WO2009113478A1 - 表面検査装置、表面検査方法 - Google Patents

表面検査装置、表面検査方法 Download PDF

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康雄 美原
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株式会社アルバック
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    • G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • G01N2021/9513—Liquid crystal panels

Definitions

  • the present invention relates to a surface inspection apparatus and a surface inspection method for inspecting a surface after cleaning parts used in an organic EL device manufacturing apparatus.
  • organic EL (electroluminescence) displays are characterized by a fast response time because the emission time of excitons is very fast and the luminance changes instantaneously when the current is changed. is there.
  • related manufacturers compete for development prototypes as the next-generation display because of the advantages that the gradation does not change depending on the viewing direction like liquid crystal, the contrast is low, and the viewing angle is close to 180 degrees. ing.
  • Organic EL devices have a laminated structure consisting of a cathode of metal, etc., an electron injection layer, an electron transport layer, a light emitting layer, a hole transport layer, a hole injection layer, an anode such as ITO, a glass plate, and a transparent plastic film substrate.
  • a light emitting diode which emits light by recombination of electrons and holes injected into an organic compound.
  • a polymer material or a low molecular weight material is used as an organic compound for light emission. Currently, a low molecular weight material is mainly used, and a small amount of component composition is managed as know-how of a display manufacturer.
  • a multilayer film of an organic compound thin film between the cathode and the anode is formed in a vacuum evaporation apparatus.
  • the organic compound is inserted into a crucible made of stainless steel, carbon, ceramics, etc., heated by a resistance heating method, an electron beam method, a high frequency induction method, a laser method, or the like, and sublimated or evaporated.
  • the substrate is placed on the substrate holder, and the vapor that has passed through the metal mask disposed on the film forming surface side of the substrate adheres to the substrate surface, so that a patterned organic thin film is formed.
  • the vapor deposition crucible and the substrate are each shielded by a shutter plate, and when the organic compound vapor that has passed through the small holes in the vapor deposition crucible side shutter plate adheres to the film thickness monitor,
  • the deposition rate can be measured by a film thickness monitor. From the measurement result, the vapor generation rate is controlled so that the formation rate of the organic thin film becomes a preset value.
  • the organic EL thin film is also deposited on the device parts such as the substrate holder, the metal mask, the shutter plate, the film thickness monitor, and the deposition preventing plate.
  • the film thickness of the organic EL thin film deposited on the hole or the organic EL thin film deposited on the metal mask is increased, the small hole is blocked or the pattern opening is blocked, and normal film thickness control cannot be performed. In addition, an accurate pattern cannot be formed.
  • the peeled organic EL thin film is as thin as several nanometers (0.00 several ⁇ m) to several hundred nanometers (0.00 several ⁇ m), and therefore becomes particles, and if it adheres to the substrate, it causes serious defects such as pattern disconnection. .
  • the organic compound dissolves and the residue of the organic compound that has been evaporated remains on the inner surface and the upper side of the crucible, and if the organic EL thin film is mixed as an impurity, the characteristics of the organic EL thin film are deteriorated. .
  • the present invention was created to solve the above-described problems of the prior art, and an object thereof is to provide a technique capable of reliably detecting a trace amount of organic EL residue.
  • the inventor of the present invention finds that the organic EL thin film contains a charge transport material and a light-emitting material, and that the visible light is emitted from the organic EL thin film when irradiated with ultraviolet light, and creates the present invention. It was confirmed that when the device component was irradiated with ultraviolet light, the organic EL residue on the device component also emitted light with visible light.
  • the present invention created based on the above knowledge includes a light emitting device that irradiates an inspection region of an inspection object with ultraviolet light, a light receiving device that observes the inspection region, and a polarization that is disposed between the light receiving device and the inspection region.
  • a surface inspection device configured to prevent the ultraviolet light reflected by the inspection region from reaching the light receiving device.
  • this invention is a surface inspection apparatus which has a moving apparatus which moves the said polarizing filter from the position between the said light-receiving device and the said test
