WO2010038262A1 - 光増幅制御装置、半導体光増幅器の制御方法、及び光伝送装置 - Google Patents

光増幅制御装置、半導体光増幅器の制御方法、及び光伝送装置 Download PDF

Info

Publication number
WO2010038262A1
WO2010038262A1 PCT/JP2008/002789 JP2008002789W WO2010038262A1 WO 2010038262 A1 WO2010038262 A1 WO 2010038262A1 JP 2008002789 W JP2008002789 W JP 2008002789W WO 2010038262 A1 WO2010038262 A1 WO 2010038262A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
optical
soa
temperature
light
control device
Prior art date
Application number
PCT/JP2008/002789
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
田中信介
森戸健
Original Assignee
富士通株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 富士通株式会社 filed Critical 富士通株式会社
Priority to JP2010531658A priority Critical patent/JP5381993B2/ja
Priority to PCT/JP2008/002789 priority patent/WO2010038262A1/ja
Priority to CN200880131443.7A priority patent/CN102171896B/zh
Priority to GB1105536.5A priority patent/GB2476203B/en
Publication of WO2010038262A1 publication Critical patent/WO2010038262A1/ja
Priority to US13/048,345 priority patent/US8736956B2/en

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/06Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium
    • H01S5/0607Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium by varying physical parameters other than the potential of the electrodes, e.g. by an electric or magnetic field, mechanical deformation, pressure, light, temperature
    • H01S5/0612Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium by varying physical parameters other than the potential of the electrodes, e.g. by an electric or magnetic field, mechanical deformation, pressure, light, temperature controlled by temperature
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/02Structural details or components not essential to laser action
    • H01S5/024Arrangements for thermal management
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/50Amplifier structures not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/02Structural details or components not essential to laser action
    • H01S5/026Monolithically integrated components, e.g. waveguides, monitoring photo-detectors, drivers
    • H01S5/0261Non-optical elements, e.g. laser driver components, heaters
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/06Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium
    • H01S5/0617Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium using memorised or pre-programmed laser characteristics
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/06Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium
    • H01S5/068Stabilisation of laser output parameters
    • H01S5/0683Stabilisation of laser output parameters by monitoring the optical output parameters

Definitions

  • FIG. 21 is a view of a cross section taken along line BB in FIG. 20 as viewed from the direction of the arrow.
  • 10 is an example of a look-up table recorded in an optical gain control unit according to the fifth embodiment.
  • 20 is another example of a look-up table recorded in the optical gain control unit according to the fifth embodiment.
  • FIG. 16 is a flowchart for explaining an example of a control procedure of a semiconductor optical amplifier in the optical amplification control device according to the fifth embodiment (No. 1).
  • FIG. 20 is a flowchart for explaining an example of a control procedure of the semiconductor optical amplifier in the optical amplification control device according to the fifth embodiment (No. 2).
  • 10 is a plan view illustrating a configuration of a cooling heater according to a fifth embodiment.
  • FIG. FIG. 21 is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. 20 as viewed from the direction of the arrow.
  • FIG. 10 is a block diagram illustrating a configuration of an optical transmission device (transce
  • the optical gain control unit 30 commands the SOA drive unit 28 to supply the drive current J to the SOA 2 and supply the drive current J to the SOA 2 (step 5).
  • the optical gain control unit 30 detects the output of the output-side light detection 26, and detects the light intensity I out (average value) of the amplified light output from the SOA 2 based on the output.
  • FIG. 4 is a diagram showing the change of the saturation light output (value of saturation light output when DC light is input) of the SOA whose amplification characteristics are shown in FIG. 3 with respect to the drive current.
  • the measurement conditions are the same as those used when measuring FIG.
  • a curve indicated by a solid line in FIG. 4 indicates a change in saturated light output.
  • a curve indicated by a broken line indicates a level 5 dB lower than the saturated light output (solid line).
  • the present optical amplification control device 32 includes an optical gain control unit 34 that controls the optical gain of the SOA 2 by adjusting the operation of the cooling heater 36.
  • the optical gain control unit 34 changes the optical gain of the SOA 2 by executing the following control.
  • the optical gain is the ratio between the light intensity and the light intensity before amplification.
  • the optical gain control unit 34 executes a first control for specifying a target value (g tg ) of optical gain to be generated in the SOA 2 (first control).
  • the lookup table 35 is recorded on a recording medium (not shown) included in the optical gain control unit 34.
  • the SOA 2 is mounted on the thermoelectric cooling element 6, and the temperature sensor 8 (for example, an NTC thermistor; negative temperature coefficiebt thermistor) is attached.
  • the temperature sensor 8 for example, an NTC thermistor; negative temperature coefficiebt thermistor
  • a temperature sensor a platinum sensor, a thermocouple, etc. can also be used.
  • step S1 for specifying the target value (g tg ) of the optical gain is realized (step S20).
  • One of the branched amplified lights is led to the output side photodetector 26 and the other is led to the output terminal 18. Here, most of the amplified light is guided to the output terminal 18 and becomes the output light 16.
  • FIG. 10 is a diagram for explaining a change in saturated light output with respect to the element temperature of the SOA2.
  • the saturated light output characteristics shown in FIG. 10 are the same as the conditions for measuring the amplification characteristics of the SOA shown in FIGS. 3 and 7 except that the drive current is 300 mA and the element temperature is 25 to 60 ° C. Measured.
  • the optical gain is changed by adjusting the temperature of the SOA2. Therefore, unlike the drive current control type optical amplification control device in which the optical gain changes in the order of several ns, the carrier density does not change suddenly and the gain does not overshoot.
  • the optical gain of the SOA using the quantum dots as the active layer hardly depends on the element temperature.
  • this is a characteristic in a specific wavelength range and a specific temperature range. Except these wavelength range and temperature range, the optical gain of the SOA using quantum dots as the active layer gradually decreases as the device temperature rises. Therefore, in the wavelength range and temperature range excluding these wavelength range and temperature range, even if the SOA2 active layer is formed of quantum dots as the active layer, the SOA2 control executed by this optical amplification control device is effective. (The same applies to the following embodiments.)
  • the target optical gain is the target optical gain described in the first row of the lookup table 44.
  • the target output light intensity is the target light output described in the first column of the lookup table 44.
  • the combination of the drive current of the SOA 2 and the operating point (temperature) of the cooling heater 36 is a combination of the set current and the set temperature recorded in the lookup table 44.
  • FIG. 12 shows changes in optical gain when the element temperature (T) of the SOA 2 is changed while changing the drive current (J) so that the saturated light output becomes a constant value of 15.5 dBm. ing.
  • the SOA used for the measurement is the same as the SOA used for the measurement in FIG. 3 (and FIG. 4).
  • the measurement conditions are the same as the conditions used for the measurements in FIGS. 3 and 4 except that the drive current (J) is changed.
  • step S180 feedback control
  • the pattern effect does not appear.
  • the optical gain fluctuates by about 1 dB the saturated light output of the SOA hardly changes (see FIGS. 7 and 10).
  • the target value (g tg ) of the optical gain is, for example, 12 dB.
  • Step S20 The above step S1 is realized by this step and the following step S20.
  • Step S60 By this step, step S3 described above is realized.
  • the optical gain of the SOA 2 depends on the polarization direction of the input light (amplified light)
  • the optical gain of the SOA 2 also varies due to the variation of the polarization direction of the input light.
  • the control added to the first control is that the product of the optical gain target value (g tg ) and the light intensity (I in ) of the input light incident on the SOA 2 is output to the SOA 2.
  • the target value (I tg ) is determined.
  • the target light output is decreased by 1 dBm.
  • the temperature control unit 10 fixes the temperature of the thermoelectric cooling element 6 to a constant value (for example, 10 ° C.) using the output of the temperature sensor 8 as a feedback signal according to the command of the optical gain control unit 66.
  • FIG. 25 shows another example of lookup table 66 recorded in the optical gain control unit according to the fifth embodiment.
  • both ends of the heater 60 may be formed, for example, 100 ⁇ m apart from the incident end 96 and the emission end 98 of the SOA (see FIG. 21). .

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Semiconductor Lasers (AREA)
  • Optical Communication System (AREA)

Abstract

 半導体光増幅器と、前記半導体光増幅器の温度を調整する温度調整ユニットと、前記温度調整ユニットを制御して、前記半導体光増幅器の温度を調整し、前記半導体光増幅器の光利得を変化させる光利得制御ユニットとによって光増幅制御装置を形成し、出力光強度(増幅光強度)が大きくなっても、パターン効果の抑制を可能にする。

