WO2010137503A1 - ミスト発生装置 - Google Patents
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- An object of the present invention is to provide a mist generating device capable of efficiently attaching a liquid agent to an object.
- control unit 14 appropriately stops the liquid agent spray mechanism 13 when the drive time of the liquid agent spray mechanism 13 (timer time t of the timer) reaches the preset reference time T. It is possible to spray an amount of the liquid preparation M2, and as a result, it is possible to suppress the waste of the liquid preparation M2.
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Abstract
ミスト発生装置は、ミスト(M1)と液剤(M2)とを交互に噴霧させるようにミスト発生機構(12)及び液剤噴霧機構(13)を制御する制御部(14)を備える。
Description
本発明は、ミストを発生させて顔等に向けて噴霧し、肌のケアを行うミスト発生装置に関するものである。
従来、ミストに霧化した液剤(化粧水成分等)を含ませて噴霧するミスト発生装置が提案されている(例えば特許文献1参照)。このようなミスト発生装置では、噴霧するミストに液剤が含まれるため、ミストによる温熱効果の付与及び水分補給と、液剤の供給とを同時に行うことができ、肌のトリートメントを容易に行うことができるようになっている。
しかしながら、上記したようなミスト発生装置では、肌にミストの水分が過剰に付着したときに、その水分とともに液剤が流れ落ちる可能性があり、液剤を効率良くに肌に付着させることができない虞がある。
本発明の目的は、液剤を効率良く対象物に付着させることが可能なミスト発生装置を提供することにある。
本発明の一側面に従うミスト発生装置は、ミストを発生させて噴霧対象物に噴霧するミスト発生機構と、液剤を霧化して前記噴霧対象物に噴霧する液剤噴霧機構と、前記ミストと前記液剤とを交互に噴霧させるように前記ミスト発生機構及び前記液剤噴霧機構を制御する制御手段とを備える。
一例の前記制御手段は、前記ミスト発生機構の駆動と停止を行った後に、前記液剤噴霧機構の駆動と停止を行うまでの1サイクルを所定回数繰り返すように制御する。
一例の前記制御手段は、前記ミスト発生機構の駆動時間が予め設定された基準時間に達したときに前記ミスト発生機構を停止する。
一例の前記制御手段は、前記ミスト発生機構の駆動時間が予め設定された基準時間に達したときに前記ミスト発生機構を停止する。
一例のミスト発生装置は、前記噴霧対象物の表面の水分量を直接又は間接的に検知するための水分量検知手段を備え、前記制御手段は、前記水分量検知手段で検知した水分量が所定の基準値に達したときに前記ミスト発生機構を停止する。
一例のミスト発生装置は、前記噴霧対象物の表面の温度を直接又は間接的に検知するための温度検知手段を備え、前記制御手段は、前記温度検知手段で検知した温度が所定の基準値に達したときに前記ミスト発生機構を停止する。
一例の前記制御手段は、前記液剤噴霧機構の駆動時間が予め設定された基準時間に達したときに前記液剤噴霧機構を停止する。
一例のミスト発生装置は、前記噴霧対象物の表面の前記液剤の濃度を直接又は間接的に検知するための濃度検知手段を備え、前記制御手段は、前記濃度検知手段で検知した濃度が所定の基準値に達したときに前記液剤噴霧機構を停止する。
