WO2007032163A1 - 有機廃棄物の酸化処理方法と、有機廃棄物の酸化処理装置 - Google Patents

有機廃棄物の酸化処理方法と、有機廃棄物の酸化処理装置 Download PDF

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WO2007032163A1
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oxygen
pressure
temperature
oxidation
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PCT/JP2006/315702
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Yukihiko Karasawa
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Karasawa Fine, Ltd.
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F11/00Treatment of sludge; Devices therefor
    • C02F11/06Treatment of sludge; Devices therefor by oxidation
    • C02F11/08Wet air oxidation
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B09DISPOSAL OF SOLID WASTE; RECLAMATION OF CONTAMINATED SOIL
    • B09BDISPOSAL OF SOLID WASTE
    • B09B3/00Destroying solid waste or transforming solid waste into something useful or harmless
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B09DISPOSAL OF SOLID WASTE; RECLAMATION OF CONTAMINATED SOIL
    • B09BDISPOSAL OF SOLID WASTE
    • B09B3/00Destroying solid waste or transforming solid waste into something useful or harmless
    • B09B3/40Destroying solid waste or transforming solid waste into something useful or harmless involving thermal treatment, e.g. evaporation

Definitions

  • the present invention relates to an oxidation treatment method and an oxidation treatment apparatus for decomposing organic waste such as waste liquid generated in the production process of household garbage, chicken manure, and shochu, for example.
  • organic waste such as waste liquid generated in the production process of household garbage, chicken manure, and shochu, for example.
  • Conventionally known organic waste acid treatment equipment has a plurality of reaction tanks connected in series, and is further pumped upstream of the reaction tanks with a pump as a main element. A mechanism is provided. Then, the slurry-like organic waste is transported to the reaction tank via the pressure feeding mechanism, and the slurry-like organic waste carried into the reaction tank is heated in advance. However, if the reaction proceeds, the oxidation treatment can be performed by the heat of oxidation, so that the heating is sufficient only in the initial stage.
  • the reaction tank for retaining the slurry-like organic waste is provided with oxygen supply means for supplying high-pressure oxygen, and high-pressure oxygen is supplied from the oxygen supply means to the reaction tank.
  • the reaction tank is kept at a saturated water vapor pressure or higher, and water of 200 ° C or higher is supplied. It is generated and treated with acid in this water.
  • sub-critical water is defined as water that is above the saturated water vapor pressure and above 200 ° C. Under subcritical water, a reaction tank that can withstand it can be obtained.
  • the subcritical water generated as described above is maintained at the saturated water vapor pressure or higher, it can always be maintained in a liquid state in the reaction tank. If the reaction tank is kept in a liquid state, the oxidation reaction will be promoted more for the following reasons.
  • the graph in FIG. 6 is a graph with the horizontal axis representing pressure and the vertical axis representing temperature, and curve A represents saturated water vapor pressure.
  • the conditions in the area E1 for performing the oxidation reaction are that the temperature is 200 ° C. or higher and the pressure is equal to or higher than the saturated water vapor pressure.
  • the slurry supplied to the reaction tank is initially heated to 200 ° C or higher, and the pressure equal to or higher than the saturated water vapor pressure is set by the supply pressure of oxygen and the pushing pressure of the slurry. It is necessary to keep.
  • Patent Document 1 Japanese Patent Laid-Open No. 10-263562
  • the pressure in the reaction tank When the temperature in the reaction tank rises and the saturated water vapor pressure, which is the standard corresponding to that temperature, rises, the pressure in the reaction tank must be increased to maintain subcritical water. In other words, it is necessary to control so that the correspondence between temperature and pressure falls within the area E1 in Fig. 6. For example, if the reaction starts at the point P1 in the figure, the temperature rises due to the heat of oxidation, and the point moves to P2, the tank will be under saturated water vapor pressure. In order to maintain the saturated water vapor pressure above the point P2, the pressure must be increased to the point P3. In order to control the pressure in this way, a pressure control valve must be provided on the outlet side of the device, and the opening of the valve must be controlled according to the temperature or the amount of slurry supplied must be adjusted. .
  • the conventional method requires complex control in order to maintain the relative relationship between temperature and pressure. For this reason, there is a problem that the control becomes complicated and the control system becomes complicated.
  • An object of the present invention is to provide an oxidation treatment method and an oxidation treatment that do not require complex control for maintaining the relative relationship between pressure and temperature, and that can treat organic waste at a high decomposition rate. Is to provide a device. Means for solving the problem
  • the slurry-like organic waste is mixed with oxygen or air, and the slurry-like organic waste obtained by mixing the oxygen or air is reduced under a saturated water vapor pressure. It is characterized by an oxidation reaction in an atmosphere of steam at 200 ° C or higher.
  • the pressure in the process is determined by the indentation pressure of the slurry and the oxygen supply pressure in the initial stage. After that, no pressure control is required. This is because, as the temperature of organic waste rises, the pressure rises accordingly, but the pressure is unlikely to be higher than the saturated water vapor pressure.
  • An oxidation treatment apparatus for organic waste includes a supply pump that pumps slurry-like organic waste, and a slurry-like organic waste conveyance path that is conveyed by the supply pump.
  • a supply pump that pumps slurry-like organic waste, and a slurry-like organic waste conveyance path that is conveyed by the supply pump.
  • a reaction section for oxidizing organic waste
  • a heating means provided in the reaction section
  • a transport direction of the organic waste in the slurry provided upstream from the heating means, and supplying oxygen or air.
  • An oxygen supply means for supplying, and a gas-liquid mixing means for mixing oxygen or air with the slurry-like organic waste provided between the oxygen supply means and the heating means. It is characterized in that it is configured to be maintained at 200 ° C. or higher under a saturated water vapor pressure.
  • An organic matter oxidation treatment apparatus is based on the second invention, and detects a temperature in the reaction section by detecting a temperature in the reaction section and a controller that controls the heating means. And a temperature sensor that inputs the temperature to the controller, and the controller keeps the temperature in the reaction section at 200 ° C or higher based on the input temperature detection value. It is characterized in that the heating means is controlled.
  • the controller controls the heating means based on the value detected by the temperature sensor. For example, when the temperature in the reaction section falls below a set value, heating is performed using a heating means.
  • the oxidation reaction environment of the organic waste it is not necessary to maintain the oxidation reaction environment of the organic waste above the saturated water vapor pressure, so that combined control of temperature and pressure becomes unnecessary. Since the oxidation reaction is performed in an atmosphere of water vapor at 200 ° C or higher, oxidation treatment with a high decomposition rate can be performed. Less energy can be supplied.
  • the equipment cost can be kept low.
  • the security personnel specified by the High Pressure Gas Safety Law are not required and the cost can be reduced accordingly.
  • the applicant of the present invention is that wet oxidation can be performed at a lower temperature than dry oxidation, and that the decomposition rate is high because water functions as a catalyst for the acid-acid reaction. I thought because. In this way, if water molecules are present in the reaction atmosphere, it is sufficient if the form of water is not liquid but water vapor. Under such an applicant's hypothesis, an experiment in water vapor was conducted, and the decomposition rate of the oxidized organic waste was higher than in the case of using conventional subcritical water. The result was obtained.
  • the device shown in Fig. 1 has a supply pump P provided downstream of tank 1 that stocks the slurry-like organic waste that is the object to be treated.
