of forming gravure cells having different depths on the cushion layer.
  • the gravure printing roll with cushion layer refers to a gravure printing roll provided with an elastic layer as a cushion layer.
  • Silicon rubber can be used as the rubber.
  • the resin various synthetic resins such as elastic plastic, urethane resin, polyethylene resin, and polystyrene foam can be applied.
  • plate base material various plate base materials such as iron, aluminum and CFRP can be used.
  • a cushion layer made of rubber or resin such as silicon rubber can be formed on a plate base material, and gravure cells having different depths can be formed on the cushion layer.
  • a gravure plate-making roll with a cushion layer the thing of patent document 5 can be used, for example.
  • a laser exposure apparatus described in Patent Document 3 is used to irradiate the laser spots so that they are slightly shifted and overlapped, whereby a resolution of 12800 dpi or more can be realized. As a result, it is possible to print an electrode with a narrow line width.
  • the method further includes a step of forming a reinforcing coating layer that covers the surface of the formed gravure cell.
  • a reinforcing coating layer various reinforcing coating layers such as chrome plating, DLC coating, and silicon dioxide coating using perhydropolysilazane can be applied.
  • a second aspect of the method for producing a gravure printing roll according to the present invention is a method for producing a gravure printing roll used in a printing method using the gravure printing roll, the step of preparing a plate base material, and the plate mother It includes a cushion layer forming step of forming a cushion layer made of rubber or resin on a material, and a gravure cell forming step of forming gravure cells having different depths on the cushion layer.
  • an intermediate layer such as copper plating or copper plating and metal layer is provided on the cushion layer, and the gravure cell is formed on the intermediate layer by photolithography. What should I do? At this time, gravure cells having different depths can be formed by performing etching a plurality of times. As such a gravure printing roll with a cushion layer, for example, those described in Patent Document 6 or Patent Document 8 can be used.
  • the method further includes a step of forming a reinforcing coating layer that covers the surface of the formed gravure cell.
  • a reinforcing coating layer various reinforcing coating layers such as chrome plating, DLC coating, and silicon dioxide coating using perhydropolysilazane can be applied.
  • the 3rd aspect of the manufacturing method of the gravure printing roll which concerns on this invention is a manufacturing method of the gravure printing roll used for the gravure offset printing method, Comprising: The process of preparing a plate base material and the gravure cell from which a depth differs are formed. And a gravure cell forming step.
  • the gravure offset printing method is a method of printing through a blanket roll from a gravure printing roll on which a gravure cell is formed.
  • a gravure cell may be formed by preparing a plate base material and using a photolithography method. Further, at the time of laser exposure, a resolution of 12800 dpi or more can be realized by using a laser exposure apparatus described in Patent Document 3 so that the laser spots are slightly shifted and overlapped.
  • plate base material various plate base materials such as iron, aluminum and CFRP can be used.
  • the method further includes a step of forming a reinforcing coating layer that covers the surface of the formed gravure cell.
  • a reinforcing coating layer various reinforcing coating layers such as chrome plating, DLC coating, and silicon dioxide coating using perhydropolysilazane can be applied.
  • gravure cells having different depths can be formed.
  • by forming gravure cells having different depths for the fine mesh wire electrode and the bus bar electrode it is possible to print electrodes having different heights at a time.
  • the present invention there is a remarkable effect that it is possible to provide a solar cell having a high-definition electrode with good current collection efficiency and a method for manufacturing the solar cell.
  • FIG. 3 is an enlarged side view of a main part of FIG. 1. It is a fragmentary perspective view which shows one embodiment of the solar cell of this invention. It is a fragmentary perspective view which shows another embodiment of the electrode of the solar cell of this invention.
  • reference numeral 10A denotes a solar cell of the present invention.
  • the solar cell 10A is printed with a polycrystalline silicon semiconductor layer 12 and a surface of the semiconductor layer 12 with a line width of 1 to 10 ⁇ m and a height of 1 to 10 ⁇ m using, for example, Ag powder-containing conductive ink described in Patent Document 4.
  • the electrode 16 and the back electrode 24 provided on the back surface of the semiconductor layer are included.
  • the semiconductor layer 12 is composed of an n-type semiconductor layer 20 (n-type silicon) and a p-type semiconductor layer 22 (p-type silicon), and aluminum is used as the back electrode 24.