  • the present invention is a surface inspection apparatus having a moving mechanism for moving the inspection object.
  • the present invention is also a surface inspection method for irradiating the surface of an inspection object with ultraviolet light and receiving visible light on the surface of the inspection object to determine the presence or absence of an organic EL residue on the surface of the inspection object. Further, the present invention provides a surface inspection method for irradiating an inspection area on the surface of an inspection object with ultraviolet light, measuring the amount of received light received from the inspection area, and determining the presence or absence of an organic EL residue on the surface of the inspection object. It is. The present invention is also a surface inspection method for receiving the ultraviolet light reflected on the surface of the inspection object while removing the ultraviolet light with a polarizing filter.
  • Vapor deposition crucible, shutter plate, film thickness monitor, substrate holder for vapor deposition equipment that deposits organic EL material by vapor deposition in the manufacturing process of organic EL display mass production stage, and other equipment parts to which evaporated organic EL material adheres The presence or absence of organic EL residue adhering to can be inspected. Since it can be automated, work efficiency is high, and the presence or absence of residue can be determined by objective criteria.
  • Reference numeral 10 in FIG. 1 denotes a surface inspection apparatus according to an embodiment of the present invention.
  • the surface inspection apparatus 10 includes a measurement tank 19, and a light emitting device 11, a sample stage 12, a polarizing filter 13, and a light receiving device 14 are disposed inside the measurement tank 19.
  • An inspection object 15 is arranged on the sample stage 12.
  • the inspection object 15 is an internal component of the organic EL thin film deposition apparatus, and is in a cleaned state.
  • the light emitting device 11 includes an ultraviolet light (ultraviolet light indicates light having a wavelength of 10 nm to 400 nm) and a condensing device, and irradiates the small inspection region 20 on the surface of the inspection object 15 on the sample table 12 with ultraviolet light. It is configured to be able to.
  • ultraviolet light indicates light having a wavelength of 10 nm to 400 nm
  • the sample stage 12 is an XY stage, and the sample stage 12 is attached to a moving mechanism 21.
  • the moving mechanism 21 When the moving mechanism 21 is operated, the sample stage 12 can move in the X-axis direction and the Y-axis direction in a horizontal plane.
  • the moving mechanism 21 is connected to the control device 22, and the movement of the sample stage 12 is controlled by the control device 22.
  • the relative positional relationship between the sample stage 12 and the inspection area 20 is configured to be detected by the control device 22, and which part of the inspection object 15 arranged on the sample stage 12 is the inspection area 20. Is detected by the control device 22.
  • the light emitting device 11 is also controlled by the control device 22. When the light is emitted by a signal input from the control device 22, the inspection region 20 is irradiated with ultraviolet light.
  • the light receiving device 14 is arranged at a position where the inspection region 20 irradiated with the ultraviolet light on the surface of the inspection object 15 can be observed.
  • the light receiving device 14 is connected to the control device 22, the intensity of light incident on the light receiving device 14 is measured, and the light intensity is output to the control device 22 as a measured value.
  • the control device 22 stores the input measurement value in association with the XY position (XY coordinate) of the inspection area 20.
  • the door of the measurement tank 19 is closed, the periphery of the inspection object 15 is blocked, and light from the outside is not incident on the light receiving device 14.
  • the sample stage 12 is moved so that ultraviolet light is irradiated to the measurement start position, the light emitting device 11 is caused to emit light, and the inspection region 20 on the surface of the inspection object 15 is irradiated with ultraviolet light (irradiation ultraviolet light) 31.
  • the organic EL residue 24 When the organic EL residue (organic EL material residue or organic EL thin film residue) 24 is attached to the inspection region 20, the organic EL residue 24 irradiated with the ultraviolet light 31 emits light, and visible light 33 is emitted.
  • the organic EL residue 24 When the organic EL residue 24 is not attached to the inspection area 20, there is no radiation of visible light 33 in the inspection area 20.
  • the ultraviolet light 31 irradiated on the inspection region 20 is reflected by the surface of the inspection object 15, and the reflected ultraviolet light 32 travels toward the light receiving device 14.
  • the polarizing filter 13 is disposed at the front position of the light receiving device 14 so that only the light transmitted through the polarizing filter 13 is received by the light receiving device 14.
