WO2010084748A1 - 屈折率測定装置 - Google Patents

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Abstract

 2つのプローブ光学系(22,24)を、被検物(23)を間に挟むように配置して測定に用いることによって、局所的に特定された被検物中を透過する光の光路長をその干渉信号を利用して算出し、また同部分の幾何学的厚みをプローブ光学系の位置を測定することで算出して、両算出値を求め、それらの値と基準物における算出値とに基づいて、被検物の屈折率分布を求める。

Description

屈折率測定装置
 本発明は、非球面、球面、又は、曲面を有するレンズ等の光学部材の屈折率分布を測定するのに適した、屈折率測定装置に関するものである。
 デジタルコピー又はデジタルカメラ等に使用される光学素子として、成型レンズがある。
 この成型レンズは、硝子研磨レンズに比べて非球面レンズの製作性に優れ、低コストであるが、成型条件によっては、レンズ内部の屈折率分布に不均一性を生じやすいという不安定な面もある。このレンズ内部の屈折率の不均一性は、レンズの光学特性に大きな影響を及ぼし、結像性能を劣化させる原因となる恐れがある。
 このようなことから、成型レンズの品質安定化のためには、屈折率の分布を高精度に測定する必要がある。
 また、近年、屈折率勾配を意図的にレンズ内に持たせたGRIN(GRadient-INdex)レンズが光通信の分野等で使用され始めている。このGRINレンズは、形状と屈折率と分離できるため、撮像系等、その応用範囲の広がりが期待されている。
 GRINレンズは、屈折率分布を意図的に硝剤につけて設計するため、安定した量産化のためには、屈折率の分布を高精度に測定する必要がある。
 これらに対応するための屈折率を測定する従来技術として、最小偏角法などにより偏角を測定して求める方法、又は、被検物を屈折率が既知の溶液に浸して観察して溶液の屈折率から間接的に被検物の屈折率を測定する方法、又は、平面波の参照光と被検物をその屈折率とほぼ等しい屈折率既知のマッチング液に液浸させた状態を透過した平面歯の検査光に生じる干渉縞を観察する方法(マッハチェンダー型干渉計)がある。
 図6は、従来のマッハツェンダー型干渉計を利用した屈折率測定装置を示す図である。
 図6において、レーザー光源1から出射した光は、集光レンズ2によって平行光にされた後、ハーフミラー3によって、参照光4と検査光5に分岐される。検査光5は、ミラー6を反射した後、被検物7と屈折率がほぼ等しいマッチング液で満たされた液浸槽8及びそれに浸された被検物7を透過して被検物7の屈折率分布に対応した光路差を生じ、ハーフミラー9に達した後に結像レンズ10を介して撮像素子11に入る。
 一方、参照光4は、補償板12を透過し、ミラー13で反射し、ハーフミラー9に達した後に結像レンズ10を介して撮像素子11に入る。この補償板12は、検査光5から撮像素子11までの光路長と参照光4から撮像素子11までの光路長をほぼ等しくするためのものである。
 撮像素子11において、検査光5と参照光4は合波され、その光路差に応じて干渉縞14を生じる。この干渉縞観察において、干渉縞14が生じている箇所のその本数により、その部分の被検物7の光学的厚さが計算でき、そこから、マッチング液の屈折率の差分を計算することで被検物7の屈折率を求めることができる。
 このマッチング液を使う干渉計を利用した方法において、マッチング液の温度均一性を上げる浴槽を使用するもの、位相シフト法を導入して精度を上げたもの、さらに、CTスキャンを利用して3次元分布を計測可能にしたもの、がある(例えば、特許文献1参照。)。
特開2001-21448号公報
 しかしながら、従来の偏角を測定する方法では、被検物を所定の形状に加工する必要があり、測定対象の光学素子を破壊し、研磨しなければならないという課題がある。
 また、被検物を屈折率がほぼ被検物と等しいマッチング液に浸す方法は、非破壊で測定できるが、マッチング液の屈折率の不均一性が大きな誤差原因となり、その制御方法が難しいという課題がある。さらに、被検物がマッチング液の屈折率の存在領域に狭められると共に、マッチング液そのものが環境及び人体に害をなすものが多くあり、測定の利便性が損なわれる課題もある。
 本発明の目的は、前記従来の課題を解決するもので、被検物を非破壊でその屈折率分布を簡易に測定することができる屈折率測定装置を提供することにある。
 本発明は、上記目的を達成するため、以下のように構成している。
 本発明の第1態様によれば、光源と、
 前記光源からの光を検査光と参照光とに分割するビームスプリッタと、
 前記検査光を集光して被検物の表面に照射する第1プローブ光学系と、
 前記被検物を透過した前記検査光を集光する第2プローブ光学系と、
 前記第1プローブ光学系の光軸と前記第2プローブ光学系の光軸とが同軸性を保つように1つの光軸上で変位させる駆動手段と、
 前記第2プローブ光学系で集光された前記検査光と前記参照光とを干渉させて干渉信号を得る受光素子と、
 前記受光素子で得られた干渉信号に基づいて前記被検物の屈折率を算出する算出部と、
を備える屈折率測定装置を提供する。
 本発明の第2態様によれば、前記算出部は、前記被検物の干渉信号の算出値と、屈折率と厚みが既知の基準物を被検物の代わりに用いて予め求めた干渉信号の算出値と、に基づいて、前記被検物の屈折率を算出する第1の態様に記載の屈折率測定装置を提供する。
