WO2008010339A1

WO2008010339A1 - Scintillator panel and radiation detector

Info

Publication number: WO2008010339A1
Application number: PCT/JP2007/059099
Authority: WO
Inventors: Shunsuke Wakamatsu
Original assignee: Toshiba Corp; Toshiba Electron Tubes and Devices Co Ltd
Current assignee: Toshiba Corp; Canon Electron Tubes and Devices Co Ltd
Priority date: 2006-07-18
Filing date: 2007-04-26
Publication date: 2008-01-24
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Description

明細書

シンチレ一タパネルおよび放射線検出器

技術分野

[0001] 本発明は、放射線を可視光に変換するシンチレ一タパネル、およびこのシンチレ一タパネルを用いた放射線検出器に関する。背景技術

[0002] 新世代の X線診断用検出器として、アクティブマトリクスを用いた平面検出器が開発されている。この平面検出器において、照射された X線を検出することにより、 X線撮影像、あるいはリアルタイムの X線画像がデジタル信号として出力される。そして、この平面検出器では、 X線をシンチレータ層により可視光すなわち蛍光に変換させ、この蛍光をアモルファスシリコン（a— Si)フォトダイオード、あるいは CCD (Charge Coup led Device)などの光電変換素子で信号電荷に変換することで画像を取得して、る。

[0003] シンチレータ層は、材料として、一般的にヨウ化セシウム（Csl)：ナトリウム（Na)、ョゥ化セシウム (Csl)：タリウム (T1)、ヨウ化ナトリウム (Nal)、あるいは酸硫ィ匕ガドリ-ゥム（Gd O S)などが用いられている。ダイシングなどによりシンチレータ層に溝を形成

2 2

したり、柱状構造が形成されるように材料を堆積してシンチレ一タ層を形成したりすることで、解像度特性を向上させることができる。

[0004] 例えば、特開 2000— 356679号公報 (第 3— 4頁、図 1)に開示された放射線検出器が知られている。この放射線検出器の構成について述べる。ガラスやアモルファスカーボンなどの支持基板上に反射性金属薄膜が設けられている。さらにこの反射性金属薄膜の全体を覆うよう保護膜が設けられている。この保護膜上にシンチレータ層が設けられている。このシンチレ一タ層を覆うよう有機膜が設けられている。上記支持基板、反射性金属薄膜、保護膜、シンチレータ層および有機膜を有したシンチレ一タパネルに光電変換素子を組み合わせて放射線検出器が構成されている。

[0005] また、特開 2005— 283483号公報（第 4 6頁、図 1)に開示された X線検出器が知られている。この X線検出器の構成について述べる。光電変換素子の表面に柱状構造のシンチレータ層が設けられている。このシンチレータ層の表面上に保護膜が設けられている。この保護膜にはシンチレータ層により変換した蛍光を反射させる光反射部材粒子が分散されている。 X線検出器は、上記光電変換素子、シンチレータ層および保護膜等を有して構成されて!、る。

発明の開示

[0006] 上記したように、特開 2000— 356679号公報のような放射線検出器では、反射性金属薄膜とシンチレータ層との間に保護膜が形成されている。これにより、シンチレータ層の影響による反射性金属薄膜の変質を防止でき、反射性金属薄膜の反射膜としての機能の劣化を防止することができる。しかしながら、保護膜に入射した可視光が散乱して、解像度特性に劣化が生じる問題点を有している。

[0007] また、特開 2005— 283483号公報のような放射線検出器では、シンチレータ層の表面上に光反射部材粒子を分散させた保護膜が設けられている。これにより、保護膜による解像度特性の劣化の防止を図っている。し力しながら、シンチレータ層の表面は平面状ではなく凹凸状であり、さらに保護膜がシンチレータ層の柱状構造間に入り込んでいる。このため、保護膜に入射した可視光が散乱しやすぐその結果、解像度特性に劣化が生じる問題点を有している。

[0008] 本発明は、このような点に鑑みなされたもので、解像度特性を向上させたシンチレ一タパネルおよびこのシンチレ一タパネルを用いた放射線検出器を提供することを目的とする。

