WO2010024182A1 - 培養装置 - Google Patents

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WO2010024182A1
WO2010024182A1 PCT/JP2009/064595 JP2009064595W WO2010024182A1 WO 2010024182 A1 WO2010024182 A1 WO 2010024182A1 JP 2009064595 W JP2009064595 W JP 2009064595W WO 2010024182 A1 WO2010024182 A1 WO 2010024182A1
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WO
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shelf
culture
culture chamber
gas
piece
Prior art date
Application number
PCT/JP2009/064595
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
邦義 小林
毒島　弘樹
菊地　靖寛
玉置　裕一
真司 杉本
桜井　哲男
Original Assignee
三洋電機株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
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Priority to US12/707,122 priority patent/US8216830B2/en
Publication of WO2010024182A1 publication Critical patent/WO2010024182A1/ja
Priority to US13/527,027 priority patent/US8663979B2/en
Priority to US13/527,054 priority patent/US8557572B2/en

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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C12—BIOCHEMISTRY; BEER; SPIRITS; WINE; VINEGAR; MICROBIOLOGY; ENZYMOLOGY; MUTATION OR GENETIC ENGINEERING
    • C12M—APPARATUS FOR ENZYMOLOGY OR MICROBIOLOGY; APPARATUS FOR CULTURING MICROORGANISMS FOR PRODUCING BIOMASS, FOR GROWING CELLS OR FOR OBTAINING FERMENTATION OR METABOLIC PRODUCTS, i.e. BIOREACTORS OR FERMENTERS
    • C12M41/00—Means for regulation, monitoring, measurement or control, e.g. flow regulation
    • C12M41/12—Means for regulation, monitoring, measurement or control, e.g. flow regulation of temperature
    • C12M41/14—Incubators; Climatic chambers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C12—BIOCHEMISTRY; BEER; SPIRITS; WINE; VINEGAR; MICROBIOLOGY; ENZYMOLOGY; MUTATION OR GENETIC ENGINEERING
    • C12M—APPARATUS FOR ENZYMOLOGY OR MICROBIOLOGY; APPARATUS FOR CULTURING MICROORGANISMS FOR PRODUCING BIOMASS, FOR GROWING CELLS OR FOR OBTAINING FERMENTATION OR METABOLIC PRODUCTS, i.e. BIOREACTORS OR FERMENTERS
    • C12M23/00—Constructional details, e.g. recesses, hinges
    • C12M23/48—Holding appliances; Racks; Supports
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C12—BIOCHEMISTRY; BEER; SPIRITS; WINE; VINEGAR; MICROBIOLOGY; ENZYMOLOGY; MUTATION OR GENETIC ENGINEERING
    • C12M—APPARATUS FOR ENZYMOLOGY OR MICROBIOLOGY; APPARATUS FOR CULTURING MICROORGANISMS FOR PRODUCING BIOMASS, FOR GROWING CELLS OR FOR OBTAINING FERMENTATION OR METABOLIC PRODUCTS, i.e. BIOREACTORS OR FERMENTERS
    • C12M37/00—Means for sterilizing, maintaining sterile conditions or avoiding chemical or biological contamination
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C12—BIOCHEMISTRY; BEER; SPIRITS; WINE; VINEGAR; MICROBIOLOGY; ENZYMOLOGY; MUTATION OR GENETIC ENGINEERING
    • C12M—APPARATUS FOR ENZYMOLOGY OR MICROBIOLOGY; APPARATUS FOR CULTURING MICROORGANISMS FOR PRODUCING BIOMASS, FOR GROWING CELLS OR FOR OBTAINING FERMENTATION OR METABOLIC PRODUCTS, i.e. BIOREACTORS OR FERMENTERS
    • C12M41/00—Means for regulation, monitoring, measurement or control, e.g. flow regulation
    • C12M41/12—Means for regulation, monitoring, measurement or control, e.g. flow regulation of temperature
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S435/00—Chemistry: molecular biology and microbiology
    • Y10S435/809—Incubators or racks or holders for culture plates or containers

Definitions

  • the present invention relates to a culture apparatus.
  • This culturing apparatus includes, for example, a shelf on which a culture is placed, a shelf holder that horizontally holds the shelf board, and a plurality of shelf columns that horizontally hold the shelf holder inside the culture chamber. (For example, see Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-275).
  • an object of the present invention is to facilitate dissemination of sterilizing gas to a shelf plate and a shelf holder, and further to a portion where the shelf holder and the shelf support come into contact with each other.
  • FIG. 1 It is the figure of the inner surface of an inner box, the shelf support
  • the culture apparatus 1 includes a shelf plate 43, a shelf holder 42, and a shelf column 41 in the culture chamber 4 b.
  • this culture chamber 4b for example, cultures such as cells and microorganisms are cultured.
  • the culture chamber 4 b is formed inside the inner box 4, and the inner box 4 is accommodated inside the outer box 2 in a state insulated from the outside air.
  • the inner box 4 is a substantially rectangular box made of, for example, stainless steel
  • the outer box 2 is a box made of, for example, stainless steel and substantially similar to the inner box 4.
  • An inner door 4a is provided at an opening on the front side (+ Y side) of the inner box 4 so as to be opened and closed via a predetermined hinge (not shown).
  • the inner door 4a is made of, for example, tempered glass and has a flat plate shape. When the inner door 4a is closed with a packing (not shown) with respect to the opening of the inner box 4, the inside of the inner box 4 becomes airtight with respect to the outside.
  • An outer door 3 is provided at an opening on the front side of the outer box 2 so as to be opened and closed via a predetermined hinge (not shown).
  • the outer door 3 is made of, for example, metal and has a flat plate shape.
  • the shelf plate 43 is a plate member made of, for example, stainless steel for placing the culture.
  • the shelf receiver 42 is a member made of, for example, stainless steel for supporting the shelf plate 43 and holding the shelf plate 43 horizontally (parallel to the XY plane), and is arranged on one side (+ X side) of the culture chamber 4b.
  • the longitudinal direction is disposed in the horizontal direction (Y-axis direction).
  • the shelf receiver 42 and a shelf receiver 42 ′ (see FIG. 8 described later) disposed on the other side surface ( ⁇ X side) of the culture chamber 4b are located at the center between the opposing side surfaces in the culture chamber 4b. They have mirror-symmetric shapes with respect to a plane (not shown) parallel to the side surface.
  • the shelf receivers 42 and 42 ′ are provided as a pair on the left and right sides in the X direction so as to support the shelf plate 43.
  • the description of the shelf receiver 42 ′ is omitted because it is the same as the description of the shelf receiver 42 except for the description with reference to FIG.
  • a heat insulating material (not shown) for heat insulation is provided on the inner surface of the outer box 2, and an air circulation path is provided between the heat insulating material and the inner box 4 for further heat insulation.
  • the air jacket 6 is formed.
  • the air jacket 6 is provided with a heater (not shown) for adjusting the temperature in the culture chamber 4b.
  • a sensor (not shown) for detecting the temperature in the culture chamber 4b is injected on the outer surface of the rear side ( ⁇ Y side) of the outer box 2, and a gas such as carbon dioxide is injected into the culture chamber 4b.
  • a sensor box 7 having a nozzle (not shown) and a sensor (not shown) for detecting the concentration of carbon dioxide or the like in the culture chamber 4b.
  • the outer door 3 includes a metal door body 31 provided with a heat insulating material (not shown) for keeping warm, a heater (not shown) for adjusting the temperature in the culture chamber 4b, and the like, It has packing 33 attached to convex part 31a facing the opening of outer case 2 in door body 31.
  • the outer door 3 further has a control panel 32 on the front side of the door body 31.
  • the control panel 32 has keys (not shown) for setting the temperature in the culture chamber 4b, the concentration of carbon dioxide, and the like, and a display (not shown) for displaying these current values.
  • the air on the shelf plate 43 side above the culture chamber 4b is sucked into the inlet 51a by the rotation of the fan 5a in a certain direction. And then flows into the duct 44 from the upper side to the lower side and is humidified by the humidified water in the humidifying tray 45, and then the humidified air passes through the hole 46a on the front side of the cover 46. Thus, it returns to the shelf plate 43 side.
  • the inside of the culture chamber 4b is maintained at, for example, a substantially uniform temperature, humidity, and gas concentration such as carbon dioxide.
  • the gas generator 47 includes, for example, a tank (not shown) for storing hydrogen peroxide solution (an aqueous solution in which hydrogen peroxide gas is dissolved), and an ultrasonic wave for atomizing the hydrogen peroxide solution in the tank. And a vibrator (not shown).
  • the folding plate 411 is formed into a mountain fold when viewed from the folding plate 411 toward the contact piece 413 with a center line 411a in the width direction (Y-axis direction) orthogonal to the longitudinal direction (Z-axis direction) as a fold. It is a bent plate-shaped member.
  • the bending angle ⁇ shown in FIG. 3A is, for example, 170 degrees.
  • the bent plate 411 has a plurality of rectangular insertion holes 411b along the center line 411a, for example, at regular intervals.
  • the bent plate 411 has a hole 411c having a shape in which circles with different diameters shifted from the center are overlapped at both ends in the Z-axis direction.
  • the pair of side pieces 412 is a plate-like member that is bent while being connected to both side ends along the Y-axis direction of the bending plate 411 and extends substantially in the X-axis direction.
  • the pair of side pieces 412 are bent in a direction in which the gap along the Y-axis direction becomes narrower as the distance from the folding plate 411 to the side surface of the culture chamber 4b decreases.
  • the shelf column 41 has a mountain-shaped cross-sectional shape in which the side surface on the side supporting the pair of shelf receivers 42, 42 'swells in the center, The side surface on the side supporting the receivers 42, 42 'is bent at the center.
  • the shelf support 42 is formed by, for example, punching and bending a single plate member. It is.
  • the shelf receiver 42 includes a vertical plate 421 (the other piece) and a placement piece 422 (one piece). Further, the shelf receiver 42 includes a guide piece 423, a pair of locking pieces 424 and locking pieces 425, and a stop piece 426.
  • the mounting piece 422 is bent in the direction away from the side surface of the culture chamber 4b (ie, the direction approaching the shelf plate 43) ( ⁇ X direction) while being connected to the lower end ( ⁇ Z side end) of the vertical plate 421. It is a plate-like member that forms an angle ⁇ ′ with respect to the vertical plate 421 and extends obliquely upward (+ Z side) from the side surface of the culture chamber 4 b toward the inside, and supports the shelf plate 43.
  • the bending angle ⁇ ′ shown in FIG. 3A is, for example, 80 degrees. That is, as is apparent from FIG. 4A, each of the pair of shelf supports 42 and 42 ′ has a cross-sectional shape in which the angle between the vertical plate 421 and the mounting piece 422 is an acute L-shape. Presents.
  • the guide piece 423 is a plate-like member that is bent in a direction away from the side surface of the culture chamber 4 b while being connected to the upper end (+ Z side end) of the vertical plate 421, and extends orthogonally to the vertical plate 421.
  • the locking piece 424 is a tongue piece defined by three-side gaps 424a, 424b, and 424c at the front end (+ Y side) end of the vertical plate 421 and connected by a fold line 424d on one side, This tongue piece is bent at a fold 424d in a direction approaching the side surface of the culture chamber 4b (+ X direction), and extends in an up-down direction in an L shape.
  • the bottom plate 431 is a plate-like member that is bent 90 ° or more downward ( ⁇ Z side) while connecting to the + Y side end of the 431, and the back piece 434 is connected to the ⁇ Y side end of the bottom plate 431 and 90 ° or more upward. It is a bent plate-shaped member.
  • the bottom plate 431 has a plurality of holes 431a through which air circulating in the culture chamber 4b passes.
  • the two shelf columns 41 are arranged in parallel in the horizontal direction (Y-axis direction) along the side surface of the culture chamber 4 b, and the shelf holder 42 has a height.
  • the locking piece 424 and the locking piece 425 are respectively locked to the pair of equal insertion holes 411b, thereby being held in the horizontal direction along the side surface of the culture chamber 4b.
  • a surface (+ X side) closer to the side surface of the culture chamber 4 b in the pair of contact pieces 413 of the shelf column 41 and the inner surface of the inner box 4 are lines along the longitudinal direction.
  • Each line is in contact with Q.
  • the + X side end of the lower surface of the bottom plate 431 is in line contact with a line T along the front-rear direction (Y-axis direction).
  • the shelf plate 43 is mounted on the pair of shelf receivers 42 and 42 'with a mirror-symmetrical relationship with a plane parallel to the side surface (not shown) at the center between the opposing side surfaces in the culture chamber 4b.
  • the tip of the placement piece 422 ′ at the time of placement placed on the side away from the side surface of the culture chamber 4b (+ X side) and the ⁇ X side end of the lower surface of the bottom plate 431 are in line contact with a line T along the front-rear direction is doing. That is, when the shelf 43 is placed on the pair of shelf receivers 42 and 42 ′, the pair of placement pieces 422 and 422 ′ extends obliquely upward as the distance from the side surfaces of the culture chamber 4 b increases.