Description

光増幅制御装置、半導体光増幅器の制御方法、及び光伝送装置
 本発明は、光増幅制御装置、半導体光増幅器の制御方法、及び光伝送装置に関する。
 大容量且つ高速性を特徴とする光通信技術は、従来から幹線系ネットワークの構築に広く用いられてきた。
 近年、通信需要の飛躍的な増大に伴い、都市域内のアクセス系ネットワークすなわちメトロアクセス系ネットワークの構築にも、光通信技術が用いられるようになっている。
 更に、同一室内に配置された情報処理装置(例えば、サーバ)間のデータ伝送(所謂、データコム)へも、光通信技術の適用が始まっている。
 これらメトロアクセス系ネットワークやデータコムでは、ネットワークの構築に多数の光素子(半導体レーザ、受光器、光増幅器等)が使用される。このためメトロアクセス系ネットワーク及びデータコムの進展には、これらの光素子を搭載したモジュールの小型化及び低価格化が重要である。
 光増幅器は、光ネットワークの構築に必須の光素子である。光増幅器としては、光ファイバ増幅器が実用化され、幹線系ネットワークで使用されている。しかし、光ファイバ増幅器とその制御装置を一体化した光ファイバ増幅器モジュールは構成が複雑であり、小型化及び低価格化が困難である。
 一方、半導体光増幅器(Semiconductor Optical Amplifer;以下、SOAと略す)とその制御装置を一体化した半導体光増幅器モジュールは、小型化及び低価格化が容易である。
 このため、半導体光増幅器モジュールを用いて、次期アクセス系ネットワークやデータコムを構築することが検討されている。
 光通信に於ける光増幅器の使われ方としては、出力一定制御(Auto Power Control;APC)と利得一定制御(Auto Gain Control;AGC)の二通りがある。
 出力一定制御は、入力光の強度変動に拘わらず常に一定の強度の増幅光を出力させる光増幅器の制御方法である。入力光の強度が変動する要因としては、光源に於ける出力変動や波長切り替え等がある。
 利得一定制御は、入力光の偏波方向や波長の変化に拘わらず、常に一定の利得で入力光を増幅する光増幅器の制御方法である。入力光の偏波方向が変化する要因としては、光ファイバー伝送路の状態変化がある。また、入力光の波長が変動する要因としては、光源に於ける波長切り替え等がある。
 何れの制御形態に於いても、入力光の変化に合わせて半導体光増幅器の利得を調整することによって、所望の制御(APC又はAGC)が実現される。
 半導体光増幅器の利得は、半導体光増幅器に供給される電流(駆動電流)の大きさによって変化する。駆動電流が大きくなれば光利得は大きくなり、駆動電流が小さくなれば光利得は小さくなる。この性質を利用して半導体光増幅器の利得を調整し、APC等の制御が実現されている。
 尚、半導体光増幅器や半導体レーザ等の半導体光素子を動作させるためには、素子温度を制御することが必要である。このような温度制御は、半導体光素子を搭載した熱電冷却素子(ペルチェ素子)や半導体光素子に装着されたヒータによって行われる。
特開2000-244458号公報 特開2000-232251号公報 特開2002-237784号公報 特開2003-23208号公報
 しかし、駆動電流が変化すると、光利得の変化と同時に、半導体光増幅器の飽和光出力も変化する。
 駆動電流が一定の状態で光を増幅すると、入力光の光強度が小さい間は光利得の大きさは一定である。しかし、入力光の光強度が大きくなると、光利得は漸次減少する。その結果、出力光の光強度は飽和する。この時の値が、飽和光出力である。
 半導体光増幅器の飽和光出力は、光利得と同様、駆動電流が増加すると増加し、駆動電流が減少すると減少する。
 ところで、半導体光増幅器の光出力が増大し飽和光出力に近づくと、半導体光増幅器は、高速で変化する入力光(例えば、1GHz以上)に追随できなくなる。その結果、半導体光増幅器の出力光(以下、増幅光と呼ぶ)の波形が変形する所謂パターン効果が発現する。光信号の波形を変化させるパターン効果は、半導体光増幅器にとって回避しなければならない重要事項である。
 パターン効果を回避するためには、半導体光増幅器を飽和光出力値より十分小さい出力レベルで動作させることが有効である。
 しかし、上述したように、光利得を変化させようとして半導体光増幅器の駆動電流を変化させると、飽和光出力も同時に変化する。このため、パターン効果の発現を防止するためには、変化する飽和光出力値の最小値より、十分小さな出力レベルで半導体光増幅器を動作させなければならない。
 このため、高速光信号(例えば、1GHz以上)を半導体光増幅器によって増幅しようとすると、出力レベルは小さくならざるを得なかった。
 そこで、本光増幅制御装置の目的は、高速光信号(例えば、1GHz以上)に対して、パターン効果を抑制(又は、回避)すると同時に、出力光強度(増幅光強度)を大きくすることができる光増幅制御装置を提供することである。
 上記の目的を達成するために、本増幅制御装置は、
半導体光増幅器と、前記半導体光増幅器の温度を調整する温度調整ユニットと、前記温度調整ユニットを制御して、前記半導体光増幅器の温度を調整し、前記半導体光増幅器の光利得を変化させる光利得制御ユニットとを具備する。
 本増幅制御装置によれば、高速光信号(例えば、1GHz以上)を増幅しても、パターン効果を抑制(又は、回避)すると同時に、出力光強度(増幅光強度)を大きくすることができる。
半導体光増幅器の利得を駆動電流の変化によって調整する光増幅制御装置の構成を説明するブロック図である(関連技術)。 半導体光増幅器(SOA)が熱電冷却素子(ペルチェ素子)に搭載された状態を説明する図である。 駆動電流に対するSOAの光利得の変化を説明する図である。 駆動電流に対するSOAの飽和光出力の変化を説明する図である。 実施の形態1に従う光増幅制御装置の構成を説明するブロック図である。 実施の形態1に従う光利得制御ユニットに記録されるルックアップテーブルの一例である。 実施の形態1で使用されるSOAの、素子温度に対する光利得の変化を説明する図である。 実施の形態1に従う光増幅制御装置における半導体光増幅器の制御手順の概要を説明するフロー図である 実施の形態1に従う光増幅制御装置における半導体光増幅器の制御手順を説明するフロー図である。 実施の形態1で使用されるSOAの、素子温度に対する飽和光出力の変化を説明する図である。 飽和光出力が一定値(15.5dBm)になるように駆動電流(J)を変更しながら、SOA2の素子温度を変化させた場合の飽和光出力の素子温度依存性を説明する図である。 飽和光出力が一定値(15.5dBm)になるように駆動電流を変更しながら、SOA2の素子温度を変化させた場合の光利得の素子温度依存性を説明する図である。 実施の形態2に従う光利得制御ユニットに記録されているルックアップテーブルの一例である。 実施の形態2に従う光増幅制御装置における半導体光増幅器の制御手順を説明するフロー図である(その1)。 実施の形態2に従う光増幅制御装置における半導体光増幅器の制御手順を説明するフロー図である(その2)。 実施の形態3に従う光増幅制御装置における半導体光増幅器の制御手順を説明するフロー図である。 実施の形態4に従う光利得制御ユニットに記録されているルックアップテーブルの一例である。 実施の形態4に従う光増幅制御装置で実行される半導体光増幅器の制御手順を説明するフロー図である(その1)。 実施の形態4に従う光増幅制御装置で実行される半導体光増幅器の制御手順を説明するフロー図である(その2)。 実施の形態5に従う光増幅制御装置の構成を説明する図である。 実施の形態5に従う冷却加熱器の構成を説明する平面図である。 図20のA-A線に於ける断面を矢印の方向から見た図である。 図20のB-B線に於ける断面を矢印の方向から見た図である。 実施の形態5に従う光利得制御ユニットに記録されるルックアップテーブルの一例である。 実施の形態5に従う光利得制御ユニットに記録されるルックアップテーブルの他の例である。 実施の形態5に従う光増幅制御装置における半導体光増幅器の制御手順の一例を説明するフロー図である(その1)。 実施の形態5に従う光増幅制御装置における半導体光増幅器の制御手順の一例を説明するフロー図である(その2)。 実施の形態5に従う冷却加熱器の構成を説明する平面図である。 図20のA-A線に於ける断面を矢印の方向から見た図である。 実施の形態7に従う光伝送装置(トランシーバ)の構成を説明するブロック図である。
符号の説明
2・・・半導体光増幅器   4・・・光増幅制御装置(駆動電流制御型)
6・・・熱電冷却素子   8・・・温度センサ
10・・・温度制御ユニット   12・・・入力光
14・・・入力端子   16・・・出力光
18・・・出力端子   20・・・入力側光分岐器
22・・・出力側光分岐器   24・・・入力側光検出器
26・・・出力側光検出器   28・・・SOA駆動ユニット
30・・・光利得制御ユニット   
31・・・ルックアップテーブル
32・・・光増幅制御装置(実施の形態1)   33・・・活性層
34・・・光利得制御ユニット(実施の形態1)
35・・・ルックアップテーブル(実施の形態1)   36・・・冷却加熱器
38・・・外部制御信号   40・・・光増幅制御装置(実施の形態2)
42・・・光利得制御ユニット(実施の形態2)
44・・・ルックアップテーブル(実施の形態2)
46・・・光増幅制御装置(実施の形態3)
48・・・光利得制御ユニット(実施の形態3)
50・・・ルックアップテーブル(実施の形態3)
52・・・光増幅制御装置(実施の形態4)
54・・・光利得制御ユニット(実施の形態4)
56・・・ルックアップテーブル(実施の形態4)
58・・・光増幅制御装置(実施の形態5)
60・・・ヒータ   62・・・冷却加熱器(実施の形態5)
64・・・ヒータ駆動ユニット
66・・・光利得制御ユニット(実施の形態5)
68・・・ルックアップテーブル(実施の形態5)
70・・・第1の電極   72・・・n型のInP基板
74・・・上部クラッド層   76・・・電極層
78・・・第2の電極  80・・・反射防止膜
82・・・第1のp型InP層   84・・・n型InP層
86・・・第2のp型InP層   88・・・p-n-p電流ブロック層
90・・・絶縁膜   92・・・ヒータ本体
94・・・ヒータ電極   96・・・光の入射端
98・・・光の出射端   100・・・ヒータ(分割ヒータ)
102・・・光入力端側ヒータ   104・・・内側ヒータ
106・・・光出力端側ヒータ   108・・・光伝送装置
110・・・出力される光信号   112・・・光送信装置
114・・・入射した光信号   116・・・光受信装置
118・・・第1の光増幅制御装置   120・・・第2の光増幅制御装置
122・・・送信データ信号(電気信号)   124・・・受信データ信号(電気信号)
126・・・制御ユニット   128・・・外部制御信号
130・・・光波長フィルタ
 以下、図面にしたがって本発明の実施の形態について説明する。但し、本発明の技術的範囲はこれらの実施の形態に限定されず、特許請求の範囲に記載された事項とその均等物まで及ぶものである。
  (駆動電流制御型の光増幅制御装置)
 まず、駆動電流を変化させて半導体光増幅器の利得を制御する光増幅制御装置(以下、駆動電流制御型の光増幅制御装置と呼ぶ)について説明する。
  (1)装置構成
 図1は、半導体光増幅器(semiconductor optical amplifer;SOA)2の利得を駆動電流の変化によって調整する光増幅制御装置(光増幅器モジュール)4の構成を説明するブロック図である。図2は、SOA2が熱電冷却素子6(ペルチェ素子)に搭載された状態を説明する図である。尚、図面が異なっても対応する部分には同一の符号を付し、以後、その説明は省略される。
 図1に示すように、光増幅制御装置4は、SOA2と、SOA2を搭載する熱電冷却素子(ペルチェ素子)6と、熱電冷却素子6に取り付けられた温度センサ8を具備している。また、光増幅制御装置4は、温度センサ8の出力を帰還信号としてSOA2の温度をフィードバック制御(帰還制御)する温度制御ユニット10と、SOA2を駆動するSOA駆動ユニット28(電源)を具備している。
 また、光増幅制御装置4は、入力光12が入射する入力端子14と、出力光16が出力される出力端子18を具備している。また、光増幅制御装置4は、入力光12の一部を分岐する入力側光分岐器20と、SOA2の増幅光の一部を分岐する出力側光分岐器22を具備している。
 また、光増幅制御装置4は、入力側光分岐器20によって分岐された入力光12を受光して入力光の強度を監視する入力側光検出器24と、出力側光分岐器22によって分岐された増幅光を受光して増幅光の強度を監視する出力側光検出器26を具備している。
 また、光増幅制御装置4は、入力側光検出器24及び出力側光検出器26の出力を受信して、その結果に基づいてSOA駆動ユニット28を制御する光利得制御ユニット30を具備している。
 この光利得制御ユニット30は、SOA2を目標とする光利得で動作させるために、SOA2に供給すべき駆動電流値を特定しているルックアップテーブル31を具備している。
 ここで、図2に示すように、SOA2は熱電冷却素子6に搭載され、SOA2の直近に温度センサ8が搭載されている。従って、温度センサ8によって検出される温度は、SOA2の温度とみなすことができる。
 ところで半導体光増幅器(SOA)には、通常、変調された信号光が入射する。従って、特に断らない限り、半導体光増幅器への入力光(被増幅光)及び出力光(増幅光)は、ONとOFFが繰り返される変調光であるものとする。また、半導体光増幅器の入力光(又は出力光)の光強度に言及した場合、特に断らない限り、光強度とは、変調周期より十分長い時間(例えば、1ms~1s)に亘る瞬時光強度の平均値を意味するものとする。
  (2)動 作
 次に、光増幅制御装置4の動作を、半導体光増幅器(SOA2)の制御方法に従って説明する。ここでは、SOA2をAPC制御する場合について説明する。
 まず、温度制御ユニット10は、温度センサ8の出力を検知し、その出力を帰還信号として熱電冷却素子6をフィードバック制御する。上述したように温度センサ8の検出する温度は、SOA2の温度とみなすことができる。従って、温度制御ユニット10のフィードバック制御により、SOA2の温度は一定値(例えば、25℃)に保持される(ステップ1)。
 次に、光利得制御ユニット30が、外部制御信号から、SOA2が出力すべき増幅光の出力光強度の目標値Itg(平均値)を読み込む。
 また、光利得制御ユニット30が、入力側光検出器24の出力を検知し、その出力に基づいてSOA2に入射している被増幅光の光強度Iin(平均値)を検出する(ステップ2)。
 次に、光利得制御ユニット30が、上記増幅光の出力光強度の目標値Itgと被増幅光の光強度Iinの比(=Itg/Iin)から、SOA2に形成すべき光利得の目標値gtgを決定する(ステップ3)。
 次に、光利得制御ユニット30が、ルックアップテーブル31を参照して、上記光利得の目標値gtgに対応する(SOA2に供給すべき)駆動電流Jを決定する(ステップ4)。
 次に、光利得制御ユニット30は、SOA駆動ユニット28に命令して、SOA2に上記駆動電流Jを供給し、SOA2に上記駆動電流Jを供給する(ステップ5)。
 以上の手順によって、SOA2から、光強度が目標値Itgに概ね一致する増幅光が出力される。
 次に、光利得制御ユニット30は、出力側光検出26の出力を検知し、その出力に基づいてSOA2が出力している増幅光の光強度Iout(平均値)を検出する。
 光利得制御ユニット30は、この増幅光の光強度Ioutを帰還信号として、増幅光の光強度Ioutが目標値Itgに一致するようにSOA2の駆動電流をフィードバック制御する。この時も、SOA2の駆動電流は、SOA駆動ユニット28によって供給される。このフィードバック制御は、外部制御信号によって停止命令が光利得制御ユニット30に下されるまで継続される(ステップ6)。
 このフィードバック制御によって、ステップ5によって目標値Itgに概ね近い値になった増幅光の強度が、目標値Itgに略一致する。更に、入力光12の強度が変動しても、増幅光の光強度は目標値Itgに保たれる。
 次に、SOA2の増幅特性等を参照して、駆動電流制御型の光増幅制御装置の動作を説明する。
 図3は、駆動電流に対するSOA2の光利得(入力光と出力光の強度比)の変化を説明する図である。横軸は駆動電流であり、縦軸は光利得である。横軸の単位はmAであり、縦軸の単位はdBである。
 測定に用いたSOAは、InP基板上に形成されたInGaAsP製の多重量子井戸を活性層とする進行波型の半導体光増幅器である。利得のピーク波長は、1480nm近傍にある。測定温度は25℃である。駆動電流は、50mA~300mAの間で変化する。尚、駆動電流の最高値300mAは、電流密度に換算すると15~20kA/cmになる。
 利得の測定に用いた入力光の波長は1550nmであり、偏波方向はTE(Transverse Electric)方向である。また、入力光(被増幅光)は直流光である。光利得の測定は、被測定対象のSOAが利得飽和を起こさない、低光強度の入力光を用いて行われた。尚、SOAの増幅特性は、入力光が直流光でも変調光でも、基本的には変わらない。
 縦軸が対数表示されているので、図3からは直ちには分からないが、光利得は駆動電流が小さい間はスーパーリニアに増加し、駆動電流が大きくなると飽和する。
 このように光利得は、駆動電流が増加すれば増加し、駆動電流が減少すれば減少する。この性質を利用し、光利得制御ユニット30は、SOA2の光利得をフィードバック制御している。
 すなわち、光利得制御ユニット30は、増幅光の強度が目標値Itgより小さい場合には駆動電流を増やして光利得を増加させる。一方、増幅光の強度が目標値Itgより大きい場合には、光利得制御ユニット30は、駆動電流を減らして光利得を減少させる。この操作が繰り返されることによって、増幅光の強度は目標値Itgに近づく。
 尚、フィードバック制御は、増幅光の光強度の平均値を帰還信号として実施される。また、入力光12のマーク率は、通常一定に保たれる。故に、平均値だけではなく、増幅光強度のピーク値も一定に保たれる。
  (3)問題点
 次に、駆動電流制御型の光増幅制御装置の問題点を説明する。ここでは、光増幅制御装置が、出力光の強度を一定に保つAPC制御を実行する場合の問題を説明する。しかし、光増幅制御装置がAGC制御を実行する場合にも、同様の問題が存在する。