一例のミスト発生装置は、前記噴霧対象物の表面の前記液剤の濃度を直接又は間接的に検知するための濃度検知手段を備え、前記制御手段は、前記濃度検知手段で検知した濃度が所定の基準値に達したときに前記液剤噴霧機構を停止する。
前記液剤噴霧機構は、前記液剤を静電霧化して噴霧可能に構成されたことが好ましい。
一例のミスト発生装置は、前記噴霧対象物の表面の帯電量を直接又は間接的に検知するための帯電量検知手段を備え、前記制御手段は、前記帯電量検知手段で検知した帯電量が所定の基準値に達したときに前記液剤噴霧機構を停止する。
一例のミスト発生装置は、前記噴霧対象物の表面の帯電量を直接又は間接的に検知するための帯電量検知手段を備え、前記制御手段は、前記帯電量検知手段で検知した帯電量が所定の基準値に達したときに前記液剤噴霧機構を停止する。
一例のミスト発生装置は、前記液剤噴霧機構に流れる電流値又は電圧値を測定する測定手段を備え、前記制御手段は、前記測定手段で測定した電流値又は電圧値が所定の基準値に達したときに前記液剤噴霧機構を停止する。
一例では、前記ミスト発生機構は、タンクから供給される水を加熱して温水ミストを発生させ、前記液剤噴霧機構は、液剤貯蔵部に貯留される、水とは異なる前記液剤を静電霧化する。
一例では、前記ミスト発生機構及び前記液剤噴霧機構は、送風手段なしで前記ミスト及び前記液剤を噴霧する。前記液剤噴霧機構は、静電霧化によって前記液剤の液滴が微細液剤に分裂する勢い及び当該微細液剤同士の静電反発により、前記液剤を噴霧することが好ましい。前記ミスト発生機構は、前記ミストの発生に伴う圧力上昇を利用して、前記ミストを噴霧することが好ましい。
本発明によれば、液剤を効率良く対象物に付着させるミスト発生装置を提供することが可能となる。
以下、本発明の一実施形態のミスト発生装置を図面に従って説明する。
図1に示すように、本実施形態のミスト発生装置は、ケース11と、ミスト発生機構12と、液剤噴霧機構13と、ケース11内に収容された制御部14と、検知センサ15とを備える。ミスト発生機構12及び液剤噴霧機構13は、少なくとも部分的にケース11内に収容されても良い。図示したミスト発生装置は、例えば美顔器として用いられるものであり、ミスト発生機構12から発生されたミストM1、及び液剤噴霧機構13にて静電霧化された液剤M2(そのミスト)を噴霧対象物としての顔Fに噴霧可能な装置である。
図1に示すように、本実施形態のミスト発生装置は、ケース11と、ミスト発生機構12と、液剤噴霧機構13と、ケース11内に収容された制御部14と、検知センサ15とを備える。ミスト発生機構12及び液剤噴霧機構13は、少なくとも部分的にケース11内に収容されても良い。図示したミスト発生装置は、例えば美顔器として用いられるものであり、ミスト発生機構12から発生されたミストM1、及び液剤噴霧機構13にて静電霧化された液剤M2(そのミスト)を噴霧対象物としての顔Fに噴霧可能な装置である。
ケース11には、上方(天方向)開口すなわちミスト用開口部11aと、側方(水平方向)開口すなわち液剤用開口部11bとが形成されている。ケース11は、例えば、上方が開口した有底四角筒状のケース本体と、ケース本体の上端開口部を覆う蓋部材とを含むが、図1では、ケース本体と蓋部材は一体的に図示している。図示した例では、液剤用開口部11bは、ケース11の側面11cから側方(水平方向であって、図1中、左方向)に突出しケース11内外を連通する筒部11dの先端に形成されている。
ミスト発生機構12は、着脱可能なタンク21から供給される水Wを貯留する貯水槽22と、貯水槽22と連通管23を介して連通され該貯水槽22の水WからミストM1を発生させるミスト発生部24と、ミスト移送経路25を介してミスト発生部24と連通され、発生したミストM1を吐出するための吐出開口部26aを有するミスト吐出口26とを備える。