 本発明の第3態様によれば、前記第1プローブ光学系と前記第2プローブ光学系の位置を、それぞれの基準位置からの差分として測距する第1測長手段と、
 前記参照光の光路中に設けられて前記参照光の光路長を調整する参照光ミラーと、
 前記参照光ミラーの位置を、その基準位置からの差分として測距する第2測長手段と、を備え、
 前記基準物の屈折率をN0とし、前記基準物の厚みをD0とし、前記それぞれのプローブ光学系の前記基準位置からの差分の合計をΔDとし、前記参照ミラーの前記基準位置からの差分をΔNDとしたときに、前記被検物の屈折率Nを下記(式1)で前記算出部により算出する第2の態様に記載の屈折率測定装置を提供する。
  (数1)
  N=(2ΔND+N0×D0)/(ΔD+D0)   ・・・(式1)
 本発明の第4態様によれば、前記第1プローブ光学系と前記第2プローブ光学系のうち、一方のプローブ光学系のプローブは、その照射光の波長より小さな範囲内の先端のみ露出し、前記プローブの他の部分は不透明な被覆層で覆われており、他方のプローブ光学系のプローブは、その照射光の波長より小さな範囲内の先端のみ露出し、前記他方のプローブ光学系の前記プローブの他の部分は透明な被覆層で覆われている第1又は2の態様に記載の屈折率測定装置を提供する。
 本発明の第5態様によれば、前記第1プローブ光学系と前記第2プローブ光学系のうち、一方のプローブ光学系のプローブは、その照射光の波長より小さな範囲内の先端のみ露出し、前記プローブの他の部分は不透明な被覆層で覆われており、他方のプローブ光学系のプローブは、その照射光の波長より小さな範囲内の先端のみ露出し、前記他方のプローブ光学系の前記プローブの他の部分は被覆層無しで露出している第1又は2の態様に記載の屈折率測定装置を提供する。
 本発明の第6態様によれば、前記第1プローブ光学系と前記第2プローブ光学系とを同軸のまま連動して移動させる移動機構を更に備え、前記第1プローブ光学系と前記第2プローブ光学系とを移動させながら前記被検物を走査し、前記被検物の屈折率分布を算出する第1又は2の態様に記載の屈折率測定装置を提供する。
 本発明を用いることによって、被検物を非破壊でその屈折率分布を簡易に測定することができる。
 本発明のこれらと他の目的と特徴は、添付された図面についての好ましい実施形態に関連した次の記述から明らかになる。この図面においては、
図1は、本発明の第1実施形態における屈折率測定装置の概念構成図であり、 図2は、前記第1実施形態の前記屈折率測定装置におけるフローチャートであり、 図3は、前記第1実施形態の前記屈折率測定装置におけるプローブ光学系からの近接場光の被検物表面への照射を示す図であり、 図4Aは、前記第1実施形態の前記屈折率測定装置における基準物測定時の原理を示す図であり、 図4Bは、前記第1実施形態の前記屈折率測定装置における被検物測定時の原理を示す図であり、 図5は、前記第1実施形態の前記屈折率測定装置における干渉光の強度のグラフであり、 図6は、従来のマッハツェンダー型干渉計を利用した屈折率測定装置を示す図であり、 図7は、前記第1実施形態の前記屈折率測定装置における第1プローブ光学系と第2プローブ光学系の成す光軸と垂直な平面上で被検物を変位させることができる駆動部の一例を説明するための正面図であり、 図8は、図7の駆動部の一例を説明するための側面図であり、 図9は、前記第1実施形態の前記屈折率測定装置における第1プローブ光学系及び第2プローブ光学系を同軸性を保つように変位することができる駆動部の一例を説明するための側面図である。
 以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。なお、以下の説明において、同一構成には同一符号を付して説明を省略する。
 (第1実施形態) 
 図1は、本発明の第1実施形態における屈折率測定装置の概念構成図である。また、図2は、第1実施形態における屈折率測定のフローチャートである。なお、下記するそれぞれの光源15と、駆動部30,31,35,44と、屈折率算出部50と、計算部48と、計算部49と、干渉信号計算部47と、測長器45と、測長器32と、測長器33と、フォーカス検出部40と、フォーカス検出部41となどは、制御部100により、それぞれの動作を制御するようにして、光学部材である被検物23の屈折率分布を自動的に測定することかできるようにしている。
 図1において、SLD(スーパールミネッセントダイオード)に代表される低コヒーレント光を発する光源15から出射された光束は、ビームスプリッタ16によって、検査光17と参照光18に分割される。
 検査光17は、レンズ19によってファイバ20に入射し、第1プローブ光学系22に入射し、ハーフミラー21を透過し、被検物23に照射される。被検物23に照射された検査光17は、被検物23内を透過し、第2プローブ光学系24によって集光される。第2プローブ光学系24によって集光された検査光は、ハーフミラー25を透過し、ファイバ26を伝播、レンズ27によって拡大され、ビームスプリッタ28を透過し、受光素子29に達する。
 第1プローブ光学系22及び第2プローブ光学系24は、それぞれの光学系の成す光軸が同軸になるように配置され、各々駆動部30及び駆動部31により、その同軸性を保つように1つの光軸上で変位する。そして、その変位量は測長器32及び測長器33により計測され、測長器32及び測長器33のそれぞれ内蔵された記憶部に記録される。測長器32及び測長器33は第1測長手段の一例として機能する。なお、駆動部30及び駆動部31は、第1プローブ光学系22と第2プローブ光学系24とを同軸のまま連動して移動させる機構であることが好ましいが、別途軸合わせを行い、さらに調整時間が長くなってもよければ、両プローブ光学系22,24を個別に移動させて、最終的に同軸になるように調整しても良い。
 駆動部30及び駆動部31は、それぞれ、駆動手段の一例として機能し、かつ、駆動部30及び駆動部31のそれぞれの一例としては、図9に示すように、1つの光軸上に、対向するように配置されている。すなわち、設置台80上に、第1プローブ光学系22は、そのプローブ22aがプローブ押さえ30cに支持されている。プローブ押さえ30cは、光軸沿いすなわちZ軸沿いに進退移動可能な第1Z軸駆動部30aに起立して固定されている。第1Z軸駆動部30aは、設置台80上に固定された支柱30b上で光軸沿いすなわちZ軸沿いに進退移動することができる。同様に、設置台80上に、第2プローブ光学系24は、そのプローブ24aが、第1プローブ光学系22のプローブ22aに対向するように、プローブ押さえ31cに支持されている。プローブ押さえ31cは、光軸沿いすなわちZ軸沿いに進退移動可能な第2Z軸駆動部31aに起立して固定されている。第2Z軸駆動部31aは、設置台80上に固定された支柱31b上で光軸沿いすなわちZ軸沿いに進退移動することができる。よって、第1Z軸駆動部30aと第2Z軸駆動部31aとを適宜駆動することにより、第1プローブ光学系22及び第2プローブ光学系24は同軸性を保つように1つの光軸上で変位することができる。第1Z軸駆動部30aと第2Z軸駆動部31aとは、それぞれ、例えば、モータと、モータの駆動によりナットとボールネジとの相対的な駆動を利用する機構など公知の機構で構成されている。
 被検物23は、ホルダ(レンズホルダ)34によって固定される。このホルダ34は、駆動部35により、第1プローブ光学系22と第2プローブ光学系24の成す光軸と垂直な平面上で被検物23を変位させることができる。図7及び図8にホルダ34及び駆動部35の一例を示す。ホルダ34は、リング状の支持体34aに120度間隔で3個の支え34bを中心向きに突出させて被検物23を支持することができるようになっている。リング状の支持体34aの下端に図7の上下方向の軸回りにホルダ34を回転調整可能な回転調整部35aと、回転調整部35aの下部にホルダ34及び回転調整部35aをアオリ調整可能なアオリ調整部35bと、アオリ調整部35bの下部に、ホルダ34と回転調整部35aとアオリ調整部35bとをX軸方向に移動可能なX軸駆動部35cとが配置されるとともに、X軸駆動部35cの背後に、X軸駆動部35cを、X軸と直交するY軸方向に移動可能なY軸駆動部35dとを配置して、駆動部35を構成している。よって、X軸駆動部35cとY軸駆動部35dとアオリ調整部35bと回転調整部35aとを適宜駆動することにより、第1プローブ光学系22と第2プローブ光学系24の成す光軸と垂直な平面上で被検物23を変位させることができる。X軸駆動部35cとY軸駆動部35dとアオリ調整部35bと回転調整部35aとは、それぞれ、例えば、モータと、モータの駆動によりナットとボールネジとの相対的な駆動を利用する機構、歯車機構又はラックアンドピニオン機構など公知の機構で構成されている。
 また、第1及び第2プローブ光学系22,24は、各々その内部にフォーカス機構を内包し、第1及び第2プローブ光学系22,24を被検物23の表面に、一定の距離でフォーカスできる機構を備えている。
 フォーカスする際は、第1及び第2プローブ光学系22,24において、光源36から出射したコヒーレント光が、ハーフミラー37及びハーフミラー21で反射し、被検物23に達する。また、光源38から出射したコヒーレント光が、ハーフミラー39及びハーフミラー25で反射し、被検物23に達する。そして、各々被検物23の表面で反射した光は、逆の光路をたどり、ハーフミラー37またはハーフミラー39を透過し、フォーカス検出部40またはフォーカス検出部41に達し、合焦信号を得る。
 この合焦信号は、第1及び第2プローブ光学系22,24が近接場プローブの場合、例えば反射光と入射光の強度の比を信号にして保つことによって、被検物23の表面と第1及び第2プローブ光学系22,24の間の距離をナノスケールで一定に保つことができる。あるいは、近接場プローブの先端と被検物23の表面との間に発生する力学的相互作用であるせん断応力を測定し、その値が一定になるようにプローブを制御する方法でも、被検物23の表面と第1及び第2プローブ光学系22,24の間の距離をナノスケールで一定に保つことができる。
 一方、ビームスプリッタ16によって分岐された参照光18は、ミラー42によってその光路が折り返され、参照平面である、参照光ミラーの一例としてのコーナーキューブ43に達し、このコーナーキューブ43での反射光はミラー42に戻り、ビームスプリッタ28に入射し、反射して受光素子29に達する。
 コーナーキューブ43は、第2測長手段の一例としての駆動部44によって、その光軸と同方向に変位することができ、その変位によって、参照光18の光路長を調整することができる。駆動部44は、例えば、モータと、モータの駆動によりナットとボールネジとの相対的な駆動を利用する機構など公知の機構で構成されている。
