WO2008087096A1 - Reinigungsvorrichtung für eine vorzugsweise ebene fläche, insbesondere ein fenster - Google Patents

Reinigungsvorrichtung für eine vorzugsweise ebene fläche, insbesondere ein fenster Download PDF

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WO2008087096A1
WO2008087096A1 PCT/EP2008/050267 EP2008050267W WO2008087096A1 WO 2008087096 A1 WO2008087096 A1 WO 2008087096A1 EP 2008050267 W EP2008050267 W EP 2008050267W WO 2008087096 A1 WO2008087096 A1 WO 2008087096A1
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cleaned
housing
skirt
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Inventor
Joachim Damrath
Martin Huettner
Gerhard Wetzl
Original Assignee
BSH Bosch und Siemens Hausgeräte GmbH
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    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A47—FURNITURE; DOMESTIC ARTICLES OR APPLIANCES; COFFEE MILLS; SPICE MILLS; SUCTION CLEANERS IN GENERAL
    • A47L—DOMESTIC WASHING OR CLEANING; SUCTION CLEANERS IN GENERAL
    • A47L1/00—Cleaning windows
    • A47L1/02—Power-driven machines or devices

Definitions

  • the invention relates to a cleaning device for a preferably flat surface, in particular for a window, with a cleaning device and the plastering device in abutment with the surface to be cleaned holding bell-shaped housing which also bears with an open side of the surface to be cleaned edge, also with a Suction device for generating a negative pressure in the housing.
  • a cleaning device to be used in principle for cleaning flat glass surfaces is described in DE 100 65 405 A1 and has a cleaning element which is occupied by a cleaning medium designed, for example, as a cleaning cloth and is displaced by an eccentric drive into a vibration movement parallel to the surface to be cleaned ,
  • the cleaning device provides a device for generating negative pressure, so that the cleaning device along with substantially constant contact pressure on the surface to be cleaned can be performed.
  • EP 1 237 456 B1 describes a safety device in which monitors the distance of the cleaning device of the surface to be cleaned is, if necessary, to activate a holding device that prevents a crash of the cleaning device.
  • WO 2005/093536 A1 describes a surface treatment system in which a fixed base part is provided for navigation of the cleaning device, which by means of light and sound signals, a position determination provided with corresponding receiving units Cleaning device allows.
  • a similar device is described in the patent application WO 2005/093537 A1, where the area to be cleaned is subdivided into signal-codeable surface sections.
  • a cleaning device of the type mentioned is also known from the
  • the holding principle used there of the cleaning device on the usually vertically oriented surfaces based on a differential pressure formation over which the required holding force for the cleaning device is generated on the surface.
  • this requires a sensitive and rapid control of the suction device in order to prevent tearing off of the air flow through the suction device on the one hand and to avoid loosening of the cleaning device from the surface to be cleaned on the other hand.
  • the invention has for its object to improve a cleaning device of the type mentioned in that the self-adjusting negative pressure in the bell-shaped housing and thus the adhesion of the cleaning device to the surface to be cleaned to a lesser extent than hitherto in particular the properties of the surface and others Force effects on the cleaning device is dependent.
  • a circumferential flexible skirt is arranged, which seals the gap between the edge of the housing and the surface to be cleaned and is designed so that a small, the air flow through the suction device is ensured upright remaining flow, wherein the skirt consists of a material with a low coefficient of friction with respect to the surface to be cleaned.
  • An advantage achieved by the invention consists first of all in the fact that the apron arranged at the edge of the housing ensures a good seal by its surface contact with the surface to be cleaned, while at the same time being ensured by the corresponding design of this apron that a largely exactly defined residual flow is maintained by the suction device, so that a largely constant holding force is ensured, regardless of external influences and influences of the surface of the surface to be cleaned, without the need for a fast and complex control mechanism for the suction device.
  • the low coefficient of friction of the skirt with respect to the surface to be cleaned also ensures that the cleaning device can nevertheless be moved without much effort on the surface.
  • the coefficient of friction of the skirt to lie between 0.05 and 0.2 relative to the surface to be cleaned.
  • the apron As a particularly suitable material that meets the requirements imposed on the apron, polytetrafluoroethylene has been found.
  • the apron also consist of polytetrafluoroethylene impregnated glass fabric, which in particular the wear resistance the apron increases.
  • the skirt is advantageously formed by the surface to be cleaned flat adjacent edge strips, the width of these strips can be selected depending in particular depending on the desired negative pressure and the rigidity of the material.
  • the skirt is provided with incisions for the entry of the residual flow.
  • Such an incision can be a simple incision or even a slightly wider gap, wherein, moreover, the depth of the incision measured from the free edge of the skirt can be selected according to the requirements.
  • the housing has a rectangular cross-section, it is advisable to provide the cuts in the corners of the housing.
  • FIG. 1 is a schematic representation of a cleaning device in perspective
  • FIG. 1 A view of the article of FIG. 1 from the bottom.
  • the cleaning device shown in the drawing is provided for a preferably flat surface, in particular for a window glass, and provided with a cleaning device 1 and with a cleaning device 1 holding the surface to be cleaned holding bell-shaped housing 2.
  • the housing 2 also lies with its open side of the surface to be cleaned at the edge.
  • a suction device 3 is provided for generating a negative pressure in the housing 2, whereby the cleaning device is sucked to the surface to be cleaned and held there with the resultant force.
  • the holding force is adjusted so that on the one hand, the cleaning device is not on the other hand, the holding force is not too large to be able to move the cleaning device over the flat surface during cleaning can inadvertently from the surface to be cleaned. Decisive for this is therefore therefore a particular of external conditions and the surface of the surface to be cleaned independent pressure force, ie a constant as possible negative pressure.
  • a circumferential flexible skirt 4 is arranged on the edge of the housing 2, which seals the gap between the edge of the housing 2 and the surface to be cleaned.
  • the skirt 4 is further designed so that a low residual flow is ensured, so that the air flow through the suction device 3 does not depart.
  • the skirt 4 is made of a material with a low coefficient of friction relative to the surface to be cleaned. For this purpose, a coefficient of friction in the order of 0.05 to 0.2 has proven to be particularly suitable.
  • polytetrafluoroethylene As a material that satisfies particularly well both in terms of a low coefficient of friction and other claims required in this context, polytetrafluoroethylene is provided. It is also possible to form the skirt 4 made of polytetrafluoroethylene impregnated glass fabric, whereby the skirt withstands even greater mechanical stresses.
  • the skirt 4 is formed by the surface to be cleaned flat-fitting edge strips.
  • the skirt is provided with notches 5, which are provided in the rectangular housing 2 shown in the drawing in the region of the corners.
  • the housing 2 may be provided with inlet openings 6 for the entry of the residual flow, wherein - not shown in detail - these inlet openings 6 may be adjustable to make a regulation of the residual flow can ,

