WO2007069613A1

WO2007069613A1 - 液晶表示装置

Info

Publication number: WO2007069613A1
Application number: PCT/JP2006/324779
Authority: WO
Inventors: Atsushi Suemasu; Norihisa Moriya
Original assignee: Dai Nippon Printing Co., Ltd.
Priority date: 2005-12-14
Filing date: 2006-12-12
Publication date: 2007-06-21
Also published as: KR20080086451A; US7764339B2; CN101326460B; US20090109376A1; CN101326460A

Abstract

　本発明は、液晶がホメオトロピック配向状態を完全には維持されずに固定されてしまった場合であっても、光漏れを効果的に抑制可能な液晶表示装置を提供することを目的とする。　配向状態の可変な液晶を含有する液晶層２を挟んで対向する基板（３、４）を備え、対向する基板を挟んで第１の偏光板５と第２の偏光板６を互いに吸収軸を直交させて配設している液晶表示装置１において、第１の偏光板５と第２の偏光板６との間には、複屈折率層７が、重合性液晶を重合させて形成され、且つ複屈折率層７の厚み方向に対して傾斜した光軸を有して形成されており、複屈折率層７の光軸は、複屈折率層７の厚み方向に対して、第１の偏光板５もしくは第２の偏光板６のいずれかの吸収軸の方向に傾斜している。

Description

明細書

液晶表示装置

技術分野

[0001] 本発明は、複屈折率層の形成された液晶表示装置に関する。

背景技術

[0002] 液晶表示装置 (LCD)は、薄型化や軽量化容易である点や、消費電力を低減できる点、フリッカーを生じにくい点などといった利点があることから、テレビや医療機器など様々な分野に用いられているが、その一方で、使用者が液晶表示画面を見る角度によっては光漏れや階調反転現象を生じ、視野角が狭いという問題に加え、液晶表示画面に色むらが発生したりコントラストが低下するなどの問題を抱えていた。

[0003] これらの問題を解決するべぐ液晶セルからの出射光や液晶セルへの入射光の状態を制御する光学素子を設けた液晶表示装置が提案されている。

その場合、光学素子としては、トリァセチルセルロース（TAC)フィルムを 1軸延伸や 2軸延伸処理したフィルム材の他、液晶分子を特定方向に配向させて固定した層を用いた光学素子が提案されて！ヽる。

[0004] 特許文献 1には、フィルム面の法線方向に分子鎖を配向させた固有屈折率値が正のネマチック液晶ポリマー力もなる視角補償フィルムが提案されて、る。特許文献 1 には、この視角補償フィルムは、ガラス基板などの表面にアルキルシリコーン系ゃフルォロアルキルシリコーン系の表面処理剤で垂直配向膜を形成し、これでセルを作製して、そのセルに液晶分子を封入して液晶分子を光重合させて得られるものであることが開示されている。

[0005] 特許文献 2には、基板上に形成した垂直配向膜上に重合性液晶化合物を塗工することにより液晶化合物をホメオト口ピック配向させた液晶層を製造する方法が提案されている。この方法では、垂直配向膜の形成剤として長鎖アルキル型デンドリマー誘導体が用いられている。また、特許文献 2には、この方法によれば、ホメオト口ピック配向させた液晶層を備えたフィルム材が得られ、このフィルム材は位相差フィルムなどの光学フィルムとして使用可能であることが開示されている。 [0006] 特許文献 3には、垂直配向膜の設けられて、な、基板上に、液晶性フラグメント側鎖を含有するモノマーユニットと非液晶性フラグメント側鎖を含有するモノマーュ-ットとを含有する側鎖型液晶ポリマーを塗工し、さらに当該液晶ポリマーを液晶状態にお!ヽてホメオト口ピック配向させた後、その配向状態を維持した状態で固定ィ匕してホメオト口ピック配向液晶フィルムを製造する方法が提案されている。

[0007] 特許文献 4には、垂直配向膜の設けられて、な、基板に、基板側からバインダー層、次いでアンカーコート層を形成し、アンカーコート層に、側鎖型液晶ポリマーを塗ェしてホメオト口ピック配向させた後、ホメオト口ピック配向させた状態を維持したまま固定ィ匕して、ホメオト口ピック配向液晶フィルムを製造する方法が提案されている。この方法では、側鎖型液晶ポリマーとしては、垂直配向膜の設けられていない基板上でホメオト口ピック配向液晶層を形成し得るものが用いられる。

[0008] 特許文献 1 :特開平 5— 142531号公報

特許文献 2：特開 2002— 174724号公報

特許文献 3：特開 2002— 174725号公報

特許文献 4:特開 2003— 121852号公報

発明の開示

発明が解決しょうとする課題

[0009] し力しながら、特許文献 1の視角補償フィルムは、配向膜を有する 2枚の基板を用いてセルを作製し、この空セル内に液晶分子を封入し、液晶分子を垂直配向させ、その状態を維持させつつ液晶分子同士を光重合するという一連の工程の後に得られる。このように、特許文献 1の視角補償フィルムは、多くの製造工程を経てようやく得られるものである力、生産コストが著しく増大するという問題がある。し力も、視覚補償フィルムは、フィルム材なので液晶表示装置に用いる際には粘着剤を用いて固着する必要があり、液晶表示装置の液晶画面のコントラストを高めるにはこの粘着剤として特別のものを選定する必要がある。

[0010] 特許文献 2の方法では、基板上に垂直配向膜を設けてホメオト口ピック配向液晶層を得るにあたり、長鎖アルキル型デンドリマー誘導体という特殊な材料を用いる必要がある。すると、この方法によりホメオト口ピック配向液晶層を得る場合、生産コストが著しく増大してしまうという問題がある。

[0011] 特許文献 3に記載された方法により得られるホメオト口ピック配向液晶フィルムは側鎖

型液晶ポリマーからなり、ホメオト口ピック配向の状態で固定されていても昇温に伴つて流動性が増し、熱により複屈折特性が容易に影響を受けてしまうことから、所望の複屈折特性を維持することができる温度範囲が比較的狭い上、液晶ポリマーを固定化した部分の液晶ポリマーの配向性が不均一化し易い。すると、この方法で得られるホメオト口ピック配向液晶フィルムは、高い耐熱性が求められる液晶表示装置に用いることが困難なものであり、この液晶フィルムを使用可能な液晶表示装置が限定されてしまう。また、この方法では、上記した特許文献 1に記載されている方法と同様の問題を有している。

[0012] また、この方法によって得られたホメオト口ピック配向液晶フィルムを液晶表示装置に用いる場合、このフィルムが高温環境下におかれな、ようにすることが必要となるから、これを液晶表示装置の内部に配置することが難しい。このため、特許文献 3の方法により得られるホメオト口ピック配向液晶フィルムでは、これを液晶セルに設置できる位置が限定されてしまうという問題もある。

[0013] 特許文献 4に記載された方法により得られるホメオト口ピック配向液晶フィルムは側鎖

型液晶ポリマーからなるので、この方法では、上記した特許文献 3に記載されている方法と同様の問題を有している。また、この方法では、上記した特許文献 1に記載されて、る方法と同様の問題を有して、る。

[0014] また、液晶表示装置に、特許文献 1から 4に記載された方法により得られるホメオト口ピック配向液晶フィルムを敷設して液晶画面の視野角を拡大しょうとすると、液晶表示装置はこのようなフィルムを別体として新たに粘着材などを用いて貼付することが必要となる。別体を追加する必要性が大きくなるほど、光を多少なりとも乱反射させる部材が配置される虞が大きくなる。そうすると、液晶表示装置は、液晶表示画面の色むらが大きなものとなったり、コントラストが低下したものとなってしまう虡も大きくなる。

[0015] さらに、こうしたホメオト口ピック配向液晶フィルムでは、液晶分子に重合反応等といつた何らかの方法を施すことを用いて液晶分子をホメオト口ピック配向状態にて固定保持させようとする。し力しながら、液晶をほぼ完全にホメオト口ピック配向させた状態にして、液晶を固定する際にホメオト口ピック配向状態を維持することが難しぐ液晶分子がホメオト口ピック配向状態に対して傾きを持った配向状態となってしまうという問題がある。

このような場合、ホメオト口ピック配向液晶フィルムは、そのフィルム面の厚み方向に対して傾斜した光軸を有するものとなり、液晶表示画面の黒表示時に光漏れを招来してしまう。

[0016] そこで、液晶を完全にホメオト口ピック配向状態にした複屈折率層が形成されない場合であっても、液晶表示画面の光漏れを防止して黒表示できるようにするとともに、色むらの発生を抑え、コントラストの向上させる液晶表示装置を検討し、本発明を完成するに到った。

[0017] 本発明は、液晶がホメオト口ピック配向状態を完全には維持されずに固定されてしまった場合であっても、光漏れを効果的に抑制可能な液晶表示装置を提供することを目的とする。

課題を解決するための手段

[0018] 本発明の液晶表示装置は、配向状態の可変な液晶を含有する液晶層を挟んで対向する基板を備え、対向する基板を挟んで第 1の偏光板と第 2の偏光板を互いに吸収軸を直交させて配設している液晶表示装置において、第 1の偏光板と第 2の偏光板との間には、複屈折率層が、重合性液晶を重合させて形成され、且つ複屈折率層の厚み方向に対して傾斜した光軸を有して形成されており、複屈折率層の光軸は、複屈折率層の厚み方向に対して、第 1の偏光板もしくは第 2の偏光板のいずれかの吸収軸の方向に傾斜してヽることを特徴とする。

[0019] 本発明の液晶表示装置では、複屈折率層が、重合性液晶をホメオト口ピック配向状態にして重合させて形成されてもよい。また、複屈折率層は、分子形状が棒状の重合性液晶を 3次元架橋重合させて形成されてヽてもよヽ。

[0020] 本発明の液晶表示装置は、複屈折率層の光軸が複屈折率層全面に均一に傾斜して!、るものであってもよ!/、。 [0021] 本発明の液晶表示装置では、複屈折率層が対向する基板の間に積層形成されていてもよい。

[0022] 本発明の液晶表示装置において、対向する基板の少なくとも一方には、着色層が形成されていてもよぐまた、複屈折率層が、着色層面上に形成されていてもよい。

[0023] 本発明の液晶表示装置では、着色層が、ストライプ型の配置パターンにて配置されて形成される所定波長の光を透過させる着色画素を備えており、第 1の偏光板と第 2 の偏光板のいずれかの吸収軸の方向がストライプ型の着色画素の長手方向に一致していてもよい。

[0024] 本発明の液晶表示装置では、傾斜した光軸を有する複屈折率層とは異なる光軸を有する異複屈折率層が、傾斜した光軸を有する複屈折率層と第 1の偏光板の間に形成されていてもよい。

[0025] 本発明の液晶表示装置では、傾斜した光軸を有する複屈折率層が、着色層を形成した基板と液晶層との間に形成されており、且つ、傾斜した光軸を有する複屈折率層とは異なる光軸を有する異複屈折率層が、着色層を形成した基板と第 1の偏光板の間に形成されてヽてもよ、。

[0026] 本発明の液晶表示装置では、傾斜した光軸を有する複屈折率層とは異なる光軸を有する異複屈折率層が、傾斜した光軸を有する複屈折率層と第 1の偏光板の間に形成されており、異複屈折率層の光軸は、第 1の偏光板もしくは第 2の偏光板の吸収軸の方向と向きを揃えて、てもよ、。

[0027] 本発明の液晶表示装置では、傾斜した光軸を有する複屈折率層とは異なる光軸を有する異複屈折率層が、傾斜した光軸を有する複屈折率層と第 1の偏光板の間にあつて、着色層を形成した基板と液晶層との間に形成されており、且つ、異複屈折率層の光軸は、第 1の偏光板もしくは第 2の偏光板の吸収軸の方向と向きを揃えていてもよい。

[0028] 本発明の液晶表示装置によれば、異複屈折率層については、フィルム材を備えて構成されるちのでもよい。

発明の効果

[0029] 本発明の液晶表示装置によれば、複屈折率層の光軸がその厚み方向に対して、第 1の偏光板もしくは第 2の偏光板の吸収軸方向に傾斜しているので、重合性液晶を重合反応させて形成される複屈折率層におヽて重合性液晶の状態が不完全なホメォトロピック配向状態になってしまっている場合であっても、黒表示時に、複屈折率層の厚み方向に対する光漏れを生じな、ようにすることが可能となり、さらに正面コントラストの低下を防止することも可能となる。