 また、このコーナーキューブ43の変位量は、測長器45により計測され、測長器45に内蔵された記憶部に記録される。
 ビームスプリッタ28において、参照光と検査光とが重なり合い、両者の光路長差が光源から発せられる光のコヒーレンス長の範囲内であれば干渉が生じ、干渉信号が受光素子29において観測される。受光素子29において観測された干渉光は、A/D変換器46によって電気信号に直され、干渉信号計算部47によってその干渉強度が判定される。
 測長器32及び測長器33によって計測された第1プローブ光学系22及び第2プローブ光学系24の位置情報は、計算部48に送られ、そこで幾何的厚みが計算される。
 測長器45によって計測されたコーナーキューブ43の位置情報は、計算部49に送られ、ここで光学的厚みが計算される。
 計算部48で計算された幾何学的厚みの値及び計算部49で計算された光学的厚みの値を元に、屈折率算出部50によって屈折率が計算される。
 ここで、以上の構成による被検物23であるレンズの面間隔の計測方法について、図2のフローチャートに基づき説明する。
 図2において、ステップS0(初期状態)において、第1プローブ光学系22と第2プローブ光学系24は、それぞれの光学系の光軸が同軸になるように配置され、初期位置にある。
 続いて、ステップS1において、ホルダ34に、基準物51として、厚さ(D0)と屈折率(N0)が既知である平面上の板(基準物51)が保持され、駆動部35によって、第1プローブ光学系22及び第2プローブ光学系24の間にあるように設置される。このとき、この基準物51の平行度は、第1プローブ光学系22と第2プローブ光学系24の成す光軸に対して、垂直となるように調整する。この調整方法については後述する。
 続いて、ステップS2において、第1プローブ光学系22及び第2プローブ光学系24は、各々の光学系内のフォーカス機構によって、基準物51の表面にフォーカスされる。
 続いて、ステップS3において、干渉信号計算部47で干渉信号の強度が評価される。
 ここで干渉信号が最大でない場合(図2のステップS3でNOの場合)は、ステップS4において、評価された干渉信号が最大になるように、参照平面であるコーナーキューブ43をコーナーキューブ43を移動させる駆動部44などで自動的に変位させる。
 続いて、ステップS5において、干渉信号が最大と判断された時のコーナーキューブ43の位置は、測長器45によってコーナーキューブ43位置の基準値(ZR0)として測距され、記録される。この値が、測長器45の基準値である。このとき、測長器45からコーナーキューブ43に向かう方向を、正の値とする。
 続いて、ステップS6において、第1プローブ光学系22及び第2プローブ光学系24の位置が、測長器32及び測長器33によって、それぞれ第1プローブ光学系22の位置の基準値(Z10)、第2プローブ光学系24の位置の基準値(Z20)として測距される。この値が、測長器32及び測長器33の基準値である。このとき、第1及び第2プローブ光学系22,24の成す光軸(Z軸)において、各測長器から、各プローブ光学系に向かう方向を、正の値とする。また、被検物のホルダ34と、第1及び第2プローブ光学系22,24との相対位置(XY軸)は、別の測定手段において測定されているとする。このとき、第1及び第2プローブ光学系22,24の各プローブ系の位置を測る測長器32及び33から各プローブに向かう方向を正の値とする。
 続いて、ステップS7において、第1プローブ光学系22及び第2プローブ光学系24が、測定者の指令に従い、駆動部30によってその間隔が開き、基準物51がホルダ34から外される。
 続いて、ステップS8において、ホルダ34に、被測定物23が保持され、駆動部35によって、第1プローブ光学系22及び第2プローブ光学系24の間になるように設置される。第1プローブ光学系22及び第2プローブ光学系24は、各々光学系内のフォーカス機構によって、被検物23の表面にフォーカスされる。この被検物23のどの部分の屈折率を測定するかは、このフォーカス位置によって決まり、このフォーカス位置は、駆動部35によって制御される。
 続いて、ステップS10において、干渉信号計算部47で干渉信号の強度が評価される。
 ここで干渉信号が最大でない場合(図2のステップS10でNOの場合)は、ステップS11において、干渉信号が最大になるように、コーナーキューブ43を変位させる。
 続いて、ステップS12において、干渉信号が最大と判断された時のコーナーキューブ43の位置は、測長器45によってコーナーキューブ43の測定値(ZR1)として測距され、記録される。
 続いて、ステップS13において、第1プローブ光学系22及び第2プローブ光学系24の位置が、測長器32及び測長器33によって、それぞれ第1プローブ光学系22の測定値(Z11)、第2プローブ光学系24の測定値(Z21)として測距される。
 続いて、ステップS14によって、この測定位置における幾何学的厚みDが、以下の(式1)によって計算部48により算出される。
  (数2)
  D=-(Z11+Z21)+(Z10+Z20)+D0   ・・・(式1)