 SOAに入射する光の強度が大きくなると、SOAの活性層に反転分布を形成しているキャリアの密度が誘導放出(光増幅)によって減少し、増幅光の強度が飽和する。このため、増幅光が飽和している状態又はそれに近い状態では、SOAの活性層のキャリア密度は非飽和時に比べ減少している。
 このような状態で、一旦光が遮断されると、キャリア密度は増加し始める。その後、光が再度SOAに入射すると、増加したキャリア密度が誘導放出によって再度減少し始める。このようなキャリア密度の変動は、SOAの光利得を変動させる。その結果、増幅光の波形が変形する。このような増幅光の波形変形(所謂、パターン効果)は、光信号の周期が、キャリアの時定数τに近づくと顕著になる。
 キャリアの時定数τは、通常サブns~数nsである。このためパターン効果は、1GHz以上で顕著となる。
 従って、ビットレートが1GHz以上の光信号を取り扱う高速光通信では、パターン効果の抑制は回避することのできない技術的課題となっている。
 パターン効果を回避するためには、増幅光の強度を抑制して活性層のキャリア密度の減少を抑制することが有効である。
 例えば、図3に増幅特性を示したSOAでは、マーク率50%の変調光を入力した場合、増幅光の強度(平均強度)を飽和光出力(直流光を入力した場合の飽和光出力の直流値)より5dB低くするとパターン効果が実用上問題ないレベルに抑制される。以下、特に言及しない限り、変調光のマーク率は50%とする。
 ここで、図3に示す増幅特性を示したSOAを例として、パターン効果を回避する方法を具体的に説明する。
 今、光利得制御ユニット30が、ルックアップテーブル31を参照して、SOA2の利得を8dBから12.5dBの間で変化させる場合を考える。
 光利得制御ユニット30が、ルックアップテーブル31を参照してSOA2に8dBの光利得を発生させようとする時には、SOA駆動ユニット28に命令して、SOA2に100mAの駆動電流を注入する(図3参照)。一方、SOA2に12.5dBの光利得を発生させるようとする時には、光利得制御ユニット30は、SOA駆動ユニット28に命令して、SOA2に300mAの駆動電流を注入する(図3参照)。すなわち、SOA2に注入される駆動電流は、100mA~300mAの間で変動する。
 図4は、図3に増幅特性を示したSOAの飽和光出力(直流光を入力した場合の飽和光出力の値)の駆動電流に対する変化を示した図である。測定条件は、図3を測定した時に用いた条件と同じである。図4中の実線で示した曲線は、飽和光出力の変化を示す。破線で示した曲線は、飽和光出力(実線)より5dB低いレベルを示している。
 図4の横軸は駆動電流であり、縦軸は飽和光出力である。ここで、横軸の単位はmAであり、縦軸の単位はdBmである。縦軸が対数表示されている図4からは直ちには明らかではないが、飽和光出力は、駆動電流に対して略線形に変化する。
 上述したように、SOA2に注入される駆動電流は、100mA~300mAの間で変動する。この時SOA2の飽和光出力は、駆動電流に比例して、図4に示すように10dBm~15dBmの間で変動する。
 光信号の波形変形を回避するためには、SOAがどのような光利得で動作している場合であっても、パターン効果は抑制されなければならない。
 従って、SOAの増幅光の光強度は、上記飽和光出力の最小値10dBmより5dB低い値、すなわち5dBm(=10dBm-5dB)以下に抑制されなければならない。すなわち、APC制御において一定値に保持されるべき出力光の光強度(出力光強度の目標値)は、5dBm以下に設定されなければならない。
 しかし、光利得が12.5dB(この時の飽和光出力は15dBmである)場合は、入力光が増幅されて10dBm(=15dBm-5dB)になったとしても、パターン効果が発現することはない。それにも拘わらず、光利得が8dBの場合に合わせて、増幅出力光強度の目標値は5dBm以下に設定されなければならない。
 このように駆動電流によって光利得を調整する方法には、SOAの出力光(増幅光)の強度を過度に抑制せざるを得ないという問題がある。この問題は、図3に増幅特性を示したInGaAsP多重量子井戸を活性層とするSOAに限らず、SOA一般に共通する問題である。
  (実施の形態1)
 本実施の形態は、駆動電流を変化させるのではなく、SOAを冷却又は加熱することによって、SOAの光利得を制御する光増幅制御装置に関する。尚、本光増幅制御装置は、APC制御を実行するものである。
  (1)構 成
 図5は、本実施の形態に従う光増幅制御装置(光増幅器モジュール)32の構成を説明するブロック図である。
 図5に示すように、本実施の形態に従う光増幅制御装置32は、駆動電流が注入された活性層33によって入射した光を増幅して出力する、半導体光増幅器(SOA)2を具備している。
 本実施の形態で使用されるSOA2は、図3に増幅特性を示した半導体光増幅器(InGaAsP多重量子井戸を活性層33とする進行波型SOA)と同じものである。但し、SOA2は、各種の半導体光増幅器(例えば、バルク半導体や量子ドットを活性層とする進行波型SOA、ファブリペロー型SOA)であってもよい。
 また、本実施の形態に従う光増幅制御装置32は、半導体光増幅器2に対する冷却及び加熱の何れか一方又は双方を行う冷却加熱器36を具備している。尚、冷却加熱器36は、半導体光増幅器2の温度を調整する温度調整ユニットの一種である。
 本光増幅制御装置32が具備する冷却加熱器36は、SOA2を搭載する熱電冷却素子(ペルチェ素子)によって形成されている。SOA2が熱電冷却素子6に搭載された状態は、駆動電流制御型の光増幅制御装置に於いてSOA2が熱電冷却素子6に搭載された状態と同じである(図2参照)。
 また、本光増幅制御装置32は、冷却加熱器36の動作を調節することにより、SOA2の光利得を制御する光利得制御ユニット34を具備している。光利得制御ユニット34は、以下の制御を実行することによって、SOA2の光利得を変化させる。尚、光利得とは、光強度と増幅前の光の光強度との比のことである。
 まず、光利得制御ユニット34は、SOA2に発生させようとする光利得の目標値(gtg)を特定する第1の制御を実行する(第1の制御)。
 具体的には、光利得制御ユニット34は、SOA2に出力させようとする出力光強度の目標値(Itg)とSOA2に入射している入力光(被増幅光)の光強度(Iin)の比(=Itg/Iin)を、SOA2に発生させようとする光利得の目標値(gtg)として決定する。
 次に、光利得制御ユニット34は、冷却加熱器36の動作を制御することにより、SOA2の光利得が上記光利得の目標値(gtg)に一致するように、SOA2の光利得を変化させる(第2の制御)。
 具体的には、光利得制御ユニット34は、SOA2を非出力飽和状態で動作させ、且つSOA2の光利得を上記光利得の目標値(gtg)に一致させる、SOA2の駆動電流(J)及び冷却加熱器36の動作点の組合せで、SOA2及び冷却加熱器36を動作させる。ここで冷却加熱器36の動作点は、冷却加熱器36の温度(T)である。
 ここで、非出力飽和状態とは、増幅光の光強度が飽和光出力より小さい状態をいう。パターン効果を抑制するためには、増幅光の光強度が飽和光出力よりなるべく小さい非飽和状態が好ましい。
 パターン効果を抑制するためには、例えば、増幅光の光強度(ON状態の瞬時光強度)が飽和光出力より1dB以上小さい非飽和状態が好ましく、3dB以上小さい非飽和状態が更に好ましく、5dB以上小さい非飽和状態が更に最も好ましい(以下に説明する例でも同じ。)。
 従って、マーク率が50%の変調光に対しては、増幅光の平均光強度が飽和光出力より、4dB以上小さい非飽和状態が好ましく、6dB以上小さい非飽和状態が更に好ましく、8dB以上小さい非飽和状態が更に最も好ましい。
 次に、光利得制御ユニット34は、冷却加熱器36の動作を、SOA2の駆動電流を固定したまま、SOA2の動作状態(具体的には、出力光強度)を帰還信号としてフィードバック制御(帰還制御)する(第3の制御)。
 具体的には、光利得制御ユニット34は、SOA2の駆動電流を固定したまま、SOA2が出力している出力光の強度(Iout)が上記出力光強度の目標値(Itg)に一致するように、冷却加熱器36の動作をフィードバック制御する。この時、SOA2が出力している出力光の強度(Iout)が、帰還信号として使用される。
 上記第2の制御を実行するため、光利得制御ユニット34は、ルックアップテーブル35を具備している。
 図6は、光利得制御ユニット34に記録されるルックアップテーブル35の一例である。
 ルックアップテーブル35には、図6に示すように、出力飽和状態で、SOA2を目標とする光利得(目標光利得)で動作させるために、SOA2に供給すべき駆動電流(設定電流)及びSOA2を保持すべき温度(設定温度)の組合せが記録されている。
 このルックアップテーブル35は、光利得制御ユニット34の具備する記録媒体(図示せず)に記録されている。
 図6には、複数の目標光利得毎に対応する設定電流と設定温度が記録されている。但し、目標利得に拘わらず、駆動電流は一定(300mA)である。
 図7は、上記SOA2の素子温度に対する光利得の変化を説明する図である。図7に示す特性を測定した条件は、駆動電流が300mAである点及び素子温度が25~60℃である点を除き、図3に示す光増幅特性の測定に用いた測定条件と同じである。
 ルックアップテーブル35は、図7に示す光利得の素子温度依存性と後述する飽和光出力の素子温度依存性(後記図10参照)に基づいて作成されている。
 図7に示すように、素子温度が上昇するとSOA2の光利得は減少する。ルックアップテーブル35は、この特性に基づいて作成されている。すなわち、高い目標光利得には低い設定温度が対応し、低い目標光利得には高い設定温度が対応している。
 尚、SOAの光利得及び飽和光出力は、入射光の偏波方向に依存する。このため、ルックアップテーブル35は、光利得及び飽和光出力の偏波依存性も考慮して作成される。具体的には、光利得を同じにした場合に、飽和光出力がより小さくなる偏波方向の光をSOAに入射した場合の特性(光利得及び飽和光出力の素子温度依存性)に基づいて、ルックアップテーブル35が作成される。すなわち、パターン効果が発現しやすい偏波方向(ワーストケース)に対して、ルックアップテーブル35が作成されている(下記実施の形態1乃至7でも、ルックアップテーブルは、ワーストケースに基づいて作成される。)。
 また、本光増幅制御装置32は、SOA2の温度を監視する温度センサ8を具備している。
 冷却加熱器36が熱電冷却素子(ペルチェ素子)である場合、図2を参照して説明したように、熱電冷却素子6にSOA2が搭載され、SOA2の直近に温度センサ8(例えば、NTCサーミスタ;negative temperature coefficiebt thermistor)が取り付けられる。尚、温度センサとしては、白金センサや熱電対等を使用することもできる。
 また、本光増幅制御装置32は、温度センサ8の出力を帰還信号としてSOA2の温度をフィードバック制御する温度制御ユニット10と、SOA2を駆動するSOA駆動ユニット28(電源)を具備している。
 また、本光増幅制御装置32は、入力光12が入射する入力端子14(例えば、光コネクタ製)と、出力光16が出射される出力端子18(光コネクタ)を具備している。また、本光増幅制御装置32は、入力光12の一部を分岐する入力側光分岐器20(例えば、石英製のビームスプリッタ)と、SOA2の出力(増幅光)の一部を分岐する出力側光分岐器22(例えば、石英製のビームスプリッタ)を具備している。
 また、本光増幅制御装置32は、入力側光分岐器20によって分岐された入力光12を受光して入力光の強度を監視する入力側光検出器24(例えば、InGaAs pinフォトダイオード)と、出力側光分岐器22によって分岐された増幅光を受光して増幅光の強度を監視する出力側光検出器26(例えば、InGaAs
pinフォトダイオード)を具備している。
 尚、SOA2、入力側光分岐器20及び出力側光分岐器22、入力側光検出器24及び出力側光検出器26、並びに光入力端子14及び光出力端子16は、光ファイバによって光学的に接続されている。
  (2)動 作
 次に、本光増幅制御装置32の動作が、本光増幅制御装置32で実行されるSOA2の制御方法に従って説明される。
 最初に、本光増幅制御装置32の動作の要部を説明する。
 図8は、本実施の形態に従う光増幅制御装置32で実行される半導体光増幅器(SOA2)の制御手順の概要を説明するフロー図である。
 ここで、下記ステップS1~S3は、夫々、上述した光利得制御ユニット34の第1~第3の制御に対応する。
 まず、光利得制御ユニット34が、SOA2に発生させようとする光利得の目標値(gtg)を決定する(ステップS1)。
 具体的には、光利得制御ユニット34が、SOA2に出力させようとする出力光強度の目標値(Itg)とSOA2に入射している入力光の光強度(Iin)の比(=Itg/Iin)を、SOA2に発生させようとする光利得の目標値(gtg)として決定する。
 次に、光利得制御ユニット34が、冷却加熱器36の動作を制御することにより、SOA2の光利得が上記光利得の目標値(gtg)に一致するように、SOA2の光利得を変化させる(ステップS2)。
 具体的には、光利得制御ユニット34が、SOA2が非出力飽和状態で動作し、且つSOA2の光利得を上記光利得の目標値(gtg)に一致させる、SOA2の駆動電流(J)及び冷却加熱器36の動作点の組合せで、SOA2及び冷却加熱器36を動作させる。ここで冷却加熱器36の動作点は、冷却加熱器36の温度(T)である。
 次に、冷却加熱器36の動作を、SOA2の駆動電流(J)を固定したまま、SOA2の動作状態を帰還信号としてフィードバック制御する(ステップS3)。
 具体的には、光利得制御ユニット34が、SOA2の駆動電流(J)を固定したまま、SOA2が出力している出力光の強度が上記出力光強度の目標値(Itg)に一致するように、冷却加熱器36の動作を、SOA2が出力している出力光の強度を帰還信号として帰還制御する。
 次に、本光増幅制御装置32の動作の詳細を説明する。
 図9は、本実施の形態に従う光増幅制御装置32における半導体光増幅器の制御手順を説明するフロー図である。
 まず、光利得制御ユニット34が、動作開始を命令する外部制御信号38を受信し、光増幅制御装置32を起動する(ステップS10)。
 本ステップと下記ステップS20によって、光利得の目標値(gtg)を特定する上記ステップS1が実現される(ステップS20)。
 次に、光利得制御ユニット34が、SOA2に出力させようとする出力光強度の目標値(Itg)を読み込み、更にSOA2に入射している入力光(被増幅光)の光強度(Iin)を特定する(ステップS20)。
 出力光強度の目標値(Itg)は、外部制御信号38によって光増幅制御装置32に提示される。出力光強度の目標値(Itg)は、例えば9dBmである。このように、高い目標光強度が設定可能な理由については下記「(3)原 理」で説明する。
 この時、本光増幅制御装置32には入力光12(例えば、マーク率50%の光信号)が、光ファイバー(図示せず)によって導かれて、入力端子14に入力している。入力光12は、入力側光分岐器20に導かれて分岐される。分岐された入力光の一方は入力側光検出器24に導かれ、他方はSOA2に導かれる。但し、入力光の大部分は、SOA2側に分岐され、SOA2の入力光(被増幅光)となる。
 入力側光検出器24に導かれた増幅光は、入力側光検出器24によって光電変換される。入力側光検出器24は、光電変換した信号の時間平均値を光利得制御ユニット34に送信する。
 光利得制御ユニット34は、入力側光検出24から受信した信号に基づいて、SOA2に入射している入力光(被増幅光)の光強度(Iin)を特定する。
 SOAに入射する入力光(被増幅光)の光強度(Iin)は、例えば-2dBmである。
 次に、光利得制御ユニット34が、出力光強度の目標値(Itg)とSOAに入射している入力項(被増幅光)の光強度(Iin)の比(Itg/Iin)を、SOA2に発生させようとする光利得の目標値(gtg)として決定する。
 例えば、光利得制御ユニット34は、光利得の目標値(gtg)を11dB(=9dBm-(-2dBm))と特定する。
 次に、光利得制御ユニット34が、ルックアップテーブル35を参照して、上記光利得の目標値(gtg=11dB)に対応する、SOA2に供給すべき駆動電流(設定電流)及びSOA2を保持すべき温度(設定温度)を特定する(ステップS40)。
 例えば、駆動電流(J)は300mAであり、設定温度(T)は40℃である。
 但し、光利得の目標値(gtg)がルックアップテーブル35に記録された目標光利得の何れにも一致しない場合には、光利得の目標値(gtg)に最も近い目標光利得に対応する駆動電流(J)及び設定温度(T)が選択される。
 次に、光利得制御ユニット34は、SOA2に特定した上記設定電流(300mA)を供給し、SOA2の温度を特定した上記設定温度(40℃)にする(ステップS50)。
 具体的には、光利得制御ユニット34が、SOA駆動ユニット28に電流供給命令を出す。この命令に従って、SOA駆動ユニット28は、300mAの駆動電流をSOA2に供給する。この駆動電流(300mA)の供給は、下記ステップS60の間継続される。
 また、光利得制御ユニット34は、温度制御ユニット10に温度設定命令を出す。この命令に従って、温度制御ユニット10は、SOA2の温度が設定温度(40℃)になるように冷却加熱器36(熱電冷却素子)を制御する。ここで温度制御ユニット10は、温度センサ8の出力を検知して、その信号を帰還信号として熱電冷却素子6の動作をフィードバック制御する。
 上述したように、温度センサ8の検知する温度を、SOA2の温度とみなすことができる。
 本ステップによって、SOA2が出力する出力光(増幅光)の強度は、出力光強度の目標値(Itg=9dBm)に近い値に増幅される。
 次に、光利得制御ユニット34が、SOA2に供給される駆動電流(J=300mA)を固定したまま、SOA2が出力している出力光(増幅光)の強度(Iout)が上記出力光強度の目標値(Itg=9dBm)に一致するように、冷却加熱器36の動作を帰還制御する。この時、上記強度(Iout)が帰還信号となる(ステップS60)。
 本ステップにおけるフィードバック動作の詳細は以下の通りである。