  • the polarizing filter 13 is arranged so that the optical characteristic axis is directed in a direction not transmitting the light reflected by the surface of the inspection object 15, and the emitted light of the attached organic EL residue 24 is transmitted through the polarizing filter 13 and received.
  • the reflected ultraviolet light 32 received by the device 14 but reflected by the inspection region 20 is shielded by the polarizing filter 13 and cannot reach the light receiving device 14. Therefore, only visible light 33 emitted from the organic EL residue 24 is incident on the light receiving device 14.
  • the control device 22 After irradiating the inspection area 20 with ultraviolet light 31 and the control device 22 stores the measured value of the light receiving device 14, the light emitting device 11 stops emitting light, operates the moving mechanism 21, moves the inspection object 15, An uninspected inspection region 20 is disposed at a position where ultraviolet rays are irradiated, and measurement is performed in the same manner.
  • the measured values of each inspection region 20 are stored in the control device 22 in association with the positions. Is done.
  • the stored measurement value is compared with a reference value set in advance in the control device 22, and it is determined that there is an organic EL residue 24 in an inspection region where the measurement value exceeds the reference value. Returning to the cleaning process, re-cleaning is performed.
  • the measurement value is stored in association with the position of the inspection area 20, and the position on the inspection object 15 in the inspection area determined to have the organic EL residue 24 can be known. The state of the organic EL residue 24 can be visually confirmed.
  • the surface inspection apparatus 10 is provided with an imaging device 18, and the inspection object 15 is imaged by the imaging device 18 before or after the inspection, and the captured image of the inspection object 15 is displayed on the display device 29. Since the position of the inspection region 20 where the organic EL residue 24 is detected is displayed superimposed on the captured image with a bright spot or the like, the position of the organic EL residue 24 can be easily confirmed visually.
  • the photographing by the photographing device 18 may be performed using room light or a photographing light.
  • the polarizing filter 13 is attached to the moving device 17, and the polarizing filter 13 is moved between the front surface position of the light receiving device 14 and a position other than the front surface of the light receiving device 14 by the moving device 17. It has been moved.
  • the polarizing filter 13 is moved to a position other than the front surface of the light receiving device 14, light is directly incident on the light receiving device 14.
  • the same inspection region 20 is irradiated with the ultraviolet light 31, and when the light is directly received by the light receiving device 14, the light transmitted through the polarizing filter 13 is received. It is possible to compare both measured values when receiving light directly.
  • Both measurement values are stored, and when the light transmitted through the polarizing filter 13 is received and when the light is detected directly, the organic EL residue is applied to the inspection region 20 irradiated with the ultraviolet light 31. It can be determined that there are 24.
  • both lights can be received in each inspection region 20.
  • the polarizing filter 13 Before receiving the light transmitted through the polarizing filter 13 by the light receiving device 14, the polarizing filter 13 may be moved from the front surface position of the light receiving device 14 and directly received by the light receiving device 14.
  • the inspection object 15 may be moved.
  • the polarizing filter 13 is transmitted through each inspection region 20. It is also possible to perform the measurement on the other side after performing the measurement on either the incident light or the directly incident light.
  • the light receiving device 14 detects the light emission of the organic EL residue 24.
  • the polarizing filter 13 is disposed just in front of the eye 35 of the inspector, and the outside of the dark room or the like. It is also possible to irradiate the surface of the inspection object 15 with the ultraviolet light 31 in an environment where no light is incident, and visually confirm the emission of the visible light 33 of the organic EL residue 24. In this case, if observation is performed while slowly moving the irradiation position of the ultraviolet light 31, the presence or absence of the organic EL residue 24 on the surface of the inspection object 15 can be detected without using the light receiving device 14.
  • the light emitting device 11 is provided with an ultraviolet light lamp and a condensing device and irradiates ultraviolet light onto an inspection area which is a small area on the surface of the inspection object 15. You may make it irradiate an ultraviolet laser beam to the test
  • the surface inspection may be terminated when the organic EL residue is detected, and re-cleaning may be performed.

