WO2007040177A1 - プラズマディスプレイパネル - Google Patents
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Definitions
- PDPs can achieve high definition and large screens, 65-inch televisions have been commercialized.
- PDP has been increasingly applied to high-definition televisions that have more than twice the number of scanning lines compared to the conventional NTSC system, and in consideration of environmental issues, PDPs that contain lead components are required. I'm going.
- the transparent electrodes 4a and 5a and the metal bus electrodes 4b and 5b are formed by patterning using a photolithography method or the like.
- the transparent electrodes 4a and 5a are formed by using a thin film process or the like, and the metal bus electrodes 4b and 5b are solidified by baking a paste containing a silver (Ag) material at a predetermined temperature.
- the light shielding layer 7 is also formed by screen printing a paste containing a black pigment or by forming a black pigment on the entire surface of the glass substrate, patterning it using a photolithography method, and baking it. Is done.
- One kind may be contained in an amount of 0.1 to 7% by weight.
- An average particle size of 0.5 ⁇ is obtained from a dielectric material composed of these components by a wet jet mill or a ball mill!
- Dielectric material powder is produced by grinding to ⁇ 2.5 zm.
- 55% to 70% by weight of this dielectric material powder and 30% to 45% by weight of the binder component are kneaded well with three rolls to produce a first dielectric layer paste for die coating or printing.
- Binder component is ethyl cellulose or acrylic resin 1 weight 0 /. Turbineol or butyl carbitol acetate containing up to 20% by weight.
- the dielectric material of the second dielectric layer 82 is composed of the following material composition. That is, bismuth oxide (Bi 2 O 3) 11 wt% to 40 wt%
- O contains at least one selected from 0.1% to 7% by weight.
- At least one selected from calcium oxide (CaO) and strontium oxide (SrO) is contained in an amount of 0.8 wt% to 17 wt%.
- Molybdenum oxide Molybdenum oxide (MoO), tungsten oxide (WO), cerium oxide (CeO),
- zinc oxide (ZnO) is contained in an amount of 0 to 40% by weight, boron oxide.
- An average particle size of 0.5 ⁇ is obtained from a dielectric material composed of these components by a wet jet mill or ball mill!
- Dielectric material powder is produced by grinding to ⁇ 2.5 zm.
- 55% to 70% by weight of this dielectric material powder and 30% to 45% by weight of the binder component are well kneaded with three rolls to produce a second dielectric layer paste for die coating or printing.
- Binder component is ethyl cellulose or acrylic resin 1 weight 0 /. Turbineol or butyl carbitol acetate containing up to 20% by weight.
- dioctyl phthalate, dibutyl phthalate, triphenyl phosphate, and tributyl phosphate are added as plasticizers, and glycerol monooleate, sorbitan sesquiole ⁇ ⁇
- a printability may be improved by adding a phosphoric acid ester of an alkylaryl group or the like.
- the content of the second dielectric layer 82 is larger than the content of bismuth oxide (Bi 2 O 3) in the first dielectric layer 81.
- the acid content of the second dielectric layer 81 is larger than the content of bismuth oxide (Bi 2 O 3) in the first dielectric layer.
- silver ions (Ag + ) are stabilized without being reduced, they do not aggregate to form a colloid. Therefore, the stabilization of silver ions (Ag + ) reduces the generation of oxygen associated with the colloidalization of silver (Ag), thereby reducing the generation of bubbles in the dielectric layer 8.
- calcium oxide (CaO) acts as an oxidant during the firing step of the first dielectric layer 81 and remains in the electrode. There is an effect of promoting the removal of the binder component.
- the second dielectric layer 82 contains noble oxide (BaO), so that the transmittance of the second dielectric layer 82 is increased.
- the dielectric layer 8 of the PDP in the embodiment of the present invention exhibits yellowing and bubble generation in the first dielectric layer 81 in contact with the metal bus electrodes 4b and 5b made of silver (Ag) material. Suppress, High light transmittance is realized by the second dielectric layer 82 provided on the first dielectric layer 81. As a result, it is possible to realize a PDP having a high transmittance with very few bubbles and yellowing as the entire dielectric layer 8.
- the base dielectric layer 13 on the address electrode 12 is made of bismuth oxide (Bi 2 O 3) 23 wt% to
- At least one selected from calcium oxide (CaO), strontium oxide (SrO), and barium oxide (BaO) is 1.5% to 8.1% by weight, and molybdenum oxide ( ⁇ )
- tungsten oxide is 0.2 wt% to 1.0 wt%.
- the glass soft spot temperature of these glass powders is 550 ° C or higher, the firing temperature is 570 ° C to 590 ° C, and the film thickness is 8 x 15 to 15 x m.
- zinc oxide (ZnO) is contained in an amount of 0 to 40% by weight, boron oxide.
- the barrier rib 14 provided in the base dielectric layer 13 is composed of silicon oxide (Si 0) -boron oxide (B 2 O 3).
- At least one kind of norlium (BaO) is 10 weight 0 /. And ⁇ 25 weight 0/0, photosensitive polymer, photosensitive monomer, a photopolymerization initiator, a photosensitive paste containing a 8% to 15% by weight of photosensitive organic binder component containing a solvent, base or the like printing method It is applied on the dielectric layer 13 and formed using a photolithography method.
- the firing temperature is 570 ° C to 590 ° C.