 ステップS40によって動作を開始したSOA2が出力する出力光(増幅光)は、出力側光分岐器22によって二方向に分岐される。
 分岐された増幅光の一方は出力側光検出器26に導かれ、他方は出力端子18に導かれる。ここで、増幅光の大部分は出力端子18に導かれ、出力光16になる。
 出力側光検出器26に導かれた増幅光は、出力側光検出器26によって光電変換される。出力側光検出器26は、光電変換した信号の時間平均値を光利得制御ユニット34に送信する。
 光利得制御ユニット34は、出力側光検出26から受信した信号に基づいて、SOA2が出力している出力光(被増幅光)の光強度(Iout)を特定する。
 光利得制御ユニット34は、上記出力光強度の目標値(Itg=9dBm)と特定した出力光の光強度(Iout)を比較する。
 光利得制御ユニット34は、出力光の光強度(Iout)が上記出力光強度の目標値(Itg=9dBm)より小さい場合には、温度制御ユニット10にSOA2の温度を下げるように命令を出す。
 SOA2の温度(SOA素子温度)が下がると、SOA2の光利得が上昇する(図7参照)。このため、出力光の光強度(Iout)は増加し、目標値(Itg)に近づく。
 一方、出力光の光強度(Iout)が上記出力光強度の目標値(Itg=9dBm)より大きい場合には、光利得制御ユニット34は、温度制御ユニット10にSOA2の温度を上げるように命令を出す。
 SOA2の温度(SOA素子温度)が上昇すると、SOA2の光利得が低下する(図7参照)。このため、出力光の光強度(Iout)は減少し、目標値(Itg)に近づく。
 光利得制御ユニット34は、動作停止命令を受けるまで、上記光利得の調整動作を繰り返す(下記ステップ70参照)。
 その結果、SOA2の出力光(増幅光)の光強度(Iout)は、漸次、出力光強度の目標値(Itg)に接近し、最終的には出力光強度の目標値(Itg)に略一致する。
 また、本ステップによれば、光増幅制御装置32に入射する入力光12の強度が変動しても、光増幅制御装置32の出力光16の強度は一定値に保たれる。
 光利得制御ユニット34は、動作の停止を命令する外部制御信号38を受信すると、光増幅制御装置32の動作を停止する(ステップS70)。
 以上の手順から明らかなように、本光増幅制御装置32では、駆動電流だけではなく素子温度によって増幅光の光強度が制御される。この制御方法によれば、下記「(3)原理」で説明するように、パターン効果を抑制するために、SOA2の増幅光の強度を過度に抑制する必要がなくなり、増幅光の強度を大きくすることが可能になる。
  (3)原 理
 次に、本光増幅制御装置32が、パターン効果を回避しながら、SOA2の出力光(増幅光)を大きくできる原理を説明する。
 図10は、上記SOA2の素子温度に対する飽和光出力の変化を説明する図である。図10に示す飽和光出力特性は、駆動電流が300mAである点及び素子温度が25~60℃である点を除き、図3及び図7に示すSOAの増幅特性を測定した条件と同じ条件で測定された。
 以下、図7と図10を参照して、上記原理を説明する。
 今、上記「駆動電流駆動型の光増幅制御装置」で説明したSOAと同様に、本実施の形態に従うSOAの光利得も、8.0dB~12.5dBの間で変化するものとする。
 光利得12.5dBで動作している時のSOA2の温度は、25℃である(図7参照)。この時のSOA2の飽和光出力は、15.2dBmである(図10参照)。一方、光利得8.0dBで動作している時のSOA2の温度は、60℃である(図7参照)。この時のSOA2の飽和光出力は、14.0dBmである(図10参照)。
 すなわち、本光増幅制御装置32では、SOA2の光利得が8.0dB~12.5dBの間で変化しても、その飽和光出力は14.0dBm~15.2dBmの間でしか変化しない。
 このため、本光増幅制御装置32は、増幅光の出力光強度の目標値(Itg)を9.0dBm(=14.0dBm-5.0dB)という高い値に設定することができる(但し、パターン効果は、増幅光の強度が飽和光出力より5.0dB以上低い場合に十分抑制されるものとする。)。
 この値は、上述した駆動電流制御型の光増幅制御装置4の出力光強度の目標値5dBmより4dBも高い(上記「駆動電流による光利得の調整」参照)。
 このよう高い出力光強度の目標値の設定が可能な理由は、SOAの光利得が素子温度の上昇に伴って漸次減少するにも拘わらず(図7参照)、飽和光出力は素子温度が上昇しても殆ど減少しないためである(図10参照)。
 このように、本光増幅制御装置32によれば、SOA2の出力光(増幅光)の強度を大きくしても、パターン効果を抑制することができる。
 ところで、本光増幅制御装置32では、SOA2の温度を調整することによって光利得が変更される。従って、数nsのオーダで光利得が変化する、駆動電流制御型の光増幅制御装置のように、キャリア密度が急激に変化して利得がオーバーシュートすることはない。
 最後に、SOAの飽和光出力が素子温度の変化に対して鈍感な理由を説明する。
 SOAの飽和光出力Psは、次式で表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000001
 ここで、hはプランク定数である。ωは光の角周波数である。dはSOAの活性層の厚さである。WはSOA活性層の幅である。ΓはSOAの活性層の光閉じ込め係数である。τは活性層内のキャリア寿命である。dg/dNは微分利得係数である。gは活性層の光利得である。Nは活性層のキャリア密度である。
 注入電流を一定に保ったままSOAの温度を上げると、キャリアが活性層内からオーバーフローする。その結果、キャリア密度が下がり、τは増大する。式(1)に従えば、τの増大は、飽和光出力Psの減少をもたらす。
 しかし、SOAの温度上昇は、微分利得係数dg/dNの減少ももたらす。従って、SOAの温度が上昇してキャリア密度が低下しても、飽和光出力Psの減少は僅かである。
 一方、光利得は略キャリア密度に比例するので、SOAの温度が上昇してτが減少すると漸次減少する(キャリア密度は、τと駆動電流の積である。)。
 従って、図7及び図10に示すように、SOAの温度が上昇すると光利得は漸次減少するが、飽和光出力は殆ど減少しない。
 以上が、SOAの飽和光出力が素子温度の変化に対して鈍感な理由である。
 ところで、量子ドットを活性層とするSOAの光利得は、素子温度に殆ど依存しないことが知られている。しかし、これは特定の波長範囲及び特定の温度範囲に於ける特性である。これらの波長範囲及び温度範囲を除けば、量子ドットを活性層とするSOAも、素子温度が上昇すると光利得は漸次減少する。従って、これらの波長範囲及び温度範囲を除く波長範囲及び温度範囲では、SOA2の活性層が量子ドットを活性層で形成されていても、本光増幅制御装置で実行されるSOA2の制御は有効である(以下の実施の形態においても、同じである。)。
  (実施の形態2)
 本実施の形態は、SOAを冷却又は加熱するだけでなく、光利得の目標値(gtg)に応じて異なった駆動電流(J)をSOAに供する光増幅制御装置(光増幅器モジュール)に関する。尚、本光増幅制御装置は、APC制御を実行するものである。
  (1)構 成
 本実施の形態に従う光増幅制御装置40の構成は、光利得制御ユニット42が実行する第2の制御及びルックアップテーブルが高度化されている点を除き、実施の形態1に従う光増幅制御装置32の構成と略同じである。
 従って、実施の形態1に従う光増幅制御装置32と共通する部分に関する説明は省略し、実施の形態1の光増幅制御装置32と相違する部分を説明する。尚、本実施の形態に従う光増幅制御装置40の構成図は、実施の形態1で参照した図5と同じである。
  (i)実施の形態1との相違点
 本光利得制御ユニット42の第2の制御は、実施の形態1に従う光利得制御ユニット34が実行する第2の制御より高度化されている。
 図13は、本光利得制御ユニット42が、第2の制御を実行するために参照するルックアップテーブル44の一例である。
 具体的には、本光利得制御ユニット42の第2の制御は次のような制御である。
 ルックアップテーブル44には、SOA2の光利得を複数の目標とする光利得の何れかに一致させ、且つSOA2の出力光強度を複数の目標とする出力光強度の何れかに一致させるSOA2の駆動電流及び冷却加熱器36の動作点(温度)の組合せが記録されている。
 ここで、目標とする光利得とは、ルックアップテーブル44の第1行目に記載されている目標光利得のことである。また、目標とする出力光強度とは、ルックアップテーブル44の第1列目に記載された目標光出力のことである。また、SOA2の駆動電流及び冷却加熱器36の動作点(温度)の組合せとは、ルックアップテーブル44に記録された設定電流及び設定温度の組合せことである。
 この組合せは、SOA2の飽和光出力と上記目標とする出力光強度(目標光出力)の差を一定に保つ組合せでもある。
 そして、本光利得制御ユニット42は、目標とする光利得(目標光利得)が上記光利得の目標値(gtg)に最も近く、且つ上記目標とする出力光強度(目標光出力)が上記出力光強度の目標値(Itg)に最も近い設定電流と設定温度の組合せで、SOA2を駆動し同時に冷却加熱器を動作させる。
 簡潔に説明するならば、本光利得制御ユニット42の第2の制御は、SOA2を冷却又は加熱するだけでなく、光利得の目標値(gtg)に応じて異なった駆動電流(J)をSOAに供する制御である。
 図11は、飽和光出力が一定値16dBmになるように駆動電流(J)を変更しながら、SOA2の素子温度(T)を変化させた場合の、飽和光出力(P)の素子温度依存性を説明する図である。測定に用いたSOAは、実施の形態1で参照した図4の測定に用いたSOAと同じである。また、測定条件も、駆動電流(J)を変更する点を除き、図4の測定に用いた条件と同じである。
 図11の横軸は、SOAの素子温度(T)であり、縦軸はSOAの飽和光出力である。図11には、素子温度毎に、SOAに供給した駆動電流(J)と、その時にSOAに発生した光利得が図示されている。
 実施の形態1に従う光増幅制御装置32のように、SOAの駆動電流(J)を変更せずに素子温度(すなわち、冷却加熱器36の温度T)だけを変更すると、僅かではあるが飽和光出力も変化する(図10参照)。しかし、図11に示すように、素子温度の上昇に合わせて駆動電流(J)を増加させると、SOAの飽和光出力を一定に保つことができる。
 従って、目標とする光利得(目標光利得)に拘わらず、SOA2の飽和光出力(例えば、15.5dBm)と目標とする出力光強度(目標光出力;例えば、10dBm)の差(例えば、5.5dB=15.5dBm-10dBm)を一定に保つことができる。
 ルックアップテーブル44は、このようなSOAの特性に基づくものである。
 尚、図12には、飽和光出力が一定値15.5dBmになるように駆動電流(J)を変更しながら、SOA2の素子温度(T)を変化させた場合の光利得の変化が示されている。測定に用いたSOAは、図3(及び図4)の測定に用いたSOAと同じである。また、測定条件も、駆動電流(J)を変更する点を除き、図3及び図4の測定に用いた条件と同じである。
 図12の横軸は、SOAの素子温度(T)であり、縦軸はSOAの光利得である。図12には、素子温度毎に、SOAに供給した駆動電流(J)が記載されている。
 図12に示すように、素子温度(T)と共に駆動電流(J)を変えても、光利得を広範囲(8dB~13dB)に亘って変化させることができる。
 一方、SOA2の駆動電流(J)を一定に保つ実施の形態1の制御方法では、素子温度を25℃から60℃に上げた場合、飽和光出力は15.5dBmから14dBmに減少する。このため、出力光強度の目標値(Itg)は、9dBm(=14dBm-5dB)以下でなければならない。
 一方、上述したように、本実施の形態に従えば、出力光強度の目標値(Itg)は、10dBm(<15.5dBm-5dB)になる。
 すなわち、本実施の形態に従えば、パターン効果を回避しながら、出力光強度の目標値(Itg)を、実施の形態1に従う光増幅制御装置32より高くすることができる。
  (ii)ルックアップテーブル
 上述したように、図13は、光利得制御ユニット42に記録されているルックアップテーブル44の一例である。
 ルックアップテーブル44には、SOA2を目標とする光利得(目標光利得)及び出力光強度の目標値(目標光出力)で動作させるために、SOA2に供給すべき駆動電流(設定電流)及びSOA2を保持すべき温度(設定温度)の組合せが記録されている。
 また、本実施の形態に従うルックアップテーブル44は、SOA2に入射する光(被増幅光)の波長が変わっても対応できるように、複数の波長(1550nm、1540nm、及び1530nm)に対して用意されている。
  (2)動 作
 次に、光増幅制御装置40の動作が、光増幅制御装置40で実行されるSOA2の制御方法に従って説明される。
 最初に、光増幅制御装置40の動作の要部を説明する。
 本光増幅制御装置46の動作の要部は、3つのステップ(ステップS1~S3)に分けることができる。ステップS1乃至S3は、夫々、上記第1乃至第3の制御に従って、光利得制御ユニット48が実行する動作である(例えば、ステップS1は制御1に対応する。)。これらの動作は、既に上記「(1)構 成」で既に説明した。従って、本光増幅制御装置46の動作の要部を説明するステップS1~S3の説明は省略する。
 次に、光増幅制御装置40の動作の詳細を説明する。
 本光増幅制御装置40で実行されるSOAの制御手順は、図9を参照して説明した実施の形態1のステップS20に於いて、増幅光の出力光強度の目標値(Itg)だけでなく、SOAに入射する入力光(被増幅光)の波長も外部から読み込むようにしている。
 また、本制御手順は、実施の形態1のステップS40に於いて、図6ではなく図13を参照して説明したルックアップテーブル44を参照して、設定電流(J)と設定温度(T)を特定する点で、実施の形態1に従う光増幅制御装置の32の制御手順と相違する。
 図14及び図15は、本実施の形態に従う光増幅制御装置40におけるSOAの制御手順を説明するフロー図である。尚、図9を参照して実施の形態1で説明した制御手順と共通する部分については、説明を省略する。
  (i)ステップS110
 光増幅制御装置40を起動する本ステップは、実施の形態1で説明したステップS10と同じである。
  (ii)ステップS120
 本ステップは、実施の形態1で説明したステップS20に対応する。
 本ステップでは、光利得制御ユニット42が、SOA2の出力光(増幅光)の出力光強度の目標値(Itg)とSOAに入射する入力光(被増幅光)の波長λを読み込み、更にSOA2に入射している入力光(被増幅光)の光強度(Iin)を特定する。
 SOA2に入射する入力光(被増幅光)の波長λは、出力光強度の目標値(Itg)と同様に、光増幅制御装置32に外部制御信号38によって通知される。
  (iii)ステップS130
 本ステップは、実施の形態1で説明したステップS30と同じステップである(図9参照)。
  (iv)ステップS140
 本ステップでは、出力光の出力光強度の目標値(Itg)及び光利得の目標値(gtg)が、想定した仕様範囲内(例えば、SOAの動作可能範囲内)にあるか否かが判定される。
 具体的には、図13に示すルックアップテーブル44に記録された、目標光出力及び目標光利得の範囲内(6dBm~12dBm;8dB~14dB)の範囲内に、出力光の出力光強度の目標値(Itg)及び光利得の目標値(gtg)があるか否かが判定される。
 出力光の出力光強度の目標値(Itg)及び光利得の目標値(gtg)が、仕様範囲内にない場合には、光利得制御ユニット42は、アラームを発出し、SOA2に供給する駆動電流を遮断する。
  (v)ステップS150
 本ステップは、実施の形態1で説明したステップS40に対応する。
 本ステップでは、光利得制御ユニット42が、ルックアップテーブル44を参照して、入力光の波長(λ)及び光利得の目標値に対応する、SOA2に供給すべき駆動電流J(設定電流)及びSOA2を保持すべき温度T(設定温度)を特定する。すなわち、光利得制御ユニット42が、ルックアップテーブル44から設定電流(J)及び設定温度(T)を読み出す。
 入力光の波長(λ)及び光利得の目標値(gtg)は、例えば、1550nm及び12dBである。また、設定電流(J)及び設定温度(T)は、例えば、300mA及び25℃である。
  (vi)ステップS160
 本ステップ及び下記ステップ170によって実行されるステップは、実施の形態1で説明したステップS50に対応する(図9参照)。
 本ステップ及び下記ステップS170は、光増幅制御装置40の動作中に、増幅光の出力光強度の目標値(Itg)等が変更された場合にも対応できる手順である。
 本ステップでは、ステップS150で特定した、SOA2に供給すべき駆動電流J(設定電流;例えば、300mA)と本ステップの実行前にSOA2に供給されていた駆動電流J(例えば、280mA)を、光利得制御ユニット42が比較する。
 比較の結果、両者が一致した場合には、光利得制御ユニット42は、SOA2に供給されている駆動電流(例えば、280mA)を維持する。
 一方、両者が一致しない場合には、光利得制御ユニット42は、ステップS150で特定した、SOA2に供給すべき駆動電流J(例えば、300mA)をSOA2に供給する。
 尚、光増幅制御装置40が起動した直後の設定電流は0mAである。従って、最初に本ステップS160が実行される場合、J=0mAである。
  (vii)ステップS170
 本ステップでは、ステップS150で特定した、SOA2を保持すべき温度T(設定温度)と本ステップの実行前にSOA2が保持されていた温度T(例えば、10℃)を、光利得制御ユニット42が比較する。
 比較の結果、両者が一致した場合には、光利得制御ユニット42は、SOA2を保持している温度(例えば、10℃)を維持する。
 一方、両者が一致しない場合には、光利得制御ユニット42は、ステップS150で特定した、SOA2を保持すべき温度T(例えば、25℃)にSOA2を保持する。
 尚、光増幅制御装置40が起動した直後の設定温度は25℃である。従って、最初に本ステップS170が実行される場合、T=25℃である。
  (viii)ステップS180
 本ステップS180は、実施の形態1で説明したステップS60と略同じステップである(図9参照)。
 但し、SOA2の出力光の強度(Iout)を帰還信号として、冷却加熱器36の温度(すなわちSOA2の温度T)を調整する動作を所定の回数(例えば、100回)繰り返した後、本ステップは終了する。