  • the light receiving surface coating layer and the like are omitted for easy understanding of the electrodes.
  • the light receiving surface coating layer 18 and the back surface coating layer are provided so as to sandwich the semiconductor layer.
  • it is a solar cell.
  • the regular mesh-like fine wire electrode 14A and the bus bar electrode 16 are printed by a printing method using a gravure plate with a cushion layer or a gravure offset printing method.
  • a cushion layer made of rubber or resin can be formed on a plate base material, and gravure cells having different depths can be formed on the cushion layer.
  • a synthetic rubber such as silicone rubber, or a synthetic resin having elasticity such as polyurethane or polystyrene can be used.
  • the thickness of the cushion layer is not particularly limited as long as it can provide cushioning properties, that is, elasticity, but for example, a thickness of about 1 cm to 5 cm is sufficient.
  • the thing of patent document 5 can be used, for example.
  • the gravure printing roll with cushion layer refers to a gravure printing roll provided with an elastic layer as a cushion layer.
  • Silicon rubber can be used as the rubber.
  • the resin various synthetic resins such as elastic plastic, urethane resin, polyethylene resin, and polystyrene foam can be applied.
  • an intermediate layer such as copper plating or copper plating and metal layer is provided on the cushion layer, and the gravure cell is formed on the intermediate layer by photolithography. You may make it do.
  • gravure cells having different depths can be formed by performing etching a plurality of times.
  • a gravure printing roll with a cushion layer for example, those described in Patent Document 6 or Patent Document 8 can be used.
  • the gravure offset printing method is a method of printing through a blanket roll from a gravure plate on which a gravure cell is formed.
  • a gravure plate making roll used in this gravure offset printing method a plate base material is prepared, and gravure cells having different depths may be formed using a photolithography method.
  • a resolution of 12800 dpi or more can be realized by using a laser exposure apparatus described in Patent Document 3 so that the laser spots are slightly shifted and overlapped.
  • FIG. 4 shows an example in which the mesh thin wire electrode is diamond-shaped. 4 is the same as FIG. 1 except that the mesh-like fine wire electrode is a rhombic mesh-like fine wire electrode 14B.
  • Example 1 A back electrode 24 made of aluminum was provided, and a polycrystalline silicon semiconductor layer 12 composed of an n-type semiconductor layer 20 (n-type silicon) and a p-type semiconductor layer 22 (p-type silicon) was prepared.
  • a laser gravure plate making apparatus (trade name: fully automatic laser gravure plate making system FX80) manufactured by Sink Laboratories Co., Ltd., laser plate making is performed, and a gravure cell for forming a fine mesh wire electrode having a depth of 5 ⁇ m and a depth of 40 ⁇ m A plate cylinder was prepared in which two different depths of the gravure cell for bus bar electrode formation were provided.
  • the cell photoelectric conversion efficiency of the obtained solar battery cell was 15%, which was high cell photoelectric conversion efficiency. Therefore, high current collection efficiency was obtained.
  • 10A, 10B Solar cell
  • 12 Semiconductor layer
  • 14A, 14B Reticulated wire electrode
  • 16 Bus bar electrode
  • 18 Light-receiving surface coating layer
  • 20 N-type semiconductor layer
  • 22 P-type semiconductor layer
  • 24 Back electrode .