[0030] 本発明の液晶表示装置によれば、基板面上で重合性液晶を重合させて複屈折率層を形成することにより、複屈折率層を別体で製造して接着剤などを用いて貼付けする必要がなくなり、接着剤などの層の存在によって多層化することに伴なう光の界面反射を低減し、正面コントラストの低下をより抑制することができる。また、液晶表示装置は、複屈折率層を、重合性液晶を 3次元的に架橋重合させることで形成することができるので、複屈折率層の構造をより強固にすることができる。さらに、本発明の液晶表示装置によれば、複屈折率層は、紫外線の照射により重合可能なサーモトロピック型液晶を架橋重合して形成されてもよぐこの場合、複屈折率層を形成する液晶の配向性は熱による影響を受け難くなり、例えば車内のように比較的高温になり易い環境下で使用される光学機器に対しても適用可能な液晶表示装置となすことができる。

[0031] 本発明の液晶表示装置によれば、重合性液晶の分子が均一に傾斜した配向状態を形成していることにより、すなわち複屈折率層の光軸がその全面に亘つて均一に傾斜して、ることにより、複屈折率層面上の位置の違!、によって複屈折率層の厚み方向への光漏れの抑制能に違いが生じにくくなり、むらなく液晶表示装置力の光漏れを抑制することができるようになる。

[0032] 本発明の液晶表示装置によれば、対向する基板の間に複屈折率層が積層形成されることにより、液晶表示装置の組み立ての際、基板を挟むように偏光板などを配設する工程において、偏光板が複屈折率層に衝突する虞が抑えられ、複屈折率層が損傷してしまう虞が抑制される。

[0033] 本発明の液晶表示装置が、対向する基板の少なくとも一方に着色層を積層し、その着色層面上に複屈折率層を積層形成しているような場合、このような液晶表示装置によれば、複屈折率層は別体の位相差フィルムなどとして接着剤などで積層形成させることを要せず、着色層と複屈折率層との間に接着剤などの層を形成することなく液晶表示装置を形成することが可能であるから、位相差フィルムと接着剤の層との界面といった異なる部材間の界面数を減ずることができ、着色層と複屈折率層の間を進行する光について界面反射が発生する虡を抑制することができる。

[0034] 本発明の液晶表示装置によれば、着色画素の配置パターンとしてストライプ型を採用し、視覚での認識が容易な着色画素の長手方向に偏光板の吸収軸の方向を合わせることで構成されることにより、確実に且つ簡易に効率よぐ複屈折率層の光軸の傾斜方向を第 1の偏光板もしくは第 2の偏光板のいずれかの吸収軸に一致させることができ、効率的に製造された液晶表示装置が得られる。

[0035] 本発明の液晶表示装置では、傾斜した光軸を有する複屈折率層とは異なる光軸を有する異複屈折率層が、傾斜した光軸を有する複屈折率層と第 1の偏光板の間に形成されていることで、例えば、異複屈折率層を所謂 +Aプレートとし、複屈折率層を所謂 +Cプレートとするなど、異なる光学補償機能を発揮させる層構造を形成してもよ!ヽこととなり、液晶表示装置からの光漏れをより効率よく低減するための光学補償機能をより効果的に発揮させることができる。

[0036] 本発明の液晶表示装置では、傾斜した光軸を有する複屈折率層が、着色層を形成した基板と液晶層との間に形成されており、且つ、傾斜した光軸を有する複屈折率層とは異なる光軸を有する異複屈折率層が、着色層を形成した基板と第 1の偏光板の間に形成されていることで、着色層の形成された基板と液晶層との間に複屈折率層を形成し、これを所謂 +Aプレートとなし、着色層の形成された基板と液晶層との間に複屈折率層を形成し、これを所謂 +Cプレートとすることができ、液晶表示装置からの光漏れをより効率よく低減することができる。

[0037] 本発明の液晶表示装置によれば、異複屈折率層の光軸が第 1の偏光板もしくは第 2の偏光板の吸収軸の方向と向きを揃えていることで、液晶表示装置力の光漏れをより効率よく低減するための光学補償機能をより一層効果的に発揮させることができる。

[0038] 本発明の液晶表示装置によれば、異複屈折率層がフィルム材を備えて構成されることで、異複屈折率層を必要に応じて別途追加して設置することが容易になる。図面の簡単な説明

[0039] [図 1]図 1は本発明の液晶表示層装置の構造を説明するための分解説明図である。

[図 2A]図 2Aは発明の液晶表示装置の実施例において図 1における F方向力もみた吸収軸と屈折率楕円体の関係を説明する説明図である。

[図 2B]図 2Bは本発明の液晶表示装置の他の実施例において図 1における F方向からみた吸収軸と屈折率楕円体の関係を説明する説明図である。

[図 3A]図 3Aは複屈折率層の設置位置を説明するための概略断面図である。

[図 3B]図 3Bは複屈折率層の設置位置を説明するための概略断面図である。

[図 3C]図 3Cは複屈折率層の設置位置を説明するための概略断面図である。

[図 4A]図 4Aは異複屈折率層を備えた液晶表示装置の実施例の一つを説明するための概略断面図である。

[図 4B]図 4Bは着色層を備えた液晶表示装置の実施例の一つを説明するための概略断面図である。

[図 5A]図 5Aは本発明の液晶表示装置におけるスイッチング回路を説明する概略平面図である。

[図 5B]図 5Bは本発明の液晶表示装置における他のスイッチング回路を説明する概略平面図である。

[図 6]着色層を備えた液晶表示装置において、着色層と偏光板の配置関係を説明するための図である。

符号の説明

[0040] 1 液晶表示装置

2 液晶層

3 第 1の基板

4 第 2の基板

5 第 1の偏光板

6 第 2の偏光板

7 複屈折率層 10 着色層

20 スイッチング回路

30 基材

31 異複屈折率層

発明を実施するための最良の形態

[0041] 本発明の液晶表示装置 (第 1の形態の液晶表示装置という）について、詳細に説明する。

図 1は、本発明の液晶表示装置を説明するための概略説明図である。図 2Aは、本発明の液晶表示装置における偏光板の吸収軸の方向と複屈折率層の屈折率楕円体の図 1の F方向にみた場合の関係を説明するための概略説明図である。

なお、第 1の形態の液晶表示装置の実施例として、対向する基板の一方に複屈折率層が形成されて、る場合にっ、て説明する。

[0042] 液晶表示装置 1は、液晶層 2 (駆動液晶層ということがある。）を挟んで対向する第 1 の基板 3および第 2の基板 4 (以下、単に基板ということがある。）を備えるとともに、第 1の基板 3および第 2の基板 4を挟み込んで (基板の外側面に)第 1の偏光板 5および第 2の偏光板 6を配設しており、第 1の偏光板 5および第 2の偏光板 6との間に複屈折率層 7を形成している。

なお、液晶表示装置において内側面や外側面は、液晶層 2に近い方力遠い方に向力つて内外方向とした場合において、その内外方向の定めに従って指定される内側や外側の面であるものとする。

[0043] 第 1の基板 3や第 2の基板 4は、光透過性を有する基材からなる層を備え、基材単層からなる構造で構成されても、基材を多数重ね合わせてなる多層構造で構成されても、基材カゝらなる層に所定の機能を備えた機能層を積層して構成されてもよい。基板には、基材の両面に機能層が形成されても、基材の片面に機能層が形成されてもよい。

[0044] 基材の光透過率は、適宜選定可能である。また基材には、部分的に遮光領域等が設けられてもよい。

[0045] 基材としては、ガラス基板 (ガラス材)の他、種々の材質からなる板状体を適宜選択できる。具体的には、例えば石英ガラス、ホウケィ酸ガラス、合成石英板等の可撓性のない部材 (リジット材）、榭脂フィルム、榭脂板等の可撓性を有する部材 (フレキシブル材)を用いることができる。

なお、基材を液晶表示装置に用いる場合には、基材は無アルカリガラスであることが好ましい。

[0046] 基材が榭脂フィルムや榭脂板等の榭脂を用いた部材である場合、基材に用いる榭脂としては、具体的には、ポリカーボネート系高分子、ポリアリレートやポリエチレンテレフタレート（PET)の如きポリエステル系高分子、ポリイミドゃポリアミドイミドなどのポリイミド系高分子、ポリスルホン系高分子、ポリエーテルスルホン系高分子、ポリスチレン系高分子、ポリエチレンやポリプロピレンの如きポリオレフイン系高分子、ポリエーテルケトン系高分子、ポリビニルアルコール系高分子、酢酸セルロース系高分子、ポリ塩化ビュル系高分子、ポリメチルメタタリレート系高分子等の熱可塑性ポリマー、トリアセチルセルロース（TAC)フィルム、液晶ポリマーなどを挙げることができる。

[0047] また、基材としては、上記したような榭脂からなる榭脂フィルムを 1軸延伸または 2軸延伸したものが用いられてもよ!/、。

この場合、榭脂フィルムは、ポリエチレンテレフタレートからなるフィルムであると、延伸倍率のレンジ幅が広い点、さらには入手のしゃすさ等の観点から好ましい。

[0048] 機能層は、光の状態を変化させる機能を有する層であって、複屈折率層 7とは構成の異なる層であり、着色層、液晶の配向性の固定されたコレステリック液晶からなる層、光を反射させる反射板、偏光板などが具体的に例示される。また、機能層は、基材全面に設けられるのみならず、基材面に対して部分的に設けられていてもよい。

[0049] さらに、機能層は、液晶層 2を構成する液晶の分子を水平に配向させる水平配向膜や、液晶の分子を垂直に配向させる垂直配向膜のような配向膜でもよい。

[0050] 配向膜としては、ポリイミド、ポリアミド、ポリビュルアルコール等が通常使用される。

なお、配向膜としてポリイミドを用いる場合は、長鎖アルキル基を有するものであることが、液晶の分子を固定して複屈折率層を基板に形成しょうとする場合に複屈折率層の厚みを広、範囲で選択することができて好まし、。

[0051] 配向膜は、これを構成する膜組成液を調整して、この膜組成液をフレキソ印刷やスピンコート等の方法で基板面上に塗布して塗工膜を形成させ、さらにその塗工膜を硬化させて形成できる。膜組成液としては、例えばポリイミドを含むものとしては、日産化学社製の SE— 7511や SE— 1211、 JSR社製の JALS— 2021— R2、日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社製の QL及び LX等のシリーズ、あるいはチッソ株式会社製のリクソンァライナー等を具体的に例示できる。

[0052] 配向膜は、その膜厚が 0.01〜1 μ m程度の範囲であることが好ましい。配向膜の膜厚力 0.01 mよりも薄いと、配向膜に接する複屈折率層などの層中に含まれる液晶に所望の配向を付与することが困難になる虞がある。また、配向膜の膜厚が 1 mよりも厚、と、この配向膜自体が光を乱反射させて液晶表示装置の光透過率が大きく低下する虞がある。

[0053] 第 1の偏光板 5、第 2の偏光板 6 (単に、偏光板ということがある。）は、図 1や図 2A、図 2Bに示すように、これらの偏光板 5、 6を複屈折率層 7の厚さ方向にみた場合（図 1 における矢印 F方向にみた場合）に偏光板 5、 6の吸収軸 Pl、 P2が互いに直交しているように配置されている。この場合、偏光板 5、 6の透過軸は偏光板面上においてそれぞれ吸収軸 Pl、 P2に垂直に交差して形成されている。すなわち第 1の偏光板 5と第 2の偏光板 6とはクロス-コルに配置されて、る。

[0054] 図 1において、複屈折率層 7は、第 1の基板 3と液晶層 2との間に形成されている。

[0055] 複屈折率層 7は、重合可能であってやや細長な分子形状の液晶（重合性液晶ということがある)分子を、ホメオト口ピック配向させた状態にしてこれら液晶分子同士を重合させてなる高分子構造を備える。この場合、高分子構造は、重合性液晶の分子を架橋重合させて 3次元構造 (架橋高分子構造)を形成して!/ヽてもよ!ヽ。

[0056] 重合性液晶としては、重合性液晶のモノマー、オリゴマー、ポリマーのいずれを用いてもよぐこれらを適宜組合わせて用いてもよい。

[0057] 複屈折率層 7の架橋高分子構造においては、液晶分子の架橋度が 80以上程度であることが好ましぐ 90以上程度であることがより好ましい。液晶分子の架橋度が 80より小さ!/、と、均一な配向性を十分に維持できな、虞がある。 [0058] 複屈折率層 7は、これを構成する液晶分子の屈折率異方性とその配向状態に応じた複屈折率特性 (複屈折特性)を有するが、複屈折率層 7の複屈折率特性は、屈折率楕円体 Aを用いて、屈折率楕円体 Aの状態に応じて特定される（図 1)。

[0059] 屈折率楕円体 Aの状態は、複屈折率層 7面上の各位置において特定されうる。複屈折率層 7における複屈折率特性を表す屈折率楕円体 Aの状態は、複屈折率層 7の予め選択された各位置ごとに特定される屈折率楕円体 Aの状態のおよそ平均的な状態として特定できる。