 その後、下記ステップS190が開始する。
  (ix)ステップS190
 本ステップは、光増幅制御装置40の動作中に、増幅光の出力光強度の目標値(Itg)が変更された場合等に対応するための手順である。
 本ステップでは、ステップS120で読み込んだ、増幅光の出力光強度の目標値(Itg)及びSOAに入射する入力光(被増幅光)の波長λが変更されていないか、光利得制御ユニット42が外部制御信号38を参照して確認する。
 また、光利得制御ユニット42は、SOA2が出力している出力光(増幅光)の光強度(Iout)とSOA2が入射している入力光(被増幅光)の光強度(Iin)の比から動作中SOA2の光利得を特定し、ステップ130で特定した光利得の目標値gtgとこの比(=Iout/Iin)の差が所定値、例えば1dB(目標光利得の間隔の1/2)以上になっていないか確認する。
 確認の結果、出力光強度の目標値(Itg)が変更されていた場合、SOAに入射する入力光(被増幅光)の波長λが変更されていた場合、及び動作中SOA2の現実の光利得と光利得の目標値gtgとの差が例えば1dB以上離れていた場合の何れか一つにでも該当する時には、上記ステップ120に戻って、新たな手順が再開される。
 従って、光増幅制御装置40の動作中に、出力光強度の目標値(Itg)又は入力光(被増幅光)の波長λが変更されても、光増幅制御装置40は、変更された動作条件に対応することができる。
 また、SOA2の光利得(g)と光利得の目標値(gtg)との差が例えば1dB以上開いた場合には、新たな駆動電流(J)とSOA2を保持すべき温度(T)が特定され、新たに特定された駆動電流(J)及び温度(T)によってSOA2の動作が制御される。
 従って、SOA2の飽和光出力強度とSOA2の出力(Iout)の差が、ステップS180(フィードバック制御)の実行中に狭まって、パターン効果が発現してしまうといことはない。尚、光利得が1dB程度変動しても、SOAの飽和光出力は殆ど変わらない(図7及び図10参照)。
  (x)ステップS200
 本ステップでは、光増幅制御装置40に対して動作停止の命令が出されていないか、光利得制御ユニット42が、外部制御信号38を参照して確認する。
 動作停止の命令が出されている場合には、ステップ210に進む。
 動作停止の命令が出されていない場合には、ステップ180に戻る。
  (xi)ステップS210
 本ステップでは、光利得制御ユニット42が、光増幅制御装置40の動作を停止する。
 以上説明した通り、本実施の形態に従う光増幅制御装置40では、目標とする光利得が異なっても出力光の強度(Iout)と飽和光出力の差を一定に保つ設定電流及び設定温度の組合せに基づいて、SOA2の動作が制御される。従って、本光増幅制御装置40は、実施の形態1に従う光増幅制御装置32よりも更に、SOA2の出力光(増幅光)の光強度を大きくすることができる。
  (実施の形態3)
 本実施の形態は、SOAを冷却又は加熱することによって、SOAの光利得が一定になるように半導体光増幅器の動作を制御する光増幅制御装置(光増幅器モジュール)に関する。すなわち、本光増幅制御装置は、AGC制御を実行するものである。
  (1)構 成
 本実施の形態に従う光増幅制御装置の構成は、基本的には、実施の形態1に従う光増幅制御装置32の構成と同じである。但し、光利得制御ユニット48が実行する制御に、実施の形態1に従う光増幅制御装置32の制御と異なる点がある。
 最初に、実施の形態1に従う光増幅制御装置32との相違点すなわち光利得制御ユニット48が実行する制御を説明する。次に、光増幅制御装置46が具備するルックアップテーブル50を簡単に説明する。その他の構成についての説明は省略する。尚、本実施の形態に従う光増幅制御装置46の構成図は、実施の形態1に従う光増幅制御装置32の構成図(図5)と同じである。
 光利得制御ユニット48は、SOA2に発生させようとする光利得の目標値(gtg)を特定する第1の制御を実行する。
 具体的には、光利得制御ユニット48が、外部制御信号38によって通知された光利得の目標値を、SOA2を制御するためのパラメータの一つである光利得の目標値(gtg)として決定する。
 光利得の目標値(gtg)は、例えば12dBである。
 次に、光利得制御ユニット48が、冷却加熱器36の動作を制御することにより、SOA2の光利得が上記光利得の目標値(gtg)に一致するように、SOA2の光利得を変化させる第2の制御を実行する。
 具体的には、光利得制御ユニット48が、SOA2を非出力飽和状態で動作させ、且つSOA2の光利得を上記利得の目標値(gtg)に一致させる、SOA2の駆動電流(J)及び冷却加熱器36の動作点の組合せで、SOA2及び冷却加熱器36を動作させる。ここで、冷却加熱器36の動作点とは、冷却加熱器36の温度(T)のことである。
 次に、光利得制御ユニット48は、冷却加熱器の動作36を、SOA2の駆動電流(J)を固定したまま、SOA2の動作状態を帰還信号としてフィードバック制御する第3の制御を実行する。
 具体的には、光利得制御ユニット48が、SOA2が出力している出力光の強度(Iout)とSOA2に入射している入力光の光強度(Iin)の比(=Iout/Iin)が光利得の目標値(gtg)に一致するように、冷却加熱器8の動作を、上記比を帰還信号として帰還制御する。この時、駆動電流(J)は、固定されたままである。
 光利得制御ユニット48は、ルックアップテーブル50を参照して上記第2の制御を実行する。ルックアップテーブル50は、例えば、実施の形態1で図6を参照して説明したルックアップテーブル35と同じものである。このルックアップテーブル50は、例えば、光利得制御ユニット48が具備する記録媒体(図示せず)に記録されている。
  (2)動 作
 次に光増幅制御装置46の動作を、光増幅制御装置46において実行されるSOA2の制御方法に従って説明する。
 最初に、本光増幅制御装置46の動作の要部を説明する。
 本光増幅制御装置46の動作の要部は、3つのステップ(ステップS1~S3)に分けることができる。ステップS1乃至S3は、夫々、上記第1乃至第3の制御に従って、光利得制御ユニット48が実行する動作である(例えば、ステップS1は制御1に対応する。)。これらの動作は、既に上記「(1)構 成」で既に説明した。従って、本光増幅制御装置46の動作の要部を説明するステップS1~S3の説明は省略する。
 次に、光増幅制御装置46の動作の詳細を、SOA2の制御手順に従って説明する。
 図16は、本実施の形態に従う光増幅制御装置46におけるSOA2の制御手順を説明するフロー図である。
  (i)ステップS10
 まず、光利得制御ユニット48が、動作開始を命令する外部制御信号38を受信し、光増幅制御装置32を起動する。
  (ii)ステップS20
 本ステップと下記ステップS20によって、上記ステップS1が実現される。
 まず、光利得制御ユニット34が、SOA2の光利得の目標値を読み込み、更にSOA2に入射している入力光(被増幅光)の光強度(Iin)を特定する。
 光利得の目標値(gtg)は、光増幅制御装置46に外部制御信号38として通知される。
 光利得制御ユニット48は、読み込んだ光利得の目標値を、SOA2を制御するためのパラメータの一つである光利得の目標値(gtg)として決定する。
 光利得の目標値(gtg)は、例えば12dBである。入力光(被増幅光)の光強度(Iin)は、例えば-4dBmである。
  (iii)ステップS30
 本ステップでは、光利得制御ユニット48が、光利得の目標値(gtg)と入力光(被増幅光)の光強度(Iin)の積(gtg・Iin)を、SOA2の出力光の強度の目標値(Itg)として決定する。
 例えば、光利得制御ユニット48は、光出力の目標値(Itg)を8dBm(=10・log((gtg・Iin)/1mW))=10・log(gtg)+10・log(Iin/1mW)=12dB-4dBm)と特定する。
  (iv)ステップS40
 本ステップと下記ステップS50によって、上記ステップS2が実現される。
 本ステップでは、光利得制御ユニット48が、ルックアップテーブル50(図6参照)を参照して、上記光利得の目標値(gtg=12dB)に対応する、SOA2に供給すべき駆動電流(設定電流)及びSOA2を保持すべき温度(設定温度)を特定する。
 例えば、駆動電流(J)は300mAであり、設定温度(T)は25℃である。
   (v)ステップS50
 本ステップは、図9を参照して説明した、実施の形態1の光利得制御装置32で実行されるステップ40と同じである。
 本ステップでは、光利得制御ユニット48が、供給すべき駆動電流(J=300mA)をSOA2に供給し、SOA2の温度を保持すべき温度(T=25℃)にする。
 本ステップによって、SOA2の光利得は、光利得の目標値(gtg=12dB)に近い値になる。
 ステップは、図9を参照して説明した、実施の形態1の光利得制御装置32で実行されるステップ50と同じである。
  (vi)ステップS60
 本ステップによって、上記ステップS3が実現される。
 本ステップでは、光利得制御ユニット48が、入力側光検出器24及び出力側光検出器26の出力を受信して、SOA2に入射する入力光(被増幅光)の光強度(Iin)及びSOA2が出力する出力光(増幅光)の強度(Iout)を特定する。
 次に、光利得制御ユニット48は、このIoutとIinの比(=Iout/Iin)が光利得の目標値(12dB)に一致するように、冷却加熱器8の動作を、上記比を帰還信号として帰還制御する。ここで、IoutとIinの比(=Iout/Iin)は、動作中のSOAの光利得である。
 具体的には、IoutとIinの比(=Iout/Iin)が、光利得の目標値(gtg)より小さい場合には、光利得制御ユニット48が、冷却加熱器8の温度は下げる。一方、IoutとIinの比(=Iout/Iin)が、光利得の目標値(gtg)より大きい場合には、光利得制御ユニット48が、冷却加熱器8の温度は上げる。
 この帰還制御が繰り返されることによって、SOA2の光利得(g=Iout/Iin)は、漸次、光利得の目標値(gtg)に接近し、最終的には光利得の目標値(gtg)に略一致する。
 ところで、上記帰還制御が収束し、光利得が光利得の目標値(gtg)に略一致した状態では、入力光12の状態(光強度等)が変動しても、本来はSOA2の光利得は変動しないはずである。
 しかし、SOA2の光利得が入力光(被増幅光)の偏波方向に依存する場合には、入力光の偏波方向の変動によって、SOA2の光利得も変動する。
 このような場合に、SOA2の光利得は上記帰還制御によって一定に保たれる。
  (vii)ステップS70
 光利得制御ユニット48は、動作の停止を命令する外部制御信号38を受信すると、光増幅制御装置46の動作を停止する。
 図3及び図4に特性を示したSOAによって光利得制御装置を形成した場合、本実施の形態に従えば、SOA2の出力光の強度(Iout)が、9dBm(=14dBm-5dB)に増幅されてもパターン効果は起きない。但し、パターン効果を抑制するためには、飽和光出力より5dB、出力光(増幅光)の強度が小さければよいとした。
 一方、図1を参照して説明した、駆動電流制御型の光増幅制御装置4では、出力光の強度(Iout)が、5dBm(=10dBm-5dB)より大きくなるとパターン効果が発現してしまう。
 このように、本実施の形態に従えば、SOAをAGC制御にした場合にも、パターン効果を抑制しながら、出力光の強度(Iout)を大きくすることができる。
  (実施の形態4)
 本実施の形態は、SOAを冷却又は加熱するだけでなく、出力光の出力光強度の目標値(Itg)に応じて異なった駆動電流(J)をSOAに供給して、光利得が一定になるように半導体光増幅器の動作を制御(AGC制御)する光増幅制御装置(光増幅器モジュール)に関する。
  (1)構 成
 本実施の形態に従う光増幅制御装置52の構成は、基本的には、実施の形態3に従う光増幅制御装置46の構成と同じである。但し、光利得制御ユニット54が実行する制御及びルックアップテーブルに、実施の形態3に従う光増幅制御装置46と異なる点がある。
 従って、光利得制御ユニット54が実行する制御及びルックアップテーブルについて説明し、その他の構成に関する説明は省略する。尚、本実施の形態に従う光増幅制御装置52の構成図は、実施の形態1で参照した図5と同じでものある。
 本光利得制御ユニット54は、実施の形態3に従う光利得制御ユニット48が具備する第1乃至第3の制御を具備している。但し、第1の制御に、新たな制御が追加されている。また、第2の制御が高度化されている。
 第1の制御に追加された制御は、光利得の目標値(gtg)とSOA2に入射している入力光の光強度(Iin)の積を、SOA2に出力させようとする出力光強度の目標値(Itg)として決定することである。
 第2の制御は、実施の形態2に従う光利得制御ユニット42が実行する第2の制御と同じである。但し、本制御に使用されるルックアップテーブルは、実施の形態2に従うルックアップテーブルとは異なる。
 図17は、光利得制御ユニット54に記録されているルックアップテーブル56の一例である。
 本実施の形態に従うルックアップテーブル56は、目標光出力が1dBmずつ小さくしている。
 目標光出力を1dBmずつ小さくした理由は、SOA2に入射する入力光の光強度が変動しても、直ちにSOA2の光出力の強度(Iout)が、パターン効果の回避が可能な範囲(10dBm以下)を超えないようにするためである。従って、図17のルックアップテーブルに従えば、1dB以内の入力光の光強度の変動は許容される。
 第3の制御は、実施の形3に従う光利得制御ユニット42が実行する第3の制御と同じである。
  (2)動 作
 次に、本光増幅制御装置52の動作を、本光増幅制御装置で実行されるSOA2の制御方法に従って説明する。
 最初に、光増幅制御装置52の動作の概要を、SOAの制御手順に従って説明する。
 本光増幅制御装置52の制御手順の概要は、実施の形態3で説明したステップS1~ステップS3と略同じである。
 但し、上記第2の制御に対応するステップS2に異なる点がある。従って、ステップS2について説明し、それ以外のステップの説明は省略する。
 最初に、本光増幅制御装置46の動作の要部を説明する。
 本光増幅制御装置46の動作の要部は、3つのステップ(ステップS1~S3)に分けることができる。ステップS1乃至S3は、夫々、上記第1乃至第3の制御に従って、光利得制御ユニット48が実行する動作である(例えば、ステップS1は制御1に対応する。)。これらの動作は、既に上記「(1)構 成」で既に説明した。従って、本光増幅制御装置46の動作の要部を説明するステップS1~S3の説明は省略する。
 次に、光増幅制御装置46の動作の詳細を、SOA2の制御手順に従って説明する。
 図18及び図19は、本実施の形態に従う光増幅制御装置52で実行される半導体光増幅器の制御手順を説明するフロー図である。
 本光増幅制御装置52の動作の詳細は、実施の形態2に従う光増幅制御装置40の動作と共通点が多い。
 従って、ここでは実施の形態3ではなく、実施の形態2に従う光増幅制御装置40の動作との相違点を中心に説明する。尚、図14及び図15を参照して説明した実施の形態2の動作と共通するステップについての説明は省略する。
  (i)ステップ120
 本ステップでは、光利得制御ユニット54が、SOA2の光利得の目標値を読み込み、読み込んだ光利得の目標値を、SOA2を制御するためのパラメータの一つである光利得の目標値(gtg)として決定する。
 また、光利得制御ユニット54は、SOAに入射する入力光(被増幅光)の波長λを読み込む。更に、光利得制御ユニット54は、SOA2に入射している入力光(被増幅光)の光強度(Iin)を決定する。
 光利得の目標値(gtg)及び入力光(被増幅光)の波長λは、外部制御信号38によって光利得制御ユニット54に通知される。入力光(被増幅光)の光強度(Iin)は、光利得制御ユニット54が、入力側光検出器24の出力信号を受信して検知する。
 ここで、光利得の目標値(gtg)は、例えば12dBである。入力光(被増幅光)の光強度(Iin)は、例えば-3dBmである。また、入力光の波長λは、例えば1550nmである。
  (ii)ステップ130
 本ステップでは、光利得制御ユニット54が、光利得の目標値(gtg)と入力光(被増幅光)の光強度(Iin)の積(gtg・Iin)を、SOA2の出力光の強度の目標値(Itg)として決定する。
 例えば、光利得制御ユニット48は、出力光の目標値(Itg)を9dBm(=-3dBm+12dB)と決定する。
  (iii)ステップS150
 本ステップは、実施の形態2のステップS150と殆ど同じである。但し、図17に示したテーブルが、ルックアップテーブルとして参照される点が実施の形態2のステップS150と相違する。
 駆動電流(J)及び設定温度(T)は、例えば、300mA及び25℃である(図17参照)。
  (iv)ステップS180
 本ステップでは、光利得制御ユニット54が、入力側光検出器24及び出力側光検出器26の出力を受信して、SOA2に入射する入力光の光強度(Iin)及びSOA2が出力する出力光の強度(Iout)を検知する。
 次に、光利得制御ユニット54は、このIoutとIinの比(=Iout/Iin)が光利得の目標値(12dB)に一致するように、冷却加熱器8の動作を制御する。
 具体的には、IoutとIinの比(=Iout/Iin)が光利得の目標値(12dB)より小さい場合には、冷却加熱器8の温度Tを低くする。一方、IoutとIinの比(=Iout/Iin)が光利得の目標値(12dB)より大きい場合には、冷却加熱器8の温度Tを高くする。この時、SOA2に供給される駆動電流は、ステップS160でSOA2に供給される設定電流(J;例えば、300mA)に固定されている。
 以上の手順が所定の回数繰り返され、その後、下記ステップS190が開始する。
  (v)ステップS190
 本ステップでは、ステップS120で読み込んだ、光利得の目標値及びSOAに入射する入力光(被増幅光)の波長λが変更されていないか、光利得制御ユニット54が現時点での外部制御信号38を参照して確認する。
 また、光利得制御ユニット54は、SOA2が出力している増幅光の光強度(Iout)が、ステップ130で決定した光出力の目標値(Itg)から所定値、例えば1dB以上解離していないか確認する。