[0009] 上記課題を解決するため、本発明の態様に係るシンチレ一タパネルは、

放射線を透過する支持基板と、

前記支持基板上に平面状に設けられ、可視光を反射させる光反射材粒子が分散されてヽる光反射材分散膜と、

前記光反射材分散膜上に設けられ、入射される放射線を可視光に変換するシンチレータ層と、

を具備したことを特徴として!/、る。

[0010] また、本発明の他の態様に係る放射線検出器は、

放射線を透過する支持基板と、前記支持基板上に平面状に設けられ、可視光を反射させる光反射材粒子が分散されて!、る光反射材分散膜と、前記光反射材分散膜上に設けられ、入射される放射線を可視光に変換するシンチレータ層と、を具備したシンチレ一タパネルと、

前記シンチレ一タパネルの支持基板と反対側の表面に設けられ、前記シンチレ一タ層により変換された可視光を電気信号に変換する光電変換素子と、

を備えたことを特徴として！/ヽる。

図面の簡単な説明

[0011] [図 1]図 1は、本発明の第 1の実施の形態を示す放射線検出器の断面図である。

[図 2]図 2は、上記放射線検出器における光反射材分散膜の膜厚と解像度特性との関係を示すグラフである。

[図 3]図 3は、上記放射線検出器におけるシンチレータ層の材料および光反射材分散膜の材料の屈折率を示す表である。

[図 4]図 4は、上記放射線検出器における T X F /Dと反射率との関係を示すグラフである。

[図 5]図 5は、本発明の第 2の実施の形態を示す放射線検出器の断面図である。

[図 6]図 6は、比較例の断面図である。

[図 7]図 7は、実施例 2の断面図である。

[図 8]図 8は、実施例 3の断面図である。

[図 9]図 9は、実施例 4の断面図である。

[図 10]図 10は、比較例および各実施例の輝度と CTFとを示す表である。

発明を実施するための最良の形態

[0012] 以下、本発明の実施の形態を図面を参照して説明する。

[0013] 図 1ないし図 4に第 1の実施の形態を示す。

[0014] 図 1に示すように、放射線検出器 11は、シンチレ一タパネル 12と光電変換素子 13とを備えている。

[0015] シンチレ一タパネル 12は、放射線が透過する例えば炭素繊維を榭脂で硬化して形成された支持基板 16を有し、この支持基板 16の表面に光反射材分散膜 17が平面状に形成されている。この光反射材分散膜 17は、例えばパラキシリレン等の有機材料で形成されている。この光反射材分散膜 17には、無機物である光反射材粒子 18が分散されている。したがって、この光反射材分散膜 17は光反射膜としての機能も有している。

[0016] 光反射材分散膜 17の平面状の表面には、入射する放射線を可視光に変換するシンチレータ層 19が形成されている。このシンチレータ層 19は柱状構造を有し、柱状構造間に複数の溝部 20が形成されている。光反射材分散膜 17は、シンチレータ層 19の柱状構造間から外れて設けられてヽる。

[0017] 例えばヨウ化セシウム（Csl)：タリウム (T1)、あるいはヨウ化ナトリウム（Nal)：タリウム

(T1)により真空蒸着法でシンチレータ層 19に柱状構造が形成されている。あるいは、混合材を光反射材分散膜 17上に塗布して焼成および硬化し、ダイサによりダイシングするなど、各種方法を用いることにより、シンチレータ層 19に柱状構造が形成されている。なお、混合材は、酸硫ィ匕ガドリニウム (Gd O S)蛍光体粒子をバインダ榭脂

2 2

と混合してなる。溝部 20には乾燥窒素が封入されている。なお、乾燥窒素の他に、溝部 20に乾燥大気が封入されても良ぐまた、溝部 20を真空状態にすることも可能である。

[0018] 光反射材粒子 18は、例えば二酸化チタン (TiO )などの、低 X線吸収率を有する物

2

質である。光反射材粒子 18の屈折率を n、シンチレータ層 19の屈折率を nとしたとき r s

、第 1式として n >nの関係を有している。さらに、光反射材分散膜 17の膜厚を T、光反射材粒子 18の体積充填密度を F、平均粒径を Dとしたとき、第 2式として T, F Z D > 10の関係を有している。

[0019] 支持基板 16、光反射材分散膜 17およびシンチレータ層 19を含むシンチレータパネル 12全体を覆って有機膜としての防湿有機膜 21が形成されている。この防湿有機膜 21はシンチレータ層 19を防湿するもので、例えばパラキシリレン薄膜等の防湿性に優れた有機膜であるとともに、シンチレータ層 19により変換された可視光を透過する特性を有している。この防湿有機膜 21は、シンチレータ層 19の溝部 20に浸透していない構造となっている。すなわち、防湿有機膜 21は、シンチレータ層 19の柱状構造から外れて設けられている。