[0060] 例えば、屈折率楕円体 Aの平均的な状態は、複屈折率層面上の異なる位置を複数選択して屈折率楕円体の状態の測定対象となる位置 (測定位置)とし、各測定位置における屈折率楕円体 Aの状態を計測して平均することによって特定される。

[0061] ここで、この屈折率楕円体 Aの状態は、屈折率楕円体 Aの形状と、屈折率楕円体 Aの傾斜状態にて示される。

[0062] 屈折率楕円体 Aの形状は、複屈折率層 7の厚み方向に z軸（図 1中において zで示す)をとるとともに、 z軸を法線とするような平面上に X軸と y軸（図 1中においてそれぞれ x、 yで示す)を互いに直角に交差し且つ z軸と交わるようにとることにより、 X軸と y軸と z軸で指定される空間を考えた場合に、その空間内において、屈折率 (図 1中において nx、 ny、 nzで示す）の値に応じた楕円体として特定される。屈折率 nx、 ny、 nzは、複屈折率層 7を構成する液晶分子の光軸力 S_z軸方向に平行する（向きを揃える）場合の複屈折率層を想定し、その想定された複屈折率層における X軸、 y軸、 z軸それぞれの方向の光の屈折率として指定される。なお、この空間において、 X軸と y軸は、 z軸方向からみた場合にそれぞれ偏光板 5、 6の吸収軸 Pl、 P2に重なる（方向を揃えている）ように指定されている。

[0063] 上記空間内における屈折率楕円体 Aの傾斜状態は、その長軸 a (光軸を示す。）の傾斜状態によって特定され、長軸 aの傾斜状態は、傾斜角（図 1において φで示す）と方位角（図 2Bにおいて Θで示す)で特定される。ここで、傾斜角 φは、屈折率楕円体 Aの長軸 aと z軸のなす角度である。また、方位角 Θは、傾斜角 φの値がゼロ以外である場合に、 z軸方向に第 1の偏光板 5から第 2の偏光板 6に向力、 (F方向に)長軸 aをみながら、 z軸のまわりを左回りに屈折率楕円体 Aを回転させて長軸 aを X軸 (第 1の偏光板 5の吸収軸 PI)に重ねるために必要な回転角度を示すものとする。

[0064] 複屈折率層 7は、屈折率楕円体 Aの傾斜角 φの値が 0 (ゼロ）であることが理想的であるが、液晶の分子が複屈折率層 7内でその厚み方向（図 1にお、て z軸方向）に対して傾斜していることが多ぐこのような場合、複屈折率層 7は、その傾斜角 φがゼロ以外の値となり、その厚み方向に対して傾斜した光軸を有することになる。

[0065] このように複屈折率層 7の傾斜角 φがゼロ以外の値である場合、複屈折率層 7は、その厚み方向にみた場合、その屈折率楕円体 Aの長軸 a (光軸)を、第 1の偏光板 5と第 2の偏光板 6の吸収軸 Pl、 P2のうちのいずれか一方の方向と同じ方向を向けて（方向を揃えて)いる（図 2A、図 2B)。すなわち、複屈折率層 7の屈折率楕円体 Aにおける長軸 aの方位角 0のおおよその値が、 0° 、90° 、 180° 、 270° のいずれかである

[0066] 複屈折率層 7は、その複屈折率特性に対応し、複屈折率層 7に入射する光 (入射光）に対してリタデーシヨンを生じさせうる。リタデーシヨンは、入射光に対して生じる常光と異常光との光路差であり、リタデーシヨンの大きさ（リタデーシヨン値）は、常光の屈折率 noと異常光の屈折率 neとすると、複屈折 Δ n (noと neとの差）と d (複屈折率層 7の膜厚）の積として与えられる。ここにおいて、 no、 neの値と上記 nx、 ny、 nzの値との对 i関係 ίま、 no=nx=ny、 ne=nzでめ。

したがって、複屈折率層 7では、液晶分子の種類、液晶分子の配向の程度、複屈折率層 7の膜厚などを適宜選択して、複屈折率特性が制御されると、これに対応してリタデーシヨンの大きさが制御される。

[0067] リタデーシヨンの大きさは、 RETS-1250VA (大塚電子社製）や KOBRA— 21 (王子計測機器社製)等の市販の測定装置を用いて測定できる。この場合、特定波長の入射光を複屈折率層に照射してリタデーシヨンが測定されるが、その測定波長は、可視領域 (380〜780nm)であることが好ましぐ特に、比視感度の最も大きい 550nm付近で測定することがより好ましい。

[0068] 複屈折率層 7においては、より均一に液晶分子がホメオト口ピック配向した状態に近づけられた複屈折率層 7を得ようとする観点からしてみると、リタデーシヨンの大きさは lnm以下であることが好ましぐ O.lnm以下であることがより好ましぐ理想的にはゼロであることが好ましい。

[0069] 複屈折率層 7の膜厚は、液晶の分子をホメオト口ピック配向させることが可能な範囲内、具体的には厚さ方向のリタデーシヨンが lnm以下となる範囲内で適宜選定することが好ましぐリタデーシヨンが O.lnm程度以下となる範囲内で適宜選定することが更に好ましい。

[0070] 複屈折率層 7は、その表面上の互いに異なる位置における屈折率楕円体の傾斜状態を略同じくし、屈折率楕円体の傾斜状態のばらつきが少ないことが好ましい。具体的には、各位置における屈折率楕円体の傾斜角のばらつきは、 2° 程度の範囲内であることが好ましい。このような場合、液晶表示装置は、黒表示時に正面方向（F方向 )以外から見た時には、多少光漏れにムラが出たり、黒表示以外でも光学補償にムラが生じてしまうが、上記したばらつきの範囲が 2° を超えてしまう場合には、こうしたムラが肉眼でも認識できるほどになってしまう虞がある。

[0071] 複屈折率層 7は、垂直配向膜上に形成される場合、複屈折率層 7に含まれる液晶の分子は、垂直配向膜に近い位置にあれば、強くホメオト口ピック配向した状態 (傾斜角 φの値がほぼ 0)となる。また、液晶の分子が垂直配向膜から離れた位置にあると、ホメオト口ピック配向が弱くなるため、垂直配向膜 7から離れた位置にある液晶の分子についても強くホメオト口ピック配向した状態となれば、複屈折率層 7は、液晶分子のチルト角が均一化したものとなり、均一に液晶分子がホメオト口ピック配向した状態となる。

[0072] 複屈折率層 7では、架橋高分子構造を構成する単位である液晶分子のチルト角について、複屈折率層 7の垂直配向膜との境界面に最も近い位置にある液晶分子のチルト角と、この液晶分子に対して複屈折率層の厚さ方向に最も離れた位置にある液晶分子のチルト角とが略等しいことが好ましい。この場合、複屈折率層 7における液晶分子各々のチルト角は、この厚さ方向におよそ均一になる。このような場合、複屈折率層 7は、その複屈折率特性をその面方向に均一化させやすいものとなり、光漏れの抑制能のむらを抑えやすいものとなる。

[0073] そして、複屈折率層 7は、複屈折率層 7における液晶分子のチルト角を、その面方向に各々相等しく均一にしていることが好ましぐ複屈折率層 7全面に亘つて相等しいことがより好ましい。このような場合、屈折率楕円体 Aの状態が複屈折率層 7面上の異なる位置においておおよそ同じ状態となり、複屈折率層 7の複屈折率特性は、その面方向に均一になっている。すなわち、複屈折率層 7の光軸は、複屈折率層 7面上の位置のいかんにかかわらずおおよそ均一になっている。すると、複屈折率層 7面上の位置に応じた光漏れの抑制能にむらがより生じに《なる。

[0074] また、複屈折率層 7では、上述のように複屈折率層 Aの光軸の方位角 Θがおおよそ 0° 、90° 、 180° 、 270° のいずれかの値であり、そのようになる場合としては、複屈折率層 7に含まれる個々の液晶分子の光軸の方位角が、その存在位置によらずに一様におおよそ 0° 、90° 、 180° 、 270° のいずれかの値である場合 (第 1のケース）と、液晶分子の光軸の方位角が、存在位置の異なる液晶分子についておおよそ 0° 、 90° 、 180° 、 270° のいずれか互いに異なる値をとつている場合 (複屈折率層 7の液晶分子のレベルにおいて方位角が部分的に異なっている場合）にあって、複屈折率層 7全体として見ると光軸の方位角 Θが上記いずれかの値となっている場合 (第 2のケース）と、を挙げることができ、複屈折率層 7は第 1のケースに相当するものでも第 2 のケースに相当するものでもよ、が、第 1のケースに相当するものが好まし!/、。

[0075] さらに、上記第 1のケースと第 2のケースのいずれの場合についても、液晶分子の光軸の傾斜状態のばらつき力上記したおおよそ 0° 、90° 、 180° 、 270° のそれぞれの値に対して少ないことが好ましぐ具体的に、液晶分子の方位角については、そのばらつきの幅が 2° の範囲に収まっていることが好ましい。第 1のケースでは、液晶分子の光軸の方位角が一様におおよそ 0° である場合を一例にとると、複屈折率層 7 の液晶分子の存在位置として多数箇所選んでも、その全ての位置にお！、て液晶分子の光軸の方位角が 0° の前後 2° の範囲内にあることが好ましい。また、第 2のケースでは、複屈折率層 7の屈折率楕円体 Aの長軸 aが第 1の偏光板 5の吸収軸 P1の方向と同じ方向を向く場合には、液晶分子の光軸の方位角のおおよその値は、 0° もしくは 180° のいずれかとなり、また複屈折率層 7の屈折率楕円体 Aの長軸 aが第 2の偏光板 6の吸収軸 P2の方向と同じ方向を向けている場合には、液晶分子の光軸の方位角のおおよその値は、 90° もしくは 270° となる力そうした方位角それぞれの値について前後 2° の範囲内にあることが好ましい。例えば、第 2のケースにおいて、液晶分子の方位角がおおよそ 0° と 180° の組み合わせとなっている場合には、複屈折率層 7の液晶分子の存在位置として多数選んでも、その全ての位置にお、て液晶分子の光軸の方位角が 0° の前後 2° の範囲内あるいは 180° の前後 2° の範囲内にあることが好ましい。

[0076] なお、複屈折率層 7の光軸の状態は、上記したように複屈折率層 7面上に予め選ばれた各位置ごとに特定される光軸の状態のおよそ平均的な状態 (光軸の状態を特定する φ、 0などの値の平均値）として定義できるが、複屈折率層 7面上の異なる位置における複屈折率層 7の光軸の傾斜状態が略同様な状態となっている場合、複屈折率層 7面上の 1箇所で計測した光軸の傾斜状態が複屈折率層 7の光軸の傾斜状態を示しうる。

[0077] また、複屈折率層 7内の異なる位置における液晶分子の光軸の傾斜状態についても、その光軸の傾斜状態 (チルト角、方位角、屈折率で定まる光軸の状態）について平均的な状態を定め、それらの状態にて複屈折率層 7の液晶分子の光軸の傾斜状態が定義できる。具体的には、複屈折率層 7に含まれる液晶分子の光軸の方位角が 0° 、90° 、 180° 、 270° より選択された 0° 、 180° 2種類の値となっているような場合を一例とすると、複屈折率層 7の液晶分子の光軸の傾斜状態は、方位角については 0° と 180° とを組み合わせた状態にある、などとして具体的に定義することができる。

[0078] 複屈折率層 7を構成する液晶分子としては、分子構造中に不飽和 2重結合を有し、液晶状態で架橋可能なものが用いられる。したがって、重合性液晶としては分子の末端に不飽和 2重結合を有するものが用いられる。

また、液晶分子としては、その複屈折 Δ ηが 0.03〜0.20程度であるものが好ましぐ 0.0 5〜0.15程度であるものが更に好ましい。このような液晶分子としては、下記式 1から式 11で表される化合物を具体例に例示できる。耐熱性の点から好ましくは 3次元架橋可能なものが良ぐ分子の末端に不飽和 2重結合を 2以上有するものが用いられるさらに、複屈折率層 7を構成する液晶分子としては、下記化学式 (化 1)から (化 11)に表される化合物の複数種類が選択されても良い。 [0079] [化 1]

[0080] [化 2]

[0081] [化 3]

[0082] [ィ匕 4]

[0083] [化 5]

[0084] [化 6]

H₂C = CHC0₂

[0085] [化 7]

[0086] [化 8]

[0087] [化 9]

[0088] [化 10]

(なお、 Xは、 4から 6の整数である。 )

[0090] 複屈折率層 7は、垂直配向膜上全面に亘つて液晶分子を重合させて形成されている場合に限定されず、各種印刷方法やフォトリソグラフィ一法を用いて垂直配向膜上にパター-ングされてパターン形成されてもょ、。