 第1プローブ光学系22及び第2プローブ光学系24は、被検物23の表面から、常に一定の距離を保つので、基準物51測定時(基準値)と被検物23の測定時(測定値)の第1及び第2プローブ光学系22,24の位置の差分は、被検物23と基準物51の幾何学的厚みの差分に相当する。この原理については、図4Aと図4Bにて後述する。
 続いて、ステップS15によって、この測定位置における幾何学的厚みNDが、以下の式(2)によって計算部48により算出される。
  (数3)
  ND=-2×(ZR1-ZR0)+N0×D0   ・・・(式2)
 ここで、光源15は、SLDに代表される低コヒーレント光源であり、参照光18及び検査光17の光路長差がコヒーレント長以下になったときに干渉信号が生じ、ちょうど最大になったときに、その差分がゼロとなるとしている。ゆえに、基準物51の測定時及び被検物23の測定時の参照平面であるコーナーキューブ43の位置の差分は、被検物23と基準物51の光路長の差分に相当する。この原理については、図4Aと図4Bにて後述する。上記(式2)で光路長の値がコーナーキューブ43の位置の差分の2倍になっているのは、折り返し光学系のため、コーナーキューブ43の移動が、参照光18の光路差の変位量の半分に相当するためである。
 続いて、ステップS16において、ステップS14及びステップS15で求めた、幾何学的厚み及び光路長を使って、下記(式3)のように、測定点における局所的屈折率Nが屈折率算出部50により求まる。
  (数4)
  N=ND/D   ・・・(式3)
 尚、式(1)において、両プローブ光学系22,24の位置の基準物測定時と、被検物測定時との差分の合計をΔDとすると、
  (数5)
  ΔD=-(Z11+Z21)+(Z10+Z20)・・・(式4)
と表せる。
 また、式(2)において、参照ミラーの位置の基準物測定時と、被検物測定時との差分の合計をΔNDとおくと、
  (数6)
  ΔND=-ZR1+ZR0   ・・・(式5)
と表せる。
このとき、(式3)で計算された局所的屈折率Nは、次の式で表される。
  (数7)
  N=(2ΔND+N0×D0)/(ΔD+D0)   ・・・(式6)
 続いて、ステップS17において、被検物23のうちの測定すべきすべての部位が測定されたか否かを制御部100で判断する。すべての部位が測定されていないと制御部100で判断した場合には、ステップS17-1において、第1プローブ光学系22及び第2プローブ光学系24は、被検物23へのフォーカス状態から外れ、被検物23は、駆動部35によって、先に測定した部位とは異なる部分に移動したのち、ステップS9に戻る。ステップS17において、被検物23のうちの測定すべきすべての部位が測定されたと制御部100で判断された場合には、ステップS18に進む。
 ステップS9に戻った場合には、その後、ステップS10~S17を繰り返し、異なる部位における局所的屈折率を求める。被検物23のうちの測定すべきすべての部位が測定された場合には、これを元に、ステップS18において、屈折率のXY分布を作成する。
 ここで、ステップS0において、基準物51と第1及び第2プローブ光学系22,24の軸との平行度との調整は、前述のステップS2において、第1及び第2プローブ光学系22,24をフォーカスし、第1及び第2プローブ光学系22,24の変位量を測定する場所を、XY平面上の複数個所にして、その測定数値を比べることで調整できる。第1及び第2プローブ光学系22,24の光軸方向の変位量は、各々の箇所で、測長器の値を読むことで求まり、その値が複数個所で一定になるように、ホルダ34によって基準物51の向きを調整する。これにより、基準物51と第1及び第2プローブ光学系22,24の軸の平行度を一致させることができる。ただし、この場合、基準物51は完全平行の物体である。
 以上、本実施の形態では、被検物23の屈折率を、屈折率及び厚みが既知である基準物51との差分を求めることにより算出する。
 以下、本実施の形態における、各構成要素の具体的構成、及び、より望ましい構成について述べる。
 低コヒーレンス光を照射する光源15の具体例として、スーパールミネッセントダイオード(SLD),白色光源(ハロゲンランプ又はキセノンランプ)からの光をモノクロメータにより特定波長域のみ分光したもの、レーザー発光ダイオードなどを利用することができる。その波長は、特に限定されるものではなく、紫外から赤外光まで使用することができるが、コヒーレンス長は、短いほど望ましく、具体的には10μm程度、また光源15の波長は、被検物23の透過率が下がらない程度に短波長側であることが望ましい。光源15のコヒーレンス長は、参照平面の位置精度に影響する。本実施の形態の構成では、位相シフト干渉法と合わせることにより、干渉強度信号の幅は約10μm、参照平面の位置精度としては、1μm以下の精度で計測ができる。
 第1及び第2プローブ光学系22,24はその開口が波長以下であり、光を導波するコアは光ファイバの先端のみを露出してとがらせ、開口以外は金属などの不透明な膜で被覆された、近接場プローブであることが望ましい。これは、被検物の表面とプローブ光学系との距離が、波長以上の開口を持つ近接場プローブ、あるいは、対物レンズなどの光学素子では、波長のオーダー程度で制御されるのに対し、波長以下の開口の近接場プローブでは、光の波長に依存せず、ナノオーダーで制御できるからである。
 図3は、本発明の第1実施形態におけるプローブ光学系からの近接場光の被検物表面への照射を示す図である。ここでは、第1プローブ光学系22を用いた場合についてのみ説明しているが、この原理については第2プローブ光学系24においても同様である。
