WO2008099789A1 - Mandrin électrostatique - Google Patents
Mandrin électrostatique Download PDFInfo
- Publication number
- WO2008099789A1 WO2008099789A1 PCT/JP2008/052199 JP2008052199W WO2008099789A1 WO 2008099789 A1 WO2008099789 A1 WO 2008099789A1 JP 2008052199 W JP2008052199 W JP 2008052199W WO 2008099789 A1 WO2008099789 A1 WO 2008099789A1
- Authority
- WO
- WIPO (PCT)
- Prior art keywords
- insulator
- electrostatic chuck
- substrate
- dielectric layer
- ventilation hole
- Prior art date
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/6831—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using electrostatic chucks
-
- H—ELECTRICITY
- H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
- H02N—ELECTRIC MACHINES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H02N13/00—Clutches or holding devices using electrostatic attraction, e.g. using Johnson-Rahbek effect
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Jigs For Machine Tools (AREA)
Abstract
L'invention concerne un mandrin électrostatique qui empêche une décharge anormale générée dans une couche diélectrique ou substrat et qui a une structure appropriée pour être réutilisé. Un mandrin électrostatique (1) comporte un substrat (2), une électrode d'aspiration (3) et une couche diélectrique (4). Des canaux de gaz de type anneau (21, 22) sont disposés sur le substrat (2) sous forme d'évidemments. Des éléments de support (5-1, 5-2) qui supportent un isolant (6) sont ajustés dans les canaux de gaz (21, 22). L'isolant (6) remplit l'intérieur d'une longue rainure (8) formée sur les éléments de support (5-1, 5-2). L'isolant (6) est composé d'une céramique poreuse, forme une bande de type anneau correspondant au canal de gaz (21, 22) dans son entier, et la largeur de la surface supérieure est réglée supérieure au diamètre d'un trou de ventilation (41) de la couche diélectrique (4). Une ouverture inférieure du trou de ventilation (41) vient en butée contre la surface supérieure de l'isolant (6), et le trou de ventilation (41) communique avec le canal de gaz (21, 22) à travers l'isolant (6). De préférence, une encoche (51) A est disposée sur l'élément de support (5-1, 5-2).
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008558079A JP5087561B2 (ja) | 2007-02-15 | 2008-02-08 | 静電チャック |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007-034359 | 2007-02-15 | ||
JP2007034359 | 2007-02-15 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
WO2008099789A1 true WO2008099789A1 (fr) | 2008-08-21 |
Family
ID=39690022
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PCT/JP2008/052199 WO2008099789A1 (fr) | 2007-02-15 | 2008-02-08 | Mandrin électrostatique |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5087561B2 (fr) |
WO (1) | WO2008099789A1 (fr) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010123712A (ja) * | 2008-11-19 | 2010-06-03 | Nihon Ceratec Co Ltd | 静電チャックおよびその製造方法 |
JP2013232641A (ja) * | 2012-04-27 | 2013-11-14 | Ngk Insulators Ltd | 半導体製造装置用部材 |
WO2014157571A1 (fr) * | 2013-03-29 | 2014-10-02 | Toto株式会社 | Mandrin électrostatique |
TWI553774B (zh) * | 2015-04-21 | 2016-10-11 | Toto Ltd | Electrostatic sucker and wafer handling device |
JP2018101773A (ja) * | 2016-12-16 | 2018-06-28 | 日本特殊陶業株式会社 | 保持装置 |
JP2018518060A (ja) * | 2015-05-01 | 2018-07-05 | コンポーネント リ−エンジニアリング カンパニー インコーポレイテッド | 半導体処理に使用される機器部品を修理する方法 |