[0091] 本発明の液晶表示装置では、複屈折率層 7は、第 1の偏光板 5と第 2の偏光板 4との間に形成されておれば、図 1に示すような第 1の基板 3と液晶層 2との間に積層形成される場合に限定されず、複屈折率層 7は、第 1の基板 3と第 1の偏光板 5との間や、第 2の基板と第 2の偏光板 4との間などにも積層形成可能である。

[0092] また、複屈折率層 7は、対向する基板 (第 1の基板と第 2の基板)の間に形成されるとしてもよい。具体的には、複屈折率層 7は、第 1の基板 3と液晶層 2との間に積層形成される他、第 2の基板と液晶層 2との間に形成されてもよい。

[0093] 液晶表示装置において、第 1の基板 3と液晶層 2との間や第 2の基板 4と液晶層 2との間の位置に複屈折率層 7を形成する場合、複屈折率層 7を第 1の基板の外面に露出させないようにすることができ、偏光板 5、 6の基板 3、 4への貼付け等といった液晶表示装置の組み立て工程の際や使用の際に外部から作用力を受けても複屈折率層が容易に損傷してしまう虞を抑制できる。

[0094] 液晶層 2は、複屈折率層 7を積層した第 1の基板 3と、第 2の基板 4との間に液晶が封入されて形成される。

[0095] 液晶層 2に封入される液晶は、適宜選択されるが、 ZU-2293(メルク社製)などを具体的〖こ挙げることができる。

[0096] 液晶層 2を構成する液晶は、外部力の電場に応じて配向状態が可変であり、これにより、液晶表示装置は液晶層を進行する光の位相差の制御が可能となる。

[0097] 基板 3、 4と液晶層 2との間には、図 4Aに示すように、配向膜 50、 51が液晶層 2の界面と接するように形成されることがあるが、配向膜は、基板 3、 4の間に形成される液晶層 2の液晶を、水平配向させるための水平配向膜、又は、前記の液晶を垂直配向させるための垂直配向膜である。配向膜として水平配向膜及び垂直配向膜のどちらを用いるかは、適宜選択可能である。

[0098] この液晶表示装置には、たとえば、光を第 2の基板 4力第 1の基板 3方向に向かう方向に入射させるにあたり、光源 62と、光源 62から発せられた光を第 2の偏光板 6の面方向に拡散させつつ導く導光板 60と、導光板 60で導かれた光を第 2の基板 4方向に進行させる光反射板 61とを備えた光照射部 63が配設されていてもよい（図 4A) 。この場合光照射部 63から光が第 2の偏光板 6に入射すると、第 2の基板 4、液晶層 2を通過して第 1の偏光板 5の吸収軸に対して垂直に振動する光となすことができる。そして、さらにその光が着色層 10を通過して所定の波長の光が第 1の偏光板 5の外側に向力つて出射されるようになる。

[0099] 本発明の液晶表示装置は、液晶の分子を架橋重合させた構造を備えた複屈折率層を基板に積層して設けているので、比較的高い耐熱性を有する液晶表示装置を低コストの下に得ることが可能になる。また、光学補償を行なうために別体で製造された位相差制御フィルムを介装させずに液晶表示装置を製造することが可能となり、液晶表示装置を幅薄にすることができ、しかも、位相差制御フィルム材の介装時に塗布する必要のあった接着剤などの粘着剤も不要となるので、接着剤などの層が存在して多層化することに伴なう界面反射を低減することができるようになり、コントラストなどの液晶表示画面の表示特性を一層向上させることができる。

[0100] この液晶表示装置によれば、複屈折率層が液晶をホメオト口ピック配向させた状態にして架橋重合ィ匕してなる構造を備えることから、この複屈折率層の厚み方向を z軸にして xyz直交座標を想定したとき、屈折率楕円体 Aの傾斜角 φの値がゼロである場合、屈折率楕円体 Aの屈折率 nx、 ny、 nzはそれぞれ x軸方向、 y軸方向、 z軸方向に平行し、 X軸方向の屈折率 nxと y軸方向の屈折率 nyはほぼ同じ値になり、 z軸方向の屈折率 nzは、屈折率 nx、 nyよりも大きくなるような状態にすることができる。 [0101] したがって、このような場合、複屈折率層 7を、屈折率が nz>nx=nyであるような複屈折率特性を有する層、すなわちその厚さ方向（z軸方向）に光軸を有する層となすことができるとともに 1軸性の複屈折率特性を有する層とすることができて、いわゆる「 + Cプレート」として機能させることができ、光のリタデーシヨンに対して光学補償することができる位相差制御機能を有する液晶表示装置として機能させることができる。

[0102] さらに、この液晶表示装置では、屈折率楕円体 Aの傾斜角 φの値がゼロ以外の値をとる場合、方位角 0がおおよそ 0° 、90° 、 180° 、 270° のいずれかの値をとる。ここで、方位角 Θがこれらの値以外であると、図 2Bにおいて破線にて示すように、 z 軸方向からみた場合（図 1における矢印 F方向からみた場合）に、長軸 a (光軸）が吸収軸 P1や吸収軸 P2のいずれにも重ならない。すると、複屈折率層 7を通過する光に位相差が与えられ、吸収軸 P1に垂直な (第 1の偏光板 5の透過軸に平行な)光の成分が生じ、光漏れが生じてしまう。

これに対して、この液晶表示層装置では、方位角 Θが上記したような値をとるように構成されているから、複屈折率層 7の厚み方向に対して光漏れを生じる虞が抑制される。

[0103] したがって、この液晶表示装置では、より +Cプレートとしての機能を一層確実なものとすることができる。

[0104] 本発明の液晶表示装置は、複屈折率層を複数形成しているものであってもよい。

[0105] この場合、複数の複屈折率層は、互いに複屈折率特性の異なる層であってもよい。

なお、以下、複屈折率層 7と複屈折率特性の異なる層を異複屈折率層ということがある。すなわち異複屈折率層は、第 1の形態における複屈折率層 7の複屈折率特性 (+

Cプレート）とは異なる複屈折率特性を有する層をなす。

[0106] この場合、異複屈折率層は、傾斜した光軸を有する複屈折率層 7と異なる光軸を有している。

[0107] 具体的には、異複屈折率層は、上記した屈折率が nz=nxく nyあるいは nz=nyく nxであるような複屈折率特性を有する層、 V、わゆる「+Aプレート」として機能する層であってもよぐまた、上記した屈折率が nz<nx=nyであるような複屈折率特性を有する層、、わゆる「- Cプレート」として機能する層であってもよ!/、。 [0108] なお、上記したいわゆる「+Aプレート」として機能する異複屈折率層は、例えば第 1 の偏光板 5と第 1の基板 3との間や、第 1の基板 3と複屈折率層 7との間の位置など、第 1の偏光板と複屈折率層 7の間に形成させることができる。

[0109] 所謂 +Aプレートは、具体的には、例えば、液晶を水平配向させることが可能な榭脂材料やフィルム材などを用いて、その表面上に水平配向膜形成用塗膜を形成し、水平配向膜形成用塗膜の表面をラビング処理や光配向処理を施すことによって水平配向膜を得て、液晶を溶媒に溶解させた溶液を水平配向膜上に塗工し、液晶の分子をホモジ-ァス配向させて固定することにより得ることができる。

[0110] また、上記 +Aプレートは、第 1の基板 3の外側面もしくは内側面に、上記同様に、水平配向膜を作製して、水平配向膜上に液晶の分子をホモジニァス配向させて固定することにより得ることがでさる。

[0111] なお、液晶表示装置において、このような +Aプレートは、その光軸の向きが第 1の偏光板 5もしくは第 2の偏光板 6の吸収軸の向きと揃う（一致する）ように配置されている。

[0112] このように液晶表示装置を構成すると、第 2の偏光板、第 2の基板、液晶層の順に通過した光が +Cプレートを通過した後 +Aプレートを通過して第 1の偏光板へと進行させることができ、そのような光の液晶表示装置の厚みに対して斜め方向への光漏れを +Cプレートと +Aプレートの組合わせ構造により抑制させる光学補償機能を発揮可能な液晶表示装置となり、液晶表示装置の視野角が拡大される。

[0113] また、光軸の異なる複屈折率層 (複屈折率層 7、異複屈折率層 31)が複数形成されている場合、複屈折率層 7と異複屈折率層 31は、互いに当接して積層されていてもよいが（図 3A)、これに限定されず、第 1の基板 3と第 1の偏光板 5との間の位置、第 1 の基板 3と液晶層 2との間の位置や、液晶層 2と第 2の偏光板 6との間の位置といった位置に、複屈折率層 7と異なり異複屈折率層 31とも異なる層を介在させつつ積層形成されてもよい（図 3B、図 3C)。

[0114] 複屈折率層 7には、その表面を保護するため、例えばアクリル系感光性榭脂等の絶縁膜などの保護層（図示せず)が複屈折率層 7表面上に積層されてもよい。

[0115] 次に、本発明の液晶表示装置の製造方法について詳細に説明する。本発明の液晶表示装置は、次に示すように製造できる。

[0116] まず複屈折率層 7を積層形成する第 1の基板 3を構成するための基材として、予め、配向性を付与された基材を用意する。例えば、基材として、 1軸延伸フィルムや 2軸延伸フィルムなどそれ自体配向性を付与されたものや、光配向膜を用いて偏光照射されたものを用意する。

[0117] なお、基材としては、基材表面上に形成される複屈折率層 7に含まれる液晶の種類や、液晶に付与しょうとする配向性に応じて、液晶の配向性をより容易にする処理（配向容易化工程)を予め行っておき、この配向容易化工程の結果として得られたものを用いてもよい。

[0118] 配向容易化工程の実施された基材として、基材に配向膜を形成する処理を行って液晶の配向性を付与可能にしたものが調整されても良い。このように基材上に配向膜が形成されて配向能を有するものによれば、配向膜を構成する組成液を様々に選択することにより、配向可能な方向を比較的広範囲に選択することが可能であるといぅ禾 IJ点がある。

[0119] 配向容易化工程として行われる配向膜を形成する処理は、複屈折率層 7に含まれる液晶の種類などに応じて適宜条件を選択され実施される。すなわち、たとえば、複屈折率層 7がその中に含まれる液晶をホメオト口ピック配向状態にして固定されて構成されて!/ヽる場合、配向容易化工程としては垂直配向膜を形成する処理が選択されて実施されることが好まし、。

[0120] 垂直配向膜は、次に示すように基材面上に形成される。すなわち、上記したような材料を用いてポリイミドを含む膜組成液を調整し、これを光透過性を有する基材の面に、フレキソ印刷やスピンコートなどの方法で塗布して垂直配向膜用塗工膜を作製し、さらにこの垂直配向膜用塗工膜を硬化させることにより、基材に垂直配向膜の形成された基材 (垂直配向膜形成基材)を得る。

[0121] 基材に配向膜を形成する際において、配向膜表面の撥水性又は撥油性が高い場合には、液晶をホメオト口ピック配向させることが可能な範囲内で予め UV洗浄やブラズマ処理を介在させることにより、配向膜表面の濡れ性を予め高めて!/、てもよ!/、。

[0122] このように基材が準備されると、次に示すような各工程を経て、複屈折率層 7が基材に積層形成される。

まず、基材に積層する複屈折率層 7を構成する液晶を溶媒に分散させて複屈折率層組成液を作製する。そして、この複屈折率層組成液を基材面に塗布して塗工膜を形成する（塗工膜形成工程)。より具体的には、たとえば、基材として垂直配向膜形成基材を準備し、さらに液晶分子とポリイミドを溶媒に溶解して複屈折率層組成液を調整し、これを垂直配向膜形成基材の垂直配向膜面上に塗布して塗工膜を作製する。

[0123] 塗工膜形成工程にぉヽて、複屈折率層組成液の塗布方法としては、公知の塗布方法を用いることができ、具体的には、スピンコート法、ダイコーティング法、スリットコ一ティング法、ロールコート法、グラビアコート法、スライドコート法、浸漬法等の各方法や、これらを適宜組合わせた方法により、基材上に塗工液を塗布することができる。なお、基材と塗工膜との密着性を上げるため、特開平 8— 278491号公報に記載されているように、基材上に接着層を設け、さらにその接着剤層上に複屈折率層組成液を塗布することもできる。

[0124] 複屈折率層組成液における液晶の重量比は 5重量％〜50重量％である。 50重量 %よりも多くなると、複屈折率層 7の膜厚分布が大きくなる虞があり、 5重量％よりも少なくなると塗布ムラが発生する虞がある。このことを考慮して、液晶の重量比は、 5重量部から 50重量部であることが好ましぐ 10重量部〜 30重量部であることがより好ましい。

[0125] 溶媒としては、重合性液晶を溶解できるものであれば特に限定されるものではなぐ有機溶媒を適宜選択できる。なお、基材上に複屈折率層組成液を塗布して塗工膜を形成するにあたりスピンコート法を用いる場合は、溶媒として、酢酸 3—メトキシブチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルァセテート、シクロへキサノン等が好ましく使用される。

[0126] 複屈折率層組成液は、液晶の分子を効果的にホメオト口ピック配向させるために、側鎖にアルキル基を有するポリイミドを配合しても良い。この場合、複屈折率層組成液は、側鎖にアルキル基を有するポリイミドと液晶との配合比率が重量比で 1Z7から 1/3である。また、複屈折率層組成液におけるポリイミドの配合量は、複屈折率層組成液中の液晶の総量に対して 12.5〜25重量％とすることが好ましぐ 15〜22.5重量％とすることが更に好ましい。ポリイミドの配合量力 12.5重量％より小さいと、十分均一にホメオト口ピック配向した複屈折率組成物を得ることが困難になる虞があり、 25重量 %よりも大きいと、光の透過率が低下する虞がある。

[0127] 複屈折率層組成液には、光重合開始剤が添加されて、ることが好ま、。

[0128] 光重合開始剤としては、ラジカル重合性開始剤を好適に使用できる。ラジカル重合性開始剤は、紫外線等のエネルギーによりフリーラジカルを発生するものであり、例えば、ベンジル（ビベンゾィルともいう）、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインィソプロピルエーテル、ベンゾフエノン、ベンゾィル安息香酸、ベンゾィル安息香酸メチル、 4一べンゾィルー 4'ーメチルジフエ-ルサルファイド、ベンジルメチルケタール、ジメチルァミノメチルベンゾエート、 2— n ブトキシェチル 4 ジメチルァミノべンゾエート、 p ジメチルァミノ安息香酸イソァミル、 3, 3，一ジメチルー 4ーメトキシベンゾフエノン、メチロベンゾィルフォーメート、 2—メチル 1— (4— (メチルチオ）フエ-ル） — 2 モルフォリノプロパン一 1 オン、 2 -ベンジル - 2-ジメチルァミノ 1— (4— モルフォリノフエ-ル）一ブタン一 1—オン、 1— (4—ドデシルフェ-ル） 2ヒドロキシ —2—メチルプロパン一 1—オン、 1—ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン、 2—ヒドロキシ一 2—メチル 1—フエ-ルプロパン一 1—オン、 1— (4—イソプロピルフエ- ル）ー2 ヒドロキシー2 メチルプロパンー1 オン、 2 クロ口チォキサントン、 2, 4 ジェチルチオキサントン、 2, 4 ジイソプロピルチォキサントン、 2, 4 ジメチルチォキサントン、イソプロピノレチォキサントン、 1 クロロー 4 プロポキシチォキサントン等が挙げることができる。本発明においては、市販の光重合開始剤を適宜使用することもできる。例えば、チバ 'スぺシャリティー'ケミカルズ社製の「ィルガキュア 184 (物質名： 1 ヒドロキシシクロへキシルフエ-ルケトン）」、「ィルガキュア 369 (物質名： 2 —ベンジル一 2—ジメチルァミノ一 1— (4—モルフォリノフエ-ル）一ブタン一 1—オン )」、「ィルガキュア 651 (物質名： 2, 2 ジメトキシ— 1, 2 ジフエ-ルェタン— 1—ォン）」、「ィルガキュア 907 (物質名： 2—メチルー 1一（4 （メチルチオ）フエ-ル） 2 —モルフォリノプロパン一 1—オン）」、「ダロキュア 1173 (物質名： 2 ヒドロキシ一 2— メチルー 1 フエ-ルプロパン 1 オン）」等のケトン系化合物や、 2, 2，—ビス（o— クロ口フエ-ル）—4, 5, 4，ーテトラフエ-ルー 1, 2，ビイミダゾール（黒金化成株式会社製)等のビイミダゾール系化合物を用いてもょ、。

[0129] 光重合開始剤は、重合性液晶の液晶規則性を大きく損なわない範囲で添加することが好ましい。光重合開始剤の添加量としては、一般的には 0.01〜10重量％、好ましくは 0.1〜7重量％、より好ましくは、 0.5〜5重量％の範囲で複屈折率層組成液に添カロすることがでさる。

[0130] なお、複屈折率層組成液には、光重合開始剤の他に増感剤を、本発明の目的が損なわれない範囲で添加することもでき、具体的には 0.01〜1重量％の範囲内で選択される。

[0131] また、光重合開始剤及び増感剤は、それぞれ、 1種類のみ用いられてもよいし、 2種類以上が併用されてもよい。

[0132] 複屈折率層組成液には、界面活性剤が添加されて、ることが好ま、。複屈折率層組成液は界面活性剤を添加されることにより、これを塗布して形成される塗工膜にぉ、て、空気界面での液晶の分子の配向性を制御できる。

界面活性剤としては、重合性液晶の液晶発現性を損なうものでなければ、特に限定されることはない。例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシェチレンアルキルァリルエーテル、ポリオキシエチレン誘導体、ポリオキシエチレン 'ポリオキシプロピレンブロック重合体、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリォキシエチレンアルキルアミン等の非イオン性界面活性剤、脂肪酸塩、アルキル硫酸エステル塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、アルキルスルホコハク酸塩、アルキルジフヱ-ルエーテルジスルホン酸塩、アルキルリン酸塩、ポリオキシエチレンアルキル硫酸エステル塩、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、特殊ポリカルボン酸型高分子界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル等の陰イオン性界面活性剤等が挙げられる。

界面活性剤の添カ卩量としては、一般的には 0.01〜1重量％、好ましくは 0.05〜0.5重量％の範囲で固定液晶層組成液に添加することができる。

[0133] 塗工膜形成工程で基材上に塗工膜が形成されると、塗工膜に含まれる液晶を液晶相にするとともに、例えば次に示すように液晶をホメオト口ピック配向の状態にする。

[0134] すなわち、塗工膜を加熱して、塗工膜の温度を、この塗工膜中の液晶が液晶相となる温度 (液晶相温度)以上、この塗工膜中の液晶が等方相 (液体相）となる温度未満にすることで、液晶をホメオト口ピック配向させる。このとき塗工膜の加熱手段は、特に限定されず、加熱雰囲気下におく手段でもよいし、赤外線で加熱する手段でもよい。

[0135] なお、液晶をホメオト口ピック配向させる方法は、上記方法による他、塗工膜に含まれる液晶やこの塗工膜の状態に応じ、塗工膜を減圧乾燥する方法によっても、塗工膜に対して所定方向から電場や磁場を負荷する方法によっても実現可能である。

[0136] 塗工膜を減圧乾燥することによって、液晶をホメオト口ピック配向させる場合には、減圧状態とすることで塗工膜を過冷却状態にすることでき、塗工膜中の液晶をホメォトロピック配向させた状態を凡そ保持したままこの塗工膜を室温までさらに冷却できる。すると、液晶を架橋反応させるまで、効率よく液晶をホメオト口ピック配向させた状態がおおきく乱れな、ようにすることができる。

[0137] 塗工膜中でホメオト口ピック配向した液晶は、次にしめすように架橋反応されて固定され、複屈折率層 7が形成される (複屈折率層形成工程という)。

[0138] この架橋反応は、液晶の感光波長の光を塗工膜に照射 (露光)することで進行する。このとき、塗工膜に照射する光の波長は、この塗工膜中に含まれている液晶の種類に応じて適宜選択される。なお、塗工膜に照射する光は、単色光に限らず、液晶の感光波長を含む一定の波長域を持った光であってもよ、。

[0139] 露光に用いる光としては、励起エネルギーの大きさから電離放射線が好ましぐ電離放射線の照射量は、使用する重合性液晶に応じて適宜選択されるが、電離放射線として紫外線を使用する場合は、その照射量は、一般に、液晶相予定部位の露光量が 10〜1000mjZcm²程度であるように調整されることが好ましぐまたその波長は、 200〜450nm程度が好ま U、。

[0140] なお、塗工膜に含まれる液晶を硬化させる方法としては、塗工膜に 50〜500Gy程度の電子線を照射して硬化させる方法を用いてもょ、。

[0141] 液晶の架橋反応は、液晶が液晶相から等方相へ相転移する温度よりも 1〜10°C低い温度まで塗工膜を加熱しながら架橋反応を行なうことが好ましい。こうすることで、この架橋反応の際に液晶のホメオト口ピック配向の乱れを低減することができる。また、この観点から、架橋反応を行なう温度は、液晶が液晶相から等方相へ相転移する温度よりも 3〜6°C低い温度であることがより好ましい。

[0142] なお、液晶の架橋反応は、上記したような方法のほか、不活性ガス雰囲気中で、塗工膜を液晶相温度にまで加熱しながら液晶の感光波長の光を塗工膜に照射する方法 (方法 Aとヽぅ）で実施されてもょ、。

[0143] 方法 Aでは、不活性雰囲気下で液晶が架橋されており、空気雰囲気下で液晶が架橋される場合に比べ、液晶分子の配向の乱れがより抑制される。

[0144] また、液晶の架橋反応は、不活性ガス雰囲気中または空気雰囲気中で、塗工膜を液晶相温度まで加熱しながら液晶の感光波長の光を塗工膜に照射して架橋反応を部分的に進行させ (部分的架橋工程という）、部分的架橋工程の後、液晶が結晶相となる温度 (Tc)まで塗工膜を冷却し、この状態でさらに感光波長の光を塗工膜に照射して架橋反応を進行させて完了させる方法 (方法 Bとヽぅ）で実施されてもょヽ。なお、上記した温度 Tcは、架橋反応を進行させる前の塗工膜において液晶が結晶相となる温度である。

[0145] 部分的架橋工程では、温度 Tcまで塗工膜を冷却しても、その塗工膜中に含まれる液晶の配向性が維持される程度に、架橋反応が進行している。したがって、部分的架橋工程における架橋反応の進行の程度は、塗工膜中の液晶の種類や、その塗工膜の膜厚などに応じて適宜選択されるが、おおよそ、部分的架橋工程では液晶の架橋度が 5〜50となるまで架橋反応を進行させることが好ましい。

[0146] 方法 Bは、不活性ガス雰囲気下でも空気雰囲気下でも実施することができるが、空気雰囲気下で行なうことが、架橋反応を行なう工程を実施するための設備を簡略ィ匕でき、液晶表示装置の製造コストを抑制できる観点力も好まし、。

[0147] こうして複屈折率層形成工程が行われると、基材上に形成された塗工膜中の重合性液晶が架橋重合されて硬化され、複屈折率層 7が形成され、複屈折率層 7を備えた第 1の基板 3が形成される。

[0148] 次に、第 2の基板 4を構成する基材を準備する。この基材としては、第 1の基板 3と同様なものが用いられても良ぐこれと異なるものが用いられても良い。 [0149] 複屈折率層 7を備えた第 1の基板 3、および、第 2の基板 4を用いて、次に示すように液晶層を形成する。

まず、互いにやや間隔をあけて第 1の基板 3と第 2の基板 4を対向配置するとともに、第 1の基板 3と第 2の基板 4の間隙にスぺーサ（例えば球状スぺーサ又は柱状スぺーサ）を配して、第 1の基板 3と第 2の基板 4の離間間隔 (セルギャップ)を固定する。

[0150] つぎに、シール材 (熱硬化性榭脂）を用いて両基板 (第 1の基板 3と第 2の基板 4)の間にシール材で区画化された空間部を形成する。そして、この空間部に液晶材料を充填することにより、液晶の封入が行なわれ、液晶層 2が形成される。

[0151] さらに、第 1の偏光板 5と第 2の偏光板 6が、液晶層 2の厚み方向にみた場合に互いに吸収軸 Pl、 P2を直交させるように、それぞれ第 1の基板 3の外側面と第 2の基板 4 の外側面に、両基板 3、 4を挟むように配設される。このとき、両偏光板 (第 1の偏光板 5と第 2の偏光板 6)はクロス-コルに配置されている。また、複屈折率層 7の厚み方向は液晶層 2の厚み方向に揃っており、両偏光板 5、 6は、複屈折率層 7の厚み方向に見た場合もクロス-コルに配置されて、る。

[0152] なお、複屈折率層形成工程にお!、て、液晶の分子がほぼ完全にホメオト口ピック配向の状態にて固定される場合、複屈折率層 7は、その複屈折率特性を指定する屈折率楕円体の傾斜角 φがほぼ 0° であり、第 1の偏光板と第 2の偏光板は、複屈折率層の屈折率楕円体の状態を考慮することなく設置されうる。

[0153] 複屈折率層形成工程において、複屈折率層 7が、その複屈折率特性を指定する屈折率楕円体の傾斜角 Φが 0° 以外であるように形成されている場合、第 1の偏光板 5 と第 2の偏光板 6は、複屈折率層 7の屈折率楕円体における方位角 Θのおおよその値が、 0° 、90° 、 180° 、 270° のいずれかになるように設置される。すなわち、複屈折率層 7の屈折率楕円体を複屈折率層 7の厚み方向にみた場合に、第 1の偏光板 5 の吸収軸 P1や第 2の偏光板 6の吸収軸 P2のいずれかが複屈折率層 7の屈折率楕円体の長軸 a (光軸)の方向と揃う（重なる）ように、第 1の偏光板 5および第 2の偏光板 6 が設置される。