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Abstract

　検査対象物表面の有機ＥＬ残渣を検査できる技術を提供する。検査対象物１５表面の検査領域２０を偏光フィルタ１３を介して観察しながら紫外光３１を照射する。検査領域２０で反射した反射紫外光３２は偏光フィルタ１３で遮蔽され、光が観察されないが、検査領域２０に有機ＥＬ残渣２４があった場合は有機ＥＬ残渣２４が発光し、可視光３３は偏光フィルタ１３を透過するので、偏光フィルタ１３を介して光が観察でき、有機ＥＬ残渣２４が存在することが分かる。

Description

表面検査装置、表面検査方法
　本発明は、有機ＥＬデバイス製造装置に使用される部品を洗浄した後、表面を検査する表面検査装置及び表面検査方法に関する。
　フラットパネルディスプレー（ＦＰＤ）の中で、有機ＥＬ（エレクトロルミネセンス）ディスプレーは、励起子の発光時間が非常に早く、電流を変化させれば輝度が瞬時に変化するため応答速度が速いという特徴がある。
　また、液晶の様に見る方向によって階調が変わってしまうことがなく、コントラストの低下も低く、視野角は１８０度に近い、などの利点から次世代のディスプレーとして関連メーカー各社が開発試作を競っている。
　有機ＥＬデバイスは、金属等の陰極／電子注入層／電子輸送層／発光層／正孔輸送層／正孔注入層／ＩＴＯ等の陽極／ガラス板や透明のプラスティックフィルムの基盤から成る積層構造の発光ダイオードであり、有機化合物中に注入された電子と正孔が再結合することによって発光する。
　発光のための有機化合物には、高分子材料又は低分子材料が使用されるが、現在は低分子材料が主流であり、微量の成分組成はディスプレー製造メーカーのノウハウとして管理されている。
　陰極と陽極の間の有機化合物薄膜の多層膜は真空蒸着装置の中で成膜される。有機化合物は、ステンレス、カーボン、セラミックス等からなるルツボの中に挿入され、抵抗加熱式、電子ビーム式、高周波誘導式、レーザー式などの方法で加熱され、昇華又は蒸発する。
　基板は、基板ホルダーに設置され、基板の成膜面側に配置されたメタルマスクを通過した蒸気が基板表面に付着し、パターン状の有機薄膜が形成される。
　このような有機薄膜の形成を開始する前は、蒸着ルツボと基板はそれぞれシャッター板で遮蔽されており、蒸着ルツボ側のシャッター板の小孔を通過した有機化合物蒸気が膜厚モニターに付着すると、膜厚モニターによって蒸着速度を測定することができる。測定結果から、有機薄膜の形成速度が予め設定された値になるように、蒸気発生速度が制御される。
　基板表面に有機ＥＬ薄膜を形成する過程において、基板ホルダー、メタルマスク、シャッター板、膜厚モニター、防着板などの装置部品上にも有機ＥＬ薄膜が堆積されてしまい、例えば、シャッター板の小孔に堆積した有機ＥＬ薄膜や、メタルマスク上に堆積した有機ＥＬ薄膜の膜厚が厚くなると小孔が塞がれたり、パターン開口が塞がれたりし、正常な膜厚コントロールができず、また、正確なパターンを形成する事ができなくなる。
　また、装置部品に堆積された有機ＥＬ薄膜の膜厚が厚くなるとストレスが高くなり、有機ＥＬ薄膜が装置部品から剥離する。
　剥離した有機ＥＬ薄膜は数ナノメートル（０．００数μｍ）から数百ナノメートル（０．数μｍ）と薄いため、パーティクルとなり、基板に付着するとパターンの断線などの重大な不良の原因となる。
　又、蒸発ルツボについても、有機化合物が溶解し、蒸発した跡の有機化合物の残渣がルツボ内面や上辺部に残ってしまい、有機ＥＬ薄膜に不純物として混入すると有機ＥＬ薄膜の特性を悪化させてしまう。
　これらの不都合を防止するために、定期的な部品洗浄が行なわれており、洗浄後、装置部品に有機ＥＬ残渣がないかの検査が行なわれている。
　例えば特開２００７－７７３０１号公報においては、装置部品を蒸着装置から外に取り出して洗浄した後、洗浄残りの残渣を検査するために、赤外分光光度計を用いて、透過法により分析している。
　しかしこの方法では、試作評価段階の小さな装置部品上の残渣は検査できるが、実際の装置に用いられる大きな部品は単なる平板ではなく異形状である場合が多いため、量産レベルで製品実物の検査適用は難しい。
　このように、量産レベルの製品の装置部品の洗浄後の残渣の有無を検査する方法については殆ど改善が成されておらず、特に、有機ＥＬ残渣の検査については、装置部品に可視光を当て、目視によって有機ＥＬ残渣の有無を検査しているのが現状である。
　しかしながら有機ＥＬ材料は、一般的に可視光下で淡白色が多く、微量の有機ＥＬ残渣の有無を見分ける事は熟練の経験を必要とし、大型の製品実物を検査するためには長時間を要する。
特開２００７－７７３０１号公報
　本発明は、上記従来技術の問題点を解決するために創作されたものであり、微量の有機ＥＬ残渣を確実に検出できる技術を提供することを課題とする。
