WO2010016412A1

WO2010016412A1 - 表示装置およびその製造方法

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Publication number: WO2010016412A1
Application number: PCT/JP2009/063461
Authority: WO
Inventors: 圭介松尾; 幸治花輪
Original assignee: ソニー株式会社
Priority date: 2008-08-08
Filing date: 2009-07-29
Publication date: 2010-02-11
Also published as: EP2312558A1; KR101545374B1; CN102113039B; EP2312558A4; JP2010044118A; KR20110050440A; EP2312558B1; US20110133636A1; CN102113039A; US8456080B2

Abstract

　レーザ転写法により形成された発光層の位置ズレまたは幅のばらつきなどの予兆を早期に発見することができる表示装置およびその製造方法を提供する。有効領域１１０の外側の検査領域１５０に、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂよりなる検査用画素Ｐｘ２を設け、検査対象色の両側の検査用画素Ｐｘ２の間の距離Ｗ２を、検査対象色の両側の表示用画素Ｐｘ１の間の距離Ｗ１よりも狭くする。検査用画素Ｐｘ２のＥＬまたはＰＬ発光の色度またはスペクトル形状の変化に基づいて、赤色発光層１５ＣＲ，緑色発光層１５ＣＧの位置ズレなどの予兆を早期に発見する。

Description

表示装置およびその製造方法

　本発明は、レーザ転写法により有機発光素子を形成した表示装置およびその製造方法に関する。

　近年、次世代の表示装置が盛んに開発されており、駆動用基板に、第１電極、発光層を含む複数の有機層および第２電極を順に積層した有機発光素子（有機ＥＬ（Electroluminescence ）素子）を用いた有機発光表示装置が注目されている。有機発光表示装置は、自発光型であるので視野角が広く、バックライトを必要としないので省電力が期待でき、応答性が高く、装置の厚みを薄くできるなどの特徴を有している。そのため、テレビ等の大画面表示装置への応用が強く望まれている。

　有機発光表示装置の大型化や生産性向上のため、更に大型のマザーガラスの使用が検討されている。その際、一般的なメタルマスクを用いた発光層の形成方法では、金属シートに開口パターンを設けたメタルマスクを介して発光材料を蒸着または塗布することによりＲ，Ｇ，Ｂの発光層をパターニングするようにしているので、大型基板に対応してメタルマスクも大型化する必要がある。

　しかしながら、メタルマスクの大型化により、マスクの自重によるたわみ、蒸着時の熱膨張が顕著になることに加えて、メタルマスクそのものの開口パターンの精度が大型化により低下するので、発光層のパターニング精度も得られなくなってしまうという問題がある。また、メタルマスクと基板との接触による素子へのダメージ、マスク上の異物などによる欠点不良も、大型化に伴って深刻化する。このようなことから、メタルマスクを必要としないパターニング技術が求められている。

　大型基板対応のマスクレスパターニング方式としては、インクジェット法（例えば、特許文献１参照。）と、レーザ転写法（例えば、特許文献２および特許文献３）とがある。レーザ転写法は、支持材に発光材料を含む転写層を形成したドナー要素を形成し、このドナー要素を、有機発光素子を形成するための被転写基板に対向配置し、減圧環境下でレーザビームを照射することにより転写層を被転写基板に転写する方法である（例えば、特許文献２および特許文献３参照。）。レーザ転写法は、従来のマスク蒸着法に対して、高精細化が可能である、大型基板対応が可能であるという二つの優位性を有している。有機ＥＬの大型テレビ量産を実現する上で、大型基板対応の製造技術の確立は必須と考えられているが、レーザ転写法は、大型基板に対してもパターニング精度を一定に保つことができるため、その有力候補の一つとなっている。

　レーザ転写法では、図３９に示したように、有効領域８１０内に、有機発光素子８１０Ｒ，８１０Ｇ，８１０Ｂよりなる表示用画素Ｐｘ１が行列状に形成され、同じ色の表示用画素Ｐｘ１が同じ列に配置されている。同じ列の有機発光素子８１０Ｒよりなる表示用画素Ｐｘ１には、レーザ転写法により、連続した赤色発光層８１５ＣＲが形成されている。同様に、同じ列の有機発光素子８１０Ｇよりなる表示用画素Ｐｘ１には、レーザ転写法により、連続した緑色発光層８１５ＣＧが形成されている。

特開１９９８－１２３７７号公報特開２００２－１１０３５０号公報特表２００２－５３４７８２号公報特開２００３－１０７２３８号公報

　一般的に、レーザ転写法では、生産性向上のために、レーザまたは基板のスキャン速度高速化のほかに、マルチレーザヘッドまたはマルチビームを用いることで、基板１枚当たりの処理時間を短縮することが想定される。その場合、ヘッド間距離のばらつき、ビーム強度の不均一あるいはビーム間隔のばらつき、またはそれらの経時変化などにより、図３９に示したように、転写された赤色発光層８１５ＣＲ，緑色発光層８１５ＣＧの位置ズレまたは幅のばらつきが生じる可能性があった。このような位置ズレや幅のばらつきは、混色または膜厚分布不均一などの不良を引き起こすものであるが、そのような不良が発生する寸前であっても発光に異常はみられないので、対策が遅れがちであった。有機発光素子の発光層は一般的に厚みが数１０ｎｍ～数１００ｎｍの薄膜であるので、認識しづらく、転写された発光層の位置または幅の管理は比較的困難であった。また、位置ズレや幅のばらつきの原因となっているヘッドまたはビームの特定も容易ではなかった。

　更に、レーザヘッドの位置ズレによる不良が発生した場合、転写工程から検査工程までの間にタイムラグがあるため、その間に生産されたパネルの大部分が不良となり、歩留まりに著しい影響を与えるおそれがあった。

　特許文献４では、有機ＥＬパターンのパターニング位置精度評価パターンが開示されている。しかし、この従来技術では、有機ＥＬのパターニング方法がインクジェット法に限定されており、測定対象が膜ではなく液滴であるので、最終的に発光領域に形成されるパターンの幅が不明瞭であった。また、位置精度悪化原因となるヘッドまたはノズルの特定も困難であった。

　本発明はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、レーザ転写法により形成された発光層の位置ズレまたは幅のばらつきなどの予兆を早期に発見することができる表示装置およびその製造方法を提供することにある。

　本発明による第１の表示装置は、以下の（Ａ），（Ｂ）の構成要件を備えたものである。
（Ａ）基板に、有機発光素子よりなる表示用画素が行列状に形成され、同じ色の表示用画素が同じ列に配置されている有効領域
（Ｂ）基板の有効領域の外側に、有機発光素子よりなる検査用画素を有し、検査対象色の両側の検査用画素の間の距離が、検査対象色の両側の表示用画素の間の距離よりも狭い検査領域

　本発明による第２の表示装置は、以下の（Ａ），（Ｂ）の構成要件を備えたものである。
（Ａ）基板に、有機発光素子よりなる表示用画素が行列状に形成され、同じ色の表示用画素が同じ列に配置されている有効領域
（Ｂ）基板の有効領域の外側に、反射層を含む検査用パターンを有し、検査対象色の両側の検査用パターンの間の距離が、検査対象色の両側の表示用画素の間の距離よりも狭い検査領域

　本発明による第３の表示装置は、以下の（Ａ），（Ｂ）の構成要件を備えたものである。
（Ａ）基板に、有機発光素子よりなる表示用画素が行列状に形成され、同じ色の表示用画素が同じ列に配置されている有効領域
（Ｂ）基板の有効領域の外側に、有機発光素子よりなる検査用画素を有し、検査用画素は、検査対象色の表示用画素と同じ列に設けられていると共に、表示用画素よりも幅が広い検査領域

　本発明による第４の表示装置は、以下の（Ａ），（Ｂ）の構成要件を備えたものである。
（Ａ）基板に、有機発光素子よりなる表示用画素が行列状に形成され、同じ色の表示用画素が同じ列に配置されている有効領域
（Ｂ）基板の有効領域の外側に、反射層を含む検査用パターンを有し、検査用パターンは、検査対象色の表示用画素と同じ列に設けられていると共に、表示用画素よりも幅が広い検査領域

　本発明による第５の表示装置は、以下の（Ａ），（Ｂ）の構成要件を備えたものである。
（Ａ）基板に、有機発光素子よりなる表示用画素が行列状に形成され、同じ色の表示用画素が同じ列に配置されている有効領域
（Ｂ）基板の有効領域の外側に、反射層を含むと共に目盛り付きの検査用パターンを有し、検査用パターンが、検査対象色の列と、その両側の列の少なくとも一部とにかかる行方向の直線状に形成されている検査領域

　本発明による第１の表示装置の製造方法は、以下の（Ａ）～（Ｅ）の工程を含むものである。
（Ａ）基板の有効領域に表示用画素の第１電極を行列状に形成すると共に、有効領域の外側の検査領域に、検査用画素の第１電極を形成し、検査対象色の両側の検査用画素の第１電極の間の距離を、検査対象色の両側の表示用画素の第１電極の間の距離よりも狭くする工程
（Ｂ）表示用画素の第１電極および検査用画素の第１電極の上に、赤色発光層，緑色発光層または青色発光層の少なくとも一つを含む有機層を形成し、少なくとも赤色発光層および緑色発光層をレーザ転写法により有効領域を超えて検査領域に達する列方向の直線状に形成する工程
（Ｃ）有機層の上に第２電極を形成する工程
（Ｄ）検査用画素をＥＬまたはＰＬ（Photoluminescence）により発光させて、色度またはスペクトル形状を測定する工程
（Ｅ）色度またはスペクトル形状に基づいて、赤色発光層，緑色発光層または青色発光層の位置または幅が規格範囲外か否かを判別する工程

　本発明による第２の表示装置の製造方法は、以下の（Ａ）～（Ｅ）の工程を含むものである。
（Ａ）基板の有効領域に表示用画素の第１電極を行列状に形成すると共に、有効領域の外側の検査領域に、反射層を含む検査用パターンを形成し、検査対象色の両側の検査用パターンの間の距離を、検査対象色の両側の表示用画素の第１電極の間の距離よりも狭くする工程
（Ｂ）第１電極の上に、赤色発光層，緑色発光層または青色発光層の少なくとも一つを含む有機層を形成し、少なくとも赤色発光層および緑色発光層をレーザ転写法により有効領域を超えて検査領域に達する列方向の直線状に形成する工程
（Ｃ）有機層の上に第２電極を形成する工程
（Ｄ）検査用パターンに光を照射し、反射光またはＰＬ発光の色度またはスペクトル形状を測定する工程
（Ｅ）色度またはスペクトル形状に基づいて、赤色発光層，緑色発光層または青色発光層の位置または幅が規格範囲外か否かを判別する工程

　本発明による第３の表示装置の製造方法は、以下の（Ａ）～（Ｅ）の工程を含むものである。
（Ａ）基板の有効領域に表示用画素の第１電極を行列状に形成すると共に、有効領域の外側の検査領域に、検査用画素の第１電極を、検査対象色の表示用画素と同じ列に、表示用画素の第１電極よりも広い幅で形成する工程
（Ｂ）表示用画素の第１電極および検査用画素の第１電極の上に、赤色発光層，緑色発光層または青色発光層の少なくとも一つを含む有機層を形成し、少なくとも赤色発光層および緑色発光層をレーザ転写法により有効領域を超えて検査領域に達する列方向の直線状に形成する工程
（Ｃ）有機層の上に第２電極を形成する工程
（Ｄ）検査用画素をＥＬまたはＰＬにより発光させて、色度またはスペクトル形状を測定する工程
（Ｅ）色度またはスペクトル形状に基づいて、赤色発光層，緑色発光層または青色発光層の幅が規格範囲外か否かを判別する工程

　本発明による第４の表示装置の製造方法は、以下の（Ａ）～（Ｅ）の工程を含むものである。
（Ａ）基板の有効領域に表示用画素の第１電極を行列状に形成すると共に、有効領域の外側の検査領域に、反射層を含む検査用パターンを、検査対象色の表示用画素と同じ列に、表示用画素の第１電極よりも広い幅で形成する工程
（Ｂ）第１電極の上に、赤色発光層，緑色発光層または青色発光層の少なくとも一つを含む有機層を形成し、少なくとも赤色発光層および緑色発光層をレーザ転写法により有効領域を超えて検査領域に達する列方向の直線状に形成する工程
（Ｃ）有機層の上に第２電極を形成する工程
（Ｄ）検査用パターンに光を照射し、反射光またはＰＬ発光の色度またはスペクトル形状を測定する工程
（Ｅ）色度またはスペクトル形状に基づいて、赤色発光層，緑色発光層または青色発光層の幅が規格範囲外か否かを判別する工程

　本発明による第５の表示装置の製造方法は、以下の（Ａ）～（Ｅ）の工程を含むものである。
（Ａ）基板の有効領域に表示用画素の第１電極を行列状に形成すると共に、有効領域の外側の検査領域に、反射層よりなる目盛り付きの検査用パターンを、検査対象色の列と、その両側の列の少なくとも一部とにかかる行方向の直線状に形成する工程
（Ｂ）第１電極の上に、赤色発光層，緑色発光層または青色発光層の少なくとも一つを含む有機層を形成し、少なくとも赤色発光層および緑色発光層をレーザ転写法により有効領域を超えて検査領域に達する列方向の直線状に形成する工程
（Ｃ）有機層の上に第２電極を形成する工程
（Ｄ）検査用パターンに光を照射し、反射光またはＰＬ発光の色度またはスペクトル形状を測定する工程
（Ｅ）色度またはスペクトル形状に基づいて、赤色発光層，緑色発光層または青色発光層の位置または幅が規格範囲外か否かを判別する工程