[0154] こうして、本発明の液晶表示装置 1が製造される。

[0155] 本発明における第 1の形態の液晶表示装置は、対向する基板の少なくとも一方に着色層 8を形成して、るものであってもよ、（第 2の形態と、う）。

図 4Bは、第 2の形態の液晶表示装置の実施例における断面構造を示す概略図である。

[0156] この液晶表示装置 1においては、対向する基板の一方 (例えば、第 1の基板 3)を構成する基材 30上に機能層として着色層 10が積層形成されており、複屈折率層 7が着色層 10面上に更に積層されている。そして、異複屈折率層 31が着色層 10の形成された基板と第 1の偏光板 5との間に形成されている。

[0157] 着色層 10は、所定波長領域の可視光を透過する着色画素部 8と、遮光部 9 (ブラックマトリタスあるいは BMと!、うことがある）とからなる。

[0158] 着色画素部 8は、赤色、緑色、青色各々につ!/、て各色の波長帯の光を透過させる着色画素（それぞれ赤色着色画素 8a、緑色着色画素 8b、及び青色着色画素 8cという）を所定のパターンで基材 30に配置して形成される。着色画素部 8を構成する赤色着色画素 8a、青色着色画素 8b、緑色着色画素 8cの配置形態としては、ストライプ型、モザイク型、トライアングル型等種々な配置パターンを選択することができる。

また、これらの着色画素（8a、 8b、 8c)に代えて、各色の補色の波長帯の光を透過させる着色画素を用いることも可能である。

[0159] 着色画素部 8は、各色の着色画素（8a、 8b、 8c)毎に、着色画素の着色材料を溶媒に分散させた着色材料分散液の塗膜を、例えばフォトリソグラフィ一法で、所定形状にパター-ングすることで形成される。

[0160] なお、着色画素部 8は、フォトリソグラフィ一法のほ力、各色の着色画素（8a、 8b、 8 c)毎に、着色材料分散液を所定形状に塗布することによつても形成できる。

[0161] 遮光部 9は、着色画素（8a、 8b、 8c)同士の重なり合いを防止するとともに、着色画素間の隙間を埋めて、近接する着色画素間からの光の漏れ (漏れ光)を抑制し、また、アクティブマトリクス駆動方式の液晶表示装置にて設けられた場合におけるァクティブ素子の光劣化等を抑制する。

[0162] したがって、遮光部 9は、基材 30面上に着色画素の配置される位置に対応する領域を、個々の着色画素（8a、 8b、 8c)ごとに平面視上区画ィ匕するように形成される。そして、各色の着色画素（8a、 8b、 8c)は、それぞれ、遮光部 9により区画化された基材 30面上の領域の形成位置に応じて、平面視上その領域を被覆するようにして配置される。

[0163] 遮光部 9は、例えば、金属クロム薄膜やタングステン薄膜等、遮光性又は光吸収性を有する金属薄膜を所定形状に基材 30面にパターニングすることにより、形成することができる。また、遮光部 9は、黒色榭脂等の有機材料を所定形状に印刷することにより形成することも可能である。

[0164] このような着色層 10の形成された第 2の形態の液晶表示装置によれば、カラー表示が可能となる。

[0165] 第 2の形態の液晶表示装置であって、着色層 10の着色画素部 8を構成する着色画素（赤色着色画素 8a、青色着色画素 8b、緑色着色画素 8c)が、ストライプ型の配置パターンにて配置されている場合にあっては、赤色着色画素 8a、青色着色画素 8b、緑色着色画素 8cが直線状に配列されるが、このような液晶表示装置では、図 6に示すように、第 1の偏光板と第 2の偏光板のいずれかの吸収軸 (Pl、 P2)の方向（図 6において矢印 Pl、 P2で示す）がストライプ型の着色画素（8a、 8b、 8c)の長手方向（図 6 において矢印 Jで示す）に一致していることが好ましい。図 6の例では、液晶表示装置 1では、ストライプ型の着色画素（8a、 8b、 8c)の長手方向が第 1の偏光板の吸収軸 P 1に一致している力これに限定されず、これらが第 2の偏光板の吸収軸 P2に一致していてもよい。

[0166] ここに本発明者らはストライプ型の着色画素を配置した着色画素部 8を備える着色層 10の上に複屈折率層 4を形成すると、着色画素の長手方向に対して平面視上直交する方向に複屈折率層 4の光軸 aを向けてしまう現象がみられることを見出した。そして、この液晶表示装置 1は、この現象を応用することで完成された発明であり、効率的に製造可能な装置となるという効果を奏するものである。すなわち、着色画素の配置パターンとしてストライプ型を採用し、視覚での認識が容易な着色画素の長手方向に偏光板の吸収軸の方向を合わせることで、確実に且つ簡易に効率よぐ複屈折率層 4の光軸の傾斜方向を第 1の偏光板もしくは第 2の偏光板の、ずれかの吸収軸に一致させることができ、効率的に製造された液晶表示装置が提供される。

[0167] なお、ストライプ型の着色画素を配置した着色画素部 8を備える着色層 10の上に複屈折率層 4を形成する場合に、着色画素の長手方向に対して直交する方向に複屈折率層 4の光軸 aを向けやすい原因の詳細は不明である力着色画素 8の形状や、着色画素 8を作成する方法やその条件が要因となっているものと思料される。

[0168] 本発明における第 1の形態、第 2の形態の液晶表示装置では、第 1の基板 3もしくは第 2の基板 4にスイッチング回路 20が設けられてもよい (第 3の形態という）（図 5A、図 5B)。

このスイッチング回路 20としては、画素電極とこれに対向して液晶層に電場を形成させる電極とが同一の基板面上に配設されな、もの（例えば TN (Twisted Nematic)モード、 VA (Virtical Alignment)モード）（第 1のモードという）や、これらが同一基板面上に配設されるもの（例えば IPS (In-Plane-Switching)モード）（第 2のモードと!/、う）を挙げることができる。

[0169] 電極部を構成する画素電極とこれに対向した電極 (共通電極）とが、同一基板上に配設しな、ものにっ、て説明する（図 5A)。

[0170] 第 1のモードのスイッチング回路 20は、画素ごとにそれぞれ設けた画素電極 18に対応して基板 30上に積層形成されて層状に構成されており、画素電極 18とこれに電気的に接続された信号線や走査線等の各種素子とともに機能層としての素子基板を形成している。

[0171] スイッチング回路 20は、走査線 13から電気信号の供給を受けて、信号線 12と電極部 11の通電状態を制御する。スイッチング回路 20としては、薄膜トランジスタ (TFT ( Thin Film Transistor )という）等の 3端子型素子や MIM (Metal Insulator Metal)ダイォード等の 2端子型素子などのアクティブ素子が具体的に例示される。

[0172] スイッチング回路 20が薄膜トランジスタである場合、スイッチング回路 20は、各画素電極 18に接続されたドレイン電極 15と、信号線 12から電気信号の供給を受けるソース電極 16と、ドレイン電極 15とソース電極 16の間に介在して両電極を接続させる半導体とが基材上に積層され、さらに半導体に対して絶縁層（図示せず)を介して積層されたゲート電極 17が積層されて形成されている。なお、ゲート電極は走査線 13に接続している。

[0173] 電極部 11は画素電極 18と共通電極（図示せず）と力もなる力この電極部 11としては、 ITO (Indium Tin Oxide)電極などの透明電極を好ましく用いることができ、これを各画素を形成する領域ほぼ全面に敷設されることで形成できる。なお、電極部 11は、各画素領域の端縁部に細長に透明電極を敷設しても形成することができる。

[0174] 次に、電極部を構成する画素電極と共通電極とが同一基板上に配設されている第 2のモードのスイッチング回路 20について説明する（図 5B)。このスイッチング回路 20 の形成された素子基板にお!、ては、同一の画素領域にお!、て電極部 11の形成される領域以外は、上記第 1のモードと同様に構成され、電極部 11の形成される領域につ!ヽては、同一画素領域上に画素電極とこれに対抗する電極の両者が積層形成されている。

[0175] すなわち、画素電極 18と共通電極 19とからなる電極部 11では、共通電極 19は、ドレイン電極 15に接続される画素電極 18と同一基板面上で対向するように設けられており、例えば、図 5Bに示すように 1つの画素電極 18に対して 2方向（図 5Bの例では信号線 12に近づく方向と離れる方向）に共通電極 19が対面しているように配置される。図 5Bにおいては、電極部 11は、櫛歯状に画素電極 18と共通電極 19が設けられている。なお、画素電極 18と共通電極 19とが重なり合う領域には絶縁層を設けてスイッチング回路 20がショートしな、ように構成されて！、る。

[0176] 第 1のモードや第 2のモードのスイッチング回路 20を第 1の基板 3や第 2の基板 4に設けて第 3の形態の液晶表示装置を構成すれば、その液晶表示装置はスイッチング回路の通電状態に応じて液晶表示が制御されるものとなる。

実施例

[0177] 実施例 1.

次に示すように基材に複屈折率層や配向膜を順次積層して、複屈折率層を備えた第 1の基板を作製した。

[0178] <垂直配向膜の作製 >

垂直配向膜の溶液 (JSR社製、 JALS-2021-R2)を γ -プチ口ラタトンで 2倍に希釈して配向膜組成液を作製する。

第 1の基板となる基材としてのガラス基板 (コ一-ング社製、 7059ガラス）（寸法が 55 0mm X 650mm)の面上に、上記した配向膜組成液を塗布して配向膜形成用塗工膜を作製し、配向膜形成用塗工膜の形成されたガラス基板を 180°Cで 1時間焼成して垂直配向膜の形成された基材 (垂直配向膜形成基材とヽぅ）を得る。

[0179] <複屈折率層形成用塗工膜の作製 >

ポリイミドを含む溶液として、垂直配向膜の溶液 (JSR社製、 JALS- 2021- R2)をジェチレングリコールジメチルエーテルで 8倍希釈した溶液を調整する。

ネマチック液晶相を示す重合可能な液晶分子 (重合性液晶）として上記化学式 (ィ匕 11)に示される化合物（ただし Xの値が 6の化合物である） 20重量部と、光重合開始剤（チバガイギ一社製、「ィルガキュア 907」）0.8重量部と、溶媒としてクロ口ベンゼン 5 9.2重量部と、上記ポリイミドを含む溶液 20重量部とを混合して、複屈折率層組成液を作製する。

[0180] 垂直配向膜形成基材をスピンコーターに設置して、垂直配向膜上に複屈折率層組成液をスピンコーティングして塗工膜 (複屈折率層形成用塗工膜という）を作製した。このとき得られた複屈折率層形成用塗工膜は白濁していた。スピンコーティングによる塗工膜の製作には、コーターシステム (東京応化工業社製、「商品名 TR40000FJ ) が用いられた。このコーターシステムは、垂直配向膜形成基材表面に対する複屈折率層組成液のバーコート、スピンコーティング、および複屈折率層形成用塗工膜の減圧乾燥を、一体化して実施するシステムである。

[0181] 作製された複屈折率層形成用塗工膜の膜厚は、乾燥時において約 1.5 /z mであつた。なお、この膜厚は、触針式段差計 (Sloan社製、製品名「DEKTAK」）を用いて計測された。

[0182] <液晶のホメオト口ピック配向状態の形成 >

複屈折率層形成用塗工膜の形成された垂直配向膜形成基材を、 100°Cで 3分間加熱し、複屈折率層形成用塗工膜中の液晶の分子が液晶相に転移して配向状態を形成していることを確認した。このとき、複屈折率層形成用塗工膜が白濁状態から透明状態となったことが目視にて確認された。

[0183] <液晶の架橋重合反応 >

次に、空気雰囲気下で、透明状態の複屈折率層形成用塗工膜に、紫外線照射装置 (ハリソン東芝ライティング社製、「商品名 TOSCURE751」）を用いて出力が 20mW/c m²の紫外線を 10秒間照射して、複屈折率層形成用塗工膜中の液晶を架橋重合反応させて液晶の分子の配向性を固定することで、複屈折率層が形成された。これにより得られた複屈折率層を形成した基材を、オーブンで 230°C、 30分間焼成し、複屈折率層と基材との密着性を向上させた。

[0184] このようにして複屈折率層の形成された基材が得られる力これについて、複屈折率層の複屈折率特性を指定する屈折率楕円体の状態を示す nx、 ny、 ηζ、 φの値は