 図3において、入射光52は、光源15或いはフォーカス用の光源36から伝播された光である。この入射光52は、第1プローブ光学系22内の光ファイバ53中を伝播し、細くなった先端で近接場光54を発生する。また、このとき、プローブ先端で滞留する近接場光のみならず、プローブ先端より伝播する伝播光も存在する。
 第1プローブ光学系22である光ファイバ53の先端には、照射光の波長より小さい範囲すなわちナノメートルオーダーの開口が空いており、その周りは、金属などでできた不透明な膜55(不透明な遮光性の被覆層)で覆われている。
 近接場光54は、被検物23の表面からナノオーダー程度の距離(10nm程度)にあるとき、被検物23の表面に散乱が発生し、一部が透過光56として被検物23内を透過する。この被検物23の表面で反射した後方散乱光が、光ファイバ53を通って逆の経路をたどる。また、プローブ先端からの伝播光は、一部が被検物23の表面に後方に反射し、残りは被検物23内を通過する。
 図3において、近接場光のプローブ先端からの染み出し半径は、第1プローブ光学系22の先端の開口の大きさ程度であり、数nm~100nm程度である。
 なお、第2プローブ光学系24は、第1プローブ光学系22と同様、光を導波するコアは光ファイバの先端をとがらせた近接場プローブであることが望ましいが、第2プローブ光学系24は、第1プローブ光学系22とは異なり、できる限り開口を大きくすることが好ましい。これは、第2プローブ光学系24は、被検物23から出射する微弱な透過光をできるだけ多く集光する必要があるからである。具体的には、例えば、第2プローブ光学系24の開口を波長程度の大きさにしたものや、照射光の波長より小さな範内の先端のみ露出させて他の部分を透明な膜で被膜した(透明な被覆層で覆った)ものや、第2プローブ光学系24を全く被膜しないもの、等により、できる限り金属などの不透明な膜(不透明な被覆層)で被覆されていないものが望ましい。
 また、第1及び第2プローブ光学系22,24の変位量及び参照平面の変位量を測距する測長器32,33はレーザー測長器であり、ナノオーダーの精度で測定できることが望ましい。これを用いることにより、被検物の幾何学的厚みを、ナノオーダーの精度で測定することができる。
 また、第1及び第2プローブ光学系22,24ともに近接場プローブを用いることにより、被検物23の表面と第1及び第2プローブ光学系22,24との距離がナノオーダーで制御でき、さらに開口が小さいことから、被検物23中を透過する光線の始点と終点を特定できるという利点がある。
 受光素子29としては、干渉信号の強度を上げるため、フォトマル又はアバランシェフォトダイオードなどの、感度が大きい検出器を利用したものが望ましい。
 以上の構成により、被検物の局所的な屈折率は、基準物51の屈折率との差分を測定することによって求まり、被検物の特性に依存するが、例えば、本実施形態のような構成においては、その精度は小数点下4桁程度である。
 図4Aは、本発明の第1実施形態における基準物測定時の原理を示す図であり、図4Bは、本発明の第1実施形態における被検物測定時の原理を示す図である。
 本実施の形態では、図4A,図4Bに示すような、ZR0,ZR1,Z10,Z11,Z20,Z21,D0,D,f1,f2の関係を用いて、上記(式1)~(式3)を求めている。
 また、図5は、本発明の第1実施形態における干渉光の強度のグラフを示す図である。
 図5は、横軸に参照平面の移動量をとり、縦軸に干渉光の強度をとったものである。ここでは、図4Aに示す基準物51測定時が干渉光の強度が57であり、図4Bに示す被検物測定時の干渉光の強度が58である。これらの干渉光は、検査光17と参照光18の光路差が光源のコヒーレンス長以下になったときのみ存在し、その強度の半値幅は光源が含む波長の半値幅にほぼ等しい。
 なお、本実施の形態における屈折率とは、波長分散を考慮した群屈折率のことであって、単波長の屈折率(位相屈折率)のことではない。
 なお、上記様々な実施形態又は変形例のうちの任意の実施形態又は変形例を適宜組み合わせることにより、それぞれの有する効果を奏するようにすることができる。
 本発明にかかる屈折率測定装置によれば、任意の形状の被検物の屈折率を、非破壊かつマッチング液を使わない方法で、簡易に測定することができる。これにより、たとえばカメラなどに用いられる、成型レンズの屈折率分布測定器として本発明を利用することが可能である。
 本発明は、添付図面を参照しながら好ましい実施形態に関連して充分に記載されているが、この技術の熟練した人々にとっては種々の変形又は修正は明白である。そのような変形又は修正は、添付した請求の範囲による本発明の範囲から外れない限りにおいて、その中に含まれると理解されるべきである。

Claims (6)

  1.  光源と、
     前記光源からの光を検査光と参照光とに分割するビームスプリッタと、
     前記検査光を集光して被検物の表面に照射する第1プローブ光学系と、
     前記被検物を透過した前記検査光を集光する第2プローブ光学系と、
     前記第1プローブ光学系の光軸と前記第2プローブ光学系の光軸とが同軸性を保つように1つの光軸上で変位させる駆動手段と、
     前記第2プローブ光学系で集光された前記検査光と前記参照光とを干渉させて干渉信号を得る受光素子と、