図示した例では、ミスト発生部24は、水Wを加熱してミストM1を発生させる加熱式であって、ヒータ24aを備える。前記ミスト吐出口26は、前記ミスト用開口部11aを介してケース11の外方に突出し、ケース11の外方で略直角に屈曲し、吐出開口部26aが前記液剤用開口部11bと平行な方向(水平方向であって、図1中、左方向)を向くように設けられている。ミスト吐出口26の吐出開口部26a及び液剤用開口部11bは、その開口軸の前方(図1中、左方向)から見て上下に並設され、液剤用開口部11bが吐出開口部26aよりも下側に配置されている。
液剤噴霧機構13は、保湿剤や美白剤等の液剤M2を前記液剤用開口部11bから噴霧するためのものである。詳しくは、液剤噴霧機構13は、保湿剤や美白剤等の液剤を貯蔵するための液剤貯蔵部31と、その液剤貯蔵部31と連通されたノズル32と、ノズル32に設けられたポンプ33と、高圧電源回路34とを備える。ポンプ33は、液剤貯蔵部31内の液剤をノズル32に送り込むためのものである。ノズル32の先端部32aは液剤用開口部11b内に位置する。高圧電源回路34は、ノズル先端部32aに到達した液剤をコロナ放電により静電霧化するためのものである。高圧電源回路34にて静電霧化された液剤M2は微細化されて、前記液剤用開口部11bから噴霧されるようになっている。そして、その液剤M2を顔Fに浴びることで、肌の角質層表面の隙間に浸透させることが可能であり、高い美容作用や健康作用を得ることが可能となっている。また、液剤M2は、高圧電源回路34にて静電霧化される際に、プラスに帯電されるようになっている。
検知センサ15は、顔Fの表面の水分量V(ml)を間接的に検知するためのものである。詳しくは、検知センサ15は、ケース11の側面11cに設けられるとともに、前記制御部14と電気的に接続されている。そして、検知センサ15は、顔Fの表面から所定距離だけ離れた地点での水分量を検出し、その検出した水分量に基づいて制御部14は顔Fの表面の水分量Vを算出する。
制御部14は、図示しない操作スイッチ等の操作に基づき、ミスト発生機構12のヒータ24aに通電する制御と、液剤噴霧機構13のポンプ33及び高圧電源回路34を駆動する制御とを行う。
例えば、図2に示すように、前記操作スイッチにて、ミストM1と液剤M2を交互にN回ずつ繰り返し噴霧するための通常コースの選択(例えば、通常コースボタンを押す)が行われると、制御部14は、まず、ミスト発生機構12を駆動してミストM1を噴霧させる(ステップ1)。
次に、制御部14は、検知センサ15で検知された水分量Vと、予め設定された基準値V1とを比較する(ステップ2)。そして、水分量Vが予め設定された基準値V1以上となったとき、ミスト発生機構12の駆動を停止してミストM1の噴霧を終了させる(ステップ3)。
次に、制御部14は、液剤噴霧機構13を駆動して液剤M2を噴霧させる(ステップ4)。このとき、タイマ41の計時時間tが0とされる。液剤M2が顔Fに噴霧されて、タイマ41の計時時間tが予め設定された基準時間Tに達したとき、制御部14は液剤噴霧機構13の駆動を停止して液剤M2の噴霧を終了させる(ステップ5及びステップ6)。
本実施形態では、ここまでの動作を1サイクルとしている。制御部14は、液剤噴霧機構13の駆動停止時に、カウンタ42のカウント値nをインクリメントする(ステップ7)。尚、カウント値nは通常コースの開始時に0にリセットされるようになっている。その後、制御部14は、カウント値nと所定の繰り返し回数Nとを比較し、カウント値nが繰り返し回数Nに到達していない場合はステップ1に戻り、到達した場合は通常コースを終了する(ステップ8)。このようにして、制御部14は、ミストM1と液剤M2を交互にN回ずつ繰り返し噴霧させるようにミスト発生機構12及び液剤噴霧機構13を制御するようになっている。
以上のように、本実施形態の通常コースの動作では、先にミストM1が噴霧され、その後に液剤M2が噴霧されるようになっている。このように、ミストM1と液剤M2とが別々に噴霧されることで、顔Fの表面に過剰に付着したミストM1の水分とともに液剤M2が流れ落ちてしまうことが抑制可能となっている。その結果、液剤M2を効率良く顔Fの表面に付着させることが可能となり、ひいては、液剤貯蔵部31の小型化及びミスト発生装置全体の小型化に寄与できる。また、先に噴霧されて顔Fに到達したミストM1により顔Fの肌の毛穴が拡がり、その後に噴霧される液剤M2の吸収率が向上するようになっている。