- the address electrode 12 when the address electrode 12 on the rear glass substrate 11 of the rear plate 10 is formed, the address electrode 12 includes at least silver (Ag) and a binding glass.
- the binder glass contains at least bismuth oxide (Bi 2 O 3) and has a soft saddle point
- the temperature exceeds 550 ° C.
- the soft spot of the binder glass is as low as 450 ° C to 550 ° C, the firing temperature is nearly 100 ° C higher, so the highly reactive bismuth oxide (Bi 2 O 3) itself Violently with silver (Ag) or organic binder component in paste
- the interface between the address electrode 12 and the underlying dielectric layer 13 and the formation of the barrier ribs 14 formed thereon are suppressed by suppressing the generation of bubbles in the underlying dielectric layer 13.
- “other material composition” which is an item of the material composition shown in Tables 1 and 2 is zinc oxide (ZnO), boron oxide (B0), silicon oxide. (SiO 2), aluminum oxide (
- the front plate 2 has a dielectric layer 8 having a two-layer structure, and is manufactured using the material composition of the first dielectric layer 81 and the second dielectric layer 82 described above.
- the environment-friendly PDP that does not contain a lead (Pb) component that ensures shape accuracy and has high withstand voltage performance as a back plate.
- the power S can be realized.
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Abstract
前面ガラス基板(3)上に表示電極(6)と誘電体層(8)と保護層(9)とが形成された前面板(2)と、背面ガラス基板(11)上にアドレス電極(12)と隔壁(14)と蛍光体層(15)とが形成された背面板(10)とを対向配置するとともに周囲を封着して放電空間(16)を形成したプラズマディスプレイパネルであって、アドレス電極(12)を覆って下地誘電体層(13)を設け、下地誘電体層(13)上に隔壁(14)を設けるとともに、下地誘電体層(13)が少なくとも酸化ビスマスを含むとともに軟化点温度が550°Cを超える誘電体ガラスによって構成されている。
Description
明 細 書
プラズマディスプレイパネノレ
技術分野
[0001] 本発明は、表示デバイスなどに用いるプラズマディスプレイパネルに関する。
背景技術
[0002] プラズマディスプレイパネル(以下、 PDPと呼ぶ)は、高精細化、大画面化の実現が 可能であることから、 65インチクラスのテレビなどが製品化されている。
[0003] PDPは、基本的には、前面板と背面板とで構成されている。前面板は、フロート法 による硼硅酸ナトリウム系ガラスのガラス基板と、その一方の主面上に形成されたスト ライプ状の透明電極とバス電極とで構成される表示電極と、この表示電極を覆ってコ ンデンサとしての働きをする誘電体層と、この誘電体層上に形成された酸化マグネシ ゥム(Mg〇)からなる保護層とで構成されている。一方、背面板は、ガラス基板と、そ の一方の主面上に形成されたストライプ状のアドレス電極と、アドレス電極を覆う下地 誘電体層と、下地誘電体層上に形成された隔壁と、各隔壁間に形成された赤色、緑 色および青色それぞれに発光する蛍光体層とで構成されている。
[0004] 前面板と背面板とはその電極形成面側を対向させて気密封着され、隔壁によって 仕切られた放電空間に Ne_Xeの放電ガスが 400Torr〜600Torrの圧力で封入さ れている。 PDPは、表示電極に映像信号電圧を選択的に印加することによって放電 させ、その放電によって発生した紫外線が各色蛍光体層を励起して赤色、緑色、青 色の発光をさせてカラー画像表示を実現してレ、る。