、次のように特定される。

[0185] 複屈折率層の屈折率楕円体の形状を示す屈折率 (nx、 ny、 nz)は、液晶の分子に応じた屈折率が定められることで特定される。

[0186] 次に、複屈折率層の屈折率楕円体の傾斜状態は、傾斜角 φを定めることで特定される。

まず、正面方向のリタデーシヨン量を位相差測定機を用いて計測することにより、屈折率楕円体の長軸 (光軸）に傾斜が存在するか否かを判定する。すなわち、計測されたリタデーシヨン量が、上記した屈折率と複屈折率層の膜厚に基づき複屈折率層の光軸に傾斜が存在しない場合 (傾斜角 φ =0の場合）に想定される値とは異なる値である場合、複屈折率層の光軸が傾斜して、ると判定する。

[0187] 複屈折率層の光軸に傾斜があると判定される場合、その光軸についての傾斜角 φ は、位相差測定機を用いて次に示すように位相差を計測して特定される。

[0188] 予め複屈折率層面上において位相差を計測しょうとする位置を選択する。この選択された位置を測定点とする。この測定点における極角 45° 方向の光 (波長 589nm) の位相差を、互ヽに異なる 4つの方位にっ、て計測する。

[0189] ここに、極角と互いに異なる 4つの方位は次のように定義される。

すなわち、測定点を原点とし複屈折率層の厚み方向に z軸をとり、複屈折率層面上に原点で交差し且つ互いに直交しあう X軸と y軸をとつて、 X軸と y軸と z軸とで形成される空間を考えた場合に、空間内の位置 (K)についての極角は、 Kが z軸上にある場合を 0° として、原点と Kを結ぶ直線の z軸に対する傾斜角度として定義される。

[0190] また、互いに異なる 4つの方位は、 X軸方向に互いに原点を挟んで向かい合う 2方位 (方位 XI、方位 X2)および、 y軸方向に互いに原点を挟んで向かい合う 2方位 (方位 Yl、方位 Υ2)として定義される。

[0191] 傾斜角 φは、 4つの方位（方位 XI、 Χ2、 Yl、 Υ2)についてそれぞれ極角 45° 方向の位置で測定された位相差の値 (方位 XI、方位 Χ2、方位 Yl、方位 Υ2に対する位相差の値を、それぞれ Δη (XI)、 Δη(Χ2)、 Δη(Υ1)、 Δη(Υ2)とする）の組合わせによつて特定される。

[0192] 液晶の種類等に応じて屈折率楕円体の屈折率 (nx、 ny、 nz)は特定されるから、屈折率楕円体の形状は特定されており、上記したような異なる 4方位にっヽて位相差の値が特定されれば、 ( Δ n (XI) -Δη (Χ2) )および（ Δ n (Yl) - Δ η (Υ2) )の値により、屈折率楕円体につき、その光軸が、どの程度方位 XIあるいは方位 Χ2に向カゝつて傾斜し、どの程度方位 Y1あるいは方位 Υ2に向力つて傾斜しているかが特定される。このことから、屈折率楕円体の光軸が、 ζ軸に対してどの程度傾斜しているか特定できる。

[0193] 例えば、 nx=ny<nzであって、 ( Δη(Χ1)-Δη(Χ2)) = ε >0 (ゼロ）、且つ、 (Δη

(Yl) - Δ n (Y2) )の値が 0 (ゼロ）あるいは殆ど 0であるような場合、屈折率楕円体は、方位 Χ2〖こ εの値に応じて傾斜し、方位 Y1と方位 Υ2のどちらにもほとんど傾斜していない状態として特定され、屈折率楕円体の傾斜角 φが特定される。

[0194] なお、複屈折率層の形成された基材につ!/、て、その基板の略中心位置 (W)に測定点をとり、その位置 Wにおける屈折率楕円体の傾斜角 φを計測したところ、その傾斜角 φの値は、おおよそ 1° であった。

[0195] また、複屈折率層の形成された基材について、複屈折率層面上の相異なる複数の位置における屈折率楕円体の傾斜状態 (光軸の傾斜状態)を計測し、その傾斜状態の均一性の評価を行った。

[0196] <傾斜状態の均一性の評価 >

まず複屈折率層の形成された基材において、複屈折率層面上、その面方向に 100 mm間隔の格子状にて互いに相異なる 5点 X 7点の総計 35点（35箇所)の測定点を選ぶとともに、 35点の測定点のうち中心点の位置を位置 Wに一致させる。そして、各測定点について 4方向から位相差（Δη(Χ1)、 Δη(Χ2)、 Δη(Υ1)、 Δη(Υ2))を測定して、位相差 Δη(Χ1)についての標準偏差を算出し、及び各測定点について位相差値の大小関係の比較する。 [0197] 結果、 Δ η (XI)の標準偏差は、 0.29であった。この場合、複屈折率層面上の相異なる位置における屈折率楕円体の状態や光軸の状態につき、その傾斜角のばらつきがおおよそ 0.4° の範囲に抑えられると予想される。

また、上記 35点の測定点全てにおいて、（Δ η (Χ1) - Δ η (Χ2) ) = ε >0 (ゼロ）、且つ、（ Δ n (Y1) - Δ η (Υ2) )の値が殆ど 0 (ゼロ）であった。

[0198] したがって、複屈折率層の形成された基材では、複屈折率層の各測定点における光軸はおおよそ均一且つ同じ方向に傾斜した場合に相当しており、複屈折率層の各測定点における光軸の傾斜状態に殆どばらつきがないことが示される。そして、この基材では、複屈折率層の略中心位置での屈折率楕円体の傾斜角がそのまま複屈折率層の光軸の傾斜角を示すことになる。

[0199] <水平配向膜の作製 >

上記のようにして得られた複屈折率層を形成した基材を 20mm X 20mmの寸法に切断し、これに対し、その複屈折率層表面上に、次に示すように水平配向膜を作製したまず、複屈折率層を形成した基材面上に水平配向膜組成液 (AL1254 CFSR社製） )をフレキソ印刷を用いて塗工して塗工膜 (水平配向膜用塗工膜)を形成し、その水平配向膜用塗工膜の形成されたガラス基板を 230°Cのオーブンで 1時間焼成することにより、水平配向膜を形成した。

[0200] <ラビング処理〉

水平配向膜の形成された基材に対し、複屈折率層の厚さ方向にみた場合に複屈折率層の複屈折率特性を特定する屈折率楕円体の長軸 (光軸)の方向にラビング方向が平行する (揃う）ように、ラビング装置 (RLYY-3 (飯沼ゲージ社製）を用いてラビング処理を行った。こうして、複屈折率層を備えた第 1の基板が得られた。

[0201] 次に、第 1の基板を形成する際に用いたのと同種の基材 (ガラス基板)を用意し、第 2の基板を形成するための基材として用い、第 2の基板を作製した。

[0202] まず、第 2の基板に用いる基材面上に、第 1の基板における複屈折率層表面上に水平配向膜を作製した工程と同様の工程を通じて、水平配向膜を作製した。さらに、第 2の基板用基材に設けられた水平配向膜上には、第 1の基板と同様に、ラビング処理が施され、第 2の基板が作製された。

[0203] 複屈折率層を備えた第 1の基板と、第 2の基板を略 20mm X 20mmの大きさに切り出し、これらを用 V、て次に示すように液晶層を作成した。

[0204] <液晶層の作製 >

熱硬化性榭脂からなるシール材 (三井ィ匕学株式会社製;商品名 XN-5A)に、シール部用のスぺーサ- (積水化学工業株式会社製；ミクロパール SP-2035)を 0.4重量％含ませることで組成液 (シール部組成液)を作製し、第 2の基板に対して水平配向膜周縁に沿ってシール部組成液を塗布して塗工部（シール液塗工部）を作成した。なお、シール液塗工部を作成する際、水平配向膜周縁の一部にシール部組成液の塗工されな、部分 (非塗工部と、う）を残してぉ、た。

[0205] ラビング処理により液晶を配向づける方向が一致するように第 1の基板と第 2の基板をラビング処理された面を対面させて配置し、第 2の基板のシール液塗工部を第 1の基板に接触させ、この接触状態が維持されるように第 1の基板と第 2の基板を 20kPa Zcm²の圧力にてプレスしながら 140°Cに加熱してシール材を硬化させた。これにより、第 1の基板と第 2の基板とを一体ィ匕したもの (セルという。）が、作製された。なお、この得られたセルは、大きさが約 2cm X約 2cm、セルギャップが 3.5 mである。

[0206] これにより、第 1の基板と第 2の基板とがやや間隔をおいて対面配置されるとともに、第 1の基板と第 2の基板と間には、非塗布部の位置に開口部を形成しつつシール部で区画化された空間部が形成される。そして、この空間部に、液晶を注入して液晶層 (駆動液晶層）が形成される。この液晶層を構成する液晶を注入するにあたり、液晶注入口として開口部が使用される。

[0207] 液晶層を構成する液晶には、正の誘電率異方性を持つもの (メルク社製;商品名 ZL 1-2293; Δ η=0.132, λ =590nm)を用いた。また、液晶の注入にあたっては、ディスぺンサ一方式が用いられても良、が、ここでは真空注入方式が用いられた。

[0208] 真空注入方式による液晶層の形成は、次に示すように行われた。すなわち、液晶の入った容器の中に、まだ液晶が入ってな、セルを液晶注入口を下向きにして配置する。このとき、液晶注入口は液晶に浸されていない。次に、この容器を密封し、容器中の空気を抜いて真空に近い状態にする。その状態で、セルの液晶注入口を液晶の中に浸す。それから液晶注入口が液晶に浸す状態を維持したまま、容器の中の圧力を常圧に戻す。これにより、圧力と毛細管理現象によって、液晶が液晶注入ロカ徐々にパネルの中に注入され、液晶がセルの空間部に充填される。

[0209] セルに液晶の充満がなされた後、液晶注入口に紫外線硬化榭脂（EHC社製；商品名 LCB-610)を塗付け、その塗付け位置 (液晶注入口の形成された位置）に紫外線を照射することでその位置の紫外線硬化榭脂を固定して空間部を封止した。

こうして、液晶層の形成されたセルが得られた。

[0210] <位相差フィルムと偏光板の配設>

「+Aプレート」としての位相差フィルム (JSR社製；商品名アートン)を、液晶層の形成されたセルの第 1の基板外側面に貼付けた。このとき、位相差フィルムの光軸の方向力液晶層ゃ複屈折率層の厚み方向に複屈折率層をみた場合における複屈折率層の光軸の向かう方向（光軸の傾斜方向）に揃うように、位相差フィルムは第 1の基板外側面に貼付けられている。

[0211] そして、位相差フィルムを貼付けたセルに対し、位相差フィルム面上に偏光板 (サンリッツ社製;商品名 HLC2-5618)を貼付け (この偏光板を第 1の偏光板という。）、さらに、これと同様の偏光板を第 2の基板外側面にも貼付ける（この偏光板を第 2の偏光板という。 ) oこれらの偏光板は、複屈折率層の厚み方向にみた場合に、第 1の偏光板の吸収軸と第 2の偏光板の吸収軸とが直交しているように配置されてセルに貼付けられる。そして、このとき、第 1の偏光板の吸収軸の方向が、複屈折率層の厚み方向に複屈折率層をみた場合における複屈折率層の光軸の傾斜方向に揃うように、第 1の偏光板は位相差フィルム面上に貼付けられている。

[0212] こうして、セルの外側位置に偏光板が貼付けられ、液晶表示装置が得られた。

[0213] 得られた液晶表示装置について、正面輝度を測定することにより複屈折率層の厚み方向からみた場合の光漏れの状態を計測した。なお、正面輝度は、次に示すように測定された。

[0214] <正面輝度の測定 >

正面輝度の測定は、輝度計測機と、液晶表示装置に光を照射する光照射部とで構築された輝度計測系を用いて実施された。 [0215] 輝度計測系において、輝度計測器は、光照射部から発せられた光のうち液晶表示装置を通過した光を検知する光センサと、光センサによる検知された信号に基づき輝度を計測する計測部とを備えるものである。具体的には、輝度を測定する輝度計測機として、トプコン社製「BM- 9」が使用された。

[0216] 輝度計測系を用い、正面輝度は次のように測定された。

まず、光照射部を、液晶表示装置の第 2の偏光板外側位置に配置し、液晶表示装置を挟んで液晶層の厚さ方向に対面する位置であつて第 1の偏光板外側位置に光センサを配置させた。

[0217] 光照射部力も波長 550應の光を液晶表示装置に向力つて照射し、第 2の偏光板外側位置よりセル内を通過して第 1の偏光板を通過した光を光センサに検知させ、検知された光の量 (輝度)を計測部にて計測することで、正面輝度が測定される。

このような測定の結果、この液晶表示装置の正面輝度は、 0.23cd/m²であった。

[0218] 実施例 2.