次に、本実施形態の特徴的な作用効果を記載する。
(1)本実施形態では、ミストM1と液剤M2とが交互に噴霧されるようにミスト発生機構12及び液剤噴霧機構13を制御する制御部14とを備える。ミストM1と液剤M2とがミスト発生機構12及び液剤噴霧機構13から別々に噴霧されるため、ミストと液剤の同時噴霧に比べ、顔Fに過剰に付着したミストM1の水分とともに流れ落ちる液剤M2の量を抑えることが可能となり、その結果、液剤M2を効率良く顔Fに付着させることが可能となる。
(1)本実施形態では、ミストM1と液剤M2とが交互に噴霧されるようにミスト発生機構12及び液剤噴霧機構13を制御する制御部14とを備える。ミストM1と液剤M2とがミスト発生機構12及び液剤噴霧機構13から別々に噴霧されるため、ミストと液剤の同時噴霧に比べ、顔Fに過剰に付着したミストM1の水分とともに流れ落ちる液剤M2の量を抑えることが可能となり、その結果、液剤M2を効率良く顔Fに付着させることが可能となる。
(2)本実施形態では、制御部14は、ミスト発生機構12の駆動と停止を行った後に、液剤噴霧機構13の駆動と停止を行うまでの1サイクルを所定の回数Nだけ繰り返すように制御するため、液剤M2の噴霧の前には必ずミストM1が噴霧されるようになっている。このため、先に噴霧されたミストM1によって肌が温められて毛穴が拡がり、液剤M2の吸収率を向上させることが可能となる。
(3)本実施形態のミスト発生装置は、顔Fの表面の水分量Vを間接的に検知するための検知センサ15を備える。制御部14は、検知センサ15で検知した水分量Vが所定の基準値V1に達したときにミスト発生機構12を停止する。これにより、適切な量のミストM1の噴霧が可能となるため、ミストM1の過剰な付着が抑制され、液剤M2の流れ落ちをより抑えることが可能となる。また、顔Fの表面の水分量Vが、検知センサ15により間接的に検知されるため、ミストM1の過剰な付着をより確実に抑制することが可能となる。
(4)本実施形態では、制御部14は、液剤噴霧機構13の駆動時間(タイマの計時時間t)が予め設定された基準時間Tに達したときに液剤噴霧機構13を停止するため、適切な量の液剤M2の噴霧が可能となり、その結果、液剤M2の浪費を抑えることが可能となる。
(5)本実施形態では、液剤噴霧機構13は、液剤M2を静電霧化して噴霧可能に構成される。これにより、静電霧化によって微細な液剤M2の噴霧が可能となるため、より効果的に液剤M2を顔Fの肌に供給することができる。
(6)図示した例では、ミストM1は第1の方式(例えば加熱)で水Wから生成され、微細液剤は第1の方式とは異なる第2の方式(静電霧化)により、水Wとは異なる液剤から生成される。静電霧化のため、噴霧される液剤M2の一粒子のサイズ(直径)は、ミストM1の一粒子のサイズ(直径)よりも顕著に小さい。よって、より効果的に液剤M2を顔Fの肌に供給することができる。尚、ミストM1を水ミストと呼ぶことがあり、霧状の液剤M2を微細液剤と呼ぶことがある。
(7)図示した例では、霧状の液剤M2は、静電霧化によって液剤の液滴が微細液剤に分裂する勢い及び微細液剤同士の静電反発により吐出されるため、液剤送風用ファンのような送風手段は不要である。このように、霧状の液剤M2は吐出時に送風手段による強制気流を受けないため、噴霧される液剤M2の粒子同士の会合等による液剤M2の大型化が避けられる。よって、より効果的に液剤M2を顔Fの肌に供給することができる。また、ミストM1は、ミストM1の発生に伴うミスト移送経路25内の圧力上昇により吐出されるため、ミスト送風用ファンのような送風手段は不要である。これらの送風手段を用いないことにより、ミスト発生装置の静音性は向上する。
尚、本発明の実施形態は、以下のように変更してもよい。
