WO2009107758A1 - 透明導電膜付き基材とその製造方法、およびそれを用いたタッチパネル - Google Patents

透明導電膜付き基材とその製造方法、およびそれを用いたタッチパネル Download PDF

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WO2009107758A1
WO2009107758A1 PCT/JP2009/053633 JP2009053633W WO2009107758A1 WO 2009107758 A1 WO2009107758 A1 WO 2009107758A1 JP 2009053633 W JP2009053633 W JP 2009053633W WO 2009107758 A1 WO2009107758 A1 WO 2009107758A1
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conductive film
substrate
film
transparent conductive
thermosetting resin
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PCT/JP2009/053633
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真多 淳二
塚本 遵
広樹 関口
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東レ株式会社
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Priority to US12/919,121 priority patent/US8642895B2/en
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01BCABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B5/00Non-insulated conductors or conductive bodies characterised by their form
    • H01B5/14Non-insulated conductors or conductive bodies characterised by their form comprising conductive layers or films on insulating-supports
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01BCABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B1/00Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
    • H01B1/20Conductive material dispersed in non-conductive organic material
    • H01B1/24Conductive material dispersed in non-conductive organic material the conductive material comprising carbon-silicon compounds, carbon or silicon
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B9/00Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • G06F3/00Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
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    • G06F3/0443Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means using a single layer of sensing electrodes
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    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/30Self-sustaining carbon mass or layer with impregnant or other layer

Definitions

  • the present invention relates to a substrate with a transparent conductive film using carbon nanotubes as a conductive film, a manufacturing method thereof, and a touch panel using the substrate with a transparent conductive film.
  • Carbon nanotubes hereinafter abbreviated as CNT
  • conductive polymers are known as materials for forming a conductive film of a substrate with a transparent conductive film.
  • the conductive film can be applied at room temperature and atmospheric pressure, and the conductive film can be formed by a simple process.
  • these materials are rich in flexibility, even when a conductive film is formed on a flexible film, the flexibility of the film can be followed.
  • the conductive film can be continuously formed, so that the process cost can be reduced.
  • These conductive films can improve transparency by reducing the film thickness.
  • CNT is black, a neutral color tone can be obtained.
  • CNT has been difficult to disperse in a solvent, but recently, a composition containing a conductive polymer, a solvent, and CNT has been proposed as a composition with improved dispersibility of CNT (for example, patents).
  • Reference 1 A conductive film having excellent transparency and conductivity can be obtained by such a dispersion method, but the adhesion of the CNT film to the substrate was insufficient. Therefore, a method of forming a conductive layer made of CNT by applying a coating solution containing a binder resin, CNT, and a solvent on the surface of the substrate (for example, Patent Document 2), or a polymer layer on a conductive film containing CNT.
  • a provided multilayer structure for example, Patent Document 3 has been proposed.
  • the binder resin In the method of adding the binder resin, there is a problem that the resistance increases because the binder resin is interposed at the contact point between the CNTs in the CNT film spread in a mesh shape. Further, in the method of providing a polymer layer on a conductive film made of CNT, the CNT conductive film may be peeled off during the process because the adhesion of the CNT conductive film before forming the polymer layer is insufficient.
  • An object of the present invention is to provide a substrate with a low-resistance transparent conductive film having a carbon nanotube conductive film excellent in adhesion to the substrate and in-plane uniformity.
  • the present invention has the following configuration.
  • Transparent conductive substrate having a transparent support substrate, a thermosetting resin film containing 50% by weight or more of melamine resin, and a carbon nanotube conductive film in this order, and the linearity of resistance of the carbon nanotube conductive film within 1.5% A substrate with a film.
  • this invention includes the touch panel which has said base material with a transparent conductive film.
  • a substrate with a transparent conductive film having a conductive film excellent in adhesion to the substrate and in-plane uniformity can be obtained.
  • the substrate with a transparent conductive film of the present invention is used for a touch panel, calibration can be performed so that there is almost no deviation between the touched point and the screen, and a practical level touch panel is obtained.
  • the substrate with a transparent conductive film of the present invention has a transparent support substrate, a thermosetting resin film, and a CNT conductive film in this order.
  • the transparent support substrate refers to a substrate having a high visible light transmittance, and specifically refers to a substrate having a light transmittance of 50% or more at a wavelength of 550 nm.
  • Examples of the supporting substrate used in the present invention include resin and glass. Even a film that can be wound up with a thickness of 250 ⁇ m or less or a substrate with a thickness of more than 250 ⁇ m may be used.
  • the resin include polyesters such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN), polyimide, polyphenylene sulfide, aramid, polypropylene, polyethylene, polylactic acid, polyvinyl chloride, polycarbonate, polymethyl methacrylate, and alicyclic acrylic resin. And cycloolefin resins.
  • As the glass ordinary soda glass can be used. Moreover, these several base materials can also be used in combination.
  • a composite substrate such as a substrate in which a resin and glass are combined and a substrate in which two or more kinds of resins are laminated may be used.
  • the kind of the supporting substrate is not limited to the above, and an optimal one can be selected from transparency, durability, cost and the like according to the use.
  • thermosetting resin film In the present invention, the adhesiveness of the CNT conductive film to the support substrate can be improved by providing the thermosetting resin film.
  • the resin in the thermosetting resin film is crosslinked by thermosetting to ensure adhesion to the surface of the supporting substrate and the contact portion of the CNT conductive film, and also has solvent resistance, moisture resistance, scratch resistance, and heat resistance. It is possible to impart durability such as.
  • thermosetting resin film contains at least 50% by weight or more of melamine resin. Since the melamine resin contains many polar groups such as hydroxyl groups and imino groups, the wettability with respect to water, an aqueous mixed solvent, and a CNT dispersion using these as a dispersion medium is improved. For this reason, when a CNT dispersion liquid is applied on a thermosetting resin film containing a melamine resin, the dispersion liquid is easily wetted, and a uniform CNT conductive film can be formed.
  • the electrically conductive film excellent in the in-plane uniformity of surface resistance is obtained. Due to the excellent in-plane uniformity, for example, when an electrode is provided at the end of the conductive film, a conductive film excellent in resistance linearity (linearity) between the electrodes can be obtained.
  • thermosetting resin film When the melamine resin contained in the thermosetting resin film is less than 50% by weight, the wettability of water or an aqueous mixed solvent and a CNT dispersion using these as a dispersion medium is poor, and a uniform CNT conductive film is obtained. I can't.
  • the content of the melamine resin is preferably 70 to 90% by weight in the thermosetting resin film. By being in this range, a thermosetting resin film excellent in the balance between wettability and adhesiveness can be obtained.
  • the melamine resin is a resin obtained by condensation of melamine and formaldehyde.
  • a cured film of melamine resin can be obtained by condensing melamine and formaldehyde under alkaline conditions to obtain methylolmelamine, applying this onto a substrate, and then polycondensing by heating.
  • the molar ratio of formaldehyde to be reacted with melamine is preferably 2 to 4 with respect to melamine 1.
  • methylol melamine Since there are three amino groups in melamine, up to six formaldehydes can react, but methylol melamine, in which about half of them are reacted, can be preferably used because it is easy to handle as a thermosetting resin. Also, methyl etherified melamine resin, butyl etherified melamine resin, etc., in which a part of hydroxyl groups of methylol melamine resin are reacted with alcohol to make part of them alkyl ether can be used. In particular, a methyl etherified melamine resin is preferably used from the balance between hydrophilicity and affinity for an organic solvent.
  • the thermosetting resin film may contain one or more thermosetting resins other than the melamine resin.
  • a thermosetting resin other than the melamine resin By including a thermosetting resin other than the melamine resin, the curing temperature, wettability, durability and the like can be adjusted to a desired range.
  • resins other than melamine resins include, but are not limited to, phenol resins, alkyd resins, epoxy resins, acrylic resins, vinyl alcohol copolymer resins, isocyanate resins, and urethane resins. You can choose.
  • a resin having a hydroxyl group or a carboxyl group is preferable because it can be crosslinked with a melamine resin to form a thermosetting resin film having more excellent durability.
  • Epoxy resins are preferable because the thermosetting temperature can be adjusted variously. For example, only the epoxy resin is cured at 80 to 120 ° C., and then the temperature is increased to 150 to 200 ° C. to crosslink the epoxy resin and the melamine resin. It can
  • the thermosetting resin film may contain other components as necessary.
  • examples thereof include compounds having an acid such as carboxylic acid and sulfonic acid, compounds having a base such as amine, and compounds having a reactive functional group such as epoxy, oxetane, hydroxy, and isocyanate.
  • These compounds are preferably polyfunctional compounds having two or more acids, bases, or reactive functional groups in one molecule. These may be resins or low molecular compounds. Among these, compounds that can be used as curing agents for melamine resins are preferably used.
  • a curing reaction can be adjusted by adding a polymerization initiator.
  • membrane before carrying out heat crosslinking of a melamine resin can be adjusted by containing photocuring type
  • the substrate with a transparent conductive film of the present invention preferably has a resistance value change within 20% after heat treatment at 150 ° C. for 30 minutes.
  • the resistance value changes more than 20%, whereas by providing a thermosetting resin film containing melamine resin, this is within 20%. Can be.
  • the reason why the resistance value of the CNT conductive film is increased by the heat treatment and the reason why the resistance value change can be suppressed by providing the thermosetting resin film is not clear. It seems to work with the melamine resin that elutes.
  • the heat treatment performed here assumes a heat history by a post-process such as applying a conductive paste to connect an external circuit to the peripheral portion of the substrate with a conductive film and performing a heat curing treatment, for example. Yes.
  • the heat treatment conditions vary depending on the type of the post-process, but if the heat treatment is approximately 100 ° C. or higher and 30 minutes or longer, it is equivalent to the case where the heat treatment is performed at 150 ° C. for 30 minutes. Since it is known that a change in resistance value is exhibited, an approximate evaluation can be performed under these conditions.
  • the substrate with a conductive film of the present invention provides resistance stability after heat treatment without providing another polymer layer on the CNT conductive film, it is simple and has low surface contact resistance. A membrane can be obtained.
  • the thermosetting resin film in the substrate with a transparent conductive film preferably has a surface water contact angle of 60 degrees or less.
  • the melamine resin content in the thermosetting resin film may be 50% by weight or more.
  • the contact angle of water on the surface of the thermosetting resin film in the substrate with the transparent conductive film is related to the contact angle of water on the surface of the thermosetting resin composition film before the application of the CNT dispersion described later. Due to the heat treatment after the application of the CNT dispersion, polar groups such as hydroxyl groups contained in the thermosetting resin composition film are consumed by the crosslinking reaction, so that the contact angle of water increases.
  • the contact angle of water on the surface of the thermosetting resin composition film before application of the CNT dispersion liquid is preferably 40 degrees or less, whereby water on the surface of the thermosetting resin film in the substrate with a transparent conductive film is preferably formed.
  • the contact angle is usually 60 degrees or less.
  • Water contact angle can be measured using a commercially available contact angle measuring device.
  • the contact angle was measured according to JIS R3257 (1999) by dropping 1 to 4 ⁇ l of water onto the membrane surface with a syringe in an atmosphere at room temperature of 25 ° C. and humidity of 50%, and observing the liquid droplets from a horizontal cross section. The angle between the tangent of the drop end and the film plane is determined.
  • thermosetting resin film in the substrate with a transparent conductive film a method of measuring the surface of the portion where the transparent conductive film such as the end of the substrate is not applied.