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  • Cleaning In General (AREA)

Abstract

Die Reinigungsvorrichtung ist vorgesehen für eine vorzugsweise ebene Fläche, insbesondere für ein Fenster. Sie ist mit einer Putzeinrichtung sowie einem die Putzeinrichtung in Anlage an der zu reinigenden Fläche haltenden glockenförmigen Gehäuse (2) versehen, das mit seiner offenen Seite ebenfalls der zu reinigenden Fläche randseitig anliegt. Ferner weist die Reinigungsvorrichtung eine Saugeinrichtung (3) zur Erzeugung eines Unterdrucks in dem Gehäuse (2) auf. Am Rand des Gehäuses (2) ist eine umlaufende flexible Schürze (4) angeordnet, die den Spalt zwischen dem Rand des Gehäuses (2) und der zu reinigenden Fläche abdichtet und dabei so ausgebildet ist, dass eine geringe, die Luftströmung durch die Saugeinrichtung (3) aufrecht erhaltende Restströmung gewährleistet ist. Die Schürze (4) besteht dabei aus einem Material mit geringem Reibungskoeffizient gegenüber der zu reinigenden Fläche.

Description

Reinigungsvorrichtung für eine vorzugsweise ebene Fläche, insbesondere ein Fenster
Die Erfindung betrifft eine Reinigungsvorrichtung für eine vorzugsweise ebene Fläche, insbesondere für ein Fenster, mit einer Putzeinrichtung sowie einem die Putzeinrichtung in Anlage an der zu reinigenden Fläche haltenden glockenförmigen Gehäuse, das mit einer offenen Seite ebenfalls der zu reinigenden Fläche randseitig anliegt, ferner mit einer Saugeinrichtung zur Erzeugung eines Unterdrucks in dem Gehäuse.
Eine grundsätzlich zur Reinigung von ebenen Glasflächen einzusetzende Reinigungsvorrichtung ist in der DE 100 65 405 A1 beschrieben und weist ein Reinigungselement auf, das mit einem beispielsweise als Reinigungstuch ausgebildeten Reinigungsmedium belegt ist und durch einen Exzenter-Antrieb in eine zur zu reinigenden Fläche parallele Vibrationsbewegung versetzt wird.
Damit eine solche Reinigungsvorrichtung selbsttätig in Anlage an der zu reinigenden Fläche gehalten werden kann, sieht die Reinigungsvorrichtung nach der Patentanmeldung WO 01/80703 A1 eine Einrichtung zum Erzeugen von Unterdruck vor, so dass die Reinigungsvorrichtung mit im wesentlichen konstantem Anpressdruck an der zu reinigenden Fläche entlang geführt werden kann. Um hierbei sicher zu stellen, dass sich bei einer Betriebsstörung oder dergleichen die Reinigungsvorrichtung nicht von der zu reinigenden Fläche lösen und damit Schäden verursachen kann, beschreibt die EP 1 237 456 B1 eine Sicherheitseinrichtung, bei welcher der Abstand der Reinigungsvorrichtung von der zu reinigenden Fläche überwacht wird, um gegebenenfalls eine Halteeinrichtung zu aktivieren, die ein Abstürzen der Reinigungsvorrichtung verhindert.
Da eine autonom arbeitende Reinigungsvorrichtung gezielt an der zu reinigenden Fläche geführt werden muss, beschreibt die WO 2005/093536 A1 ein Flächenbearbeitungssystem, bei welchem zur Navigation der Reinigungsvorrichtung ein feststehendes Basisteil vorgesehen ist, das mittels Licht- und Schallsignalen eine Positionsbestimmung der mit entsprechenden Empfangseinheiten versehenen Reinigungsvorrichtung ermöglicht. Eine ähnliche Einrichtung ist in der Patentanmeldung WO 2005/093537 A1 beschrieben, wobei dort die zu reinigende Fläche in signalmäßig kodierbare Flächenabschnitte unterteilt wird.
Eine Reinigungsvorrichtung der eingangs genannten Art ist auch bekannt aus der