 光利得制御ユニット54による確認の結果、光利得の目標値が変更されていた場合、SOAに入射する入力光(被増幅光)の波長λが変更されていた場合、及び動作中のSOA2の光出力の強度が光出力の目標値(Itg)から1dB以上解離していた場合の何れか一つにでも該当する時には、上記ステップ120に戻る。
 従って、光増幅制御装置40の動作中に、光利得の目標値又は入力光(被増幅光)の波長λが変更されても、光増幅制御装置40は、変更された動作条件に対応することができる。
 また、動作中のSOA2の光出力の強度が、出力光強度の目標値(Itg)から1dB以上解離した場合には、新たな駆動電流(J)とSOA2を保持すべき温度(T)が設定される。
 従って、SOA2の飽和光出力強度(P)とSOA2の出力(Iout)の差が、ステップS180の中に狭まっても、当該差は直ちに回復される。故に、パターン効果が発現することはない。
 本実施の形態に従う光増幅制御装置52によれば、図17に示すように、8dBの光利得の目標値(gtg)に対して、9dBmの目標光出力を設定することができる(但し、許容する出力光強度(Iout)の変動が1dBの場合。)。
 一方、設定電流が固定されている、実施の形態3に従う光増幅制御装置では、8dBの光利得の目標値(gtg)に対して設定できる目標光出力は、8dBm(=9dBm-1dB)以下である。
 このように、本光増幅制御装置52によれば、設定電流を変更しない実施の形態3に従う光増幅制御装置より、目標光出力を高く設定することができる。
  (実施の形態5)
 本実施の形態は、SOAに設けられたヒータとSOAを搭載する熱電冷却素子によって、冷却加熱器が形成された光増幅制御装置(光増幅器モジュール)に関する。
  (1)構 成
 図20は、本実施の形態に従う光増幅制御装置58の構成を説明する図である。
 実施の形態1乃至4では、冷却加熱器36が、SOA2を搭載する熱電冷却素子6のみによって形成されている。
 この冷却加熱器36に代えて、本光増幅制御装置58は、SOA2に設けられたヒータ60と、SOA2を搭載する熱電冷却素子6とによって形成される冷却加熱器62を具備している。
 また、本光増幅制御装置58は、このヒータ60に駆動電流を供給するヒータ駆動ユニット64を具備する。
 本光増幅制御装置58は、実施の形態1乃至4に従う光増幅制御装置32,40,46,52と同様、冷却加熱器62の動作を調整することにより、SOA2の光利得を変化させる光利得制御ユニット66を具備する。但し、本光増幅制御装置58が実行する利得制御ユニット66の制御は、実施の形態1乃至4に従う利得制御ユニット34,42,48,54の制御と一部相違する。
 また、本利得制御ユニット66が具備するルックアップテーブル68も、実施の形態1乃至4のルックアップテーブル35,44,50,56と一部相違する。
  (i)冷却加熱器の構成及び動作
 まず、冷却加熱器62の構成及び動作を説明する。
 図21は、冷却加熱器62の構成を説明する平面図である。図22は、図21のA-A線に於ける断面を矢印の方向から見た図である。図23は、図21のB-B線に於ける断面を矢印の方向から見た図である。
 図21乃至図23には、SOA2を搭載した状態の冷却加熱器62が図示されている。
 上述したように冷却加熱器62は、SOA2に設けられたヒータ60と、SOA2を搭載する熱電冷却素子6を具備している。尚、冷却加熱器62は、半導体光増幅器2の温度を調整する温度調整ユニットの一種である。
 ここで、SOA2は、実施の形態1乃至4に従う光増幅制御装置を形成するSOAと同じものである。
 具体的には、SOA2は、厚さ100μmのn型のInP基板72と、n型のInP基板72の裏面に形成された第1の電極70と、n型のInP基板70の上方に形成されたInGaAsP製の多重量子井戸の活性層33を具備している(図23参照)。ここで、活性層33の利得のピークは、1480nm近傍にある。
 また、SOA2は、活性層33の上方に形成されたp型InP製の上部クラッド層74と、p型InGaAsP製の電極層76、電極層76の上に形成された第2の電極78を具備している。
 また、SOA2の光の入射端面及び出射端面には、夫々反射防止膜80が設けられている。
 また、活性層33乃至電極層76はリッジ状に加工され、その両脇が、第1のp型InP層82、n型InP層84、及び第2のp型InP層86が順次積層されたp-n-p電流ブロック層88によって覆われている。ここで、SOA2の光の導波方向に沿った長さは800μmである。
 SOA2の第1及び第2の電極70,78は、SOA駆動ユニット28に接続されている。
 そして、SOA2の表面は、第2の電極78の形成された領域を除き、例えばSiO製の絶縁膜90によって覆われている(図21参照)。
 この絶縁膜90の上に、ヒータ60が形成されている。ヒータ60は、活性層33に沿って形成されている。ヒータ60と活性層33の間隔は数μmである。
 ヒータ60は、例えばTi製のヒータ本体92と、ヒータ本体92の両端に設けられたヒータ電極94によって形成されている。このヒータ電極94は、ヒータ駆動ユニット64に接続されている。
 熱電冷却素子6には、熱電冷却素子6の温度を検出する温度センサ8が搭載されている。そして、熱電冷却素子6及び温度センサ8は、温度制御ユニット10に接続されている。
 温度制御ユニット10は、光利得制御ユニット66の命令に従って、温度センサ8の出力を帰還信号として、熱電冷却素子6の温度を一定値(例えば、10℃)に固定する。
 従って、熱電冷却素子6に接するSOA2の裏面(第1の電極70)の温度も、この一定値(例えば、10℃)に固定される。
 一方、活性層33は、直近に設けられたヒータ60によって加熱される。このため、ヒータ60に供する電力を調整することによって、活性層33の温度を所望の値に設定することが可能になる。
 この時の活性層33の温度変化は速く、数μ秒で所望の温度に活性層33の温度を到達させること可能である。SOA2の光利得及び飽和光出力は、活性層33の温度に依存する。従って、本実施の形態に従う光増幅制御装置62によれば、光利得をμ秒オーダの高速で変化させることが可能になる。
  (ii)光利得制御ユニットの制御
 光利得制御ユニット66が実行する制御は、基本的には、実施の形態1乃至4に従う光利得制御ユニット35,44,50,56が実行する制御と同じである。
 但し、冷却加熱器62を動作させる動作点が、冷却加熱器62の温度(T)ではなく、ヒータ60に供給される電流値(J)である点で、本光利得制御ユニット66の制御は、実施の形態1乃至4に従う光利得制御ユニット35,44,50,56の制御と相違する。
 すなわち、本光利得制御ユニット66が第2の制御に従って冷却加熱器62を制御する動作点は、冷却加熱器62の温度(T)ではなく、ヒータ60に供給される電流(J)である。
 また、本光利得制御ユニット66が、第3の制御に従って冷却加熱器62の動作を帰還制御する物理量が、ヒータ60に供給される電流である点でも、本光利得制御ユニット66が実行する制御は、実施の形態1乃至4に従う光利得制御ユニットが実行する制御と相違する。
 尚、ヒータ60に電流を供給するヒータ駆動ユニット64の動作は、光利得制御ユニット66によって制御される。
 なお、光利得制御ユニット66は、SOA2をAPC制御するものでも、或いはAGC制御するものであってもよい。また、光利得制御ユニット66は、SOA2に供給する駆動電流(J)は一定に保って、冷却加熱器62の動作点を変化させる制御装置(実施の形態1又は3参照)であってもよい。或いは、光利得制御ユニット66は、SOA2の設定電流(J)も変化させる制御装置(実施の形態2又は4参照)であってもよい。
  (iii)ルックアップテーブル
 図24は、実施の形態5に従う光利得制御ユニットに記録されるルックアップテーブル68の一例である。ルックアップテーブル68は、冷却加熱器62の温度が25℃の保たれた状態で使用するためのものである。
 図24に示すように、ルックアップテーブル68には、SOA2を非出力飽和状態で動作させ且つSOA2の光利得を目標とする光利得(目標光利得)に一致させる、SOA2の駆動電流(J)及び冷却加熱器62の動作点の組合せが記録されている。ここで、冷却加熱器62の動作点は、冷却加熱器62の温度(T)ではなく、ヒータ60に供給される電流(設定ヒータ電流)である。
 図25は、実施の形態5に従う光利得制御ユニットに記録されるルックアップテーブル66の他の例である。
 このルックアップテーブルには、SOA2の光利得を目標とする光利得(目標光利得)に一致させ、且つSOA2の出力光強度を目標とする出力光強度(目標光出力)に一致させるための、SOA2の駆動電流及びヒータに供給する電流が記録されている。
 ここで、設定電流及び設定ヒータ電流とは、SOA2の駆動電流及びヒータに供給する電流のことである。
 図25に示すルックアップテーブルを使用する場合、冷却加熱器62の温度は、10℃に保たれる必要がある。
  (2)動 作
 次に、本光増幅制御装置58で実行されるSOA2の制御方法に従って、光増幅制御装置58の動作を説明する。
 光増幅制御装置58で実行されるSOA2の制御方法は、実施の形態1乃至4で実行されるSOA2の制御方法の何れと同種であってもよい。しかし、全ての制御方法について説明することは煩雑なので、実施の形態2で実行される制御方法(APC制御)についてだけ説明する。
 図26及び図27は、本光増幅制御装置58で実行される上記制御方法の手順を説明するフロー図である。
 本制御方法の手順は、実施の形態2に於いて図14及び図15を参照して説明した制御手順と、ステップS150、ステップS170、及びステップS180が相違し、他のステップは略同じである。但し、温度制御ユニット10が、常に、熱電素子6の温度を一定値(例えば、10℃)に保持する点で、本制御手順は、実施の形態2で実施される制御手順と相違する。
 従って、これらのステップについて説明し、他のステップの説明は省略する。
  (i)ステップS150
 本ステップでは、光利得制御ユニット66が、ルックアップテーブル68から設定電流(J)及び設定ヒータ電流(J)を読み出す。その他の点では、本ステップは、実施の形態2のステップS150と略同じである。
  (ii)ステップS170
 本ステップでは、ステップS150で特定した、ヒータ60に供給すべき電流(設定ヒータ電流J)と本ステップの実行前にヒータ60に供給されていた電流(例えば、0mA)を、光利得制御ユニット42が比較する。
 比較の結果、両者が一致した場合には、光利得制御ユニット42は、ヒータ60に供給すべき電流(例えば、0mA)を維持する。
 一方、両者が一致しない場合には、光利得制御ユニット42は、ステップS150で特定した、ヒータ60に供給すべき電流(例えば、150mA)にヒータ60を保持する。
  (iii)ステップS180
 本ステップで実行される冷却加熱器62のフィードバック制御は、フィードバック制御する物理量が、SOA2の温度(冷却加熱器62)の温度ではなく、ヒータ60に供給する電流である。
 その他の点では、本ステップは、実施の形態2のステップS180と略同じである。
 上述したように、ヒータ60に供給する電流を調整することによって、SOA2の光利得(及び飽和光出力)をμ秒のオーダで変化することができる。
 従って、本光増幅制御装置58によれば、SOAを高速で制御することが可能になる。
  (実施の形態6)
 本実施の形態は、実施の形態5に於いて冷却加熱器がSOA2の中央部をより高温に加熱する光増幅制御装置(光増幅器モジュール)に関する。
 SOAの飽和光出力は、SOA内を伝播する増幅光の強度が大きくなる光の出射端近傍98における活性層33の状態によって決まる。すなわち、光の出射端近傍98の温度が低い方が、飽和光出力は大きくなる。
 一方、SOA2のノイズは、増幅された自然放出光(Amprifyied Spontaneous Emission;ASE)の主たる発生場所である、光の入射端近傍96における活性層33の状態によって決まる。すなわち、光の入射端近傍96の温度が低い方が、SOAのノイズは小さくなる。
 本実施の形態に従う光増幅制御装置のヒータは、SOAの光の入射端96及び出射端98より内側を、入射端及び出射端より高温に加熱できるように形成されている。従って、本実施の形態に従う光増幅制御装置によれば、増幅光の光強度を大きくすることが可能であり、且つ増幅光のノイズを小さくすることが可能になる。
 入射端96の近傍及び出射端98の近傍より内側を高温にするためには、ヒータ60の両端をSOAの入射端96及び出射端98から、例えば100μm離して形成すればよい(図21参照)。
 或いは、SOA2に設けられるヒータが、SOA2の光の入射端側、内側、及び光の出射端側に配置された3つの部分に分割されていてもよい。
 図28は、このようなヒータ(分割ヒータ)100がSOA2に設けられた状態を説明する平面図である。図29は、図28のA-A線に於ける断面を矢印の方向から見た図である。
 図28及び図29に示すように、上記ヒータ100は、光入力端側ヒータ102、内側ヒータ104、及び光出力端側ヒータ106によって形成されている。ここで、光入力端側ヒータ102及び光出力端側ヒータ106の長さは、例えば100μmである。一方、内側ヒータ104の長さは、500μmである。
 本実施の形態に従う光増幅制御装置の構成は、冷却加熱器を形成するヒータ62が上述したヒータによって形成される点を除き、実施の形態5従う光増幅制御装置の構成と略同じである。但し、分割ヒータ100によって冷却加熱器36が形成される場合、光入力端側ヒータ102及び光出力端側ヒータ106を駆動するためのヒータ駆動ユニットが、内側ヒータ104を駆動するためのヒータ駆動ユニット64とは別に設けられる。
 本実施の形態に従う光増幅制御装置の動作(及び、SOAの制御方法)は、実施の形態5に従う光増幅制御装置の動作(及び、SOAの制御方法)と略同じである。
 但し、図28及び図29を参照して説明したヒータ100によって形成される冷却加熱器を使用する場合には、ヒータ駆動ユニット64は内側ヒータ104を駆動する。一方、光入力端側ヒータ102及び光出力端側ヒータ106には、他のヒータ駆動ユニット(図示せず)から、内側ヒータ104に供給される電流より少ない電流が供給される。
(実施の形態7)
 本実施の形態は、上記実施の形態の何れかに記載の光増幅制御装置を具備する光伝送装置に関する。
  (1)構 成
 図30は、本実施の形態に従う光伝送装置(トランシーバ)の構成の一例を説明するブロック図である。
 本実施の形態に従う光伝送装置(トランシーバ)108は、例えば、入射した光信号114を増幅する第1の光増幅制御装置118と、出力される光信号110を増幅する第2の光増幅制御装置120を具備している。
 また、本実施の形態に従う光伝送装置(トランシーバ)108は、出力される光信号110を生成し出射する光送信装置112と入射した光信号114を受信し複合する光受信装置116を備えている。
 ここで、光送信装置112は、例えば変調器集積型半導体レーザであり、送信データ(電気信号)122を光信号に光電変換する。また、光受信装置116は、入射した光信号114を光電変換する光検出器と、この光検出器の出力を複合する符号判定回路を具備している。この符号判定回路は、複合した受信データ信号(電気信号)124を出力する。
 そして、本実施の形態に従う光伝送装置108(トランシーバ)は、光送信装置112が生成し出射した光信号を、第1の光増幅制御装置120によって増幅してから出力する。
 また、本光伝送装置(トランシーバ)108では、入射した光信号114を、第2の光増幅制御装置118によって増幅してから、光受信装置116で受信及び復号する。
 ここで、第1及び第2の光増幅制御装置118及び120はAPC制御される。
 また、本光伝送装置(トランシーバ)108は、光送信装置112、光受信装置116、並びに第1及び第2の光増幅制御装置118,120の動作を、外部制御信号128の命令に従って制御する制御ユニット126を具備している。
 また、本光伝送装置(トランシーバ)108は、第1の光増幅制御装置118で発生した、増幅された自然放出光(ASE)を除去する光波長フィルタ130を具備している。
 尚、本光伝送装置(トランシーバ)108内おける信号光の伝播経路は、光ファイバによって形成されている。
  (2)動 作
 次に、本光伝送装置(トランシーバ)108の動作が説明される。
 本実施光伝送装置(トランシーバ)108に入射した光信号114は、制御ユニット126の命令に従う第1の光増幅制御装置118によって所定の光強度に増幅される。
 第1の光増幅制御装置118によって増幅された光信号114は、光波長フィルタ130によって、増幅された自然放出光(ASE)が除去され、光受信装置116によって受信される。
 その後、光受信装置116が、制御ユニット126の命令に従って、受信した光信号114を光電変換し、更に復号してから、受信データ信号(電気信号)124として出力する。
 一方、光送信装置112は、制御ユニット126の命令に従い、外部から供給される送信データ信号(電気信号)122を、光信号110に変換し出力する。第2の光増幅制御装置120は、制御ユニット126の命令に従って、光送信装置112が出射した光信号を所定の光強度に増幅し出力する。
 本実施の形態に従う光伝送装置は、実施の形態1乃至6に従う光増幅制御装置によって信号光を増幅するので、信号光の光強度を大きくすることができる。従って、本実施の形態に従う光伝送装置は出力(送信光の強度)が大きく、しかも入力光(受信光の強度)に対する感度が高い。
 なお、上記例は、光信号の送信と受信の双方を行う光伝送装置(所謂、トランシーバ)に関するものである。しかし、実施の形態1乃至6に従う光増幅制御装置は、光信号の送信だけを行う光伝送装置(所謂、トランスミッタ)や光信号の受信だけを行う光伝送装置(所謂、レシーバ)に適用されてもよい。
 また、実施の形態2又は4に従う光増幅制御装置は、インライン用の光増幅装置すなわち光中継器(トランスポンダ)に適用されてもよい。
 上述した各光伝送装置によってメトロアクセス系ネットワークやデータコムを構築すると、システムを小型で低価格なものにすることができる。
 尚、パターン効果の抑制効果を増大させるため、上記実施の形態1乃至6を形成するSOA2に信号光とは波長の異なる光を注入してもよい。