  • a method of measuring the surface of the portion where the transparent conductive film such as the end of the substrate is not applied there is a method in which the transparent conductive film layer is polished or etched to expose the surface of the thermosetting resin film, and any method may be used.
  • the thickness of the thermosetting resin film is preferably 10 nm or more from the viewpoint of improvement in wettability and strength, and is preferably 10 ⁇ m or less from the standpoint of film thickness uniformity and coating process stability. More preferably, the thickness is 100 nm to 500 nm. By setting the thickness within this range, it is possible to obtain a thermosetting resin film excellent in film thickness uniformity, strength, and wettability by suppressing the influence of coloring by the thermosetting resin. .
  • the CNT conductive film in this invention should just contain CNT.
  • the CNT used for the CNT conductive film may be any of single-walled CNTs, double-walled CNTs, and multilayered CNTs having three or more layers. CNTs having a diameter of about 0.3 to 100 nm and a length of about 0.1 to 20 ⁇ m are preferably used. In order to increase the transparency of the CNT conductive film and reduce the surface resistance, single-wall CNT or double-wall CNT having a diameter of 10 nm or less is more preferable.
  • impurities such as amorphous carbon and catalytic metal are not contained in the aggregate of CNTs as much as possible. When these impurities are contained, it can be appropriately purified by acid treatment or heat treatment.
  • the CNT conductive film can be formed by applying a CNT dispersion to a substrate.
  • a CNT dispersion liquid it is common to perform a dispersion process using a mixing and dispersing machine or an ultrasonic irradiation device together with CNTs together with a solvent.
  • a dispersant such as a surfactant. Any known dispersant is preferably used as the dispersant, but ionic surfactants such as alkylamine salts, quaternary ammonium salts, alkylbenzene sulfonates, sulfonate-containing polymers, and carboxy group-containing cellulose polymers can be used. More preferably used.
  • the CNT dispersion used in the present invention preferably contains water. By containing 50% by weight or more of water in the CNT dispersion liquid, uniform dispersion of CNTs can be maintained. For this reason, it is preferable that the CNT electrically conductive film in the base material with a transparent electrically conductive film of this invention is obtained by apply
  • a part of the CNT on the lower side of the CNT conductive film has a structure embedded in a thermosetting resin film.
  • a state in which a part of the CNT is embedded in the thermosetting resin film can be confirmed by observing a cross section of the substrate with the conductive film with a transmission electron microscope.
  • the surface resistance of the CNT conductive film is preferably 1 ⁇ 10 0 ⁇ / ⁇ or more and 1 ⁇ 10 4 ⁇ / ⁇ or less.
  • the lower the surface resistance value the better the sensitivity.
  • the CNT conductive film layer needs to be formed thicker, the transparency is lowered.
  • increasing the surface resistance value is advantageous in terms of transparency but disadvantageous in terms of sensitivity. From the balance of these points, it can use preferably as a base material with a transparent conductive film for touch panels because the surface resistance value of a base material with a transparent conductive film exists in said range.
  • the surface resistance value of the substrate with a transparent conductive film is more preferably in the range of 1 ⁇ 10 2 to 2 ⁇ 10 3 ⁇ / ⁇ .
  • the surface resistance is measured by pressing a probe having four probes against the surface of the CNT conductive film using a four-probe method, and measuring each center of the measurement sample divided into nine equal parts, The average value is taken as the measured value.
  • a low resistivity meter Loresta EP MCP-T360 manufactured by Dia Instruments can be used.
  • the value of linearity of resistance of the carbon nanotube conductive film is 1.5% or less.
  • the linearity is 1.5% or less, a conductive film having excellent in-plane uniformity can be obtained.
  • a uniform CNT conductive film can be formed by providing a thermosetting resin film with good wettability to the CNT dispersion in the lower layer of the CNT conductive film. Linearity is achieved.
  • the linearity is a value obtained by evaluating how much the measured value is deviated from an ideal straight line by the maximum value of the deviation.
  • Linearity (%) can be calculated by taking ⁇ Emax as the largest value and dividing ⁇ Emax by the value E0 of the ideal voltage at that distance, that is, the equation ( ⁇ Emax / E0) ⁇ 100.
  • the actual measurement of linearity can be performed by applying a voltage of 5 V in the direction of 20 cm of a base material sample cut into a size of 5 cm ⁇ 20 cm square, for example, and measuring the voltage at intervals of 2 cm.
  • the surface resistance is The surface resistance before peeling is preferably 1.5 times or less.
  • the change in surface resistance before and after tape peeling is related to the adhesion of the CNT conductive film. When the adhesion is high, the change in surface resistance is small, and when the adhesion is 1.5 times or less, it can be determined that the adhesion is excellent. Details of the measurement method will be described later.
  • the transparency of the substrate with a transparent conductive film of the present invention is preferably such that the light transmittance at a wavelength of 550 nm is 60% or more. If the transmittance
  • the transmittance can be obtained by cutting out a piece of a substrate with a transparent conductive film and measuring it using a spectrophotometer.
  • thermosetting resin composition containing 50% by weight or more of a melamine resin on a transparent support substrate to form a coating film
  • CNT dispersion containing 50% by weight or more of water
  • the thermosetting resin composition can be applied by dissolving in a solvent.
  • Solvents include water, methanol, ethanol, propanol, isopropanol, butanol, toluene, xylene, o-chlorophenol, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, dioxane, ethyl acetate, isobutyl acetate, tetrahydrofuran, propylene carbonate, ethylene glycol , Methyl cellosolve, ethyl cellosolve, methyl cellosolve acetate, propylene glycol, propylene glycol acetate, propylene glycol acetate monomethyl ether, chloroform, trichloroethane, trichloroethylene, chlorobenzene, dichlorobenzene, trichlorobenzene, dimethylformamide
  • the coating film of the thermosetting resin composition formed in the step (1) preferably has a contact angle of water at 25 ° C. of 40 ° or less on the surface.
  • the CNT dispersion can be uniformly applied to the surface of the coating film of the thermosetting resin composition, and uniformity and adhesion are not generated during drying.
  • a CNT conductive film having excellent properties can be formed.
  • a CNT dispersion liquid containing 50% by weight or more of water is applied.
  • the CNT dispersion liquid is not particularly limited as long as it contains the aforementioned CNT and 50% by weight or more of water. Furthermore, you may include the solvent illustrated in said (1).
  • the method for applying the CNT dispersion is not particularly limited as long as it is a method capable of uniformly applying the CNT dispersion, and the method exemplified in the step (1) can be used.
  • a method selected from a slit die coating method, a gravure coating method, a reverse coating method, a screen printing method and a printing transfer method is preferable because the uniformity of the applied CNT conductive film is increased.
  • the spray method is not preferable because the uniformity of the applied CNT conductive film is lowered.
  • a dispersant in order to disperse CNT in water.
  • a dispersant an ionic surfactant, a conjugated polymer, or the like can be used.
  • the ionic surfactant include the aforementioned alkylamine salts, quaternary ammonium salts, alkylbenzene sulfonates, sulfonate-containing polymers, carboxy group-containing cellulose polymers, and the like, for example, sodium dodecyl sulfonate.
  • the conjugated polymer include poly (2-sulfo-1,4-iminophenylene).
  • thermosetting resin composition film is not completely cured, but by curing in the step (3), a part of the CNT applied in the step (2) is thermoset.
  • a CNT film embedded in the resin film can be formed. Since the embedded CNT is fixed to the thermosetting resin film, it is preferable because the adhesion of the CNT conductive film is further improved.
  • the touch panel of the present invention will be described.
  • the substrate with a transparent conductive film of the present invention has high transmittance, low resistance, and excellent in-plane uniformity and adhesion to the substrate. It can be particularly suitably used for a touch panel or a capacitive touch panel.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of a resistive film type touch panel.
  • the resistive film type touch panel has a structure in which an upper support base 2 is bonded to a lower support base 8 by a frame-like double-sided adhesive tape 7.
  • the film 4 is formed in a planar shape so as to face the space 5.
  • a thermosetting resin film 3 is provided between the support base 8 and the CNT conductive film 4 and between the support base 2 and the CNT conductive film 4, respectively.
  • dot spacers 6 are provided at regular intervals, thereby holding a gap between the upper and lower conductive films.
  • the upper surface of the upper support substrate 2 is a surface with which a finger or a pen tip comes into contact, and a hard coat layer 1 is provided to prevent scratches.
  • the touch panel having the above configuration is used, for example, by attaching a lead wire and a drive unit and incorporating it on the front surface of the liquid crystal display.
  • a capacitive touch panel is a touch panel in which a drive circuit is attached to a transparent conductive film, and a change in capacitance when a finger or the like touches the surface is detected by the drive circuit to determine an operation position.
  • the surface resistance on the conductive film side of the substrate with a conductive film was measured by a four-probe method using a low resistance meter (Loresta EPMCP-T360, manufactured by Dia Instruments). The surface resistance was an average value of nine measured values divided into nine equal parts in the plane. Further, a tape peeling test in accordance with JIS K5600-5-6 (1999, cross-cut method) was conducted except that the surface of the film was not cut. Specifically, Nichiban's adhesive tape: “Cellotape (registered trademark)” (CT405A-18) was applied to the surface of the conductive film, rubbed with fingers, allowed to stand completely for 1 minute, and then held one end of the adhesive tape. The film was peeled off in about 1 second while maintaining an angle of 60 ° with respect to the film surface. Changes in surface resistance before and after tape peeling were evaluated. The average of the values measured at three different points on the same sample was taken.
  • the surface resistance on the conductive film side of the substrate with the conductive film was measured by a four-probe method using a low resistance meter (manufactured by Dia Instruments, Loresta EPMCP-T360). The surface resistance was an average value of nine measured values divided into nine equal parts in the plane.
  • the conductive film was placed in an oven at 150 ° C. for 30 minutes, taken out, and immediately after the substrate with the conductive film returned to room temperature, the surface resistance was measured by the same method as described above. And the base material with an electrically conductive film was left still at room temperature, and surface resistance was measured again 12 hours later.
  • thermosetting resin composition a solution of the thermosetting resin composition was prepared.
  • 0.83 g poly [melamine-co-formaldehyde] solution manufactured by Aldrich, solid content concentration 84 wt%, 1-butanol solution
  • 0.3 g solid epoxy resin 157S70 manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.
  • 98.9 g of 2-butanone was added and stirred at room temperature for 30 minutes to prepare a uniform resin solution.
  • 0.1 g of thermal polymerization initiator Curezol 2MZ (manufactured by Shikoku Kasei Co., Ltd.) was dissolved in 9.9 g of 1-propanol to prepare a thermal initiator solution.
  • a CNT dispersion was prepared.
  • 10 mg of single-walled CNT (Science Laboratories, Inc., purity 95%, used as it is without purification) and polystyrene sulfonic acid 18 wt% aqueous solution (manufactured by Aldrich) in ultrapure water at a concentration of 0.1 wt.
  • 10 ml of a diluted aqueous solution was added and subjected to ultrasonic irradiation using an ultrasonic homogenizer (VCX-502 manufactured by Tokyo Rika Kikai Co., Ltd., output 250 W, direct irradiation), and a CNT dispersion liquid having a CNT concentration of 0.1% by weight was obtained. Obtained.
  • thermosetting resin composition 0.5 ml was dropped onto the PET film on which the above-mentioned thermosetting resin composition film was formed.
  • the coating was performed using a bar coater No. 4, the CNT dispersion liquid could be uniformly coated on the entire surface without being repelled. Then, while putting in a 150 degreeC hot-air oven for 30 second and drying, the thermosetting resin composition was fully hardened and the base material 1 with an electrically conductive film was obtained.