[0005] 表示電極のバス電極には導電性を確保するための銀電極が用いられ、誘電体層と しては酸化鉛を主成分とする低融点ガラスが用いられているが、近年の環境問題へ の配慮から誘電体層として鉛成分を含まない例が、特開 2003— 128430号公報、 特開 2002— 053342号公幸艮、特開 2001—045877号公幸 さらには特開平 9— 0 50769号公報に開示されている。さらに、アドレス電極を覆う下地誘電体層にガラス 軟ィ匕点の低い酸化ビスマスを含有する誘電体ガラスを用いる例も、特開平 10— 275 564号公報に開示されている。
[0006] PDPは、高精細化、大画面化の実現が可能であることから、 65インチクラスのテレ ビなどが製品化されている。近年、 PDPは従来の NTSC方式に比べて走査線数が 2 倍以上のハイディフィニションテレビへの適用が進んでいるとともに、環境問題に配 慮して鉛成分を含まなレ、PDPが要求されてレ、る。
[0007] し力 ながら、このようなハイビジョン化によって、走査線数が増加して表示電極の 数が増加し、さらに表示電極間隔が小さくなるとともに、背面板の隔壁もその配列ピッ チと隔壁幅が小さくなる。そのために、隔壁の形状不良を発生しやすぐ表示品質を 損ねるといった課題を有している。
発明の開示
[0008] 本発明の PDPは、ガラス基板上に表示電極と誘電体層と保護層とが形成された前 面板と、基板上にアドレス電極と隔壁と蛍光体層とが形成された背面板とを対向配置 するとともに周囲を封着して放電空間を形成したプラズマディスプレイパネルであつ て、アドレス電極を覆って下地誘電体層を設け、下地誘電体層上に隔壁を設けるとと もに、下地誘電体層が少なくとも酸化ビスマスを含むとともに軟化点温度が 550°Cを 超える誘電体ガラスによって構成されている。
[0009] このような構成によれば、アドレス電極と下地誘電体層の界面や、下地誘電体層中 の気泡発生を抑制して、その上に形成される隔壁の形状精度を高精度に保つことが できるとともに、環境に優しい表示品質に優れた PDPを実現することができる。
図面の簡単な説明
[0010] [図 1]図 1は本発明の実施の形態における PDPの構成を示す斜視図である。
[図 2]図 2は本発明の実施の形態における PDPの前面板の構成を示す断面図である 符号の説明
[0011] 1 PDP
2 HU面板
3 前面ガラス基板
4 走査電極
4a, 5a 透明電極
4b, 5b 金属バス電極
5 維持電極
6 ¾:不電極
7 ブラックストライプ (遮光層)
8 誘電体層
9 保護層
10 背面板
11 背面ガラス基板
12 アドレス電極
13 下地誘電体層
14
15 蛍光体層
16 放電空間
81 弟 1 電体層
82 第 2誘電体層
発明を実施するための最良の形態
[0012] 以下、本発明の実施の形態における PDPについて図面を用いて説明する。
[0013] (実施の形態)
図 1は本発明の実施の形態における PDPの構造を示す斜視図である。 PDPの基 本構造は、一般的な交流面放電型 PDPと同様である。図 1に示すように、 PDP1は 前面ガラス基板 3などよりなる前面板 2と、背面ガラス基板 11などよりなる背面板 10と が対向して配置され、その外周部をガラスフリットなどからなる封着材によって気密封 着されている。封着された PDP1内部の放電空間 16には、 Neおよび Xeなどの放電 ガスが 400Torr〜600Torrの圧力で封入されている。
[0014] 前面板 2の前面ガラス基板 3上には、走査電極 4および維持電極 5よりなる一対の 帯状の表示電極 6とブラックストライプ (遮光層) 7が互いに平行にそれぞれ複数列配 置されている。前面ガラス基板 3上には表示電極 6と遮光層 7とを覆うようにコンデン サとしての働きをする誘電体層 8が形成され、さらにその表面に酸化マグネシウム(M
g〇)などからなる保護層 9が形成されている。
[0015] また、背面板 10の背面ガラス基板 11上には、前面板 2の走查電極 4および維持電 極 5と直交する方向に、複数の帯状のアドレス電極 12が互いに平行に配置され、こ れを下地誘電体層 13が被覆している。さらに、アドレス電極 12間の下地誘電体層 13 上には放電空間 16を区切る所定の高さの隔壁 14が形成されている。隔壁 14間の溝 にアドレス電極 12毎に、紫外線によって赤色、青色および緑色にそれぞれ発光する 蛍光体層 15が順次塗布して形成されている。走查電極 4および維持電極 5とアドレス 電極 12とが交差する位置に放電セルが形成され、表示電極 6方向に並んだ赤色、 青色、緑色の蛍光体層 15を有する放電セルがカラー表示のための画素になる。
[0016] 図 2は、本発明の実施の形態における PDPの前面板 2の構成を示す断面図である 。図 2は図 1と上下反転させて示している。図 2に示すように、フロート法などにより製 造された前面ガラス基板 3に、走査電極 4と維持電極 5よりなる表示電極 6とブラックス トライプ 7がパターン形成されている。走査電極 4と維持電極 5はそれぞれインジウム 錫酸化物(ITO)や酸化錫(SnO )などからなる透明電極 4a、 5aと、透明電極 4a、 5a
2
上に形成された金属バス電極 4b、 5bとにより構成されている。金属バス電極 4b、 5b は透明電極 4a、 5aの長手方向に導電性を付与する目的として用いられ、銀 (Ag)材 料を主成分とする導電性材料によって形成されている。