     前記受光素子で得られた干渉信号に基づいて前記被検物の屈折率を算出する算出部と、
    を備える屈折率測定装置。
  2.  前記算出部は、前記被検物の干渉信号の算出値と、屈折率と厚みが既知の基準物を被検物の代わりに用いて予め求めた干渉信号の算出値と、に基づいて、前記被検物の屈折率を算出する請求項1に記載の屈折率測定装置。
  3.  前記第1プローブ光学系と前記第2プローブ光学系の位置を、それぞれの基準位置からの差分として測距する第1測長手段と、
     前記参照光の光路中に設けられて前記参照光の光路長を調整する参照光ミラーと、
     前記参照光ミラーの位置を、その基準位置からの差分として測距する第2測長手段と、を備え、
     前記基準物の屈折率をN0とし、前記基準物の厚みをD0とし、前記それぞれのプローブ光学系の前記基準位置からの差分の合計をΔDとし、前記参照ミラーの前記基準位置からの差分をΔNDとしたときに、前記被検物の屈折率Nを下記(式1)で前記算出部により算出する請求項2に記載の屈折率測定装置。
      (数1)
      N=(2ΔND+N0×D0)/(ΔD+D0)   ・・・(式1)
  4.  前記第1プローブ光学系と前記第2プローブ光学系のうち、一方のプローブ光学系のプローブは、その照射光の波長より小さな範囲内の先端のみ露出し、前記プローブの他の部分は不透明な被覆層で覆われており、他方のプローブ光学系のプローブは、その照射光の波長より小さな範囲内の先端のみ露出し、前記他方のプローブ光学系の前記プローブの他の部分は透明な被覆層で覆われている請求項1又は2に記載の屈折率測定装置。
  5.  前記第1プローブ光学系と前記第2プローブ光学系のうち、一方のプローブ光学系のプローブは、その照射光の波長より小さな範囲内の先端のみ露出し、前記プローブの他の部分は不透明な被覆層で覆われており、他方のプローブ光学系のプローブは、その照射光の波長より小さな範囲内の先端のみ露出し、前記他方のプローブ光学系の前記プローブの他の部分は被覆層無しで露出している請求項1又は2に記載の屈折率測定装置。
  6.  前記第1プローブ光学系と前記第2プローブ光学系とを同軸のまま連動して移動させる移動機構を更に備え、前記第1プローブ光学系と前記第2プローブ光学系とを移動させながら前記被検物を走査し、前記被検物の屈折率分布を算出する請求項1又は2に記載の屈折率測定装置。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102645319A (zh) * 2012-05-04 2012-08-22 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 一种模拟空间目标分离的旋转靶标及其应用方法
CN112082492A (zh) * 2020-09-04 2020-12-15 哈尔滨工程大学 具有角度监测的薄膜厚度与折射率同时测量的装置及方法
CN113188767A (zh) * 2021-04-25 2021-07-30 中国科学院西安光学精密机械研究所 紫外镜片反、透射率测试及紫外成像系统定标装置及方法

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5603651B2 (ja) * 2010-05-13 2014-10-08 ナブテスコ株式会社 航空機アクチュエータの油圧装置
JP5503431B2 (ja) * 2010-06-30 2014-05-28 ナブテスコ株式会社 航空機アクチュエータの油圧システム
JP5666233B2 (ja) * 2010-10-08 2015-02-12 ナブテスコ株式会社 航空機アクチュエータの油圧装置
DE102012201410B4 (de) * 2012-02-01 2013-08-14 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsbelichtungsanlage mit einer Messvorrichtung zum Vermessen eines optischen Elements
WO2013130681A1 (en) * 2012-02-27 2013-09-06 Integrated Medical Systems International, Inc. Systems and methods for identifying optical material
CN102928200B (zh) * 2012-10-22 2015-02-18 中国科学院上海光学精密机械研究所 干涉测量光学材料均匀性的方法
CN103335982B (zh) * 2013-06-21 2016-05-11 中国科学院上海光学精密机械研究所 利用波长调谐移相干涉仪测量平行平板光学均匀性的方法
WO2014207809A1 (ja) * 2013-06-24 2014-12-31 株式会社島津製作所 屈折率測定装置
US9494410B2 (en) 2013-12-05 2016-11-15 National Taiwan University Method for measuring characteristics of sample
CN104198435B (zh) * 2014-09-16 2017-02-01 北京航空航天大学 一种基于调频连续波的光子带隙光纤群折射率测量装置及方法