　本発明の発明者は、有機ＥＬ薄膜には、電荷輸送材料や発光材料が含有されており、紫外光を照射した場合、有機ＥＬ薄膜から可視光が放射されることを見出し本発明を創作するに到ったものであり、装置部品に紫外光を照射したところ、装置部品上の有機ＥＬ残渣も可視光で発光することは確認している。
　上記知見によって創作された本発明は、検査対象物の検査領域に紫外光を照射する発光装置と、前記検査領域を観察する受光装置と、前記受光装置と前記検査領域の間に配置された偏光フィルタとを有し、前記偏光フィルタは、前記検査領域で反射された前記紫外光を前記受光装置に到達させないように構成された表面検査装置である。
　また、本発明は、前記偏光フィルタを前記受光装置と前記検査領域の間の位置から移動させ、前記検査領域の間の位置に戻す移動装置を有する表面検査装置である。
　また、本発明は、前記検査対象物を移動させる移動機構を有する表面検査装置である。
　また、本発明は、検査対象物表面に紫外光を照射し、前記検査対象物表面の可視光を受光して前記検査対象物表面の有機ＥＬ残渣の有無を判断する表面検査方法である。
　また、本発明は、検査対象物表面の検査領域に紫外光を照射し、前記検査領域から受光される受光光量を測定し、前記検査対象物表面の有機ＥＬ残渣の有無を判断する表面検査方法である。
　また、本発明は、前記検査対象物表面で反射された前記紫外光を偏光フィルタで除去しながら受光する表面検査方法である。
　有機ＥＬディスプレーの量産段階の製造工程において、有機ＥＬ材料を蒸着により成膜する蒸着装置の蒸着ルツボ、シャッター板、膜厚モニター、基板ホルダー、更に、蒸発した有機ＥＬ材料が付着するその他の装置部品に付着した有機ＥＬ残渣の有無を検査することができる。
　自動化ができるため、作業効率が高く、客観的な基準によって残渣の有無を判断することができる。
本発明の表面検査装置 本発明の他の例を説明するための図
符号の説明
１０……表面検査装置
１１……発光装置
１２……試料台
１３……偏光フィルタ
１４……受光装置
１５……検査対象物
１７……移動装置
２２……制御装置
３１……照射された紫外光
３２……反射紫外光
３３……可視光
　図１の符号１０は、本発明の一実施例の表面検査装置を示している。
　この表面検査装置１０は、測定槽１９を有しており、測定槽１９の内部には、発光装置１１と、試料台１２と、偏光フィルタ１３と、受光装置１４とが配置されている。
　試料台１２上には検査対象物１５が配置されている。検査対象物１５は、有機ＥＬ薄膜の蒸着装置の内部部品であり、洗浄された状態である。
　発光装置１１は紫外光(紫外光は波長１０ｎｍ～４００ｎｍの光を指す)ランプと集光装置を有しており、試料台１２上の検査対象物１５表面の小さい検査領域２０に紫外光を照射できるように構成されている。
　試料台１２はＸＹステージであり、試料台１２は移動機構２１に取り付けられ、移動機構２１を動作させると試料台１２は水平面内のＸ軸方向とＹ軸方向に移動できるようにされている。移動機構２１は制御装置２２に接続されており、試料台１２の移動は制御装置２２によって制御されている。
　試料台１２と検査領域２０の相対的な位置関係は制御装置２２によって検出できるように構成されており、試料台１２上に配置された検査対象物１５のどの部分が検査領域２０となっているかは制御装置２２によって検出されている。
　発光装置１１も制御装置２２によって制御されており、制御装置２２から入力される信号で発光すると、検査領域２０に紫外光が照射される。
　受光装置１４は、検査対象物１５表面の紫外光が照射される検査領域２０を観察できる位置に配置されている。受光装置１４は制御装置２２に接続されており、受光装置１４に入射した光の強度が測定され、光強度が測定値として制御装置２２に出力されている。制御装置２２は、入力された測定値を、検査領域２０のＸＹ位置(ＸＹ座標)と対応付けて記憶する。
　測定を開始する際には、測定槽１９の扉を閉じ、検査対象物１５の周囲を遮光状態にし、受光装置１４に外部からの光が入射しないようにしておき、先ず、検査対象物１５の測定開始位置に紫外光が照射されるように試料台１２を移動させ、発光装置１１を発光させ、検査対象物１５表面の検査領域２０に紫外光(照射紫外光)３１を照射する。
　検査領域２０に有機ＥＬ残渣(有機ＥＬ材料の残渣や有機ＥＬ薄膜の残渣)２４が付着していた場合は、紫外光３１が照射された有機ＥＬ残渣２４は発光し、可視光３３が放射される。
　検査領域２０に有機ＥＬ残渣２４が付着していない場合、検査領域２０内での可視光３３の放射はない。
　検査領域２０に照射された紫外光３１は、検査対象物１５の表面で反射し、反射紫外光３２が受光装置１４に向かって走光する。