　本発明の第１の表示装置では、有効領域の外側の検査領域に、有機発光素子よりなる検査用画素が設けられており、検査対象色の両側の検査用画素の間の距離が、検査対象色の両側の表示用画素の間の距離よりも狭くなっているので、レーザ転写法により形成された赤色発光層，緑色発光層または青色発光層の位置ズレまたは幅のばらつきが生じている場合には、検査用画素のＥＬまたはＰＬ発光の色度またはスペクトル形状が変化する。よって、混色または膜厚分布不均一といった不良を引き起こす前に、赤色発光層，緑色発光層または青色発光層の位置ズレまたは幅のばらつきなどの予兆を早期に発見することが可能となる。

　本発明の第２の表示装置では、有効領域の外側の検査領域に、反射層を含む検査用パターンが設けられており、検査対象色の両側の検査用パターンの間の距離が、検査対象色の両側の表示用画素の間の距離よりも狭くなっているので、レーザ転写法により形成された赤色発光層，緑色発光層または青色発光層の位置ズレまたは幅のばらつきが生じている場合には、検査用パターンの上に赤色発光層，緑色発光層または青色発光層が重なって形成されている。よって、検査用パターンに光を照射すると、赤色発光層，緑色発光層または青色発光層との重なり部分では、干渉効果により、反射光またはＰＬ発光の色度またはスペクトル形状が変化する。よって、混色または膜厚分布不均一といった不良を引き起こす前に、赤色発光層，緑色発光層または青色発光層の位置ズレまたは幅のばらつきなどの予兆を早期に発見することが可能となる。

　本発明の第３の表示装置では、有効領域の外側の検査領域に、有機発光素子よりなる検査用画素が、検査対象色の表示用画素と同じ列に設けられており、検査用画素の幅が、表示用画素よりも広くなっているので、レーザ転写法により形成された赤色発光層，緑色発光層または青色発光層の幅が不足している場合には、検査用画素のＥＬまたはＰＬ発光の色度またはスペクトル形状が変化する。よって、混色または膜厚分布不均一といった不良を引き起こす前に、赤色発光層，緑色発光層または青色発光層の幅不足の予兆を早期に発見することが可能となる。

　本発明の第４の表示装置では、有効領域の外側の検査領域に、反射層を含む検査用パターンが、検査対象色の表示用画素と同じ列に設けられており、検査用パターンの幅が、表示用画素よりも広くなっているので、レーザ転写法により形成された赤色発光層，緑色発光層または青色発光層の幅が不足している場合には、検査用パターンに光を照射すると、反射光またはＰＬ発光の色度またはスペクトル形状が変化する。よって、混色または膜厚分布不均一といった不良を引き起こす前に、赤色発光層，緑色発光層または青色発光層の幅不足の予兆を早期に発見することが可能となる。

　本発明の第５の表示装置では、有効領域の外側の検査領域に、反射層を含むと共に目盛り付きの検査用パターンが設けられており、検査用パターンが、検査対象色の列と、その両側の列の少なくとも一部とにかかる行方向の直線状に形成されているので、検査用パターンに光を照射すると、赤色発光層，緑色発光層または青色発光層との重なり部分では、干渉効果により、反射光またはＰＬ発光の色度またはスペクトル形状が変化する。色度またはスペクトル形状が変化する位置の目盛りを読み取ることにより、赤色発光層，緑色発光層または青色発光層の位置または幅が判明する。よって、混色または膜厚分布不均一といった不良を引き起こす前に、赤色発光層，緑色発光層または青色発光層の位置ズレまたは幅のばらつきなどの予兆を早期に発見することが可能となる。

　本発明の第１の表示装置によれば、有効領域の外側の検査領域に、有機発光素子よりなる検査用画素を設け、検査対象色の両側の検査用画素の間の距離を、検査対象色の両側の表示用画素の間の距離よりも狭くするようにしたので、この検査用画素のＥＬまたはＰＬ発光の色度またはスペクトル形状の変化に基づいて、赤色発光層，緑色発光層または青色発光層の位置ズレまたは幅のばらつきなどの予兆を早期に発見することが可能となる。

　本発明の第２の表示装置によれば、有効領域の外側の検査領域に、反射層を含む検査用パターンを設け、検査対象色の両側の検査用パターンの間の距離を、検査対象色の両側の表示用画素の間の距離よりも狭くするようにしたので、検査用パターンの反射光またはＰＬ発光の色度またはスペクトル形状の変化に基づいて、赤色発光層，緑色発光層または青色発光層の位置ズレまたは幅のばらつきなどの予兆を早期に発見することが可能となる。

　本発明の第３の表示装置によれば、有効領域の外側の検査領域に、有機発光素子よりなる検査用画素を、検査対象色の表示用画素と同じ列に設け、この検査用画素の幅を、表示用画素よりも広くするようにしたので、この検査用画素のＥＬまたはＰＬ発光の色度またはスペクトル形状の変化に基づいて、赤色発光層，緑色発光層または青色発光層の幅不足の予兆を早期に発見することが可能となる。

　本発明の第４の表示装置によれば、有効領域の外側の検査領域に、反射層を含む検査用パターンを、検査対象色の表示用画素と同じ列に設け、この検査用パターンの幅を、表示用画素よりも広くするようにしたので、検査用パターンの反射光またはＰＬ発光の色度またはスペクトル形状の変化に基づいて、赤色発光層，緑色発光層または青色発光層の幅不足の予兆を早期に発見することが可能となる。

　本発明の第５の表示装置によれば、有効領域の外側の検査領域に、反射層を含むと共に目盛り付きの検査用パターンを設け、この検査用パターンを、検査対象色の列と、その両側の列の少なくとも一部とにかかる行方向の直線状に形成するようにしたので、検査用パターンの反射光またはＰＬ発光の色度またはスペクトル形状が変化する位置の目盛りを読み取ることにより、赤色発光層，緑色発光層または青色発光層の位置ズレまたは幅のばらつきなどの予兆を早期に発見することが可能となる。

　本発明の第１の表示装置の製造方法によれば、有効領域の外側の検査領域に、有機発光素子よりなる検査用画素を設け、検査対象色の両側の検査用画素の間の距離を、検査対象色の両側の表示用画素の間の距離よりも狭くし、検査用画素をＥＬまたはＰＬにより発光させて、その色度またはスペクトル形状に基づいて、赤色発光層，緑色発光層または青色発光層の位置または幅が規格範囲外か否かを判別するようにしたので、赤色発光層，緑色発光層または青色発光層の位置ズレまたは幅のばらつきなどの予兆を早期に発見することが可能となる。

　本発明の第２の表示装置の製造方法によれば、有効領域の外側の検査領域に、反射層よりなる検査用パターンを形成し、検査対象色の両側の検査用パターンの間の距離を、検査対象色の両側の表示用画素の第１電極の間の距離よりも狭くし、検査用パターンに光を照射して、その反射光またはＰＬ発光の色度またはスペクトル形状に基づいて、赤色発光層，緑色発光層または青色発光層の位置または幅が規格範囲外か否かを判別するようにしたので、赤色発光層，緑色発光層または青色発光層の位置ズレまたは幅のばらつきなどの予兆を早期に発見することが可能となる。

　本発明の第３の表示装置の製造方法によれば、有効領域の外側の検査領域に、検査用画素の第１電極を、検査対象色の表示用画素と同じ列に、表示用画素の第１電極よりも広い幅で形成し、検査用画素をＥＬまたはＰＬにより発光させて、その色度またはスペクトル形状に基づいて、赤色発光層，緑色発光層または青色発光層の幅が規格範囲外か否かを判別するようにしたので、赤色発光層，緑色発光層または青色発光層の幅不足の予兆を早期に発見することが可能となる。

　本発明の第４の表示装置の製造方法によれば、有効領域の外側の検査領域に、反射層を含む検査用パターンを、検査対象色の表示用画素と同じ列に、表示用画素の第１電極よりも広い幅で形成し、検査用パターンに光を照射し、その反射光またはＰＬ発光の色度またはスペクトル形状に基づいて、赤色発光層，緑色発光層または青色発光層の幅が規格範囲外か否かを判別するようにしたので、赤色発光層，緑色発光層または青色発光層の幅不足の予兆を早期に発見することが可能となる。

　本発明の第５の表示装置の製造方法によれば、有効領域の外側の検査領域に、反射層を含むと共に目盛り付きの検査用パターンを所定の位置に形成し、この検査用パターンに光を照射し、反射光またはＰＬ発光の色度またはスペクトル形状に基づいて、赤色発光層，緑色発光層または青色発光層の位置または幅が規格範囲外か否かを判別するようにしたので、検査用パターンの反射光またはＰＬ発光の色度またはスペクトル形状が変化する位置の目盛りを読み取ることにより、赤色発光層，緑色発光層または青色発光層の位置ズレまたは幅のばらつきなどの予兆を早期に発見することが可能となる。

本発明の第１の実施の形態に係る表示装置の構成を表す図である。図１に示した画素駆動回路の一例を表す図である。図１に示した有効領域の構成を表す断面図である。図１に示した有効領域およびその外側の検査領域の構成を表す平面図である。図４のＶ－Ｖ線における断面図である。図１に示した表示装置の製造方法の流れを表す図である。図６に示した製造方法の一部を工程順に表す断面図である。本発明の変形例２に係る検査領域の構成を表す平面図である。本発明の変形例３に係る検査領域の構成を表す平面図である。本発明の変形例４に係る検査領域の構成を表す平面図である。本発明の変形例５に係る検査領域の構成を表す平面図である。本発明の変形例６に係る検査領域の構成を表す断面図である。本発明の変形例６に係る検査領域の構成を表す平面図である。本発明の変形例７に係る検査領域の配置の一例を表す平面図である。本発明の変形例８に係る検査領域の構成を表す平面図である。検査領域の配置の他の例を表す平面図である。検査領域の配置の更に他の例を表す平面図である。検査領域の配置の更に他の例を表す平面図である。検査領域の配置の更に他の例を表す平面図である。検査領域の配置の更に他の例を表す平面図である。検査領域の配置の更に他の例を表す平面図である。検査領域の配置の更に他の例を表す平面図である。検査領域の配置の更に他の例を表す平面図である。本発明の第２の実施の形態に係る表示領域の構成を表す平面図である。図２４に示した表示装置の製造方法の流れを表す図である。本発明の第３の実施の形態に係る検査領域の構成を表す平面図である。図２６に示した表示装置の製造方法の流れを表す図である。本発明の第４の実施の形態に係る検査領域の構成を表す平面図である。図２８に示した表示装置の製造方法の流れを表す図である。本発明の第５の実施の形態に係る検査領域の構成を表す平面図である。図３０に示した表示装置の製造方法の流れを表す図である。実施例１の検査領域の構成を表す平面図である。上記各実施の形態の表示装置を含むモジュールの概略構成を表す平面図である。上記各実施の形態の表示装置の適用例１の外観を表す斜視図である。（Ａ）は適用例２の表側から見た外観を表す斜視図であり、（Ｂ）は裏側から見た外観を表す斜視図である。適用例３の外観を表す斜視図である。適用例４の外観を表す斜視図である。（Ａ）は適用例５の開いた状態の正面図、（Ｂ）はその側面図、（Ｃ）は閉じた状態の正面図、（Ｄ）は左側面図、（Ｅ）は右側面図、（Ｆ）は上面図、（Ｇ）は下面図である。従来のレーザ転写法の問題点を説明するための図である。

　以下、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。なお、説明は以下の順序で行う。
１．第１の実施の形態（位置ズレ・幅ばらつき検出；検査用画素の幅を広くし、目盛り付きの検査用パターンを併用する例）
２．変形例１（目盛り付きの検査用パターンを併用しない例）
３．変形例２（検査用画素の位置をずらした例）
４．変形例３（検査用画素の配列を変えた例）
５．変形例４（検査用画素の長辺サイズおよび数を変えた例）
６．変形例５（識別パターンの他の例）
７．変形例６（３色レーザ転写の例）
８．変形例７（一つの検査用画素で２色以上を検査するようにした例）
９．変形例８（検査領域の配置を換えた例）
１０．第２の実施の形態（位置ズレ・幅ばらつき検出；検査用パターンを用いる例）
１１．第３の実施の形態（幅不足検出；検査用画素を用いる例）
１２．第４の実施の形態（幅不足検出；検査用パターンを用いる例）
１３．第５の実施の形態（位置ズレ・幅ばらつき検出；目盛り付き検査用パターンのみを用いる例）

＜１．第１の実施の形態＞
表示装置
　図１は、本発明の第１の実施の形態に係る表示装置の構成を表すものである。この表示装置は、極薄型の有機発光カラーディスプレイ装置などとして用いられるものであり、例えば、ガラスよりなる駆動用基板１１の上に、後述する複数の有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂよりなる表示用画素Ｐｘ１が行列状（マトリクス状）に配置されてなる有効領域１１０が形成されると共に、この有効領域１１０の周辺に、映像表示用のドライバである信号線駆動回路１２０および走査線駆動回路１３０が形成されたものである。