Claims (20)

  1.  半導体光増幅器と、
     前記半導体光増幅器の温度を調整する温度調整ユニットと、
      前記温度調整ユニットを制御して、前記半導体光増幅器の温度を調整し、前記半導体光増幅器の光利得を変化させる光利得制御ユニットとを、
     具備する光増幅制御装置。
  2.  請求項1に記載の光増幅制御装置において、
     前記半導体光増幅器に駆動電流を印加する駆動ユニットを更に有し、
     前記光利得制御ユニットは、前記駆動ユニットと前記温度調整ユニットとを制御して、前記半導体光増幅器の光利得を変化させることを特徴とする光増幅制御装置。
  3.  請求項2に記載の光増幅制御装置において、
     前記光利得制御ユニットは、
     前記半導体光増幅器に発生させようとする光利得の目標値に基づいて、前記駆動電流と前記温度を決定し、前記決定した駆動電流及び前記温度に基づいて、前記駆動ユニットと前記温度調整ユニットを制御することを特徴とする光増幅制御装置。
  4.  請求項3に記載の光増幅制御装置において、
     前記光利得制御ユニットは、前記駆動ユニットと前記温度調整ユニットを制御して、前記光利得を変化させた後、前記半導体光増幅器の出力に基づいて、前記温度調整ユニットの温度を再設定し、前記駆動電流及び前記再設定した温度に基づいて、前記駆動ユニットと前記温度調整ユニットを再制御して、前記前記半導体光増幅器の光利得を再度変化させることを特徴とする光増幅制御装置。
  5.  請求項3又は4に記載の光増幅制御装置において、
     前記光利得の目標値は、前記半導体光増幅器に出力させようとする出力光強度と前記半導体光増幅器に入射している入力光の光強度の比であることを特徴とする光増幅制御装置。
  6.  請求項3乃至5のいずれか1項に記載の光増幅制御装置において、
     前記光利得制御ユニットは、
     前記光利得の値ごとに、前記駆動電流情報及び前記温度情報を記憶する記憶部を有し、
     前記記憶部を参照して、前記光利得の目標値に対応する前記駆動電流情報及び前記温度情報に基づき、前記駆動電流及び前記温度を決定することを特徴とする光増幅制御装置。
  7.  請求項6に記載の光増幅制御装置において、
     前記記憶部は、前記半導体光増幅器に入射する入力光の波長帯それぞれについて、前記光利得の値ごとに、前記駆動電流情報及び前記温度情報を記憶していることを特徴とする光増幅制御装置。
  8.  請求項6又は7に記載の光増幅制御装置において、
     前記記憶部は、前記光利得の値ごとに異なる温度情報を記憶していることを特徴とする光増幅制御装置。
  9.  請求項8に記載の光増幅制御装置において、
     前記記憶部は、前記光利得の値ごとに同じ駆動電流情報を記憶していることを特徴とする光増幅制御装置。
  10.  請求項8に記載の光増幅制御装置において、
     前記記憶部は、前記光利得の値ごとに異なる駆動電流情報を記憶していることを特徴とする光増幅制御装置。
  11.  請求項1乃至10の何れか1項に記載の光増幅制御装置において、
     前記温度調整ユニットは、前記半導体光増幅器を搭載する熱電冷却素子であることを
     特徴とする光増幅制御装置。
  12.  請求項1及び10の何れか1項に記載された光増幅制御装置において、
     前記温度調整ユニットは、前記半導体光増幅器に設けられたヒータと、前記半導体光増幅器を搭載する熱電冷却素子であることを
     特徴とする光増幅制御装置。
  13.  請求項12に記載の光増幅制御装置において、
     前記ヒータは、前記半導体光増幅器の光の入射端及び出射端より内側を、前記入射端及び前記出射端より高温に加熱できるように形成されていることを
     特徴とする光増幅制御装置。
  14.  半導体光増幅器と、
     前記半導体光増幅器の温度を調整する温度調整ユニットと、
     前記温度調整ユニットを制御して、前記半導体光増幅器の温度を調整し、前記半導体光増幅器の光利得を変化させる光利得制御ユニットとを有する光増幅制御装置を具備し、
     前記光増幅制御装置による、入射した光信号の増幅及び出力される光信号の増幅の何れか一方又は双方を実行する、
     光伝送装置。
  15.  請求項14に記載の光伝送装置において、
     前記光増幅制御装置を複数備え、
     光信号を生成し出射する光送信装置と光信号を受信し複合する光受信装置を備え、
     前記光送信装置が出射した光信号を、一の前記光増幅制御装置によって増幅してから出力し、
     前記入射した光信号を、他の前記光増幅制御装置によって増幅してから、前記受信装置で受信することを、
     特徴とする光伝送装置。
  16.  半導体光増幅器の温度を変化させ、前記半導体光増幅器の光利得を調整する光利得制御ステップを具備する、
     半導体光増幅器の制御方法。
  17.  請求項16に記載の半導体光増幅器の制御方法において、
     前記光利得制御ステップは、
     前記半導体光増幅器に駆動電流を印加しながら、前記温度を変化させることを特徴とする半導体光増幅器の制御方法。
  18.  請求項17に記載の半導体光増幅器の制御方法において、
     前記光利得制御ステップは、前記半導体光増幅器に発生させようとする光利得の目標値に基づいて、前記駆動電流と前記温度を決定し、前記決定した駆動電流を前記半導体光増幅器に印加しながら前記半導体光増幅器を前記決定した温度に調整することを特徴とする光増幅器の制御方法。
  19.  請求項18に記載の半導体光増幅器の制御方法において、
     前記半導体光増幅器の光利得を調整した後、更に、前記半導体光増幅器の出力に基づいて、前記半導体光増幅器の温度を再調整し、前記前記半導体光増幅器の光利得を再調整することを特徴とする光増幅器の制御方法。
  20.  請求項18又は19に記載の半導体光増幅器の制御方法において、
     前記光利得の値ごとに、駆動電流情報及び温度情報を記憶する記憶部を参照して、前記光利得の目標値に対応する前記駆動電流情報及び前記温度情報に基づき、前記駆動電流及び前記温度を決定することを特徴とする光増幅器の制御方法。
PCT/JP2008/002789 2008-10-03 2008-10-03 光増幅制御装置、半導体光増幅器の制御方法、及び光伝送装置 WO2010038262A1 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010531658A JP5381993B2 (ja) 2008-10-03 2008-10-03 光増幅制御装置、半導体光増幅器の制御方法、及び光伝送装置
PCT/JP2008/002789 WO2010038262A1 (ja) 2008-10-03 2008-10-03 光増幅制御装置、半導体光増幅器の制御方法、及び光伝送装置
CN200880131443.7A CN102171896B (zh) 2008-10-03 2008-10-03 光放大控制装置、半导体光放大器控制方法及光传送设备
GB1105536.5A GB2476203B (en) 2008-10-03 2008-10-03 Optical amplification control apparatus, method for controlling semiconductor optical amplifier, and optical transmission equipment
US13/048,345 US8736956B2 (en) 2008-10-03 2011-03-15 Optical amplification control apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/JP2008/002789 WO2010038262A1 (ja) 2008-10-03 2008-10-03 光増幅制御装置、半導体光増幅器の制御方法、及び光伝送装置