  • This supply pump P draws slurry from tank 1 above. It is what discharges it.
  • the first to third reaction tanks 2 to 4 are connected in series on the downstream side of the supply pump P, but the upstream side is provided between the supply pump P and the first reaction tank 2.
  • the first oxygen supply means 5 and the gas-liquid mixing means 9 are provided. Therefore, oxygen is supplied from the first oxygen supply means 5 to the slurry-like organic waste discharged from the supply pump P in the process of reaching the first reaction tank 2.
  • the organic waste passes through the gas-liquid mixing means 9
  • the organic matter in the slurry is pulverized more finely, and oxygen bubbles are also fragile. Therefore, the fine oxygen bubbles and the organic particles that have become tightly mixed are uniformly mixed.
  • the gas-liquid mixing means 9 uniformly mixes the fine bubbles of oxygen and the organic particles that have become weak, so that oxygen is sufficiently distributed to the surface of the organic particles. It can be made. If oxygen is sufficiently distributed on the surface of the organic matter, a more uniform and uniform oxidation reaction will occur.
  • the gas-liquid mixing means 9 configured as described above is a means for uniformly mixing oxygen, air, and slurry-like organic waste, so it must be provided downstream of the first oxygen supply means 5. However, the uniformly dispersed slurry-like organic waste mixed by the gas-liquid mixing means 9 must be kept up to the first reaction tank 2, so that it is downstream of the first oxygen supply means 5. However, it is better to install it in a place not far from the first reaction tank 2.
  • the first reaction tank 2 located at the most upstream of the first to third reaction tanks 2 to 4 is provided with a temperature control mechanism.
  • This temperature control mechanism is a hot air for heating.
  • the controller C which will be described in detail later, determines when to operate either the heating means TC1 or the cooling means TC2.
  • the heating means TC1 configured as described above heats the slurry carried into the first reaction tank 2 so as to trigger the acidification treatment. Slurry heated by this heating means TC1 The solid organic waste is oxidized in the first reaction tank 2 to generate oxidation heat. Once the oxidation heat is generated, the organic waste is heated directly by the heating means TC1. Even if not, the oxidation reaction is accelerated by the oxidation heat. However, when the temperature in the first reaction tank 2 falls below the lower limit setting value of 200 ° C, the controller C operates the heating means TC 1 to heat the first reaction tank 2 and lowers the temperature to the lower limit. Keep the set value above 200 ° C.
  • the cooling means TC2 of the temperature control mechanism supplies cold air for cooling the first reaction tank 2 when the first reaction tank 2 reaches a temperature exceeding the heat resistance strength of the apparatus. It is.
  • the heating means TC1 supplies hot air as described above, a heating wire is wound around the first reaction tank 2 and the first reaction tank 2 is heated by the heat of the heating wire. It may be. Also, the cooling means TC2 may spray the cooling water directly on the first reaction tank 2 that does not supply cold air.
  • the organic waste oxidized in the first reaction tank 2 flows out from above the first reaction tank 2 and flows into the second reaction tank 3 with its bottom side force.
  • the second reaction tank 3 is not provided with a temperature control mechanism unlike the first reaction tank 2. This is because organic waste that has oxidation heat is supplied to the second reaction tank 3, so that the oxidation reaction can be sufficiently promoted with only the oxidation heat that the slurry has even without the heating means TC1. Because it is done.
  • the second reaction tank 3 is not provided with a cooling means TC2. However, if the first reaction tank 2 is cooled by the cooling means TC2 as described above, the organic waste is also cooled accordingly. This is because it is assumed that the second reaction tank 3 into which the cooled organic waste flows will not overheat. If it is assumed that the second reaction tank 3 rises above the heat resistance temperature, the second reaction tank 3 may be provided with a cooling means.
  • the organic waste oxidized in the second reaction tank 3 as described above flows out upward force of the second reaction tank 3 and flows into the third reaction tank 4 with its bottom side force.
  • the second oxygen supply means 6 and the gas-liquid mixing means 10 are also provided for the upstream side force. Therefore, the second oxygen supply means 6
  • the organic waste supplied with is uniformly dispersed by the gas-liquid mixing means 10 immediately before flowing into the third reaction tank 4.
  • the reason why the gas-liquid mixing means 10 is provided between the third reaction tank 4 and the second oxygen supply means 6 as described above is that the organic waste discharged from the second reaction tank 3 is This is because when the unreacted organic particles remain, the organic particles are made finer. If the organic particles are made finer in this way, the surface area of the organic particles increases, and the area where oxygen comes into contact with the organic material increases accordingly. Therefore, the oxidation reaction in the third reaction tank 4 is performed more quickly, and complete combustion is realized.
  • the supply amount of oxygen is determined as follows. For example, if the solids concentration of organic waste for oxidation treatment is determined, the total amount of oxygen necessary to completely burn it is inevitably determined. This necessary total oxygen amount is divided and supplied by the first and second oxygen supply means 5 and 6. Therefore, the second oxygen supply means 5 supplies oxygen obtained by subtracting the amount of oxygen supplied by the first oxygen supply means 5 from the total required oxygen amount.
  • the second oxygen supply means 6 may be provided on the upstream side of the second reaction tank 3, which is not necessarily provided on the upstream side of the third reaction tank 4. Then, how to allocate the required total oxygen amount may be determined based on efficient oxidation treatment. Therefore, from the viewpoint of the efficiency of oxidation treatment, it is possible to provide oxygen supply means at the three power stations upstream of each reaction tank.
  • the reaction tank 4 is provided with a catalyst layer 4a filled with a catalyst. Accordingly, in the third reaction tank 4, the oxidation reaction is further promoted by the catalyst of the catalyst layer 4a.
  • a simple wet oxidation reaction is performed in the first reaction tank 2 and the second reaction tank 3, and a wet catalytic oxidation reaction is performed in the third reaction tank 4.
  • a valve mechanism 7 and a gas-liquid separation tank 8 are provided in order of upstream force.
  • the valve mechanism 7 is configured by a bridge circuit including, for example, passages 11 to 14 provided with opening / closing valves 15 to 18 and a passage 19 provided with an orifice 20 as shown in FIG.
  • the In this bridge circuit one of the opposing valves 15, 17 and the valves 16, 18 is opened, and the other valve is closed.
  • the processing fluid discharged from the third reaction tank 4 is guided to the gas-liquid separation tank 8 through the passage 19.
  • the processing fluid flows in the directions of the arrows 21 and 22, and if the open / close state of the valve is reversed, the fluid Flows in the direction of arrows 23 and 24.
  • the flow direction can be changed in this way so that the cause of the clogging can be removed.
  • the orifice 20 is clogged, the clogging can be eliminated by creating a flow in the direction opposite to the direction of clogging.
  • the opening of the orifice 20 in the passage 19 is made variable, and the opening of the orifice 20 is adjusted so that the pressure in the apparatus during processing can be controlled.
  • the purpose of controlling this pressure is to make sure that the pressure in the apparatus does not exceed the pressure resistance of the apparatus and that the pressure in the apparatus exceeds a certain level.
  • the reason why the pressure in the apparatus is increased to a certain degree as described above is to compress the volume of oxygen in the apparatus. If the volume of oxygen is not compressed, the volume of oxygen becomes extremely large and a corresponding device volume is required. Therefore, as described above, oxygen is compressed to reduce its volume so that the device itself can be miniaturized. Also, when oxygen and liquid are mixed, it becomes easier to create a uniform dispersion state when the volume of both is closer. Therefore, the pressure in the apparatus is maintained at a set pressure or higher, and the large volume of oxygen is compressed so that the volume of oxygen approaches the volume of slurry-like organic waste.
  • valve mechanism 7 includes the variable orifice 20 composed of four fixed age re- faces 20a, 20b, 20c, and 20d having different opening diameters.
  • the four fixed orifices 20a, 20b, 20c, and 20d are provided in parallel, and the open / close valves 25a, 25b, 25c, and 25d are provided in series for each of these orifices. ing.
  • the valve mechanism 7 configured as described above, by opening the open / close valves 25a to 25d, the fixed orifice corresponding to the open open / close valve can flow. Therefore, a fixed orifice with a different opening diameter can be selected depending on which open / close valve is opened.
  • the orifice 20 can be made substantially variable depending on the selection situation. Note that only one of the opening / closing valves 25a to 25d may be opened, or a plurality of opening / closing valves may be combined and opened. Also, the opening of each fixed orifice should be determined by the flow rate of the processing fluid. It is not an essential condition to make all four orifices different from each other.
  • the reason why the orifice 20 is made a variable orifice as described above is to set an initial set pressure in the apparatus. For example, the required oxygen amount changes according to the solid content concentration of organic waste. The pressure required to compress the oxygen changes according to the oxygen amount, so the initial set pressure is determined accordingly. Because.
  • the organic waste slurry is oxidized via the first to third reaction tanks 2 to 4, and the water and carbon dioxide gas generated by this oxidation treatment are It is separated in the gas-liquid separation tank 8 and discharged. Accordingly, the first to third reaction tanks 2 to 4 force constitute the reaction section of the present invention.
  • the temperature control by is controlled by the controller C. That is, a temperature sensor TS and a pressure sensor PS are connected to the controller C so that a temperature signal and a pressure signal in the apparatus are input. Further, the controller C outputs hot air from the heating means TC1 or outputs cool air from the cooling means TC2 based on the temperature signal of the temperature sensor TS.
  • the first and second oxygen supply means 5 and 6 in the above-described embodiment may be any means that supplies a deviation of the high-pressure oxygen or air to the slurry-like organic waste transport path.
  • oxygen necessary for the oxidation reaction may be supplied to the transport path.
  • the oxygen supply means for supplying oxygen or air to the transport path is an essential component of the present invention. This is because if the oxygen necessary for complete combustion of organic waste is not supplied through the transport path, the organic matter will be carbonized.
  • a cooling means (not shown) is provided between the third reaction tank 4 and the pressure control mechanism 7 to cool the gas-liquid mixed fluid after processing. And in the gas-liquid separation tank 8, organic waste The water generated by the oxidation reaction of the waste slurry and carbon dioxide gas are separated and discharged.
  • the supply amount of slurry organic waste per hour is determined according to the type of organic waste, and the required oxygen amount is determined according to the solid content concentration of the organic waste.
  • the necessary pressure in the device is determined so as to be less than the saturated water vapor pressure, assuming that.
  • the discharge amount of the supply pump P is set via the controller C based on the supply flow rate per hour of the organic waste, and the first amount via the controller C is set based on the required oxygen amount.
  • 1, 2 Set the oxygen push-in amount and push-in pressure with oxygen supply means 5 and 6, and set the opening of valve mechanism 7 via controller C.
  • the organic waste to be treated is pumped from the supply tank 1 to the first reaction tank 2 by the pump P.
  • high-pressure oxygen is supplied from the first oxygen supply means 5.
  • oxygen and the slurry-like organic waste are mixed by gas-liquid mixing means 9 provided downstream of the first oxygen supply means 5.
  • the organic waste sufficiently mixed with oxygen is supplied to the first reaction tank 2, and at this time, the first reaction tank 2 is heated by the heating means TC1. Therefore, the organic waste supplied to the first reaction tank 2 undergoes an oxidation reaction to generate oxidation heat.
  • the internal temperature of the first reaction tank 2 at this time is heated to 200 ° C or higher, for example, 270 ° C.
  • the temperature in the reaction tank may be 200 ° C or more, but in practice it is necessary to keep the temperature below that temperature in consideration of the heat resistance strength of the equipment. Under such conditions, the lower limit of 200 ° C was determined based on experiments, and according to the experiments, oxidation reactions occur rapidly at temperatures above 200 ° C. It has been found out.
  • the temperature in the first reaction tank 2 is set to 270 ° C. However, depending on the state of the oxidation reaction, the temperature in the first reaction tank 2 further increases, and The heat-resistant temperature may be exceeded. Taking this into account, the temperature sensor Ts detects this device. Based on the temperature signal, the controller C monitors the temperature inside the apparatus. If the temperature exceeds the above heat-resistant temperature, the controller C operates the cooling means TC2 to cool the first reaction tank 2.
  • the controller C monitors the pressure in the apparatus based on the pressure signal from the pressure sensor Ps, and when the pressure exceeds the pressure resistance of the apparatus, the controller C opens the valve mechanism 7 to Reduce the pressure.
  • controller C does not perform pressure control based on the saturated water vapor pressure.
  • the composite control is performed to maintain the relative relationship between temperature and pressure as in the prior art.
  • the temperature falls below 200 ° C, the oxidation reaction of the organic substance may not be performed reliably, and unreacted substances may remain. Therefore, when the temperature inside the equipment falls below 200 ° C, the temperature must be 200 ° C or higher. Therefore, in the apparatus shown in FIG. 1, a temperature sensor Ts is installed near the outlet of the first reaction tank 2 to detect the internal temperature, and the detected temperature signal is input to the controller C. The controller C controls the heating means TC1 based on the input temperature signal. However, since oxidation heat is generated in the first reaction tank 2, the temperature hardly decreases. Therefore, it is almost only the initial stage that the first reaction tank 2 is heated by this heating means TC1.
  • the pressure is less than the saturated water vapor pressure, and the temperature is 200 ° C or higher in the atmosphere of heated water vapor.
  • the light density area E2 in the graph of FIG. 6 is a range that satisfies the above conditions.
  • the treatment object used in these experiments is a slurry in which water is added to household garbage.
  • Figures 4 and 5 show BOD (biochemical oxygen demand) and COD (chemical
  • the slurry-like organic waste was pumped 350 (ml Zmin) with pump P, and heating means TC1 of the first reaction tank 2 was set to 250 (° C). Air corresponding to an oxygen supply amount of 20.3 (Nl / min) was supplied from the first oxygen supply means 5.
  • the temperature based on the acid-acid reaction that is, the dependent treatment temperature
  • this dependent treatment temperature is measured by a temperature sensor Ts near the outlet of the first reaction tank 2.
  • the force that the dependent treatment temperature is higher than the set temperature of the heating means TC1 is due to the action of acid heat in the acid treatment.
  • the processing pressure detected by the pressure sensor Ps was 4.0 to 4.5 (MPa), which was within the range of pressure resistance of the device.
  • the treatment pressure was 7.7 to 8.2 (MPa), and the dependent treatment temperature was 203 to 296 (° C). This indicates that processing is performed in area E1 in FIG.
  • the oxygen supply amount is 20. 3 (71 ⁇ 11) and the slurry supply amount is 350 (1111 Zmin), which is the same as in Experiment 1.
  • the decomposition rate of CODMn is 99.333 (%)
  • the decomposition rate of SS solid content
  • the decomposition rate of CODMn was 99.700 (%) in Experiment 1 using the method of this embodiment, and 99.333 (%) in Experiment 2 of the conventional method.
  • the force undecomposition rate that seems to be a high decomposition rate of 99 (%) or more is 300 ppm in Experiment 1 and 667 ppm in Experiment 2.
  • the amount of undegraded product is more than double that in Experiment 2.
  • oxygen in the gas will not dissolve further in the water unless oxygen in the water is consumed by the oxidation reaction. In other words, only the amount of oxygen consumed in the water will cause oxygen in the gas to sink into the water. However, even if oxygen in the water is consumed as described above, oxygen in the gas does not immediately melt into the water. In other words, it takes time for oxygen in the gas to melt into the water.
  • this embodiment has a greater amount of oxygen present around the organic particles than the conventional method, and accordingly, the amount of oxygen contributing to the reaction also increases. Therefore, in this embodiment, it is considered that the contact probability of oxygen to the organic particle surface is higher, the oxidation reaction proceeds more rapidly, and the decomposition rate is higher.
  • the relative relationship between pressure and temperature is controlled in a complex manner as in the conventional case where the pressure in the reaction section does not need to be maintained at or above the saturated water vapor pressure. Therefore, it is possible to simplify the control system and achieve a higher decomposition rate than before.
  • the apparatus can be used at a pressure lower than that in the prior art.
  • the internal pressure can be set to 5 (MPa) or less. If the internal pressure is set to 5 (MPa) or less in this way, the high-pressure gas safety law is not applicable and security personnel are not required.
  • the pressure of the device can be lowered, the safety can be increased and the pressure resistance of the device can be lowered. Furthermore, the manufacturing cost of the device can be reduced by reducing the pressure strength.
  • the area E2 'within the area E2 indicated by the oblique lines in FIG. 6 and having a pressure of 5 (MPa) or less is sufficiently larger than the area E1'. Because it is wide, temperature and pressure control in its wide area E1 'is easier than conventional equipment Become. Therefore, it becomes easy to operate the apparatus below the “high pressure” standard stipulated in the High Pressure Gas Safety Law, and as a result, the above-mentioned arrangement of security personnel becomes unnecessary.
  • the pressure in the apparatus must always be maintained at or above the saturated water vapor pressure, but the saturated water vapor pressure itself becomes a high pressure. Therefore, in order to maintain the high pressure, the supply pressure of slurry-like organic waste must be increased or the supply pressure of oxygen must be increased. The pressure must be increased in this way, so that much energy is required.
  • the pressure does not need to be maintained at a high saturated water vapor pressure or higher.
  • the pressure does not have to be increased to the saturated water vapor pressure or higher, so there is no need to bother to lower the temperature in the apparatus. Since there is no need to lower the temperature in this way, there is no need to sacrifice the processing efficiency as in the conventional case where there is no need to reduce the amount of organic waste.
  • the lower limit of the pressure is not particularly defined as long as the pressure in the apparatus is kept below the saturated water vapor pressure.
  • reducing the pressure in the reaction section means that the air pressure from the oxygen supply means 5 and 6 must be lowered, and the volume of the required oxygen volume increases. Therefore, if the pressure is set low, the safety increases, but the apparatus becomes large. Eventually, the pressure during use will be determined according to the amount of processing required and the installation space of the equipment.
  • FIG. 1 is a configuration diagram of an oxidation treatment apparatus according to an embodiment.
  • FIG. 2 is a configuration diagram of a valve mechanism in the processing apparatus of FIG.
  • FIG. 3 is a configuration diagram of an orifice of the vanolev mechanism in FIG. 2.
  • FIG. 4 is a table showing experimental results of treatment experiment 1 using the treatment method of the present invention.
  • FIG. 5 is a table showing experimental results of treatment experiment 2 using a conventional treatment method.
  • FIG. 6 is a graph showing the temperature and pressure conditions during acidification treatment.

Abstract

【課題】 複雑な制御を必要とせずに、効率よく有機廃棄物を処理できる酸化処理方法および酸化処理装置を提供することである。 【解決手段】 スラリー状の有機廃棄物を圧送する供給ポンプPと、この供給ポンプPで搬送される有機廃棄物の搬送経路中に設け、有機廃棄物を酸化反応させる反応セクション2,3,4と、上記反応セクションに設けた加熱手段TC1と、上記有機廃棄物の搬送方向を基準として、上記加熱手段TC1より上流に設け、酸素または空気を供給する酸素供給手段5と、この酸素供給手段5と上記加熱手段TC1との間に設け、スラリー状の有機廃棄物に酸素または空気を混合するための混合手段9とを備え、上記反応セクション内を飽和水蒸気圧未満で、200°C以上に維持する構成にした。

Description

明 細 書
有機廃棄物の酸化処理方法と、有機廃棄物の酸化処理装置
技術分野
[0001] この発明は、例えば、生活生ごみや、鶏糞、焼酎の製造過程で発生する廃液等の 有機廃棄物を分解するための酸化処理方法および酸化処理装置に関する。 背景技術
[0002] これまでに知られている有機廃棄物の酸ィ匕処理装置では、複数の反応タンクを直 列に接続するとともに、それら反応タンクのさらに上流側に、ポンプを主要素とする圧 送機構を設けている。そして、スラリー状の有機廃棄物を、上記圧送機構を介して反 応タンクに搬送するが、反応タンクに搬入されるスラリー状の有機廃棄物は、あらかじ め加熱しておく。ただし、反応が進めば、その酸化熱によって酸化処理ができるので 、上記加熱は初期段階だけで足りる。また、スラリー状の有機廃棄物を滞留させる反 応タンクには、高圧の酸素を供給する酸素供給手段を設け、この酸素供給手段から 高圧酸素を上記反応タンクに供給するようにして 、る。
[0003] 上記のようにして反応タンクに搬入された有機廃棄物のスラリーは、各反応タンクに 滞留するが、その滞留過程で酸化反応が促進される。そして、上流側の反応タンクで 酸化反応された有機廃棄物は、下流側の反応タンクに順次搬送されるものである。 なお、最下流の反応タンク内には触媒を設け、触媒によって酸化反応がさらに促進さ れるようにしている。このようにして複数の反応タンクを経由しながら、最終的に有機 廃棄物は完全燃焼するが、この完全燃焼した有機廃棄物は、水と炭酸ガスとに分離 して排出される。
[0004] 上記のようにした装置において、反応タンク内を超臨界の状態に保てば、その酸ィ匕 反応を短時間で行なえることは、周知のことである。しかし、超臨界の状態では、ほと んどの物質が短時間に酸化されてしまうので、超臨界に耐えうる反応タンクを実現す ることはほとんど不可能である。そのために、超臨界の下で酸ィ匕処理するという理論 は一般的に認められている力 上記のような理由から、それを実現できないでいる。
[0005] そこで、実際には、反応タンク内を飽和水蒸気圧以上に保って、 200°C以上の水を 生成し、この水の中で酸ィ匕処理するようにしている。なお、ここでは、このような飽和水 蒸気圧以上であって、 200°C以上の水を亜臨界水と定義する。そして、亜臨界水の 下では、それに耐えうる反応タンクを得ることができる。また、上記のようにして生成さ れた亜臨界水は、飽和水蒸気圧以上に保たれているので、反応タンク内では、常に 、液体の状態に保つことができる。反応タンク内が液体の状態に保たれていれば、酸 化反応がより促進されることになる力 その理由は次の通りである。
[0006] まず、有機廃棄物を速やかに酸化処理するためには、必要十分な酸素量と、高温 とが必要である。そして、有機廃棄物が乾いた状態での酸化反応、すなわち、空気 中での燃焼では、酸素を確保することは可能である力 燃焼温度が、 1000°C近くま で上昇してしまう。そのため、乾式酸ィ匕方式の燃焼装置には、非常に高い耐熱性が 要求される。その上、この乾式酸化では、完全燃焼させることは難しぐ乾式酸化での 有機廃棄物の分解率は、 95%程度が限度であった。
[0007] これに対し、亜臨界水中での湿式酸ィ匕反応を利用した場合には、 200°C以上の低 い温度で酸化反応が起こり、しかも、有機廃棄物の供給量などの条件を整えれば、 9 9%以上の分解率を得られることが知られている。そこで、有機廃棄物の高分解率が 求められた場合には、亜臨界水中での湿式酸ィ匕が一般的であった。
[0008] また、上記のような水中での酸ィ匕反応を行なうためには、図 6の斜線で示したエリア E1内の条件を満たす必要がある。なお、図 6のグラフは、横軸を圧力、縦軸を温度と したグラフで、曲線 Aが飽和水蒸気圧を示している。そして、酸化反応を行なうための エリア E1内の条件とは、温度が 200°C以上であって、圧力が飽和水蒸気圧以上のこ とである。
このような反応条件を満たすためには、反応タンクに供給されるスラリーを 200°C以 上に初期加熱するとともに、酸素の供給圧とスラリーの押し込み圧とによって、飽和水 蒸気圧以上の圧力を保つことが必要になる。
特許文献 1:特開平 10— 263562号公報
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0009] 上記のような反応装置において、初期加熱後、酸化反応が始まれば、酸化熱が発 生する。このように一度酸化熱が発生すれば、その後は、特に加熱しなくても反応に 必要な温度を得ることができる。場合によっては、反応の繰り返しによって、反応タン ク内の温度がどんどん上昇することもある。
反応タンク内の温度が上昇して、その温度に対応する基準となる飽和水蒸気圧が 上昇したときには、亜臨界水を維持するために、反応タンク内の圧力を上昇させなけ ればならない。言い換えると、温度と圧力との対応関係を、図 6のエリア E1内に収ま るような制御が必要になる。例えば、図中のポイント P1の状態で反応を開始して、酸 化熱によって温度が上昇し、ポイントが P2に移動した場合には、タンク内が飽和水蒸 気圧未満になってしまう。ポイント P2の温度で、飽和水蒸気圧以上を維持するために は、圧力を上げてポイント P3の状態にしなければならない。このように圧力を制御す るためには、当該装置の出口側に圧力制御バルブを設けて、温度に応じてバルブの 開度を制御したり、スラリーの供給量を調整したりしなければならない。
