WO2007148426A1

WO2007148426A1 - 基板処理装置、表示方法、記録媒体及びプログラム

Info

Publication number: WO2007148426A1
Application number: PCT/JP2007/000523
Authority: WO
Inventors: Hiroyuki Hosokawa; Ryoji Sakai; Masashi Okuyama
Original assignee: Tokyo Electron Limited
Priority date: 2006-06-21
Filing date: 2007-05-15
Publication date: 2007-12-27
Also published as: US8314776B2; CN101473414A; JP4953427B2; US20090225048A1; JP2008004702A; CN101473414B; KR101094134B1; KR20090007334A

Abstract

【課題】　複数の処理室の相互の関係を考慮しながらメンテナンスを行うときに非常に利便性の高いメンテナンス画面を表示パネルに表示することが可能とすること。【解決手段】　第２の表示領域３１２でタスク・ボタンが各タスク・ボタンがクリックされた時間的な順番に応じた順番で左側から並べて表示されるので、メンテナンスを行うときに非常に利便性の高いメンテナンス画面をタッチパネル３００に表示することができる。

Description

明細書

基板処理装置、表示方法、記録媒体及びプログラム

技術分野

[0001 ] 本発明は、例えば成膜処理（例えばプラズマ C V D処理）やエッチング処理（例えばプラズマエッチング処理）等の半導体製造プロセスに用いられる基板処理装置、そのような基板処理装置を制御するための表示パネルの表示方法、そのような表示をコンピュータに実行させるプログラム及びそのようなプログラムが記録された記録媒体に関する。

背景技術

[0002] 近年の半導体製造装置等の基板処理装置は、半導体ウェハなどの基板の搬送系の周囲に基板への処理を実行する処理室を複数配置し、集約的に処理を実行する技術が主流になってきている。このようにシステムが大型化すると、そのためのメンテナンスも大掛かりになり、更に複数の処理室の相互の関係を考慮しながらメンテナンスを行う必要もある。

[0003] このようなメンテナンスは、一般的には G U I (Graph i ca l User I nterfac e) を使ったタツチパネルを用いて装置の情報（温度、圧力、ガス流量等）を入手し、その入手した情報に基づいて条件設定等を行っている。なお、このような G U Iに関しては、 S E M Iにおいてある程度規格化されている。

[0004] 本発明者らは、 S E M Iの E 9 5において規格化された程度の G U Iではますます複雑化した基板処理装置のメンテナンスには不十分であると認識したが、その種の分野で技術文献は発見できなかった。

非特許文献 1 ： S E M Iの E 9 5規格： http : //down l oads. sem i . org/PUBS/SEM I PUBS. NSF/6cb6b23858b3cded882565f6000badda/e4f362b2ff872d9f 8825684100 61 dddf?OpenDocument

発明の開示

発明が解決しょうとする課題

[0005] 従って、半導体製造装置などの基板処理装置の分野において、基板処理装置のメンテナンスのための G U I画面の利便性を高めようとする課題自体が従来にない新規課題であり、本発明はその新規課題を解決しょうとするものである。より具体的には、複数の処理室の相互の関係を考慮しながらメンテナンスを行うときに、現在の S E M Iにおいて規格化された程度の G U Iを使った画面の表示では利便性の低い、という課題がある。

[0006] よって、本発明の目的は、複数の処理室の相互の関係を考慮しながらメンテナンスを行うときに非常に利便性の高いメンテナンス画面を表示パネルに表示することが可能な基板処理装置、そのような基板処理装置を制御するための表示パネルの表示方法、そのような表示をコンピュータに実行させるプログラム及びそのようなプログラムが記録された記録媒体を提供することにめる。

課題を解決するための手段

[0007] ( 1 ) かかる課題を解決するために、本発明の基板処理装置は、少なくとも 1つの処理室を有する基板処理装置において、表示パネルと、前記表示パネルに少なくとも前記基板処理装置のメンテナンスに必要な画面及び所定の選択ポタンを表示するための制御を行う表示制御部と、前記表示パネルに表示された選択ポタンをクリックするための選択部とを具備し、前記表示制御部は、少なくとも前記基板処理装置のメンテナンスに必要な複数の画面から 1つの画面を選択する選択ボタンを、当該選択ボタンがクリックされた時間的な順番に応じた順番で並べて前記表示パネルの第 1の表示領域に表示し、前記選択ボタンによリ選択された画面を前記表示パネルの第 2の表示領域に表示することを特徴とする。

[0008] 本発明では、例えば各処理室のメンテナンスに必要な処理室毎の画面を選択する選択ボタンを、当該選択ボタンがクリックされた時間的な順番に応じた順番で並べて表示パネルに表示していので、複数の処理室の相互の関係を考慮しながらメンテナンスを行うときに非常に利便性の高いメンテナンス画面を表示パネルに表示することができる。

[0009] 「選択ボタンがクリックされた時間的な順番に応じた順番で並べて表示パネルに表示」とは、例えば第 2の表示領域に第 1の処理室のメンテナンス画面を表示して第 1の処理室のメンテンスを行い、次に第 2の処理室のメンテナンス画面を表示して第 2の処理室のメンテンスを行い、次に第 3の処理室のメンテナンス画面を表示して第 3の処理室のメンテンスを行った場合には、第 1の表示領域には「第 3の処理室のメンテナンス画面を選択するための選択ポタン」、「第 2の処理室のメンテナンス画面を選択するための選択ポタン」、「第 1の処理室のメンテナンス画面を選択するための選択ボタン」の順番で選択ボタンが表示される。

[0010] 装置のメンテナンスを行う場合に、ランダムに様々な処理室等をメンテンスするといことはまずない。むしろ、各処理室等の相互の関係を考慮して処理室等間を前後しながら各処理室等をメンテナンスすることが圧倒的に多い。従って、例えば各処理室のメンテナンスに必要な処理室毎の画面を選択する選択ボタンを、当該選択ボタンがクリックされた時間的な順番に応じた順香で並べて表示パネルに表示することで、操作者にはより直感的にこれらの選択ポタンを使って画面の切り替えを行うことが可能となる。

[0011 ] 前記表示制御部は、前記第 2の表示領域の一辺に沿って前記第 1の表示領域を表示し、前記第 1の表示領域に表示される前記各選択ポタンが一定の長さとなるように表示し、前記複数の選択ポタンの全体の長さが前記第 1の表示領域の長さを超えた場合には、前記超えた選択ポタンを履歴として残しておき、表示可能になったときに再び前記第 2の表示領域に残リの前記選択ポタンを表示するようにしてもよい。

[0012] 半導体製装置のメンテナンスにおいては、操作者がメンテンスをする処理室の数は原則的にはある程度限られる。従って、各選択ポタンが一定の長さとしても複数の選択ポタンの全体の長さが第 1の表示領域の長さを超えることは非常に少ない。よって、本発明では、各選択ポタンが一定の長さとして操作の直感性を高めている。そして、複数の選択ポタンの全体の長さが第 1 の表示領域の長さを超えた場合には、第 1の表示領域に表示された画面よりも 1つ前に選択された画面に沿った第 2の表示領域に残りの選択ポタンを表示することで、多数の選択ボタンを一つの画面から見つけ出すような手間を排除している。つまり、最初の画面で所望の選択ポタンがないときには、次の画面を表示させて所望の選択ボタンを見つけ出せばいいので、一つの画面に表示された多数の選択ボタンから所望の選択ボタンを見つけ出す場合に比ベて、簡単に所望の選択ポタンを見つけ出すことができる。

[0013] 前記表示制御部は、前記第 2の表示領域に表示された画面を閉じるための選択ボタンを前記表示パネルの第 3の表示領域に表示し、前記第 2の表示領域に表示された画面を閉じるための選択ポタンが前記選択部によリクリックされた場合に、前記第 2の表示領域の画面を閉じると共に前記第 1の表示領域に表示された前記画面に対応する選択ボタンを閉じるようにしてもよい。

[0014] 第 2の表示領域において、その画面が閉じられたときにはもうほぼメンテンスに用いることはないみなしてよく、従ってこの画面に対応する選択ボタンが使われることもないとみなして、第 1の表示領域に表示されたこの画面に対応する選択ポタンを閉じることで、第 1の表示領域から無用な選択ボタンが増加することを防止している。

[0015] 前記表示制御部は、前記第 2の表示領域に表示される処理室のメンテナンスに必要な画面として、当該メンテナンスの内容に応じた複数の画面のうち前記選択部によリ選択された一つの画面を、前記第 2の表示領域に表示するようにしてもよい。

[0016] 「メンテナンスの内容に応じた複数の画面」とは、一つの処理室に対して、その処理室おける駆動系をメインとした画面、温度をメインとして画面、圧力をメインとした画面、ガスをメインとした画面などをいう。このように一つの処理室に対してメンテナンスの内容に応じた画面を表示することによつてメンテナンスがより容易になる。

[0017] 前記表示制御部は、前記第 2の表示領域に前記各処理室の状態を表示する前記処理室毎の画面、前記基板処理装置の全体の状態を表示する画面を表示可能であり、前記第 1の表示領域に前記画面に対応する選択ボタンが表示可能であるようにしてもよい。また、前記表示パネル及び前記選択部は、前記表示パネル上に前記選択部を設けたタツチパネルにより構成されるようにしてもよい。これにより操作性を高めることができる。

( 2 ) 本発明に係る方法は、少なくとも 1つの処理室を有する基板処理装置を制御するための表示パネルの表示方法において、少なくとも前記基板処理装置のメンテナンスに必要な複数の画面から 1つの画面を選択する選択ボタンを、当該選択ボタンがクリックされた時間的な順番に応じた順番で並べて前記表示パネルの第 1の表示領域に表示し、前記選択ポタンにより選択された画面を前記表示パネルの第 2の表示領域に表示することを特徴とする。

[0018] ここで、前記第 2の表示領域の一辺に沿って前記第 1の表示領域を表示し、前記第 1の表示領域に表示される前記各選択ポタンが一定の長さとなるように表示し、前記複数の選択ボタンの全体の長さが前記第 1の表示領域の長さを超えた場合には、前記超えた選択ポタンを履歴として残しておき、表示可能になったときに再び前記第 2の表示領域に残リの前記選択ボタンを表示するようにしてもよい。

[0019] 前記第 2の表示領域に表示された画面を閉じるための選択ポタンを前記表示パネルの第 3の表示領域に表示し、前記第 2の表示領域に表示された画面を閉じるための選択ボタンが選択された場合に、前記第 2の表示領域の画面を閉じると共に前記第 1の表示領域に表示された前記画面に対応する選択ポタンを閉じるようにしてもよい。

[0020] 前記第 2の表示領域に表示される処理室のメンテナンスに必要な画面として、当該メンテナンスの内容に応じた複数の画面のうち選択された一つの画面を、前記第 2の表示領域に表示するようにしてもよい。

( 3 ) 本発明に係る記録媒体は、少なくとも 1つの処理室を有する基板処理装置を制御するための表示パネルの表示をコンピュータに実行させるプログラムが記録された記録媒体において、前記プログラムは、少なくとも前記基板処理装置のメンテナンスに必要な複数の画面から 1つの画面を選択する選択ボタンを、当該選択ボタンがクリックされた時間的な順番に応じた順番で並べて前記表示パネルの第 1の表示領域に表示させ、前記選択ボタンによリ選択された画面を前記表示パネルの第 2の表示領域に表示させることを特徴とする。

[0021 ] ここで、前記プログラムは、前記第 2の表示領域の一辺に沿って前記第 1 の表示領域を表示させ、前記第 1の表示領域に表示される前記各選択ポタンが一定の長さとなるように表示させ、前記複数の選択ポタンの全体の長さが前記第 1の表示領域の長さを超えた場合には、前記超えた選択ポタンを履歴として残しておき、表示可能になったときに再び前記第 2の表示領域に残リの前記選択ポタンを表示させるようにしてもよい。

[0022] 前記プログラムは、前記第 2の表示領域に表示された画面を閉じるための選択ボタンを前記表示パネルの第 3の表示領域に表示させ、前記第 2の表示領域に表示された画面を閉じるための選択ボタンが選択された場合に、前記第 2の表示領域の画面を閉じさせると共に前記第 1の表示領域に表示された前記画面に対応する選択ボタンを閉じさせるようにしてもよい。

[0023] 前記プログラムは、前記第 2の表示領域に表示される処理室のメンテナンスに必要な画面として、当該メンテナンスの内容に応じた複数の画面のうち選択された一つの画面を、前記第 2の表示領域に表示させるようにしてもよい。

( 4 ) 本発明に係るプログラムは、少なくとも 1つの処理室を有する基板処理装置を制御するための表示パネルの表示をコンピュータに実行させるプログラムにおいて、少なくとも前記基板処理装置のメンテナンスに必要な複数の画面から 1つの画面を選択する選択ボタンを、当該選択ボタンがクリックされた時間的な順番に応じた順番で並べて前記表示パネルの第 1の表示領域に表示させ、前記選択ポタンにより選択された画面を前記表示パネルの第 2 の表示領域に表示させることを特徴とする。

[0024] ここで、前記第 2の表示領域の一辺に沿って前記第 1の表示領域を表示させ、前記第 1の表示領域に表示される前記各選択ポタンが一定の長さとなるように表示させ、前記複数の選択ポタンの全体の長さが前記第 1の表示領域の長さを超えた場合には、前記超えた選択ポタンを履歴として残しておき、表示可能になったときに再び前記第 2の表示領域に残リの前記選択ボタンを表示させるようにしてもよい。

[0025] 前記第 2の表示領域に表示された画面を閉じるための選択ポタンを前記表示パネルの第 3の表示領域に表示させ、前記第 2の表示領域に表示された画面を閉じるための選択ポタンが選択された場合に、前記第 2の表示領域の画面を閉じさせると共に前記第 1の表示領域に表示された前記画面に対応する選択ポタンを閉じさせるようにしてもよい。

[0026] 前記第 2の表示領域に表示される処理室のメンテナンスに必要な画面として、当該メンテナンスの内容に応じた複数の画面のうち選択された一つの画面を、前記第 2の表示領域に表示させるようにしてもよい。

発明の効果

[0027] 本発明によれば、複数の処理室の相互の関係を考慮しながらメンテナンスを行うときに非常に利便性の高いメンテナンス画面を表示パネルに表示することが可能な基板処理装置、そのような基板処理装置を制御するための表示パネルの表示方法、そのような表示をコンピュータに実行させるプログラム及びそのようなプロダラムが記録された記録媒体を提供することができる。発明の実施の形態

[0028] 以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。

[0029] (基板処理装置の構成例）

[0030] 先ず、本発明の実施形態にかかる基板処理装置について図面を参照しながら説明する。図 1は本発明の実施形態にかかる基板処理装置の概略構成を示す図である。この基板処理装置 1 0 0は、被処理基板例えば半導体ウェハ（以下、単に「ウェハ」ともいう。） Wに対して成膜処理、エッチング処理等の各種の処理を行う複数の処理ュニッ卜 1 1 0と、この処理ュニッ卜 1 1 0 に対してウェハ Wを搬出入させる搬送ュニッ卜 1 2 0とを備える。 [0031 ] 先ず、搬送ュニッ卜 1 2 0の構成例について説明する。搬送ュニッ卜 1 2 0は図 1に示すように基板収納容器例えばカセッ卜容器 1 3 2 ( 1 3 2 A〜 1 3 2 C) と処理

ユニット 1 1 0との間でウェハを搬出入する搬送室 1 3 0を有している。搬送室 1 3 0は、断面略多角形（例えば断面矩形）の箱体状に形成されている。搬送室 1 3 0の断面矩形の長辺を構成する一側面には、複数のカセッ卜台 1 3 1 ( 1 3 1 A〜 1 3 1 C) が並設されている。これらカセッ卜台 1 3 1 A〜 1 3 1 Cはそれぞれ、基板収納容器例えばカセッ卜容器 1 3 2 A〜 1 3 2 Cを載置可能に構成されている。

[0032] 各カセット容器 1 3 2 ( 1 3 2 〜1 3 2〇）には、例ぇば最大2 5枚のウェハ Wを等ピッチで多段に載置して収容できるようになつており、内部は例えば N 2ガス雰囲気で満たされた密閉構造となっている。そして、搬送室 1 3 0はその内部へゲートバルブ 1 3 3 ( 1 3 3 A〜1 3 3 C) を介してゥェハ Wを搬出入可能に構成されている。なお、カセット台 1 3 1とカセット容器 1 3 2の数は、図 1に示す場合に限られるものではない。

[0033] 上記搬送室 1 3 0の端部、すなわち断面矩形の短辺を構成する一測面には、内部に回転載置台 1 3 8とウェハ Wの周縁部を光学的に検出する光学センサ 1 3 9とを備えた位置決め装置としてのオリエンタ（ブリアライメントステージ） 1 3 6が設けられている。このオリエンタ 1 3 6では、例えばゥェハ Wのオリエンテーションフラットゃノツチ等を検出して位置合せを行う。

[0034] 上記搬送室 1 3 0内には、カセット容器 1 3 2 A〜 1 3 2 C、ロードロック室 1 6 O M、 1 6 0 N、オリエンタ 1 3 6の各室間でウェハ Wを搬出入させるための搬送ュニッ卜側搬送装置（大気搬送装置） 1 7 0が設けられている。搬送ュニッ卜側搬送装置 1 7 0は、旋回動作機構によって旋回動作可能に支持台 1 1 2に取付けられた搬送アームを備え、スライド動作機構によつて搬送室 1 3 0の長手方向に沿ってスライド動作可能に構成されている。搬送ュニッ卜側搬送装置 1 7 0の搬送アームは、例えば図 1に示すように一対の多関節アームを備えるダブルアーム機構によリ構成されている。この図 1 に示す搬送アームは、伸縮動作可能な多関節アームよりなる第 1アーム 1 7

5 A、第 2アーム 1 7 5 Bを上下に並設して構成される。

[0035] 搬送ュニッ卜側搬送装置 1 7 0のスライド動作機構は、例えばリニアモータを利用して次のように構成される。具体的には搬送室 1 3 0内に長手方向に沿って案内レール 1 7 6が設けられ、搬送アームが取付けられた基台 1 7 2はこの案内レール 1 7 6に沿ってスライド動作可能に設けられている。基台 1 7 2と案内レール 1 7 6にはそれぞれ、リニアモータの可動子と固定子とが設けられており、案内レール 1 7 6の端部にはこのリニアモータを駆動するためのリニアモータ駆動機構 1 7 8が設けられている。リニアモータ駆動機構 1 7 8には、制御部 2 0 0が接続されている。これにより、制御部 2 0 0からの制御信号に基づいてリニアモータ駆動機構 1 7 8が駆動し、搬送ュニッ卜側搬送装置 1 1 0が基台 1 7 2とともに案内レール 1 7 6に沿って矢印方向へ移動するようになっている。

[0036] なお、搬送ュニッ卜側搬送装置 1 7 0のスライド動作機構は、処理ュニッ

卜側搬送装置 1 8 0と同様に、案内レール 1 7 6に沿って設けたポールスクリューに基台 1つ

2を螺合させて、ポールスクリューをスライド用モータで駆動することによリ、基台 1 7 2をスライド動作可能に構成してもよい。

[0037] 搬送ュニッ卜側搬送装置 1 7 0の搬送アームである第 1、第 2アーム 1 7 5 A、 1 7 5 Bはそれぞれ先端にピック 1 7 4 A、 1 7 4 Bを備え、一度に 2枚のウェハを取リ极うことができるようになつている。これにより、例えばカセッ卜容器 1 3 2、オリエンタ 1 3 6、各ロードロック室 1 6 O M、 1

6 0 Nに対してウェハを搬出入する際に、ウェハを交換するように搬出入することができる。なお、搬送ュニッ卜側搬送装置 1 7 0の搬送アームのァーム数は上記のものに限られず、例えば 1つのみのアームを有するシングルァーム機構であってもよい。

[0038] また、搬送ュニッ卜側搬送装置 1 7 0は、搬送アームを旋回動作、伸縮動作させるための図示しない旋回動作用モータ、伸縮動作用モータを備える。搬送ュニッ卜側搬送装置 1 70を駆動するモータとしては、上記の他、搬送アームを昇降動作させる昇降動作用モータを設けるようにしてもよい。図示はしないが、各モータは上記制御部 200に接続され、制御部 200からの制御信号に基づいて搬送ュニッ卜側搬送装置 1 70の搬送アームの各動作制御を行うことができるようになつている。

[0039] 次に、処理ュニッ卜 1 1 0の構成例について説明する。処理ュニッ卜 1 1 0は例えばクラスタツール型に構成される。処理ュニッ卜 1 1 0は図 1に示すように一方向に長く形成された多角形状（例えば四角形状、五角形状、六角形状、八角形状など）の共通搬送室 1 50の周囲に、ウェハ Wに例えば成膜処理（例えばプラズマ CVD処理）やエッチング処理（例えばプラズマェツチング処理）などの所定の処理を施す複数の処理室 1 40 ( 1 40 A〜 1 4 O F) 及びロードロック室 1 60M、 1 60 Nが共通に接続されて構成される。

[0040] 具体的には共通搬送室 1 50はその対向する一対の一辺のみが、他の辺よリも長くなされて、多角形状（例えば扁平な六角形状）になっている。そして、この扁平六角形状の共通搬送室 1 50の先端側の短い 2辺にそれぞれ処理室 1 40C、 1 40 Dが 1つずつ接続され、基端側の短い 2つの辺にそれぞれロードロック室 1 60M、 1 60 Nが 1つずつ接続される。また、共通搬送室 1 50の一方の長い辺に 2つの処理室 1 40A、 1 4 O Bが並べて接続され、他方の長い辺に処理室 1 40 E、 1 40 Fが並べて接続される。

[0041] 各処理室 1 40 A〜 1 40「は、ウェハ Wに対して例えば同種の処理または互いに異なる異種の処理を施すようになつている。各処理室 1 40 ( 1 4 0 A〜 1 40 F) 内には、ウェハ Wを載置するための載置台 1 42 ( 1 42 A〜1 42 E) がそれぞれ設けられている。なお、処理室 1 40の数は、図 1に示す場合に限られるものではない。

[0042] 上記共通搬送室 1 50は、上述したような各処理室 1 40A〜1 40 Fの間、又は各処理室 1 40 A〜 1 40 Fと各第 1、第 2ロードロック室 1 60 M、 1 6 O Nとの間でウェハ Wを搬出入する機能を有する。共通搬送室 1 5 0の周リには、上記各処理室 1 40 (1 40A〜1 40 F) がそれぞれゲー卜バルブ 1 44 (1 44A〜1 44E) を介して接続されているとともに、第 1、第 2ロードロック室 1 60M、 1 60 Nの先端がそれぞれゲートバルブ（真空側ゲートバルブ） 1 54M、 1 54 Nを介して接続されている。第 1、第 2ロードロック室 1 6 OM、 1 60 Nの基端は、それぞれゲー卜バルブ（大気側ゲー卜バルブ） 1 62 M、 1 62 Nを介して搬送室 1 30における断面略矩形の長辺を構成する他側面に接続されている。

[0043] 第 1、第 2ロードロック室 1 6 OM、 1 60 Nは、ウェハ Wを一時的に保持して圧力調整後に、次段へパスさせる機能を有している。各第 1、第 2口ードロック室 1 60M、 1 60 Nの内部にはそれぞれ、ウェハ Wを載置可能な受渡台 1 64M、 1 64 Nが設けられている。

[0044] 第 1、第 2ロードロック室 1 60M、 1 6 ONは、残留物などのパーティクルのパージ及び真空排気可能に構成されている。具体的には第 1、第 2口一ドロック室 1 6 OM、 1 60 Nはそれぞれ、例えば排気バルブ（排気制御バルブ）を有する排気管にドライポンプなどの真空ポンプを接続した排気系及びパージバルブ（パージガス制御バルブ）を有するガス導入管にガス導入源を接続したガス導入系が設けられている。このようなパージバルブ、排気バルブなどを制御することによって、パージガス導入による真空引きと大気開放を繰返すクリーニング処理や排気処理が行われる。

[0045] なお、上記共通搬送室 1 50及び各処理室 1 40 A〜 1 40 Fも、残留物などのパーティクルのパージ及び真空排気可能に構成されている。例えば上記共通搬送室 1 50には上述したようなパージガスを導入するガス導入系及び真空引き可能な排気系が配設されており、各処理室 1 40A〜1 4 O Fには上述したようなパージガスの他、処理ガスも導入可能なガス導入系及び真空引き可能な排気系が配設されている。

[0046] このような処理ュニッ卜 1 1 0では、上述したように共通搬送室 1 50と各処理室 1 40 A〜 1 40 Fとの間及び共通搬送室 1 50と上記各ロードロック室 1 60M、 1 6 ONとの間はそれぞれ気密に開閉可能に構成され、クラスタツール化されており、必要に応じて共通搬送室 1 5 0内と連通可能になっている。また、上記第 1及び第 2の各ロードロック室 1 6 0 M、 1 6 0 Nと上記搬送室 1 3 0との間も、それぞれ気密に開閉可能に構成されている

[0047] 共通搬送室 1 5 0内には、ロードロック室 1 6 O M、 1 6 0 N、各処理室

1 4 0 A〜1 4 0 Fの各室間でウェハ Wを搬出入させるための処理ユニット側搬送装置（真空搬送装置） 1 8 0が設けられている。処理ュニッ卜側搬送装置 1 8 0は、旋回動作機構によって旋回動作可能に基台 1 8 2に取付けられた搬送アームを備え、スライド動作機構によって共通搬送室 1 5 0の長手方向に沿ってスライド動作可能に構成されている。処理ュニッ卜側搬送装置 1 8 0の搬送アームは、例えば図 1に示すようなダブルアーム機構より構成されている。この搬送アームは具体的には伸縮動作可能な多関節アームからなる第 1アーム 1 8 5 A、第 2アーム 1 8 5 Bを左右に並設して構成される

[0048] このように構成された基板処理装置 1 0 0は制御部によって動作の制御が行われるようになつている。図 2はこの制御部 2 0 0の構成を示すブロック図である。

[0049] 通常、制御部はコンピュータによって構成されるので、 C P U、必要なメモリ、インターフ Iース部、表示部、入力部等により構成されるのであるが、図 2では制御部 2 0 0の構成を分かりやすくするために、所定のプロダラムを実行するコンピュータを前提として制御部 2 0 0を機能毎に区画する。

[0050] ここでは、図 2に示すように、制御部 2 0 0は、図 1の各部（処理ュニッ卜 1 1 0を構成する各部、搬送ュニッ卜 1 2 0を構成する各部）の動作を制御するプロセスコントロール部 2 1 0と、タツチパネル 3 0 0との間でデータのやり取りを行う入出力制御部 2 2 0とを備える。タツチパネル 3 0 0は、制御部 2 0 0と同様に基板処理装置 1 0 0の構成に含まれるものである。タツチパネル 3 0 0は、表示パネル 3 0 1と、表示パネル 3 0 1の表面に設けられた選択部 3 0 2とを備える。選択部 3 0 2は、表示パネル 3 0 2に表示された後述する選択ポタンをクリックするためのものである。なお、通常のコンピュータと同様にタツチパネル 300の代わりに、液晶表示パネルなどの表示パネルとキーポードゃマウス、トラックポールなどにより構成しても当然良いが、タツチパネル 300を用いることでクリーンルーム内のように作業性が非常に悪い環境においても入力操作を支障なくして行うことができ、また特別な操作台なども不要になる。

[0051] 入出力制御部 220は、タツチパネル 300上に画面を表示するための制御を行う表示制御部 221と、タツチパネル 300から入力されたデータを制御部 200内に取り込むための入力制御部 222とを備える。

[0052] 図 3に示すように、表示制御部 221はタツチパネル 300上に以下の表示領域を有する画面を表示させる。

(1 ) ほぼ中央に横長の長方形のメイン画面を表示する第 1の表示領域 31 1 (インフォメーション■パネル）

(2) 第 1の表示領域の下方の辺に沿って帯状に設けられた第 2の表示領域 31 2 (サブインフォメーション■パネル）

(3) 第 1の表示領域の右辺に沿って帯状に設けられた第 3の表示領域 31 3 (コマンド，パネル）

(4) 第 2の表示領域 31 2の下方に沿って帯状に設けられた第 4の表示領域 31 4 (ナビゲーシヨン，パネル）

(5) 第 1の表示領域の上方の辺に沿って帯状に設けられた第 5の表示領域 31 5 (タイトル■パネル）

(6) 画面の右上角部に横長の長方形状に設けられた第 6の表示領域 31 6 (タイトル■パネル）

1. 第 1の表示領域 31 1について

[0053] 第 1の表示領域 31 1には、 1つまたは複数の情報■グラフィックを機能領域毎に表示するもので、少なくとも以下の画面が選択的に表示される。

(1 ) 基板処理装置の全体の状態を示す画面（図 4参照）

[0054] 装置全体の概略的平面図、モジュール圧力、各処理室などの詳細情報が表示可能とれている。

[0055] 平面図上で処理室をクリックすると、これ対応する処理室のメンテナンスに必要な画面等に切り替わるようになつている。

( 2 ) 各処理室のメンテナンスに必要な画面（図 5〜図 7参照）

[0056] 各処理室の正面図、これらの詳細情報が表示可能にされている。

[0057] 画面上のタブ「モジュール」「ガス」「圧力」「温度」「駆動系」をそれぞれクリックすると、処理室の正面図と共にそれぞれの情報が詳細に表示された画面が表示されるようになっている。

[0058] 図 5はモジュールタブをクリックしたときの画面である。

[0059] 図 6はガスタブをクリックしたときの画面である。

[0060] 図 7は駆動系タブをクリックしたときの画面である。

( 3 ) 各処理室の状態を示す画面

( 4 ) アラーム画面

( 5 ) パラメータ管理画面

( 6 ) ログイン画面

( 7 ) ュニッ卜同期画面

2. 第 2の表示領域 3 1 2について

[0061] 第 2の表示領域 3 1 2には、選択ポタン（以下、タスク■ポタンと呼ぶ。

) が 8つ配置される。ポタンは常に有効状態であり、画面名が表示されたポタンを選択すると、選択した画面が第 1の表示領域 3 1 1上に表示される。それ以外のポタンはグレーアウト状態ではないが、押すことはできない。第 4の表示領域 3 1 4、ブックマーク、その他様々な手段によりオープンされた画面は、全てタスク■ポタンに表示される。図 8に示すように、第 2の表示領域 3 1 2では、タスク■ポタンは、各タスク■ポタンがクリックされた時間的な順番に応じた順番で左側から並べて表示される。つまり、タスク■ ポタンの左側が常に最新の画面であり、第 1の表示領域 3 1 1に表示されている画面が配置される。その隣に次に時間的に近いタスク■ポタンが第 2の表示領域 3 1 2に表示され、以下の時間的な順番に応じてタスク■ポタンが第 2の表示領域 31 2に表示される。図 9はこのような動作を説明するためのフローチヤ一卜である。

[0062] 以下では、ユーザの運用に沿った形式でタスクの挙動を説明する。

(1 ) 画面 Aをオープン（図 1 0 (a) )

[0063] 第 4の表示領域 31 4から「画面 A」をオープンする。タスクの左側に Γ 画面 A」のテキストが表示される。（ステップ 901、 902、 903)

(2) 画面 Bをオープン（図 1 0 (b) )

[0064] 「画面 Aをオープン」の後に、第 4の表示領域 31 4から「画面 B」をォープンする。タスクの左側に「画面 B」のテキストが表示される。既に開かれていた「画面 A」はその右側に移動する。（ステップ 901、 902、 9 03)

(3) 画面 Bをクローズ（図 1 0 (c) )

[0065] 「画面 Bをオープン」の後に、第 3の表示領域 31 3から「画面 B」をクローズする。タスクの左側から「画面 B」が削除され、既に開かれていた Γ 画面 A」は一番左側に移動する。（ステップ 904、 905、 906)

(4) 画面を 8つオープン（図 1 1 (d) )

[0066] 画面を 1つも開いていない状態（実際は、 1つ目は常にホーム画面）から、 8つの画面をオープンする。全てのタスク■ポタンが埋まった状態になる

(5) 画面を 9つ以上オープン（図 1 1 (e) )

[0067] 「画面を 8つオープン」の状態でさらに画面をオープンする。すると、一番初めに開かれた「画面 A」は、コマンド 'ポタンに表示しきれないので、ポタン上からは消去される。しかし、画面の表示履歴には残っている。（ステツプ 907、 908)

(6) 画面のオープン数を 8つに戻す（図 1 1 ( f ) )

[0068] 「画面を 9つ以上オープン」の状態で「画面 I」をクローズする。すると、コマンド 'ポタンに表示されていなかった画面履歴の 9番目の画面（ここでは「画面 A」）が、コマンド■ポタンの一番右側に表示される。（ステツプ 909、 910)

(7) タスク■ポタンの選択（図 1 2 (g) 、図 1 2 (h) )

[0069] 画面を 1つも開いていない状態（実際は、 1つ目は常にホーム画面）から、

8つの画面をオープンする。全てのタスク■ポタンが埋まった状態になる（図 1 2 (g) ) 。（「画面を 8つオープン」と同状態）

[0070] この状態で、タスク，ポタンの「画面 F」を選択すると、以下のように Γ 画面 F」が表示され、タスク■ポタンの一番左側に移動する（図 1 2 (h)

) 。（ステップ 91 1、 902、 903)

(8) その他

[0071] ステップ 904で画面をクローズして残りの画面がない場合には（ステツプ 91 2) 、装置がオフ等されないかぎリ（ステップ 913) 、ステップ 9 01に戻る。

3. 第 3の表示領域 313について

[0072] 第 3の表示領域 313は、現在表示している第 1の表示領域 31 1に対して使用するコマンド■ポタンを配置する領域である。コマンドとしては、例えば「閉じる」、「モジュール変更」、 [初期化] 、「大気開放」などがある。

[0073] つまり、プロセスコントロール部 210に使用している OS (Operating S ystem) のコマンドを画面上より実行する。通常 O Sコマンドの実行は、 OS のコンソール画面を起動し、キーボードを使用する必要がある。しかし本画面を使用することにより O Sのコンソール画面を起動する必要なく、 O Sコマンドの実行を可能にする。

[0074] 頻繁に使用されると思われる O Sコマンドはテキストフアイルに登録し、登録された O Sコマンドは画面から選択し実行する。またシステムから提供するソフトゥェアキ一ポードからコマンドを直接入力し実行することも可能にする。実行結果は画面上に表示する。また実行結果をログとしてテキストファイルに保存する。そして、ユーザの操作により画面が切り替わると、その第 1の表示領域 31 1の画面に対応したコマンド■ポタン群を表示する。 [0075] 1番目上部のコマンド 'ポタンは、第 1の表示領域 31 1の画面を「閉じる」機能が必要な場合、必ずこの位置に「閉じる」ポタンを配置する。

4. 第 4の表示領域 31 4

[0076] システムが持つ機能領域から第 1の表示領域 31 1に表示する画面を選択するパネルである。第 4の表示領域 31 4内にある下記の選択ポタン（ナビゲーシヨン，ポタン）を押すとその機能領域の画面を第 1の表示領域 31 1 に表示する。ただし、例外として右側に配置された「Helpポタン」を押した場合、第 1の表示領域 31 1上に「画面操作ヘルプ'ダイアログ 'ボックス」を表示する。

(1 ) Jobs (ジョブ)

[0077] 処理開始関連の操作、材料処理の進埗を表示、処理中の材料状態を表示する。

(2) Status (ステータス）

[0078] 装置通常稼動状態での参照■操作を行う。装置全体、または装置を構成するデバイス等のステータスを表示する。

(3) Recipes (レシピ）

[0079] レシピに関連する操作、レシピ生成、レシピ編集、レシピ管理（保存、コピー等）を行う。

(4) Logs (ログ）

[0080] ログの表示やログの管理を行う。

(5) Setup (セッ卜アップ）

[0081] 装置運用の準備■設定■管理、装置運用に関連する項目、ユーザァカウン卜管理、ハードウェアコンフィグレーション、パラメータの設定、ホスト通信コントロールに関する設定を行う。

(6) Mainte. (メンテナンス）

[0082] 装置保守関連の操作、メンテナンス操作、マニュアル移動操作、マクロ操作、エンジニアリングレベルの操作を行う。

(7) System (システム） [0083] 装置運用にあまり使用されず、かつ影響のない操作を行う。システム稼動に関連する項目、 M/Cステータス、装置立ち下げ、バージョン情報の表示を行ラ。

(8) (予備）

[0084] 何も記載のないコマンド■ポタンであり、予備として設けられている。

(9) Help (ヘルプ）

[0085] インターフ Iースに関するヘルプ、オペレーションに関するヘルプ、装置マニュアルを表示する。

5. 第 5の表示領域 31 5

[0086] 第 5の表示領域 31 5は、画面最上部に位置し、全ての画面で共通に使用できる機能を持つ領域である。第 5の表示領域 31 5は、例えばユーザに対して情報の提示を行う目的であるダイアログ■ボックスが表示中であつたとしても、常時ユーザが操作できるようにしなくてはならない。例えば、以下の画面を表示する。

(1 ) 日付 Z時刻表示エリア

[0087] 「日付 Z時刻」を表示する。

(2) 画面名称表示エリア

[0088] 現在表示している画面名を表示する。

(3) ホスト通信状態表示エリア

[0089] 現在のホスト通信ステータスを表示する。

(4) ログイン Zログアウト■ポタン

[0090] ログイン Zログァゥ卜■ポタンを表示する。

(5) ロゴ表示エリア

[0091] 本装置のメーカーのロゴを表示表示し、メーカー名をユーザに識別させる

(6) アラーム■メッセージ■ポタン

[0092] 最新の警告 Zアラームを表示する。ただし、複数の警告 Zアラームが発生している場合、最新のものよりも、重要度が高いものを優先して表示する。つまり、重要度が高いアラームが発生している状態の時に、重要度が低いァラームが新たに発生した場合、表示は低いアラームに切り替わらず、重要度が高いアラームが表示し続けていることになる。重要度が同じであるアラームが発生した場合、最新のものを表示する。

( 7 ) ホーム画面遷移ポタン

[0093] 本ポタンを押すことにより、ユーザ毎に登録されたホーム画面を表示する

6 . 第 6の表示領域 3 1 6

装置全体状態表示を表示する。例えば図 1に示したような平面図として装置全体を表示する。第 1の表示領域 3 1 1において特定の処理室のメンテナンス画面が選択されているときには、その選択された処理室を強調して表示する。これにより、ユーザは全体中からメンテナンスしている処理室を特定することができる。

[0094] 以上説明したように、この実施形態によれば、第 2の表示領域 3 1 2でタスク■ポタンが各タスク■ポタンがクリックされた時間的な順番に応じた順香で左側から並べて表示されるので、メンテナンスを行うときに非常に利便性の高いメンテナンス画面をタツチパネル 3 0 0に表示することができる。

[0095] なお、本発明は、上記の実施形態に限定されるものではない。

[0096] 例えば、上記の基板処理装置では、処理室が複数であることを前提にして説明したが、処理室が 1つの基板処理装置に本発明を適用でき、また複数の処理室が搭載可能であっても 1つの処理室のみを搭載した基板処理装置にも当然本発明を適用することができる。

図面の簡単な説明

[0097] [図 1 ]本発明の一実施形態に係る基板処理装置の平面図である。

[図 2]図 1に示した基板処理装置の制御部の構成を示すブロック図である。

[図 3]図 1に示した基板処理装置のタツチパネルの画面における各表示領域を示す図である。

[図 4]基板処理装置の全体の状態を示す画面である。 [図 5]各処理室のメンテナンスに必要な画面（その 1 ) である。

[図 6]各処理室のメンテナンスに必要な画面（その 2 ) である。

[図 7]各処理室のメンテナンスに必要な画面（その 3 ) である。

[図 8]第 2の表示領域におけるタスク■ポタンの配置を概念的に示した図である。

[図 9]第 2の表示領域におけるタスク■ポタンを配置するための動作を説明するためのフローチヤ一卜である。

[図 10]第 2の表示領域におけるタスク■ポタンの配置動作を説明するための図である（その 1 ) 。

[図 11]第 2の表示領域におけるタスク■ポタンの配置動作を説明するための図である（その 2 ) 。

[図 12]第 2の表示領域におけるタスク■ポタンの配置動作を説明するための図である（その 3 ) 。

符号の説明

1 0 0 基板処理装置

2 0 0 制御部

2 1 0 プロセルコント口

2 2 0 入出力制御部

2 2 1 表示制御部

2 2 2 入力制御部

3 0 0 タツチパネル

3 1 1 第 1の表示領域

3 1 2 第 2の表示領域

3 1 3 第 3の表示領域

Claims

請求の範囲

[1 ] 少なくとも 1つの処理室を有する基板処理装置において、

表示パネルと、

前記表示パネルに少なくとも前記基板処理装置のメンテナンスに必要な画面及び所定の選択ポタンを表示するための制御を行う表示制御部と、前記表示パネルに表示された選択ポタンをクリックするための選択部とを具備し、

前記表示制御部は、

少なくとも前記基板処理装置のメンテナンスに必要な複数の画面から 1つの画面を選択する選択ボタンを、当該選択ボタンがクリックされた時間的な順番に応じた順番で並べて前記表示パネルの第 1の表示領域に表示し、前記選択ボタンによリ選択された画面を前記表示パネルの第 2の表示領域に表示する

ことを特徴とする基板処理装置。

[2] 請求項 1に記載の基板処理装置において、

前記表示制御部は、

前記第 2の表示領域の一辺に沿って前記第 1の表示領域を表示し、前記第 1の表示領域に表示される前記各選択ポタンが一定の長さとなるように表示し、

前記複数の選択ボタンの全体の長さが前記第 1の表示領域の長さを超えた場合には、前記超えた選択ポタンを履歴として残しておき、表示可能になつたときに再び前記第 2の表示領域に残リの前記選択ボタンを表示する

ことを特徴とする基板処理装置。

[3] 請求項 1又は請求項 2に記載の基板処理装置において、

前記表示制御部は、

前記第 2の表示領域に表示された画面を閉じるための選択ポタンを前記表示パネルの第 3の表示領域に表示し、

前記第 2の表示領域に表示された画面を閉じるための選択ポタンが前記選択部によリクリックされた場合に、前記第 2の表示領域の画面を閉じると共に前記第 1の表示領域に表示された前記画面に対応する選択ボタンを閉じることを特徴とする基板処理装置。

[4] 請求項 1から請求項 3のうちいずれか 1項に記載の基板処理装置において、前記表示制御部は、

前記第 2の表示領域に表示される処理室のメンテナンスに必要な画面として、当該メンテナンスの内容に応じた複数の画面のうち前記選択部により選択された一つの画面を、前記第 2の表示領域に表示する

ことを特徴とする基板処理装置。

[5] 請求項 1から請求項 4のうちいずれか 1項に記載の基板処理装置において、前記表示制御部は、

前記第 2の表示領域に前記各処理室の状態を表示する前記処理室毎の画面、前記基板処理装置の全体の状態を表示する画面を表示可能であり、前記第 1の表示領域に前記画面に対応する選択ボタンが表示可能であることを特徴とする基板処理装置。

[6] 請求項 1から請求項 5のうちいずれか 1項に記載の基板処理装置において、前記表示パネル及び前記選択部は、前記表示パネル上に前記選択部を設けたタツチパネルにより構成されることを特徴とする基板処理装置。

[7] 少なくとも 1つの処理室を有する基板処理装置を制御するための表示パネルの表示方法において、

少なくとも前記基板処理装置のメンテナンスに必要な複数の画面から 1つの画面を選択する選択ボタンを、当該選択ボタンがクリックされた時間的な順番に応じた順番で並べて前記表示パネルの第 1の表示領域に表示し前記選択ボタンによリ選択された画面を前記表示パネルの第 2の表示領域に表示する

ことを特徴とする表示方法。

[8] 請求項 7に記載の表示方法において、

前記複数の選択ボタンの全体の長さが前記第 1の表示領域の長さを超えた場合には、前記超えた選択ポタンを履歴として残しておき、表示可能になつたときに再び前記第 2の表示領域に残リの前記選択ボタンを表示することを特徴とする表示方法。

[9] 請求項 7又は請求項 8に記載の表示方法において、

前記第 2の表示領域に表示された画面を閉じるための選択ポタンが選択された場合に、前記第 2の表示領域の画面を閉じると共に前記第 1の表示領域に表示された前記画面に対応する選択ボタンを閉じる

ことを特徴とする表示方法。

[10] 請求項つから請求項 9のうちいずれか 1項に記載の表示方法において、前記第 2の表示領域に表示される処理室のメンテナンスに必要な画面として、当該メンテナンスの内容に応じた複数の画面のうち選択された一つの画面を、前記第 2の表示領域に表示する

ことを特徴とする表示方法。

[11] 少なくと 1つの処理室を有する基板処理装置を制御するための表示パネルの表示をコンピュータに実行させるプログラムが記録された記録媒体において前記プログラムは、

少なくとも前記基板処理装置のメンテナンスに必要な複数の画面から 1つの画面を選択する選択ボタンを、当該選択ボタンがクリックされた時間的な順番に応じた順番で並べて前記表示パネルの第 1の表示領域に表示させ、前記選択ボタンによリ選択された画面を前記表示パネルの第 2の表示領域に表示させる

ことを特徴とする記録媒体。

[12] 請求項 1 1に記載の記録媒体において、

前記プログラムは、

前記第 2の表示領域の一辺に沿って前記第 1の表示領域を表示させ、前記第 1の表示領域に表示される前記各選択ポタンが一定の長さとなるように表示させ、

前記複数の選択ボタンの全体の長さが前記第 1の表示領域の長さを超えた場合には、前記超えた選択ポタンを履歴として残しておき、表示可能になつたときに再び前記第 2の表示領域に残リの前記選択ボタンを表示させることを特徴とする記録媒体。

[13] 請求項 1 1又は請求項 1 2に記載の記録媒体において、

前記プログラムは、

前記第 2の表示領域に表示された画面を閉じるための選択ポタンを前記表示パネルの第 3の表示領域に表示させ、

前記第 2の表示領域に表示された画面を閉じるための選択ポタンが選択された場合に、前記第 2の表示領域の画面を閉じさせると共に前記第 1の表示領域に表示された前記画面に対応する選択ポタンを閉じさせる

ことを特徴とする記録媒体。

[14] 請求項 1 1から請求項 1 3のうちいずれか 1項に記載の記録媒体において、前記プログラムは、

前記第 2の表示領域に表示される処理室のメンテナンスに必要な画面として、当該メンテナンスの内容に応じた複数の画面のうち選択された一つの画面を、前記第 2の表示領域に表示させる

ことを特徴とする記録媒体。

[15] 少なくとも 1つの処理室を有する基板処理装置を制御するための表示パネルの表示をコンピュータに実行させるプログラムにおいて、

ことを特徴とするプログラム。

[16] 請求項 1 5に記載のプログラムにおいて、

前記複数の選択ボタンの全体の長さが前記第 1の表示領域の長さを超えた場合には、前記超えた選択ポタンを履歴として残しておき、表示可能になつたときに再び前記第 2の表示領域に残リの前記選択ボタンを表示させることを特徴とするプログラム。

[17] 請求項 1 5又は請求項 1 6に記載のプログラムにおいて、

ことを特徴とするプログラム。

[18] 請求項 1 5から請求項 1 7のうちいずれか 1項に記載のプログラムにおいて前記第 2の表示領域に表示される処理室のメンテナンスに必要な画面として、当該メンテナンスの内容に応じた複数の画面のうち選択された一つの画面を、前記第 2の表示領域に表示させる

ことを特徴とするプログラム。