  • the shelf plate 43 is held horizontally while both side ends of the lower surface thereof are in line contact with the tips of the placement piece 422 and the placement piece 422 ′.
  • the position of the shelf 43 in the front-rear direction (Y-axis direction) in the culture chamber 4b is the rear end ( ⁇ Y side end) of the bottom plate 431 of the shelf 43. It is determined by making line contact with and abutting on the stop piece 426 of 42. This line contact is due to the back piece 434 of the shelf plate 43 being bent 90 degrees or more upward (+ Z side) while being connected to the rear side end ( ⁇ Y side end) of the bottom plate 431. This line contact also leads to an improvement in the sterilizing effect of the culture apparatus 1 and the like.
  • the pair of mounting pieces 422 and 422 ′ extend obliquely upward as they are separated from the respective side surfaces of the culture chamber 4b (angle ⁇ ′ ( ⁇ 90 degrees in FIG. 4A)).
  • angle ⁇ ′ ⁇ 90 degrees in FIG. 4A
  • the mounting piece 422 is bent so as to be orthogonal to the vertical plate 421, the tip on the side separated from the side surface of the culture chamber 4b is bent again, for example, upward (+ Z side), and the shelf is placed at the tip. It may be in line contact with the lower surface of the bottom plate 431 of the plate 43.
  • the inner surface of the inner box 4, the shelf column 41, the shelf holder 42, and the shelf plate 43 are in line contact with each other with lines P, Q, R, S, and T. Is not to be done.
  • the contact may be a point contact.
  • 10 is a view of the inner surface of the inner box 4, the shelf column 81, and the shelf support 82 as viewed from the same direction as FIG. 7, and
  • FIG. 11 is an inner surface of the inner box 4 in the same cross section as FIG.
  • FIG. 6 is a cross-sectional view of the shelf column 81, the shelf receiver 82, and the shelf board 43.
  • the inner surface of the inner box 4 is in point contact at a point Q ′.
  • a substantially hemispherical protrusion 811a on the surface (parallel to the YZ surface) of the flat plate 811 of the shelf column 81 that is separated from the side surface of the culture chamber 4b (+ X side), and + X of the vertical plate 821 of the shelf support 82 Point contact is made with the side surface at point P ′.
  • the substantially hemispherical protrusion 822 a on the upper surface (parallel to the XY surface) of the mounting piece 822 of the shelf receiver 82 and the + X side end of the lower surface of the bottom plate 431 of the shelf plate 43 are Point contact is made at point T ′′.
  • protrusions 811a, 811b, 813a, and 822a illustrated in FIGS. 10 and 11 are formed with a tool similar in shape to the protrusion from the surface opposite to the side on which the protrusion is formed, for example, with respect to the plate member. What is necessary is just to form by pressing to such an extent that a permite
  • the temperature in the culture chamber and the concentration of gas such as carbon dioxide (CO 2 ) and oxygen (O 2 ) are maintained constant, and the culture chamber is sterilized to culture cultures such as cells and microorganisms. Is done.
  • the gas concentration in the culture chamber is detected by a sensor, and the gas supply into the culture chamber is controlled so that the gas concentration is kept constant.
  • an atmospheric gas mainly composed of air in the culture chamber hereinafter simply referred to as gas
  • the gas concentration is detected by a sensor and then returned to the culture chamber.
  • a suction device such as a pump or a fan is used to suck the gas from the culture chamber into the pipe and return it to the culture chamber again (see, for example, JP-A-2007-259715).
  • the suction device As described above, by using the suction device, the gas in the culture chamber can be forcibly guided to the pipe, and the flow rate of the gas in the pipe can be controlled to a speed suitable for detection by the sensor.
  • the suction device As the suction device is required, the cost and power consumption increase, and if the suction device fails, the gas concentration cannot be detected accurately, making it difficult to maintain a constant gas concentration in the culture chamber. End up. Then, this invention aims at detecting the density
  • a culture chamber 26A The space in the inner box 14A sealed by the inner door 20A is a culture chamber 26A.
  • a shelf 28A having a large number of ventilation holes is provided in the culture chamber 26A, and the container containing the culture is placed on the shelf 28A with the outer door 22A and the inner door 20A being opened. Then, the culture placed on the shelf 28A is cultured in the culture chamber 26A with the outer door 22A and the inner door 20A being closed. During culture, only the outer door 22A is opened, and the inside of the culture chamber 26A can be observed with the inner door 20A closed.
  • a fan (sirocco fan) 32A for circulating the gas in the culture chamber 26A is provided on the back surface 30A in the inner box 14A.
  • a motor 33A for driving the fan 32A is provided in the space 18A.
  • a wall plate 34A is provided so as to cover a part of the fan 32A and the back surface 30A.
  • the wall plate 34A is provided with a suction port 36A in the vicinity of a portion covering the fan 32A, and a duct 38A (air passage) through which the gas sucked from the suction port 36A flows is formed.
  • the gas in the culture chamber 26A is sucked from the suction port 36A above the back surface 30A by the rotation of the fan 32A, flows from the top to the bottom in the duct 38A, and returns to the culture chamber 26A from below the back surface 30A.
  • the gas discharged from the lower portion of the duct 38A flows through the ventilation hole of the shelf 28A from the bottom surface 40A of the inner box 14A toward the top surface 42A, and is sucked again from the suction port 36A. Thereby, the gas in the culture chamber 26A circulates.
  • a flexible tube 56A connection pipe
  • a flexible tube 56A is inserted into the through holes 52A and 54A from the back surface 44A side of the outer box 12A so that the outer periphery of the tube 56A is in close contact with the inner periphery of the through holes 52A and 54A. ing. That is, the gas in the culture chamber 26A can be circulated through the tube 56A.
  • a concentration sensor 58A for detecting the concentration of the CO 2 gas flowing in the tube 56A is provided at a portion of the tube 56A protruding outside the outer box 12A.
  • an infrared type can be used for the density sensor 58A. In the case of the infrared type, by heating the ceramic heater, an infrared ray of about 4.3 ⁇ m absorbed by the CO 2 gas is generated and irradiated to the gas flowing through the tube 56A, and the amount of infrared light that has passed through the gas is received by the light receiving element. By detecting, the concentration of CO 2 gas can be measured.
  • a sensor other than the infrared type such as a heat conduction type, can be used as the concentration sensor 58A.
  • the portion of the tube 56A that protrudes to the outside of the outer box 12A exists in a closed space 61A that is covered with a heater 60A (heating device).
  • the temperature is maintained at about 37 ° C. and the humidity is about 95%.
  • the inside of the tube 56A may be condensed. Therefore, the inside of the closed space 61A where the portion protruding outside the outer box 12A of the tube 56A exists is heated and maintained at about 45 ° C., for example, by the heater 60A.
  • the temperature inside the closed space 61A constant, there is an effect of making the sensitivity of the density sensor 58A constant.
  • the injection port 48A is disposed upstream of the through holes 52A and 54A in the gas flow direction in the duct 38A.
  • the injection port 48A is disposed so as to inject CO 2 gas toward the left side toward the back surface 30A at a position shifted to the left side toward the back surface 30A from the position connecting the fan 32A and the through holes 52A and 54A. ing. That is, the CO 2 gas is injected from the injection port 48A in a direction different from the flow direction of the gas circulating in the culture chamber 26A.
  • the CO 2 gas injected from the injection port 48A flows downward from the inside of the duct 38A while being mixed with the gas sucked from the suction port 36A by the air flow of the fan 32A, and is supplied to the culture chamber 26A. Since the injection port 48A is disposed at a position close to the fan 32A, the CO 2 gas injected from the injection port 48A is easily stirred, and a response when adjusting the concentration of the CO 2 gas in the culture chamber 26A. The sex can be improved. Further, since the direction in which the CO 2 gas is injected from the injection port 48A is different from the direction of gas flow in the duct 38A, the high-concentration CO 2 gas injected from the injection port 48A passes through the through holes 52A and 54A. Direct flow into the vicinity is suppressed, and the detection accuracy of the concentration of CO 2 gas in the culture chamber 26A can be improved.
  • the graph shown by the solid line in FIG. 15 shows the CO when the outer door 22A and the inner door 20A are opened for 30 seconds and then closed from the state where the CO 2 gas concentration in the culture chamber 26A is maintained at about 5%. It shows a transition of 2 gas concentration.
  • the graph shown with the continuous line of FIG. 16 makes the open time of the outer door 22A and the inner door 20A 60 seconds.
  • the graphs shown by the broken lines in FIGS. 15 and 16 are the same as those of the culture apparatus 10A except that a pump is provided that sucks the gas in the culture chamber 26A from the through hole 52A and returns it to the through hole 54A. Shows the transition of the CO 2 gas concentration.
  • the control device 72A controls the opening and closing of the valve 70A based on the detection value of the concentration sensor 58A, thereby returning the CO 2 gas concentration in the culture chamber 26A to about 5%.
  • the time for the CO 2 gas concentration to return to about 5% after the outer door 22A and the inner door 20A are closed is also used in the culture apparatus 10A of this embodiment that does not include a pump. It is almost the same as the configuration provided.
  • the culture apparatus 10A does not include a suction device such as a pump, the gas flows through the tube 56A at a speed suitable for detection by the concentration sensor 58A, and the CO 2 gas concentration can be detected with high accuracy.
  • the duct 38A is provided on the back surface 30A side of the inner box 14A, but may be provided on the side surface side.
  • the fan 32A may be disposed on the top surface 42A of the inner box 14A, and the through holes 52A and 54A may be provided on the back surface 30A or the side surface of the inner box 14A. Further, the through holes 52A and 54A may be provided on the top surface of the inner box 14A.
  • the through holes 52A and 54A are arranged on the same straight line as viewed from the fan 32A, but may not be on the same straight line as long as the flow rates are different. Further, the through holes 52A and 54A may be provided on different surfaces instead of the same surface in the inner box 14A.
  • pillar 41, shelf receptacles 42 and 42 ', and the shelf board 43 of 1st Embodiment are fully sterilized with sterilization gas in the inner box 14A. It may be adopted.
  • the culture apparatus for culturing a culture such as cells and microorganisms in a culture chamber.
  • the culture apparatus includes a fan that circulates air in the culture chamber and a duct that guides the air circulated in the culture chamber from the upper side to the lower side of the culture chamber.
  • a fan circulates the air in the culture chamber to maintain a uniform concentration of gas such as carbon dioxide in the air in the culture chamber, or to maintain a uniform temperature higher than the outside air temperature in the culture chamber, for example.
  • gas such as carbon dioxide
  • air discharged downward from the duct with a fan as a driving force for example, by turning upward the direction of the airflow at the water surface of the humidifying tray placed on the bottom surface of the culture chamber, The humidity of the culture placed in this updraft is maintained.
  • hydrogen peroxide (H 2 O 2 ) gas having a sterilizing effect is generated in order to sterilize the previous culture or bacteria caused by this, and the culture chamber is filled with hydrogen peroxide gas at a predetermined concentration. It may satisfy and maintain this state for a predetermined time.
  • a gas generator that generates hydrogen peroxide gas has been disclosed (for example, see Japanese Patent Application No. 2007-259715).
  • This gas generator has a tank in which hydrogen peroxide solution (aqueous solution in which hydrogen peroxide is dissolved) is stored and an ultrasonic vibrator that atomizes the hydrogen peroxide solution to generate gas. Hydrogen peroxide gas is generated by the vibration of the sonic transducer.
  • the humidifying tray used at the time of culturing was removed from the bottom surface of the culture chamber, and a gas generator filled with a hydrogen peroxide solution was placed on the bottom surface and sealed.
  • the ultrasonic vibrator of the gas generator is operated for a predetermined time in the culture chamber.
  • FIG. 17 is a side sectional view of an example of the culture device 1B of the third embodiment.
  • FIG. 18A is a plan view of an example of the gas generator 10B of the third embodiment.
  • FIG. 18B is a partial cross-sectional view taken along the line AA ′ of the gas generator 10B of FIG.
  • FIG. 19 is an enlarged view of the gas generator 10B of FIG. 17 and the vicinity thereof.
  • the culture apparatus 1B includes a duct 43B, a fan 5Ba, and a gas generator 10B.
  • this culture apparatus 1B cultures cultures, such as a cell and a microorganism, in the culture chamber 4Bb of the inner box 4B.
  • the inner box 4B is a substantially rectangular box made of, for example, stainless steel, and a culture chamber 4Bb is formed therein.
  • the inner box 4B is provided with an inner door 4Ba whose opening can be opened and closed via a predetermined hinge (not shown).
  • the inner door 4Ba is made of, for example, tempered glass and has a flat plate shape.