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
US13/048,345 Continuation US8736956B2 (en) 2008-10-03 2011-03-15 Optical amplification control apparatus

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2010038262A1 true WO2010038262A1 (ja) 2010-04-08

Family

ID=42073057

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2008/002789 WO2010038262A1 (ja) 2008-10-03 2008-10-03 光増幅制御装置、半導体光増幅器の制御方法、及び光伝送装置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US8736956B2 (ja)
JP (1) JP5381993B2 (ja)
CN (1) CN102171896B (ja)
GB (1) GB2476203B (ja)
WO (1) WO2010038262A1 (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012109498A (ja) * 2010-11-19 2012-06-07 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 光増幅器
JP2013098365A (ja) * 2011-11-01 2013-05-20 Fujitsu Ltd 発光装置及びその制御方法
JP2016039623A (ja) * 2014-08-12 2016-03-22 日本電信電話株式会社 光信号増幅装置
JP2018046210A (ja) * 2016-09-15 2018-03-22 住友電工デバイス・イノベーション株式会社 光半導体装置及び光半導体装置の制御方法

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102035596A (zh) * 2009-09-25 2011-04-27 中兴通讯股份有限公司 一种光信号的放大和动态调整方法及装置
JP2013197200A (ja) * 2012-03-16 2013-09-30 Sumitomo Electric Device Innovations Inc 受光装置の制御方法及び通信制御方法
US9685762B1 (en) * 2014-09-30 2017-06-20 Aurrion, Inc. Semiconductor optical amplifier with gain flattening filter
US9398647B2 (en) * 2014-12-08 2016-07-19 Phoseon Technology, Inc. Automatic power controller
EP3051692A1 (en) * 2015-01-30 2016-08-03 Alcatel Lucent Optical device with semiconductor optical amplifier with automatic current supply control
JP6608747B2 (ja) * 2016-03-25 2019-11-20 富士通株式会社 波長多重光受信装置及びその駆動方法
CN106410603A (zh) * 2016-06-22 2017-02-15 无锡市德科立光电子技术有限公司 在线调整半导体光放大器性能参数的方法和装置
CN109547871B (zh) 2017-09-21 2022-07-15 中兴通讯股份有限公司 无源光网络上行光的放大方法及网络单元
CN108710716B (zh) * 2018-03-29 2022-03-15 中国联合网络通信集团有限公司 一种光传输系统中光放站的设计图纸生成方法和装置
CN110505017A (zh) * 2019-06-10 2019-11-26 北京见合八方科技发展有限公司 一种可插拔光模块式的半导体光纤放大装置
US11588302B2 (en) * 2019-06-21 2023-02-21 Seagate Technology Llc Optical switches
EP4037114B1 (en) * 2019-09-26 2024-05-01 Nippon Telegraph And Telephone Corporation Optical transmitter
US11799552B2 (en) * 2020-08-06 2023-10-24 Electronics And Telecommunications Research Institute Optical network using optical amplifier in gain saturation region
FR3127345A1 (fr) * 2021-09-17 2023-03-24 L’AIR LIQUIDE Société Anonyme pour l’Etude et l’Exploitation des Procédés Georges Claude Dispositif d’amplification large bande par composants controles en temperature

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0425822A (ja) * 1990-05-21 1992-01-29 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 光増幅器
JP2002208758A (ja) * 2001-01-09 2002-07-26 Fujitsu Ltd 光増幅装置
JP2006114774A (ja) * 2004-10-15 2006-04-27 Mitsubishi Electric Corp 波長安定化半導体レーザ装置

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5337176A (en) * 1992-03-25 1994-08-09 U. S. Philips Corporation Optical amplifier with improved linearity
JP3990745B2 (ja) 1995-09-06 2007-10-17 アンリツ株式会社 半導体光モジュール
JP3267263B2 (ja) 1999-02-09 2002-03-18 日本電気株式会社 電子冷却装置
JP4048635B2 (ja) 1999-02-23 2008-02-20 住友電気工業株式会社 波長分割多重通信システム及び光源
JP3903650B2 (ja) * 1999-06-18 2007-04-11 住友電気工業株式会社 光増幅器および光増幅器制御方法
WO2002093701A1 (en) * 2001-05-15 2002-11-21 Agility Communications, Inc. Controller calibration for small form factor sampled grating distributed bragg reflector laser
JP3642738B2 (ja) 2001-02-07 2005-04-27 日本電信電話株式会社 光パワーレベル等化回路
AU2002329171A1 (en) * 2001-03-09 2002-12-23 Axon Photonics, Inc. Multi-function semiconductor optical amplifier
JP2003023208A (ja) 2001-07-05 2003-01-24 Nec Corp 波長可変半導体レーザ

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0425822A (ja) * 1990-05-21 1992-01-29 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 光増幅器
JP2002208758A (ja) * 2001-01-09 2002-07-26 Fujitsu Ltd 光増幅装置
JP2006114774A (ja) * 2004-10-15 2006-04-27 Mitsubishi Electric Corp 波長安定化半導体レーザ装置

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
L. F. TIEMEIJER ET AL.: "Temperature Dependence of a 1300 nm Polarization-Insensitive Multiple Quantum Well Laser Amplifier and Its Implications for the Ultimate Capacity of Cascaded Amplifier System", IEEE PHOTONICS TECHNOLOGY LETTER, vol. 6, no. 11, November 1994 (1994-11-01), pages 1300 - 1302 *

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012109498A (ja) * 2010-11-19 2012-06-07 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 光増幅器
JP2013098365A (ja) * 2011-11-01 2013-05-20 Fujitsu Ltd 発光装置及びその制御方法
JP2016039623A (ja) * 2014-08-12 2016-03-22 日本電信電話株式会社 光信号増幅装置
JP2018046210A (ja) * 2016-09-15 2018-03-22 住友電工デバイス・イノベーション株式会社 光半導体装置及び光半導体装置の制御方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP5381993B2 (ja) 2014-01-08
CN102171896A (zh) 2011-08-31
GB2476203A (en) 2011-06-15
US20110164310A1 (en) 2011-07-07
JPWO2010038262A1 (ja) 2012-02-23
GB201105536D0 (en) 2011-05-18
US8736956B2 (en) 2014-05-27
GB2476203B (en) 2014-01-15
CN102171896B (zh) 2014-07-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5381993B2 (ja) 光増幅制御装置、半導体光増幅器の制御方法、及び光伝送装置
JP3880868B2 (ja) 高い動作温度許容差を有する電気吸収変調レーザ
EP2854241B1 (en) Mopa laser source with wavelength control
US8953650B2 (en) Method to control emission wavelength of tunable laser diode
US8175127B2 (en) System of method for dynamic range extension
Larson et al. Narrow linewidth high power thermally tuned sampled-grating distributed Bragg reflector laser
US9711942B2 (en) Laser apparatus and optical transmitter
JP5074667B2 (ja) 集積型半導体レーザ装置および集積型半導体レーザ装置の駆動方法
US7110170B2 (en) Semiconductor optical amplifier having photo detector and method of fabricating the same
US6704338B2 (en) Semiconductor laser device, semiconductor laser module, and semiconductor laser control method
Yokokawa et al. Over 100 mW Uncooled Operation of SOA-integrated $1.3-\mu\mathrm {m} $ Highly Reliable CW-DFB Laser
WO2011048869A1 (ja) 波長可変レーザ装置、光モジュールおよび波長可変レーザの制御方法
US9601906B2 (en) Wavelength-tunable light source and wavelength-tunable light source module
JP6032601B2 (ja) 半導体光増幅器の制御方法及び測定方法、並びに半導体光増幅装置
US10148061B2 (en) Optical amplifying system and method of controlling the same
US6829285B2 (en) Semiconductor laser device and method for effectively reducing facet reflectivity
EP1241751B1 (en) High power, kink-free, single mode laser diodes
US7081643B2 (en) Gain-clamped semiconductor optical amplifier having horizontal lasing structure and manufacturing method thereof
EP3392986B1 (en) Tunable laser and controlling method therefor
US20050088728A1 (en) Semiconductor optical amplifier and method for manufacturing the same, and optical communication device
CN110998400B (zh) 光发送组件及光模块
Garbuzov et al. High-power 1300-nm Fabry-Perot and DFB ridge-waveguide lasers
JP4570319B2 (ja) 半導体レーザ装置、半導体レーザモジュールおよび半導体レーザ制御方法
JP4979286B2 (ja) 波長変換素子駆動装置
JP2001290114A (ja) 光送信モジュール

Legal Events

Date Code Title Description
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 200880131443.7

Country of ref document: CN

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 08808621

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2010531658

Country of ref document: JP

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 1105536

Country of ref document: GB

Kind code of ref document: A

Free format text: PCT FILING DATE = 20081003

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 1105536.5

Country of ref document: GB

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 08808621

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1