[0017] 誘電体層 8は、前面ガラス基板 3上に形成されたこれらの透明電極 4a、 5aと金属バ ス電極 4b、 5bとブラックストライプ 7を覆って設けた第 1誘電体層 81と、第 1誘電体層 81上に形成された第 2誘電体層 82の少なくとも 2層構成とし、さらに第 2誘電体層 82 上に保護層 9を形成している。
[0018] 次に、 PDPの製造方法にっレ、て説明する。まず、前面ガラス基板 3上に、走查電極
4および維持電極 5と遮光層 7とを形成する。これらの透明電極 4a、 5aと金属バス電 極 4b、 5bは、フォトリソグラフィ法などを用いてパターユングして形成される。透明電 極 4a、 5aは薄膜プロセスなどを用いて形成され、金属バス電極 4b、 5bは銀 (Ag)材 料を含むペーストを所定の温度で焼成して固化している。また、遮光層 7も同様に、 黒色顔料を含むペーストをスクリーン印刷する方法や黒色顔料をガラス基板の全面 に形成した後、フォトリソグラフィ法を用いてパターユングし、焼成することにより形成
される。
[0019] 次に、走查電極 4、維持電極 5および遮光層 7を覆うように前面ガラス基板 3上に誘 電体ペーストをダイコート法などにより塗布して誘電体ペースト層(誘電体材料層)を 形成する。誘電体ペーストを塗布した後、所定の時間放置することによって塗布され た誘電体ペースト表面がレべリングされて平坦な表面になる。その後、誘電体ペース ト層を焼成固化することにより、走查電極 4、維持電極 5および遮光層 7を覆う誘電体 層 8が形成される。なお、誘電体ペーストはガラス粉末などの誘電体ガラス、バインダ および溶剤を含む塗料である。次に、誘電体層 8上に酸化マグネシウム(MgO)から なる保護層 9を真空蒸着法により形成する。以上のステップにより前面ガラス基板 3上 に所定の構成物(走査電極 4、維持電極 5、遮光層 7、誘電体層 8、保護層 9)が形成 され、前面板 2が完成する。
[0020] —方、背面板 10は次のようにして形成される。まず、背面ガラス基板 11上に、銀 (A g)材料を含むペーストをスクリーン印刷する方法や、金属膜を全面に形成した後、フ オトリソグラフィ法を用いてパターニングする方法などによりアドレス電極 12用の構成 物となる材料層を形成し、それを所定の温度で焼成することによりアドレス電極 12を 形成する。次に、アドレス電極 12が形成された背面ガラス基板 11上にダイコート法な どによりアドレス電極 12を覆うように誘電体ペーストを塗布して誘電体ペースト層を形 成する。その後、誘電体ペースト層を焼成することにより下地誘電体層 13を形成する 。なお、誘電体ペーストはガラス粉末などの誘電体ガラスとバインダおよび溶剤を含 んだ塗料である。
[0021] 次に、下地誘電体層 13上に隔壁材料を含む隔壁形成用ペーストを塗布して所定 の形状にパターユングすることにより、隔壁材料層を形成した後、焼成することにより 隔壁 14を形成する。ここで、下地誘電体層 13上に塗布した隔壁用ペーストをパター ニングする方法としては、フォトリソグラフィ法ゃサンドブラスト法を用いることができる 。次に、隣接する隔壁 14間の下地誘電体層 13上および隔壁 14の側面に蛍光体材 料を含む蛍光体ペーストを塗布し、焼成することにより蛍光体層 15が形成される。以 上のステップにより、背面ガラス基板 11上に所定の構成部材を有する背面板 10が完 成する。
[0022] このようにして所定の構成部材を備えた前面板 2と背面板 10とを走查電極 4とァドレ ス電極 12とが直交するように対向配置して、その周囲をガラスフリットで封着し、放電 空間 16に Ne、Xeなどを含む放電ガスを封入することにより PDP1が完成する。
[0023] 前面板 2の誘電体層 8を構成する第 1誘電体層 81と第 2誘電体層 82について詳細 に説明する。第 1誘電体層 81の誘電体材料は、次の材料組成より構成されている。 すなわち、酸化ビスマス(Bi O )を 20重量%〜40重量%と酸化カルシウム(Ca〇)を
2 3
0. 5重量%〜: 15重量%を含んでおり、さらに酸化モリブデン(MoO )、酸化タンダス
3
テン (W〇)、酸化セリウム(Ce〇)、酸化マンガン(MnO )力 選ばれる少なくとも 1
3 2 2
種を 0. 1重量%〜7重量%含んでいる。
[0024] さらに、酸化ストロンチウム(Sr〇)、酸化バリウム(BaO)力も選ばれる少なくとも 1種 を 0. 5重量%〜: 12重量%含んでいる。
[0025] なお、酸化モリブデン(MoO )、酸化タングステン (WO )、酸化セリウム(CeO )
3 3 2、 酸化マンガン(MnO )に代えて、酸化銅(CuO)、酸化クロム(Cr O )、酸化コバルト
2 2 3
(Co O )、酸化バナジウム (V〇)、酸化アンチモン(Sb〇)力 選ばれる少なくとも
2 3 2 7 2 3
1種を 0. 1重量%〜7重量%含んでいてもよい。
[0026] また、上記以外の成分として、酸化亜鉛 (Zn〇)を 0重量%〜40重量%、酸化硼素
(B O )を 0重量%〜35重量%、酸化硅素(SiO )を 0重量%〜: 15重量%、酸化ァ
2 3 2
ルミニゥム (Al O )を 0重量%〜10重量%など、鉛成分を含まない材料組成が含ま
2 3
れていてもよぐこれらの材料組成の含有量に特に限定はなぐ従来技術程度の材 料組成の含有量範囲である。
[0027] これらの組成成分からなる誘電体材料を、湿式ジェットミルやボールミルで平均粒 径が 0. 5 μ π!〜 2. 5 z mとなるように粉砕して誘電体材料粉末を作製する。次にこの 誘電体材料粉末 55重量%〜70重量%と、バインダ成分 30重量%〜45重量%とを 三本ロールでよく混練してダイコート用あるいは印刷用の第 1誘電体層用ペーストを 作製する。バインダ成分はェチルセルロースあるいはアクリル樹脂 1重量0/。〜 20重 量%を含むタービネオールあるいはブチルカルビトールアセテートである。また、ぺ 一スト中には、必要に応じて可塑剤としてフタル酸ジォクチル、フタル酸ジブチル、リ ン酸トリフエニル、リン酸トリブチルを添加し、分散剤としてグリセロールモノォレート、
ソルビタンセスキオレ^ ^一ト、アルキルァリル基のリン酸エステルなどを添加して印刷 性を向上させてもよい。
[0028] 次に、この第 1誘電体層用ペーストを用い、表示電極 6を覆うように前面ガラス基板
3にダイコート法あるいはスクリーン印刷法で印刷して乾燥させる。その後、誘電体材 料の軟化点より少し高い温度の 575°C〜590°Cで焼成し、第 1誘電体層 81を形成す る。
[0029] 次に、第 2誘電体層 82について説明する。第 2誘電体層 82の誘電体材料は、次の 材料組成より構成されている。すなわち、酸化ビスマス(Bi O )を 11重量%〜40重
2 3
量%と酸化バリウム(BaO)を 6. 0重量%〜28重量%含んでおり、さらに酸化モリブ デン(MoO )、酸化タングステン (WO )、酸化セリウム(CeO )、酸化マンガン(Mn
3 3 2
〇)から選ばれる少なくとも 1種を 0. 1重量%〜7重量%含んでいる。
2
[0030] さらに、酸化カルシウム(CaO)、酸化ストロンチウム(SrO)から選ばれる少なくとも 1 種を 0. 8重量%〜: 17重量%含んでいる。
[0031] なお、酸化モリブデン(MoO )、酸化タングステン (WO )、酸化セリウム(CeO )、
3 3 2 酸化マンガン(MnO )に代えて、酸化銅(CuO)、酸化クロム(Cr O )、酸化コバルト
2 2 3
(Co O )、酸化バナジウム (V〇)、酸化アンチモン(Sb〇)力 選ばれる少なくとも
2 3 2 7 2 3
1種を 0. 1重量%〜7重量%含んでいてもよい。
[0032] また、上記以外の成分として、酸化亜鉛 (Zn〇)を 0重量%〜40重量%、酸化硼素
(B O )を 0重量%〜35重量%、酸化硅素(SiO )を 0重量%〜: 15重量%、酸化ァ
2 3 2
ルミニゥム (Al O )を 0重量%〜10重量%など、鉛成分を含まない材料組成が含ま
2 3
れていてもよぐこれらの材料組成の含有量に特に限定はなぐ従来技術程度の材 料組成の含有量範囲である。
[0033] これらの組成成分からなる誘電体材料を、湿式ジェットミルやボールミルで平均粒 径が 0. 5 μ π!〜 2. 5 z mとなるように粉砕して誘電体材料粉末を作製する。次にこの 誘電体材料粉末 55重量%〜70重量%と、バインダ成分 30重量%〜45重量%とを 三本ロールでよく混練してダイコート用あるいは印刷用の第 2誘電体層用ペーストを 作製する。バインダ成分はェチルセルロースあるいはアクリル樹脂 1重量0/。〜 20重 量%を含むタービネオールあるいはブチルカルビトールアセテートである。また、ぺ
一スト中には、必要に応じて可塑剤としてフタル酸ジォクチル、フタル酸ジブチル、リ ン酸トリフエニル、リン酸トリブチルを添カ卩し、分散剤としてグリセロールモノォレート、 ソルビタンセスキオレ^ ^一ト、アルキルァリル基のリン酸エステルなどを添加して印刷 性を向上させてもよい。
[0034] 次にこの第 2誘電体層用ペーストを第 1誘電体層 81上にスクリーン印刷法あるいは ダイコート法で印刷して乾燥させる。その後、誘電体材料の軟ィ匕点より少し高い温度 の 550°C〜590°Cで焼成して、第 2誘電体層 82を作成するとともに、誘電体層 8を形 成する。
[0035] なお、誘電体層 8の膜厚が小さいほどパネル輝度の向上と放電電圧を低減すると レ、う効果は顕著になるので、絶縁耐圧が低下しなレ、範囲内であればできるだけ膜厚 を小さく設定するのが望ましい。このような条件と可視光透過率の観点から、本発明 の実施の形態では、誘電体層 8の膜厚を 41 μ η以下に設定し、第 1誘電体層 81を 5 μ m〜15 /i m、第 2誘電体層 82を 20 μ m〜36 μ mとしてレヽる。
[0036] また、第 2誘電体層 82において酸化ビスマス(Bi O )が 1 1重量%以下であると着
2 3
色は生じに《なるが、第 2誘電体層 82中に気泡が発生しやすく好ましくない。また、 40重量%を超えると着色が生じやすくなり透過率を上げる目的には好ましくない。
[0037] さらに、第 1誘電体層 81と第 2誘電体層 82の酸化ビスマス(Bi O )の含有量には
2 3
差があることが必要である。これは第 1誘電体層 81と第 2誘電体層 82の酸化ビスマス (Bi O )の含有量が同一であった場合、第 1誘電体層 81中に発生した気泡の影響
2 3
で、第 2誘電体層 82の焼成ステップにおいて第 2誘電体層 82中にも気泡が発生する 現象が確認されたからである。
[0038] そして、第 1誘電体層 81の酸化ビスマス(Bi O )の含有量よりも、第 2誘電体層 82
2 3
の酸化ビスマス(Bi O )の含有量が小さい場合、誘電体層 8の総膜厚のおよそ 50%