第 1の基板を構成する基材面上に次のように着色層を形成し、着色層面上に複屈折率層を形成するように構成した他は、実施例 1と同様にして、図 4Bに示すような第 1の基板と第 2の基板を備えた液晶表示装置を作製した。

[0219] <着色層の作製 >

<着色層の形成に用、る着色材料分散液の調整 >

ブラックマトリクス (BM)及び赤色 (R)、緑色 (G)、青色 (B)着色画素の着色材料分散液として、顔料分散型フォトレジストを用いた。顔料分散型フォトレジストは、着色材料として顔料を用い、分散液組成物 (顔料、分散剤及び溶剤を含有する）にビーズを加え、分散機で 3時間分散させ、その後ビーズを取り除いた分散液とクリアレジスト組成物（ポリマー、モノマー、添加剤、開始剤及び溶剤を含有する）とを混合することにより得られた。得られた顔料分散型フォトレジストは、下記に示すような組成である。尚、分散機としては、ペイントシェーカー (浅田鉄工社製)を用いた。

[0220] (ブラックマトリクス用フォトレジスト）

'黒顔料 14. 0重量部

(大日精化工業 (株)製、 TMブラック # 9550) •分散剤 · · · · · 1. 2重量部

(ビックケミー（株）製、 Disperbykl 11)

'ポリマー 2. 8重量部

(昭和高分子 (株)製、 VR60)

'モノマー 3. 5重量部

(サートマ一 (株)製、 SR399)

，添加剤 0. 7重量部

(綜研ィ匕学 (株)製 L— 20)

•開始剤 1. 6重量部

(2 ベンジル一 2 ジメチルァミノ一 1— (4 モルフォリノフエ-ル）一ブタノン •開始剤 0. 3重量部

(4, 4'ージェチルァミノべンゾフエノン）

•開始剤 0. 1重量部

(2, 4 ジェチルチオキサントン）

'溶剤 75. 8重量部

(エチレングリコーノレモノブチノレエーテノレ）

(赤色 (R)着色画素用フォトレジスト）

•赤顔料 4. 8重量部

(C. I. PR254 (チバスべシャリティケミカルズ社製、クロモフタール DPP Red

) )

•黄顔料 1. 2重量部

(C. I. PY139 (BASF社製、ノリオトールイェロー D1819) )

•分散剤 3. 0重量部

(ゼネ力（株）製、ソルスノース 24000)

•モノマー 4. 0重量部

(サートマ一 (株)製、 SR399)

'ポリマー 1 5. 0重量部

•開始剤 1. 4重量部 (チバガイギ一社製、ィルガキュア 907)

'開始剤 0. 6重量部

(2, 2，一ビス（o クロ口フエ-ル） 4, 5, 4，， 5，ーテトラフエダゾーノレ）

'溶剤 80. 0重量部

(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）

[0222] (緑色 (G)着色画素用フォトレジスト）

'緑顔料 3. 7重量部

(C. I. PG7 (大日精ィ匕製、セイカファストグリーン 5316P) ) '黄顔料 2. 3重量部

(C. I. PY139 (BASF社製、ノリオトールイェロー D1819) ) '分散剤 3. 0重量部

(ゼネ力（株）製、ソルスノース 24000)

'モノマー 4. 0重量部

(サートマ一 (株)製、 SR399)

'ポリマー 1 5. 0重量部

'開始剤 1. 4重量部

(チバガイギ一社製、ィルガキュア 907)

'開始剤 0. 6重量部

'溶剤 80. 0重量部

(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）

[0223] (青色 (B)着色画素用フォトレジスト）

•青顔料 4. 6重量部

(C. I. PB15 : 6 (BASF社製、へリオゲンブルー: L6700F) ) •紫顔料 1. 4重量部

(C. I. PV23 (クラリアント社製、フォスタパーム RL— NF) ) '顔料誘導体 0. 6重量部

(ゼネ力（株）製、ソルスノース 12000)

'分散剤 2. 4重量部

(ゼネ力（株）製、ソルスノース 24000)

'モノマー 4. 0重量部

(サートマ一 (株)製、 SR399)

'ポリマー 1 5. 0重量部

'開始剤 1. 4重量部

(チバガイギ一社製、ィルガキュア 907)

'開始剤 0. 6重量部

(2, 2，一ビス（o—クロ口フエ-ル）一 4, 5, 4，， 5，一テトラフエ-ル一 1, 2，一ビイミダゾーノレ）

'溶剤 80. 0重量部

(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）

[0224] 尚、上記ポリマー 1は、ベンジルメタタリレート：スチレン：アクリル酸： 2—ヒドロキシェチルメタタリレート = 15. 6 : 37. 0 : 30. 5 : 16. 9 (モル比）の共重合体 100モル⁰ /₀に対して、 2—メタクリロイルォキシェチルイソシァネートを 16. 9モル％付カ卩したものであり、重量平均分子量は 42500である。

[0225] <着色層の形成 >

洗浄処理を施した基材としてのガラス基板 (コ一-ング社製、 7059ガラス）を用意し、このガラス基板上面に、次に示すように各色ごとに着色材料分散液を塗布し、基材に着色層を積層形成した。

まず、ガラス基板に、上述で調製した BM用フォトレジストをスピンコート法で塗布し、 90°C、 3分間の条件でプリベータ（予備焼成）し、所定のパターンに形成されたマスクを用いて露光（lOOmjZcm²)し、続いて 0. 05%KOH水溶液を用いたスプレー現像を 60秒行った後、 200°C、 30分間ポストベータ（焼成）し、厚さが 1. 2 _iu mのBMを形成した基材 (BM形成基材)を作製した。

[0226] 次に、予め赤色着色画素に対応する位置に対応するように調整した赤色 (R)の顔料分散型フォトレジストを上記 BM形成基材上にスピンコート法で塗布し、 80°C、 3分間の条件でプリベータし、各色パターンに応じた所定の着色パターン用フォトマスクを用いて、紫外線露光（300mjZcm²)した。さらに、 0. 1%ΚΟΗ水溶液を用いたスプレー現像を 60秒行った後、 200°C、 60分間ポストベータ（焼成）し、 BMパターンに対して所定の位置に膜厚 2. 6 μ mの赤色 (R)着色画素のパターンを形成した。

[0227] 続、て、上記赤色 (R)着色画素のパターンの形成方法と同様の方法を用いて、緑色 (G)着色画素、青色 (B)着色画素それぞれにっき、パターンを形成した。こうして、ガラス基板上に、 BM、赤色着色画素、緑色着色画素、及び青色着色画素から構成される着色層が形成された。

[0228] こうして得られた着色層を形成した基材を用い、実施例 1と同様にして第 1の基板を作製した。

[0229] さらに、第 1の基板を用い、実施例 1と同様にして液晶表示装置を得た。

得られた液晶表示装置について、実施例 1と同様にして正面輝度を測定した。正面輝度は、 0.20cd/m²であった。

[0230] 実施例 3

ストライプ型のパターンにて配置された各色の着色画素を備えた着色層を形成した基材を用いたほかは、実施例 2と同様にして第 1の基板を作製した。なお、複屈折率層は、基材の着色層形成面側に作成された。

[0231] さらに、第 1の基板を用い、偏光板の配設を次に示すように実施した以外は実施例 1と同様にして液晶表示装置を得た。

[0232] <偏光板の配設>

実施例 1と同様にして位相差フィルム (JSR社製;商品名アートン)を貼付けたセルに対し、位相差フィルム面上に偏光板 (サンリヅッ社製；商品名 HLC2-5618)を貼付け（第 1の偏光板)、さらに、これと同様の偏光板を第 2の基板外側面にも貼付ける (第 2 の偏光板)。これらの偏光板は、複屈折率層の厚み方向にみた場合に、第 1の偏光板の吸収軸と第 2の偏光板の吸収軸とが直交しているように配置されてセルに貼付けられる。ただし、本実施例においては、第 1の偏光板の吸収軸の方向が、ストライプ型の着色画素の長手方向に一致するように、第 1の偏光板が位相差フィルム面上に貼付けられた。

[0233] 得られた液晶表示装置について、実施例 1と同様にして正面輝度を測定した。

正面輝度は、 0.20cd/m²であった。

[0234] 比較例 1.

実施例 1において、液晶層の厚み方向にみた場合に、複屈折率層の屈折率楕円体の光軸の傾斜方向に対して第 1の偏光板の吸収軸が 45° ずれた位置に配置され、且つ、第 1の偏光板の吸収軸と第 2の偏光板の吸収軸とが直交するように、第 1の偏光板と第 2の偏光板をセルに貼付けた液晶表示装置を得た。

得られた液晶表示装置について、実施例 1と同様にして正面輝度を測定した。正面輝度は、 0.28cd/m²であった。

[0235] 比較例 2

実施例 3で得られた第 1の基板を用い、次のように偏光板の配設をしたほかは、実施例 3と同様にして液晶表示装置を得た。すなわち、本比較例では、液晶層の厚み方向にみた場合に、ストライプ型の着色画素の長手方向に対して第 1の偏光板の吸収軸が 45° ずれた位置に配置され、且つ、第 1の偏光軸の吸収軸と第 2の偏光板の吸収軸とが直交するように、第 1の偏光板と第 2の偏光板をセルに貼付けた。

[0236] 得られた液晶表示装置について、実施例 1と同様にして正面輝度を測定した。

正面輝度は、 0.27cd/m²であった。

[0237] このように、実施例 2、 3、比較例 1、 2より、本発明の液晶表示装置では、光漏れが抑制されて、ることが示される。

産業上の利用可能性

[0238] 本発明の液晶表示装置は、複屈折率層の液晶がホメオト口ピック配向状態を完全には維持されずに固定されてしまった場合にあっても、光漏れを効果的に抑制可能なものとなる。

Claims

請求の範囲

[1] 配向状態の可変な液晶を含有する液晶層を挟んで対向する基板を備え、対向する基板を挟んで第 1の偏光板と第 2の偏光板を互いに吸収軸を直交させて配設している液晶表示装置において、

第 1の偏光板と第 2の偏光板との間には、複屈折率層が、重合性液晶を重合させて形成され、且つ複屈折率層の厚み方向に対して傾斜した光軸を有して形成されており、

複屈折率層の光軸は、複屈折率層の厚み方向に対して、第 1の偏光板もしくは第 2 の偏光板の、ずれかの吸収軸の方向に傾斜して、ることを特徴とする液晶表示装置

[2] 複屈折率層は、重合性液晶をホメオト口ピック配向状態にして重合させて形成される請求項 1記載の液晶表示装置。

[3] 複屈折率層は、分子形状が棒状の重合性液晶を 3次元架橋重合させて形成されて、る請求項 1に記載の液晶表示装置。

[4] 複屈折率層の光軸は、複屈折率層全面に均一に傾斜している請求項 1に記載の液晶表示装置。

[5] 複屈折率層は、対向する基板の間に積層形成されている請求項 1に記載の液晶表示装置。

[6] 対向する基板の少なくとも一方には、着色層が形成されている請求項 1に記載の液晶表示装置。

[7] 複屈折率層が、着色層面上に形成されている請求項 6記載の液晶表示装置。

[8] 着色層は、ストライプ型の配置パターンにて配置されて形成される所定波長の光を透過させる着色画素を備えており、第 1の偏光板と第 2の偏光板のいずれかの吸収軸の方向がストライプ型の着色画素の長手方向に一致している、請求項 7記載の液晶表示装置。

[9] 傾斜した光軸を有する複屈折率層とは異なる光軸を有する異複屈折率層が、傾斜した光軸を有する複屈折率層と第 1の偏光板の間に形成されている請求項 1に記載の液晶表示装置。

[10] 傾斜した光軸を有する複屈折率層が、着色層を形成した基板と液晶層との間に形成されており、且つ、傾斜した光軸を有する複屈折率層とは異なる光軸を有する異複屈折率層が、着色層を形成した基板と第 1の偏光板の間に形成されている請求請 6 に記載の液晶表示装置。

[11] 傾斜した光軸を有する複屈折率層とは異なる光軸を有する異複屈折率層が、傾斜した光軸を有する複屈折率層と第 1の偏光板の間に形成されており、異複屈折率層の光軸は、第 1の偏光板もしくは第 2の偏光板の吸収軸の方向と向きを揃えている請求項 1に記載の液晶表示装置。

[12] 傾斜した光軸を有する複屈折率層とは異なる光軸を有する異複屈折率層が、傾斜した光軸を有する複屈折率層と第 1の偏光板の間にあって、着色層を形成した基板と液晶層との間に形成されており、且つ、異複屈折率層の光軸は、第 1の偏光板もしくは第 2の偏光板の吸収軸の方向と向きを揃えている請求請 6に記載の液晶表示装置。

[13] 異複屈折率層は、フィルム材を備える請求項 9に記載の液晶表示装置。