・上記実施形態では、検知センサ15を顔Fの表面の水分量Vを間接的に検知するセンサとしたが、これに限定されるものではなく、他に、顔Fの表面の温度を直接又は間接的に検知するセンサや、顔Fの表面の液剤M2の濃度を直接又は間接的に検知するセンサや、顔Fの表面の帯電量を直接又は間接的に検知するセンサとしてもよい。尚、検知センサ15が顔Fの表面の温度を直接又は間接的に検知する場合では、制御部14は、検知センサ15で検知した温度が所定の基準値に達したときにミスト発生機構12を停止するようになっている。このような構成によれば、適切な量のミストM1の噴霧が可能となるため、ミストM1の過剰な付着が抑制され、液剤M2の流れ落ちをより抑えることが可能となる。
・上記実施形態では、検知センサ15を顔Fの表面の水分量Vを間接的に検知するセンサとしたが、これに限定されるものではなく、他に、顔Fの表面の温度を直接又は間接的に検知するセンサや、顔Fの表面の液剤M2の濃度を直接又は間接的に検知するセンサや、顔Fの表面の帯電量を直接又は間接的に検知するセンサとしてもよい。尚、検知センサ15が顔Fの表面の温度を直接又は間接的に検知する場合では、制御部14は、検知センサ15で検知した温度が所定の基準値に達したときにミスト発生機構12を停止するようになっている。このような構成によれば、適切な量のミストM1の噴霧が可能となるため、ミストM1の過剰な付着が抑制され、液剤M2の流れ落ちをより抑えることが可能となる。
また、顔Fの表面の液剤M2の濃度を直接又は間接的に検知する場合では、制御部14は、検知センサ15で検知した液剤M2の濃度が所定の基準値に達したときに液剤噴霧機構13を停止するようになっている。また、検知センサ15が顔Fの表面の帯電量を直接又は間接的に検知する場合では、制御部14は、検知センサ15で検知した帯電量が所定の基準値に達したときに液剤噴霧機構13を停止するようになっている。このような構成によれば、適切な量の液剤M2の噴霧が可能となり、その結果、液剤M2の浪費を抑えることが可能となる。
・上記実施形態では、制御部14は、検知センサ15で検知された水分量Vに基づいてミスト発生機構12の駆動を停止したが、これ以外に例えば、ミスト発生機構12の駆動時間が予め設定された基準時間に達したときにミスト発生機構12を停止するように制御してもよい。このような構成によっても、本実施形態と略同様の効果を得ることができる。
・上記実施形態において、液剤噴霧機構13に流れる電流値又は電圧値を測定するための電流計又は電圧計のような測定手段43(図1参照)を備え、制御部14は、測定手段43で測定した電流値又は電圧値が所定の基準値に達したときに液剤噴霧機構13を停止してもよい。このような構成によれば、液剤噴霧機構13に流れる高電流(高電圧)による液剤M2の過剰供給を抑えることが可能となり、その結果、液剤M2の浪費を抑えることが可能となる。
・上記実施形態の制御部14は、通常コースにおいて先にミストM1の噴霧を行い、その後に液剤M2の噴霧を行うように制御したが、反対に先に液剤M2の噴霧を行い、その後にミストM1の噴霧を行うように制御してもよい。
・上記実施形態では、ミストM1が吐出されるミスト吐出口26と、液剤M2が噴霧される液剤用開口部11bとが別々に構成されたが、特にこれに限定されるものではなく、ミストM1と液剤M2を同一の噴霧口から噴霧するように構成してもよい。
・上記実施形態では、ミスト発生部24は加熱式のものであり、発生されるミストM1は温ミスト(温水ミスト)であるが、特にこれに限定されるものではなく、冷ミスト(冷水ミスト)を発生させるべく、例えば、超音波にて霧化させる超音波式のものや、霧吹き等の原理で知られるベンチュリー効果を用いたものとしてもよい。
・上記実施形態の液剤噴霧機構13のように元々液状である剤を霧化するだけではなく、例えば、固形状の剤を剤のタンクに入れておき、その固形状の剤を水に溶解させることで液体状の剤を生成するように構成してもよい。
・上記実施形態では、液剤噴霧機構13は、液剤M2を静電霧化するものとしたが、これ以外に例えば、液剤を噴霧ノズルの先端開口部から噴霧するものであればよく、例えば、液剤をベンチュリー効果や超音波によって霧化するものに変更してもよい。