[0020] また、光電変換素子 13は、 TFTアレイ基板 25を備えて、る。 TFTアレイ基板 25には、フォトダイオードを有する複数の画素 24がマトリクス状に形成されている。この光電変換素子 13の画素が形成された側の表面は、シンチレ一タパネル 12のシンチレータ層 19側の表面側に貼り合わされている。ここで、シンチレータ層 19側の表面は、シンチレ一タパネル 12の支持基板 16と反対側の表面でもある。そして、この光電変換素子 13において、シンチレ一タパネル 12により変換された可視光は、各画素 24のフォトダイオードで電気信号に変換される。

[0021] 次に、第 1の実施形態の作用を説明する。

[0022] シンチレータ層 19を有する放射線検出器 11の解像度特性は、シンチレータ層 19の解像度特性（CTF : Contrast Transfer Functionゝ MTF： Modulation Transfer Functio n)に依存する。

[0023] 光電変換素子 13に達するまでの、シンチレータ層 19により変換された可視光 (蛍光 )の解像度特性を δ、シンチレータ層 19の解像度特性を δ 、光反射材分散膜 17に

s

おける蛍光の拡散による解像度特性を δ とする。すると、第 3式として δ = δ X δ

b s b が成立つ。すなわち、光電変換素子 13に達する可視光の解像度は、シンチレータ層 19の解像度特性に光反射材分散膜 17の解像度特性を乗算して求められる。

[0024] 図 2に示す光反射材分散膜の解像度特性を示すように、例えば、光反射材分散膜の膜厚 tが従来の最小膜厚である場合、すなわち t= 50 mとした場合でも、 δ = 5

b

0%となる。このため、光電変換素子に達する可視光の解像度特性は、シンチレータ層の解像度特性の約半分となってしまう。なお、図 2の光反射材分散膜の解像度特性は、光反射材分散膜の入射面力点光源の光が入射し、この光が金属膜で反射して入射面に出てくる際の MTF (21pZmm)を表している。ここで、入射面は光反射材分散膜の一端面であり、金属膜は光反射材分散膜の片面に設けられている。

[0025] このため、上記第 1の実施の形態では、シンチレータ層 19により変換された可視光を反射させる光反射材粒子 18が光反射材分散膜 17内に分散されている。光反射材分散膜 17に光反射膜としての機能を与えることで光反射材分散膜 17での光の拡散を防止することができるため、解像度特性の劣化を防止することができる。放射線検出器 11の解像度特性をシンチレータ層 19の解像度特性と等しくできる。第 1の実施の形態の放射線検出器の解像度特性は向上され、従来の放射線検出器と比較して高い [0026] また、シンチレータ層 19の柱状構造内で発生した蛍光は、シンチレータ層 19の柱状構造の側壁で繰り返し反射されて光電変換素子 13に到達する。このため、この可視光の拡散は、シンチレータ層 19の柱状構造の側壁での反射率 R1に依存する。シンチレータ層 19を形成する材料の屈折率を nとし、シンチレータ層 19の柱状結晶の側

s

壁に接触する素材の屈折率を nとする。すると、反射率 R1は、第 4式として Rl = (n

m s n ) Z (n +n )で表される。

m s m

[0027] さらに、放射線検出器 11の解像度特性を向上させるためには、シンチレータ層 19内で可視光の拡散を抑制する必要があるので、シンチレータ層 19の柱状構造の側壁での反射率 R1を向上させなければならない。したがって、第 4式により、放射線検出器 11の解像度特性を向上させるためには、屈折率 nと屈折率 n との差が大きぐかつ n

s m

>nの関係が成立つことが望ましい。

s m

[0028] ここで、図 3は、各種材料の屈折率を示している。例えば、シンチレータ層 19を構成する材料として、ヨウ化セシウム:タリウム、ヨウ化ナトリウム：タリウムおよび酸硫ィ匕ガドリュウムが挙げられる力これらの材料の屈折率 _nは、約 1. 8乃至 2. 4である。一方、

s

光反射材分散膜 17や防湿有機膜 21を構成する材料として、アクリル、ポリカーボネートおよびパラキシリレンが挙げられる力これらの材料の屈折率 n は、約 1. 4乃至 1. 6である。