  • the transmittance of light at a wavelength of 550 nm of the substrate 1 with a conductive film was 82%.
  • the contact angle of water on the surface of the resin film after application of the CNT dispersion (after drying at 150 ° C.) was 58 °.
  • the surface resistance of the conductive film-side substrate 1 on the conductive film side was 1000 ⁇ / ⁇ . Further, the film surface after the tape peeling test was not changed in appearance at all, and the surface resistance of the peeled portion was measured and found to be 1010 ⁇ / ⁇ .
  • the linearity of the substrate 1 with a conductive film was 1.0%.
  • the resistance change immediately after the heat treatment at 150 ° C. for 30 minutes was 1.15 times, and the resistance change 12 hours after the heat treatment was 1.08 times.
  • Example 2 Except having changed the base material into the glass substrate of thickness 1.0mm, operation similar to Example 1 was performed and the base material 2 with an electrically conductive film was obtained.
  • the light transmittance at a wavelength of 550 nm was 85%
  • the surface resistance before the tape peeling test was 950 ⁇ / ⁇
  • the appearance did not change after the tape peeling test
  • the surface resistance of the peeled portion was 965 ⁇ / ⁇ .
  • the contact angle of water on the surface of the resin film after formation of the thermosetting resin composition film (after drying at 130 ° C.) is 36 °
  • the contact angle of water on the surface of the resin film after application of the CNT dispersion (after drying at 150 ° C.).
  • thermosetting resin film layer As a result of cutting out the cross section of the substrate 2 with a conductive film and observing it at a magnification of 100,000 using a transmission electron microscope (TEM), the lower 5 nm of the 20 nm CNT film thickness is the thermosetting resin film layer. I found that it was embedded.
  • TEM transmission electron microscope
  • the linearity of the base material 2 with a conductive film was 1.1%.
  • the resistance change immediately after the heat treatment at 150 ° C. for 30 minutes was 1.16 times, and the resistance change 12 hours after the heat treatment was 1.07 times.
  • Example 3 Except having changed the base material into the polycarbonate resin substrate of thickness 1.6mm, operation similar to Example 1 was performed and the base material 3 with an electrically conductive film was obtained.
  • the light transmittance at a wavelength of 550 nm was 78%
  • the surface resistance before the tape peeling test was 1020 ⁇ / ⁇
  • the appearance did not change after the tape peeling test
  • the surface resistance of the peeled portion was 1030 ⁇ / ⁇ .
  • the contact angle of water on the surface of the resin film after formation of the thermosetting resin composition film (after drying at 130 ° C.) is 36 °
  • the contact angle of water on the surface of the resin film after application of the CNT dispersion (after drying at 150 ° C.).
  • thermosetting resin film layer As a result of cutting out the cross section of the substrate 3 with a conductive film and observing it at a magnification of 100,000 using a transmission electron microscope (TEM), the lower 5 nm of the 20 nm CNT film thickness is the thermosetting resin film layer. I found that it was embedded.
  • TEM transmission electron microscope
  • the linearity of the base material 3 with a conductive film was 1.0%.
  • the resistance change immediately after the heat treatment at 150 ° C. for 30 minutes was 1.16 times, and the resistance change 12 hours after the heat treatment was 1.06 times.
  • the light transmittance at a wavelength of 550 nm was 83%, the surface resistance before the tape peeling test was 890 ⁇ / ⁇ , there was no change in the appearance after the tape peeling test, and the surface resistance of the peeled portion was 910 ⁇ / ⁇ .
  • thermosetting resin film layer As a result of cutting out the cross section of the base material 4 with a conductive film and observing it at a magnification of 100,000 using a transmission electron microscope (TEM), the lower 5 nm of the 20 nm CNT film thickness becomes the thermosetting resin film layer. I found that it was embedded.
  • TEM transmission electron microscope
  • the linearity of the substrate 4 with a conductive film was 1.4%.
  • the resistance change immediately after the heat treatment at 150 ° C. for 30 minutes was 1.20 times, and the resistance change 12 hours after the heat treatment was 1.16 times.
  • the light transmittance at a wavelength of 550 nm was 83%, the surface resistance before the tape peeling test was 1400 ⁇ / ⁇ , the appearance did not change after the tape peeling test, and the surface resistance of the peeled portion was 1550 ⁇ / ⁇ .
  • the contact angle of water on the surface of the resin film after formation of the thermosetting resin composition film (after drying at 130 ° C.) is 26 °, and the contact angle of water on the surface of the resin film after application of the CNT dispersion (after drying at 150 ° C.). was 50 °.
  • the linearity of the substrate 5 with conductive film was 1.4%.
  • the resistance change immediately after the heat treatment at 150 ° C. for 30 minutes was 1.12 times, and the resistance change 12 hours after the heat treatment was 1.06 times.
  • Example 6 A substrate 6 with a conductive film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the solvent of the CNT dispersion was changed from water alone to a mixed solvent of 60 wt% water and 40 wt% ethanol.
  • the light transmittance at a wavelength of 550 nm was 76%
  • the surface resistance before the tape peeling test was 1600 ⁇ / ⁇
  • the appearance did not change after the tape peeling test
  • the surface resistance of the peeled portion was 1800 ⁇ / ⁇ .
  • the contact angle of water on the surface of the resin film after formation of the thermosetting resin composition film (after drying at 130 ° C.) is 36 °
  • the contact angle of water on the surface of the resin film after application of the CNT dispersion (after drying at 150 ° C.).
  • thermosetting resin film layer As a result of cutting out the cross section of the substrate 6 with a conductive film and observing it at a magnification of 100,000 using a transmission electron microscope (TEM), the lower 8 nm of the 20 nm CNT film thickness becomes the thermosetting resin film layer. I found that it was embedded.
  • TEM transmission electron microscope
  • the linearity of the base material 6 with a conductive film was 1.2%.
  • the resistance change immediately after the heat treatment at 150 ° C. for 30 minutes was 1.12 times, and the resistance change 12 hours after the heat treatment was 1.08 times.
  • Example 7 A fine dot (diameter 40-50 ⁇ m, height 7 ⁇ m, dot pitch 2 mm) is planted on the surface of the polycarbonate substrate with the transparent conductive film prepared in Example 3 using a transparent acrylic photosensitive resin. Set up. And the base material with a transparent conductive film of the PET film base material produced in Example 1 was bonded to this so that the electrode surfaces face each other, and the periphery was wound with a double-sided tape (thickness 15 ⁇ m, width 3 mm) for adhesion Fixed. In addition, in order to draw out the voltage change by a touch, the conducting wire was provided from each base material. The transmittance of light at a wavelength of 550 nm of the obtained panel was 64%.
  • Example 8 The bar coater for applying the CNT dispersion is No. 4 to No. Except having changed to 16, operation similar to Example 1 was performed and the base material 8 with an electrically conductive film was obtained.
  • the light transmittance at a wavelength of 550 nm was 55%
  • the surface resistance before the tape peeling test was 210 ⁇ / ⁇
  • the appearance did not change after the tape peeling test
  • the surface resistance of the peeled portion was 350 ⁇ / ⁇ .
  • the contact angle of water on the surface of the resin film after formation of the thermosetting resin composition film (after drying at 130 ° C.) is 36 °
  • the contact angle of water on the surface of the resin film after application of the CNT dispersion (after drying at 150 ° C.).
  • the lower 8 nm of the 80 nm CNT film thickness is the thermosetting resin film layer. I found that it was embedded.
  • the linearity of the substrate 8 with conductive film was 1.0%.
  • the resistance change immediately after the heat treatment at 150 ° C. for 30 minutes was 1.20 times, and the resistance change 12 hours after the heat treatment was 1.10 times.
  • thermosetting resin composition film was applied using a bar coater and placed in a 110 ° C. hot air oven for 60 seconds to obtain a semi-cured thermosetting resin composition film.
  • the film was allowed to stand in a room at room temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 50% for 1 hour, and then the contact angle of water was measured to be 34 °.
  • a CNT dispersion was prepared.
  • a 10.5 mg monolayer CNT, 10 mg sodium carboxymethylcellulose (Sigma, 90 kDa, 50-200 cps) and 10 ml of pure water were placed in a screw tube, and an ultrasonic homogenizer (VCX-502, manufactured by Tokyo Rika Kikai Co., Ltd.) Ultrasonic irradiation was performed using an output of 250 W and direct irradiation to obtain a CNT dispersion having a CNT concentration of 0.105 wt%.
  • a small amount of ethanol was added thereto to prepare a CNT dispersion having a CNT concentration of 0.1% by weight.
  • thermosetting resin composition 0.5 ml of the obtained CNT dispersion was dropped onto the PET film on which the above-mentioned thermosetting resin composition film was formed.
  • the coating was performed using a bar coater No. 4, the CNT dispersion liquid could be uniformly coated on the entire surface without being repelled. Then, it put into a 150 degreeC hot-air oven for 30 second, while drying, the thermosetting resin composition was fully hardened, and the base material 9 with an electrically conductive film was obtained.
  • the transmittance of light at a wavelength of 550 nm of the substrate 9 with a conductive film was 84%.
  • the contact angle of water on the surface of the resin film after application of the CNT dispersion (after drying at 150 ° C.) was 56 °.
  • the surface resistance on the conductive film side of the base material 9 with the conductive film was 860 ⁇ / ⁇ . Further, the film surface after the tape peeling test was not changed in appearance at all, and the surface resistance of the peeled portion was measured and found to be 860 ⁇ / ⁇ .
  • thermosetting resin film layer As a result of cutting out the cross section of the base material 9 with the conductive film and observing it at a magnification of 100,000 using a transmission electron microscope (TEM), the lower 5 nm of the 20 nm CNT film thickness becomes the thermosetting resin film layer. I found that it was embedded.
  • TEM transmission electron microscope
  • the linearity of the substrate 9 with conductive film was 1.0%.
  • the resistance change immediately after the heat treatment at 150 ° C. for 30 minutes was 1.16 times, and the resistance change 12 hours after the heat treatment was 1.04 times.
  • thermosetting resin film layer As a result of cutting out a cross section of the substrate 10 with a conductive film and observing it at a magnification of 100,000 using a transmission electron microscope (TEM), the lower 5 nm of the 20 nm CNT film thickness is a thermosetting resin film layer. I found that it was embedded.
  • TEM transmission electron microscope
  • the linearity of the base material with conductive film 10 was 0.7%.
  • the resistance change immediately after the heat treatment at 150 ° C. for 30 minutes was 1.16 times, and the resistance change 12 hours after the heat treatment was 1.04 times.
  • Example 11 The composition of the thermosetting resin composition solution was 1.0 g poly [melamine-co-formaldehyde], 49.5 g 2-butanone, and 49.5 g 4-methyl-2-pentanone, The same operation as in Example 9 was performed to obtain a base material 11 with a conductive film.
  • the light transmittance at a wavelength of 550 nm was 83%, the surface resistance before the tape peeling test was 900 ⁇ / ⁇ , the appearance did not change after the tape peeling test, and the surface resistance of the peeled portion was 900 ⁇ / ⁇ .
  • the contact angle of water on the surface of the resin film after forming the thermosetting resin composition film (after drying at 110 ° C.) is 32 °, and the contact angle of water on the surface of the resin film after applying the CNT dispersion (after drying at 150 ° C.). was 54 °.
  • thermosetting resin film layer As a result of cutting out the cross section of the base material 11 with the conductive film and observing it at a magnification of 100,000 using a transmission electron microscope (TEM), the lower 5 nm of the 20 nm CNT film thickness is the thermosetting resin film layer. I found that it was embedded.