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Abstract

高精細でかつ集電効率の良い電極とした太陽電池及びその製造方法を提供する。 半導体層と、前記半導体層表面に導電性インキを用いて線幅１～１０μｍ及び高さ１～１０μｍで印刷されてなる網状細線電極と、前記半導体層表面に導電性インキを用いて線幅５０～１００μｍ及び高さ１５～１００μｍで印刷されてなるバスバー電極と、前記半導体層裏面に設けられた裏面電極と、を含み、前記網状細線電極及びバスバー電極が、クッション層付グラビア製版ロールを用いた印刷法又はグラビアオフセット印刷法により印刷されてなるようにした。

Description

太陽電池の製造方法及び太陽電池
　本発明は、グラビアオフセット印刷法又はクッション層付グラビア版を用いた印刷法によって電極が印刷されてなる太陽電池の製造方法及び太陽電池に関する。
　従来、シリコンなどの半導体表面に電極を形成してなる太陽電池を作製するにあたっては、スクリーン印刷で電極を印刷するのが一般的であった（例えば特許文献１）。
　しかしながら、スクリーン印刷では、塗布膜の膜厚が一定であり、３０μｍ程度の線幅が限界である。
　近年では、線幅が細く、高画質で集電効率の良い太陽電池の製造方法が望まれるようになってきている。
　一方、本願出願人は、印刷対象面が固い面であっても印刷することが可能なクッション性を有するグラビア版を既に提案している（特許文献２）。
　また、本願出願人は、比較的廉価な従来の３２００ｄｐｉ程度の解像度を有するレーザ露光装置と同程度の性能のレーザ露光装置によって、その４倍以上の１２８００ｄｐｉ以上の解像度を実現でき、グラビア製版、オフセット製版、フレキソ製版等における高解像度のレーザ製版を行い得るようにすること、更には、プリント基板、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ等の電子部品における回路パターンのレーザ露光や紙幣等における偽造防止用特殊印刷等にも用いることのできる高解像度のレーザ露光装置を既に提案している（特許文献３）。
特開２００７－２３４８８４号公報 特開２０００－１９９９４９号公報 特開２００６－５３４９９号公報 特開２００９－６２５２３号公報 特開２００９－０９３１７１号公報 特開２０００－１９９９４９号公報 特開平５－２４３５９４号公報 特開２００７－１１８５９３号公報
　本発明は、上記した従来技術の問題点に鑑みなされたもので、高精細でかつ集電効率の良い電極とした太陽電池及びその製造方法を提供することを目的とする。
　本発明に係る太陽電池は、半導体層と、前記半導体層表面に導電性インキを用いて線幅１～１０μｍ及び高さ１～１０μｍで印刷されてなる網状細線電極と、前記半導体層表面に導電性インキを用いて線幅５０～１００μｍ及び高さ１５～１００μｍで印刷されてなるバスバー電極と、前記半導体層裏面に設けられた裏面電極と、を含み、前記網状細線電極及びバスバー電極が、クッション層付グラビア製版ロールを用いた印刷法又はグラビアオフセット印刷法により印刷されてなることを特徴とする。
　クッション層付グラビア製版ロールとは、クッション層としての弾性層が設けられたグラビア製版ロールのことを指す。
　このようにすれば、微細な電極を網状に形成し、前記網状細線電極よりも太くしたバスバー電極が形成されるため、高精細ながら集電効率の良い電極ができる。バスバー（Bass-Bar）電極とは、太陽電池を相互に接続するための太めの電極である。
　半導体層としては、単結晶シリコン、単結晶ゲルマニウム、多結晶シリコン、微結晶シリコン、アモルファスシリコン、GaAs、InP、AlGaAs、CdS、CdTe、Cu2Sなどの種々の無機化合物材料が半導体層として適用できる。
　導電性インキとしては、例えば、特許文献４に記載されたものを使用することができる。また、Ａｇ，Ｃｕ，Ｎｉ等の粒子を導電性粉として含有させた導電性ペーストを溶剤で粘度調整等をしたものなども使用できる。
　太陽電池の基本的構成については広く知られており、例えば、特許文献７などに開示されている。
　本発明に係る太陽電池の製造方法は、前記太陽電池を製造するための方法であって、クッション層付グラビア版を用いた印刷法又はグラビアオフセット印刷法により、半導体層表面に導電性インキを用いて線幅１～１０μｍ及び高さ１～１０μｍの網状細線電極並びに線幅５０～１００μｍ及び高さ１５～１００μｍのバスバー電極を印刷するようにしたことを特徴とする。