2 3
以上を第 2誘電体層 82が占めるために、着色が生じる黄変現象が発生しないために 透過率を上げることができ、さらに Bi系の材料が高価であることから、使用する原材 料のコストを低減することができる。
[0039] また、第 1誘電体層の酸化ビスマス(Bi O )の含有量よりも、第 2誘電体層 81の酸
2 3
化ビスマス(Bi O )の含有量が大きい場合、第 2誘電体層 81の軟ィ匕点を下げること
ができるため、焼成ステップ中の気泡の除去を促進することができる。
[0040] このようにして製造された PDPは、表示電極 6に銀 (Ag)材料を用いても、前面ガラ ス基板 3の着色現象(黄変)が少なくて、なおかつ、誘電体層 8中に気泡の発生など 力 Sなぐ絶縁耐圧性能に優れた誘電体層 8を実現することを確認している。
[0041] 次に、本発明の実施の形態における PDPにおいて、これらの誘電体材料によって 第 1誘電体層 81において黄変や気泡の発生が抑制される理由について考察する。 すなわち、酸化ビスマス(Bi O )を含む誘電体ガラスに酸化モリブデン (MoO )ある
2 3 3 いは酸化タングステン (WO )を添加することによって、 Ag MoO 、 Ag Mo〇、 Ag
3 2 4 2 2 7 2
Mo O 、 Ag WO 、 Ag W O 、 Ag W〇 といった化合物が 580°C以下の低温で
4 13 2 4 2 2 7 2 4 13
生成しやすいことが知られている。本発明の実施の形態では、誘電体層 8の焼成温 度が 550°C〜590°Cであることから、焼成中に誘電体層 8中に拡散した銀イオン (Ag +)は誘電体層 8中の酸化モリブデン(MoO )、酸化タングステン (WO )、酸化セリウ
3 3
ム(Ce〇)、酸化マンガン (MnO )と反応し、安定な化合物を生成して安定化する。
2 2
すなわち、銀イオン (Ag+)が還元されることなく安定化されるために、凝集してコロイ ドを生成することがない。したがって、銀イオン (Ag+)が安定化することによって、銀( Ag)のコロイド化に伴う酸素の発生も少なくなるため、誘電体層 8中への気泡の発生 も少なくなる。
[0042] 一方、これらの効果を有効にするためには、酸化ビスマス(Bi O )を含む誘電体ガ
2 3
ラス中に酸化モリブデン (Mo〇)あるいは酸化タングステン (W〇)、酸化セリウム(C
3 3
eO )、酸化マンガン(Mn〇)の含有量を 0. 1重量%以上にすることが好ましいが、 0
2 2
. 1重量%以上 7重量%以下がさらに好ましい。特に、 0. 1重量%以下では黄変を抑 制する効果が少なぐ 7重量%以上になるとガラスに着色が起こり好ましくない。
[0043] また、第 1誘電体層に酸化カルシウム(Ca〇)を含むことによって、第 1誘電体層 81 の焼成ステップ中において酸化カルシウム(CaO)が酸化剤として作用し、電極中に 残留したバインダ成分の除去を促進する効果がある。一方、第 2誘電体層 82に酸化 ノ リウム(BaO)を含むことによって、第 2誘電体層 82の透過率を上げる効果がある。
[0044] すなわち、本発明の実施の形態における PDPの誘電体層 8は、銀 (Ag)材料よりな る金属バス電極 4b、 5bと接する第 1誘電体層 81では黄変現象と気泡発生を抑制し、
第 1誘電体層 81上に設けた第 2誘電体層 82によって高い光透過率を実現している。 その結果、誘電体層 8全体として、気泡や黄変の発生が極めて少なく透過率の高い PDPを実現することが可能となる。
[0045] 次に、本発明の実施に形態における PDPの、背面板 10のアドレス電極 12と、下地 誘電体層 13、および隔壁 14の材料組成にっレ、て詳細に説明する。
[0046] まず、背面ガラス基板 11に、少なくとも銀 (Ag)粒子 70重量%〜90重量%と、結着 ガラスが 1重量%〜: 15重量%と、感光性ポリマー、感光性モノマー、光重合開始剤、 溶剤などを含む感光性有機バインダ成分 8重量%〜: 15重量%とよりなる感光性べ一 ストを印刷法などによって塗布し、電極ペースト層を形成する。なお、電極ペーストの 結着ガラスは、少なくとも酸化ビスマス(Bi O )を 20重量%〜50重量%含み、結着
2 3
ガラスの軟化点が 550°Cを超えるようにしている。この電極ペースト層をフォトリソダラ フィ法を用いて巾 100 μ ΐηの銀 (Ag)電極パターンを形成し、その後、 550°C〜570 °Cで焼成することによってアドレス電極 12としている。
[0047] 次に、アドレス電極 12上の下地誘電体層 13は、酸化ビスマス(Bi O ) 23重量%〜
2 3
50重量%と、酸化カルシウム(CaO)、酸化ストロンチウム(SrO)、酸化バリウム(BaO )から選ばれる少なくとも 1種が 1 · 5重量%〜8. 1重量%と、酸化モリブデン (ΜοΟ )
3
、酸化タングステン (WO )から選ばれる少なくとも 1種が 0. 2重量%〜1. 0重量%と
3
を含む誘電体ガラス粉末に、平均粒子径が 0. l m〜0. 5 mの酸化チタン (Ti〇
2
)あるいはアルミナ(A1〇)を添加している。酸化チタン (Ti〇)あるいはアルミナ(A1
2 3 2
〇)粒子を添加する目的は、反射層としての役割を向上させるためである。また、こ
2 3
れらのガラス粉末のガラス軟ィ匕点温度を 550°C以上とし、焼成温度は 570°C〜590 °Cで、その膜厚は 8 x m〜15 x mとしている。