DE 100 20 503 A1. Das dort angewandte Halteprinzip der Reinigungsvorrichtung an den üblicherweise vertikal ausgerichteten Flächen beruht auf einer Differenzdruckbildung, über die die benötigte Haltekraft für die Reinigungsvorrichtung an der Fläche erzeugt wird. Üblicherweise macht dies eine empfindliche und schnelle Regelung der Saugeinrichtung erforderlich, um einerseits ein Abreißen der Luftströmung durch die Saugeinrichtung zu verhindern und andererseits ein Lösen der Reinigungsvorrichtung von der zu reinigenden Fläche zu vermeiden.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Reinigungsvorrichtung der eingangs genannten Art dahingehend zu verbessern, dass der sich einstellende Unterdruck in dem glockenförmigen Gehäuse und damit die Haftfähigkeit der Reinigungsvorrichtung an der zu reinigenden Fläche in geringerem Umfang als bisher von insbesondere den Eigenschaften der Oberfläche sowie anderen Krafteinwirkungen auf die Reinigungsvorrichtung abhängig ist.
Diese Aufgabe wird nach der Erfindung dadurch gelöst, dass am Rand des Gehäuses eine umlaufende flexible Schürze angeordnet ist, die den Spalt zwischen dem Rand des Gehäuses und der zu reinigenden Fläche abdichtet und dabei so ausgebildet ist, dass eine geringe, die Luftströmung durch die Saugeinrichtung aufrecht erhaltende Restströmung gewährleistet ist, wobei die Schürze aus einem Material mit geringem Reibungskoeffizient gegenüber der zu reinigenden Fläche besteht.
Ein durch die Erfindung erreichter Vorteil besteht zunächst darin, dass die am Rand des Gehäuses angeordnete Schürze durch ihre flächige Anlage an der zu reinigenden Fläche für eine gute Abdichtung sorgt, während gleichzeitig durch die entsprechende Ausbildung dieser Schürze sichergestellt ist, dass eine weitgehend genau festgelegte Restströmung durch die Saugeinrichtung erhalten bleibt, so dass unabhängig von äußeren Einwirkungen und Einflüssen der Oberfläche der zu reinigenden Fläche eine weitestgehend konstante Haltekraft sichergestellt ist, ohne dass es eines schnellen und aufwändigen Regelmechanismus für die Saugeinrichtung bedarf. Der geringe Reibungskoeffizient der Schürze gegenüber der zu reinigenden Fläche stellt darüber hinaus sicher, dass die Reinigungsvorrichtung gleichwohl ohne großen Kraftaufwand an der Fläche verfahren werden kann.
Um dies sicher zu stellen, ist im Rahmen der Erfindung bevorzugt, dass der Reibungskoeffizient der Schürze gegenüber der zu reinigenden Fläche zwischen 0,05 und 0,2 liegt.
Als besonders geeignetes Material, das die gestellten Anforderungen an die Schürze erfüllt, hat sich Polytetrafluorethylen herausgestellt. Alternativ kann die Schürze jedoch auch aus mit Polytetrafluorethylen getränktem Glasgewebe bestehen, was insbesondere die Verschleißfestigkeit der Schürze erhöht.
Die Schürze ist vorteilhafterweise von der zu reinigenden Fläche flach anliegenden Randstreifen gebildet, wobei die Breite dieser Streifen insbesondere in Abhängigkeit von dem gewünschten Unterdruck sowie der Steifigkeit des Materials abhängig gewählt werden kann.
Weiter wird im Rahmen der Erfindung bevorzugt, dass die Schürze mit Einschnitten für den Eintritt der Restströmung versehen ist. Bei einem solchen Einschnitt kann es sich um einen einfachen Einschnitt oder auch um einen etwas breiter angelegten Spalt handeln, wobei darüber hinaus auch die vom freien Rand der Schürze ausgemessene Tiefe des Einschnitts entsprechend den Anforderungen gewählt werden kann.