　有効領域１１０内には画素駆動回路１４０が形成されている。図２は、画素駆動回路１４０の一例を表したものである。この画素駆動回路１４０は、後述する第１電極１３の下層に形成され、駆動トランジスタＴｒ１および書き込みトランジスタＴｒ２と、その間のキャパシタ（保持容量）Ｃｓと、第１の電源ライン（Ｖｃｃ）および第２の電源ライン（ＧＮＤ）の間において駆動トランジスタＴｒ１に直列に接続された有機発光素子１０Ｒ（または１０Ｇ，１０Ｂ）とを有するアクティブ型の駆動回路である。駆動トランジスタＴｒ１および書き込みトランジスタＴｒ２は、一般的な薄膜トランジスタ（ＴＦＴ（Thin FilmTransistor））により構成され、その構成は例えば逆スタガー構造（いわゆるボトムゲート型）でもよいしスタガー構造（トップゲート型）でもよく特に限定されない。

　画素駆動回路１４０において、列方向には信号線１２０Ａが複数配置され、行方向には走査線１３０Ａが複数配置されている。各信号線１２０Ａと各走査線１３０Ａとの交差点が、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂのいずれか一つ（サブピクセル）に対応している。各信号線１２０Ａは、信号線駆動回路１２０に接続され、この信号線駆動回路１２０から信号線１２０Ａを介して書き込みトランジスタＴｒ２のソース電極に画像信号が供給されるようになっている。各走査線１３０Ａは走査線駆動回路１３０に接続され、この走査線駆動回路１３０から走査線１３０Ａを介して書き込みトランジスタＴｒ２のゲート電極に走査信号が順次供給されるようになっている。

　図３は有効領域１１０の断面構成を表したものである。有効領域１１０には、赤色の光を発生する有機発光素子１０Ｒ，緑色の光を発生する有機発光素子１０Ｇ，青色の光を発生する有機発光素子１０Ｂのいずれかよりなる表示用画素（サブピクセル）Ｐｘ１が、行列状（マトリクス状）に形成されている。なお、隣り合う有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの組み合わせが一つの画素（ピクセル）を構成しているが、ここでは一つの有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂのいずれかを表示用画素Ｐｘ１と呼んでいる。隣り合う有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの組み合わせよりなる画素のピッチは例えば３００μｍである。

　有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂは、それぞれ、駆動用基板１１の側から、上述した画素駆動回路１４０の駆動トランジスタ（図示せず）および平坦化絶縁膜（図示せず）を間にして、陽極としての第１電極１３、絶縁層１４、後述する赤色発光層１５ＣＲ，緑色発光層１５ＣＧ，青色発光層１５ＣＢを含む有機層１５、および陰極としての第２電極１６がこの順に積層された構成を有している。

　このような有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂは、窒化ケイ素（ＳｉＮx ）などの保護膜１７により被覆され、更にこの保護膜１７上に接着層２０を間にしてガラスなどよりなる封止用基板３０が全面にわたって貼り合わされることにより封止されている。

　第１電極１３は、例えば、ＩＴＯ（インジウム・スズ複合酸化物）またはＩＺＯ（インジウム・亜鉛複合酸化物）により構成されている。また、第１電極１３は、反射電極により構成してもよい。その場合、第１電極１３は、例えば、厚みが１００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であり、できるだけ高い反射率を有するようにすることが発光効率を高める上で望ましい。例えば、第１電極１３を構成する材料としては、クロム（Ｃｒ），金（Ａｕ），白金（Ｐｔ），ニッケル（Ｎｉ），銅（Ｃｕ），タングステン（Ｗ）あるいは銀（Ａｇ）などの金属元素の単体または合金が挙げられる。

　絶縁層１４は、第１電極１３と第２電極１６との絶縁性を確保すると共に発光領域を正確に所望の形状にするためのものであり、例えば酸化シリコンまたはポリイミドなどの感光性樹脂により構成されている。絶縁層１４には、第１電極１３の発光領域１３Ａに対応して開口部が設けられており、後述するドナー基板４０の隔壁４２に対応して、駆動用基板１１側の隔壁としての機能も有している。なお、有機層１５および第２電極１６は、発光領域１３Ａだけでなく絶縁層１４の上にも連続して設けられていてもよいが、発光が生じるのは絶縁層１４の開口部だけである。

　有機発光素子１０Ｒの有機層１５は、第１電極１３の側から順に、正孔注入層および正孔輸送層１５ＡＢ，赤色発光層１５ＣＲ，青色発光層１５ＣＢおよび電子輸送層および電子注入層１５ＤＥを積層した構成を有する。有機発光素子１０Ｇの有機層１５は、第１電極１３の側から順に、正孔注入層および正孔輸送層１５ＡＢ，緑色発光層１５ＣＧ，青色発光層１５ＣＢおよび電子輸送層および電子注入層１５ＤＥを積層した構成を有する。有機発光素子１０Ｂの有機層１５は、第１電極１３の側から順に、正孔注入層および正孔輸送層１５ＡＢ，青色発光層１５ＣＢおよび電子輸送層および電子注入層１５ＤＥを積層した構成を有する。これらのうち赤色発光層１５ＣＲ，緑色発光層１５ＣＧおよび青色発光層１５ＣＢ以外の層は必要に応じて設ければよい。正孔注入層は、正孔注入効率を高めるためのものであると共に、リークを防止するためのバッファ層である。正孔輸送層は、赤色発光層１５ＣＲ，緑色発光層１５ＣＧおよび青色発光層１５ＣＢへの正孔輸送効率を高めるためのものである。赤色発光層１５ＣＲ，緑色発光層１５ＣＧおよび青色発光層１５ＣＢは、電界をかけることにより電子と正孔との再結合が起こり、光を発生するものである。電子輸送層は、赤色発光層１５ＣＲ，緑色発光層１５ＣＧおよび青色発光層１５ＣＢへの電子輸送効率を高めるためのものである。電子注入層は、例えば厚みが０．３ｎｍ程度であり、ＬｉＦ，Ｌｉ₂Ｏなどにより構成されている。なお、図３では、正孔注入層および正孔輸送層を一層（正孔注入層および正孔輸送層１５ＡＢ）、電子輸送層および電子注入層を一層（電子輸送層および電子注入層１５ＤＥ）として表している。

　赤色発光層１５ＣＲおよび緑色発光層１５ＣＧは、後述するようにレーザ転写法により形成されたものである。青色発光層１５ＣＢは、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂのすべてに対して青色共通層として形成されたものである。

　有機発光素子１０Ｒの正孔注入層は、例えば、厚みが５ｎｍ以上３００ｎｍ以下であり、４，４’，４”－トリス（３－メチルフェニルフェニルアミノ）トリフェニルアミン（ｍ－ＭＴＤＡＴＡ）あるいは４，４’，４”－トリス（２－ナフチルフェニルアミノ）トリフェニルアミン（２－ＴＮＡＴＡ）により構成されている。有機発光素子１０Ｒの正孔輸送層は、例えば、厚みが５ｎｍ以上３００ｎｍ以下であり、ビス［（Ｎ－ナフチル）－Ｎ－フェニル］ベンジジン（α－ＮＰＤ）により構成されている。有機発光素子１０Ｒの赤色発光層１５ＣＲは、例えば、厚みが１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であり、９，１０－ジ－（２－ナフチル）アントラセン（ＡＤＮ）に２，６≡ビス［４´≡メトキシジフェニルアミノ）スチリル］≡１，５≡ジシアノナフタレン（ＢＳＮ）を３０重量％混合したものにより構成されている。有機発光素子１０Ｒの青色発光層１５ＣＢは、例えば、厚みが１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であり、ＡＤＮに４，４´≡ビス［２≡｛４≡（Ｎ，Ｎ≡ジフェニルアミノ）フェニル｝ビニル］ビフェニル（ＤＰＡＶＢｉ）を２．５重量％混合したものにより構成されている。有機発光素子１０Ｒの電子輸送層は、例えば、厚みが５ｎｍ以上３００ｎｍ以下であり、８≡ヒドロキシキノリンアルミニウム（Ａｌｑ₃）により構成されている。

　有機発光素子１０Ｇの正孔注入層は、例えば、厚みが５ｎｍ以上３００ｎｍ以下であり、ｍ－ＭＴＤＡＴＡあるいは２－ＴＮＡＴＡにより構成されている。有機発光素子１０Ｇの正孔輸送層は、例えば、厚みが５ｎｍ以上３００ｎｍ以下であり、α－ＮＰＤにより構成されている。有機発光素子１０Ｇの緑色発光層１５ＣＧは、例えば、厚みが１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であり、ＡＤＮにクマリン６（Ｃｏｕｍａｒｉｎ６）を５体積％混合したものにより構成されている。有機発光素子１０Ｇの青色発光層１５ＣＢは、例えば、厚みが１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であり、ＡＤＮにＤＰＡＶＢｉを２．５重量％混合したものにより構成されている。有機発光素子１０Ｇの電子輸送層は、例えば、厚みが５ｎｍ以上３００ｎｍ以下であり、Ａｌｑ₃により構成されている。

　有機発光素子１０Ｂの正孔注入層は、例えば、厚みが５ｎｍ以上３００ｎｍ以下であり、ｍ－ＭＴＤＡＴＡあるいは２－ＴＮＡＴＡにより構成されている。有機発光素子１０Ｂの正孔輸送層は、例えば、厚みが５ｎｍ以上３００ｎｍ以下であり、α－ＮＰＤにより構成されている。有機発光素子１０Ｂの青色発光層１５ＣＢは、例えば、厚みが１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であり、ＡＤＮにＤＰＡＶＢｉを２．５重量％混合したものにより構成されている。有機発光素子１０Ｂの電子輸送層は、例えば、厚みが５ｎｍ以上３００ｎｍ以下であり、Ａｌｑ₃により構成されている。

　第２電極１６は、例えば、厚みが５ｎｍ以上５０ｎｍ以下であり、アルミニウム（Ａｌ），マグネシウム（Ｍｇ），カルシウム（Ｃａ），ナトリウム（Ｎａ）などの金属元素の単体または合金により構成されている。中でも、マグネシウムと銀との合金（ＭｇＡｇ合金）、またはアルミニウム（Ａｌ）とリチウム（Ｌｉ）との合金（ＡｌＬｉ合金）が好ましい。

　保護膜１７は、有機層１５に水分などが侵入することを防止するためのものであり、透過水性および吸水性の低い材料により構成されると共に十分な厚みを有している。また、保護膜１７は、発光層１５Ｃで発生した光に対する透過性が高く、例えば８０％以上の透過率を有する材料により構成されている。このような保護膜１７は、例えば、厚みが２μｍないし３μｍ程度であり、無機アモルファス性の絶縁性材料により構成されている。具体的には、アモルファスシリコン（α－Ｓｉ），アモルファス炭化シリコン（α－ＳｉＣ），アモルファス窒化シリコン（α－Ｓｉ_1-xＮ_x）およびアモルファスカーボン（α－Ｃ）が好ましい。これらの無機アモルファス性の絶縁性材料は、グレインを構成しないので透水性が低く、良好な保護膜１７となる。また、保護膜１７は、ＩＴＯのような透明導電材料により構成されていてもよい。

　接着層２０は、例えば熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂により構成されている。

　封止用基板３０は、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの第２電極１６の側に位置しており、接着層２０と共に有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂを封止するものであり、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂで発生した光に対して透明なガラスなどの材料により構成されている。封止用基板３０には、例えば、カラーフィルタ３１およびブラックマトリクスとしての遮光層３２が設けられており、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂで発生した光を取り出すと共に、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂ並びにその間の配線において反射された外光を吸収し、コントラストを改善するようになっている。

　カラーフィルタ３１は、封止用基板３０のどちら側の面に設けられてもよいが、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの側に設けられることが好ましい。カラーフィルタ３１が表面に露出せず、接着層２０により保護することができるからである。また、赤色発光層１５ＣＲ，緑色発光層１５ＣＧ，青色発光層１５ＣＢとカラーフィルタ３１との間の距離が狭くなることにより、赤色発光層１５ＣＲ，緑色発光層１５ＣＧ，青色発光層１５ＣＢから出射した光が隣接する他の色のカラーフィルタ３１に入射して混色を生じることを避けることができるからである。カラーフィルタ３１は、赤色フィルタ，緑色フィルタおよび青色フィルタ（いずれも図示せず）を有しており、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂに対応して順に配置されている。

　赤色フィルタ，緑色フィルタおよび青色フィルタは、それぞれ例えば矩形形状で隙間なく形成されている。これら赤色フィルタ，緑色フィルタおよび青色フィルタは、顔料を混入した樹脂によりそれぞれ構成されており、顔料を選択することにより、目的とする赤，緑あるいは青の波長域における光透過率が高く、他の波長域における光透過率が低くなるように調整されている。

　遮光層３２は、有効領域１１０内では、赤色フィルタ，緑色フィルタおよび青色フィルタの境界に沿って設けられている。遮光層３２は、例えば黒色の着色剤を混入した光学濃度が１以上の黒色の樹脂膜、または薄膜の干渉を利用した薄膜フィルタにより構成されている。このうち黒色の樹脂膜により構成するようにすれば、安価で容易に形成することができるので好ましい。薄膜フィルタは、例えば、金属，金属窒化物あるいは金属酸化物よりなる薄膜を１層以上積層し、薄膜の干渉を利用して光を減衰させるものである。薄膜フィルターとしては、具体的には、クロムと酸化クロム（ＩＩＩ）（Ｃｒ₂Ｏ₃）とを交互に積層したものが挙げられる。