  • TEM transmission electron microscope
  • thermosetting resin composition solution was 0.9 g poly [melamine-co-formaldehyde], 0.05 g trimellitic anhydride, 0.05 g blocked isocyanate (MF-K60X, manufactured by Asahi Kasei Chemicals Corporation). ), 49.5 g of 2-butanone, and 49.5 g of 4-methyl-2-pentanone, the same operation as in Example 9 was performed to obtain a substrate 12 with a conductive film.
  • the light transmittance at a wavelength of 550 nm was 84%
  • the surface resistance before the tape peeling test was 880 ⁇ / ⁇
  • the appearance did not change after the tape peeling test
  • the surface resistance of the peeled portion was 880 ⁇ / ⁇ .
  • the contact angle of water on the surface of the resin film after formation of the thermosetting resin composition film (after drying at 110 ° C.) is 36 °, and the contact angle of water on the surface of the resin film after application of the CNT dispersion (after drying at 150 ° C.). was 60 °.
  • thermosetting resin film layer As a result of cutting out the cross section of the base material 11 with the conductive film and observing it at a magnification of 100,000 using a transmission electron microscope (TEM), the lower 5 nm of the 20 nm CNT film thickness is the thermosetting resin film layer. I found that it was embedded.
  • TEM transmission electron microscope
  • the linearity of the base material 11 with a conductive film was 1.0%.
  • the resistance change immediately after the heat treatment at 150 ° C. for 30 minutes was 1.15 times, and the resistance change 12 hours after the heat treatment was 1.06 times.
  • Example 13 The composition of the thermosetting resin composition solution was 0.9 g poly [melamine-co-formaldehyde], 0.05 g trimellitic anhydride, 0.05 g liquid epoxy resin (YD-, manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.). 825S), 49.5 g of 2-butanone, and 49.5 g of 4-methyl-2-pentanone, the same operation as in Example 9 was performed to obtain a substrate 13 with a conductive film.
  • the light transmittance at a wavelength of 550 nm was 84%, the surface resistance before the tape peeling test was 950 ⁇ / ⁇ , the appearance did not change after the tape peeling test, and the surface resistance of the peeled portion was 950 ⁇ / ⁇ .
  • the contact angle of water on the surface of the resin film after formation of the thermosetting resin composition film (after drying at 125 ° C.) is 36 °, and the contact angle of water on the surface of the resin film after application of the CNT dispersion (after drying at 150 ° C.). was 60 °.
  • thermosetting resin film layer As a result of cutting out the cross section of the substrate 13 with a conductive film and observing it at a magnification of 100,000 using a transmission electron microscope (TEM), the lower 5 nm of the 20 nm CNT film thickness is the thermosetting resin film layer. I found that it was embedded.
  • TEM transmission electron microscope
  • the linearity of the base material 13 with a conductive film was 1.2%.
  • the resistance change immediately after the heat treatment at 150 ° C. for 30 minutes was 1.16 times, and the resistance change 12 hours after the heat treatment was 1.10 times.
  • the contact angle of water on the surface of the resin film after forming the thermosetting resin composition film was 70 °.
  • Comparative Example 2 The CNT dispersion prepared in Example 1 was directly applied to a film on which the PET film surface was subjected to corona discharge treatment to improve wettability. After application, the same operation as in Example 1 was performed to obtain a substrate 14 with a conductive film having no thermosetting resin film.
  • the light transmittance at a wavelength of 550 nm was 84% and the surface resistance before the tape peeling test was 950 ⁇ / ⁇ , but the CNT conductive film was peeled off by the tape peeling test.
  • the contact angle of water on the surface of the PET film which was subjected to corona discharge treatment to improve wettability was 40 °.
  • the lower layer with a 20 nm CNT film thickness is not embedded in the PET film at all. It was.
  • Comparative Example 3 Except having changed the coating method of the solution of the thermosetting resin composition from the bar coater application to the spray application using an airbrush, the same operation as Example 9 was performed and the substrate 15 with an electrically conductive film was obtained.
  • the light transmittance at a wavelength of 550 nm was 76%
  • the surface resistance before the tape peeling test was 780 ⁇ / ⁇
  • the appearance did not change after the tape peeling test
  • the surface resistance of the peeled portion was 2860 ⁇ / ⁇ .
  • the contact angle of water on the surface of the resin film after formation of the thermosetting resin composition film (after drying at 110 ° C.) is 34 °, and the contact angle of water on the surface of the resin film after application of the CNT dispersion (after drying at 150 ° C.). was 56 °.
  • thermosetting resin film layer As a result of cutting out the cross section of the base material 15 with the conductive film and observing it at a magnification of 100,000 using a transmission electron microscope (TEM), the lower 5 nm of the 28 nm CNT film thickness is the thermosetting resin film layer. I found that it was embedded.
  • TEM transmission electron microscope
  • the linearity of the base material 13 with a conductive film was 24.0%.
  • the resistance change immediately after the heat treatment at 150 ° C. for 30 minutes was 1.20 times, and the resistance change 12 hours after the heat treatment was 1.15 times.