　本発明に係るグラビア製版ロールの製造方法の第１態様は、前記クッション層付グラビア製版ロールを用いた印刷法に用いられるグラビア製版ロールの製造方法であって、版母材を準備する工程と、前記版母材にゴム又は樹脂からなるクッション層を形成するクッション層形成工程と、前記クッション層に深度の異なるグラビアセルを形成するグラビアセル形成工程と、を含むことを特徴とする。
　クッション層付グラビア製版ロールとは、クッション層としての弾性層が設けられたグラビア製版ロールのことを指す。前記ゴムとしては、シリコンゴムが使用できる。前記樹脂としては、弾性プラスチック、ウレタン樹脂、ポリエチレン樹脂、発泡スチロールなどの種々の合成樹脂が適用できる。
　前記版母材としては、鉄製、アルミ製、ＣＦＲＰ製など種々の版母材が使用できる。
　クッション層付グラビア製版ロールとしては、版母材にシリコンゴムなどのゴム又は樹脂からなるクッション層を形成し、前記クッション層に深度の異なるグラビアセルを形成することができる。このようなクッション層付グラビア製版ロールとして、例えば、特許文献５に記載のものが使用できる。
　また、レーザ露光の際に、特許文献３に記載されたレーザ露光装置を用いレーザスポットが少しずつずれて重なるように照射することで、１２８００ｄｐｉ以上の解像度を実現できる。これにより、線幅の細い電極の印刷が可能となる。
　また、前記形成されたグラビアセルの表面を被覆する強化被覆層を形成する工程をさらに含むのが好適である。強化被覆層としては、クロムメッキ、ＤＬＣ被膜やペルヒドロポリシラザンを用いた二酸化ケイ素被膜など種々の強化被覆層が適用できる。
　このように、網状細線電極用とバスバー電極用のそれぞれ深度の異なるグラビアセルを形成してクッション層付グラビア製版ロールとし、該グラビア製版ロールで印刷すれば、高さの異なる電極を一度に印刷することが可能となる。
　本発明に係るグラビア製版ロールの製造方法の第２態様は、前記グラビア製版ロールを用いた印刷法に用いられるグラビア製版ロールの製造方法であって、版母材を準備する工程と、前記版母材にゴム又は樹脂からなるクッション層を形成するクッション層形成工程と、前記クッション層上に深度の異なるグラビアセルを形成するグラビアセル形成工程と、を含むことを特徴とする。
　前記クッション層上に深度の異なるグラビアセルを形成するには、前記クッション層上に銅メッキ或いは銅メッキと金属層などの中間層を設けて、フォトリソグラフィー法で該中間層にグラビアセルを形成するようにすればよい。このとき、複数回のエッチングを行うことで、深度の異なるグラビアセルの形成が可能となる。このようなクッション層付グラビア製版ロールとして、例えば、特許文献６又は特許文献８に記載のものが使用できる。
　また、前記形成されたグラビアセルの表面を被覆する強化被覆層を形成する工程をさらに含むのが好適である。強化被覆層としては、クロムメッキ、ＤＬＣ被膜やペルヒドロポリシラザンを用いた二酸化ケイ素被膜など種々の強化被覆層が適用できる。
　本発明に係るグラビア製版ロールの製造方法の第３態様は、グラビアオフセット印刷法に用いられるグラビア製版ロールの製造方法であって、版母材を準備する工程と、深度の異なるグラビアセルを形成するグラビアセル形成工程と、を含むことを特徴とする。
　グラビアオフセット印刷法は、グラビアセルを形成したグラビア製版ロールからブランケットロールを介して印刷を行う方法である。
　このグラビアオフセット印刷法に用いられるグラビア製版ロールを作製するにあたっては、版母材を準備し、フォトリソグラフィー法を用いて、グラビアセルを形成すればよい。また、レーザ露光の際には、特許文献３に記載されたレーザ露光装置を用いレーザスポットが少しずつずれて重なるように照射することで、１２８００ｄｐｉ以上の解像度を実現できる。
　前記版母材としては、鉄製、アルミ製、ＣＦＲＰ製など種々の版母材が使用できる。
　また、前記形成されたグラビアセルの表面を被覆する強化被覆層を形成する工程をさらに含むのが好適である。強化被覆層としては、クロムメッキ、ＤＬＣ被膜やペルヒドロポリシラザンを用いた二酸化ケイ素被膜など種々の強化被覆層が適用できる。
　このように、前記エッチングを複数回行うことで、深度の異なるグラビアセルの形成が可能となる。このように、網状細線電極用とバスバー電極用のそれぞれ深度の異なるグラビアセルを形成することで、高さの異なる電極を一度に印刷することが可能となる。