[0048] なお、酸化モリブデン(Mo〇 )、酸化タングステン (WO )に代えて、酸化セリウム(
3 3
CeO )、酸化マンガン(MnO )、酸化銅(Cu〇)、酸化クロム(Cr O )、酸化コバルト
2 2 2 3
(Co O )、酸化バナジウム(V〇)、酸化アンチモン(Sb〇)力も選ばれる少なくとも
2 3 2 7 2 3
1種を 0. 1重量%〜7重量%含んでいてもよい。
[0049] また、上記以外の成分として、酸化亜鉛 (Zn〇)を 0重量%〜40重量%、酸化硼素
(B O )を 0重量%〜35重量%、酸化硅素(SiO )を 0重量%〜: 15重量%、酸化ァ
ルミニゥム (Al O )を 0重量%〜10重量%など、鉛成分を含まない材料組成が含ま
2 3
れていてもよぐこれらの材料組成の含有量に特に限定はなぐ従来技術程度の材 料組成の含有量範囲である。
[0050] 次に、下地誘電体層 13に設けた隔壁 14は、酸化硅素(Si〇 )—酸化硼素(B O )
2 2 3
—酸化バリウム(BaO) _アルミナ (Al O )—酸化リチウム(Li O)系のガラス粉末を 5
2 3 2
0重量%〜70重量%と、フィラーとしてのアルミナ(Al O )、酸化亜鉛(ZnO)、酸化
2 3
ノ リウム(BaO)のうちの少なくとも 1種を 10重量0/。〜 25重量0 /0と、感光性ポリマー、 感光性モノマー、光重合開始剤、溶剤を含む感光性有機バインダ成分を 8重量%〜 15重量%とを含む感光性ペーストを、印刷法などで下地誘電体層 13上に塗布して、 フォトリソグラフィ法を用いて形成する。また、焼成温度は 570°C〜590°Cである。
[0051] すなわち、本発明の実施の形態における PDPでは、背面板 10の背面ガラス基板 1 1上のアドレス電極 12を形成する際に、アドレス電極 12が少なくとも銀 (Ag)と結着ガ ラスとを含有し、結着ガラスが少なくとも酸化ビスマス(Bi O )を含むとともに軟ィ匕点
2 3
温度が 550°Cを超えるようにしている。従来のように、結着ガラスの軟ィ匕点が 450°C 〜550°Cと低い場合には、焼成温度がそれより 100°C近く高いため、反応性の高い 酸化ビスマス(Bi O )自体が銀 (Ag)あるいはペースト中の有機バインダ成分と激しく
2 3
反応し、アドレス電極 12中とその上の下地誘電体層 13中に気泡を発生させる。その 結果、下地誘電体層 13の絶縁耐圧性能を劣化させるとともに、下地誘電体層 13の 形状精度を悪化させる。さらに、その上の隔壁 14の下地誘電体層 13との密着性など を低下させて隔壁倒れや、隔壁の欠落などを引き起こす。一方、本発明のように、結 着ガラスの軟ィ匕点を 550°C以上にすると、銀 (Ag)や有機バインダ成分と酸化ビスマ ス(Bi O )との反応性が低下して気泡の発生は少なくなる。し力 ながら、結着ガラス
2 3
の軟化点を 600°C以上とすると、アドレス電極 12と背面ガラス基板 11あるいは下地 誘電体層 13との接着性が逆に低下するため好ましくない。
[0052] また、下地誘電体層 13が少なくとも酸化ビスマス(Bi〇)を含むとともに軟ィ匕点温
2 3
度が 550°Cを超える誘電体ガラスによって構成され、酸化ビスマス(Bi O )を 20重量
2 3
%以上 50重量%以下としている。そのため、アドレス電極 12と下地誘電体層 13の界 面や、下地誘電体層 13中の気泡発生を抑制して、その上に形成される隔壁 14の形
状精度を高精度に保つことができるとともに、環境に優しい表示品質に優れた PDP を実現することができる。
[0053] また、上述のアドレス電極 12、下地誘電体層 13、隔壁 14の材料組成によれば、背 面板 10全体を、鉛 (Pb)成分の含有しなレ、環境に優しレ、材料で構成することができる
[0054] (実施例)
なお、本発明の実施の形態における PDPとして、放電セルとして 42インチクラスの ハイディフィニションテレビに適合するように、隔壁の高さを 0· 15mm,隔壁の間隔( セルピッチ)を 0. 15mm,表示電極の電極間距離を 0. 06mmとし、 Xeの含有量が 1 5体積%の Ne— Xe系の混合ガスを封入圧 60kPaに封入した PDPを作製してその 性能を評価した。
[0055] 表 1には、アドレス電極 12を構成する結着ガラスの材料組成を変えた試料を示し、 表 2に下地誘電体層 13の誘電体ガラスの材料組成を変えた試料を示す。また、表 3 はアドレス電極 12の試料と下地誘電体層 13の試料との組合せによって作製した PD Pの評価結果を示す。本実施例では、結着ガラスと誘電体ガラスとを同じ組成とし、表 1と表 2のそれぞれの試料番号 6、 7は本発明の好ましい範囲から外れた材料組成で ある。
[0056] また、表 1、表 2内に示した材料組成の項目である「その他、材料組成」とは、上述し たように酸化亜鉛 (Zn〇)、酸化硼素(B〇 )、酸化硅素(SiO )、酸化アルミニウム (
2 3 2
A1〇)など、鉛成分を含まない材料組成であり、これら材料組成の含有量は特に限
2 3
定はなぐ従来技術程度の材料組成の含有量範囲である。
[0057] なお、前面板 2は誘電体層 8を 2層構成とし、上述の第 1誘電体層 81、第 2誘電体 層 82の材料組成にて作製してレ、る。
[0058] [表 1]
結着ガラス組 アドレス菴棰の試料 No.