  • Example 14 A drive circuit for a resistive touch panel was attached to the panel of Example 7 in which two substrates with a transparent conductive film were bonded together, and when a pressing force was applied from the film substrate side, conduction at the pressed point was recognized. And it was confirmed that it works as a resistive touch panel.
  • Example 15 When a drive circuit for a capacitive touch panel was attached to the base material with a conductive film 9 produced in Example 9 and the conductive film surface was pressed with a finger, the circuit recognized the pressed point and used as a capacitive touch panel. It was confirmed to work.
  • the substrate with a transparent conductive film having high transmittance, low resistance, excellent in-plane uniformity and adhesion to the substrate of the present invention is suitable for touch panels such as resistive touch panels and capacitive touch panels. Used.

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Abstract

 透明な支持基材、メラミン樹脂を50重量%以上含む熱硬化樹脂膜およびカーボンナノチューブ導電膜をこの順に有する透明導電膜付き基材であって、該カーボンナノチューブ導電膜の抵抗の直線性の値が1.5%以下である透明導電膜付き基材。本発明によれば、基材への密着性および面内均一性に優れた導電膜を有する透明導電膜付き基材を得ることができる。

Description

透明導電膜付き基材とその製造方法、およびそれを用いたタッチパネル
 本発明は、カーボンナノチューブを導電膜とする透明導電膜付き基材とその製造方法、および該透明導電膜付き基材を用いたタッチパネルに関する。
 透明導電膜付き基材の導電膜を形成する材料として、カーボンナノチューブ(以下、CNTと略す)および導電性ポリマーが知られている。これらの材料を用いた場合、室温、大気圧下で導電膜の塗布が可能であり、簡易なプロセスで導電膜を形成することができる。また、これらの材料は屈曲性に富むため、柔軟なフィルム上に導電膜を形成した場合であっても、フィルムの屈曲性に追従することができる。さらに、基材にフィルムを用いた場合には、導電膜を連続形成できることから、プロセスコストの低減が可能である。これらの導電膜は、膜厚を薄くすることによって透明性を向上させることができる。特にCNTは黒色のため、ニュートラルな色調を得ることができる。
 CNTは従来、溶媒中への分散が困難であったが、近年、CNTの分散性を高めた組成物として、導電性ポリマー、溶媒およびCNTを含有する組成物が提案されている(例えば、特許文献1)。このような分散方法により優れた透明性および導電性を有する導電膜が得られるようになったが、CNT膜の基材への密着性が不十分であった。そこで、基材表面にバインダー樹脂、CNT、溶媒を含む塗液を塗布してCNTからなる導電層を形成する方法(例えば、特許文献2)や、CNTを含む導電性フィルムの上にポリマー層を設けた多層構造(例えば、特許文献3)が提案されている。バインダー樹脂を添加する方法では、網目状に拡がったCNT膜中のCNTとCNTとの接点にバインダー樹脂が介在するために、高抵抗化する問題があった。また、CNTからなる導電膜の上にポリマー層を設ける方法では、ポリマー層形成前のCNT導電膜の密着性が不足していることから、プロセス中にCNT導電膜が剥離する場合があった。
 また、CNT導電膜にベースコートを設けて結着力を、トップコートを設けて湿度に対する抵抗安定性を高める方法が提案されている(例えば、特許文献4)。しかし、125℃2時間の加熱処理後によって表面抵抗が1.25倍以上に上昇し、抵抗値安定性に問題があった。また、得られる導電膜の面内均一性が不充分であるという問題もあった。
特開2005-97499号公報(特許請求の範囲) 特表2004-526838号公報(実施例2) 特表2006-519712号公報(実施例) US7,378,040(Figure4)
 本発明は、基材への密着性および面内均一性に優れたカーボンナノチューブ導電膜を有する低抵抗な透明導電膜付き基材を提供することを目的とする。
 上記課題を達成するために、本発明は下記の構成からなる。透明な支持基材、メラミン樹脂を50重量%以上含む熱硬化樹脂膜、およびカーボンナノチューブ導電膜をこの順に有し、該カーボンナノチューブ導電膜の抵抗の直線性が1.5%以内である透明導電膜付き基材である。
 また、本発明は、上記の透明導電膜付き基材を有するタッチパネルを含む。
 本発明によれば、基材への密着性および面内均一性に優れた導電膜を有する透明導電膜付き基材を得ることができる。本発明の透明導電膜付き基材をタッチパネルに用いると、タッチしたポイントと画面とのずれがほぼ無いようにキャリブレーションすることができ、実用レベルのタッチパネルが得られる。
本発明の一態様である抵抗膜式タッチパネルの一例を示した模式図
符号の説明
 1 ハードコート層
 2 支持基材
 3 熱硬化樹脂膜
 4 CNT導電膜
 5 空間
 6 ドットスペーサー
 7 両面接着テープ
 8 支持基材
 本発明の透明導電膜付き基材は、透明な支持基材、熱硬化樹脂膜およびCNT導電膜をこの順に有する。ここで、透明な支持基材とは可視光の透過率が高い基材を指し、具体的には波長550nmにおける光の透過率が50%以上のものを言う。
 本発明に用いられる支持基材としては、樹脂、ガラスなどを挙げることができる。厚み250μm以下で巻き取り可能なフィルムであっても、厚み250μmを超える基板であってもよい。樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)などのポリエステル、ポリイミド、ポリフェニレンスルフィド、アラミド、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリ乳酸、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、脂環式アクリル樹脂、シクロオレフィン樹脂などを挙げることができる。ガラスとしては、通常のソーダガラスを用いることができる。また、これらの複数の基材を組み合わせて用いることもできる。例えば、樹脂とガラスを組み合わせた基材、2種以上の樹脂を積層した基材などの複合基材であってもよい。支持基材の種類は上述に限定されることはなく、用途に応じて透明性や耐久性やコスト等から最適なものを選ぶことができる。
 次に、熱硬化樹脂膜について説明する。本発明においては、熱硬化樹脂膜を設けることにより、CNT導電膜の支持基材への密着性を向上させることができる。熱硬化樹脂膜中の樹脂が、熱硬化によって架橋することにより、支持基材表面およびCNT導電膜の接触部分への密着性を確保するとともに、耐溶剤性、耐湿性、耐擦過性、耐熱性などの耐久性を付与することができる。
 熱硬化樹脂膜は、メラミン樹脂を少なくとも50重量%以上含むことが重要である。メラミン樹脂は水酸基やイミノ基などの極性基を多く含むことから、水や水系混合溶媒、およびこれらを分散媒とするCNT分散液に対する濡れ性が向上する。このため、メラミン樹脂を含む熱硬化樹脂膜の上にCNT分散液を塗布する際に、分散液が濡れやすくなり、均一なCNT導電膜を形成することができる。すなわち、濡れ性を上げることでCNTの最下層は熱硬化樹脂膜表面に束縛され、CNT分散液の乾燥時の不均一な移動が抑制されるため、ムラのない、均一なCNT導電膜が得られる。これにより表面抵抗の面内均一性に優れた導電膜が得られる。優れた面内均一性により、例えば導電膜の端に電極を設けた場合に電極間の抵抗の直線性(リニアリティ)に優れた導電膜が得られる。熱硬化樹脂膜に含まれるメラミン樹脂が50重量%よりも少ない場合には、水や水系混合溶媒、およびこれらを分散媒とするCNT分散液の濡れ性が悪く、均一なCNT導電膜を得ることができない。メラミン樹脂の含有量は熱硬化樹脂膜中70~90重量%が好ましい。この範囲にあることで、濡れ性と、密着性のバランスに優れた熱硬化樹脂膜を得ることができる。
 なお、メラミン樹脂とは、メラミンとホルムアルデヒドの縮合によって得られる樹脂である。例えば、メラミンとホルムアルデヒドをアルカリ条件下で縮合させてメチロールメラミンを得、これを基材上に塗布した後、加熱して重縮合させることにより、メラミン樹脂の硬化膜を得ることができる。本発明においては、例えば、溶剤に可溶な数平均分子量400~100000に調整したメラミン樹脂を塗布して用いることが好ましい。メラミンに反応させるホルムアルデヒドのモル比は、メラミン1に対して2~4が好ましい。メラミン中には3個のアミノ基があるのでホルムアルデヒドは最大6個反応できるが、そのうちの約半分の3個が反応したメチロールメラミンが、熱硬化性樹脂として扱いやすいので好ましく用いることができる。また、メチロールメラミン樹脂の水酸基の一部をアルコールと反応させて一部をアルキルエーテル化したメチルエーテル化メラミン樹脂、ブチルエーテル化メラミン樹脂なども用いることができる。特に、親水性と有機溶媒への親和性のバランスから、メチルエーテル化メラミン樹脂が好ましく用いられる。
 熱硬化樹脂膜は、メラミン樹脂以外の1種類以上の熱硬化性樹脂を含んでもよい。メラミン樹脂以外の熱硬化性樹脂を含むことによって、硬化温度、濡れ性、耐久性などを所望の範囲に調整することができる。メラミン樹脂以外の樹脂としては、フェノール樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、アクリル系樹脂、ビニルアルコール共重合樹脂、イソシアネート樹脂、ウレタン樹脂などを挙げることができるが、これらに限定されず、目的に応じて選択することができる。水酸基やカルボキシル基を有する樹脂は、メラミン樹脂と架橋して、より耐久性に優れた熱硬化樹脂膜を形成することができるため好ましい。また、エポキシ樹脂は、熱硬化温度を様々に調整することができるため好ましい。例えば、80~120℃でエポキシ樹脂のみを硬化させ、その後に150~200℃に昇温してエポキシ樹脂とメラミン樹脂を架橋させるなど、硬化状態を様々に調整することが可能になることから、本発明に好ましく用いることができる。
 熱硬化樹脂膜には必要に応じて他の成分を含有してもよい。例えば、カルボン酸やスルホン酸などの酸を有する化合物、アミンなどの塩基を有する化合物、エポキシ、オキセタン、ヒドロキシ、イソシアネートなどの反応性の官能基を有する化合物が挙げられる。これらの化合物は、一分子内に2個以上の酸、塩基、または反応性の官能基を有する多官能化合物であることが好ましい。これらは樹脂であっても低分子化合物でもよい。中でも、メラミン樹脂の硬化剤として使える化合物が好ましく用いられる。
 また、他の成分として、エポキシ樹脂を用いた場合には、重合開始剤を加えて硬化反応を調整することができる。また、光硬化系、水分硬化系樹脂等を含有させることにより、メラミン樹脂を熱架橋させる前の熱硬化性樹脂組成物膜の架橋の程度を調整することができる。
 本発明の透明導電膜付き基材は、150℃30分の加熱処理後の抵抗値変化が20%以内であることが好ましい。CNT導電膜層の下層に本発明の熱硬化樹脂膜を設けない場合には抵抗値が20%より大きく変化するのに対し、メラミン樹脂を含む熱硬化樹脂膜を設けることによってこれを20%以内にすることができる。CNT導電膜の抵抗値が加熱処理によって上昇する理由、および、熱硬化樹脂膜を設けることで抵抗値変化を抑制できる理由は定かではないが、CNTの分散剤が、CNT分散液塗布時に微量に溶出するメラミン樹脂と作用するためと思われる。なお、ここで行う加熱処理とは、たとえば導電膜付き基材の周縁部に外部回路を接続するために導電ペーストを塗布し、加熱硬化処理を行うなどの、後工程による熱履歴を想定している。したがって後工程の種類によって加熱処理条件も異なってくるが、概ね100℃以上、30分以上の加熱処理であれば、いずれの条件下でも、150℃30分の加熱処理を行った場合と同等の抵抗値の変化を示すことがわかっているので、該条件でおおよその評価をすることができる。また、本発明の導電膜付き基材は、CNT導電膜上に、さらに別のポリマー層を設けなくても加熱処理後の抵抗安定性が得られるため、簡便でかつ表面の接触抵抗の小さな導電膜を得ることができる。