  • the culture chamber 4Bb illustrated in FIG. 17 is partitioned in the vertical direction (Z-axis direction) by a plurality of, for example, stainless steel shelves 42B for placing the culture.
  • the shelf 42B has a plurality of holes (not shown) penetrating in the vertical direction, and is supported by, for example, a stainless steel shelf receiver 41B provided in pairs on the inner surface of the inner box 4B on the ⁇ X side. .
  • the duct 43B is composed of, for example, a rear side wall ( ⁇ Y side) of the inner box 4B and a stainless steel wall plate 5B, and forms an air passage between them.
  • the wall plate 5B illustrated in FIG. 17 is divided into an upper upper end portion 51B, a central portion 52B, and a lower lower end portion 53B.
  • the upper end 51B is shaped to surround the fan 5Ba with a predetermined distance from the blades and has a suction port 51Ba.
  • the central portion 52B has a horizontal section (X, Y axis direction) having a portion that contacts the inner surface of the rear side of the inner box 4B on the ⁇ X side and a portion that faces the inner surface with a certain distance therebetween. It has a U shape.
  • the lower end 53B is a short piece that is bent at the lower end of the flat plate portion along the vertical direction and extends in the horizontal direction + Y side, and is separated from the bottom surface of the inner box 4B by a predetermined distance in the vertical direction.
  • an ultraviolet lamp 5Bb for irradiating the air passing through the duct 43B with ultraviolet rays is attached to the inner surface of the duct 43B illustrated in FIG. 17 (on the ⁇ Z side) and the rear side of the inner box 4B.
  • the fan 5Ba is, for example, a sirocco fan provided with the Y-axis direction as a rotation axis with respect to the inner surface of the upper side (+ Z side) of the duct 43B and the rear side of the inner box 4B.
  • a predetermined power source such as a motor
  • the air in the culture chamber flows into the duct 43B through the suction port 51Ba, and flows in the duct 43B from above to below.
  • a circulation path returning to the culture chamber through the opening below 43B is formed.
  • the inner box 4B described above is accommodated in an outer box 2B having a substantially rectangular shape made of, for example, stainless steel.
  • the outer box 2B is a box made of, for example, metal and substantially similar to the inner box 4B, and a heat insulating material (not shown) for heat insulation is provided inside thereof.
  • a heat insulating material (not shown) for heat insulation is provided inside thereof.
  • an air jacket 6B as an air circulation path is formed for further heat insulation.
  • the air jacket 6B has a temperature in the culture chamber 4Bb.
  • a heater (not shown) for adjustment is attached.
  • the outer box 2B is provided with an outer door 3B that can be opened and closed through a predetermined hinge (not shown).
  • the outer door 3B includes a metal door body 31B provided with a heat insulating material (not shown) for heat insulation, a heater (not shown) for adjusting the temperature in the culture chamber 4Bb, and the like, and the door. It has packing 33B attached to convex part 31Ba facing the opening of outer box 2B in main part 31B.
  • the outer door 3B further has a control panel 32B on the front side of the door body 31B.
  • the control panel 32B has, for example, a key for setting the temperature in the culture chamber 4Bb, the concentration of carbon dioxide, a display for displaying these current values, etc., and the temperature, concentration, etc. It has a control part (not shown) which controls a sensor etc. for detecting this.
  • a sensor for example, a sensor (not shown) for detecting the temperature in the culture chamber 4Bb, a sensor (not shown) for detecting the concentration of carbon dioxide, a heater (not shown)
  • a sensor box 7B having an illustration) is provided on the outer surface on the rear side of the outer box 2B.
  • These sensors are attached from the outside of the outer box 2B through, for example, a hole (not shown) drilled from the outer surface on the rear side of the outer box 2B to the inner surface on the rear side of the inner box 4B.
  • these sensors are electrically connected to the control unit included in the control panel 32B described above via predetermined wiring (not shown).
  • This control unit controls the operation of the heater, the fan 5Ba, the ultrasonic vibrator 15B of the gas generator 10B, and the like. Further, the outer surface of the rear side of the outer box 2B and the sensor box 7B are covered with a cover 21B having a heat insulating material (not shown) on the inner side.
  • the gas generator 10B of the present embodiment includes a tank 14B in which hydrogen peroxide solution is stored, and a gas ( And an opening 121B of the tank 14B.
  • the opening 121B has an inlet 121Ba for introducing air into the tank 14B, and hydrogen peroxide gas from the tank 14B. It is divided into the discharge port 121Bb which discharges
  • the suppression plate 13B, the locking pin 13Ba, and the ultrasonic transducer 15B illustrated in FIG. 18B and FIG. 19 are not a cross-section at AA ′ but an X-axis for convenience of the following description. It represents the side as seen in the direction.
  • a substantially rectangular opening top plate 12B made of metal has a tank 14B with an ultrasonic transducer 15B attached downward ( ⁇ Z side) and an opening 121B upward (+ Z side).
  • a wiring connector 19B for supplying power from a power source is attached to the side surface on the + X side of the open housing 11B.
  • the space defined by the opening top plate 12B to which the tank 14B is attached and the opening housing 11B is airtight to the outside.
  • an ultrasonic transducer 15B, a control board 16B that controls the operation of the ultrasonic transducer 15B, a wiring 17B that electrically connects the ultrasonic transducer 15B and the control board 16B, and a control A wiring 18B that electrically connects the substrate 16B and the wiring connector 19B is accommodated.
  • a suppression plate 13B is provided upright at a substantially central portion in the Y-axis direction around the opening 121B of the opening top plate 12B.
  • the opening 121B is divided into an introduction port 121Ba and a discharge port 121Bb.
  • the suppression plate 13B has a function of suppressing the air discharged from the duct 43B from flowing into the discharge port 121Bb, and the gas generator 10B is connected to the wall plate in order to effectively flow the air into the introduction port 121Ba. It has a function of fixing to a suitable position with respect to 5B.
  • the suppression plate 13B includes, for example, a substantially rectangular horizontal portion 131B, a vertical portion 132B orthogonal to the horizontal portion 131B along the X-axis direction, both ends of the vertical portion 132B, and the X-axis direction. It is a metal plate member integrally having a pair of horizontal pieces 133B orthogonal to each other and parallel to the horizontal portion 131B. The pair of horizontal pieces 133B are fixed around the opening 121B so that the vertical portion 132B is positioned at a substantially central portion of the opening 121B in the Y-axis direction. Further, the ⁇ X side through hole 13Bb of the horizontal portion 131B is provided with a pair of locking pins 13Ba made of a substantially conical shape, for example, downward ( ⁇ Z side).
  • the lower end portion 53B of the wall plate 5B has a pair of locking holes 53Ba along the X-axis direction.
  • the pair of locking holes 53Ba are located on both sides along the X-axis direction in the lower end portion 53B of the wall plate 5B, for example.
  • the distance between the centers of the two locking holes 53Ba is set equal to the distance between the centers of the two locking pins 13Ba illustrated in FIG.
  • the maximum diameter of the conical portion of the locking pin 13Ba is set slightly smaller than the diameter of the locking hole 53Ba.
  • gas is generated by inserting the pair of locking pins 13Ba of the suppression plate 13B into the pair of locking holes 53Ba of the lower end portion 53B of the wall plate 5B.
  • the lower end portion 53B of the wall plate 5B and the horizontal portion 131B of the suppression plate 13B overlap each other in the Y-axis direction, and a horizontal portion approximately at the center of the lower end portion 53B in the X-axis direction. The positional relationship where 131B is located is taken.
  • the inlet 121Ba is located on the duct 43B side, and the outlet 121Bb is located on the shelf 42B side.
  • the gas generator 10B can be removed from the duct 43B by slightly lifting the suppression plate 13B and removing the pair of locking pins 13Ba from the pair of locking holes 53Ba.
  • four legs 11Ba having a substantially conical shape, for example, downward are provided at the four corners of the substantially rectangular outer surface on the lower side of the opening housing 11B. Each is in point contact with the bottom surface of the culture chamber 4Bb.
  • a sensor 14Ba is provided for detecting the level of the hydrogen peroxide solution.
  • the sensor 14Ba has, for example, a pair of metal pins, and these pair of metal pins are provided so as to protrude inward from the inner surface of the tank 14B at a predetermined interval in the Z-axis direction. For example, when the control unit measures the resistance value between the pair of metal pins and determines that the water level of the hydrogen peroxide solution in the tank 14B does not reach the predetermined value based on the measurement result, The operation of the acoustic wave vibrator 15B is prohibited.
  • the cell is connected to the power source described above, for example, a male connector (not shown) of the wiring (not shown) from the wiring connector 19B of the gas generator 10B.
  • the wiring (not shown) in 4Bb is connected to, for example, a female connector (not shown) to be electrically connected.
  • This pair of connectors has water resistance and corrosion resistance.
  • the connected male connector and female connector may be removed.
  • FIG. 20 is a schematic diagram illustrating an example of an air path in the culture chamber 4Bb during the culture of the culture apparatus 1B of FIG.
  • FIG. 21 is a schematic diagram showing an example of an air path in the culture chamber 4Bb in the sterilization operation of the culture apparatus 1B of FIG.
  • a humidifying tray 44B made of, for example, stainless steel containing humidified water is disposed on the bottom surface in the culture chamber 4Bb so that a part thereof is located directly below the duct 43B.
  • the entire humidifying tray 44B is covered with, for example, a stainless steel cover 45B having a hole 45Ba on the front side.
  • the air on the shelf 42B above the culture chamber 4Bb flows into the duct 43B through the suction port 51Ba, and moves downward in the duct 43B from above. Then, the humidified air flows forward on the surface of the humidified water and passes through the hole 45Ba of the cover 45B to form a rising airflow surrounding the plurality of shelves 42B. Then, the air that has risen above the culture chamber 4Bb flows again into the duct 43B through the suction port 51Ba.
  • the inside of the culture chamber 4Bb is maintained at, for example, a substantially uniform temperature, humidity, and carbon dioxide concentration.
  • the gas generator 10B storing the hydrogen peroxide solution in the tank 14B is placed in the culture chamber 4Bb so that the relative position shown in FIG. Place on the bottom.
  • the air on the shelf 42B above the culture chamber 4Bb flows into the duct 43B through the suction port 51Ba, and moves downward in the duct 43B from above.
  • At least part of the gas enters the tank 14B through the inlet 121Ba of the gas generator 10B, turns the direction of the air flow upward on the surface of the hydrogen peroxide solution, and operates the ultrasonic vibrator 15B.
  • the discharge port 121Bb of the gas generator 10B is discharged from the discharge port 121Bb of the gas generator 10B to form an updraft surrounding the plurality of shelves 42B. Then, the air that has risen above the culture chamber 4Bb flows again into the duct 43B through the suction port 51Ba.
  • the uniformity of the hydrogen peroxide gas in the culture chamber 4Bb can be improved by using the fan 5Ba and the duct 43B (see FIG. 20) used during the culture. it can. That is, since the hydrogen peroxide gas is released above the culture chamber 4Bb by the circulating airflow formed by the fan 5Ba and the duct 43B (see FIG. 21), the specific gravity is larger than that of the air and stagnation below the culture chamber 4Bb. The uniformity of the hydrogen peroxide gas in the culture chamber 4Bb is improved. This leads to an improvement in the sterilizing effect of the culture apparatus 1B.
  • the air discharged from the discharge port 121Bb flows downward through the duct 43B, for example. It is effectively discharged above the culture chamber 4Bb without being disturbed by air.
  • the gas generator 10B can be disposed at a suitable position with respect to the duct 43B in order to effectively introduce the air from the duct 43B into the tank 14B by the above-described engagement between the suppression plate 13B and the lower end portion 53B. As described above, the uniformity of the hydrogen peroxide gas in the culture chamber 4Bb is further improved, and thus the sterilizing effect of the culture apparatus 1B is further improved.
  • the duct 43B is composed of the wall on the rear side of the inner box 4B and the wall plate 5B, but is not limited thereto.
  • the duct 43B does not occupy the culture chamber 4Bb too much, does not interfere with the culture of the culture, guides the air from the fan 5Ba from the upper side of the culture chamber 4Bb, and is easy to sterilize. Any configuration may be employed, and any location in the culture chamber 4Bb may be provided.
  • the engagement between the duct 43B and the suppression plate 13B of the gas generator 10B is via the pair of locking holes 53Ba and the pair of locking pins 13Ba in the lower end portion 53B of the wall plate 5B.
  • the attachment / detachment means between the duct 43B and the suppression plate 13B may have any configuration as long as it has a simple shape that is easy to sterilize, for example.
  • pillar 41, shelf holders 42 and 42 ', and the shelf board 43 of 1st Embodiment are fully sterilized with sterilization gas in the inner box 4B. It may be adopted.