成-軟化点温
度 (°c) 1 2 3 4 5 6 7
Bi2〇3 23 30 28 40 50 15 72
CaO 一 3.1 - 8.1 ― 一 一
SrO - 1.8 一 ― - - 一
BaO 6.4 1.5 4.8 一 ― 一 4.0
M0O3 0.8 0.2 0.3 0.5 - 1.0 -
W03 - 一 一 1.0 - - - その他、
70 63 67 50 50 84 24 材料組成
軟化点
温度 (¾) 597 566 560 565 551 610 460
** 「その他、材料組成」は鉛成分を含まない
** 「その他、材料組成 jは鉛成分を含まない
[0060] [表 3]
[0061] これらの材料を用いてパネル番号 1〜: 19の PDPを作製し、背面板 10として完成し た後の下地誘電体層 13中に発生する気泡の数と、下地誘電体層 13上の隔壁 14の 倒れや欠損を確認した。その結果を表 3に示す。
[0062] 表 3の結果より、アドレス電極 12の結着ガラス組成、あるいは下地誘電体層 13の誘 電体ガラス組成のいずれ力が、本発明の材料組成の範囲外であるときには、下地誘 電体層 13中の気泡の数が増加し、さらに隔壁 14の倒れや欠損のあることが確認され た。さらに、ノ ネル番号 17〜: 19のように、アドレス電極 12と下地誘電体層 13の両者 ともが本発明の材料組成の範囲外であるときには、気泡および隔壁倒れが異常に増 加することがわかる。また、気泡の発生数が少ないことは、当然下地誘電体層 13の
絶縁耐圧性能を高め、信頼性の高い PDPを実現することになる。
[0063] これらの結果は、アドレス電極 14の結着ガラス、あるいは下地誘電体層 13の誘電 体ガラスの軟ィ匕点が低いと、焼成ステップにおいて、銀 (Ag)材料や有機バインダ成 分などと酸化ビスマス(Bi O )との反応によって気泡が発生しやすくなるためである。
2 3
一方、ガラス軟化点が高い結着ガラス、あるいは誘電体ガラスの場合には、背面ガラ ス基板 11、アドレス電極 12、下地誘電体層 13との接着力が弱いために、剥離ゃ界 面への気泡発生などが増加するためである。いずれにしても、これら力 下地誘電体 層 13とその上の隔壁 14の形状不良を誘発し、隔壁 14の倒れや、隔壁 14の欠損を 発生させていると考えられる。
[0064] なお、以上に述べた各材料組成の含有量数値は、アドレス電極の結着ガラスの材 料組成または下地誘電体層の誘電体ガラスの材料組成では ± 0. 5重量0 /0程度の測 定誤差が存在し、焼成後のアドレス電極または下地誘電体層では ± 2重量0 /0程度の 測定誤差が存在する。これらの誤差を含めた数値範囲の含有量での材料組成にお いても、本発明と同様の効果は得られる。
[0065] 以上のように、本発明の実施の形態における PDPによれば、背面板としても形状精 度を確保するとともに絶縁耐圧性能が高ぐ鉛 (Pb)成分を含まない環境に優しい P DPを実現すること力 Sできる。
産業上の利用可能性
[0066] 以上のように、本発明の PDPは、背面板の信頼性を高め、さらに、環境に優しく表 示品質に優れた PDPを実現して大画面の表示デバイスなどに有用である。
Claims
[1] ガラス基板上に表示電極と誘電体層と保護層とが形成された前面板と、基板上にァ ドレス電極と隔壁と蛍光体層とが形成された背面板とを対向配置するとともに周囲を 封着して放電空間を形成したプラズマディスプレイパネルであって、前記アドレス電 極を覆って下地誘電体層を設け、前記下地誘電体層上に前記隔壁を設けるとともに 、前記下地誘電体層が少なくとも酸化ビスマスを含むとともに軟ィ匕点温度が 550°Cを 超える誘電体ガラスによって構成されていることを特徴とするプラズマディスプレイパ ネル。
[2] 前記誘電体ガラスが、酸化ビスマスを 20重量%以上 50重量%以下含むことを特徴と する請求項 1に記載のプラズマディスプレイパネル。
[3] 前記アドレス電極は少なくとも銀と結着ガラスとを含有し、前記結着ガラスが少なくとも 酸化ビスマスを含むとともに軟ィ匕点温度が 550°Cを超えることを特徴とする請求項 1 または請求項 2のいずれ力 1項に記載のプラズマディスプレイパネル。
[4] 前記結着ガラスが、酸化ビスマスを 20重量%以上 50重量%以下含むことを特徴とす る請求項 3に記載のプラズマディスプレイパネル。
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