Insbesondere dann, wenn das Gehäuse rechteckigen Querschnitt hat, empfiehlt es sich, die Einschnitte im Bereich der Ecken des Gehäuses vorzusehen.
Im Übrigen ist es jedoch auch möglich, gegebenenfalls zusätzlich das Gehäuse mit Einlassöffnungen für den Eintritt der Restströmung zu versehen, wobei darüber hinaus auch vorgesehen sein kann, den Luftdurchtritt durch die Einlassöffnungen einstellbar zu machen.
Im Folgenden wird die Erfindung an einem in der Zeichnung dargestellten Ausführungsbeispiel näher erläutert; es zeigen:
Fig.1 eine Prinzipdarstellung einer Reinigungsvorrichtung in perspektivischer Darstellung, und
Fig.2 eine Ansicht des Gegenstandes nach Fig. 1 von der Unterseite.
Die in der Zeichnung dargestellte Reinigungsvorrichtung ist vorgesehen für eine vorzugsweise ebene Fläche, insbesondere für ein Fensterglas, und dazu mit einer Putzeinrichtung 1 sowie mit einem die Putzeinrichtung 1 in Anlage an der zu reinigenden Fläche haltenden glockenförmigen Gehäuse 2 versehen. Das Gehäuse 2 liegt mit seiner offenen Seite ebenfalls der zu reinigenden Fläche randseitig an. Im Gehäuse 2 ist eine Saugeinrichtung 3 zur Erzeugung eines Unterdruckes in dem Gehäuse 2 vorgesehen, wodurch die Reinigungsvorrichtung an die zu reinigende Fläche angesaugt und dort mit der hieraus resultierenden Kraft gehalten wird.
Die Haltekraft ist dabei so abgestimmt, dass einerseits die Reinigungsvorrichtung sich nicht unbeabsichtigt von der zu reinigenden Fläche lösen kann, andererseits ist die Haltekraft nicht zu groß, um die Reinigungsvorrichtung während der Reinigung über die ebene Fläche verfahren zu können. Entscheidend hierfür ist daher also eine insbesondere von äußeren Bedingungen sowie der Oberfläche der zu reinigenden Fläche unabhängige Andruckkraft, also ein möglichst konstanter Unterdruck.
Um dies zu gewährleisten, ist am Rand des Gehäuses 2 eine umlaufende flexible Schürze 4 angeordnet, die den Spalt zwischen dem Rand des Gehäuses 2 und der zu reinigenden Fläche abdichtet. Die Schürze 4 ist dabei weiter so ausgebildet, dass eine geringe Restströmung gewährleistet ist, so dass die Luftströmung durch die Saugeinrichtung 3 nicht abreist. Um weiterhin die Reinigungseinrichtung ohne großen Kraftaufwand an der Fläche verfahren zu können, besteht die Schürze 4 aus einem Material mit geringem Reibungskoeffizienten gegenüber der zu reinigenden Fläche. Hierfür hat sich ein Reibungskoeffizient in der Größenordung zwischen 0,05 und 0,2 als besonders geeignet erwiesen.
Als Material, das sowohl hinsichtlich eines niedrigen Reibungsbeiwertes als auch anderer in diesem Zusammenhang geforderter Ansprüche besonders gut genügt, ist Polytetrafluorethylen vorgesehen. Dabei besteht auch die Möglichkeit, die Schürze 4 aus mit Polytetrafluorethylen getränktem Glasgewebe auszubilden, wodurch die Schürze noch stärkeren mechanischen Beanspruchungen standhält.
Wie sich der Zeichnung im Einzelnen entnehmen lässt, ist die Schürze 4 von der zu reinigenden Fläche flach anliegenden Randstreifen gebildet. Um den Eintritt der Restströmung zu ermöglichen, ist die Schürze mit Einschnitten 5 versehen, wobei diese bei dem in der Zeichnung dargestellten rechteckigen Gehäuse 2 im Bereich der Ecken vorgesehen sind.
Zusätzlich kann, wie dies aus der Fig. 1 hervorgeht, das Gehäuse 2 mit Einlassöffnungen 6 für den Eintritt der Restströmung versehen sein, wobei - in nicht näher dargestellter Weise - diese Einlassöffnungen 6 verstellbar ausgebildet sein können, um eine Regelung der Restströmung vornehmen zu können.