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Abstract

　培養物を培養するための培養室と、該培養室内に設けられ、培養物を載せる棚板と、該棚板を支持する左右一対の棚受けと、該棚受けを支持する複数の棚支柱とを備え、前記培養室内に殺菌ガスを供給して該培養室を殺菌するようになした培養装置において、前記棚受けは、前記棚板を支持する一方の片と、前記棚支柱に支持される他方の片から成り、その断面形状が前記一方の片と他方の片で挟まれた角度が鋭角のＬ字状を呈し、前記一方の片は前記培養室の側面から内側に向かって斜め上方向に延びた先端が前記棚板の下面と線接触する。

Description

培養装置
　本発明は、培養装置に関する。
　例えば細胞や微生物等の培養物を培養室内で培養する培養装置がある。この培養装置は、例えば、培養物を載置する棚板と、この棚板を水平に保持する棚受けと、この棚受けを水平に保持する複数の棚支柱とを培養室の内部に備えている（例えば、特開２００４－２７５号公報参照）。
　培養の後に次の培養を開始する前には、培養室内を清掃する必要がある。そこで、先の培養に使用した棚板、棚受け、及び棚支柱をそのままの状態にして、培養室内で、例えば過酸化水素（H2O2）ガス等の殺菌ガスをファンによって循環させて、これら棚に係る部材や培養室の内面等に付着した先の培養に起因する菌を殺菌する（例えば、特開２００７－２５９７１５号公報参照）。
＜関連出願の相互参照＞
　この出願は、２００８年８月２７日に出願した日本特許出願２００８－２１８６１５号に基づいて優先権を主張し、その内容を本願に援用する。
　ところで、前述した棚板と棚受けとの間には面接触によって殺菌ガスの行き渡り難い場所があるため、この場所の殺菌が不十分となる虞がある。このため、培養装置の殺菌効果が低下する虞がある。そこで、本発明は、棚板及び棚受け、更に棚受け及び棚支柱が互いに接触する部分にも殺菌ガスを行き渡り易くすることを目的とする。
　上記目的を達成するため、本発明は、培養物を培養するための培養室と、該培養室内に設けられ、培養物を載せる棚板と、該棚板を支持する左右一対の棚受けと、該棚受けを支持する複数の棚支柱とを備え、前記培養室内に殺菌ガスを供給して該培養室を殺菌するようになした培養装置において、前記棚受けは、前記棚板を支持する一方の片と、前記棚支柱に支持される他方の片から成り、その断面形状が前記一方の片と他方の片で挟まれた角度が鋭角のＬ字状を呈し、前記一方の片は前記培養室の側面から内側に向かって斜め上方向に延びた先端が前記棚板の下面と線接触する。
本発明の第１実施形態である培養装置の一例の側面断面図である。 殺菌運転を行なう場合の図１の培養装置１の構成例の側面断面図である。 （ａ）は、図１の棚支柱を－Ｚ方向に見た図であり、（ｂ）は、図１の棚支柱を＋Ｘ方向に見た図である。 （ａ）は、図１の棚受けを－Ｙ方向に見た図であり、（ｂ）は、図１の棚受けを＋Ｘ方向に見た図であり、（ｃ）は、図１の棚受けを＋Ｙ方向に見た図である。 （ａ）は、図１の棚板を－Ｚ方向に見た図であり、（ｂ）は、図１の棚板を＋Ｘ方向に見た図である。 図１の棚支柱及び棚受けを＋Ｘ方向に見た図である。 図１の棚支柱及び棚受けを－Ｚ方向に見た図である。 図７のＡ－Ａ’面における内箱の内面、棚支柱、及び棚受け４２の断面と、同断面における棚板及び棚受け４２’の断面とを示す断面図である。 図８と同様の断面における棚受け及び棚板の断面図である。 図７と同様の方向から見た内箱の内面、棚支柱、及び棚受けの図である。 図８と同様の断面における内箱の内面、棚支柱、棚受け、及び棚板の断面図である。 本発明の第２実施形態である培養装置の断面図である。 培養装置の外箱の背面の一部を示す図である。 培養装置の外扉及び内扉を開いた状態の正面図である。 外扉及び内扉を３０秒開けた場合のＣＯ2ガス濃度の推移の一例を示す実験結果である。 外扉及び内扉を６０秒開けた場合のＣＯ2ガス濃度の推移の一例を示す実験結果である。 本発明の第３実施形態の培養装置の一例の側面断面図である。 （ａ）は第３実施形態のガス発生器の一例の平面図であり、（ｂ）は（ａ）のガス発生器のＡ－Ａ’における部分断面図である。 図１７のガス発生器及びその近傍の拡大図である。 図１７の培養装置の培養時における培養室内の風路の一例を示す模式図である。 図１７の培養装置の殺菌時における培養室内の風路の一例を示す模式図である。
１　培養装置　　　　　　　２　外箱　　　　　　　　　　　３　外扉
４　内箱　　　　　　　　　４ａ　内扉　　　　　　　　　　４ｂ　培養室
５　壁板　　　　　　　　　５ａ　ファン　　　　　　　　　６　エアジャケット
７　センサボックス　　　　２１　カバー　　　　　　　　　３１　扉本体
３１ａ　凸部　　　　　　　３２　制御パネル　　　　　　　３３　パッキン
４１　棚支柱　　　　　　　４２、４２’　棚受け　　　　　４３　棚板
４４　ダクト　　　　　　　４５　加湿トレイ　　　　　　　４６　カバー
４６ａ　孔　　　　　　　　４７　ガス発生器　　　　　　　５１ａ　吸入口
５２　紫外線ランプ　　　　４１１　折り曲げ板　　　　　　４１１ａ　中央線
４１１ｂ　嵌入孔　　　　　４１１ｃ　孔　　　　　　　　　４１２　側片
４１３　当接片　　　　　　４２１　垂直板　　　　　　　　４２２　載置片
４２３　案内片　　　　　　４２４、４２５　係止片　　　　４２６　停止片
４３１　底面板　　　　　　４３２　側面片　　　　　　　　４３３　正面片
４３４　背面片
　本明細書及び添付図面の記載により、少なくとも以下の事項が明らかとなる。
[第１実施形態]
===培養装置の構成===
　図１及び図２を参照しつつ、第１実施形態の培養装置１の構成例について説明する。尚、図１は、第１実施形態の培養装置１の構成例の側面断面図であり、図２は、殺菌運転を行なう場合の図１の培養装置１の構成例の側面断面図である。
　図１に例示されるように、培養装置１は、棚板４３と、棚受け４２と、棚支柱４１とを培養室４ｂ内に備えている。尚、この培養室４ｂ内では、例えば細胞や微生物等の培養物が培養される。
　培養室４ｂは内箱４の内部に形成され、この内箱４は外箱２の内部に外気と断熱した状態で収容されている。内箱４は、例えばステンレス製の略直方形状の箱であり、外箱２は、例えばステンレス製且つ内箱４と略相似形状の箱である。内箱４の前方側（＋Ｙ側）の開口には、内扉４ａが所定のヒンジ（不図示）を介して開閉可能に設けられている。この内扉４ａは、例えば強化ガラス製で平板形状をなしており、内箱４の開口に対しパッキン（不図示）を介して閉じると、内箱４内が外部に対し気密になる。外箱２の前方側の開口には、外扉３が所定のヒンジ（不図示）を介して開閉可能に設けられている。この外扉３は、例えば金属製で平板形状をなしている。
　棚板４３は、培養物を載置するための例えばステンレス製の板部材である。　
　棚受け４２は、棚板４３を支持し、棚板４３を水平（ＸＹ面と平行）に保持するための例えばステンレス製の部材であり、培養室４ｂの一方の側面側（＋Ｘ側）にその長手方向を水平方向（Ｙ軸方向）にして配設される。この棚受け４２と、培養室４ｂの他方の側面側（－Ｘ側）に配設される棚受け４２’（後述する図８参照）とは、培養室４ｂ内の対向する側面間の中央で当該側面に平行な平面（不図示）を境として、互いに鏡面対称な形状を有している。換言すると、棚受け４２，４２’は、棚板４３を支持するべくＸ方向に左右一対設けられる。以後、棚受け４２’の説明については、後述する図８を参照する説明以外は、棚受け４２の説明と同様であるとして省略する。
　棚支柱４１は、内箱４の±Ｘ側に棚受け４２を水平に支持し配設するための例えばステンレス製の部材であり、±Ｘ側の内面にその長手方向を垂直方向（Ｚ軸方向）にして例えば２本ずつ配設される。この棚支柱４１はその長手方向に沿って例えば一定間隔で複数の嵌入孔４１１ｂを有しており、この嵌入孔４１１ｂを介して棚受け４２が係止可能となっている。
　尚、外箱２の内面には、保温のための断熱材（不図示）が設けられており、この断熱材と内箱４との間には更なる保温のために例えば空気の循環路としてのエアジャケット６が形成されている。エアジャケット６には、培養室４ｂ内の温度を調節するためのヒータ（不図示）が取り付けられている。また、外箱２の後方側（－Ｙ側）の外面には、例えば、培養室４ｂ内の温度を検出するためのセンサ（不図示）、培養室４ｂ内に二酸化炭素等のガスを噴射するためのノズル（不図示）、培養室４ｂ内の二酸化炭素等の濃度を検出するためのセンサ（不図示）等を有するセンサボックス７が設けられている。ノズル及びセンサは、例えば、外箱２の後方側の外面から内箱２の後方側の内面にかけて穿設された孔（不図示）を通じて外箱２の外部から取り付けられている。また、センサは、例えば、配線（不図示）を介して制御基板（不図示）と電気的に接続されている。外箱２の後方側の外面及びセンサボックス７は、内側に断熱材（不図示）を有するカバー２１で覆われている。
　また、外扉３は、保温のための断熱材（不図示）や培養室４ｂ内の温度を調節するためのヒータ（不図示）等が内側に設けられた金属製の扉本体３１と、この扉本体３１における外箱２の開口と対向する凸部３１ａに取り付けられたパッキン３３とを有している。外扉３は、扉本体３１の前方側に、制御パネル３２を更に有している。この制御パネル３２は、培養室４ｂ内の温度や二酸化炭素の濃度等を設定するためのキー（不図示）及びこれらの現在値を表示するためのディスプレイ（不図示）を有している。
　更に、内箱４の後方側の壁と、例えばステンレス製の壁板５とは、空気の風路を形成するためのダクト４４を構成している。このダクト４４内の上方（＋Ｚ側）には、ファン５ａ（シロッコファン）が設けられ、下方（－Ｚ側）には、同ダクト４３を通過する空気に含まれる雑菌及び同ダクト４３の下方に置かれた加湿トレイ４５内の加湿水に含まれる雑菌を殺菌するための紫外線ランプ５２が設けられている。
　図１の白抜きの矢印で示されるように、培養室４ｂ内で培養物を培養する場合、ファン５ａの一定方向の回転によって、培養室４ｂ上方の棚板４３側の空気は、吸入口５１ａを通じてダクト４４内に流入し、同ダクト４４内を上方から下方へ流れ、加湿トレイ４５内の加湿水で加湿された後、この加湿された空気は、カバー４６の前方側の孔４６ａを通過して、棚板４３側に戻るようになっている。このような空気の循環によって、培養室４ｂ内は、例えば、略均一な温度、湿度、及び二酸化炭素等のガス濃度に維持される。
　図２に示されるように、培養室４ｂ内を殺菌する場合、培養室４ｂの底面から加湿トレイ４５及びカバー４６を取り外し、ガス発生器４７を置いて、これに例えば過酸化水素ガスを発生させつつ、ダクト４４内のファン５ａを一定方向に回転させる。尚、ガス発生器４７は、例えば、過酸化水素水（過酸化水素ガスが溶解した水溶液）を貯蔵するタンク（不図示）と、このタンク内の過酸化水素水を霧化するための超音波振動子（不図示）とを有している。
===棚支柱・棚受け・棚板の構成===