　図４は、有効領域１１０の平面構成の一例を表したものである。有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂよりなる表示用画素Ｐｘ１は、ほぼ矩形状の平面形状を有すると共に行列状（マトリクス状）に形成されており、同じ色の表示用画素Ｐｘ１が同じ列に配置されている。なお、図４では、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂに、それぞれＲ，Ｇ，Ｂの符号を付して区別している。

　有効領域１１０の外側には、検査用画素Ｐｘ２と、目盛り付きの検査用パターンＰｍと、識別パターンＩＤとを有する検査領域１５０が設けられている。赤色発光層１５ＣＲおよび緑色発光層１５ＣＧは、有効領域１１０を超えて後述する検査領域１５０に達する列方向の直線状に形成されている。

　検査用画素Ｐｘ２は、レーザ転写法により形成された赤色発光層１５ＣＲおよび緑色発光層１５ＣＧの位置ズレの予兆を早期に発見するための混色確認画素である。赤色発光層１５ＣＲの両側には、有機発光素子１０Ｇ，１０Ｂよりなる検査用画素Ｐｘ２を有する赤色（Ｒ）評価領域１５０Ｒが設けられている。緑色発光層１５ＣＧの両側には、有機発光素子１０Ｂ，１０Ｂよりなる検査用画素Ｐｘ２を有する緑色（Ｇ）評価領域１５０Ｇが設けられている。

　検査対象色の両側の検査用画素Ｐｘ２の間の距離Ｗ２は、検査対象色の両側の表示用画素Ｐｘ１の間の距離Ｗ１よりも狭い。具体的には、検査用画素Ｐｘ２は、検査対象色の両側の表示用画素Ｐｘ１の列と同じ列に設けられていると共に、表示用画素Ｐｘ１よりも幅（第１電極１３の絶縁膜１４から露出している部分すなわち発光領域１３Ａの幅）が広い。これにより、この表示装置では、赤色発光層１５ＣＲ，緑色発光層１５ＣＧの位置ズレまたは幅のばらつきなどの予兆を早期に発見することが可能となっている。

　具体的には、検査対象色の両側の検査用画素Ｐｘ２の間の距離Ｗ２は、転写位置およびサイズによって決まる赤色発光層１５ＣＲ，緑色発光層１５ＣＧの左右端位置のプロセス管理上限値となるように設定される。

　検査用画素Ｐｘ２は、検査対象色別に千鳥配列とされていることが望ましい。有効領域１１０への配線と検査用画素Ｐｘ２への配線を同層に形成する場合に、配線スペースを確保することができるからである。また、一般的に多色が混合した場合は、長波長色が支配的に発光する。従って、例えば同一の検査用画素Ｐｘ２に赤色発光層１５ＣＲ，緑色発光層１５ＣＧが重なった場合、赤色発光が支配的となり、緑色の混色の有無が不明確になるおそれがある。よって、他色の影響排除のため、検査用画素Ｐｘ２は、検査対象色別に位置をずらして千鳥配列されていることが好ましい。

　更に、検査用画素Ｐｘ２は、検査対象色が短波長であるほど、有効領域１１０から離れた位置に形成されていることが好ましい。すなわち、緑色発光層１５ＣＧの両側の検査用画素Ｐｘ２のほうが、赤色発光層１５ＣＲの両側の検査用画素Ｐｘ２よりも、有効領域１１０から離れた位置に形成されていることが好ましい。加えて、この場合、長波長の赤色発光層１５ＣＲは、緑色発光層１５ＣＧの両側の検査用画素Ｐｘ２上には形成されていないことが好ましい。上述したように、緑色発光層１５ＣＧと赤色発光層１５ＣＲとが同一の検査用画素Ｐｘ２に重なることにより混色した場合、長波長の赤色発光が支配的になり、緑色発光層１５ＣＧの混色評価が困難になるからである。

　目盛り付きの検査用パターンＰｍは、反射層を含んで構成され、検査対象色の列と、その両側の列の少なくとも一部とにかかる行方向の直線状に形成されている。目盛り付きの検査用パターンＰｍを設けることにより、赤色発光層１５ＣＲ，緑色発光層１５ＣＧの位置ズレの予兆を早期に発見することが可能となると共に、位置ズレ量も容易に計測可能となる。

　このような目盛り付きの検査用パターンＰｍは、例えば、第１電極１３を反射電極により構成する場合には、第１電極１３と同じ材料により構成することが可能である。また、第１電極１３とは別に反射層を設けるようにしてもよい。

　識別パターンＩＤは、位置ズレの原因となっているレーザヘッドまたはレーザビームを特定し、早期対策を可能とするためのものであり、検査対象色の表示用画素Ｐｘ１の列の延長上に設けられている。具体的には、赤色発光層１５ＣＲ，緑色発光層１５ＣＧの形成に用いられたレーザヘッドまたはレーザビームを特定する識別パターンＩＤとして、例えば「Ｒ３１」「Ｇ３１」がそれぞれ駆動用基板１１上に予め形成されており、レーザ転写工程では、その識別パターンＩＤに該当するレーザヘッドまたはレーザビームを使用するように工程管理されている。この例では、最初のアルファベット（ＲまたはＧ）は色を示し、次の数字（３）はヘッドの番号、最後の数字（１）はビームの番号をそれぞれ示している。この識別パターンＩＤは、アルファベット、数字、カタカナなど文字種は問わず、記号等でもよい。識別パターンＩＤは、例えば、第１電極１３を反射電極により構成する場合には、第１電極１３と同じ材料により構成することが可能である。また、第１電極１３とは別に金属層よりなる識別パターンＩＤを形成するようにしてもよい。

　図５は、図４のＶ－Ｖ線に沿った断面構成を表したものである。封止用基板３０上の遮光層３２は、有効領域１１０以外の領域全体に形成されているが、検査領域１５０に対応して窓３２Ａが設けられていることが好ましい。後述する製造工程において、封止用基板３０により封止した後に、検査領域１５０を用いて検査を行うことが可能となるからである。

　また、駆動用基板１１および封止用基板３０は、筐体４０に収容されている。この筐体４０は、有効領域１１０に対応した開口部４１を有しており、この開口部４１の周囲には、額縁部４２が設けられている。額縁部４２は、検査領域１５０および窓３２Ａを隠蔽していることが好ましい。

表示装置の製造方法
　この表示装置は、例えば次のようにして製造することができる。

　図６は、この表示装置の製造方法の流れを表したものであり、図７は、この製造方法の一部を工程順に表したものである。まず、図７（Ａ）に示したように、駆動用基板１１に、第１電極１３、絶縁層１４および正孔注入層および正孔輸送層１５ＡＢを形成し、被転写基板１１Ａを形成する。

　すなわち、上述した材料よりなる駆動用基板１１を用意し、この駆動用基板１１の上に画素駆動回路１４０を形成したのち、全面に感光性樹脂を塗布することにより平坦化絶縁膜（図示せず）を形成し、露光および現像により所定の形状にパターニングすると共に、駆動トランジスタＴｒ１と第１電極１３との接続孔（図示せず）を形成し、焼成する。

　次いで、例えばスパッタ法により、上述した材料よりなる第１電極１３を形成し、例えばドライエッチングにより所定の形状に成形する。なお、駆動用基板１１の所定の位置には、後述する転写工程においてドナー基板との位置合わせに使用するアライメントマークを形成してもよい。その際、有効領域１１０には、表示用画素Ｐｘ１の第１電極１３を行列状に形成すると共に、これと同一工程で、検査領域１５０には、検査用画素Ｐｘ２の第１電極１３と、目盛り付きの検査用パターンＰｍと、識別パターンＩＤとを形成する。

　続いて、駆動用基板１１の全面にわたり絶縁層１４を形成し、例えばフォトリソグラフィ法により、第１電極１３の発光領域１３Ａに対応して開口部を設ける。このとき、検査対象色の両側の検査用画素Ｐｘ２の第１電極１３の間の距離Ｗ２を、検査対象色の両側の表示用画素Ｐｘ１の第１電極１３の間の距離Ｗ１よりも狭くなるようにする。

　そののち、例えばエリアマスクを用いた蒸着法により、上述した厚みおよび材料よりなる正孔注入層および正孔輸送層１５ＡＢを順次成膜する。これにより、被転写基板１１Ａが形成される。

　被転写基板１１Ａを形成したのち、図７（Ｂ）に示したように、例えば蒸着法によりドナー基板５０に赤色転写層５０Ｒを形成し、赤色転写層５０Ｒを被転写基板１１Ａに対向配置する。続いて、ドナー基板５０の裏面側からレーザ光を照射し、赤色転写層５０Ｒを昇華または気化させて被転写基板１１Ａに転写するレーザ転写法により、赤色発光層１５ＣＲを、有効領域１１０を超えて検査領域１５０に達し、目盛り付きの検査用パターンＰｍに交差する列方向の直線状に形成する。

　赤色発光層１５ＣＲを形成したのち、図７（Ｃ）に示したように、赤色発光層１５ＣＲと同様にして、ドナー基板５０上の緑色転写層５０Ｇを被転写基板１１Ａに転写することにより、緑色発光層１５ＣＧを形成する。

　緑色発光層１５ＣＧを形成したのち、ドナー基板５０と被転写基板１１Ａとを分離し、被転写基板１１Ａに、例えば蒸着により、青色発光層１５ＣＢ、電子輸送層および電子注入層１５ＤＥ、並びに第２電極１６を形成する。このようにして、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂよりなる表示用画素Ｐｘ１および検査用画素Ｐｘ２を形成する（ステップＳ１０１）。

　表示用画素Ｐｘ１および検査用画素Ｐｘ２を形成したのち、これらの上に上述した材料よりなる保護膜１７を形成する。保護膜１７の形成方法は、下地に対して影響を及ぼすことのない程度に、成膜粒子のエネルギーが小さい成膜方法、例えば蒸着法またはＣＶＤ法が好ましい。また、保護膜１７は、第２電極１６を大気に暴露することなく、第２電極１６の形成と連続して行うことが望ましい。大気中の水分や酸素により有機層１５が劣化してしまうのを抑制することができるからである。更に、有機層１５の劣化による輝度の低下を防止するため、保護膜１７の成膜温度は常温に設定すると共に、保護膜１７の剥がれを防止するために膜のストレスが最小になる条件で成膜することが望ましい。

　また、例えば、上述した材料よりなる封止用基板３０の上に、赤色フィルタの材料をスピンコートなどにより塗布し、フォトリソグラフィ技術によりパターニングして焼成することにより赤色フィルタを形成する。続いて、赤色フィルタと同様にして、青色フィルタおよび緑色フィルタを順次形成する。

　そののち、保護膜１７の上に、接着層２０を形成し、この接着層２０を間にして封止用基板３０を貼り合わせて封止する。その際、封止用基板３０のカラーフィルタ３１および遮光層３２を形成した面を、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂ側にして配置することが好ましい。

　続いて、検査用画素Ｐｘ２をＥＬまたはＰＬにより発光させて、遮光層３２の窓３２Ａを用いて色度またはスペクトル形状を測定する（ステップＳ１０２）。

　そののち、測定した色度またはスペクトル形状が規格範囲外か否かを判別する（ステップＳ１０３）。上述したように、検査対象色の両側の検査用画素Ｐｘ２の間の距離Ｗ２は、転写位置およびサイズによって決まる赤色発光層１５ＣＲ，緑色発光層１５ＣＧの左右端位置のプロセス管理上限値となるように設定されている。よって、赤色発光層１５ＣＲ，緑色発光層１５ＣＧの左右端位置がプロセス管理上限値を超えたときには、検査用画素Ｐｘ２へのはみ出し（混色）が発生し、検査用画素Ｐｘ２のＥＬまたはＰＬ発光の色度またはスペクトル形状が変化し、規格範囲外となる。検査用画素Ｐｘ２で混色が発生した場合は、該当する表示用画素Ｐｘ１は、まだ混色が生じていないがその可能性が高い混色予備軍ということができる。検査用画素Ｐｘ２を用いることにより、混色予備軍である表示用画素Ｐｘ１を発見することができる。

　具体的には、図４において、赤色発光層１５ＣＲの左右端位置がプロセス管理上限値を超えない場合、左側の検査用画素Ｐｘ２は、緑色発光層１５ＣＧおよび全画素共通の青色発光層１５ＣＢが形成されているので緑色となり、右側の検査用画素Ｐｘ２は、全画素共通の青色発光層１５ＣＢが形成されているので青色となる。しかしながら、赤色発光層１５ＣＲに位置ズレが発生した場合、表示用画素Ｐｘ１には混色が発生していない段階であっても、検査用画素Ｐｘ２には赤色の混色が発生する。

　通常、ある被転写基板１１Ａにレーザ転写を行ったのち、その被転写基板１１Ａが検査に回るまでにはタイムラグがある。そのため、位置ズレが発見されるまでに、多数の被転写基板１１Ａにレーザ転写が行われ、多数の不良パネルが発生してしまう可能性がある。この製造方法では、有効領域１１０内で混色不良が発生する前に、赤色発光層１５ＣＲ，緑色発光層１５ＣＧの位置ズレの予兆を把握し、以下のような混色発生対策を早期に行うことが可能となる。

　色度またはスペクトル形状が規格範囲外であると判別された場合（ステップＳ１０３；Ｙ）、識別パターンＩＤを用いて、該当する赤色発光層１５ＣＲまたは緑色発光層１５ＣＧを形成する工程で使用したレーザヘッドまたはレーザビームを特定する（ステップＳ１０４）。

　続いて、該当する赤色発光層１５ＣＲまたは緑色発光層１５ＣＧの位置のずれ量を測定する（ステップＳ１０５）。ずれ量は、例えば、目盛り付きの検査用パターンＰｍを用いて容易に測定可能である。具体的には、目盛り付きの検査用パターンＰｍに光を照射すると、赤色発光層１５ＣＲ，緑色発光層１５ＣＧとの重なり部分では、干渉効果により、反射光またはＰＬ発光の色度またはスペクトル形状が変化する。色度またはスペクトル形状が変化する位置の目盛りを読み取ることにより、赤色発光層１５ＣＲ，緑色発光層１５ＣＧの位置または幅が判明し、位置ズレ量も容易に計測可能である。よって、混色または膜厚分布不均一といった不良を引き起こす前に、赤色発光層１５ＣＲ，緑色発光層１５ＣＧの位置ズレなどの予兆を早期に発見することが可能となる。

　そののち、測定したずれ量に基づいて、レーザヘッドまたはレーザビームの照射位置またはパワーを補正し（ステップＳ１０６）、再びレーザ転写工程に使用する（ステップＳ１０１）。

　色度またはスペクトル形状が規格範囲内であると判別された場合（ステップＳ１０３；Ｎ）、そのパネルは次工程に進み（ステップＳ１０７）、駆動用基板１１および封止用基板３０が筐体４０に収容される。以上により、図１および図５に示した表示装置が完成する。

　上述した製造方法では、赤色発光層１５ＣＲまたは緑色発光層１５ＣＧの位置ズレを発見する場合について説明したが、赤色発光層１５ＣＲまたは緑色発光層１５ＣＧの幅が広すぎる場合にも検査用画素Ｐｘ２での混色が生じる。よって、赤色発光層１５ＣＲおよび緑色発光層１５ＣＧの幅超過についても、位置ズレと同様にして上述した製造方法により発見することが可能である。

　このようにして得られた表示装置では、各画素に対して走査線駆動回路１３０から書き込みトランジスタＴｒ２のゲート電極を介して走査信号が供給されると共に、信号線駆動回路１２０から画像信号が書き込みトランジスタＴｒ２を介して保持容量Ｃｓに保持される。すなわち、この保持容量Ｃｓに保持された信号に応じて駆動トランジスタＴｒ１がオンオフ制御され、これにより、各有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂに駆動電流Ｉｄが注入されることにより、正孔と電子とが再結合して発光が起こる。有機発光素子１０Ｒでは、赤色発光層１５ＣＲと青色発光層１５ＣＢとが形成されているが、最もエネルギー準位の低い赤色にエネルギー移動が起こり、赤色発光が支配的となる。有機発光素子１０Ｇでは、緑色発光層１５ＣＧと青色発光層１５ＣＢとが形成されているが、よりエネルギー準位の低い緑色にエネルギー移動が起こり、緑色発光が支配的となる。有機発光素子１０Ｂでは、青色発光層１５ＣＢのみを有するので、青色発光が生じる。この光は、第２電極１６，カラーフィルタおよび封止用基板３０を透過して取り出される。

　このように本実施の形態では、有効領域１１０の外側の検査領域１５０に、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂよりなる検査用画素Ｐｘ２を設け、検査対象色の両側の検査用画素Ｐｘ２の間の距離Ｗ２を、検査対象色の両側の表示用画素Ｐｘ１の間の距離Ｗ１よりも狭くするようにしたので、この検査用画素Ｐｘ２のＥＬまたはＰＬ発光の色度またはスペクトル形状の変化に基づいて、赤色発光層１５ＣＲ，緑色発光層１５ＣＧの位置ズレなどの予兆を早期に発見することが可能となる。よって、歩留まりが改善されると共に品質改善が期待される。また、量産ライン稼動開始時の転写条件出しが容易になるので、立上時間の短縮につながる。

　また、検査領域１５０に、反射層を含む目盛り付きの検査用パターンＰｍを設け、この目盛り付きの検査用パターンＰｍを、検査対象色の列と、その両側の列の少なくとも一部とにかかる行方向の直線状に形成するようにしたので、目盛り付きの検査用パターンＰｔの反射光またはＰＬ発光の色度またはスペクトル形状が変化する位置の目盛りを読み取ることにより、赤色発光層１５ＣＲ，緑色発光層１５ＣＧの位置ズレなどの予兆を早期に発見することが可能となると共に、ズレ量も容易に測定可能となる。

　以下、本実施の形態の変形例について説明する。

＜２．変形例１＞
　上記実施の形態では、検査用画素Ｐｘ２と目盛り付きの検査用パターンＰｍとを併用し、検査用画素Ｐｘ２を用いて赤色発光層１５ＣＲ，緑色発光層１５ＣＧの位置ズレなどを調べたのち、目盛り付きの検査用パターンＰｍを用いてズレ量を計測する場合について説明したが、目盛り付きの検査用パターンＰｍを省略し、例えば測長機によりズレ量を計測することも可能である。また、ズレ量を実測しなくても、目標の転写位置と、検査用画素Ｐｘ２との間の距離分をズレ量とみなし、そのズレ量に基づいて、レーザヘッドまたはレーザビームの照射位置またはパワーを補正するようにしてもよい。なお、目盛り付きの検査用パターンＰｍを併用すれば、測長機による計測の手間が省くことができるので望ましい。

＜３．変形例２＞
　また、上記実施の形態では、検査用画素Ｐｘ２が、検査対象色の両側の表示用画素Ｐｘ１の列と同じ列に、表示用画素Ｐｘ１よりも広い幅で設けられている場合について説明したが、図８に示したように、検査用画素Ｐｘ２は、検査対象色の両側の表示用画素Ｐｘ１の列と同じ列に設けられると共に、同じ列の表示用画素Ｐｘ１に対して行方向の位置がずらされているようにしてもよい。すなわち、検査用画素Ｐｘ２を検査対象色の表示用画素Ｐｘ１の列の側へ寄せるようにしてもよい。このようにしても、検査対象色の両側の検査用画素Ｐｘ２の間の距離Ｗ２を、検査対象色の両側の表示用画素Ｐｘ１の間の距離Ｗ１よりも狭くすることができる。なお、本変形例および以下の変形例では、上記実施の形態と同様に目盛り付きの検査用パターンＰｍを併用してもよいし、変形例１と同様に目盛り付きの検査用パターンＰｍを省略してもよい。

＜４．変形例３＞
　更に、上記実施の形態では、検査用画素Ｐｘ２は、検査対象色別に千鳥配列とされている場合について説明したが、配線スペースに問題がない場合、図９に示したように、千鳥配列でなく、横一列としてもよい。ただし、この場合は、赤色発光層１５ＣＲおよび緑色発光層１５ＣＧが同じ検査用画素Ｐｘ２に重なり、混色評価が難しくなる可能性があるので、千鳥配列とすることが望ましい。

＜５．変形例４＞
　加えて、図１０に示したように、検査用画素Ｐｘ２の長辺サイズおよび数は特に限定されない。

＜６．変形例５＞
　更にまた、上記実施の形態では、識別パターンＩＤとして、文字、数字などを用いるようにしたが、図１１に示したように、レーザのオン／オフの制御により、赤色発光層１５ＣＲまたは緑色発光層１５ＣＧに間欠パターンを形成し、この間欠パターンを識別パターンＩＤとして用いるようにしてもよい。

＜７．変形例６＞
　加えてまた、上記実施の形態では、赤色発光層１５ＣＲおよび緑色発光層１５ＣＧをレーザ転写法により形成する場合について説明したが、図１２に示したように、赤色発光層１５ＣＲ，緑色発光層１５ＣＧおよび青色発光層１５ＣＢのすべてをレーザ転写法により形成するようにしてもよい。その場合、図１３に示したように、青色発光層１５ＣＢの両側に、検査用画素Ｐｘ２を有する青色（Ｂ）評価領域１５０Ｂを設けることができる。また、検査用画素Ｐｘ２は、検査対象色が短波長であるほど、有効領域１１０から離れた位置に形成されていることが好ましい。なお、赤色発光層１５ＣＲ，緑色発光層１５ＣＧおよび青色発光層１５ＣＢのすべてをレーザ転写法により形成する場合は、かならずしも全ての検査用画素Ｐｘ２に発光層が形成されるとは限らないので、第１電極１３および第２電極１６のみを有する検査用画素Ｐｘ２もありうる。

＜８．変形例７＞
　加えてまた、変形例６において、図１４に示したように、検査用画素Ｐｘ２の幅を広くして、一つの検査用画素Ｐｘ２に２色以上の発光層が形成されるようにしてもよい。

＜９．変形例８＞
　更にまた、検査領域１５０の配置は特に限定されず、図１５ないし図２３に示したような様々な配置が可能である。特に、図１５に示したように、検査領域１５０は、有効領域１１０の対向する長辺に設けられていることが好ましい。レーザ光の走査軌跡が斜め方向にずれていた場合にも、容易に検出が可能となるからである。また、マルチヘッドを用いる場合には、各ヘッド毎に被転写基板１１Ａをエリア分けしてレーザ転写工程を行うので、検査領域１５０は、各ヘッドに対応するエリア毎に設けるようにしてもよい。なお、検査工程１５０の配置は、図１５ないし図２３に示したもの以外の配置も可能であることは言うまでもない。

＜１０．第２の実施の形態＞
［表示装置］
　図２４は、本発明の第２の実施の形態に係る表示装置の有効領域１１０の平面構成の一例を表したものである。この表示装置は、検査用画素Ｐｘ２の代わりに、反射層を含む検査用パターンＰｔを形成したことを除いては、第１の実施の形態と同様の構成を有している。よって、対応する構成要素には同一の符号を付して説明する。

　検査用パターンＰｔは、レーザ転写法により形成された赤色発光層１５ＣＲおよび緑色発光層１５ＣＧの位置ズレの予兆を早期に発見するための混色確認パターンであり、例えば列方向の直線状に形成されている。赤色（Ｒ）評価領域１５０Ｒには、赤色発光層１５ＣＲの両側に検査用パターンＰｔが形成されている。緑色（Ｇ）評価領域１５０Ｇには、緑色発光層１５ＣＧの両側に検査用パターンＰｔが形成されている。

　検査対象色の両側の検査用パターンＰｔの間の距離Ｗ２は、検査対象色の両側の表示用画素Ｐｘ１の間の距離Ｗ１よりも狭くなっている。これにより、この表示装置では、赤色発光層１５ＣＲ，緑色発光層１５ＣＧの位置ズレの予兆を早期に発見することが可能となっている。

　具体的には、検査対象色の両側の検査用パターンＰｔの間の距離Ｗ２は、転写位置およびサイズによって決まる赤色発光層１５ＣＲ，緑色発光層１５ＣＧの左右端位置のプロセス管理上限値となるように設定される。このような検査用パターンＰｔは、例えば、第１電極１３を反射電極により構成する場合には、第１電極１３と同じ材料により構成することが可能である。また、第１電極１３とは別に反射層を設けるようにしてもよい。

　検査用パターンＰｔは、検査対象色別に千鳥配列とされていることが望ましい。有効領域１１０への配線スペースを確保しやすいからである。また、一般的に多色が混合した場合は、長波長色が支配的に発光する。従って、例えば同一の検査用パターンＰｔに赤色発光層１５ＣＲ，緑色発光層１５ＣＧが重なった場合、赤色発光が支配的となり、緑色の混色の有無が不明確になるおそれがある。よって、他色の影響排除のため、検査用パターンＰｔは、検査対象色別に位置をずらして千鳥配列されていることが好ましい。

　赤色（Ｒ）評価領域１５０Ｒの検査用パターンＰｔは、緑色（Ｇ）評価領域１５０Ｇの検査用パターンＰｔよりも、有効領域１１０から離れた位置に形成されていてもよい。後述するように、検査用パターンＰｔは、検査用画素Ｐｘ２のように発光させるわけではなく、光を照射してその反射光またはＰＬ発光を用いて検査を行うからである。仮に、緑色発光層１５ＣＧと赤色発光層１５ＣＲとが同一の検査パターンＰｔに重なることにより混色した場合も、反射光またはＰＬ発光はまた別の色となるので、緑色発光層１５ＣＧの混色評価がさほど困難になることはない。

　なお、図２４では省略したが、目盛り付きの検査用パターンＰｍ、識別パターンＩＤ、封止用基板３０上の遮光層３２および筐体４０については、第１の実施の形態と同様である。

［表示装置の製造方法］
　この表示装置は、例えば次のようにして製造することができる。

　図２５は、この表示装置の製造方法の流れを表したものである。なお、第１の実施の形態と製造工程が重複する部分については、図７を参照して説明する。

　まず、図７（Ａ）に示した工程により、駆動用基板１１に、第１電極１３、絶縁層１４および正孔注入層および正孔輸送層１５ＡＢを形成し、被転写基板１１Ａを形成する。

　すなわち、駆動用基板１１の上に画素駆動回路１４０および平坦化絶縁膜（図示せず）を形成したのち、第１電極１３を形成する。その際、有効領域１１０には、表示用画素Ｐｘ１の第１電極１３を行列状に形成すると共に、これと同一工程で、検査領域１５０には、検査用パターンＰｔと、目盛り付きの検査用パターンＰｍと、識別パターンＩＤとを形成する。

　続いて、駆動用基板１１の全面にわたり絶縁層１４を形成し、例えばフォトリソグラフィ法により、第１電極１３の発光領域１３Ａに対応して開口部を設ける。このとき、検査対象色の両側の検査用パターンＰｔの間の距離Ｗ２を、検査対象色の両側の表示用画素Ｐｘ１の第１電極１３の間の距離Ｗ１よりも狭くなるようにする。

　被転写基板１１Ａを形成したのち、第１の実施の形態と同様にして、図７（Ｂ）および図７（Ｃ）に示した工程により、赤色発光層１５ＣＲおよび緑色発光層１５ＣＧをレーザ転写法により形成する。

　緑色発光層１５ＣＧを形成したのち、第１の実施の形態と同様にして、青色発光層１５ＣＢ、電子輸送層および電子注入層１５ＤＥ、並びに第２電極１６を形成する。このようにして、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂよりなる表示用画素Ｐｘ１および検査用パターンＰｔを形成する（ステップＳ２０１）。

　表示用画素Ｐｘ１および検査用パターンＰｔを形成したのち、第１の実施の形態と同様にして、これらの上に保護膜１７を形成する。そののち、保護膜１７の上に接着層２０を形成し、この接着層２０を間にして、カラーフィルタ３１を形成した封止用基板３０を貼り合わせて封止する。

　続いて、遮光層３２の窓３２Ａを用いて検査用パターンＰｔに光を照射し、反射光またはＰＬ発光の色度またはスペクトル形状を測定する（ステップＳ２０２）。

　そののち、測定した色度またはスペクトル形状が規格範囲外か否かを判別する（ステップＳ２０３）。上述したように、検査対象色の両側の検査用パターンＰｔの間の距離Ｗ２は、転写位置およびサイズによって決まる赤色発光層１５ＣＲ，緑色発光層１５ＣＧの左右端位置のプロセス管理上限値となるように設定されている。これにより、赤色発光層１５ＣＲ，緑色発光層１５ＣＧの左右端位置がプロセス管理上限値を超えたときには、検査用パターンＰｔの上に、赤色発光層１５ＣＲ，緑色発光層１５ＣＧが重なって形成される。検査用パターンＰｔに光を照射すると、赤色発光層１５ＣＲ，緑色発光層１５ＣＧとの重なり部分では、干渉効果により、反射光またはＰＬ発光の色度またはスペクトル形状が変化し、規格範囲外となる。その場合は、該当する表示用画素Ｐｘ１は、まだ混色が生じていないがその可能性が高い混色予備軍ということができる。検査用パターンＰｔを用いることにより、混色予備軍である表示用画素Ｐｘ１を発見することができる。すなわち、有効領域１１０内で混色不良が発生する前に、赤色発光層１５ＣＲ，緑色発光層１５ＣＧの位置ズレを把握し、以下のような混色発生対策を早期に行うことが可能となる。

　色度またはスペクトル形状が規格範囲外であると判別された場合（ステップＳ２０３；Ｙ）、識別パターンＩＤを用いて、該当する赤色発光層１５ＣＲまたは緑色発光層１５ＣＧを形成する工程で使用したレーザヘッドまたはレーザビームを特定する（ステップＳ２０４）。

　続いて、該当する赤色発光層１５ＣＲまたは緑色発光層１５ＣＧの位置のずれ量を測定する（ステップＳ２０５）。ずれ量は、例えば、目盛り付きの検査用パターンＰｍに光を照射し、その反射光またはＰＬ発光の色度またはスペクトル形状が変化する位置の目盛りを読み取ることにより容易に測定可能である。

　そののち、測定したずれ量に基づいて、レーザヘッドまたはレーザビームの照射位置またはパワーを補正し（ステップＳ２０６）、再びレーザ転写工程に使用する（ステップＳ２０１）。

　色度またはスペクトル形状が規格範囲内であると判別された場合（ステップＳ２０３；Ｎ）、そのパネルは次工程に進み（ステップＳ２０７）、駆動用基板１１および封止用基板３０が筐体４０に収容される。以上により、図２４に示した表示装置が完成する。

　なお、上述した製造方法では、赤色発光層１５ＣＲまたは緑色発光層１５ＣＧの位置ズレを発見する場合について説明したが、赤色発光層１５ＣＲまたは緑色発光層１５ＣＧの幅が広すぎる場合にも検査用パターンＰｔでの反射光やＰＬ発光のスペクトル形状の変化が生じる。よって、赤色発光層１５ＣＲおよび緑色発光層１５ＣＧの幅超過についても、位置ズレと同様にして上述した製造方法により発見することが可能である。

　本実施の形態の作用および効果は、第１の実施の形態と同様である。

＜１１．第３の実施の形態＞
表示装置
　図２６は、本発明の第３の実施の形態に係る表示装置の有効領域１１０の平面構成の一例を表したものである。本実施の形態は、検査用画素Ｐｘ２を用いて、赤色発光層１５ＣＲ，緑色発光層１５ＣＧおよび青色発光層１５ＣＢの幅不足を検出するようにしたものである。このことを除いては、この表示装置は、第１の実施の形態と同様の構成を有している。よって、対応する構成要素には同一の符号を付して説明する。

　検査用画素Ｐｘ２は、検査対象色の表示用画素Ｐｘ１の列と同じ列に設けられており、検査用画素Ｐｘ２の幅Ｗ３は、表示用画素Ｐｘ１の幅Ｗ４よりも広い。これにより、この表示装置では、赤色発光層１５ＣＲ，緑色発光層１５ＣＧの幅不足の予兆を早期に発見することが可能となっている。

　検査用画素Ｐｘ２の幅Ｗ３は、具体的には、転写位置およびサイズによって決まる赤色発光層１５ＣＲ，緑色発光層１５ＣＧの左右端位置のプロセス管理下限値となるように設定される。

　なお、図２６では省略したが、目盛り付きの検査用パターンＰｍ、識別パターンＩＤ、封止用基板３０上の遮光層３２および筐体４０については、第１の実施の形態と同様である。

　図２７は、この表示装置の製造方法の流れを表したものである。なお、第１の実施の形態と製造工程が重複する部分については、図７を参照して説明する。

　まず、第１の実施の形態と同様にして、図７（Ａ）に示した工程により、駆動用基板１１に、第１電極１３、絶縁層１４および正孔注入層および正孔輸送層１５ＡＢを形成し、被転写基板１１Ａを形成する。その際、表示用画素Ｐｘ１の第１電極１３と同一工程で、検査領域１５０には、検査用画素Ｐｘ２の第１電極１３と、目盛り付きの検査用パターンＰｍと、識別パターンＩＤとを形成する。検査用画素Ｐｘ２の第１電極１３は、検査対象色の表示用画素Ｐｘ１の第１電極１３の列と同じ列に設ける。また、絶縁層１４に開口部を設ける際には、検査用画素Ｐｘ２の幅Ｗ３を、表示用画素Ｐｘ１の幅Ｗ４よりも広くなるようにする。

　次いで、第１の実施の形態と同様にして、図７（Ｂ）および図７（Ｃ）に示した工程により、赤色発光層１５ＣＲおよび緑色発光層１５ＣＧをレーザ転写法により形成する。

　続いて、第１の実施の形態と同様にして、青色発光層１５ＣＢ、電子輸送層および電子注入層１５ＤＥ、並びに第２電極１６を形成する。このようにして、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂよりなる表示用画素Ｐｘ１および検査用画素Ｐｘ２を形成する（ステップＳ３０１）。

　表示用画素Ｐｘ１および検査用画素Ｐｘ２を形成したのち、第１の実施の形態と同様にして、これらの上に保護膜１７を形成する。そののち、保護膜１７の上に接着層２０を形成し、この接着層２０を間にして、カラーフィルタ３１を形成した封止用基板３０を貼り合わせて封止する。

　続いて、検査用画素Ｐｘ２をＥＬまたはＰＬにより発光させて、遮光層３２の窓３２Ａを用いて色度またはスペクトル形状を測定する（ステップＳ３０２）。

　そののち、測定した色度またはスペクトル形状が規格範囲外か否かを判別する（ステップＳ３０３）。上述したように、検査用画素Ｐｘ２の幅Ｗ３は、転写位置およびサイズによって決まる赤色発光層１５ＣＲ，緑色発光層１５ＣＧの左右端位置のプロセス管理下限値となるように設定されている。よって、赤色発光層１５ＣＲ，緑色発光層１５ＣＧの幅が不足し、左右端位置が検査用画素Ｐｘ２内にある場合には、検査用画素Ｐｘ２のＥＬまたはＰＬ発光の色度またはスペクトル形状が変化し、規格範囲外となる。該当する表示用画素Ｐｘ１は、まだ赤色発光層１５ＣＲ，緑色発光層１５ＣＧの幅不足が生じていないがその可能性が高い幅不足予備軍ということができる。

　具体的には、図２６において、赤色発光層１５ＣＲの幅が不足せず、左右端位置が検査用画素Ｐｘ２内にない場合、検査用画素Ｐｘ２は赤色となる。しかしながら、赤色発光層１５ＣＲの幅不足が発生した場合、表示用画素Ｐｘ１には異常が発生していない段階であっても、検査用画素Ｐｘ２には青色の混色が発生する。検査用画素Ｐｘ２には、全画素共通の青色発光層１５ＣＢが形成されているからである。

　このように検査用画素Ｐｘ２を用いることにより、幅不足予備軍である表示用画素Ｐｘ１を発見することができる。すなわち、有効領域１１０内で不良が発生する前に、赤色発光層１５ＣＲ，緑色発光層１５ＣＧの幅不足を把握し、以下のような幅不足発生対策を早期に行うことが可能となる。

　色度またはスペクトル形状が規格範囲外であると判別された場合（ステップＳ３０３；Ｙ）、識別パターンＩＤを用いて、該当する赤色発光層１５ＣＲまたは緑色発光層１５ＣＧを形成する工程で使用したレーザヘッドまたはレーザビームを特定する（ステップＳ３０４）。

　続いて、該当する赤色発光層１５ＣＲまたは緑色発光層１５ＣＧの幅不足量を測定する（ステップＳ３０５）。幅不足量は、第１の実施の形態と同様にして、目盛り付きの検査用パターンＰｍを用いて容易に測定可能である。

　そののち、測定した幅不足量に基づいて、レーザヘッドまたはレーザビームの照射位置またはパワーを補正し（ステップＳ３０６）、再びレーザ転写工程に使用する（ステップＳ３０１）。

　色度またはスペクトル形状が規格範囲内であると判別された場合（ステップＳ３０３；Ｎ）、そのパネルは次工程に進み（ステップＳ３０７）、駆動用基板１１および封止用基板３０が筐体４０に収容される。以上により、図２６に示した表示装置が完成する。

　本実施の形態の作用は、第１の実施の形態と同様である。

　このように本実施の形態では、有効領域１１０の外側の検査領域１５０に、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇよりなる検査用画素Ｐｘ２を、検査対象色の表示用画素Ｐｘ１と同じ列に設け、この検査用画素Ｐｘ２の幅Ｗ３を、表示用画素Ｐｘ１よりも広くするようにしたので、この検査用画素Ｐｘ２のＥＬまたはＰＬ発光の色度またはスペクトル形状の変化に基づいて、赤色発光層１５ＣＲまたは緑色発光層１５ＣＧの幅不足の予兆を早期に発見することが可能となる。なお、本実施の形態または以下の第４の実施の形態に、第１または第２の実施の形態を組み合わせることにより、幅不足と位置ズレおよび幅超過との両方を検査可能となることは言うまでもない。

＜１２．第４の実施の形態＞
表示装置
　図２８は、本発明の第３の実施の形態に係る表示装置の有効領域１１０の平面構成の一例を表したものである。本実施の形態は、検査用パターンＰｔを用いて、赤色発光層１５ＣＲ，緑色発光層１５ＣＧおよび青色発光層１５ＣＢの幅不足を検出するようにしたものである。このことを除いては、この表示装置は、第１および第２の実施の形態と同様の構成を有している。よって、対応する構成要素には同一の符号を付して説明する。

　検査用パターンＰｔは、検査対象色の表示用画素Ｐｘ１と同じ列に設けられており、検査用パターンＰｔの幅Ｗ３は、表示用画素Ｐｘ１の幅Ｗ４よりも広い。これにより、この表示装置では、赤色発光層１５ＣＲ，緑色発光層１５ＣＧの幅不足の予兆を早期に発見することが可能となっている。

　検査用パターンＰｔの幅Ｗ３は、具体的には、転写位置およびサイズによって決まる赤色発光層１５ＣＲ，緑色発光層１５ＣＧの左右端位置のプロセス管理下限値となるように設定される。

　なお、図２８では省略したが、目盛り付きの検査用パターンＰｍ、識別パターンＩＤ、封止用基板３０上の遮光層３２および筐体４０については、第１の実施の形態と同様である。