・上記実施形態では、噴霧対象物を顔Fとしたが、これ以外に例えば、人体の顔F以外の部位(手や脚)でもよい。
12…ミスト発生機構、13…液剤噴霧機構、14…制御手段としての制御部、15…検知センサ(水分量検知手段、温度検知手段、濃度検知手段、帯電量検知手段)、43…測定手段、V…水分量、M1…ミスト、M2…液剤。
Claims (14)
- ミストを発生させて噴霧対象物に噴霧するミスト発生機構と、
液剤を霧化して前記噴霧対象物に噴霧する液剤噴霧機構と、
前記ミストと前記液剤とを交互に噴霧させるように前記ミスト発生機構及び前記液剤噴霧機構を制御する制御手段と
を備えたことを特徴とするミスト発生装置。 - 請求項1に記載のミスト発生装置において、
前記制御手段は、前記ミスト発生機構の駆動と停止を行った後に、前記液剤噴霧機構の駆動と停止を行うまでを1サイクルとして、そのサイクルを所定回数繰り返すように制御することを特徴とするミスト発生装置。 - 請求項1又は2に記載のミスト発生装置において、
前記制御手段は、前記ミスト発生機構の駆動時間が予め設定された基準時間に達したときに前記ミスト発生機構を停止することを特徴とするミスト発生装置。 - 請求項1に記載のミスト発生装置において、
前記噴霧対象物の表面の水分量を直接又は間接的に検知するための水分量検知手段を備え、
前記制御手段は、前記水分量検知手段で検知した水分量が所定の基準値に達したときに前記ミスト発生機構を停止することを特徴とするミスト発生装置。 - 請求項1に記載のミスト発生装置において、
前記噴霧対象物の表面の温度を直接又は間接的に検知するための温度検知手段を備え、
前記制御手段は、前記温度検知手段で検知した温度が所定の基準値に達したときに前記ミスト発生機構を停止することを特徴とするミスト発生装置。 - 請求項1に記載のミスト発生装置において、
前記制御手段は、前記液剤噴霧機構の駆動時間が予め設定された基準時間に達したときに前記液剤噴霧機構を停止することを特徴とするミスト発生装置。 - 請求項1に記載のミスト発生装置において、
前記噴霧対象物の表面の前記液剤の濃度を直接又は間接的に検知するための濃度検知手段を備え、
前記制御手段は、前記濃度検知手段で検知した濃度が所定の基準値に達したときに前記液剤噴霧機構を停止することを特徴とするミスト発生装置。 - 請求項1に記載のミスト発生装置において、
前記液剤噴霧機構は、前記液剤を静電霧化して噴霧可能に構成されたことを特徴とするミスト発生装置。 - 請求項8に記載のミスト発生装置において、
前記噴霧対象物の表面の帯電量を直接又は間接的に検知するための帯電量検知手段を備え、
前記制御手段は、前記帯電量検知手段で検知した帯電量が所定の基準値に達したときに前記液剤噴霧機構を停止することを特徴とするミスト発生装置。 - 請求項8又は9に記載のミスト発生装置において、
前記液剤噴霧機構に流れる電流値又は電圧値を測定する測定手段を備え、
前記制御手段は、前記測定手段で測定した電流値又は電圧値が所定の基準値に達したときに前記液剤噴霧機構を停止することを特徴とするミスト発生装置。 - 請求項8に記載のミスト発生装置において、
前記ミスト発生機構は、タンクから供給される水を加熱して温水ミストを発生させ、前記液剤噴霧機構は、液剤貯蔵部に貯留される、水とは異なる前記液剤を静電霧化するミスト発生装置。 - 請求項1に記載のミスト発生装置において、
前記ミスト発生機構及び前記液剤噴霧機構は、送風手段なしで前記ミスト及び前記液剤を噴霧するミスト発生装置。 - 請求項12に記載のミスト発生装置において、
前記液剤噴霧機構は、静電霧化によって前記液剤の液滴が微細液剤に分裂する勢い及び当該微細液剤同士の静電反発により、前記液剤を噴霧するミスト発生装置。 - 請求項13に記載のミスト発生装置において、
前記ミスト発生機構は、前記ミストの発生に伴う圧力上昇を利用して、前記ミストを噴霧するミスト発生装置。
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