　図３乃至図５を参照しつつ、前述した棚支柱４１、棚受け４２、及び棚板４３の構成例についてより詳細に説明する。尚、図３（ａ）は、図１の棚支柱４１を－Ｚ方向に見た図であり、図３（ｂ）は、図１の棚支柱４１を＋Ｘ方向に見た図である。図４（ａ）は、図１の棚受け４２を－Ｙ方向に見た図であり、図４（ｂ）は、図１の棚受け４２を＋Ｘ方向に見た図であり、図４（ｃ）は、図１の棚受け４２を＋Ｙ方向に見た図である。図５（ａ）は、図１の棚板４３を－Ｚ方向に見た図であり、図５（ｂ）は、図１の棚板４３を＋Ｘ方向に見た図である。
<<<棚支柱>>>
　図３（ａ）及び図３（ｂ）に例示されるように、棚支柱４１は、例えば、１枚の板部材に穿孔加工及び折り曲げ加工を施して形成されるものである。この棚支柱４１は、折り曲げ板（曲板）４１１と、一対の側片４１２と、一対の当接片４１３とを有している。
　折り曲げ板４１１は、その長手方向（Ｚ軸方向）と直交する幅方向（Ｙ軸方向）の中央線４１１ａを折り目として、折り曲げ板４１１から当接片４１３への向きに見て山折となるように折り曲げられた板状の部材である。図３（ａ）に示す折り曲げ角度θは、例えば１７０度である。図３（ｂ）に例示されるように、折り曲げ板４１１は、複数の矩形状の嵌入孔４１１ｂを、中央線４１１ａに沿って、例えば一定間隔で有している。尚、図３（ｂ）に例示されるように、折り曲げ板４１１は、Ｚ軸方向の両端部のそれぞれにおいて、中心のずれた異径の円を重ねた形状の孔４１１ｃを有している。内箱４の内面からの所定の突起部材（不図示）をこれらの孔４１１ｃに嵌入させることによって、同内面に対し棚支柱４１１が着脱可能に配設されるようになっている。
　一対の側片４１２は、折り曲げ板４１１のＹ軸方向に沿った両側端にそれぞれ連接しつつ折れ曲がって、略Ｘ軸方向に延在する板状の部材である。尚、図３（ａ）の例示では、一対の側片４１２は、それぞれ折り曲げ板４１１から培養室４ｂの側面に近づくほど相互のＹ軸方向に沿った間隙が狭くなる方向に折れ曲がっている。
　一対の当接片４１３は、一対の側片４１２の折り曲げ板４１１と連接していない側の端部にそれぞれ連接しつつ折れ曲がって、略Ｙ軸方向に延在する板状の部材である。尚、図３（ａ）の例示では、一対の当接片４１３は、それぞれが連接する側片４１２からＹ軸方向に沿って中央側へ向かうほど培養室４ｂの側面から離間する方向に折れ曲がっている。
　従って、図３（ａ）から明らかなように、棚支柱４１は、一対の棚受け４２，４２’を支持する側の側面が中央が膨らんだ山形の断面形状を成しており、一対の棚受け４２，４２’を支持する側の側面が中央で折り曲げられている。
<<<棚受け>>>
　図４（ａ）、図４（ｂ）、及び図４（ｃ）に例示されるように、棚受け４２は、例えば、１枚の板部材に穿孔加工及び折り曲げ加工を施して形成されるものである。この棚受け４２は、垂直板４２１（他方の片）と、載置片４２２（一方の片）とを有している。また、この棚受け４２は、案内片４２３と、一対の係止片４２４及び係止片４２５と、停止片４２６とを有している。
　垂直板４２１は、長手方向の両端部がその中央部に比べて上下方向（Ｚ軸方向）に幅広な板状の部材であり、棚支柱４１に支持される。
　載置片４２２は、垂直板４２１の下端（－Ｚ側端）に連接しつつ培養室４ｂの側面から離間する方向（即ち、棚板４３に近づく方向）（－Ｘ方向）に折れ曲がって、この垂直板４２１に対し角度θ’をなして培養室４ｂの側面から内側に向かって斜め上方向（＋Ｚ側）に延在する板状の部材であり、棚板４３を支持する。図３（ａ）に示す折り曲げ角度θ’は、例えば８０度である。つまり、一対の棚受け４２，４２’の夫々は、図４（ａ）から明らかなように、垂直板４２１と載置片４２２で挟まれた角度が鋭角のＬ字状となるような断面形状を呈している。
　案内片４２３は、垂直板４２１の上端（＋Ｚ側端）に連接しつつ培養室４ｂの側面から離間する方向に折れ曲がって、この垂直板４２１に対し直交して延在する板状の部材である。　
　係止片４２４は、垂直板４２１の前方側（＋Ｙ側）の端部において、３辺の隙間４２４ａ、４２４ｂ、４２４ｃで画成され、１辺の折り目４２４ｄでつながっている舌片であって、この舌片は、折り目４２４ｄで、培養室４ｂの側面に近づく方向（＋Ｘ方向）に折れ曲がって、Ｌ字形状をなして上下方向に延在する。
　係止片４２５は、培養室４ｂの奥側である垂直板４２１の後方側（－Ｙ側）の端部において、３辺の隙間４２５ａ、４２５ｂ、４２５ｃで画成され、１辺の折り目４２５ｄでつながっている舌片であって、この舌片は、折り目４２５ｄで、培養室４ｂの側面に近づく方向（＋Ｘ方向）に折れ曲がって、Ｌ字形状をなして前後方向に延在する。　
　このような鉤形状の向きが互いに異なる係止片４２４及び係止片４２５を、培養室４ｂの前方側及び後方側の２つの棚支柱４１の嵌入孔４１１ｂにそれぞれ嵌入させることによって、棚支柱４１に対し棚受け４２がはずれ難くなる。　
　停止片４２６は、垂直板４２１における後方側端に連接しつつ培養室４ｂの側面から離間する方向に折れ曲がって、この垂直板４２１に対し直交して延在する板状の部材である。
<<<棚板>>>
　図５（ａ）及び図５（ｂ）に例示されるように、棚板４３は、例えば、１枚の板部材に穿孔加工及び折り曲げ加工を施して形成されるものである。この棚板４３は、底面板４３１と、側面片４３２と、正面片４３３と、背面片４３４とを有している。　
　底面板４３１は平板部材であり、一対の側面片４３２は底面板４３１の±Ｘ側端に連接しつつ上側（＋Ｚ側）に直角に折れ曲がった板状の部材であり、正面片４３３は底面板４３１の＋Ｙ側端に連接しつつ下側（－Ｚ側）に９０度以上折れ曲がった板状の部材であり、背面片４３４は底面板４３１の－Ｙ側端に連接しつつ上側に９０度以上折れ曲がった板状の部材である。　
　尚、底面板４３１は、培養室４ｂ内を循環する空気が通過するための複数の孔４３１ａを有している。
===棚支柱・棚受け・棚板間の接触関係===
　図６乃至図８を参照しつつ、前述した構成を備えた棚支柱４１、棚受け４２、及び棚板４３の間での接触関係について説明する。尚、図６は、図１の棚支柱４１及び棚受け４２を＋Ｘ方向に見た図である。図７は、図１の棚支柱４１及び棚受け４２を－Ｚ方向に見た図である。図８は、図７のＡ－Ａ’面における内箱４の内面、棚支柱４１、及び棚受け４２の断面と、同断面における棚板４３及び棚受け４２’の断面とを示す断面図である。
　図６に例示されるように、２本の棚支柱４１は、培養室４ｂの側面に沿って水平方向（Ｙ軸方向）に並列して配設されており、棚受け４２は、高さが等しい一対の嵌入孔４１１ｂに対して係止片４２４及び係止片４２５がそれぞれ係止されることによって、培養室４ｂの側面に沿って水平方向に保持される。
　図７に例示されるように、棚支柱４１の一対の当接片４１３における培養室４ｂの側面に近づく側（＋Ｘ側）の面と、内箱４の内面とは、長手方向に沿った線Ｑでそれぞれ線接触している。これにより、内箱４の内面及び棚支柱４１の間における互いに接触している部分が線Ｑに限られるため、当該線Ｑの周囲近傍における露出面に対し略等しく殺菌ガスが行き渡り得る。よって、当該露出面の殺菌が十分となり、これは、培養装置１の殺菌効果の向上等につながる。
　また、図７に例示されるように、棚支柱４１の折り曲げ板４１１における培養室４ｂの側面から離間する側（－Ｘ側）の面と、棚受け４２の垂直板４２１における培養室４ｂの側面に近づく側の面とは、長手方向に沿った線Ｐ（即ち、中央線４１１ａ）で線接触している。また、棚支柱４１の折り曲げ板４１１における培養室４ｂの側面に近づく側の面と、棚受け４２の係止片４２４における培養室４ｂの側面から離間する側の面の前後方向両端（±Ｙ側端）とは、一対の長手方向に沿った線Ｒで線接触している。また、棚支柱４１の折り曲げ板４１１における培養室４ｂの側面に近づく側の面と、棚受け４２の係止片４２５における培養室４ｂの側面から離間する側の面の後方側端（－Ｙ側端）とは、長手方向に沿った線Ｓで線接触している。これにより、棚支柱４１及び棚受け４２の間における互いに接触している部分が線Ｐ、Ｒ、及びＳに限られるため、当該線Ｐ、Ｒ、及びＳのそれぞれの周囲近傍における露出面に対し略等しく殺菌ガスが行き渡り得る。よって、当該露出面の殺菌が十分となり、これは、培養装置１の殺菌効果の向上等につながる。また、このような線Ｐ、Ｒ、及びＳでの線接触を、折り曲げ板４１１のなす角度θを１８０度未満とする構成によって実現できる。
　図８に例示されるように、一対の棚受け４２、４２’に棚板４３を載置する際の載置片４２２における培養室４ｂの側面から離間する側（－Ｘ側）の先端と、底面板４３１の下面の＋Ｘ側端とは、前後方向（Ｙ軸方向）に沿った線Ｔで線接触している。
　また、これと、培養室４ｂ内の対向する側面間の中央で当該側面に平行な平面（不図示）を境として鏡面対称の関係をもって、一対の棚受け４２、４２’に棚板４３を載置する際の載置片４２２’における培養室４ｂの側面から離間する側（＋Ｘ側）の先端と、底面板４３１の下面の－Ｘ側端とは、前後方向に沿った線Ｔで線接触している。つまり、一対の載置片４２２、４２２’が、培養室４ｂの各側面から離間するほど斜め上方に延在することによって、一対の棚受け４２、４２’に棚板４３を載置する際に、この棚板４３は、その下面の両側端が載置片４２２及び載置片４２２’それぞれの先端に対し線接触しつつ水平に保持される。これにより、棚受け４２及び棚板４３の間における互いに接触している部分が線Ｔの部分に限られるため、当該線Ｔの周囲近傍における露出面に対し略等しく殺菌ガスが行き渡り得る。よって、当該露出面の殺菌が十分となり、これは、培養装置１の殺菌効果の向上等につながる。また、このような線Ｔでの線接触を、垂直板４２１に対する載置片４２２のなす角度θ’を９０度未満とする構成によって実現できる。
　尚、図示していないが、培養室４ｂ内における棚板４３の前後方向（Ｙ軸方向）の位置は、この棚板４３の底面板４３１の後方側端（－Ｙ側端）が、棚受け４２の停止片４２６に線接触して当接することによって定まる。この線接触は、棚板４３の背面片４３４が底面板４３１の後方側端（－Ｙ側端）に連接しつつ上方（＋Ｚ側）に９０度以上折れ曲がっていることによる。この線接触も、培養装置１の殺菌効果の向上等につながる。
===その他の実施形態===
　前述した実施形態は、本発明の理解を容易にするためのものであり、本発明を限定して解釈するためのものではない。本発明はその趣旨を逸脱することなく変更や改良等が可能であり、また本発明はその等価物も含むものである。
　前述した実施形態では、一対の載置片４２２、４２２’は、培養室４ｂの各側面から離間するほど斜め上方に延在するもの（図４（ａ）の角度θ’（＜９０度））であったが、これに限定されるものではない。載置片４２２は、垂直板４２１に対し直交するように折り曲げられているとしても、培養室４ｂの側面から離間する側の先端が例えば上方（＋Ｚ側）に再度折り曲げられて、当該先端で棚板４３の底面板４３１の下面と線接触するものであってもよい。
　前述した実施形態では、折り曲げ板４１１は、中央線４１１ａを折り目として折り曲げられていたが、これに限定されるものではない。折り曲げ板４１１は、当該折り曲げ板４１１上で長手方向と直交する方向に沿った略中央で、培養室４ｂの側面から最も離間するような形状をなすものであれば、例えば単に湾曲面をなすものであってもよい。