　偏光フィルタ１３は受光装置１４の前面位置に配置され、偏光フィルタ１３を透過した光だけが受光装置１４で受光されるようになっている。
　偏光フィルタ１３は、光学特性軸が検査対象物１５表面で反射された光を透過させない方向に向くように配置されており、付着した有機ＥＬ残渣２４の発光光は偏光フィルタ１３を透過して受光装置１４によって受光されるが、検査領域２０で反射された反射紫外光３２は偏光フィルタ１３によって遮蔽され、受光装置１４に到達できない。従って、受光装置１４には有機ＥＬ残渣２４が放出した可視光３３だけが入射する。
　検査領域２０に紫外光３１を照射し、制御装置２２が受光装置１４の測定値を記憶した後、発光装置１１の発光を停止し、移動機構２１を動作させ、検査対象物１５を移動させ、未検査の検査領域２０を紫外線が照射される位置に配置し、同様に測定を行なう。
　このように、検査対象物１５の表面を、検査領域２０毎に測定し、測定すべき検査領域２０を全部検査すると、制御装置２２に、各検査領域２０の測定値が位置と対応づけて記憶される。
　記憶された測定値は、制御装置２２内に予め設定されている基準値と比較され、測定値が基準値を超えている検査領域は有機ＥＬ残渣２４があると判断され、検査対象物１５は洗浄工程に戻され、再洗浄が行なわれる。
　この表面検査装置１０では、測定値は検査領域２０の位置と対応付けて記憶されており、有機ＥＬ残渣２４があると判断された検査領域の検査対象物１５上の位置を知ることができるから、有機ＥＬ残渣２４の状態を目視によって確認することができる。
　また、表面検査装置１０には撮影装置１８が設けられており、検査の前、又は検査の後に検査対象物１５を撮影装置１８によって撮影し、表示装置２９に、検査対象物１５の撮影画像と、有機ＥＬ残渣２４が検出された検査領域２０の位置を、輝点等で撮影画像に重ねて表示されるので、目視によって有機ＥＬ残渣２４の位置を容易に確認することができる。
　撮影装置１８による撮影は、室内光を利用して行なってもよいし、撮影用のライトによって行なってもよい。
　また、この表面検査装置１０では、偏光フィルタ１３は移動装置１７に取り付けられており、偏光フィルタ１３は移動装置１７によって受光装置１４の前面位置と、受光装置１４の前面以外の位置との間で移動できるようにされている。偏光フィルタ１３が受光装置１４の前面以外の位置に移動された状態では、受光装置１４に光が直接入射するようになっている。
　受光装置１４によって偏光フィルタ１３を透過した光を受光した後、同じ検査領域２０に紫外光３１を照射し、受光装置１４によって光を直接受光すると、偏光フィルタ１３を透過した光を受光した場合と、直接受光した場合の両方の測定値を比較することができる。
　両方の測定値を記憶しておき、偏光フィルタ１３を透過した光を受光したときと、直接受光したときの両方で光を検出した場合に、紫外光３１を照射した検査領域２０に有機ＥＬ残渣２４があると判断することができる。
　移動装置１７を動作させ、受光装置１４と検査領域２０の間の位置から移動させた偏光フィルタ１３を受光装置１４の前面位置に戻せば、各検査領域２０で両方の光を受光することができる。
　受光装置１４によって偏光フィルタ１３を透過した光を受光する前に、偏光フィルタ１３を受光装置１４の前面位置から移動させ、受光装置１４で直接受光してもよい。
　なお、偏光フィルタ１３を通過した光と、直接入射する光の両方で測定を行なった後、検査対象物１５を移動させてもよいし、先ず、各検査領域２０に対し、偏光フィルタ１３を透過した光と、直接入射する光のいずれか一方で測定を行なった後、他方で測定を行なうこともできる。
　また、上記実施例では受光装置１４によって、有機ＥＬ残渣２４の発光を検出しているが、図２に示すように、偏光フィルタ１３を検査員の目３５の直前に配置し、暗室などの外部光が入射しない環境で検査対象物１５表面に紫外光３１を照射し、有機ＥＬ残渣２４の可視光３３の発光を目視によって確認することもできる。
　この場合、紫外光３１の照射位置をゆっくり移動させながら観察すれば、受光装置１４を用いなくても検査対象物１５表面の有機ＥＬ残渣２４の有無を検出することができる。
　検査員が保護めがねを装着した場合、作業性が低下するが、反射紫外光３２は偏光フィルタ１３を透過できず、検査員の目３５に反射紫外光３２が入射しないので、検査員が紫外線に対する保護めがねを装着する必要はない。
　上記実施例では、発光装置１１には、紫外光ランプと集光装置とが設けられ、検査対象物１５表面の小領域である検査領域に紫外光を照射する構成であったが、レーザ光照射装置によって検査対象物１５の検査領域に紫外レーザ光を照射するようにしてもよい。
　なお、上記実施例では、検査対象物１５表面の有機ＥＬ残渣の有無を検査する際、有機ＥＬ残渣が検出された時点で表面検査を終了し、再洗浄を行なうようにしてもよい。