[0029] したがって、従来の防湿有機膜の構造では、この防湿有機膜がシンチレータ層の柱状構造間の溝部に完全に浸透しているため、屈折率 n

sと屈折率 n

mとの差が比較的小さい。これに対して、上記第 1の実施の形態では、シンチレータ層 19の柱状構造間の溝部 20の一部を除く略全域に、乾燥窒素、あるいは乾燥大気を封入したり、溝部 20の一部を除く略全域を真空としたりする。このため、図 3に示すように、屈折率 n

s と屈折率 nとの差が大きくなる。このため、第 4式により、反射率 R1は従来の構成よりも向上し、放射線検出器 11の解像度特性をより向上できる。

[0030] また、光反射材分散膜 17内に可視光が進入した場合、光反射材分散膜 17での可視光の反射は、シンチレータ層 19および光反射材粒子 18の境界と、光反射材分散膜 17 (光反射材分散膜 17の有機材料および光反射材粒子 18の境界)との 2箇所でそれぞれ発生する。 [0031] 光反射材粒子 18の屈折率を nとし、光反射材分散膜 17の有機材料の屈折率を nと

r b する。すると、光反射材分散膜 17での可視光の反射率 R2は、第 5式として R2 = a (n -n ) / (n +n ) + j8 (n -n ) / (n +n )で表される。ここで、 αはシンチレータ層 r s r s r b r b

19と光反射材粒子 18との境界で反射が発生する確率を示し、 βは光反射材粒子 18 と光反射材分散膜 17の有機材料との境界で反射が発生する確率を示している。

[0032] そして、 aと βの関係において、 α < βとなることが多い。このため、光反射材分散膜 17の反射率 R2は、可視光が光反射材分散膜 17に進入した際の光反射材粒子 18 と光反射材分散膜 17の有機材料との屈折率の差による反射効果に大きく起因している。このため、第 5式により、光反射材分散膜 17の反射率 R2を向上させるためには、屈折率 ηおよび屈折率 ηの差、並びに屈折率 ηおよび屈折率 ηの差が大きいほどよ r s r b い。さらに、図 3に示すように、屈折率 nは約 1 · 8乃至 2· 4であり、屈折率 ηは約 1 · 4

s b

乃至 1. 6である。このため、上記第 1の実施の形態のように、屈折率 nと屈折率 nと

r s の関係が第 1式の関係を満たしている。これにより、シンチレータ層 19と光反射材粒子 18との境界で反射効果を得ることができるとともに、光反射材粒子 18と光反射材分散膜 17の有機材料との境界での反射効果を向上できる。そして、屈折率 nと屈折率 nとの差が大きいほど、光反射材分散膜 17での反射効果が顕著となる。

s

[0033] さらに、図 4に示すように、光反射材粒子 18が第 2式の関係を満たすことで、光反射材分散膜 17の反射率 R2が高反射率で安定した値を示し、放射線検出器 11の輝度特性をより向上できる。

[0034] また、支持基板 16上に光反射材粒子 18が分散されている光反射材分散膜 17を平面状に形成でき、この光反射材分散膜 17上にシンチレータ層 19を形成している。このため、平面状の光反射材分散膜 17に入射するシンチレータ層 19で変換された可視光が散乱するのを防止でき、解像度特性を向上できる。

[0035] 次に、図 5に第 2の実施の形態を示す。なお、第 1の実施の形態と同様の構成および作用につ、ては、同一符号を付してその説明を省略する。

[0036] 支持基板 16、光反射材分散膜 17およびシンチレータ層 19を含むシンチレータパネル 12全体を覆って無機膜としての防湿無機膜 28が形成されて、る。この防湿無機膜 28はシンチレータ層 19を防湿するものである。防湿無機膜 28は、例えば二酸化珪素膜等の防湿性に優れた有機膜であるとともに、シンチレータ層 19により変換された可視光を透過する特性を有している。この防湿無機膜 28は、シンチレータ層 19の溝部 2 0に浸透していない構造となっている。すなわち、防湿無機膜 28は、シンチレータ層 1 9の柱状構造間から外れて設けられて、る。