　また、前記レーザ露光の際に、特許文献３に記載されたレーザ露光装置を用いレーザスポットが少しずつずれて重なるように照射することで、１２８００ｄｐｉ以上の解像度を実現できる。これにより、線幅の細い電極の印刷が可能となる。
　本発明によれば、高精細でかつ集電効率の良い電極とした太陽電池及びその製造方法を提供することができるという著大な効果を有する。
本発明の太陽電池の電極の一つの実施の形態を示す部分斜視図である。 図１の側面要部拡大図である。 本発明の太陽電池の一つの実施の形態を示す部分斜視図である。 本発明の太陽電池の電極の別の実施の形態を示す部分斜視図である。
　以下に本発明の実施の形態を添付図面に基づいて説明するが、図示例は例示的に示されたもので、本発明の技術的思想から逸脱しない限り種々の変形が可能なことは言うまでもない。
　図１～３において、符号１０Ａは本発明の太陽電池を示す。太陽電池１０Ａは、多結晶シリコンの半導体層１２と、前記半導体層１２表面に例えば特許文献４に記載されたＡｇ粉含有導電性インキを用いて線幅１～１０μｍ及び高さ１～１０μｍで印刷されてなる正角網状細線電極１４Ａと、前記半導体層１２表面に例えば特許文献４に記載されたＡｇ粉導電性インキを用いて線幅５０～１００μｍ及び高さ１５～１００μｍで印刷されてなるバスバー電極１６と、前記半導体層裏面に設けられた裏面電極２４と、を含む構成とされている。
　前記半導体層１２は、ｎ型半導体層２０（ｎ型シリコン）、ｐ型半導体層２２（ｐ型シリコン）とから構成されており、裏面電極２４として、アルミニウムを使用した。
　図１では、電極がわかりやすいように受光面被覆層などは省略してあるが、図３のように、半導体層を挟むように受光面被覆層１８及び裏面被覆層（図示省略）などを設けて太陽電池とされることは勿論である。
　そして、本発明では、正角網状細線電極１４Ａ及びバスバー電極１６が、クッション層付グラビア版を用いた印刷法又はグラビアオフセット印刷法により印刷される。
　クッション層付グラビア製版ロールとしては、版母材にゴム又は樹脂からなるクッション層を形成し、前記クッション層に深度の異なるグラビアセルを形成することができる。前記クッション層としては、シリコンゴム等の合成ゴムやポリウレタン、ポリスチレン等の弾力性のある合成樹脂を使用することができる。このクッション層の厚さはクッション性即ち弾力性を付与できる厚さであればよく、特別の限定はないが、例えば、１ｃｍ～５ｃｍ程度の厚さがあれば充分である。このようなクッション層付グラビア製版ロールとして、例えば、特許文献５に記載のものが使用できる。
　クッション層付グラビア製版ロールとは、クッション層としての弾性層が設けられたグラビア製版ロールのことを指す。前記ゴムとしては、シリコンゴムが使用できる。前記樹脂としては、弾性プラスチック、ウレタン樹脂、ポリエチレン樹脂、発泡スチロールなどの種々の合成樹脂が適用できる。
　また、クッション層上に深度の異なるグラビアセルを形成するには、前記クッション層上に銅メッキ或いは銅メッキと金属層などの中間層を設けて、フォトリソグラフィー法で該中間層にグラビアセルを形成するようにしてもよい。このとき、複数回のエッチングを行うことで、深度の異なるグラビアセルの形成が可能となる。このようなクッション層付グラビア製版ロールとして、例えば、特許文献６又は特許文献８に記載のものが使用できる。
　このように、網状細線電極用とバスバー電極用のそれぞれ深度の異なるグラビアセルを形成することで、従来のようなスクリーン印刷法では実現できなかった、高さの異なる電極を一度に印刷することが可能となる。
　また、前記レーザ露光の際に、特許文献３に記載されたレーザ露光装置を用いレーザスポットが少しずつずれて重なるように照射することで、１２８００ｄｐｉ以上の解像度を実現できる。これにより、線幅の細い電極の印刷が可能となる。
　グラビアオフセット印刷法は、グラビアセルを形成したグラビア版からブランケットロールを介して印刷を行う方法である。このグラビアオフセット印刷法に用いられるグラビア製版ロールを作製するにあたっては、版母材を準備し、フォトリソグラフィー法を用いて、深度の異なるグラビアセルを形成すればよい。また、レーザ露光の際には、特許文献３に記載されたレーザ露光装置を用いレーザスポットが少しずつずれて重なるように照射することで、１２８００ｄｐｉ以上の解像度を実現できる。