　図２９は、この表示装置の製造方法の流れを表したものである。なお、第１の実施の形態と製造工程が重複する部分については、図７を参照して説明する。

　まず、第１の実施の形態と同様にして、図７（Ａ）に示した工程により、駆動用基板１１に、第１電極１３、絶縁層１４および正孔注入層および正孔輸送層１５ＡＢを形成し、被転写基板１１Ａを形成する。その際、表示用画素Ｐｘ１の第１電極１３と同一工程で、検査領域１５０には、検査用パターンＰｔと、目盛り付きの検査用パターンＰｍと、識別パターンＩＤとを形成する。検査用パターンＰｔは、検査対象色の表示用画素Ｐｘ１の第1 電極１３と同じ列に設ける。また、絶縁層１４に開口を設ける際に、検査用パターンＰｔの幅Ｗ３を、表示用画素Ｐｘ１の幅Ｗ４よりも広くなるようにする。

　続いて、第１の実施の形態と同様にして、青色発光層１５ＣＢ、電子輸送層および電子注入層１５ＤＥ、並びに第２電極１６を形成する。このようにして、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂよりなる表示用画素Ｐｘ１および検査用パターンＰｔを形成する（ステップＳ４０１）。

　続いて、遮光層３２の窓３２Ａを用いて検査用パターンＰｔに光を照射し、反射光またはＰＬ発光の色度またはスペクトル形状を測定する（ステップＳ４０２）。

　そののち、測定した色度またはスペクトル形状が規格範囲外か否かを判別する（ステップＳ４０３）。上述したように、検査用パターンＰｔの幅Ｗ３は、転写位置およびサイズによって決まる赤色発光層１５ＣＲ，緑色発光層１５ＣＧの左右端位置のプロセス管理下限値となるように設定されている。よって、赤色発光層１５ＣＲ，緑色発光層１５ＣＧの幅が不足し、左右端位置が検査用パターンＰｔ上にある場合には、検査用パターンＰｔでの反射光またはＰＬ発光の色度またはスペクトル形状が変化し、規格範囲外となる。該当する表示用画素Ｐｘ１は、まだ赤色発光層１５ＣＲ，緑色発光層１５ＣＧの幅不足が生じていないがその可能性が高い幅不足予備軍ということができる。検査用画素Ｐｘ２を用いることにより、幅不足予備軍である表示用画素Ｐｘ１を発見することができる。すなわち、有効領域１１０内で不良が発生する前に、赤色発光層１５ＣＲ，緑色発光層１５ＣＧの幅不足を把握し、以下のような幅不足発生対策を早期に行うことが可能となる。

　色度またはスペクトル形状が規格範囲外であると判別された場合（ステップＳ４０３；Ｙ）、識別パターンＩＤを用いて、該当する赤色発光層１５ＣＲまたは緑色発光層１５ＣＧを形成する工程で使用したレーザヘッドまたはレーザビームを特定する（ステップＳ４０４）。

　続いて、該当する赤色発光層１５ＣＲまたは緑色発光層１５ＣＧの幅不足量を測定する（ステップＳ４０５）。幅不足量は、第１の実施の形態と同様にして、目盛り付きの検査用パターンＰｍを用いて容易に測定可能である。

　そののち、測定した幅不足量に基づいて、レーザヘッドまたはレーザビームの照射位置またはパワーを補正し（ステップＳ４０６）、再びレーザ転写工程に使用する（ステップＳ４０１）。

　色度またはスペクトル形状が規格範囲内であると判別された場合（ステップＳ４０３；Ｎ）、そのパネルは次工程に進み（ステップＳ４０７）、駆動用基板１１および封止用基板３０が筐体４０に収容される。以上により、図２８に示した表示装置が完成する。

　本実施の形態の作用および効果は、第３の実施の形態と同様である。

＜１３．第５の実施の形態＞
表示装置
　図３０は、本発明の第５の実施の形態に係る表示装置の有効領域１１０の平面構成の一例を表したものである。本実施の形態は、検査用画素Ｐｘ２を省略し、目盛り付きの検査用パターンＰｍのみにより検査を行うようにしたものである。このことを除いては、この表示装置は、第１の実施の形態と同様の構成を有している。

　図３１は、この表示装置の製造方法の流れを表したものである。なお、第１の実施の形態と製造工程が重複する部分については、図７を参照して説明する。

　まず、第１の実施の形態と同様にして、図７（Ａ）に示した工程により、駆動用基板１１に、第１電極１３、絶縁層１４および正孔注入層および正孔輸送層１５ＡＢを形成し、被転写基板１１Ａを形成する。その際、表示用画素Ｐｘ１の第１電極１３と同一工程で、検査領域１５０には、目盛り付きの検査用パターンＰｍと、識別パターンＩＤとを形成する。

　続いて、第１の実施の形態と同様にして、青色発光層１５ＣＢ、電子輸送層および電子注入層１５ＤＥ、並びに第２電極１６を形成する。このようにして、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂよりなる表示用画素Ｐｘ１および目盛り付きの検査用パターンＰｍを形成する（ステップＳ５０１）。

　表示用画素Ｐｘ１および目盛り付きの検査用パターンＰｍを形成したのち、第１の実施の形態と同様にして、これらの上に保護膜１７を形成する。そののち、保護膜１７の上に接着層２０を形成し、この接着層２０を間にして、カラーフィルタ３１を形成した封止用基板３０を貼り合わせて封止する。

　続いて、遮光層３２の窓３２Ａを用いて目盛り付きの検査用パターンＰｍに光を照射し、反射光またはＰＬ発光の色度またはスペクトル形状を測定する（ステップＳ５０２）。

　そののち、測定した色度またはスペクトル形状が規格範囲外か否かを判別する（ステップＳ５０３）。具体的には、目盛り付きの検査用パターンＰｍに光を照射すると、赤色発光層１５ＣＲ，緑色発光層１５ＣＧとの重なり部分では、干渉効果により、反射光またはＰＬ発光の色度またはスペクトル形状が変化する。色度またはスペクトル形状が変化する位置の目盛りを読み取ることにより、赤色発光層１５ＣＲ，緑色発光層１５ＣＧの位置または幅が判明し、位置ズレ量も容易に計測可能である。よって、混色または膜厚分布不均一といった不良を引き起こす前に、赤色発光層１５ＣＲ，緑色発光層１５ＣＧの位置ズレなどの予兆を早期に発見することが可能となる。

　色度またはスペクトル形状が規格範囲外であると判別された場合（ステップＳ５０３；Ｙ）、識別パターンＩＤを用いて、該当する赤色発光層１５ＣＲまたは緑色発光層１５ＣＧを形成する工程で使用したレーザヘッドまたはレーザビームを特定する（ステップＳ５０４）。

　続いて、該当する赤色発光層１５ＣＲまたは緑色発光層１５ＣＧの位置のずれ量を測定する（ステップＳ５０５）。ずれ量は、第１の実施の形態と同様にして、目盛り付きの検査用パターンＰｍを用いて容易に測定可能である。

　そののち、測定したずれ量に基づいて、レーザヘッドまたはレーザビームの照射位置またはパワーを補正し（ステップＳ５０６）、再びレーザ転写工程に使用する（ステップＳ５０１）。

　色度またはスペクトル形状が規格範囲内であると判別された場合（ステップＳ５０３；Ｎ）、そのパネルは次工程に進み（ステップＳ５０７）、駆動用基板１１および封止用基板３０が筐体４０に収容される。以上により、図３０に示した表示装置が完成する。

　更に、本発明の具体的な実施例について説明する。

（実施例１）
　上記第１の実施の形態と同様にして表示装置を作製した。その際、被転写基板１１Ａとして第６世代基板上の３２インチＴＦＴ基板を用い、この被転写基板１１Ａに、１ヘッドに８本のビームを持つレーザヘッドを８本用いて、レーザ転写法により、赤色発光層１５ＣＲおよび緑色発光層１５ＣＧを形成した。

　検査領域１５０には、図３２に示したように、赤色発光層１５ＣＲの両側に、有機発光素子１０Ｇ，１０Ｂよりなる検査用画素Ｐｘ２を配置し、赤色発光層１５ＣＲの両側の検査用画素Ｐｘ２の間の距離Ｗ２を１２０μｍ、赤色発光層１５ＣＲの両側の表示用画素Ｐｘ１の間の距離Ｗ１を１４０μｍとし、距離Ｗ２を距離Ｗ１よりも狭くした。検査用画素Ｐｘ２の幅は８０μｍ、表示用画素Ｐｘ１の幅は５０μｍとした。表示用画素Ｐｘ１のピッチＷｐ（絶縁層１４の中央から中央までの距離）は１００μｍとした。

　また、検査領域１５０には、検査用画素Ｐｘ２に加えて、目盛り付きの検査用パターンＰｍおよび識別パターンＩＤを形成した。

　続いて、封止用基板３０との貼り合わせまで完了したのち、有効領域１１０内の発光ムラ検査を行い、有効領域１１０の発光ムラが無いことを確認した。

　そののち、検査用画素Ｐｘ２を点灯させ、発光色度を測定した。有機発光素子１０Ｂよりなる検査用画素Ｐｘ２では、目標色度からの色差が、Δｕ’ｖ’＝０．１となり、管理値上限の０．０２５を大きく上回った。これにより、検査用画素Ｐｘ２に赤色が混色していることが分かった。

　続いて、目盛り付きの検査用パターンＰｍに光を照射し、目盛り付きの検査用パターンＰｍ上に現れた赤色発光層１５ＣＲの干渉色から、転写位置を測定すると、目標位置からのズレ（はみ出し）量ΔＷが２０μｍであることが分かった。赤色発光層１５ＣＲの幅に関しては、目標どおり、１００μｍであった。

　位置ズレが判明した赤色発光層１５ＣＲの近辺に形成されていた識別パターンＩＤは、「Ｒ４７」であった。

　更に、隣接している列の赤色発光層１５ＣＲについても同様の検査を行ったところ、２０μｍ位置ズレしていることが分かった。位置ズレしていた赤色発光層１５ＣＲの近辺に形成されていた識別パターンＩＤは、「Ｒ４１」～「Ｒ４８」であった。このことから、４番目のヘッドの位置ズレが原因であることが判明した。

　４番目のヘッドについて２０μｍの位置補正を行ったのち、別の被転写基板１１Ａに、レーザ転写法により赤色発光層１５ＣＲを形成し、同様の検査を行ったところ、転写位置はほぼ目標位置に移動していることが確認された。異常発見から位置調整まで、有効領域１１０の発光状態には異常がなく、位置ズレによる不良が発生することもなかった。

　すなわち、有効領域１１０の外側の検査領域１５０に、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂよりなる検査用画素Ｐｘ２を設け、検査対象色の両側の検査用画素Ｐｘ２の間の距離Ｗ２を、検査対象色の両側の表示用画素Ｐｘ１の間の距離Ｗ１よりも狭くするようにすれば、この検査用画素Ｐｘ２のＥＬまたはＰＬ発光の色度またはスペクトル形状の変化に基づいて、赤色発光層１５ＣＲ，緑色発光層１５ＣＧの位置ズレなどの予兆を早期に発見することが可能となることが分かった。

（モジュールおよび適用例）
　以下、上述した各実施の形態で説明した表示装置の適用例について説明する。上記各実施の形態の表示装置は、テレビジョン装置，デジタルカメラ，ノート型パーソナルコンピュータ、携帯電話等の携帯端末装置あるいはビデオカメラなど、外部から入力された映像信号あるいは内部で生成した映像信号を、画像あるいは映像として表示するあらゆる分野の電子機器の表示装置に適用することが可能である。

（モジュール）
　上記各実施の形態の表示装置は、例えば、図３３に示したようなモジュールとして、後述する適用例１～５などの種々の電子機器に組み込まれる。このモジュールは、例えば、被転写基板１１Ａの一辺に、封止用基板３０および接着層２０から露出した領域２１０を設け、この露出した領域２１０に、信号線駆動回路１２０および走査線駆動回路１３０の配線を延長して外部接続端子（図示せず）を形成したものである。外部接続端子には、信号の入出力のためのフレキシブルプリント配線基板（ＦＰＣ；Flexible Printed Circuit）２２０が設けられていてもよい。

（適用例１）
　図３４は、上記各実施の形態の表示装置が適用されるテレビジョン装置の外観を表したものである。このテレビジョン装置は、例えば、フロントパネル３１０およびフィルターガラス３２０を含む映像表示画面部３００を有しており、この映像表示画面部３００は、上記各実施の形態に係る表示装置により構成されている。

（適用例２）
　図３５は、上記各実施の形態の表示装置が適用されるデジタルカメラの外観を表したものである。このデジタルカメラは、例えば、フラッシュ用の発光部４１０、表示部４２０、メニュースイッチ４３０およびシャッターボタン４４０を有しており、その表示部４２０は、上記各実施の形態に係る表示装置により構成されている。

（適用例３）
　図３６は、上記各実施の形態の表示装置が適用されるノート型パーソナルコンピュータの外観を表したものである。このノート型パーソナルコンピュータは、例えば、本体５１０，文字等の入力操作のためのキーボード５２０および画像を表示する表示部５３０を有しており、その表示部５３０は、上記各実施の形態に係る表示装置により構成されている。

（適用例４）
　図３７は、上記各実施の形態の表示装置が適用されるビデオカメラの外観を表したものである。このビデオカメラは、例えば、本体部６１０，この本体部６１０の前方側面に設けられた被写体撮影用のレンズ６２０，撮影時のスタート／ストップスイッチ６３０および表示部６４０を有しており、その表示部６４０は、上記各実施の形態に係る表示装置により構成されている。