[0037] なお、上記各実施の形態において、光反射材粒子 18は、無機物に代えて、他の様々なものを選択して形成されても良、。

[0038] 次に、実施例について説明する。

[0039] 従来技術に対応する図 6に示す比較例、上記第 1の実施の形態に対応した実施例

1、図 7に示す実施例 2、図 8に示す実施例 3、図 9に示す実施例 4についてそれぞれ検討する。

[0040] 比較例については、第 1の実施の形態と同じ構成には同じ符号付す。比較例の放射線検出器の構成を説明する。図 6に示すように、炭素繊維を榭脂で硬化した支持基板 16上に、光反射膜 41としてアルミニウム (A1)膜がスパッタリング法により形成されている。この光反射膜 41の上部に保護膜 17としてパラキシレン薄膜が形成されている。そして、この保護膜 17の上部に、シンチレータ層 19として膜厚 500 mのヨウ化セシゥム：タリウム膜が形成されて、る。防湿有機膜 21としてパラキシレン薄膜がシンチレータ層 19や支持基板 16の全体を覆うように形成されて!、る。防湿有機膜 21を形成する際、防湿有機膜は、シンチレータ層 19の柱状構造間に完全に浸透している。

[0041] 図 1に示す実施例 1では、炭素繊維を榭脂で硬化した支持基板 16上に、膜厚 200 mの光反射材分散膜 17が形成されている。光反射材分散膜 17は、支持基板 16上に、光反射材粒子 18の無機物として二酸ィ匕チタン粒子を用いて榭脂で結着させて形成されている。この光反射材分散膜 17上にシンチレータ層 19として膜厚 500 mのョゥ化セシウム:タリウム膜が形成されている。防湿有機膜 21としてパラキシレン薄膜がシンチレータ層 19および支持基板 16の全体を覆うように形成されて!ヽる。防湿有機膜 21を形成する際、防湿有機膜は、シンチレータ層 19の柱状構造間に浸透していない。ここで、ヨウ化セシウム：タリウムの屈折率は約 1. 8であり、二酸化チタンの屈折率は

2. 2である。このため、実施例 1は第 1式を満たしている。また、光反射材分散膜 17中の二酸ィ匕チタンの粒子の体積充填密度は 70%、平均粒径は: mである。したがつて、実施例 1は第 2式を満たす。

[0042] 図 7に示す実施例 2では、実施例 1と同様の材質の光反射材分散膜 17、シンチレ一タ層 19および防湿有機膜 21が形成される。防湿有機膜 21はシンチレータ層 19の柱状構造間に完全に浸透して、る。

[0043] 図 8に示す実施例 3では、実施例 1の光反射材粒子 18は二酸ィ匕珪素粒子である。

実施例 3において、その他の条件は実施例 1と同様である。そして、ヨウ化セシウム：タリウムの屈折率は約 1. 8であり、二酸化珪素の屈折率は 1. 5である。このため、この実施例 3は第 1式を満たさない。

[0044] 図 9に示す実施例 4の光反射材分散膜 17は、実施例 1の光反射材分散膜 17より薄く形成され、 20 mの膜厚を有している。実施例 4において、光反射材分散膜 17中の光反射材粒子 18である二酸ィ匕チタン粒子の体積充填密度は実施例 1の 40%であり、低く設定されている。上記した他、実施例 4の条件は実施例 1と同様である。そして、この実施例 4は第 2式を満たさない。

[0045] そして、比較例および各実施例の輝度と CTFを、それぞれ測定した結果を図 10に示し、この図 10を参照しながら、各例について検討する。

[0046] まず、比較例と実施例 2とを比較する。実施例 2では解像度特性を示す CTFが比較例より向上している。したがって、光反射材分散膜 17に光反射膜の機能を持たせることで、解像度特性を向上できることが示された。

[0047] 続ヽて、実施例 1と実施例 2とを比較する。実施例 1では解像度特性示す CTFが実施例 2より向上している。したがって、防湿有機膜 21をシンチレータ層 19の柱状構造間に浸透させな、ことで、解像度特性をより向上できることが示された。

[0048] また、実施例 1と実施例 3とを比較する。実施例 3では、光反射材分散膜 17の反射率が低下し、輝度特性が実施例 1よりも劣化している。したがって、第 1式を満たすことで、輝度特性を向上できる効果が示された。

[0049] さらに、実施例 1と実施例 4とを比較する。実施例 4では、光反射材分散膜 17の反射率が低下し、輝度特性が実施例 1よりも劣化している。したがって、第 2式を満たすことで、輝度特性を向上できる効果が示された。