 透明導電膜付き基材中の熱硬化樹脂膜は、表面の水の接触角が60度以下であることが好ましい。水の接触角を60度以下にするためには、熱硬化樹脂膜中のメラミン樹脂含有量を50重量%以上にすればよい。透明導電膜付き基材中の熱硬化樹脂膜表面の水の接触角は、後述するCNT分散液塗布前の熱硬化性樹脂組成物膜表面の水の接触角と関係する。CNT分散液塗布後の加熱処理により、熱硬化性樹脂組成物膜中に含まれる水酸基などの極性基が架橋反応により消費されるため、水の接触角は大きくなる。したがって、CNT分散液塗布前の熱硬化性樹脂組成物膜表面の水の接触角を40度以下とすることが好ましく、これにより、透明導電膜付き基材中の熱硬化樹脂膜表面の水の接触角は通常60度以下となる。
 水の接触角は市販の接触角測定装置を用いて測定することができる。接触角の測定は、JIS R3257(1999)に準じ、室温25℃、湿度50%の雰囲気下で、膜表面に1~4μlの水をシリンジで滴下し、液滴を水平断面から観察し、液滴端部の接線と膜平面とのなす角を求める。
 ここで、透明導電膜付き基材中の熱硬化樹脂膜表面の水の接触角を測定する方法としては、基材端部などの透明導電膜を塗布しなかった部分の表面を測定する方法、または、透明導電膜層を研磨またはエッチングして熱硬化樹脂膜表面を露出させて測定する方法があり、何れでも構わない。
 熱硬化樹脂膜の厚みは、濡れ性の向上および強度の点から10nm以上が好ましく、膜厚の均一性や塗工プロセスの安定性から10μm以下が好ましい。より好ましくは100nm~500nmであり、この範囲の厚みにすることで熱硬化性樹脂による着色の影響を押さえ、膜厚の均一性、強度および濡れ性に優れた熱硬化樹脂膜を得ることができる。
 次に、CNT導電膜について説明する。本発明におけるCNT導電膜はCNTを含んでいればよい。本発明において、CNT導電膜に用いられるCNTは、単層CNT、二層CNT、三層以上の多層CNTのいずれでもよい。直径が0.3~100nm、長さ0.1~20μm程度のCNTが好ましく用いられる。CNT導電膜の透明性を高め、表面抵抗を低減するためには、直径10nm以下の単層CNTまたは二層CNTがより好ましい。また、CNTの集合体にはアモルファスカーボンや触媒金属などの不純物は極力含まれないことが好ましい。これらの不純物が含まれる場合は、酸処理や加熱処理などによって適宜精製することができる。
 CNT導電膜は、CNT分散液を基材に塗布して形成することができる。CNT分散液を得るには、CNTを溶媒とともに、混合分散機や超音波照射装置によって分散処理を行うことが一般的である。さらに界面活性剤などの分散剤を添加することが望ましい。分散剤としては公知のものが何れも好ましく用いられるが、アルキルアミン塩、4級アンモニウム塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、スルホン酸塩含有ポリマー、カルボキシ基含有セルロース系ポリマーなどのイオン性界面活性剤などがより好ましく用いられる。これら公知の分散剤は、水系分散媒に対してより効果を奏するため、本発明に用いるCNT分散液は水を含有することが好ましい。CNT分散液中に水を50重量%以上含むことで、CNTの均一分散を保持することができる。このため、本発明の透明導電膜付き基材におけるCNT導電膜は、水を50重量%以上含むCNT分散液を塗布して得られることが好ましい。水を60重量%以上含むCNT分散液がより好ましい。また、CNT分散液中に水以外の溶媒成分を含んでもかまわないが、水のみであることがより好ましい。CNT分散液に含まれる水以外の溶媒としては、水と相溶する溶媒であれば何れも用いることができる。
 CNT導電膜の下部側のCNTの一部が熱硬化樹脂膜に埋め込まれた構造を有していることが好ましい。CNTの一部が熱硬化樹脂膜に埋め込まれている様子は、導電膜付き基材の断面を透過型電子顕微鏡で観察することで確認できる。このようにCNTの一部が熱硬化樹脂膜に埋め込まれた構造をとることで、高い導電性を維持しつつCNT導電膜の基材への密着性を高めることができる。
 本発明の透明導電膜付き基材において、CNT導電膜の表面抵抗は1×10Ω/□以上、1×10Ω/□以下であることが好ましい。表面抵抗値は、低いほど感度が良好になるが、CNT導電膜層をより厚く形成する必要があるので透明性が低下することになる。逆に表面抵抗値を高くすると、透明性の点では有利であるが、感度の面で不利になる。これらの点のバランスから、透明導電膜付き基材の表面抵抗値が上記の範囲にあることで、タッチパネル用の透明導電膜付き基材として好ましく用いることができる。透明導電膜付き基材の表面抵抗値は、1×10~2×10Ω/□の範囲であることがさらに好ましい。
 なお、表面抵抗は4探針法を用いて、4本の探針を有するプローブをCNT導電膜表面に押し当てて測定し、測定サンプルを9等分したそれぞれの中央を1回ずつ測定し、その平均値を測定値とする。測定には、例えば、ダイアインスツルメンツ製低抵抗率計ロレスタEP MCP-T360を用いることができる。
 本発明の透明導電膜付き基材において、カーボンナノチューブ導電膜の抵抗の直線性(リニアリティ)の値は1.5%以下であることが好ましい。リニアリティが1.5%以下となることで、面内均一性に優れた導電膜が得られる。たとえば、リニアリティが1.5%以下の導電膜付き基材をタッチパネルに用いた場合に、タッチしたポイントと画面とのずれがほぼ無いようにキャリブレーションすることができ、実用レベルのタッチパネルが得られる。本基材においては、CNT導電膜の下層に、CNT分散液に対する濡れ性が良好な熱硬化樹脂膜を設けることで、均一なCNT導電膜を形成できるようになり、そのため1.5%以下のリニアリティが達成される。
 次に、リニアリティについて詳細に説明する。CNT導電膜に2つの電極を接続して一定の電圧を印可した状態で、一方の電極から、2つの電極の間に設定した測定点までの距離と電圧との関係を測定したときに、理想的には距離と電圧とは直線関係になる。しかし、実際の導電膜においては、面内均一性の不足から、距離と電圧との関係が理想的な直線からずれている。リニアリティとは、測定した値が理想的な直線からどれだけずれているかを、そのずれの最大値で評価した値である。一方の電極から、測定点までの距離を変えて二点間の電圧を測定し、測定によって得られた電圧値E1と、理想電圧値E0とのずれΔE(=|E1-E0|)のうち最も大きい値をΔEmaxとし、ΔEmaxをその距離での理想電圧の値E0で割ること、すなわち式(ΔEmax/E0)×100により、リニアリティ(%)を計算できる。なお、リニアリティの実際の測定は、たとえば5cm×20cm角の大きさに切り出した基材サンプルの20cm方向に電圧を5V印加し、2cm間隔で電圧を測定して行うことができる。
 さらに、CNT導電膜表面に粘着テープを貼り付け、該粘着テープを60°の角度で剥離した後(以下、前記粘着テープの貼り付けおよび剥離を合わせてテープ剥離と称する)の表面抵抗が、テープ剥離前の表面抵抗の1.5倍以下であることが好ましい。テープ剥離前後の表面抵抗の変化は、CNT導電膜の密着性と関連している。密着性が高い場合には表面抵抗の変化が小さくなり、1.5倍以下であれば、密着性は優れていると判断することができる。測定方法の詳細は後述する。
 本発明の透明導電膜付き基材の透明性は、波長550nmにおける光の透過率が60%以上であることが好ましい。透過率が60%以上であれば、透明導電膜付き基材をタッチパネルに用いた場合、タッチパネルの下層に設けたディスプレイの表示を鮮やかに認識することができる。より好ましくは透過率85%以上である。透過率を上げるための方法としては、透明な支持基材または熱硬化樹脂膜の厚みを薄くする方法、あるいは透過率の大きな材質を選定する方法が挙げられる。また、CNTの分散性を向上させることによって、より薄い膜厚で所望の表面抵抗値を得ることが好ましい。なお、透過率は、透明導電膜付き基材の断片を切り出し、分光光度計を用いて測定することで求めることができる。
 次に、本発明の透明導電膜付き基材の製造方法について説明する。少なくとも下記(1)~(3)の工程をこの順に含むことが好ましい。
(1)透明な支持基材上に、メラミン樹脂を50重量%以上含む熱硬化性樹脂組成物を塗布して塗布膜を形成する工程、
(2)前記熱硬化性樹脂組成物の塗布膜上に、水を50重量%以上含むCNT分散液を塗布する工程、
(3)前記熱硬化性樹脂組成物の熱硬化温度以上の温度で加熱処理する工程。
 前記(1)の工程について説明する。熱硬化性樹脂組成物は、溶媒に溶解して塗布することができる。溶媒としては、水、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、トルエン、キシレン、o-クロロフェノール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジオキサン、酢酸エチル、酢酸イソブチル、テトラヒドロフラン、炭酸プロピレン、エチレングリコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、プロピレングリコール、プロピレングリコールアセテート、プロピレングリコールアセテートモノメチルエーテル、クロロホルム、トリクロロエタン、トリクロロエチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、N-メチルピロリドン、γ-ブチロラクトンなどが挙げられるが、これらに限定されず必要に応じて選ぶことができる。また、これらを2種以上用いてもよい。
 熱硬化性樹脂組成物を基材に塗布する方法としては、キャスト法、スピンコート法、ディップ法、バーコーター法、スプレー法、ブレードコート法、スリットダイコート法、グラビアコート法、リバースコート法、スクリーン印刷法、鋳型塗布法、印刷転写法、浸漬引き上げ法、インクジェット法などを挙げることができる。塗膜厚みや配向の調整など、得ようとする塗膜特性に応じて塗布方法を選択すればよい。
 (1)の工程において形成される熱硬化性樹脂組成物の塗布膜は、表面の25℃における水の接触角が40度以下であることが好ましい。水の接触角を40度以下とすることによって、熱硬化性樹脂組成物の塗布膜表面にCNT分散液を均一に塗布することができ、乾燥中にムラが発生することなく、均一性と密着性に優れたCNT導電膜を形成することができる。
 次に、前記(2)の工程について説明する。形成した熱硬化性樹脂組成物の塗布膜上に、水を50重量%以上含むCNT分散液を塗布する。CNT分散液は、前述のCNTと、50重量%以上の水を含むものであれば特に限定されない。さらに、上記(1)に例示した溶媒を含んでもよい。
 CNT分散液を塗布する方法としては、CNT分散液を均一に塗布できる方法であれば特に制限はなく、前記(1)の工程において挙げられた方法を用いることができる。ただし、特に、スリットダイコート法、グラビアコート法、リバースコート法、スクリーン印刷法および印刷転写法から選ばれた方法が、塗布されたCNT導電膜の均一性が高くなるので好ましい。例えば、スプレー法などは、塗布されたCNT導電膜の均一性が低くなるので、好ましくない。
 CNT分散液を調製するにあたっては、CNTを水に分散させるために、分散剤を共存させて超音波照射を施すなどの処理を行うことが好ましい。分散剤としては、イオン性界面活性剤や共役系高分子などを用いることができる。イオン性界面活性剤の例としては、前述のアルキルアミン塩や、4級アンモニウム塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、スルホン酸塩含有ポリマー、カルボキシ基含有セルロース系ポリマーなど、例えばドデシルスルホン酸ナトリウムが挙げられる。共役系高分子の例としては、ポリ(2-スルホ-1,4-イミノフェニレン)などを挙げることができる。
 次いで、(3)前記熱硬化性樹脂組成物の熱硬化温度以上の温度で加熱処理する。この工程により、熱硬化性樹脂組成物を硬化させ、CNT導電膜を支持基材に密着させる。このとき、熱硬化性樹脂組成物中の極性基は架橋反応によって消費されるため、硬化反応後の熱硬化樹脂膜の水の接触角は増大する。硬化後の熱硬化樹脂膜の水の接触角は60度以下であることが好ましい。(1)の工程において形成された時点での熱塗布膜の接触角が40度以下であれば、(3)の工程で得られた導電膜付き基材の熱硬化樹脂膜表面の接触角は、通常60度以下となる。また、(3)の工程は(2)の工程に引き続き直ちに行うことが好ましい。