　前述した実施形態では、載置片４２２と底面板４３１の下面との線Ｔでの接触は、載置片４２２の垂直板４２１に対する角度θ’（＜９０度）によって実現されたが、これに限定されるものではない。図９に例示されるように、例えば、棚受け９２の垂直板９２１に対して載置片９２２が直交していても、棚板４３’が底面板４３１’と側面片４３２’との間の下側（－Ｚ側）に曲げ突起４３５’を有し、載置片９２２と曲げ突起４３５’とが線Ｔ’で線接触するものであってもよい。尚、図９は、図８と同様の断面における棚受け９２及び棚板４３’の断面図である。
　前述した実施形態では、内箱４の内面、棚支柱４１、棚受け４２、及び棚板４３は互いに線Ｐ、Ｑ、Ｒ、Ｓ、及びＴで線接触するものであったが、これに限定されるものではない。例えば、図１０及び図１１に例示されるように、これらの接触のし方は点接触であってもよい。尚、図１０は、図７と同様の方向から見た内箱４の内面、棚支柱８１、及び棚受け８２の図であり、図１１は、図８と同様の断面における内箱４の内面、棚支柱８１、棚受け８２、及び棚板４３の断面図である。
　図１０に例示されるように、棚支柱８１の一対の当接片８１３における培養室４ｂの側面に近づく側（＋Ｘ側）の面（ＹＺ面と平行）の略半球面形状の突起８１３ａと、内箱４の内面とは点Ｑ’で点接触している。また、棚支柱８１の平板８１１における培養室４ｂの側面から離間する側（－Ｘ側）の面（ＹＺ面と平行）の略半球面形状の突起８１１ａと、棚受け８２の垂直板８２１の＋Ｘ側の面とは点Ｐ’で点接触している。また、棚支柱８１の平板８１１における培養室４ｂの側面に近づく側（＋Ｘ側）の面（ＹＺ面と平行）の略半球面形状の突起８１１ｂと、棚受け８２の係止片８２４における培養室４ｂの側面から離間する側の面の±Ｙ側端とは点Ｒ’で点接触している。
　図１１に例示されるように、棚受け８２の載置片８２２の上面（ＸＹ面と平行）の略半球面形状の突起８２２ａと、棚板４３の底面板４３１の下面の＋Ｘ側端とは点Ｔ”で点接触している。
　尚、図１０及び図１１で例示した突起８１１ａ、８１１ｂ、８１３ａ、８２２ａは、例えば板部材に対し、当該突起が形成される側と相反する側の面から当該突起と相似形状の工具でこれらの突起が生じる程度に押圧して形成すればよい。
[第２実施形態]
　培養装置では、培養室内の温度や二酸化炭素（ＣＯ2）や酸素（Ｏ2）等のガス濃度を一定に維持し、培養室内部を無菌状態にして細胞や微生物等の培養物を培養することが行われる。このような培養装置では、培養室内のガス濃度をセンサで検出し、ガス濃度が一定に維持されるよう、培養室内へのガスの供給が制御される。一般的に、培養室内のガス濃度を検出する際には、培養室内の空気を主体とする雰囲気ガス（以下、単にガスと言う。）を培養装置の外部に繋がる配管に吸引し、吸引されたガスの濃度をセンサで検出した上で培養室内に戻すことが行われる。そして、ガスを培養室内から配管に吸引し、再度培養室に戻すために、ポンプやファン等の吸引装置が用いられている（例えば、特開２００７－２５９７１５号公報参照）。
　このように、吸引装置を用いることにより、培養室内のガスを強制的に配管に導くことができるとともに、配管内におけるガスの流速をセンサでの検出に適した速度に制御することができる。しかしながら、吸引装置が必要となる分、コストや消費電力が上昇するとともに、吸引装置が故障した場合にはガス濃度を正確に検出できず、培養室内のガス濃度を一定に維持することが難しくなってしまう。　
　そこで、本発明は、吸引装置を用いることなく培養室内のガスの濃度を検出することを目的とする。
　図１２は、本発明の第２実施形態である培養装置を側面から見た断面図である。培養装置１０Ａは、外箱１２Ａ及び内箱１４Ａを備えている。外箱１２Ａの内側には断熱材１６Ａが設けられており、さらに内側に空間１８Ａを介して内箱１４Ａが設けられている。内箱１４Ａの前面には、内箱１４Ａの開口部を開閉自在に閉塞する透明の内扉２０Ａが設けられ、さらに外側に外扉２２Ａが設けられ、外扉２２Ａの内側には断熱材２４Ａが設けられている。
　そして、内扉２０Ａによって密閉される内箱１４Ａ内の空間が培養室２６Ａとなっている。培養室２６Ａ内には多数の通風穴を有する棚２８Ａが設けられており、外扉２２Ａ及び内扉２０Ａが開けられた状態で、培養物の入った容器が棚２８Ａに載置される。そして、棚２８Ａに載置された培養物は、外扉２２Ａ及び内扉２０Ａが閉じられた状態で、培養室２６Ａ内で培養されることになる。なお、培養中、外扉２２Ａのみを開き、内扉２０Ａは閉じたままの状態で、培養室２６Ａ内を観察することができる。
　内箱１４Ａ内の背面３０Ａには、培養室２６Ａ内のガスを循環させるためのファン（シロッコファン）３２Ａが設けられている。そして、ファン３２Ａを駆動するためのモータ３３Ａが空間１８Ａ内に設けられている。また、培養室２６Ａ内において、ファン３２Ａ及び背面３０Ａの一部を覆うように壁板３４Ａが設けられている。壁板３４Ａには、ファン３２Ａを覆う箇所の近傍に吸入口３６Ａが設けられており、吸入口３６Ａから吸入されたガスが流れるダクト３８Ａ（風路）が形成されている。つまり、培養室２６Ａ内のガスは、ファン３２Ａの回転によって背面３０Ａの上方の吸入口３６Ａから吸い込まれ、ダクト３８Ａ内を上方から下方に流れて背面３０Ａの下方から培養室２６Ａに戻される。ダクト３８Ａの下部から排出されたガスは、内箱１４Ａの底面４０Ａから天面４２Ａに向かって棚２８Ａの通風穴を通って流れ、再び吸入口３６Ａから吸い込まれる。これにより、培養室２６Ａ内のガスが循環することになる。
　外箱１２Ａの背面４４Ａから内箱１４Ａ内のダクト３８Ａまで貫通し、培養室２６ＡにＣＯ2ガスを供給するための噴射口４８Ａが設けられている。さらに、外箱１２Ａの背面４４Ａから内箱１４Ａ内のダクト３８Ａまで貫通するように温度センサ５０Ａが設けられている。この温度センサ５０Ａによって培養室２６Ａ内の温度が検出され、培養室２６Ａ内が培養に適した温度となるよう、培養室２６Ａ内を加熱するヒータの制御が行われる。
　内箱１４Ａの背面３０Ａにおける壁板３４Ａで覆われた領域に、内箱１４Ａの背面３０Ａから外箱１２Ａの背面４４Ａまで貫通する貫通穴５２Ａ（第１の貫通穴）及び貫通穴５４Ａ（第２の貫通穴）が設けられている。貫通穴５２Ａ，５４Ａには、外箱１２Ａの背面４４Ａ側から、可撓性を有するチューブ５６Ａ（接続管）が、チューブ５６Ａの外周が貫通穴５２Ａ，５４Ａの内周に密着するように挿入されている。すなわち、培養室２６Ａ内のガスがチューブ５６Ａ内を流通可能な状態となっている。そして、チューブ５６Ａの外箱１２Ａの外部に突出した箇所には、チューブ５６Ａ内を流れるＣＯ2ガスの濃度を検出する濃度センサ５８Ａが設けられている。濃度センサ５８Ａは、例えば赤外線式を用いることができる。赤外線式の場合、セラミックヒータを加熱することにより、ＣＯ2ガスに吸収される４．３μｍ付近の赤外線を発生させてチューブ５６Ａを流れるガスに照射し、ガスを通過した赤外線の光量を受光素子で検出することにより、ＣＯ2ガスの濃度を測定することができる。なお、濃度センサ５８Ａとして、熱伝導式等、赤外線式以外の方式のものを用いることも可能である。
　また、チューブ５６Ａの外箱１２Ａの外部に突出した部分は、ヒータ６０Ａ（加熱装置）によって覆われた閉空間６１Ａに存している。培養室２６Ａ内は、例えば、温度は３７℃程度、湿度は９５％程度に維持されるが、閉空間６１Ａの温度がそれより低いと、チューブ５６Ａ内が結露してしまうおそれがある。そのため、チューブ５６Ａの外箱１２Ａの外部に突出した部分が存する閉空間６１Ａの内部が、ヒータ６０Ａによって例えば４５℃程度に加熱・維持される。また、閉空間６１Ａの内部の温度を一定とすることにより、濃度センサ５８Ａの感度を一定にする効果もある。
　その他、培養装置１０Ａには、培養室２６Ａ内の湿度を検出するセンサが設けられており、内箱の底面４０Ａに載置される水皿の加熱を制御することにより、培養室２６Ａ内の湿度が一定に維持される。
　図１３は、培養装置１０Ａの外箱１２Ａの背面４４Ａの一部を示す図である。外箱１２Ａの背面４４Ａには、貫通穴５２Ａ，５４Ａに挿入されたチューブ５６Ａが突出している。濃度センサ５８Ａは、チューブ５６Ａ内のＣＯ2濃度を検出可能に配設されている。なお、貫通穴５２Ａ，５４Ａの間を接続するチューブ５６Ａは、濃度センサ５８Ａ内を貫通する１本のチューブとすることもできるし、貫通穴５２Ａと濃度センサ５８Ａとを繋ぐチューブと貫通穴５４Ａと濃度センサ５８Ａとを繋ぐチューブの２本により構成することもできる。ＣＯ2ガスが充填されたガスボンベは、配管６４Ａの接続口６６Ａに接続される。配管６４Ａは培養室２６Ａの噴射口４８Ａと接続されており、接続口６６Ａに供給されるＣＯ2ガスは、フィルタ６８Ａ、バルブ７０Ａを介して培養室２６Ａへと供給される。制御装置７２Ａは、培養装置１０Ａの温度やガス濃度の制御を行うものであり、マイコン等を含んで構成されている。例えば、制御装置７２Ａは、濃度センサ５８Ａの検出結果に基づいてバルブ７０Ａの開閉を制御することにより、培養室２６Ａ内へのＣＯ2ガスの供給量を調整する。
　図１４は、培養装置１０Ａの外扉２２Ａ及び内扉２０Ａを開いた状態の正面図である。前述したように、ファン３２Ａが回転すると、壁板３４Ａに設けられた吸入口３６Ａから培養室２６Ａ内のガスが吸入される。そして、吸入されたガスは、ファン３２Ａの外周全周から吐出されるが、壁板３４Ａで上方及び左右側方が囲われているため、結果、ダクト３８Ａ内のガスをかきまぜながらダクト３８Ａ内を上方から下方に向かって流れ、ダクト３８Ａの下部から培養室２６Ａ内に排出され、循環する。ここで、貫通穴５４Ａは、ダクト３８Ａ内のガスの流通方向において、貫通穴５２Ａよりも下流に設けられている。ダクト３８Ａ内を流れるガスの流速は、ファン３２Ａから離れるに連れて低下していくため、貫通穴５２Ａ近傍の流速の方が貫通穴５４Ａ近傍の流速よりもやや速い状態となる。ガスの気圧は流速が速くなるに連れて低くなるため、貫通穴５２Ａ近傍の方が貫通穴５４Ａの近傍よりも気圧が低くなる。この気圧差により、貫通穴５４Ａ近傍のガスが、チューブ５６Ａを介して貫通穴５２Ａの方向へと流れる。つまり、培養装置１０Ａでは、ポンプ等の吸引装置を用いることなく培養室２６Ａ内のガスをチューブ５６Ａに流通させ、ＣＯ2ガスの濃度を検出することができる。
　また、ダクト３８Ａ内において、噴射口４８Ａは、貫通穴５２Ａ，５４Ａよりも、ダクト３８Ａ内のガスの流通方向の上流に配設されている。また、噴射口４８Ａは、ファン３２Ａと貫通穴５２Ａ，５４Ａとを結ぶ位置から背面３０Ａに向かって左側にずれた位置に、背面３０Ａに向かって左側にＣＯ2ガスを噴射するように配設されている。つまり、培養室２６Ａ内を循環するガスの流通方向とは異なる向きに、噴射口４８ＡからＣＯ2ガスが噴射される。噴射口４８Ａから噴射されたＣＯ2ガスは、ファン３２Ａの気流によって吸入口３６Ａから吸入されたガスと混ざりながらダクト３８Ａ内の上方から下方に流れ、培養室２６Ａに供給される。そして、噴射口４８Ａがファン３２Ａに近い位置に配設されているため、噴射口４８Ａから噴射されるＣＯ2ガスが攪拌されやすく、培養室２６Ａ内のＣＯ2ガスの濃度を調整する際の応答性を良くすることができる。また、噴射口４８ＡからＣＯ2ガスが噴射される向きがダクト３８Ａ内のガスの流通方向とは異なっているため、噴射口４８Ａから噴射された高濃度のＣＯ2ガスが貫通穴５２Ａ，５４Ａの近傍に直接的に流れ込むことが抑制され、培養室２６Ａ内のＣＯ2ガスの濃度の検出精度を向上させることができる。