このように従来の方法では、温度と圧力との相対関係を維持するために、複合的な 制御が必要になる。そのために、制御が複雑になるとともに、その制御系も複雑ィ匕す るという問題があった。
[0010] また、装置の耐圧性あるいは耐熱性を考慮したときには、それら圧力あるいは温度 の制御がさらに複雑になる。例えば、温度がどんどん上昇していったときには、装置 内の圧力を上記エリア E1内に収めるために、圧力も上昇させなければならない。し かし、温度上昇に合わせて圧力をどんどん上げていくと、今度は、装置の耐圧力を超 えてしまうことがある。そこで、装置内の温度を下げて飽和水蒸気圧を下げなければ ならない。し力も、温度も、装置の耐熱性の観点力 すると限界があり、耐熱温度を超 えないように、装置内温度も制御しなければならない。このように、圧力と温度とが上 記エリア E1内にあっても、圧力あるいは温度を、耐圧性あるいは耐熱性の観点から、 さらに制御しなければならないので、制御体系が複雑化し、その分、コンピュータソフ トゃ、センサーなどが高価になるという問題があった。
[0011] この発明の目的は、圧力と温度との相対関係を維持するための複合的な制御を必 要とせず、しかも、高分解率で有機廃棄物を処理できる酸化処理方法および酸化処 理装置を提供することである。 課題を解決するための手段
[0012] 第 1の発明は、スラリー状の有機廃棄物に、酸素または空気を混合し、この酸素ま たは空気を混合したスラリー状の有機廃棄物を、飽和水蒸気圧未満のもとで、 200°C 以上の水蒸気の雰囲気中で酸化反応させることを特徴とする。
なお、上記酸ィ匕反応が行なわれるには、 200°C以上が必要である力 理論的には 、温度が高ければ高いほど反応速度が速くなるので、温度の上限はない。また、プロ セスでの圧力は、初期段階でのスラリーの押し込み圧と酸素供給圧とで決まる。それ 以後は、特に圧力制御を必要としない。なぜなら、有機廃棄物の温度が上昇すれば 、それにともなって圧力も多少上昇するが、その圧力は、飽和水蒸気圧以上の高い 圧力になることはまずな 、からである。
[0013] 第 2の発明の、有機廃棄物の酸化処理装置は、スラリー状の有機廃棄物を圧送す る供給ポンプと、この供給ポンプで搬送されるスラリー状の有機廃棄物の搬送経路中 に設け、有機廃棄物を酸化反応させる反応セクションと、上記反応セクション内に設 けた加熱手段と、上記スラリーの有機廃棄物の搬送方向を基準として、上記加熱手 段より上流に設け、酸素または空気を供給する酸素供給手段と、この酸素供給手段 と上記加熱手段との間に設け、スラリー状の有機廃棄物に酸素または空気を混合す るための気液混合手段とを備え、上記反応セクション内を飽和水蒸気圧未満で、 20 0°C以上に維持する構成にしたことを特徴とする。
[0014] なお、この第 2の発明においても、上記第 1の発明と同様に、上記酸化反応が行な われるには、 200°C以上が必要である力 理論的には、温度が高ければ高いほど反 応速度が速くなるので、温度の上限はない。また、装置内の圧力は、初期段階での スラリーの押し込み圧と酸素供給圧とで決まる。それ以後は、特に圧力制御を必要と しない。なぜなら、装置内の温度が上昇すれば、それにともなって圧力も多少上昇す る力 その圧力は、飽和水蒸気圧以上の高い圧力になることはまずないからである。
[0015] 第 3の発明の、有機物の酸化処理装置は、上記第 2の発明を前提とし、上記加熱 手段を制御するコントローラと、上記反応セクション内の温度を検出して、その温度検 出値を上記コントローラへ入力する温度センサーとを備え、上記コントローラは、入力 された温度検出値に基づき、反応セクション内の温度を 200°C以上に保っために、 上記加熱手段を制御する点に特徴を有する。
反応セクション内の温度を 200°C以上に保っため、コントローラは温度センサーの 検出値に基づいて、加熱手段を制御する。例えば、反応セクション内の温度が設定 値以下になったときには、加熱手段を用いて加熱する。
発明の効果
[0016] 第 1〜第 3の発明によれば、有機廃棄物の酸化反応環境を、飽和水蒸気圧以上に 維持する必要がないため、温度と圧力との複合的な制御が不要になる。し力も、 200 °C以上の水蒸気の雰囲気中で酸化反応させるので、高分解率の酸化処理ができる また、飽和水蒸気圧以下の低い圧力で処理できるので、その分、処理装置の運転 のために供給するエネルギーを少なくできる。
[0017] 上記のように設定圧力を低くできるので、装置の耐圧性能を低くすることができる。
従って、設備コストを低く抑えることができる。特に、高圧ガス保安法の基準値 (現行 では 5MPa)以下の圧力で処理すれば、高圧ガス保安法で定めた保安員を必要とせ ず、その分のコストを下げることができる。
発明を実施するための最良の形態
[0018] 従来は、亜臨界水を用いれば、乾式での燃焼よりも低い温度で酸ィ匕処理ができると ともに、そのときの分解率が高いものになると考えられていた力 その理由は、必ずし も明らかにされていな力つた。
[0019] 本出願人は、湿式酸化が、乾式酸化よりも低い温度で酸化処理ができ、し力も、そ の分解率が高くなるのは、水が酸ィ匕反応の触媒として機能しているためと考えた。こ のように考えれば、水の分子が反応の雰囲気中に存在すればよぐ水の形態が液体 でなくても、水蒸気であればよいということになる。このような本出願人の仮説の下で、 水蒸気中での実験を行ったところ、酸化処理された有機廃棄物の分解率が、従来の 亜臨界水を用いた場合よりも、高 、と 、う結果が得られた。
[0020] 従来の湿式酸化は、液体中で行われなければならな 、と考えられて 、たが、水蒸 気の雰囲気中でも十分に酸ィ匕反応が行われるという、従来には全くな力つた新たな 理論の下で構成したのが、以下に説明する実施形態である。 [0021] 図 1〜図 6を用いてこの発明の実施形態を説明する。
図 1に示す装置は、処理対象物であるスラリー状の有機廃棄物をストックするタンク 1の下流側に、供給ポンプ Pを設けている力 この供給ポンプ Pは、上記タンク 1からス ラリーを吸い込んで、それを吐出するものである。また、この供給ポンプ Pの下流側に は、第 1〜3反応タンク 2〜4を直列に接続しているが、上記供給ポンプ Pと第 1反応タ ンク 2との間には、その上流側から第 1酸素供給手段 5および気液混合手段 9を設け ている。従って、供給ポンプ Pから吐出された上記スラリー状の有機廃棄物には、第 1 反応タンク 2に到達する過程で、第 1酸素供給手段 5から酸素が供給される。そして、 有機廃棄物が気液混合手段 9を通過することによって、上記スラリー中の有機物がよ り細力べ粉砕されるとともに、酸素の気泡も細力べなる。したがって、細かい酸素の気 泡と細力べなった有機物粒子とが均一に混合されることになる。
[0022] V、ずれにしても、気液混合手段 9で、細か 、酸素の気泡と細力べなった有機物粒子 とが均一に混合されることによって、有機物の粒子表面に酸素を十分に行き渡らせる ことができる。有機物の表面に酸素が十分に行き渡れば、より速やかに、かつ均一な 酸化反応が行われることになる。
[0023] このようにした気液混合手段 9は、酸素と空気とスラリー状の有機廃棄物とを均一に 混合する手段なので、第 1酸素供給手段 5の下流側に設けなければならない。しかし 、気液混合手段 9で混合した均一分散状態のスラリー状の有機廃棄物が、第 1反応 タンク 2まで保たれて 、なければならな 、ので、第 1酸素供給手段 5の下流側であつ ても、第 1反応タンク 2からあまり離れない場所に設けた方がよい。
[0024] また、上記第 1〜3反応タンク 2〜4のうち、最上流に位置する第 1反応タンク 2には 、温度制御機構を設けているが、この温度制御機構は、加熱用の熱風を第 1反応タ ンク 2の周囲に供給する加熱手段 TC 1と、冷却用の冷風を第 1反応タンク 2の周囲に 供給する冷却手段 TC2とからなる。そして、この加熱手段 TC1と冷却手段 TC2との いずれかを、いつ動作させるかは、後で詳しく説明するコントローラ Cが実行するもの である。