CN112687602A (zh) * | 2019-10-18 | 2021-04-20 | 中微半导体设备(上海)股份有限公司 | 一种静电吸盘及其制造方法、等离子体处理装置 |
CN113752094A (zh) * | 2021-08-25 | 2021-12-07 | 杭州大和江东新材料科技有限公司 | 一种半导体绝缘环加工方法 |
US11222804B2 (en) | 2015-11-02 | 2022-01-11 | Watlow Electric Manufacturing Company | Electrostatic chuck for clamping in high temperature semiconductor processing and method of making same |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06182645A (ja) * | 1992-12-17 | 1994-07-05 | Tokyo Electron Ltd | 静電チャック |
JPH06244119A (ja) * | 1993-02-20 | 1994-09-02 | Tokyo Electron Ltd | プラズマ処理装置 |
JPH1131680A (ja) * | 1997-07-10 | 1999-02-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 基板のドライエッチング装置 |
JPH11238596A (ja) * | 1998-02-23 | 1999-08-31 | Matsushita Electron Corp | プラズマ処理装置 |
JPH11330215A (ja) * | 1998-05-20 | 1999-11-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 基板温度制御方法及び装置 |
WO2003046969A1 (fr) * | 2001-11-30 | 2003-06-05 | Tokyo Electron Limited | Dispositif de traitement et organe suppresseur de decharge gazeuse |
JP2003338492A (ja) * | 2002-05-21 | 2003-11-28 | Tokyo Electron Ltd | プラズマ処理装置 |
JP2006344766A (ja) * | 2005-06-09 | 2006-12-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | プラズマ処理装置 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5720818A (en) * | 1996-04-26 | 1998-02-24 | Applied Materials, Inc. | Conduits for flow of heat transfer fluid to the surface of an electrostatic chuck |
JP2004006505A (ja) * | 2002-05-31 | 2004-01-08 | Ngk Spark Plug Co Ltd | 静電チャック |
JP4413667B2 (ja) * | 2004-03-19 | 2010-02-10 | 日本特殊陶業株式会社 | 静電チャック |
-
2008
- 2008-02-08 WO PCT/JP2008/052199 patent/WO2008099789A1/fr active Application Filing
- 2008-02-08 JP JP2008558079A patent/JP5087561B2/ja active Active
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06182645A (ja) * | 1992-12-17 | 1994-07-05 | Tokyo Electron Ltd | 静電チャック |
JPH06244119A (ja) * | 1993-02-20 | 1994-09-02 | Tokyo Electron Ltd | プラズマ処理装置 |
JPH1131680A (ja) * | 1997-07-10 | 1999-02-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 基板のドライエッチング装置 |
JPH11238596A (ja) * | 1998-02-23 | 1999-08-31 | Matsushita Electron Corp | プラズマ処理装置 |
JPH11330215A (ja) * | 1998-05-20 | 1999-11-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 基板温度制御方法及び装置 |
WO2003046969A1 (fr) * | 2001-11-30 | 2003-06-05 | Tokyo Electron Limited | Dispositif de traitement et organe suppresseur de decharge gazeuse |
JP2003338492A (ja) * | 2002-05-21 | 2003-11-28 | Tokyo Electron Ltd | プラズマ処理装置 |
JP2006344766A (ja) * | 2005-06-09 | 2006-12-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | プラズマ処理装置 |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010123712A (ja) * | 2008-11-19 | 2010-06-03 | Nihon Ceratec Co Ltd | 静電チャックおよびその製造方法 |
JP2013232641A (ja) * | 2012-04-27 | 2013-11-14 | Ngk Insulators Ltd | 半導体製造装置用部材 |
WO2014157571A1 (fr) * | 2013-03-29 | 2014-10-02 | Toto株式会社 | Mandrin électrostatique |
JP2014209615A (ja) * | 2013-03-29 | 2014-11-06 | Toto株式会社 | 静電チャック |
US9960067B2 (en) | 2013-03-29 | 2018-05-01 | Toto Ltd. | Electrostatic chuck |
TWI553774B (zh) * | 2015-04-21 | 2016-10-11 | Toto Ltd | Electrostatic sucker and wafer handling device |
JP2018518060A (ja) * | 2015-05-01 | 2018-07-05 | コンポーネント リ−エンジニアリング カンパニー インコーポレイテッド | 半導体処理に使用される機器部品を修理する方法 |
US11222804B2 (en) | 2015-11-02 | 2022-01-11 | Watlow Electric Manufacturing Company | Electrostatic chuck for clamping in high temperature semiconductor processing and method of making same |
