JP5207904B2 - 還元水ミスト発生装置内蔵型理美容機器 - Google Patents
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Description
また、酸性水溶液生成部が、水中で酸性成分を発生させ、前記水中で発生した前記酸性成分がイオン化して発生する陽イオン及び陰イオンを含む酸性水溶液を生成する。
還元成分生成部は、酸性水溶液に含まれる陽イオンへ電子を与えて還元して還元成分を生成し、還元水生成部は、還元成分生成部により生成された還元成分を水に溶解させて、還元成分が溶解された還元水を生成する。
そのため、酸性水溶液を生成する処理、前記処理により生成された酸性水溶液に含まれ
る陽イオンへ電子を与えて還元して還元成分を生成する処理、前記処理により生成された
還元成分を水に溶解させる処理を順次行えば、還元水が発生するので、還元水を簡便に発
生させることができる。
図2に示す還元水ミスト発生装置1において、水取得部3は、冷媒ガスを高温高圧に圧縮した後放熱させて冷媒液とする放熱部34と、冷媒液を減圧した後気化させて冷媒ガスとする冷却部37と、を備える。すなわち、水取得部3は、放熱部34及び冷却部37を有した熱交換器を備える。
図3に示す還元水ミスト発生装置1において、水取得部3は、冷却面40による冷却により、空気中の水分を結露させて水を取得するペルチェ素子38を備える。
図4に示す還元水ミスト発生装置1において、水取得部3は、空気中の水分を吸着する吸着剤45と、吸着剤45を加熱して吸着剤45に吸着された水分を脱離させるヒーター49と、を備える。ここに、吸着剤45は、例えば、ゼオライトが好適である。
以下、「上流」、「下流」との記載は、送風部26から導入される送風に対する上流、下流をそれぞれ示すものとする。
図6に示す還元水ミスト発生装置1において、還元水霧化部6は、表面弾性波を発生して、表面弾性波により還元水M3を霧化させる表面弾性波発生部64を備える。このような表面弾性波発生部64は、基板61の一表面の一端に設けられ、高周波電源が接続された振動子から構成されている。このような表面弾性波発生部64では、振動子が振動した際には、その振動波が基板61の前記一表面上を表面弾性波となって伝播する。
図7に示す還元水ミスト発生装置1は、理美容機器の1つであるシャワーヘッドX1に内蔵された構成とされている。シャワーヘッドX1は、給水ホース80を通じて供給された水道水を吐出口81よりシャワー状に吐出するものである。
図8に示す還元水ミスト生成装置1において、還元水霧化部6は、還元水M3に超音波を放射して霧化させる超音波放射素子60を備える。このような超音波放射素子60は、基板61、断熱層62、及び、発熱体63を備える。
図9に示す還元水ミスト発生装置1において、還元水霧化部6は、放電電極65及び対向電極66と、放電電極65に還元水M3を供給する還元水供給管67と、放電電極65に高電圧を印加する高電圧印加部68と、を備える。
図10に示す還元水ミスト発生装置1は、美顔器X2に内蔵されて使用されている。このような美顔器X2は、還元水M3を還元水ミストとして放出する還元水ミストノズル11及びスチームを放出するスチームノズル12をそれぞれ1個づつ備えている。
図11に示す還元水ミスト発生装置1は、理美容機器の1つであるサウナスーツX3に内蔵された構成とされている。このようなサウナスーツX3において、還元水M3を加圧するポンプ(加圧部)17、及び、ポンプ17により加圧された還元水M3を射出するための複数の小孔19が、還元水霧化部6及び散布部7の機能を有している。
図12に示す還元水ミスト発生装置1は、理美容機器の1つであるヘアドライヤX4に内蔵された構成とされている。ヘアドライヤX4は、外部の空気を吸入する吸入口82及び加熱された空気を吐出する吐出口83を備え、外部の空気を吸入して加熱した後、加熱された空気を、図中矢印に示す送風として導入する。また、還元水ミスト発生装置1において、散布部7は、還元水M3を送風と平行な方向へ散布するよう構成されている。
図13に示す還元水ミスト発生装置1は、理美容機器の1つであるヘアアイロンX5に内蔵された構成とされている。ヘアアイロンX5は、人の髪と接触し、接触した髪を加熱する一対のアイロン板84A,84Bを備える。このようなヘアアイロンX5は、一対のアイロン板84A,84Bによって髪を加熱させながら、還元水M3を還元水ミストとして髪に散布することができる。
図14に示す還元水ミスト発生装置1は、理美容機器の1つであるヘアブラシX6に内蔵された構成とされている。ヘアブラシX6は、人の髪を梳かすブラシ85を備える。このようなヘアブラシX6は、ブラシ85により人の髪を梳かしながら、還元水M3を還元水ミストとして髪に散布することができる。
U 還元水生成ユニット
1 還元水ミスト発生装置
2 酸性水溶液生成部
3 水取得部
4 還元成分生成部
4A 還元物質
4B 調節部
5 還元水生成部
6 還元水霧化部
7 散布部
17 ポンプ
19 小孔
20 貯留部
25 放電部
21 絶縁スペーサ
21a 貫通孔
22 上流側電極
23 下流側電極
24 高電圧印加部
26 送風部
34 放熱部
35 冷却部
38 ペルチェ素子
40 冷却面
45 吸着剤
49 ヒーター
53 陽極
54 陰極
60 超音波放射素子
64 表面弾性波発生部
65 放電電極
66 対向電極
M1 酸性水溶液
M2 還元成分
M3 還元水
Claims (12)
- 酸性成分が水中でイオン化して発生した陽イオンを還元して得られた還元成分が溶解された還元水を生成するための水を取得する水取得部と、
前記水取得部により取得された前記水から前記還元水を生成する還元水生成ユニットと、
前記還元水生成ユニットにより生成された前記還元水を霧化させる還元水霧化部と、
前記還元水霧化部により霧化された前記還元水を還元水ミストとして散布する散布部と、
からなる還元水ミスト発生装置を内蔵し、
前記還元水生成ユニットは、
水中で酸性成分を発生させ、前記水中で発生した前記酸性成分がイオン化して発生する陽イオン及び陰イオンを含む酸性水溶液を生成する酸性水溶液生成部と、
前記酸性水溶液に含まれる前記陽イオンへ電子を与えて還元して還元成分を生成する還元成分生成部と、
前記還元成分生成部により生成された前記還元成分を水中で溶解させて、前記還元成分が溶解された還元水を生成する還元水生成部と、
を備える
ことを特徴とする還元水ミスト発生装置内蔵型理美容機器。 - 前記水取得部が、冷媒ガスを高温高圧に圧縮した後放熱させて冷媒液とする放熱部と、
前記冷媒液を減圧した後気化させて前記冷媒ガスとする冷却部と、を備えており、
前記冷却部による冷却により空気中の水分を結露させて前記水を取得することを特徴とする請求項1に記載の還元水ミスト発生装置内蔵型理美容機器。 - 前記水取得部が、冷却面による冷却により、空気中の水分を結露させて前記水を取得するペルチェ素子を備えることを特徴とする請求項1に記載の還元水ミスト発生装置内蔵型理美容機器。
- 前記酸性水溶液生成部は、
前記酸性水溶液を生成するための水又は前記酸性水溶液を貯留する貯留部と、
前記貯留部内に配置された第1の電極と、前記貯留部内に配置された第2の電極と、前記第1の電極及び前記第2の電極との間に挟持されて設けられ、前記貯留部と連通する貫通孔を有する絶縁スペーサと、前記第1の電極及び前記第2の電極へ高電圧を印加して、前記絶縁スペーサの前記貫通孔で沿面放電を行って、前記酸性成分の原料を生成するための高電圧印加部と、からなる放電部と、
前記絶縁スペーサの前記貫通孔へ送風を導入して、前記沿面放電が行われている前記貫通孔で前記酸性成分の原料を生成させ、前記貫通孔で生成された前記酸性成分の原料を前記貯留部に貯留された前記水へ溶解させて前記酸性成分を発生させる送風部と、
を備えることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の還元水ミスト発生装置内蔵型理美容機器。 - 前記陽イオンは水素イオンであり、
前記還元成分生成部は、
水素よりもイオン化傾向が大きな元素で構成され、前記酸性水溶液に含まれる前記水素イオンを還元して、前記還元成分として水素分子を生成する還元物質と、
前記水素分子の生成量を調節する調節部と、
を備えることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の還元水ミスト発生装置内蔵型理美容機器。 - 前記還元物質は、前記調節部へ着脱可能にされていることを特徴とする請求項5に記載の還元水ミスト発生装置内蔵型理美容機器。
- 前記還元物質は、前記調節部により前記酸性水溶液に浸される範囲が調節可能にされていることを特徴とする請求項5に記載の還元水ミスト発生装置内蔵型理美容機器。
- 前記還元水生成ユニットは、アスコルビン酸が充填されたアスコルビン酸カートリッジが取り付けられており、前記還元水が、前記アスコルビン酸カートリッジを通過して、アスコルビン酸が溶解された還元水とされることを特徴とする請求項1乃至請求項7のいずれか一項に記載の還元水ミスト発生装置内蔵型理美容機器。
- 前記還元水霧化部が、前記還元水に超音波を放射して霧化させる超音波放射素子を備えることを特徴とする請求項1乃至請求項8のいずれか一項に記載の還元水ミスト発生装置内蔵型理美容機器。
- 前記還元水霧化部が、高周波電源に接続された振動子の振動により表面弾性波を発生して、前記表面弾性波により前記還元水を霧化させる表面弾性波発生部を備えることを特徴とする請求項1乃至請求項8のいずれか一項に記載の還元水ミスト発生装置内蔵型理美容機器。
- 前記還元水霧化部が、高電圧が印加されることで発生する高電界により前記還元水を霧化させる静電霧化部を備えることを特徴とする請求項1乃至請求項8のいずれか一項に記載の還元水ミスト発生装置内蔵型理美容機器。
- 前記還元水霧化部が、前記還元水を加圧する加圧部と、前記加圧部により加圧された前記還元水を射出する射出部を備え、前記射出部には複数の孔が設けてあることを特徴とする請求項1乃至請求項8のいずれか一項に記載の還元水ミスト発生装置内蔵型理美容機器。
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