[0025] 上記のようにした加熱手段 TC1は、第 1反応タンク 2に搬入されたスラリーを加熱し て、酸ィ匕処理のトリガーになるようにしている。この加熱手段 TC1で加熱されたスラリ 一状の有機廃棄物は、第 1反応タンク 2内で酸化反応して酸化熱を出すが、一度、 酸化熱が発生してしまえば、以後は、有機廃棄物を加熱手段 TC1で直接加熱しなく ても、上記酸化熱で酸化反応が促進されることになる。ただし、第 1反応タンク 2内の 温度が下限設定値である 200°Cを下回ったときには、コントローラ Cは、加熱手段 TC 1を動作させて、第 1反応タンク 2を加熱し、その温度を下限設定値である 200°C以上 に保つ。
[0026] 一方、上記温度制御機構の冷却手段 TC2は、第 1反応タンク 2が、当該装置の耐 熱強度を超える温度になったときに、第 1反応タンク 2を冷却する冷風を供給するもの である。
なお、上記加熱手段 TC1は、上記のように熱風を供給するようにしたが、第 1反応 タンク 2の周囲に電熱線を巻き付け、この電熱線の熱で第 1反応タンク 2を加熱するよ うにしてもよい。また、上記冷却手段 TC2も、冷風を供給するのではなぐ第 1反応タ ンク 2に冷却水を直接噴霧するようにしてもょ 、。
[0027] そして、第 1反応タンク 2で酸化処理された有機廃棄物は、第 1反応タンク 2の上方 から流出して、第 2反応タンク 3にその底部側力 流入する。ただし、この第 2反応タン ク 3には、第 1反応タンク 2のように温度制御機構を設けていない。なぜなら、第 2反応 タンク 3には、酸化熱を保有した有機廃棄物が供給されてくるので、加熱手段 TC1が なくても、スラリーが保有している酸化熱だけで、十分に酸化反応が促進されるから である。また、第 2反応タンク 3に冷却手段 TC2も設けていないが、それは、上記のよ うに第 1反応タンク 2が冷却手段 TC2で冷却されれば、それにともなって有機廃棄物 も冷却されるので、その冷却された有機廃棄物が流入する第 2反応タンク 3がそれほ どオーバーヒートしないであろうことを前提にしたためである。もし、第 2反応タンク 3が 耐熱温度以上に上昇することを想定するなら、この第 2反応タンク 3にも冷却手段を 設けてもよい。
[0028] 上記のようにした第 2反応タンク 3で酸化処理された有機廃棄物は、第 2反応タンク 3の上方力 流出して、第 3反応タンク 4にその底部側力 流入する。なお、この第 2 反応タンク 3から第 3反応タンク 4への流通過程には、その上流側力も第 2酸素供給 手段 6および気液混合手段 10を設けている。従って、第 2酸素供給手段 6から酸素 が供給された有機廃棄物は、第 3反応タンク 4に流入する直前に、気液混合手段 10 によって均一分散される。
[0029] 上記のように第 3反応タンク 4と第 2酸素供給手段 6との間に、気液混合手段 10を設 けたのは、上記第 2反応タンク 3から排出された有機廃棄物に、未反応の有機物粒子 が残っているとき、その有機物粒子をより微粒子化するためである。このように有機物 粒子を微粒子化すれば、有機物粒子の表面積が大きくなり、その分、有機物に酸素 が接触する面積が大きくなる。したがって、第 3反応タンク 4における酸化反応がより 速やかに行われ、完全燃焼が実現する。
[0030] なお、上記酸素の供給量は、次のようにして決められる。例えば、酸化処理をする ための有機廃棄物の固形分濃度が決まれば、それを完全燃焼させるために必要な 酸素の総量が必然的に決まる。この必要な酸素総量を、上記第 1, 2酸素供給手段 5 , 6で分割して供給するようにしている。従って、第 2酸素供給手段 5では、必要酸素 総量から、第 1酸素供給手段 5で供給した酸素量を差し引いた酸素を供給することに なる。また、上記第 2酸素供給手段 6は、必ずしも、第 3反応タンク 4の上流側に設け る必要はなぐ第 2反応タンク 3の上流側に設けてもよい。そして、上記必要酸素総量 を、どのように配分するかは、効率の良い酸化処理を基準に決めればよい。従って、 酸化処理の効率と!/、う観点から、各反応タンクの上流側である 3力所に酸素供給手 段を設けてもよいことになる。
[0031] 上記のような第 2反応タンク 3、第 2酸素供給手段 6および気液混合手段 9を経由し たスラリー状の有機廃棄物は、第 3反応タンク 4に流入するが、この第 3反応タンク 4に は、触媒を充填した触媒層 4aを設けている。従って、この第 3反応タンク 4内では、触 媒層 4aの触媒によって、酸化反応がさらに促進される。このことからも明らかなように 、上記第 1反応タンク 2および第 2反応タンク 3では単純湿式酸化反応が行われ、第 3 反応タンク 4内では湿式触媒酸化反応が行われることになる。
[0032] また、上記第 3反応タンク 4の下流側には、上流側力 順にバルブ機構 7と気液分 離槽 8とを設けている。
そして、上記バルブ機構 7は、例えば、図 2に示すように、開閉バルブ 15〜18を設 けた通路 11〜14と、オリフィス 20を設けた通路 19とからなるブリッジ回路で構成され る。このブリッジ回路では対向するバルブ 15, 17の組と、ノ レブ 16, 18の組とのい ずれか一方の組のバルブを開状態とし、他方の組のバルブを閉状態とすることによつ て、第 3反応タンク 4から排出された処理流体を、通路 19を通して気液分離槽 8へ導 くようにしている。
[0033] 例えば、バルブ 15, 17を開状態として、バルブ 16, 18を閉状態とした場合、処理 流体は矢印 21および矢印 22の方向に流れ、上記バルブの開閉状態を反対にすれ ば、流体は矢印 23および矢印 24の方向に流れる。このように流れの方向を変えられ るようにしたのは、目詰まりした原因を取り除けるようにするためである。例えば、オリ フィス 20が目詰まりしてしまったとき、その目詰まりしたときの流れ方向とは反対方向 の流れを作れば、目詰まりを解消できる。
[0034] なお、このブリッジ回路では、上記通路 19のオリフィス 20の開度を可変とし、このォ リフィス 20の開度を調整して、処理中の装置内圧力を制御できるようにしている。な お、この圧力を制御する目的は、装置内の圧力が当該装置の耐圧強度以上になら な 、ようにすることと、装置内の圧力がある程度以上になるようにするためである。
[0035] 上記のように装置内の圧力をある程度以上に上げるのは、装置内の酸素の体積を 圧縮するためである。もし、酸素の体積を圧縮しないと、酸素の体積が極端に大きく なり、それに対応した装置体積が必要になる。そこで、上記のように酸素を圧縮して その体積を小さくし、装置自体も小型化できるようにしている。また、酸素と液体とを混 合するときには、それら両者の体積が近い方が均一な分散状態を作りやすくなる。そ こで、装置内の圧力を設定圧以上に保って、体積の大きな酸素を圧縮し、酸素の体 積をスラリー状の有機廃棄物の体積に近づけるようにして 、る。
[0036] また、上記バルブ機構 7は、上記可変オリフィス 20を、開口径を異にした 4個の固定 才リフィス 20a、 20b、 20c、 20dで構成して!/ヽる。すなわち、図 3【こ示すよう【こ、 4偶の 固定オリフィス 20a、 20b、 20c、 20dを並列に設け、これらのオリフィスのそれぞれに 対して、開閉バルブ 25a、 25b、 25c、 25dを直列に設けている。
[0037] 上記のようにしたバルブ機構 7は、開閉ノ レブ 25a〜25dを開状態にすることによつ て、その開いた開閉バルブに対応した固定オリフィスが流通可能になる。従って、い ずれの開閉バルブを開くかによつて、開口径を異にした固定オリフィスを選択できるこ とになり、その選択の状況によって、オリフィス 20を実質的に可変にできる。なお、開 閉バルブ 25a〜25dは、それらを一つだけ開いてもよいし、複数の開閉バルブを組 み合わせて開くようにしてもよい。また、各固定オリフィスの開度は、処理流体の流量 によって決めればよぐ 4個のオリフィスの開度を全て異なるようにすることは、必須の 条件ではではない。
[0038] 上記のようにオリフィス 20を可変オリフィスにしたのは、装置内の初期設定圧を設定 するためである。例えば、有機廃棄物の固形分濃度に応じて必要酸素量が変化する 力 その酸素量に応じて、当該酸素を圧縮するために必要な圧力が変化するので、 これに応じて初期設定圧を決めるためである。
[0039] そして、最終的には、第 1〜3反応タンク 2〜4を経由して、有機廃棄物のスラリーが 酸化処理されるが、この酸化処理によって生成された水と二酸化炭素ガスは、上記 気液分離槽 8で分離されて排出される。したがって、上記第 1〜第 3反応タンク 2〜4 力 この発明の反応セクションを構成することになる。