　図１５及び図１６は、外扉２２Ａ及び内扉２０Ａを開閉した場合のＣＯ2ガス濃度の推移の例を示す実験結果である。図１５の実線で示されたグラフは、培養室２６Ａ内のＣＯ2ガス濃度が約５％に維持されている状態から、外扉２２Ａ及び内扉２０Ａを３０秒間開けた後に閉めた場合のＣＯ2ガス濃度の推移を示している。また、図１６の実線で示されたグラフは、外扉２２Ａ及び内扉２０Ａの開放時間を６０秒としたものである。なお、図１５及び図１６の破線で示されたグラフは、貫通穴５２Ａから培養室２６Ａ内のガスを吸引して貫通穴５４Ａに戻すポンプを備える以外は培養装置１０Ａと同一の構成とした場合における、ＣＯ2ガス濃度の推移を示している。
　図１５及び図１６のグラフに示されるように、外扉２２Ａ及び内扉２０Ａが開けられると、培養室２６Ａ内のＣＯ2ガス濃度が低下するので、外扉２２Ａ及び内扉２０Ａが閉じられると、制御装置７２Ａは、濃度センサ５８Ａの検出値に基づいてバルブ７０Ａを開閉制御し、培養室２６Ａ内のＣＯ2ガス濃度を約５％に復帰させる。これらのグラフからわかるように、外扉２２Ａ及び内扉２０Ａが閉じられてからＣＯ2ガス濃度が約５％まで復帰する時間は、ポンプを備えない本実施形態の培養装置１０Ａにおいても、ポンプを備える構成とほぼ同等となっている。この実験結果からも、培養装置１０Ａはポンプ等の吸引装置を備えないものの、濃度センサ５８Ａでの検出に適した速度でチューブ５６Ａ内をガスが流れており、ＣＯ2ガス濃度を精度良く検出できていることがわかる。
　なお、本実施形態では、ダクト３８Ａが内箱１４Ａの背面３０Ａ側に設けられているが、側面側に設けられても良い。また、ファン３２Ａを内箱１４Ａの天面４２Ａに配設し、貫通穴５２Ａ，５４Ａを内箱１４Ａの背面３０Ａまたは側面に設けることとしてもよい。さらに、貫通穴５２Ａ，５４Ａを内箱１４Ａの天面に設けても良い。また、培養装置１０Ａでは、貫通穴５２Ａ，５４Ａが、ファン３２Ａから見て同一直線上に配設されているが、流速が異なる位置であれば同一直線上でなくてもよい。さらに、貫通穴５２Ａ，５４Ａが内箱１４Ａにおける同一の面ではなく、異なる面に設けられてもよい。また、貫通穴５２Ａ，５４Ａに接続されるチューブを、外箱１２Ａの外部に突出させずに、外箱１２Ａと内箱１４Ａの間の空間１８Ａ内に配設することとしてもよい。また、培養室２６Ａ内のガスを循環させることが可能であり、貫通穴５２Ａ，５４Ａの周囲の流速を異ならせることが可能であれば、壁板３４Ａを設けない構成としてもよい。
　また、培養物を棚２８Ａに載置する構成として、内箱１４Ａ内が殺菌ガスで十分に殺菌されるように、第１実施形態の棚支柱４１、棚受け４２，４２’、棚板４３を採用してもよい。
[第３実施形態]
　例えば細胞や微生物等の培養物を培養室内で培養する培養装置がある。この培養装置は、培養室内の空気を循環させるファンと、培養室内を循環する空気を培養室の上方から下方へ案内するダクトとを備えている。
　培養時に、ファンが培養室内の空気を循環させることによって、培養室内の空気の中の例えば二酸化炭素等のガスを均一濃度に維持したり、培養室内を例えば外気温度よりも高い均一温度に維持したりする。また、培養時に、ファンを原動力としてダクトから下方に排出される空気が、培養室の底面に置かれた例えば加湿トレイの水面等で気流の方向を上方に転じて上昇気流を形成することによって、この上昇気流中に配置される培養物の湿度を保っている。
　ところで、先の培養物の培養が終了した後に、これとは別の次の培養物の培養を開始する前には、培養室内を清掃する必要がある。具体的には、先の培養物又はこれに起因する菌等を殺菌するべく、殺菌効果のある過酸化水素（H2O2）ガスを発生させて培養室内を所定濃度の過酸化水素ガスで満たし、この状態を所定時間だけ維持することがある。この目的のために、過酸化水素ガスを発生するガス発生器が開示されている（例えば特願２００７－２５９７１５号公報参照）。
　このガス発生器は、過酸化水素水（過酸化水素が溶解した水溶液）が貯蔵されるタンク及びこの過酸化水素水を霧化してガスを発生させる超音波振動子を有しており、この超音波振動子の振動によって過酸化水素ガスを発生させるようになっている。
　尚、特許文献１に開示される殺菌工程では、培養室の底面から培養時に用いた加湿トレイ等を取り外し、同底面に過酸化水素水でタンクを満たしたガス発生器を配置し、密閉された培養室内でガス発生器の超音波振動子を所定時間だけ運転する。
　ところで、培養室内の殺菌のために前述したガス発生器を用いる場合、過酸化水素ガスは空気よりも比重が大きいために、超音波振動子による霧化のみでは、培養室内の下方に過酸化水素ガスが停滞してしまう傾向がある。このように、過酸化水素ガスが培養室内に行き渡らない場合、培養装置の殺菌効果が低下する虞がある。
　一方、例えば、過酸化水素ガスをガス発生器から放出させて培養室内に行き渡らせるための送風手段をこのガス発生器の内部に個別に設ける場合、このような送風手段は過酸化水素水によって腐食されて故障し易いという問題がある。このため、培養装置の殺菌効果の安定性が低下する虞がある。
　そこで、本発明は、培養装置による培養室内の殺菌効果の安定性を向上させることを目的とする。
===培養装置の構成===
　図１７乃至図１９を参照しつつ、第３実施形態の培養装置１Ｂの構成例について説明する。図１７は、第３実施形態の培養装置１Ｂの一例の側面断面図である。図１８（ａ）は、第３実施形態のガス発生器１０Ｂの一例の平面図である。図１８（ｂ）は、図１８（ａ）のガス発生器１０ＢのＡ－Ａ’における部分断面図である。図１９は、図１７のガス発生器１０Ｂ及びその近傍の拡大図である。
　図１７に例示されるように、培養装置１Ｂは、ダクト４３Ｂと、ファン５Ｂａと、ガス発生器１０Ｂとを備えている。尚、この培養装置１Ｂは、内箱４Ｂの培養室４Ｂｂ内で例えば細胞や微生物等の培養物を培養する。
　内箱４Ｂは、例えばステンレス製の略直方形状の箱であり、その内部に培養室４Ｂｂを形成している。この内箱４Ｂには、所定のヒンジ（不図示）を介して開口を開閉可能な内扉４Ｂａが設けられている。この内扉４Ｂａは、例えば強化ガラス製で平板形状をなしており、内箱４Ｂの前方側（＋Ｙ側）の開口を所定のパッキン（不図示）を介して閉じると、内箱４Ｂ内が外部に対し気密になる。尚、図１７に例示される培養室４Ｂｂは、培養物を載置するための例えばステンレス製の複数の棚４２Ｂによって鉛直方向（Ｚ軸方向）に区画されている。この棚４２Ｂは、鉛直方向に貫通する複数の孔（不図示）を有し、内箱４Ｂの±Ｘ側の内面に対をなして設けられた例えばステンレス製の棚受け４１Ｂによって支持されている。
　ダクト４３Ｂは、例えば、内箱４Ｂの後方側（－Ｙ側）の壁と、ステンレス製の壁板５Ｂとから構成され、これらの間に空気の風路を形成している。図１７に例示される壁板５Ｂは、上方の上端部５１Ｂ、中央部５２Ｂ、及び下方の下端部５３Ｂに分かれている。上端部５１Ｂは、ファン５Ｂａの羽根と所定距離を隔ててこれを囲繞する形状をなすとともに、吸入口５１Ｂａを有している。中央部５２Ｂは、±Ｘ側で内箱４Ｂの後方側の内面と当接する部位と、同内面と一定距離を隔てて対向する部位とを有する、水平方向（Ｘ、Ｙ軸方向）の断面がコの字形状をなすものである。下端部５３Ｂは、鉛直方向に沿った平板部分の下端が折り曲げられて水平方向＋Ｙ側に延在する短片であって、内箱４Ｂの底面と鉛直方向に所定距離を隔てている。尚、図１７に例示されるダクト４３Ｂの下方（－Ｚ側）且つ内箱４Ｂの後方側の内面には、例えば、ダクト４３Ｂを通る空気に紫外線を照射する紫外線ランプ５Ｂｂが取り付けられている。
　ファン５Ｂａは、例えば、ダクト４３Ｂの上方（＋Ｚ側）且つ内箱４Ｂの後方側の内面に対しＹ軸方向を回転軸として設けられるシロッコファンである。このファン５Ｂａがモータ等の所定動力源（不図示）によって一定方向に回転することにより、培養室内の空気は、吸入口５１Ｂａを通じてダクト４３Ｂ内に流れ込み、ダクト４３Ｂ内を上方から下方へ流れ、ダクト４３Ｂの下方の開口を通じて培養室内に戻る循環路が構成される。
　尚、前述した内箱４Ｂは、例えばステンレス製の略直方形状をなす外箱２Ｂに収容されている。外箱２Ｂは、例えば金属製且つ内箱４Ｂと略相似形状をなす箱であり、その内側には保温のための断熱材（不図示）が設けられている。この外箱２Ｂと内箱４Ｂとの間には、更なる保温のために例えば空気の循環路としてのエアジャケット６Ｂが形成されており、このエアジャケット６Ｂには、培養室４Ｂｂ内の温度を調節するためのヒータ（不図示）が取り付けられている。
　また、外箱２Ｂには、所定のヒンジ（不図示）を介して開口を開閉可能な外扉３Ｂが設けられている。この外扉３Ｂは、保温のための断熱材（不図示）や培養室４Ｂｂ内の温度を調節するためのヒータ（不図示）等が内側に設けられた金属製の扉本体３１Ｂと、この扉本体３１Ｂにおける外箱２Ｂの開口と対向する凸部３１Ｂａに取り付けられたパッキン３３Ｂとを有している。この外扉３Ｂは、扉本体３１Ｂの前方側に、制御パネル３２Ｂを更に有している。この制御パネル３２Ｂは、例えば培養室４Ｂｂ内の温度や二酸化炭素の濃度等を設定するためのキーやこれらの現在値を表示するためのディスプレイ等を有しているとともに、これらの温度や濃度等を検出するためのセンサ等を制御する制御部（不図示）を有している。
　更に、外箱２Ｂの後方側の外面には、例えば、培養室４Ｂｂ内の温度を検出するためのセンサ（不図示）、二酸化炭素の濃度を検出するためのセンサ（不図示）、ヒータ（不図示）等を有するセンサボックス７Ｂが設けられている。これらのセンサは、例えば、外箱２Ｂの後方側の外面から内箱４Ｂの後方側の内面にかけて穿設された孔（不図示）を通じて、外箱２Ｂの外部から取り付けられている。また、これらのセンサは、前述した制御パネル３２Ｂが有する制御部と所定の配線（不図示）を介して電気的に接続されている。尚、この制御部は、ヒータ、ファン５Ｂａ、ガス発生器１０Ｂの超音波振動子１５Ｂ等の運転を制御する。また、外箱２Ｂの後方側の外面及びセンサボックス７Ｂは、内側に断熱性材（不図示）を有するカバー２１Ｂで覆われている。
<<<ガス発生器>>>
　図１８（ａ）及び図１８（ｂ）に例示されるように、本実施形態のガス発生器１０Ｂは、過酸化水素水が貯蔵されるタンク１４Ｂと、過酸化水素水を霧化してガス（過酸化水素）を発生させる超音波振動子１５Ｂと、タンク１４Ｂの開口１２１Ｂとを有しており、この開口１２１Ｂは、タンク１４Ｂに空気を導入する導入口１２１Ｂａと、タンク１４Ｂから過酸化水素ガスを伴った空気を培養室内に放出する放出口１２１Ｂｂとに分かれている。尚、図１８（ｂ）及び図１９に例示される、抑制板１３Ｂ、係止用ピン１３Ｂａ、及び超音波振動子１５Ｂは、以下の説明の便宜上、Ａ－Ａ’における断面ではなく、Ｘ軸方向に見た側面を表わしている。
　同図の例示では、例えば金属製の略矩形状の開口天板１２Ｂは、超音波振動子１５Ｂが下方（－Ｚ側）に取り付けられたタンク１４Ｂを、その開口１２１Ｂを上方（＋Ｚ側）に向けた姿勢で支持しつつ、例えば金属製の略直方形状の開口筐体１１Ｂに取り付けられる。この開口筐体１１Ｂの＋Ｘ側の側面には、不図示の電源からの電力供給用の配線コネクタ１９Ｂが取り付けられている。