[0050] なお、この発明は上記実施の形態そのままに限定されるものではなぐ実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体ィ匕可能である。また、上記実施の形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素カゝら幾つかの構成要素を削除してもよい。さら〖こ、異なる実施形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。

産業上の利用可能性

本発明によれば、支持基板上に光反射材粒子が分散されて!、る光反射材分散膜を平面状に形成でき、この平面状の光反射材分散膜上にシンチレ一タ層を形成しているため、平面状の光反射材分散膜に入射するシンチレータ層で変換された可視光が散乱するのを防止でき、解像度特性を向上できる。

Claims

請求の範囲

[1] 放射線を透過する支持基板と、

を具備したことを特徴とするシンチレ一タパネル。

[2] 前記シンチレータ層は、柱状構造を有し、

前記光反射材分散膜は、前記シンチレータ層の柱状構造間力外れて設けられている

ことを特徴とする請求項 1に記載のシンチレ一タパネル。

[3] 前記シンチレータ層は、このシンチレータ層により変換された可視光を透過させる有機膜および無機膜のヽずれか一方で覆われて、る

ことを特徴とする請求項 1に記載のシンチレ一タパネル。

[4] 前記シンチレータ層は、このシンチレータ層により変換された可視光を透過させる有機膜および無機膜のヽずれか一方で覆われて、る

ことを特徴とする請求項 2に記載のシンチレ一タパネル。

[5] 前記シンチレータ層は、柱状構造を有し、

前記有機膜および無機膜の!、ずれか一方は、前記シンチレータ層の柱状構造間から外れて設けられている

ことを特徴とする請求項 3に記載のシンチレ一タパネル。

[6] 前記有機膜および無機膜の!、ずれか一方は、前記シンチレータ層の柱状構造間から外れて設けられている

ことを特徴とする請求項 4に記載のシンチレ一タパネル。

[7] 前記有機膜および無機膜の!ヽずれか一方は、前記支持基板の表面の一部を覆つている

ことを特徴とする請求項 3に記載のシンチレ一タパネル。

[8] 前記有機膜および無機膜の!ヽずれか一方は、前記支持基板の表面の一部を覆つている

ことを特徴とする請求項 4に記載のシンチレ一タパネル。

[9] 前記有機膜および無機膜の!ヽずれか一方は、前記支持基板の表面の一部を覆つている

ことを特徴とする請求項 5に記載のシンチレ一タパネル。

[10] 前記有機膜および無機膜の!ヽずれか一方は、前記支持基板の表面の一部を覆つている

ことを特徴とする請求項 6に記載のシンチレ一タパネル。

[11] 前記有機膜および無機膜のいずれか一方は、前記支持基板の全体を覆っていることを特徴とする請求項 3に記載のシンチレ一タパネル。

[12] 前記有機膜および無機膜のヽずれか一方は、前記支持基板の全体を覆ってヽることを特徴とする請求項 4に記載のシンチレ一タパネル。

[13] 前記有機膜および無機膜のヽずれか一方は、前記支持基板の全体を覆ってヽることを特徴とする請求項 5に記載のシンチレ一タパネル。

[14] 前記有機膜および無機膜の!ヽずれか一方は、前記支持基板の全体を覆ってヽることを特徴とする請求項 6に記載のシンチレ一タパネル。

[15] 前記光反射材粒子の屈折率を nとし、シンチレータ層の屈折率を nとすると、 n >n の関係を有する

s

ことを特徴とする請求項 1に記載のシンチレ一タパネル。

[16] 前記光反射材分散膜の膜厚を Tとし、光反射材粒子の体積充填密度を Fとし、光反射材粒子の平均粒径を Dとすると、 T X F /D > 10の関係を有する

ことを特徴とする請求項 1に記載のシンチレ一タパネル。

[17] 放射線を透過する支持基板と、前記支持基板上に平面状に設けられ、可視光を反射させる光反射材粒子が分散されて!、る光反射材分散膜と、前記光反射材分散膜上に設けられ、入射される放射線を可視光に変換するシンチレータ層と、を具備したシンチレ一タパネルと、

前記シンチレ一タパネルの支持基板と反対側の表面に設けられ、前記シンチレ一タ層により変換された可視光を電気信号に変換する光電変換素子と、を備えたことを特徴とする放射線検出器。