（適用例５）
　図３８は、上記各実施の形態の表示装置が適用される携帯電話機の外観を表したものである。この携帯電話機は、例えば、上側筐体７１０と下側筐体７２０とを連結部（ヒンジ部）７３０で連結したものであり、ディスプレイ７４０，サブディスプレイ７５０，ピクチャーライト７６０およびカメラ７７０を有している。そのディスプレイ７４０またはサブディスプレイ７５０は、上記各実施の形態に係る表示装置により構成されている。

　以上、実施の形態および実施例を挙げて本発明を説明したが、本発明は上記実施の形態および実施例に限定されるものではなく、種々変形が可能である。例えば、上記実施の形態および実施例では、転写工程でレーザ光を照射する場合について説明したが、例えばランプなど他の輻射線を照射するようにしてもよい。

　また、例えば、上記実施の形態および実施例において説明した各層の材料および厚み、または成膜方法，成膜条件およびレーザ光の照射条件などは限定されるものではなく、他の材料および厚みとしてもよく、または他の成膜方法，成膜条件および照射条件としてもよい。

　更に、上記実施の形態では、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの構成を具体的に挙げて説明したが、全ての層を備える必要はなく、また、他の層を更に備えていてもよい。加えて、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂに、赤色発光層１５ＣＲ，緑色発光層１５ＣＧまたは青色発光層１５ＣＢで発生した光を、第１電極１３と第２電極１６との間で共振させる共振器構造を形成するようにすれば、検査用パターンＰｔからの反射光の色を共振器効果により変化させることができる。

　加えて、上記変形例１ないし変形例８は、第１の実施の形態だけでなく、第２ないし第４の実施の形態にも適用可能である。また、上記変形例５ないし変形例８は、第５の実施の形態にも適用可能である。

　更にまた、上記各実施の形態では、アクティブマトリクス型の表示装置の場合について説明したが、本発明はパッシブマトリクス型の表示装置への適用も可能である。更にまた、アクティブマトリクス駆動のための画素駆動回路の構成は、上記各実施の形態で説明したものに限られず、必要に応じて容量素子やトランジスタを追加してもよい。その場合、画素駆動回路の変更に応じて、上述した信号線駆動回路１２０や走査線駆動回路１３０のほかに、必要な駆動回路を追加してもよい。

　本出願は、日本国において２００８年８月８日に出願された日本特許出願番号２００８－２０６２６３号を基礎として優先権を主張するものであり、この出願は参照することにより、本出願に援用される。

Claims

　基板に、有機発光素子よりなる表示用画素が行列状に形成され、同じ色の前記表示用画素が同じ列に配置されている有効領域と、
　前記基板の前記有効領域の外側に、有機発光素子よりなる検査用画素を有し、検査対象色の両側の前記検査用画素の間の距離が、検査対象色の両側の前記表示用画素の間の距離よりも狭い検査領域と
　を備えた表示装置。
　前記検査用画素は、前記検査対象色の両側の表示用画素の列と同じ列に設けられていると共に、前記表示用画素よりも幅が広い
　請求項１記載の表示装置。
　前記検査用画素は、前記検査対象色の両側の表示用画素の列と同じ列に設けられていると共に、同じ列の前記表示用画素に対して行方向の位置がずらされている
　請求項１記載の表示装置。
　前記検査用画素は、検査対象色が短波長であるほど、前記有効領域から離れた位置に形成されている
　請求項１記載の表示装置。
　前記検査領域に、反射層を含むと共に目盛り付きの検査用パターンが形成されており、前記検査用パターンが、検査対象色の列と、その両側の列の少なくとも一部とにかかる行方向の直線状に形成されている
　請求項１記載の表示装置。
　基板に、有機発光素子よりなる表示用画素が行列状に形成され、同じ色の前記表示用画素が同じ列に配置されている有効領域と、
　前記基板の前記有効領域の外側に、反射層を含む検査用パターンを有し、検査対象色の両側の前記検査用パターンの間の距離が、検査対象色の両側の前記表示用画素の間の距離よりも狭い検査領域と
　を備えた表示装置。
　基板に、有機発光素子よりなる表示用画素が行列状に形成され、同じ色の前記表示用画素が同じ列に配置されている有効領域と、
　前記基板の前記有効領域の外側に、有機発光素子よりなる検査用画素を有し、前記検査用画素は、検査対象色の表示用画素と同じ列に設けられていると共に、前記表示用画素よりも幅が広い検査領域と
　を備えた表示装置。
　基板に、有機発光素子よりなる表示用画素が行列状に形成され、同じ色の前記表示用画素が同じ列に配置されている有効領域と、
　前記基板の前記有効領域の外側に、反射層を含む検査用パターンを有し、前記検査用パターンは、検査対象色の表示用画素と同じ列に設けられていると共に、前記表示用画素よりも幅が広い検査領域と
　を備えた表示装置。
　基板に、有機発光素子よりなる表示用画素が行列状に形成され、同じ色の前記表示用画素が同じ列に配置されている有効領域と、
　前記基板の前記有効領域の外側に、反射層を含むと共に目盛り付きの検査用パターンを有し、前記検査用パターンが、検査対象色の列と、その両側の列の少なくとも一部とにかかる行方向の直線状に形成されている検査領域と
　を備えた表示装置。
　前記表示用画素を構成する有機発光素子は、第１電極、赤色発光層，緑色発光層または青色発光層の少なくとも一つを含む有機層、および第２電極を順に有し、
　少なくとも前記赤色発光層および前記緑色発光層は、レーザ転写法により形成されており、
　前記検査領域には、前記検査対象色の表示用画素の列の延長上に、前記発光層の形成に用いられたレーザヘッドまたはレーザビームを特定する識別パターンが形成されている
　請求項１記載の表示装置。
　前記基板の前記有効領域および前記検査領域が設けられた面に対向配置され、前記表示用画素に対応して設けられたカラーフィルタと、前記カラーフィルタ以外の領域に設けられると共に、前記検査領域に対応して開口部を有する遮光層とを有する封止用基板を備えた
　請求項１記載の表示装置。
　前記基板および封止用基板を収容する筐体を備え、前記筐体は、前記有効領域に対応した開口部と、前記開口部の周囲に設けられると共に前記検査領域を隠蔽する額縁領域とを有する
　請求項１記載の表示装置。
　基板の有効領域に表示用画素の第１電極を行列状に形成すると共に、前記有効領域の外側の検査領域に、検査用画素の第１電極を形成し、検査対象色の両側の前記検査用画素の第１電極の間の距離を、検査対象色の両側の前記表示用画素の第１電極の間の距離よりも狭くする工程と、
　前記表示用画素の第１電極および前記検査用画素の第１電極の上に、赤色発光層，緑色発光層または青色発光層の少なくとも一つを含む有機層を形成し、少なくとも前記赤色発光層および前記緑色発光層をレーザ転写法により前記有効領域を超えて前記検査領域に達する列方向の直線状に形成する工程と、
　前記有機層の上に第２電極を形成する工程と、
　前記検査用画素をＥＬまたはＰＬにより発光させて、色度またはスペクトル形状を測定する工程と、
　前記色度またはスペクトル形状に基づいて、前記赤色発光層，前記緑色発光層または前記青色発光層の位置または幅が規格範囲外か否かを判別する工程と
　を含むことを特徴とする表示装置の製造方法。
　基板の有効領域に表示用画素の第１電極を行列状に形成すると共に、前記有効領域の外側の検査領域に、反射層を含む検査用パターンを形成し、検査対象色の両側の前記検査用パターンの間の距離を、検査対象色の両側の前記表示用画素の第１電極の間の距離よりも狭くする工程と、
　前記第１電極の上に、赤色発光層，緑色発光層または青色発光層の少なくとも一つを含む有機層を形成し、少なくとも前記赤色発光層および前記緑色発光層をレーザ転写法により前記有効領域を超えて前記検査領域に達する列方向の直線状に形成する工程と、
　前記有機層の上に第２電極を形成する工程と、
　前記検査用パターンに光を照射し、反射光またはＰＬ発光の色度またはスペクトル形状を測定する工程と、
　前記色度またはスペクトル形状に基づいて、前記赤色発光層，前記緑色発光層または前記青色発光層の位置または幅が規格範囲外か否かを判別する工程と
　を含む表示装置の製造方法。
　基板の有効領域に表示用画素の第１電極を行列状に形成すると共に、前記有効領域の外側の検査領域に、検査用画素の第１電極を、検査対象色の表示用画素と同じ列に、前記表示用画素の第１電極よりも広い幅で形成する工程と、
　前記表示用画素の第１電極および前記検査用画素の第１電極の上に、赤色発光層，緑色発光層または青色発光層の少なくとも一つを含む有機層を形成し、少なくとも前記赤色発光層および前記緑色発光層をレーザ転写法により前記有効領域を超えて前記検査領域に達する列方向の直線状に形成する工程と、
　前記有機層の上に第２電極を形成する工程と、
　前記検査用画素をＥＬまたはＰＬにより発光させて、色度またはスペクトル形状を測定する工程と、
　前記色度またはスペクトル形状に基づいて、前記赤色発光層，前記緑色発光層または前記青色発光層の幅が規格範囲外か否かを判別する工程と
　を含むことを特徴とする表示装置の製造方法。
　基板の有効領域に表示用画素の第１電極を行列状に形成すると共に、前記有効領域の外側の検査領域に、反射層を含む検査用パターンを、検査対象色の表示用画素と同じ列に、前記表示用画素の第１電極よりも広い幅で形成する工程と、
　前記第１電極の上に、赤色発光層，緑色発光層または青色発光層の少なくとも一つを含む有機層を形成し、少なくとも前記赤色発光層および前記緑色発光層をレーザ転写法により前記有効領域を超えて前記検査領域に達する列方向の直線状に形成する工程と、
　前記有機層の上に第２電極を形成する工程と、
　前記検査用パターンに光を照射し、反射光またはＰＬ発光の色度またはスペクトル形状を測定する工程と、
　前記色度またはスペクトル形状に基づいて、前記赤色発光層，前記緑色発光層または前記青色発光層の幅が規格範囲外か否かを判別する工程と
　を含む表示装置の製造方法。
　少なくとも前記赤色発光層および前記緑色発光層をレーザ転写法により形成する工程において、前記検査領域に、前記検査対象色の表示用画素の列の延長上に、前記発光層の形成に用いられたレーザヘッドまたはレーザビームを特定する識別パターンを形成しておき、
　前記赤色発光層，前記緑色発光層または前記青色発光層の位置または幅が規格範囲外であると判別された場合に、前記識別パターンを用いて、前記赤色発光層，前記緑色発光層または前記青色発光層を形成する工程で使用したレーザヘッドまたはレーザビームを特定する工程と、
　前記赤色発光層，前記緑色発光層または前記青色発光層の位置または幅のずれ量を測定する工程と、
　前記ずれ量に基づいて、前記レーザヘッドまたは前記レーザビームの照射位置またはパワーを補正する工程と
　を含む請求項１３記載の表示装置の製造方法。
　前記検査領域に、反射層を含むと共に目盛り付きの検査用パターンを、検査対象色の列と、その両側の列の少なくとも一部とにかかる行方向の直線状に形成し、
　少なくとも前記赤色発光層および前記緑色発光層をレーザ転写法により前記検査用パターンに交差するように形成し、
　前記赤色発光層，前記緑色発光層または前記青色発光層の位置または幅のずれ量を、前記検査用パターンの目盛りを用いて測定する
　請求項１７記載の表示装置の製造方法。
　基板の有効領域に表示用画素の第１電極を行列状に形成すると共に、前記有効領域の外側の検査領域に、反射層よりなる目盛り付きの検査用パターンを、検査対象色の列と、その両側の列の少なくとも一部とにかかる行方向の直線状に形成する工程と、
　前記第１電極の上に、赤色発光層，緑色発光層または青色発光層の少なくとも一つを含む有機層を形成し、少なくとも前記赤色発光層および前記緑色発光層をレーザ転写法により前記有効領域を超えて前記検査領域に達する列方向の直線状に形成する工程と、
　前記有機層の上に第２電極を形成する工程と、
　前記検査用パターンに光を照射し、反射光またはＰＬ発光の色度またはスペクトル形状を測定する工程と、
　前記色度またはスペクトル形状に基づいて、前記赤色発光層，前記緑色発光層または前記青色発光層の位置または幅が規格範囲外か否かを判別する工程と
　を含む表示装置の製造方法。
　少なくとも前記赤色発光層および前記緑色発光層をレーザ転写法により形成する工程において、前記検査領域に、前記検査対象色の表示用画素の列の延長上に、前記発光層の形成に用いられたレーザヘッドまたはレーザビームを特定する識別パターンを形成しておき、
　前記赤色発光層，前記緑色発光層または前記青色発光層の位置または幅が規格範囲外であると判別された場合に、前記識別パターンを用いて、前記赤色発光層，前記緑色発光層または前記青色発光層を形成する工程で使用したレーザヘッドまたはレーザビームを特定する工程と、
　前記赤色発光層，前記緑色発光層または前記青色発光層の位置または幅のずれ量を、前記検査用パターンの目盛りを用いて測定する工程と、
　前記ずれ量に基づいて、前記レーザヘッドまたは前記レーザビームの照射位置またはパワーを補正する工程と
　を含む請求項１９記載の表示装置の製造方法。