JP2017003434A (ja) * 2015-06-10 2017-01-05 キヤノン株式会社 屈折率の計測方法、計測装置、光学素子の製造方法
DE102015211879B4 (de) 2015-06-25 2018-10-18 Carl Zeiss Ag Vermessen von individuellen Daten einer Brille
CN108317962B (zh) * 2018-01-29 2020-04-07 哈尔滨工程大学 消除透射光的共光路自校准薄膜厚度与折射率的测量方法
CN111721776B (zh) * 2019-03-22 2024-02-20 住友化学株式会社 检查方法及检查装置

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06174430A (ja) * 1992-12-08 1994-06-24 Nikon Corp 中心厚測定方法およびそれに使用する装置
JPH08261728A (ja) * 1995-03-24 1996-10-11 Agency Of Ind Science & Technol 光学的界面間寸法測定装置
JP2001004538A (ja) * 1999-06-17 2001-01-12 Matsushita Electric Ind Co Ltd 媒質の測定装置および測定方法
JP2003106934A (ja) * 2001-09-28 2003-04-09 Nikon Corp 光路長測定装置及び方法、厚さ測定装置及び方法、屈折率分布傾斜成分測定装置及び方法

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3264469B2 (ja) * 1993-12-07 2002-03-11 富士写真フイルム株式会社 光散乱媒体の屈折率分布情報の計測装置
US5469261A (en) * 1994-04-05 1995-11-21 Carl Zeiss, Inc. Measurement of lens characteristics
US5767971A (en) * 1994-12-20 1998-06-16 Nikon Corporation Apparatus for measuring refractive index of medium using light, displacement measuring system using the same apparatus, and direction-of-polarization rotating unit
JP3913407B2 (ja) 1999-07-09 2007-05-09 株式会社リコー 屈折率分布の測定装置及び方法
JP4654003B2 (ja) * 2004-11-09 2011-03-16 株式会社栃木ニコン 測定装置
JP5022090B2 (ja) * 2006-05-16 2012-09-12 株式会社トプコン 屈折率測定用器具
CN101187631A (zh) * 2007-12-19 2008-05-28 山东大学 单轴晶体双折射率的测量方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06174430A (ja) * 1992-12-08 1994-06-24 Nikon Corp 中心厚測定方法およびそれに使用する装置
JPH08261728A (ja) * 1995-03-24 1996-10-11 Agency Of Ind Science & Technol 光学的界面間寸法測定装置
JP2001004538A (ja) * 1999-06-17 2001-01-12 Matsushita Electric Ind Co Ltd 媒質の測定装置および測定方法
JP2003106934A (ja) * 2001-09-28 2003-04-09 Nikon Corp 光路長測定装置及び方法、厚さ測定装置及び方法、屈折率分布傾斜成分測定装置及び方法

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102645319A (zh) * 2012-05-04 2012-08-22 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 一种模拟空间目标分离的旋转靶标及其应用方法
CN112082492A (zh) * 2020-09-04 2020-12-15 哈尔滨工程大学 具有角度监测的薄膜厚度与折射率同时测量的装置及方法
CN112082492B (zh) * 2020-09-04 2021-12-21 哈尔滨工程大学 具有角度监测的薄膜厚度与折射率同时测量的装置及方法
CN113188767A (zh) * 2021-04-25 2021-07-30 中国科学院西安光学精密机械研究所 紫外镜片反、透射率测试及紫外成像系统定标装置及方法
CN113188767B (zh) * 2021-04-25 2023-12-08 中国科学院西安光学精密机械研究所 紫外镜片反、透射率测试及紫外成像系统定标装置及方法

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