　尚、タンク１４Ｂが取り付けられた開口天板１２Ｂと、開口筐体１１Ｂとによって画成される空間は、外部に対し気密になっている。この気密な空間には、超音波振動子１５Ｂと、この超音波振動子１５Ｂの運転を制御する制御基板１６Ｂと、超音波振動子１５Ｂ及び制御基板１６Ｂを電気的に接続する配線１７Ｂと、制御基板１６Ｂ及び配線コネクタ１９Ｂを電気的に接続する配線１８Ｂとが収容されている。
　図１８（ａ）、図１８（ｂ）、及び図１９に例示されるように、開口天板１２Ｂの開口１２１Ｂの周囲におけるＹ軸方向の略中央部には抑制板１３Ｂが立設されており、これによって、開口１２１Ｂは、導入口１２１Ｂａと、放出口１２１Ｂｂとに分かれる。この抑制板１３Ｂは、ダクト４３Ｂから排出される空気が放出口１２１Ｂｂに流入することを抑制する機能を有するとともに、この空気が導入口１２１Ｂａに効果的に流入するためにガス発生器１０Ｂを壁板５Ｂに対して好適な位置に固定させる機能を有している。
　具体的には、抑制板１３Ｂは、例えば、略矩形状の水平部１３１Ｂと、この水平部１３１ＢとＸ軸方向に沿って直交する鉛直部１３２Ｂと、この鉛直部１３２Ｂの両端とＸ軸方向に沿って直交し且つ水平部１３１Ｂと平行な一対の水平片１３３Ｂとを一体に有している金属製の板材である。尚、一対の水平片１３３Ｂは、鉛直部１３２Ｂが開口１２１ＢにおけるＹ軸方向の略中央部に位置するように、同開口１２１Ｂの周囲に固設されている。また、水平部１３１Ｂの±Ｘ側の貫通孔１３Ｂｂには、例えば下方（－Ｚ側）に向かって略円錐状をなし金属製の一対の係止用ピン１３Ｂａが設けられている。
　図１９に例示されるように、壁板５Ｂの下端部５３Ｂは、Ｘ軸方向に沿った一対の係止用孔５３Ｂａを有している。尚、この一対の係止用孔５３Ｂａは、例えば、壁板５Ｂの下端部５３ＢにおけるＸ軸方向に沿った両側に位置している。また、２つの係止用孔５３Ｂａの中心間距離は、図１８（ａ）に例示される２つの係止用ピン１３Ｂａの中心間距離と等しく設定されている。更に、図１９に例示されるように、係止用ピン１３Ｂａの円錐形状部分の最大径は、係止用孔５３Ｂａの径よりも少し小さく設定されている。
　以上の構成から、図１９に例示されるように、抑制板１３Ｂの一対の係止用ピン１３Ｂａを壁板５Ｂの下端部５３Ｂの一対の係止用孔５３Ｂａにそれぞれ嵌挿することによってガス発生器１０Ｂをダクト４３Ｂに取り付けた場合、壁板５Ｂの下端部５３Ｂと抑制板１３Ｂの水平部１３１Ｂとは、Ｙ軸方向では相互に重なり合うとともに、Ｘ軸方向では下端部５３Ｂの略中央に水平部１３１Ｂが位置する配置関係をとることになる。つまり、ガス発生器１０Ｂのタンク１４Ｂに関して、導入口１２１Ｂａはダクト４３Ｂ側に位置し、放出口１２１Ｂｂは棚４２Ｂ側に位置することになる。一方、抑制板１３Ｂを少し持ち上げて、一対の係止用孔５３Ｂａから一対の係止用ピン１３Ｂａをそれぞれ抜去することによって、ガス発生器１０Ｂをダクト４３Ｂから取り外すことができる。
　尚、図１９に例示されるように、開口筐体１１Ｂの下方側の略矩形状の外面の４隅には、例えば下方に向かって略円錐形状をなす４つの脚１１Ｂａが設けられており、培養室４Ｂｂの底面に対しそれぞれ点接触するようになっている。
　また、タンク１４Ｂ内には、過酸化水素水の水位を検出するためセンサ１４Ｂａが設けられている。このセンサ１４Ｂａは例えば一対の金属ピンを有し、これら一対の金属ピンはＺ軸方向に所定間隔をおいてタンク１４Ｂの内面から内側に突出するように設けられている。前述した制御部は、例えばこの一対の金属ピンの間の抵抗値を測定し、その測定結果に基づいてタンク１４Ｂ内の過酸化水素水の水位が所定値に達していないと判別した場合、超音波振動子１５Ｂの運転を禁止するようになっている。これにより、例えばタンク１４Ｂ内が空である場合に超音波振動子１５Ｂを誤って運転することを防止できる。従って、もし過酸化水素水の無い状態で運転すると過熱してしまう超音波振動子１５Ｂの熱による劣化又は故障を防止できる。
　更に、ガス発生器１０Ｂを培養室４Ｂｂ内に配置する場合、ガス発生器１０Ｂの配線コネクタ１９Ｂからの配線（不図示）の例えば雄コネクタ（不図示）と、前述した電源につながっており培養室４Ｂｂ内にある配線（不図示）の例えば雌コネクタ（不図示）とをつないで、電気的に接続するようになっている。尚、この一対のコネクタは、耐水性且つ耐腐食性を有している。一方、ガス発生器１０Ｂを培養室４Ｂｂから撤去する場合には、つないでいた雄コネクタ及び雌コネクタをはずせばよい。
===培養装置の動作===
　図２０及び図２１を参照しつつ、前述した構成を備えた培養装置１Ｂの動作例について説明する。図２０は、図１７の培養装置１Ｂの培養時における培養室４Ｂｂ内の風路の一例を示す模式図である。図２１は、図１７の培養装置１Ｂの殺菌運転における培養室４Ｂｂ内の風路の一例を示す模式図である。
　図２０に例示されるように、培養時には、加湿水を入れた例えばステンレス製の加湿トレイ４４Ｂを、その一部がダクト４３Ｂの真下に位置するように培養室４Ｂｂ内の底面に配置する。また、加湿トレイ４４Ｂ全体は、前方に孔４５Ｂａを有する例えばステンレス製のカバー４５Ｂで覆われている。
　同図の白抜き矢印で例示されるように、ファン５Ｂａの回転によって、培養室４Ｂｂ上方の棚４２Ｂ側の空気は、吸入口５１Ｂａを通じてダクト４３Ｂ内に流入し、同ダクト４３Ｂ内を上方から下方へ流れた後、加湿水の水面上を前方に流れるとともに加湿された空気はカバー４５Ｂの孔４５Ｂａを通過し、複数の棚４２Ｂを囲む上昇気流を形成する。そして、培養室４Ｂｂ上方まで上昇した空気は、再度、吸入口５１Ｂａを通じてダクト４３Ｂ内に流入する。このような空気の循環によって、培養室４Ｂｂ内は、例えば、略均一な温度、湿度、及び二酸化炭素濃度に維持される。
　図２１に例示されるように、殺菌運転では、過酸化水素水をタンク１４Ｂに貯蔵したガス発生器１０Ｂを、ダクト４３Ｂに対し図２１に示した相対位置をとるように、培養室４Ｂｂ内の底面に配置する。
　同図の白抜き矢印で例示されるように、ファン５Ｂａの回転によって、培養室４Ｂｂ上方の棚４２Ｂ側の空気は、吸入口５１Ｂａを通じてダクト４３Ｂ内に流入し、同ダクト４３Ｂ内を上方から下方へ流れた後、少なくともその一部はガス発生器１０Ｂの導入口１２１Ｂａを通じてタンク１４Ｂ内に入り、過酸化水素水の水面でその気流の方向を上方に転じるとともに、超音波振動子１５Ｂの運転によって霧化した過酸化水素を伴って、ガス発生器１０Ｂの放出口１２１Ｂｂから放出されて、複数の棚４２Ｂを囲む上昇気流を形成する。そして、培養室４Ｂｂ上方まで上昇した空気は、再度、吸入口５１Ｂａを通じてダクト４３Ｂ内に流入する。
　以上述べた培養装置１Ｂによれば、殺菌運転では、培養時に用いるファン５Ｂａ及びダクト４３Ｂ（図２０参照）を利用して、過酸化水素ガスの培養室４Ｂｂ内での均一性を向上させることができる。つまり、ファン５Ｂａ及びダクト４３Ｂによって形成される循環気流によって過酸化水素ガスが培養室４Ｂｂの上方に放出されるため（図２１参照）、空気よりも比重が大きく培養室４Ｂｂの下方へ停滞しがちな過酸化水素ガスの培養室４Ｂｂ内での均一性が向上する。これは、培養装置１Ｂの殺菌効果の向上につながる。また、ガス発生器１０Ｂ自体はこの均一化のための例えばファン等の電動式の動力手段を個別に有する必要がないため、このような手段が過酸化水素ガスによって腐食されたり湿度によって漏電したりする故障が起こり得ない。これにより、培養装置１Ｂの殺菌効果の安定性が向上する。
　更に、この培養装置１Ｂによれば、ガス発生器１０Ｂの導入口１２１Ｂａ及び放出口１２１Ｂｂは抑制板１３Ｂによって分けられているため、放出口１２１Ｂｂから放出される空気は、例えばダクト４３Ｂを通じて下方に流れる空気に邪魔されることなく、培養室４Ｂｂの上方に効果的に放出される。また、抑制板１３Ｂと下端部５３Ｂとの前述した係合によって、ダクト４３Ｂからの空気をタンク１４Ｂ内に効果的に導入するためにダクト４３Ｂに対しガス発生器１０Ｂを好適な位置に配置できる。以上により、過酸化水素ガスの培養室４Ｂｂ内での均一性がより一層向上し、よって培養装置１Ｂの殺菌効果もより一層向上する。
　加えて、この培養装置１Ｂによれば、ガス発生器１０Ｂの複数の脚１１Ｂａは、培養室４Ｂｂの底面に点接触しているため、この底面の略全面が過酸化水素ガスに暴露可能となる。これは、培養装置１Ｂの殺菌効果の向上につながる。
===その他の実施形態===
　前述した実施形態では、ファン５Ｂａは、内箱４Ｂの後方側の内面に対し設けられていたが、これに限定されるものではない。ファン５Ｂａは、例えば内箱４Ｂの±Ｘ側の内面（図１７参照）に設けられていてもよいし、例えば内箱４Ｂの天面に設けられていてもよい。
　前述した実施形態では、ダクト４３Ｂは、内箱４Ｂの後方側の壁と、壁板５Ｂとから構成されるものであったが、これに限定されるものではない。ダクト４３Ｂは、例えば、培養室４Ｂｂを占有し過ぎず、培養物の培養の邪魔にならず、ファン５Ｂａからの空気を培養室４Ｂｂの上方から下方へ案内し、殺菌し易いものであれば、如何なる構成であってもよいし、培養室４Ｂｂ内の如何なる場所に設けられていてもよい。
　前述した実施形態では、ダクト４３Ｂとガス発生器１０Ｂの抑制板１３Ｂとの係合は、壁板５Ｂの下端部５３Ｂにおける一対の係止用孔５３Ｂａ及び一対の係止用ピン１３Ｂａを介したものであったが、これに限定されるものではない。ダクト４３Ｂと抑制板１３Ｂとの着脱手段は、例えば殺菌し易い単純な形状をなすものであれば如何なる構成であってもよい。
　また、培養物を棚４２Ｂに載置する構成として、内箱４Ｂ内が殺菌ガスで十分に殺菌されるように、第１実施形態の棚支柱４１、棚受け４２，４２’、棚板４３を採用してもよい。

Claims (6)

  1. 　培養物を培養するための培養室と、該培養室内に設けられ、培養物を載せる棚板と、該棚板を支持する左右一対の棚受けと、該棚受けを支持する複数の棚支柱とを備え、前記培養室内に殺菌ガスを供給して該培養室を殺菌するようになした培養装置において、
    　前記棚受けは、前記棚板を支持する一方の片と、前記棚支柱に支持される他方の片から成り、その断面形状が前記一方の片と他方の片で挟まれた角度が鋭角のＬ字状を呈し、前記一方の片は前記培養室の側面から内側に向かって斜め上方向に延びた先端が前記棚板の下面と線接触することを特徴とする培養装置。
  2. 　前記棚支柱は、前記棚受けを支持する側の側面が中央が膨らんだ山形の断面形状を成し、前記棚受けの他方の片と線接触することを特徴とする請求項１に記載の培養装置。
  3. 　前記棚支柱は、前記棚受けを支持する側の側面が中央で折り曲げられていることを特徴とする請求項２に記載の培養装置。
  4. 　前記棚板は、複数の孔を有することを特徴とする請求項１に記載の培養装置。
  5. 　前記棚受けの他方の片は、前記棚支柱に設けた孔にそれぞれ係合する一対の係止片を備え、前記棚受けが前記棚支柱に支持されたとき前記培養室の奥側に位置する一方の前記係止片は前後方向に延在し、他方の前記係止片は上下方向に延在することを特徴とする請求項１に記載の培養装置。
  6. 　前記殺菌ガスは、過酸化水素ガスであることを特徴とする請求項１に記載の培養装置。
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