　このように、網状細線電極用とバスバー電極用のそれぞれ深度の異なるグラビアセルを形成することで、従来のようなスクリーン印刷法では実現できなかった、高さの異なる電極を一度に印刷することが可能となる。
　さらに、図１の例では、網状細線電極を正角とした例を示したが、網状であればよいものでその形状に特別の限定はない。
　網状細線電極を菱形とした例を図４に示す。図４において、網状細線電極を被菱形網状細線電極１４Ｂとした以外は、図１と同様である。
　以下に実施例をあげて本発明をさらに具体的に説明するが、これらの実施例は例示的に示されるもので限定的に解釈されるべきでないことはいうまでもない。
（実施例１）
アルミニウム製の裏面電極２４を設け、ｎ型半導体層２０（ｎ型シリコン）、ｐ型半導体層２２（ｐ型シリコン）とから構成される多結晶シリコンの半導体層１２を用意した。
　シンク・ラボラトリー（株）製のレーザーグラビア製版装置（商品名：全自動レーザーグラビア製版システムＦＸ８０）を用い、レーザー製版を行い、深さが５μｍの網状細線電極形成用グラビアセルと深さが４０μｍのバスバー電極形成用グラビアセルの二種類の深さのそれぞれ異なるセルを併せて設けた版胴を作製した。
　この版胴を用い、印刷速度３０ｍｍ／ｓｅｃでナレテクノロジー社製のグラビアオフセット印刷機で、半導体層の表面にグラビアオフセット印刷にて、Ａｇ粉含有導電性インキを用いて二度刷りを行った。二度刷り後、焼成して、半導体層の表面に線幅１０μｍ及び高さ３μｍの正角網状細線電極並びに線幅９０μｍ及び高さ２６μｍのバスバー電極を作製し、このようにして太陽電池セルを作製した。
　得られた太陽電池セルのセル光電変換効率を測定すると１５％であり、高いセル光電変換効率であった。したがって、高い集電効率が得られた。
１０Ａ，１０Ｂ：太陽電池、１２：半導体層、１４Ａ，１４Ｂ：網状細線電極、１６：バスバー電極、１８：受光面被覆層、２０：ｎ型半導体層、２２：ｐ型半導体層、２４：裏面電極。

Claims (6)

  1. 半導体層と、前記半導体層表面に導電性インキを用いて線幅１～１０μｍ及び高さ１～１０μｍで印刷されてなる網状細線電極と、前記半導体層表面に導電性インキを用いて線幅５０～１００μｍ及び高さ１５～１００μｍで印刷されてなるバスバー電極と、前記半導体層裏面に設けられた裏面電極と、を含み、前記網状細線電極及びバスバー電極が、クッション層付グラビア製版ロールを用いた印刷法又はグラビアオフセット印刷法により印刷されてなることを特徴とする太陽電池。
  2. 請求項１記載の太陽電池を製造するための方法であって、クッション層付グラビア製版ロールを用いた印刷法又はグラビアオフセット印刷法により、半導体層表面に導電性インキを用いて線幅１～１０μｍ及び高さ１～１０μｍの網状細線電極並びに線幅５０～１００μｍ及び高さ１５～１００μｍのバスバー電極を印刷するようにしたことを特徴とする太陽電池の製造方法。
  3. 　請求項１又は２記載のクッション層付グラビア製版ロールを用いた印刷法に用いられるグラビア製版ロールの製造方法であって、版母材を準備する工程と、前記版母材にゴム又は樹脂からなるクッション層を形成するクッション層形成工程と、前記クッション層に深度の異なるグラビアセルを形成するグラビアセル形成工程と、を含むことを特徴とするグラビア製版ロールの製造方法。
  4. 　請求項１又は２記載のクッション層付グラビア製版ロールを用いた印刷法に用いられるグラビア製版ロールの製造方法であって、版母材を準備する工程と、前記版母材にゴム又は樹脂からなるクッション層を形成するクッション層形成工程と、前記クッション層上に深度の異なるグラビアセルを形成するグラビアセル形成工程と、を含むことを特徴とするグラビア製版ロールの製造方法。
  5. 　請求項１又は２記載のグラビアオフセット印刷法に用いられるグラビア製版ロールの製造方法であって、版母材を準備する工程と、深度の異なるグラビアセルを形成するグラビアセル形成工程と、を含むことを特徴とするグラビア製版ロールの製造方法。
  6. 　前記形成されたグラビアセルの表面を被覆する強化被覆層を形成する工程をさらに含むことを特徴とする請求項３～５いずれか１項記載のグラビア製版ロールの製造方法。
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