 なお、前記(1)の工程では熱硬化性樹脂組成物膜を完全には硬化させず、(3)の工程で硬化させることで、(2)の工程で塗布したCNTの一部が熱硬化樹脂膜に埋め込まれたCNT膜を形成することができる。埋め込まれたCNTが熱硬化樹脂膜に固定されることから、CNT導電膜の密着性がより向上するため好ましい。
 次に、本発明のタッチパネルについて説明する。タッチパネルには、種々の方式があるが、本発明の透明導電膜付き基材は、高透過率、低抵抗で、かつ面内均一性と基材への密着性に優れることから、抵抗膜方式タッチパネルまたは静電容量式タッチパネルに特に好適に用いることができる。
 抵抗膜式タッチパネルは、2枚の透明導電膜を対向させて電圧をかけ、指などで押さえると、押さえた位置に応じた電圧が発生するので、その電圧を検出することにより操作位置を判別するタッチパネルである。図1は抵抗膜式タッチパネルの一例を示す模式断面図である。抵抗膜式タッチパネルは、下側の支持基材8上に、上側の支持基材2が、枠状の両面接着テープ7によって貼り合わされた構成であり、支持基材8および2には、CNT導電膜4が、空間5を挟むように対向して面状に形成されている。また、支持基材8とCNT導電膜4との間および支持基材2とCNT導電膜4との間には、それぞれ熱硬化樹脂膜3が設けてある。空間5には、一定間隔でドットスペーサー6が設けられており、これによって、上側と下側の導電膜の間隙を保持している。上側の支持基材2の上面は手指またはペン先が接触する面であり、傷つきを防止するためにハードコート層1が設けられる。以上の構成からなるタッチパネルは、例えば、リード線と駆動ユニットを取り付け、液晶ディスプレイの前面に組み込んで用いられる。
 静電容量式タッチパネルは、透明導電膜に駆動回路が取り付けられ、表面に指などが触れた際の静電容量の変化を駆動回路で検出して、操作位置を判別するタッチパネルである。
 以下、本発明を実施例に基づき、具体的に説明する。ただし、本発明は下記実施例に限定されるものではない。まず、各実施例および比較例における評価方法を説明する。
 (1)透過率
 透明導電膜付き基材の波長550nmにおける光の透過率を、分光光度計(日立製作所製、U3210)を用いて測定した。
 (2)水の接触角
 室温25℃、湿度50%の雰囲気下で、膜表面に1~4μlの水をシリンジで滴下した。接触角計(協和界面化学社製、接触角計CA-D型)を用いて、液滴を水平断面から観察し、液滴端部の接線と膜平面とのなす角を求めた。
 (3)表面抵抗および密着性
 導電膜付き基材の導電膜側の表面抵抗を低抵抗計(ダイアインスツルメンツ製、ロレスタEPMCP-T360)を用い4探針法で測定した。表面抵抗は、面内9等分した9点の測定値の平均値とした。また、膜表面には切り目を入れない以外はJIS K5600-5-6(1999年、クロスカット法)に準拠したテープ剥離試験を行った。すなわち、導電膜表面にニチバン社の粘着テープ:“セロテープ(登録商標)”(CT405A-18)を貼り付け、指でこすって完全に密着させ、1分放置した後、該粘着テープの一端を持って、フィルム表面に対して60°の角度を保ちながら1秒程度で引き剥がした。テープ剥離前後での表面抵抗の変化を評価した。同一サンプルで3箇所の異なるポイントで測定した値の平均をとった。
 (4)抵抗の直線性(リニアリティ)
 導電膜付き基材から切り出した5cm×20cmサンプルの20cm方向に電圧を5V印加した状態で、一方の電極からの距離と電圧の関係を、2cm間隔で測定した。測定した各点における理想電圧値E0と測定電圧E1のずれΔE(=|E1-E0|)のうち最も大きい値をΔEmaxとし、その点における(ΔEmax/E0)×100を、リニアリティ(%)とした。
 (5)加熱処理後の抵抗変化率
 導電膜付き基材の導電膜側の表面抵抗を低抵抗計(ダイアインスツルメンツ製、ロレスタEPMCP-T360)を用い4探針法で測定した。表面抵抗は、面内9等分した9点の測定値の平均値とした。次いで、該導電膜を150℃のオーブンに30分間投入し、取り出して、導電膜付き基材が室温に戻った直後に上記と同様の方法で表面抵抗を測定した。そして、導電膜付き基材を室温でそのまま静置し、12時間後に再度表面抵抗を測定した。
 実施例1
 はじめに熱硬化性樹脂組成物の溶液を調製した。フラスコに0.83gのポリ[メラミン-co-ホルムアルデヒド]溶液(アルドリッチ製、固形分濃度84重量%、1-ブタノール溶液)、0.3gの固形エポキシ樹脂157S70(ジャパンエポキシレジン社製)、および、98.9gの2-ブタノンを入れ、室温で30分撹拌し、均一な樹脂溶液を調製した。これとは別に0.1gの熱重合開始剤キュアゾール2MZ(四国化成社製)を9.9gの1-プロパノールに溶解させ、熱開始剤溶液を調製した。前述の樹脂溶液100mlと熱開始剤溶液1mlを混合して、熱硬化性樹脂組成物の溶液(固形分濃度約1重量%、メラミン樹脂:固形エポキシ樹脂=70重量部:30重量部)を得た。該溶液0.5mlを、A4サイズにカットした厚み188μmのPETフィルム上に滴下し、No.4のバーコーターを用いて塗布した後、130℃の熱風オーブンに30秒間入れて、熱硬化性樹脂組成物膜を得た。該熱硬化性樹脂組成物膜を室温25℃、相対湿度50%の部屋に1時間静置した後、水の接触角を測定したところ36°であった。
 ついで、CNT分散液を調製した。スクリュー管に、10mgの単層CNT(サイエンスラボラトリーズ社製、純度95%、精製せずにそのまま使用)、および、ポリスチレンスルホン酸18重量%水溶液(アルドリッチ製)を超純水で濃度0.1重量%に希釈した水溶液10mlを入れ、超音波ホモジナイザー(東京理化器械(株)製VCX-502、出力250W、直接照射)を用いて超音波照射し、CNT濃度0.1重量%のCNT分散液を得た。得られたCNT分散液0.5mlを、上述の熱硬化性樹脂組成物膜の形成されたPETフィルム上に滴下し、No.4のバーコーターを用いて塗布したところ、CNT分散液は、はじかれることなく全面均一に塗布することができた。その後、150℃の熱風オーブンに30秒間入れて、乾燥するとともに、熱硬化性樹脂組成物を完全に硬化させ、導電膜付き基材1を得た。
 導電膜付き基材1の波長550nmにおける光の透過率は82%であった。また、CNT分散液塗布後(150℃乾燥後)の樹脂膜表面の水の接触角は58°であった。導電膜付き基材1の導電膜側の表面抵抗は1000Ω/□であった。また、テープ剥離試験後の膜表面には外観上は全く変化がなく、剥がした箇所の表面抵抗を測定したところ、1010Ω/□であった。
 導電膜付き基材1の断面を切り出し、透過型電子顕微鏡(TEM)を用いて倍率100000倍にて観察を行った結果、20nmあるCNTの膜厚のうち下層の5nmが熱硬化樹脂膜層に埋め込まれていることがわかった。
 導電膜付き基材1のリニアリティは1.0%であった。また、150℃30分の加熱処理を行った直後の抵抗変化は1.15倍、加熱処理の12時間後の抵抗変化は1.08倍であった。
 実施例2
 基材を厚み1.0mmのガラス基板に変えた以外は実施例1と同様の操作を行い、導電膜付き基材2を得た。波長550nmにおける光の透過率は85%、テープ剥離試験前の表面抵抗は950Ω/□、テープ剥離試験後の外観の変化は全く無く、剥がした箇所の表面抵抗は965Ω/□であった。また、熱硬化性樹脂組成物膜形成後(130℃乾燥後)の樹脂膜表面の水の接触角は36°、CNT分散液塗布後(150℃乾燥後)の樹脂膜表面の水の接触角は58°であった。
 導電膜付き基材2の断面を切り出し、透過型電子顕微鏡(TEM)を用いて倍率100000倍にて観察を行った結果、20nmあるCNTの膜厚のうち下層の5nmが熱硬化樹脂膜層に埋め込まれていることがわかった。
 導電膜付き基材2のリニアリティは1.1%であった。また、150℃30分の加熱処理を行った直後の抵抗変化は1.16倍、加熱処理の12時間後の抵抗変化は1.07倍であった。
 実施例3
 基材を厚み1.6mmのポリカーボネート樹脂基板に変えた以外は実施例1と同様の操作を行い、導電膜付き基材3を得た。波長550nmにおける光の透過率は78%、テープ剥離試験前の表面抵抗は1020Ω/□、テープ剥離試験後の外観の変化は全く無く、剥がした箇所の表面抵抗は1030Ω/□であった。また、熱硬化性樹脂組成物膜形成後(130℃乾燥後)の樹脂膜表面の水の接触角は36°、CNT分散液塗布後(150℃乾燥後)の樹脂膜表面の水の接触角は58°であった。
 導電膜付き基材3の断面を切り出し、透過型電子顕微鏡(TEM)を用いて倍率100000倍にて観察を行った結果、20nmあるCNTの膜厚のうち下層の5nmが熱硬化樹脂膜層に埋め込まれていることがわかった。
 導電膜付き基材3のリニアリティは1.0%であった。また、150℃30分の加熱処理を行った直後の抵抗変化は1.16倍、加熱処理の12時間後の抵抗変化は1.06倍であった。
 実施例4
 熱硬化性樹脂組成物中のメラミン樹脂配合比を、メラミン樹脂:固形エポキシ樹脂=70重量部:30重量部から、50重量部:50重量部に変えた以外は実施例1と同様の操作を行い、導電膜付き基材4を得た。波長550nmにおける光の透過率は83%、テープ剥離試験前の表面抵抗は890Ω/□、テープ剥離試験後の外観の変化は全く無く、剥がした箇所の表面抵抗は910Ω/□であった。また、熱硬化性樹脂組成物膜形成後(130℃乾燥後)の樹脂膜表面の水の接触角は40°、CNT分散液塗布後(150℃乾燥後)の樹脂膜表面の水の接触角は60°であった。
 導電膜付き基材4の断面を切り出し、透過型電子顕微鏡(TEM)を用いて倍率100000倍にて観察を行った結果、20nmあるCNTの膜厚のうち下層の5nmが熱硬化樹脂膜層に埋め込まれていることがわかった。
 導電膜付き基材4のリニアリティは1.4%であった。また、150℃30分の加熱処理を行った直後の抵抗変化は1.20倍、加熱処理の12時間後の抵抗変化は1.16倍であった。
 実施例5
 熱硬化性樹脂組成物中のメラミン樹脂配合比を、メラミン樹脂:固形エポキシ樹脂=70重量部:30重量部から、90重量部:10重量部に変えた以外は実施例1と同様の操作を行い、導電膜付き基材5を得た。波長550nmにおける光の透過率は83%、テープ剥離試験前の表面抵抗は1400Ω/□、テープ剥離試験後の外観の変化は全く無く、剥がした箇所の表面抵抗は1550Ω/□であった。また、熱硬化性樹脂組成物膜形成後(130℃乾燥後)の樹脂膜表面の水の接触角は26°、CNT分散液塗布後(150℃乾燥後)の樹脂膜表面の水の接触角は50°であった。
 導電膜付き基材5の断面を切り出し、透過型電子顕微鏡(TEM)を用いて倍率100000倍にて観察を行った結果、20nmあるCNTの膜厚のうち下層の5nmが熱硬化樹脂膜層に埋め込まれていることがわかった。
 導電膜付き基材5のリニアリティは1.4%であった。また、150℃30分の加熱処理を行った直後の抵抗変化は1.12倍、加熱処理の12時間後の抵抗変化は1.06倍であった。
 実施例6
 CNT分散液の溶媒を水のみから、水60重量%およびエタノール40重量%の混合溶媒に変えた以外は、実施例1と同様の操作を行い、導電膜付き基材6を得た。波長550nmにおける光の透過率は76%、テープ剥離試験前の表面抵抗は1600Ω/□、テープ剥離試験後の外観の変化は全く無く、剥がした箇所の表面抵抗は1800Ω/□であった。また、熱硬化性樹脂組成物膜形成後(130℃乾燥後)の樹脂膜表面の水の接触角は36°、CNT分散液塗布後(150℃乾燥後)の樹脂膜表面の水の接触角は58°であった。
 導電膜付き基材6の断面を切り出し、透過型電子顕微鏡(TEM)を用いて倍率100000倍にて観察を行った結果、20nmあるCNTの膜厚のうち下層の8nmが熱硬化樹脂膜層に埋め込まれていることがわかった。
 導電膜付き基材6のリニアリティは1.2%であった。また、150℃30分の加熱処理を行った直後の抵抗変化は1.12倍、加熱処理の12時間後の抵抗変化は1.08倍であった。
 実施例7
 上述の実施例3で作製したポリカーボネート基材の透明導電膜付き基材表面に、微細ドット(直径40~50μm、高さ7μm、ドット間ピッチ2mm)を透明なアクリル系感光性樹脂を使って植設した。そして、これに実施例1で作製したPETフィルム基材の透明導電膜付き基材を、電極面が対向するように貼り合わせ、周囲を両面テープ(厚さ15μm、幅3mm)で巻いて、接着固定した。なお、タッチによる電圧変化を引き出す為に、各基材から導線を設けておいた。得られたパネルの波長550nmにおける光の透過率は64%であった。
 実施例8
 CNT分散液を塗布するバーコーターをNo.4からNo.16に変えた以外は実施例1と同様の操作を行い、導電膜付き基材8を得た。波長550nmにおける光の透過率は55%、テープ剥離試験前の表面抵抗は210Ω/□、テープ剥離試験後の外観の変化は全く無く、剥がした箇所の表面抵抗は350Ω/□であった。また、熱硬化性樹脂組成物膜形成後(130℃乾燥後)の樹脂膜表面の水の接触角は36°、CNT分散液塗布後(150℃乾燥後)の樹脂膜表面の水の接触角は58°であった。