JP2018101773A (ja) * | 2016-12-16 | 2018-06-28 | 日本特殊陶業株式会社 | 保持装置 |
CN112687602A (zh) * | 2019-10-18 | 2021-04-20 | 中微半导体设备(上海)股份有限公司 | 一种静电吸盘及其制造方法、等离子体处理装置 |
CN113752094A (zh) * | 2021-08-25 | 2021-12-07 | 杭州大和江东新材料科技有限公司 | 一种半导体绝缘环加工方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPWO2008099789A1 (ja) | 2010-05-27 |
JP5087561B2 (ja) | 2012-12-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
WO2008099789A1 (fr) | Mandrin électrostatique | |
EP2408030A3 (fr) | Configuration des éléctrodes pour un dispositif électroluminescent | |
TW200737414A (en) | Carbon nanotube field emitting display | |
WO2009003613A8 (fr) | Dispositif pour le traitement de surfaces à l'aide d'un plasma généré au moyen d'une électrode par une décharge de gaz à barrière diélectrique par le biais d'un diélectrique solide | |
WO2004049471A3 (fr) | Separateur a structure poreuse asymetrique pour une cellule electrochimique | |
WO2009155546A8 (fr) | Cellule électrolytique présentant des électrodes munies d'ouvertures de diverses tailles et formes | |
WO2012018368A3 (fr) | Prévention de la formation d'un plasma parasite dans les chambres de traitement au plasma | |
BRPI0509091A (pt) | detector de fotoionização | |
WO2007013880A3 (fr) | Cellules electrochimiques | |
WO2004059765A3 (fr) | Substrat permeable aux gaz et pile a combustible a oxyde solide dote d'un tel substrat | |
WO2005122303A3 (fr) | Ensemble membrane-electrodes pour pile a combustible en forme de tube et pile a combustible en forme de tube | |
WO2009045082A3 (fr) | Dispositif électroluminescent et son procédé de fabrication | |
WO2006111847A3 (fr) | Piles a combustible et separateurs de pile a combustible | |
WO2007087285A3 (fr) | Dispositifs et réseaux microplasma adressables à électrodes enterrées dans de la céramique | |
TW200634927A (en) | Method of manufacturing semiconductor device | |
GB2425397B (en) | An assembly for maintaining compression for electrical contact of the active area of an electrochemical cell | |
TW200503064A (en) | Method for manufacturing semiconductor package | |
WO2007102026A3 (fr) | Électrodes d'une pile à combustible | |
AU2003291873A1 (en) | Gas diffusion layer for an electrochemical cell | |
WO2010077874A3 (fr) | Supports de canaux de gaz d'électrode et procédés pour la formation de canaux internes | |
TW200708208A (en) | Low temperature plasma discharging device and the applying method therof | |
AU2003241764A1 (en) | Fuel reformer and method of manufacturing the fuel reformer, electrode for electrochemical device, and electrochemical device | |
WO2007138348A3 (fr) | Électrode | |
WO2003061039A3 (fr) | Pile a combustible et procede associe | |
TW200643569A (en) | Flat fluorescent lamp and backlight unit having the same |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
121 | Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application |
Ref document number: 08711078 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |
|
WWE | Wipo information: entry into national phase |
Ref document number: 2008558079 Country of ref document: JP |
|
NENP | Non-entry into the national phase |
Ref country code: DE |
|
122 | Ep: pct application non-entry in european phase |
Ref document number: 08711078 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |