WO2007105401A1 - スリットノズル洗浄装置 - Google Patents

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slit
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Hirotsugu Kumazawa
Shinji Takase
Atsuo Kajima
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Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
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Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/02—Cleaning by the force of jets or sprays
    • B08B3/024—Cleaning by means of spray elements moving over the surface to be cleaned
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B15/00—Details of spraying plant or spraying apparatus not otherwise provided for; Accessories
    • B05B15/50—Arrangements for cleaning; Arrangements for preventing deposits, drying-out or blockage; Arrangements for detecting improper discharge caused by the presence of foreign matter
    • B05B15/52—Arrangements for cleaning; Arrangements for preventing deposits, drying-out or blockage; Arrangements for detecting improper discharge caused by the presence of foreign matter for removal of clogging particles
    • B05B15/531—Arrangements for cleaning; Arrangements for preventing deposits, drying-out or blockage; Arrangements for detecting improper discharge caused by the presence of foreign matter for removal of clogging particles using backflow
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
    • B05C5/02—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
    • B05C5/0254—Coating heads with slot-shaped outlet

Definitions

  • the present invention relates to a slit nozzle cleaning device that cleans around a discharge outlet of a slit nozzle while moving along the longitudinal direction of the slit nozzle.
  • a slit nozzle has been conventionally used as an apparatus for coating a resist film or a coating solution to be a color filter with a certain width on a substrate such as a glass substrate.
  • a slit nozzle eliminates the waste of coating liquid and allows efficient application, but the amount of coating liquid that wraps around the periphery of the nozzle tip is widened, causing a large amount of foreign matter to be generated. .
  • Patent Document 1 discloses a structure in which a cleaning liquid jet and a gas jet are formed in a cleaning section that moves along the longitudinal direction of the slit nozzle (see FIG. 12). ).
  • Patent Document 2 there is a structure in which the lower end portion of the nozzle is exposed to the V-shaped receiving surface of the cleaning device, and the cleaning liquid is jetted from the rinse nozzle provided on the receiving surface to the vicinity of the slit for cleaning. It is disclosed (see Figure 8).
  • Patent Document 3 discloses a configuration in which a pre-dispensing part, a cleaning part, and a dip part are arranged in the vicinity of the terminal part in the movement direction of the slit nozzle.
  • Patent Document 1 Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-262127
  • Patent Document 2 Japanese Patent Laid-Open No. 7-328515
  • Patent Document 3 Japanese Unexamined Patent Publication No. 2005-270841
  • Patent Document 1 the cleaning device performs cleaning while moving along the longitudinal direction of the slit nozzle.
  • a cleaning nozzle force is continuously provided downward on the V-shaped receiving surface of the cleaning device. Since the gas nozzle is continuously provided above (see FIG. 12), it is assumed that the cleaning device reciprocates along the longitudinal direction of the slit nozzle to perform cleaning and drying.
  • the cleaning liquid is ejected during forward movement and dried with gas during backward movement. Since it will be made to dry, the time required from washing
  • the present invention provides a slit nozzle cleaning device that can reduce the time required for cleaning and drying the slit nozzle.
  • the slit nozzle cleaning device is movable along the longitudinal direction of the slit nozzle and is provided with a cleaning liquid supply unit having a cleaning liquid outlet for jetting the cleaning liquid to the slit nozzle, and a cleaning liquid attached to the slit nozzle.
  • a wiping member for wiping off and a drying section provided with an air outlet are provided in this order.
  • the slit nozzle cleaning device moves along the longitudinal direction of the slit nozzle.
  • a cleaning liquid supply unit provided with a cleaning liquid jet port for jetting the cleaning liquid to the slit nozzle, a wiping member for wiping the cleaning liquid adhering to the slit nozzle, and a drying unit having an air jet port are sequentially provided. Therefore, cleaning, wiping and drying are completed while the cleaning device moves forward along the slit nozzle.
  • the time required for cleaning can be greatly reduced as compared with the case of a cleaning apparatus configured to complete cleaning and further drying by reciprocating along slit slitting.
  • an air jet port may be provided in the cleaning liquid supply unit, whereby, for example, the cleaning liquid jetted from the cleaning liquid jet port It is also possible to guide the flow downward, and a flow in one direction (downward) can be created in the cleaning liquid. Accordingly, the cleaning efficiency can be increased and the cleaning liquid can be prevented from splashing around.
  • the air jet port provided in the cleaning liquid supply unit and the air jet port provided in the drying unit may be continuous in the longitudinal direction. This makes it possible to use a single air supply pipe, simplifying the system configuration.
  • the shape of the cleaning liquid outlet is a slit. It can also be a long port (longitudinal) whose longitudinal direction is the direction perpendicular to the longitudinal direction of the nose.
  • the area of the slit nozzle that is exposed to the cleaning liquid can be increased, and the cleaning effect of the cleaning liquid can be further enhanced. Therefore, the moving speed along the longitudinal direction of the cleaning device can be increased, and for example, the cleaning liquid can be reduced.
  • the apparatus for cleaning the nozzles of the liquid coating apparatus including the semiconductor manufacturing apparatus is particularly suitable for use in an apparatus where the coagulation of the coating liquid is a problem, and the entire production line is reduced by reducing the frequency of cleaning work. It is expected to improve the processing efficiency.
  • FIG. 1 is a plan view of a coating apparatus to which a cleaning apparatus according to the present invention is applied.
  • FIG. 2 is a side view of the coating apparatus shown in FIG.
  • FIG. 3 is an overall perspective view of the cleaning apparatus.
  • FIG. 4 is an overall perspective view of the cleaning apparatus.
  • FIG. 1 is a plan view of a coating apparatus to which the slit nozzle cleaning apparatus according to the present invention is applied
  • FIG. 2 is a side view of the coating apparatus shown in FIG. 1
  • FIG. 3 is an overall perspective view of the cleaning apparatus
  • FIG. FIG. 1 is a plan view of a coating apparatus to which the slit nozzle cleaning apparatus according to the present invention is applied
  • FIG. 2 is a side view of the coating apparatus shown in FIG. 1
  • FIG. 3 is an overall perspective view of the cleaning apparatus
  • FIG. FIG. 1 is a plan view of a coating apparatus to which the slit nozzle cleaning apparatus according to the present invention is applied
  • FIG. 2 is a side view of the coating apparatus shown in FIG. 1
  • FIG. 3 is an overall perspective view of the cleaning apparatus
  • FIG. FIG. 1 is a plan view of a coating apparatus to which the slit nozzle cleaning apparatus according to the present invention is applied
  • FIG. 2 is a side view of the coating apparatus shown in FIG. 1
  • the coating apparatus includes a base 1 provided with a pair of parallel rails (2, 2), and an upper surface of the base 1 that is an intermediate position between the rails (2, 2).
  • the stage 3 of the substrate W is fixed at the center of the substrate.
  • a moving mechanism (4, 4) is laid across the rails (2, 2) so as to straddle the substrate mounting stage 3, and a beam (5) is moved back and forth between these moving mechanisms (4, 4).
  • , 5) are constructed, and a frame is formed in a frame shape in plan view.
  • a slit nozzle 6 is mounted between the moving mechanisms (4, 4) in the middle of the beam (5, 5) via a lifting device.
  • the slit nozzle cleaning apparatus 10 of the present embodiment Is arranged on one end side of the base 1.
  • a plate 12 is engaged with a rail 11 provided in the width direction of the base 1, and a cleaning block 13 provided on the plate 12 can reciprocate along the longitudinal direction of the slit nozzle 6. It is said that.
  • the cleaning block 13 has left and right receiving surfaces (14, 14) that are V-shaped in a side view, and a cleaning liquid discharge port 15 is formed at the bottom. Yes.
  • the cleaning liquid supply unit 17, the wiping member 16, and the drying unit 18 are sequentially provided on the left and right receiving surfaces (14, 14) having a V shape.
  • the arrangement order may be such that when the cleaning apparatus 10 actually moves, the cleaning, the wiping, and the drying are performed in order. Therefore, when the start position of the cleaning device 10 is in the state shown in FIG. 3 and moved in the direction of the arrow in the figure (X force is also Y), as shown in FIG. 4, the left and right receiving surfaces (14, 14) front side
  • the cleaning liquid supply unit 17, the wiping member 16, and the drying unit 18 are provided in order. That is, the cleaning liquid supply unit 17 is provided upstream of the wiping member 16 and the drying unit 18 is provided downstream of the wiping member 16 on the basis of the traveling direction of the cleaning device 10.
  • the cleaning device 10 actually moves, the slit nozzle 6 can be cleaned, wiped off, and dried in that order only by moving in the forward direction.
  • the cleaning liquid supply unit 17 is provided with a plurality of cleaning liquid outlets 19 for ejecting the cleaning liquid to the slit nozzle 6 on the left and right receiving surfaces (14, 14) having a V-shape.
  • the number of force jets 19 provided with two ports on the left and right is not limited to this.
  • the cleaning liquid ejection port 19 has a long opening (vertically long shape) whose longitudinal direction is a direction perpendicular to the longitudinal direction of the shape force S slit nozzle 6.
  • the cleaning liquid can be strongly applied over a wide range near the discharge port of the slit nozzle 6 and the cleaning efficiency can be improved. Since the cleaning effect is thus improved, the moving speed along the longitudinal direction of the cleaning device 10 can be increased, and for example, the cleaning liquid can be reduced.
  • air jet outlets (20, 20) are opened above the cleaning liquid jet outlet 19. This When the air is actually ejected while the slit nozzle 6 is within the V-shaped receiving surfaces (14, 14) of the cleaning device 10 that are V-shaped, the outlet 15 below the cleaning liquid outlet 15 It is possible to form a one-way (downward) air flow toward the head, and the cleaning liquid adhering to the slit nozzle (for example, around the slit nozzle discharge port) 6 is guided to the lower outlet 15 without rising upward. be able to.
  • the wiping member 16 is provided at a substantially intermediate position in the length direction of the left and right receiving surfaces (14, 14). For example, the wiping member 16 wipes the cleaning liquid adhering to the slit nozzle (around the discharge port of the slit nozzle) 6. It is for scraping. As the wiping member 16, for example, felt or sponge can be used. The wiping member 16 is provided below (in the vicinity of the discharge port 15) on the left and right receiving surfaces (14, 14) having a V-shape.
  • the left and right wiping members (16, 16) are attached with a slight shift in the length direction with the discharge port 15 in between. In other words, by not attaching to the left and right objects, interference when the slit nozzle 6 is wiped off is prevented.
  • drying air jets (23, 23) formed in a slit shape are opened above the left and right receiving surfaces (14, 14). As a result, air can be blown onto the slit nozzle 6 (for example, around the discharge port of the slit nozzle), and the slit nozzle 6 can be dried.
  • the air jets (20, 20) of the cleaning liquid supply unit 17 provided above the cleaning liquid jet port 19 and the drying unit 18 are provided.
  • air of different pressures to increase the jet pressure at the drying section 18 as will be described later).
  • each air outlet is continuous.
  • a single air supply pipe can be used, and the device structure can be simplified.
  • each air outlet is provided independently as in the present embodiment, for example, the jet pressure of air from the air outlet (20, 20) of the cleaning liquid supply unit 17
  • the air pressure is small enough to give direction to the cleaning liquid ejected from the mouth 19, and the drying section 18
  • the air jet pressure from the air outlets (23, 23) can be increased to increase the air pressure to promote drying. That is, the air pressure can be adjusted individually.
  • the air outlets (20, 20) of the cleaning liquid supply unit 17 and the air outlets (23, 23) of the drying unit are of course continuous, as in the present embodiment. Even in the case where they are provided independently, as shown in FIG. 4, the air ejection rod extends above the wiping member 16 on the left and right receiving surfaces (14, 14) having a V-shape. ing. However, the shape, length, formation position, etc. of the air outlet are not limited to this.
  • the height position of the slit nozzle 6 can be changed in the vertical direction with respect to the left and right receiving surfaces (14, 14) having a V shape.
  • the wiping member can be moved without contacting the slit nozzle 6, and the slit nozzle 6 can be cleaned and dried only.
  • the cleaning device 10 is kept at the start position shown in FIG. 1, and the slit nozzle 6 is moved above the cleaning device 10 by the moving mechanism 4. To move.
  • the slit nozzle 6 is lowered, and the discharge port at the lower end is brought into contact with the wiping member (16, 16). Thereafter, the cleaning liquid is sprayed from the cleaning liquid outlet 19 around the outlet of the slit nozzle 6 and air is jetted from the air outlet 20, and then the spray cleaning device 10 is moved from one end to the other along the lane 11. Move toward (X force is also Y).
  • the part of the slit nozzle 6 facing the cleaning liquid supply part 17 is cleaned with the cleaning liquid, and the cleaned part is wiped by the wiping member (16, 16) as the cleaning device 10 moves, and the cleaning liquid is further wiped off.
  • the removed portion is moved to the drying section 18 by the movement of the cleaning device 10 and dried by air.
  • the slit nozzle cleaning device 10 of the present embodiment it is possible to clean and dry around the discharge port of the slit nozzle 6 only by moving along the slit nozzle 6.
  • the cleaning time can be significantly shortened compared with a cleaning apparatus that performs cleaning and drying by going and returning.
  • the wiping member (16, 16) is used in the slit nozzle cleaning device 10 of the above-described embodiment.
  • the force described when using felt or sponge can be used by using rubber or resin.

Landscapes

  • Coating Apparatus (AREA)
  • Cleaning In General (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)

Description

明 細 書
スリットノズノレ洗浄装置
技術分野
[0001] 本発明は、スリットノズルの長手方向に沿って移動しつつ、スリットノズノレの吐出口 廻りを洗浄するスリットノズル洗浄装置に関する。
背景技術
[0002] ガラス基板等の基板上にレジスト膜やカラーフィルタとなる塗布液を一定幅で塗布 する装置として従来からスリットノズルが用いられている。スリットノズルを用いれば塗 布液の無駄をなくし且つ効率的に塗布を行えるが、幅広となる分ノズル先端の周辺 部に塗布液の回り込み量も多ぐこれが乾燥すると大量の異物発生の原因となる。
[0003] そこで、特許文献 1では、スリットノズルの長手方向に沿って移動する洗浄部に、洗 浄液の噴出口とガスの噴出口を形成した構造が開示されてレ、る（図 12参照）。
[0004] また、特許文献 2では、洗浄装置の V字状をなす受け面にノズノレの下端部を臨ませ、 この受け面に設けたリンスノズルからスリット近傍に洗浄液を噴出して洗浄する構造が 開示されている（図 8参照）。
[0005] また特許文献 3では、スリットノズノレの移動方向の終端部近傍に、プリディスペンス 部、洗浄部及びディップ部を配置した構成が開示されてレ、る。
[0006] 特許文献 1 :特開 2005— 262127号公報
特許文献 2：特開平 7— 328515号公報
特許文献 3 :特開 2005— 270841号公報
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0007] ところで、特許文献 1では、洗浄装置がスリットノズノレの長手方向に沿って移動しな がら洗浄を行うが、洗浄装置の V字状をなす受け面において、下方に連続して洗浄 ノズノレ力設けられ、上方に連続してガスノズルが設けられているため（図 12参照）、ス リットノズルの長手方向に沿って洗浄装置が往復動することで洗浄と乾燥とを行うこと が推測される。この場合、例えば往動の際に洗浄液を噴出して復動の際にガスで乾 燥させることになるため、洗浄から乾燥までに要する時間が長くなつてしまう。
[0008] また、特許文献 2及び特許文献 3に開示される装置では、洗浄装置力 Sスリットノズル 下端部全体を同時に洗浄するため、均一な洗浄を行うことが難しく且つ大量の洗浄 液を必要とする。
[0009] 上述した点に鑑み、本発明は、スリットノズルの洗浄及び乾燥までに要する時間を 短縮させることができるスリットノズル洗浄装置を提供するものである。
課題を解決するための手段
[0010] 本発明に係るスリットノズノレ洗浄装置は、スリットノズノレの長手方向に沿って移動可 能とされ、スリットノズルに洗浄液を噴出する洗浄液噴出口を備えた洗浄液供給部と 、スリットノズルに付着した洗浄液を拭き取る拭き取り部材と、エア噴出口を備えた乾 燥部とが順に設けられている構成とする。
[0011] 本発明に係るスリットノズノレ洗浄装置によれば、スリットノズルの長手方向に沿って 移
動可能とされ、スリットノズルに洗浄液を噴出する洗浄液噴出口を備えた洗浄液供給 部と、スリットノズルに付着した洗浄液を拭き取る拭き取り部材と、エア噴出口を備え た乾燥部とが順に設けられてレ、るので、洗浄装置がスリットノズルに沿って往動する 間に洗浄、拭き取り及び乾燥までが完了する。これにより、例えばスリットノズノレに沿 つて往復することで洗浄更には乾燥までが完了する構成の洗浄装置の場合に比べ て、洗浄に要する時間を大幅に短縮させることができる。
[0012] 上述したスリットノズルの洗浄装置では、乾燥部に設けたエア噴出口とは別に、洗浄 液供給部にエア噴出口を設けることもできる、これにより、例えば洗浄液噴出口から 噴出された洗浄液を下方に導くことも可能になり、洗浄液に一方向（下向き）の流れ をつくることができる。従って洗浄効率を高めることができると共に洗浄液が周囲に飛 び散ることを防ぐこともできる。
またこの構成において、洗浄液供給部に設けられたエア噴出口と乾燥部に設けら れたエア噴出口とを長手方向において連続した構成とすることもできる。これにより、 エア供給配管を 1本にすることもでき装置構成を簡略化できる。
[0013] また、上述したスリットノズルの洗浄装置では、洗浄液噴出口の形状として、スリット ノズノレの長手方向に直行する方向を長軸方向とした長口（縦長）とすることもできる。 これにより、スリットノズルにおいて洗浄液があたる面積を広げることができ、洗浄液に よる洗浄効果を更に高めることができる。従って、洗浄装置の長手方向へ沿った移動 スピードを高めることも可能になり、例えば洗浄液を削減が可能になる。
発明の効果
[0014] 本発明のスリットノズノレ洗浄装置によれば、洗浄時間を大幅に短縮させることが可 能になる。従って、半導体製造装置をはじめとする液体塗布装置のノズルを洗浄する 装置において、特に塗布液の凝固が問題となる装置に用いられて好適であり、洗浄 作業頻度が低減することによる製造ライン全体の処理効率を向上させることが期待さ れる。
図面の簡単な説明
[0015] [図 1]本発明に係る洗浄装置を適用した塗布装置の平面図。
[図 2]図 1に示した塗布装置の側面図。
[図 3]同洗浄装置の全体斜視図。
[図 4]同洗浄装置の全体斜視図。
発明を実施するための最良の形態
[0016] 以下に本発明の実施の形態を添付図面に基づいて説明する。
図 1は本発明に係るスリットノズノレ洗浄装置を適用した塗布装置の平面図、図 2は 図 1に示した塗布装置の側面図、図 3は同洗浄装置の全体斜視図、図 4は同洗浄装 置の全体斜視図である。
[0017] 図 1及び図 2に示すように、塗布装置は基台 1に一対の平行なレール（2， 2)が設け られ、これらレール（2， 2)の中間位置となる基台 1上面の中央に基板 Wの載置ステ ージ 3が固定されている。そしてこの基板載置ステージ 3を跨ぐように移動機構 (4， 4 )がレール (2, 2)間に走行可能に架け渡され、これら移動機構 (4, 4)間には前後に ビーム（5， 5)が架設されており、平面視で枠状をなすフレームが構成されている。更 にビーム (5, 5)の中間で移動機構 (4, 4)間に昇降装置を介してスリットノズル 6が取 り付けられている。
[0018] このような構成の塗布装置においては、本実施の形態のスリットノズル洗浄装置 10 が基台 1の一端側に配置されている。この洗浄装置 10は、基台 1の幅方向に設けら れたレール 11にプレート 12が係合され、プレート 12上に設けた洗浄用ブロック 13が スリットノズル 6の長手方向に沿って往復動可能とされている。
[0019] 洗浄用ブロック 13は、図 3及び図 4に示すように側面視で V字状をなす左右の受け 面（14, 14)が形成され、底部に洗浄液の排出口 15が形成されている。
[0020] そして、本実施の形態においては特に、この V字状をなす左右の受け面（14， 14) に、洗浄液供給部 17、拭き取り部材 16、乾燥部 18が順に設けられている。
具体的には、洗浄装置 10が実際に移動した際に、先ずは洗浄、次に拭き取り、さら には乾燥が順に行われるような配置順であれば構わない。従って、洗浄装置 10のス タート位置を図 3に示すような状態とし図中矢印方向（X力も Y)に移動させる場合は、 図 4に示すように左右の受け面（14, 14)手前側から順に洗浄液供給部 17、拭き取り 部材 16、乾燥部 18を設けるようにしている。つまり、洗浄装置 10の進行方向を基準 として、拭き取り部材 16の前段に洗浄液供給部 17が設けられ、拭き取り部材 16の後 段に乾燥部 18が設けられている。これにより、洗浄装置 10が実際に移動した場合は 、行きだけの移動でスリットノズル 6に対して洗浄、拭き取り、乾燥を順に行うことがで きる。
[0021] なお、洗浄装置 10のスタート位置を図 3に示す場合から逆とした場合は (Yから X)、 左右の受け面（14, 14)において、拭き取り部材 16を挟んでの洗浄液供給部 17と乾 燥部 18の配置位置が図 4に示す状態から逆となる。
[0022] 洗浄液供給部 17は、 V字状をなす左右の受け面（14, 14)にスリットノズル 6に洗浄 液を噴出する洗浄液噴出口 19が複数設けられている。図示の例では左右にそれぞ れ 2つの口を設けている力 噴出口 19の個数はこれに限定されない。
[0023] 洗浄液噴出口 19は、その形状力 Sスリットノズル 6の長手方向に直行する方向を長軸 方向とした長口（縦長形状）とされている。これにより、スリットノズル 6の吐出口近傍の 広範囲にわたって洗浄液を強く当てることができ、洗浄効率を向上させることができる 。そしてこのように洗浄効果が向上したことから、洗浄装置 10の長手方向へ沿った移 動スピードも高めることも可能になり例えば洗浄液削減も可能になる。
[0024] また洗浄液噴出口 19の上方にはエア噴出口（20， 20)が開口されている。これによ り、スリットノズル 6が洗浄装置 10の V字状をなす左右の受け面（14, 14)内に収まつ た状態で実際にエアを噴出させた場合、洗浄液噴出口 19から下方の排出口 15へと 向かう一方向（下方）のエアの流れを形成することができ、スリットノズル (例えばスリツ トノズルの吐出口の廻り） 6に付着した洗浄液が上方へ舞い上がることなく下方の排 出口 15へと導くことができる。
[0025] 拭き取り部材 16は、左右の受け面（14， 14)の長さ方向の略中間位置に設けられ ており、例えばスリットノズル (スリットノズルの吐出口の廻り） 6に付着した洗浄液を拭 き取るためのものである。拭き取り部材 16としては、例えばフェルトやスポンジ等を用 レ、ることができる。なお、拭き取り部材 16は、 V字状をなす左右の受け面（14, 14)に おいて下方 (排出口 15の近傍）に設けられている。
なお、図 4に示す場合では、排出口 15を挟んで左右の拭き取り部材（16， 16)は長 さ方向に若干ずらして取り付けられている。即ち左右対象に取り付けないことでスリツ トノズル 6を拭き取る際の干渉を防いでいる。
[0026] 乾燥部 18では左右の受け面（14, 14)の上方にスリット状に形成された乾燥用のェ ァ噴出口（23, 23)が開口している。これにより、スリットノズル（例えばスリットノズルの 吐出口の廻り） 6にエアを吹きかけることができ、スリットノズル 6を乾燥させることがで きる。
[0027] なお、本実施の形態のスリットノズノレ洗浄装置 10では、上述した洗浄液噴出口 19 の上方に設けられた洗浄液供給部 17のエア噴出口（20, 20)と、乾燥部 18の上方 に設けられたエア噴出口（23， 23)とを連続せず独立して設け、別々のエア供給管 2 1 , 22を用いて異なる圧力のエア（後述するように乾燥部 18での噴出圧を大きくする )
を供給するようにしているが、それぞれのエア噴出口が連続した構成とすることもでき る。この場合は、エア供給配管を 1本にすることができ装置構造を簡素化することが できる。
[0028] 因みに本実施の形態のようにそれぞれのエア噴出口を独立して設けた場合は、例 えば洗浄液供給部 17のエア噴出口（20, 20)からのエアの噴出圧は、洗浄液噴出 口 19から噴出される洗浄液に方向性をもたせる程度の小さいエア圧とし、乾燥部 18 のエア噴出口（23, 23)からのエア噴出圧は、乾燥を促すために大きいエア圧とする こと力 Sできる。すなわちエア圧をそれぞれで調整することが可能になる。
[0029] なお、洗浄液供給部 17のエア噴出口（20, 20)及び乾燥部のエア噴出口（23, 23) を連続させた場合はもちろんであるが、本実施の形態のようにそれぞれが独立して設 けられている場合であっても、図 4に示すように、 V字状をなす左右の受け面（14, 14 )において拭き取り部材 16の上方にはエア噴出ロは延在している。しかしエア噴出 口の形状、長さ、形成位置等はこれに限定されない。
[0030] また、本実施の形態のスリットノズノレ洗浄装置 10では、 V字状をなす左右の受け面（1 4, 14)に対して、スリットノズル 6の高さ位置を垂直方向で変えることもできる。これに より、スリットノズル 6に対して例えば拭き取り部材を接触させることなく移動でき、スリ ットノズル 6に対して洗浄と乾燥のみを行うこともできる。
[0031] 次に、スリットノズル洗浄装置の実際の動作を説明する。
塗布が終了したスリットノズル 6の下端の吐出口を洗浄するには、先ず、洗浄装置 1 0を図 1に示すスタート位置に待機させておき、移動機構 4によってスリットノズル 6を 洗浄装置 10の上方まで移動させる。
[0032] 次いで、スリットノズル 6を下降させて、下端の吐出口を拭き取り部材（16, 16)に当 接させる。この後、洗浄液噴出口 19から洗浄液をスリットノズル 6の吐出口廻りに吹き 付けると共にエア噴出口 20からエアを噴出させた状態で、噴出洗浄装置 10をレー ノレ 11に沿って一端から他端に向けて (X力も Y)移動させる。
これにより、スリットノズル 6の洗浄液供給部 17に臨む部分は洗浄液により洗浄され 、洗浄された部分は洗浄装置 10が移動することで拭き取り部材（16, 16)によって拭 き取られ、更に洗浄液が拭き取られた部分は洗浄装置 10が移動することで乾燥部 1 8に臨みエアにより乾燥される。
[0033] このように本実施の形態のスリットノズノレ洗浄装置 10によれば、スリットノズル 6に沿 つた行きだけの移動だけで、スリットノズル 6の吐出口廻りを洗浄及び乾燥させること が可能になり、例えば行き及び帰りの移動により洗浄及び乾燥を行う洗浄装置の場 合に比べて洗浄時間を大幅に短縮することができる。
[0034] 上述した実施の形態のスリットノズル洗浄装置 10では、拭き取り部材（16, 16)とし てフェルトやスポンジを用いた場合を説明した力 これ以外にもゴムや樹脂等を用い ることちでさる。
なお、本発明は上述の実施の形態に限定されるものではなぐ本発明の要旨を逸脱 しない範囲でその他様々な構成が取り得る。

Claims

請求の範囲
[1] スリットノズルの長手方向に沿って移動可能とされたスリットノズノレ洗浄装置において
、スリットノズルに洗浄液を噴出する洗浄液噴出口を備えた洗浄液供給部と、前記ス リットノズルに付着した洗浄液を拭き取る拭き取り部材と、エア噴出口を備えた乾燥部 とが順に設けられていることを特徴とするスリットノズル洗浄装置。
[2] 請求項 1に記載のスリットノズル洗浄装置において、前記洗浄装置の進行方向を基 準として、前記拭き取り部材の前段に前記洗浄液供給部が設けられ、前記拭き取り 部材の後段に前記乾燥部が設けられていることを特徴とするスリットノズル洗浄装置。
[3] 請求項 1に記載のスリットノズル洗浄装置にぉレ、て、前記洗浄液供給部にはエア噴 出口が設けられてレ、ることを特徴とするスリットノズル洗浄装置。
[4] 請求項 3に記載のスリットノズル洗浄装置において、前記洗浄液供給部のエア噴出 口と前記乾燥部のエア噴出口とは長手方向において連続して形成されていることを 特徴とするスリットノズル洗浄装置。
[5] 請求項 1に記載のスリットノズル洗浄装置において、前記洗浄液噴出口はスリットノズ ルの長手方向に直行する方向を長軸方向とした長口であることを特徴とするスリットノ ズル洗浄装置。
[6] 請求項 1に記載のスリットノズル洗浄装置において、前記洗浄液供給口、前記拭き取 り部材、前記乾燥部のエア供給口は、前記スリットノズルの下端部が臨む V字状受け 面を構成する左右傾斜面に設けられていることを特徴とするスリットノズノレ洗浄装置。
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