Claims (6)

  1. 　検査対象物の検査領域に紫外光を照射する発光装置と、
    　前記検査領域を観察する受光装置と、
    　前記受光装置と前記検査領域の間に配置された偏光フィルタとを有し、
    　前記偏光フィルタは、前記検査領域で反射された前記紫外光を前記受光装置に到達させないように構成された表面検査装置。
  2. 　前記偏光フィルタを前記受光装置と前記検査領域の間の位置から移動させ、前記検査領域の間の位置に戻す移動装置を有する請求項１記載の表面検査装置。
  3. 　前記検査対象物を移動させる移動機構を有する請求項１又は請求項２のいずれか１項記載の表面検査装置。
  4. 　検査対象物表面に紫外光を照射し、前記検査対象物表面の可視光を受光して前記検査対象物表面の有機ＥＬ残渣の有無を判断する表面検査方法。
  5. 　検査対象物表面の検査領域に紫外光を照射し、前記検査領域から受光される受光光量を測定し、前記検査対象物表面の有機ＥＬ残渣の有無を判断する表面検査方法。
  6. 　前記検査対象物表面で反射された前記紫外光を偏光フィルタで除去しながら受光する請求項４又は請求項５のいずれか１項記載の表面検査方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI753739B (zh) * 2021-01-08 2022-01-21 閎康科技股份有限公司 物性分析方法、物性分析試片及其製備方法
CN114878523B (zh) * 2022-07-11 2022-09-20 常州凯得新材料科技有限公司 一种透明导电膜性能测试装置

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61182238A (ja) * 1985-02-07 1986-08-14 Sharp Corp レジスト等有機化合物残渣検査装置
JPS6240656B2 (ja) * 1979-12-17 1987-08-29 Hitachi Ltd
JPH0688788A (ja) * 1992-09-07 1994-03-29 Nec Corp 洗浄装置
JP2000046748A (ja) * 1998-07-27 2000-02-18 Hitachi Ltd 導体パターンの検査方法およびその装置並びに多層基板の製造方法
JP2004172127A (ja) * 2002-11-18 2004-06-17 Eastman Kodak Co Ｏｌｅｄデバイスの欠陥を測定する方法
WO2007129475A1 (ja) * 2006-05-10 2007-11-15 Nikon Corporation 表面検査装置

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6240656B2 (ja) * 1979-12-17 1987-08-29 Hitachi Ltd
JPS61182238A (ja) * 1985-02-07 1986-08-14 Sharp Corp レジスト等有機化合物残渣検査装置
JPH0688788A (ja) * 1992-09-07 1994-03-29 Nec Corp 洗浄装置
JP2000046748A (ja) * 1998-07-27 2000-02-18 Hitachi Ltd 導体パターンの検査方法およびその装置並びに多層基板の製造方法
JP2004172127A (ja) * 2002-11-18 2004-06-17 Eastman Kodak Co Ｏｌｅｄデバイスの欠陥を測定する方法
WO2007129475A1 (ja) * 2006-05-10 2007-11-15 Nikon Corporation 表面検査装置

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