 導電膜付き基材7の断面を切り出し、透過型電子顕微鏡(TEM)を用いて倍率100000倍にて観察を行った結果、80nmあるCNTの膜厚のうち下層の8nmが熱硬化樹脂膜層に埋め込まれていることがわかった。
 導電膜付き基材8のリニアリティは1.0%であった。また、150℃30分の加熱処理を行った直後の抵抗変化は1.20倍、加熱処理の12時間後の抵抗変化は1.10倍であった。
 実施例9
 実施例1と組成の異なる熱硬化性樹脂組成物の溶液を調製した。フラスコに水で再沈澱して精製した0.9gのポリ[メラミン-co-ホルムアルデヒド]、0.1gのトリメリット酸無水物(東京化成工業社製)、49.5gの2-ブタノン、および、49.5gの4-メチル-2-ペンタノンを入れ、室温で30分撹拌して均一な熱硬化性樹脂組成物の溶液(固形分濃度1重量%、精製メラミン樹脂:酸無水物=90重量部:10重量部)を得た。該溶液0.5mlを、A4サイズにカットした厚み188μmのPETフィルム上に滴下し、No.4のバーコーターを用いて塗布し、110℃の熱風オーブンに60秒間入れて、半硬化状態の熱硬化性樹脂組成物膜を得た。該膜を室温25℃、相対湿度50%の部屋に1時間静置した後、水の接触角を測定したところ34°であった。
 ついで、CNT分散液を調製した。スクリュー管に、10.5mgの単層CNT、10mgのカルボキシメチルセルロースナトリウム(シグマ社製90kDa,50-200cps)および10mlの純水を入れ、超音波ホモジナイザー(東京理化器械(株)製VCX-502、出力250W、直接照射)を用いて超音波照射し、CNT濃度0.105重量%のCNT分散液を得た。これにエタノールを微量添加してCNT濃度0.1重量%のCNT分散液を調製した。得られたCNT分散液0.5mlを、上述の熱硬化性樹脂組成物膜の形成されたPETフィルム上に滴下し、No.4のバーコーターを用いて塗布したところ、CNT分散液は、はじかれることなく全面均一に塗布することができた。その後、150℃の熱風オーブンに30秒間入れて、乾燥するとともに、熱硬化性樹脂組成物を完全に硬化させ、導電膜付き基材9を得た。
 導電膜付き基材9の波長550nmにおける光の透過率は84%であった。また、CNT分散液塗布後(150℃乾燥後)の樹脂膜表面の水の接触角は56°であった。導電膜付き基材9の導電膜側の表面抵抗は860Ω/□であった。また、テープ剥離試験後の膜表面には外観上は全く変化がなく、剥がした箇所の表面抵抗を測定したところ、860Ω/□であった。
 導電膜付き基材9の断面を切り出し、透過型電子顕微鏡(TEM)を用いて倍率100000倍にて観察を行った結果、20nmあるCNTの膜厚のうち下層の5nmが熱硬化樹脂膜層に埋め込まれていることがわかった。
 導電膜付き基材9のリニアリティは1.0%であった。また、150℃30分の加熱処理を行った直後の抵抗変化は1.16倍、加熱処理の12時間後の抵抗変化は1.04倍であった。
 実施例10
 塗布方法をバーコーターから、200Rのグラビアロールを取り付けたグラビアコーターに代えた以外は実施例9と同様の操作を行い、導電膜付き基材9を得た。波長550nmにおける光の透過率は86%、テープ剥離試験前の表面抵抗は820Ω/□、テープ剥離試験後の外観の変化は全く無く、剥がした箇所の表面抵抗は820Ω/□であった。また、熱硬化性樹脂組成物膜形成後(110℃乾燥後)の樹脂膜表面の水の接触角は34°、CNT分散液塗布後(150℃乾燥後)の樹脂膜表面の水の接触角は56°であった。
 導電膜付き基材10の断面を切り出し、透過型電子顕微鏡(TEM)を用いて倍率100000倍にて観察を行った結果、20nmあるCNTの膜厚のうち下層の5nmが熱硬化樹脂膜層に埋め込まれていることがわかった。
 導電膜付き基材10のリニアリティは0.7%であった。また、150℃30分の加熱処理を行った直後の抵抗変化は1.16倍、加熱処理の12時間後の抵抗変化は1.04倍であった。
 実施例11
 熱硬化性樹脂組成物の溶液の組成を、1.0gのポリ[メラミン-co-ホルムアルデヒド]、49.5gの2-ブタノン、および49.5gの4-メチル-2-ペンタノンとした以外は、実施例9と同様の操作を行い、導電膜付き基材11を得た。波長550nmにおける光の透過率は83%、テープ剥離試験前の表面抵抗は900Ω/□、テープ剥離試験後の外観の変化は全く無く、剥がした箇所の表面抵抗は900Ω/□であった。また、熱硬化性樹脂組成物膜形成後(110℃乾燥後)の樹脂膜表面の水の接触角は32°、CNT分散液塗布後(150℃乾燥後)の樹脂膜表面の水の接触角は54°であった。
 導電膜付き基材11の断面を切り出し、透過型電子顕微鏡(TEM)を用いて倍率100000倍にて観察を行った結果、20nmあるCNTの膜厚のうち下層の5nmが熱硬化樹脂膜層に埋め込まれていることがわかった。
 導電膜付き基材11のリニアリティは1.0%であった。また、150℃30分の加熱処理を行った直後の抵抗変化は1.09倍、加熱処理の12時間後の抵抗変化は1.05倍であった。
 実施例12
 熱硬化性樹脂組成物の溶液の組成を、0.9gのポリ[メラミン-co-ホルムアルデヒド]、0.05gのトリメリット酸無水物、0.05gのブロックイソシアネート(旭化成ケミカルズ社製、MF-K60X)、49.5gの2-ブタノン、および49.5gの4-メチル-2-ペンタノンとした以外は、実施例9と同様の操作を行い、導電膜付き基材12を得た。波長550nmにおける光の透過率は84%、テープ剥離試験前の表面抵抗は880Ω/□、テープ剥離試験後の外観の変化は全く無く、剥がした箇所の表面抵抗は880Ω/□であった。また、熱硬化性樹脂組成物膜形成後(110℃乾燥後)の樹脂膜表面の水の接触角は36°、CNT分散液塗布後(150℃乾燥後)の樹脂膜表面の水の接触角は60°であった。
 導電膜付き基材11の断面を切り出し、透過型電子顕微鏡(TEM)を用いて倍率100000倍にて観察を行った結果、20nmあるCNTの膜厚のうち下層の5nmが熱硬化樹脂膜層に埋め込まれていることがわかった。
 導電膜付き基材11のリニアリティは1.0%であった。また、150℃30分の加熱処理を行った直後の抵抗変化は1.15倍、加熱処理の12時間後の抵抗変化は1.06倍であった。
 実施例13
 熱硬化性樹脂組成物の溶液の組成を、0.9gのポリ[メラミン-co-ホルムアルデヒド]、0.05gのトリメリット酸無水物、0.05gの液状エポキシ樹脂(東都化成社製、YD-825S)、49.5gの2-ブタノン、および49.5gの4-メチル-2-ペンタノンとした以外は、実施例9と同様の操作を行い、導電膜付き基材13を得た。波長550nmにおける光の透過率は84%、テープ剥離試験前の表面抵抗は950Ω/□、テープ剥離試験後の外観の変化は全く無く、剥がした箇所の表面抵抗は950Ω/□であった。また、熱硬化性樹脂組成物膜形成後(125℃乾燥後)の樹脂膜表面の水の接触角は36°、CNT分散液塗布後(150℃乾燥後)の樹脂膜表面の水の接触角は60°であった。
 導電膜付き基材13の断面を切り出し、透過型電子顕微鏡(TEM)を用いて倍率100000倍にて観察を行った結果、20nmあるCNTの膜厚のうち下層の5nmが熱硬化樹脂膜層に埋め込まれていることがわかった。
 導電膜付き基材13のリニアリティは1.2%であった。また、150℃30分の加熱処理を行った直後の抵抗変化は1.16倍、加熱処理の12時間後の抵抗変化は1.10倍であった。
 比較例1
 熱硬化性樹脂組成物中のメラミン樹脂配合比を、メラミン樹脂:固形エポキシ樹脂=70重量部:30重量部から、40重量部:60重量部に変えた以外は実施例1と同様の操作を行った。しかし、樹脂膜表面がCNT分散液をはじいたために導電膜の形成ができなかった。熱硬化性樹脂組成物膜形成後(130℃乾燥後)の樹脂膜表面の水の接触角は70°であった。
 比較例2
 PETフィルム表面にコロナ放電処理を施して濡れ性をよくしたフィルムに、実施例1で調製したCNT分散液を直接塗布した。塗布後は実施例1と同様の操作を行い、熱硬化性樹脂膜のない導電膜付き基材14を得た。波長550nmにおける光の透過率は84%、テープ剥離試験前の表面抵抗は950Ω/□であったが、テープ剥離試験により、CNT導電膜が剥離した。なお、コロナ放電処理を施して濡れ性をよくしたPETフィルム表面の水の接触角は40°であった。導電膜付き基材14の断面を切り出し、透過型電子顕微鏡(TEM)を用いて倍率100000倍にて観察を行った結果、20nmあるCNTの膜厚の下層はPETフィルムへは全く埋め込まれていなかった。
 比較例3
 熱硬化性樹脂組成物の溶液の塗布方法をバーコーター塗布から、エアブラシを用いたスプレー塗布に代えた以外は、実施例9と同様の操作を行い、導電膜付き基材15を得た。波長550nmにおける光の透過率は76%、テープ剥離試験前の表面抵抗は780Ω/□、テープ剥離試験後の外観の変化は全く無く、剥がした箇所の表面抵抗は2860Ω/□であった。また、熱硬化性樹脂組成物膜形成後(110℃乾燥後)の樹脂膜表面の水の接触角は34°、CNT分散液塗布後(150℃乾燥後)の樹脂膜表面の水の接触角は56°であった。
 導電膜付き基材15の断面を切り出し、透過型電子顕微鏡(TEM)を用いて倍率100000倍にて観察を行った結果、28nmあるCNTの膜厚のうち下層の5nmが熱硬化樹脂膜層に埋め込まれていることがわかった。
 導電膜付き基材13のリニアリティは24.0%であった。また、150℃30分の加熱処理を行った直後の抵抗変化は1.20倍、加熱処理の12時間後の抵抗変化は1.15倍であった。
 実施例14
 2つの透明導電膜付き基材を貼り合わせた実施例7のパネルに、抵抗膜式タッチパネル用の駆動回路を取り付け、フィルム基材側から押し圧を加えたところ、押さえた点での導通を認識し、抵抗膜式タッチパネルとして作動することが確認できた。
 実施例15
 実施例9で作製した導電膜付き基材9に静電容量式タッチパネル用の駆動回路を取り付け、導電膜表面を指で押さえたところ、押さえた点を回路が認識し、静電容量式タッチパネルとして作動することが確認できた。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
 本発明の、高透過率、低抵抗で、かつ面内均一性と基材への密着性に優れた透明導電膜付き基材は、抵抗膜方式タッチパネルや、静電容量式タッチパネルなどのタッチパネルに用いられる。

Claims (12)

  1. 透明な支持基材、メラミン樹脂を50重量%以上含む熱硬化樹脂膜およびカーボンナノチューブ導電膜をこの順に有する透明導電膜付き基材であって、該カーボンナノチューブ導電膜の抵抗の直線性の値が1.5%以下である透明導電膜付き基材。
  2. 前記メラミン樹脂が、メチロール化メラミン樹脂である請求項1の透明導電膜付き基材。
  3. 前記カーボンナノチューブ導電膜の150℃30分の加熱処理後の抵抗値変化が20%以内である請求項1または2に記載の透明導電膜付き基材。
  4. 前記カーボンナノチューブ導電膜に含まれるカーボンナノチューブの一部が熱硬化樹脂膜に埋め込まれた構造を有する請求項1~3のいずれかに記載の透明導電膜付き基材。
  5. 前記カーボンナノチューブ導電膜の表面抵抗が1×10Ω/□以上、1×10Ω/□以下である請求項1~4のいずれかに記載の透明導電膜付き基材。
  6. 波長550nmにおける光の透過率が60%以上である請求項1~5のいずれかに記載の透明導電膜付き基材。
  7. 前記カーボンナノチューブ導電膜表面に粘着テープを貼り付け、該粘着テープを60°の角度で剥離した後の表面抵抗が、粘着テープ貼り付け前の表面抵抗の1.5倍以下である請求項1~6のいずれかに記載の透明導電膜付き基材。
  8. 少なくとも
    (1)透明な支持基材上に、メラミン樹脂を50重量%以上含む熱硬化性樹脂組成物を塗布して塗布膜を形成する工程、
    (2)前記熱硬化性樹脂組成物の塗布膜上に、水を50重量%以上含むカーボンナノチューブ分散液を塗布する工程、
    (3)前記熱硬化性樹脂組成物の熱硬化温度以上の温度で加熱処理する工程、
    をこの順に含む請求項1~7のいずれかに記載の透明導電膜付き基材の製造方法。
  9. 前記(1)の工程において形成される熱硬化性樹脂組成物の塗布膜表面の25℃における水の接触角が40度以下である請求項8記載の透明導電膜付き基材の製造方法。
  10. 請求項1~7のいずれかに記載の透明導電膜付き基材を有するタッチパネル。
  11. 2枚の透明導電膜付き基材が空間を介在して導電膜面を対向するように設置された抵抗膜式タッチパネルであって、少なくとも一方の透明導電膜付き基材が請求項1~7のいずれかに記載の透明導電膜付き基材である請求項10に記載のタッチパネル。
  12. 請求項1~7のいずれかに記載の透明導電膜付き基材および駆動回路を有し、静電容量式タッチパネルである請求項10記載のタッチパネル。
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