Claims

Patentansprüche
1. Reinigungsvorrichtung für eine vorzugsweise ebene Fläche, insbesondere für ein Fenster, mit einer Putzeinrichtung sowie einem die Putzeinrichtung in Anlage an der zu reinigenden Fläche haltenden glockenförmigen Gehäuse (2), das mit einer offenen Seite ebenfalls der zu reinigenden Fläche randseitig anliegt, ferner mit einer Saugeinrichtung (3) zur Erzeugung eines Unterdrucks in dem Gehäuse (2), dadurch gekennzeichnet, dass am Rand des Gehäuses (2) eine umlaufende flexible Schürze (4) angeordnet ist, die den Spalt zwischen dem Rand des Gehäuses (2) und der zu reinigenden Fläche abdichtet und dabei so ausgebildet ist, dass eine geringe, die Luftströmung durch die Saugeinrichtung (3) aufrecht erhaltende Restströmung gewährleistet ist, wobei die Schürze (4) aus einem Material mit geringem Reibungskoeffizient gegenüber der zu reinigenden Fläche besteht.
2. Reinigungsvorrichtung nach Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, dass der Reibungskoeffizient der Schürze (4) gegenüber der zu reinigenden Fläche zwischen 0,05 und 0,2 liegt.
3. Reinigungsvorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Schürze (4) aus Polytetrafluorethylen besteht.
4. Reinigungsvorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Schürze (4) aus mit Polytetrafluorethylen getränktem Glasgewebe besteht.
5. Reinigungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Schürze (4) von der zu reinigenden Fläche flach anliegenden Randstreifen gebildet ist.
6. Reinigungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Schürze (4) mit Einschnitten (5) für den Eintritt der Restströmung versehen ist.
7. Reinigungsvorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Einschnitte (5) im Bereich der Ecken des Gehäuses (2) vorgesehen sind.
8. Reinigungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass das Gehäuse (2) mit Einlassöffnungen (6) für den Eintritt der Restströmung versehen ist.
PCT/EP2008/050267 2007-01-19 2008-01-11 Reinigungsvorrichtung für eine vorzugsweise ebene fläche, insbesondere ein fenster WO2008087096A1 (de)

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