[0040] 一方、上記供給ポンプ Pのスラリー供給量の制御、第 1, 2酸素供給手段 5, 6による 酸素供給量の制御、バルブ機構 7の開閉バルブの選択による圧力制御、あるいは温 度制御機構による温度制御は、コントローラ Cで制御されるようにしている。すなわち 、コントローラ Cには、温度センサー TSと圧力センサー PSとを接続し、当該装置内の 温度信号と圧力信号とが入力されるようにしている。また、コントローラ Cは、上記温度 センサー TSの温度信号に基づいて、加熱手段 TC1から熱風を出力させたり、あるい は冷却手段 TC2から冷風を出力させたりする。
[0041] なお、上記実施形態における第 1, 2酸素供給手段 5, 6は、スラリー状の有機廃棄 物の搬送経路に、上記高圧酸素あるいは空気の 、ずれを供給するものであればょ 、 。要するに、上記搬送経路に酸化反応に必要な酸素が供給されればよい。このよう に搬送経路に酸素あるいは空気を供給する酸素供給手段は、この発明の必須の構 成要素である。なぜなら、上記搬送経路で有機廃棄物の完全燃焼に必要な酸素が 供給されないと、有機物が炭化してしまうからである。
[0042] また、上記第 3反応タンク 4と圧力制御機構 7との間には、図示していない冷却手段 を設けて処理後の気液混合流体を冷却している。そして、気液分離槽 8で、有機廃 棄物のスラリーの酸化反応によって生成した水と二酸化炭素ガスとを分離して排出す るようにしている。
[0043] 次に、上記のような酸化処理装置を用いた処理方法を説明する。
最初に、有機廃棄物の種類に応じて、スラリーの有機廃棄物の時間当たりの供給 量を決めるとともに、その有機廃棄物の固形分濃度に応じて必要酸素量を決める。ま た、このように有機廃棄物の供給量と酸素供給量とが決まった段階で、それを前提に しながら、飽和水蒸気圧未満になるように、装置内の必要圧力を決める。
[0044] 上記のように有機廃棄物の時間当たりの供給流量に基づいて、コントローラ Cを介 して供給ポンプ Pの吐出量を設定し、必要酸素量に基づいて、コントローラ Cを介して 、第 1, 2酸素供給手段 5, 6による酸素の押し込み量と押し込み圧力とを設定し、さら に、コントローラ Cを介して、バルブ機構 7の開度を設定する。
[0045] そして、処理対象である有機廃棄物を、供給タンク 1からポンプ Pによって第 1反応 タンク 2に圧送するが、その圧送過程で、第 1酸素供給手段 5から高圧酸素を供給す るとともに、第 1酸素供給手段 5の下流に設けた気液混合手段 9によって酸素と上記 スラリー状の有機廃棄物とを混合する。このように酸素と十分に混合された有機廃棄 物は、第 1反応タンク 2に供給されるが、このとき第 1反応タンク 2を加熱手段 TC1で 加熱する。したがって、第 1反応タンク 2に供給された有機廃棄物は、酸化反応して 酸化熱を発生する。
[0046] そして、このときの第 1反応タンク 2の内部温度を 200°C以上、例えば 270°Cに加熱 するようにしているが、理論的には、温度が高ければ高いほど、酸化反応はより促進 される。したがって、反応タンク内の温度は、 200°C以上何度でもよいが、実際には、 装置の耐熱強度を考慮して、その耐熱温度以下に維持する必要がある。このような 条件の中で、 200°Cを下限としたのはあくまでも実験に基づいて定めたもので、その 実験によれば、 200°C以上の温度であれば、速やかに酸化反応が行わることが判明 したものである。
[0047] 上記のように第 1反応タンク 2内の温度を 270°Cに設定しているが、その酸化反応 の状況に応じては、第 1反応タンク 2内の温度がさらに上昇し、上記耐熱温度を超え る場合もある。このようなことを考慮して、この装置では、温度センサー Tsが検出した 温度信号に基づいて、コントローラ Cに装置内温度を監視させ、もし、上記耐熱温度 以上になったときには、コントローラ Cが冷却手段 TC2を動作させて、第 1反応タンク 2を冷やすようにしている。
[0048] 上記のようにして第 1反応タンク 2で酸化反応が始まれば、酸化熱が発生するので、 スラリー状の有機廃棄物はその酸化熱による高温を維持したまま、固気液混相流体 となって、第 2反応タンク 3、第 3反応タンク 4へ搬送されていく。このとき、コントローラ Cは、圧力センサー Psからの圧力信号に基づいて装置内圧力を監視し、その圧力が 当該装置の耐圧強度を超えるときには、コントローラ Cが、バルブ機構 7を開いて、装 置内の圧力を下げる。
[0049] また、装置内の温度が上昇すると、装置内の圧力も上昇傾向になるが、温度上昇 にともなって上昇する圧力は、飽和水蒸気圧以上になることはほとんどない。したが つて、コントローラ Cは、飽和水蒸気圧を基準にした圧力制御はしていない。言い換 えると、この実施形態では、従来のように温度と圧力との相対関係を維持するための 複合的な制御はして 、な 、。
[0050] 一方、温度が 200°C未満になってしまうと、有機物の酸化反応が確実に行なわれな いで、未反応物が残ってしまうことがある。したがって、装置内の温度が 200°C未満 になったときには、その温度を 200°C以上しなければならない。そこで、図 1に示す装 置では、第 1反応タンク 2の出口付近に温度センサー Tsを取り付けて内部温度を検 出し、その検出した温度信号をコントローラ Cへ入力するようにしている。コントローラ Cでは、入力された温度信号に基づいて、上記加熱手段 TC1を制御する。ただし、 第 1反応タンク 2内には、酸化熱が発生するので、温度が下がることはほとんどない。 したがって、この加熱手段 TC1で第 1反応タンク 2を加熱するのは、ほとんど初期段 階だけになる。
[0051] なお、この実施形態の処理方法は、上記のように圧力は飽和水蒸気圧未満、温度 は 200°C以上の加熱水蒸気の雰囲気で、有機廃棄物の酸化処理を行なうものであ る力 図 6のグラフにおける淡濃度のエリア E2が、上記の条件を満たす範囲である。
[0052] 上記の処理条件で酸化処理実験を行ったが、その結果を実験 1として図 4に示した 。また、比較実験として、従来の処理方法に基づいて処理実験を行い、その結果を 実験 2として図 5に示した。なお、このこの実験 2は、図 6の横線で示したエリア E1内 の条件で行つたものである。
また、これらの実験に用いた処理対象物は、生活生ごみに水を加えたスラリーであ る。
実験結果として、図 4、図 5には、処理前後の BOD (biochemical oxygen demand)、 COD (chemical
oxygen demand) Mn、 CODCr、 SS (固形分)と、分解率(%)とが示されている。
[0053] (実験 1)
実験 1は、図 4に示すように、上記スラリー状の有機廃棄物をポンプ Pで、 350 (ml Zmin)圧送するとともに、第 1反応タンク 2の加熱手段 TC1を 250 (°C)に設定し、酸 素供給量が 20. 3 (Nl/min)に対応する空気を第 1酸素供給手段 5から供給した。 このときの酸ィ匕反応に基づく温度すなわち従属処理温度は、 276〜318 (°C)であつ た。ただし、この従属処理温度は、第 1反応タンク 2の出口付近の温度センサー Tsで 測定したものである。上記のように従属処理温度が上記加熱手段 TC1の設定温度よ りも高くなつている力 これは酸ィ匕処理における酸ィ匕熱の作用によるものである。 また、圧力センサー Psで検出した処理圧力は、 4. 0〜4. 5 (MPa)であり、当該装 置の耐圧'性の範囲内にあった。
[0054] 上記のような酸化処理を行った結果、 CODMnの値力 処理前〖こは 44000 (mgZ
1)であったのが、処理後には 133 (mgZl)となった。また、 CODMnを基にした分解 率は 99. 700 (%)を達成し、 SS (固形分)の値力 処理前の 40000 (mgZD力ら、 処理後には 3 (mgZDとなり、分解率 99. 993 (%)と、きわめて高い分解率を達成で きた。
[0055] (実験 2)
実験 2は、図 5に示すように、処理圧力を 7. 7〜8. 2 (MPa)とし、このときの従属処 理温度は 203〜296 (°C)であった。これは、図 6のエリア E1内で処理を行っているこ とを示している。また、酸素供給量は、 20. 3 ( 71^11)、スラリー供給量は350 (1111 Zmin)であり、実験 1と同じである。
その結果、 CODMnの分解率は 99. 333 (%)、 SS (固形分)の分解率は 99. 980 (%)とであった。
[0056] この結果から、飽和水蒸気圧以下の過熱水蒸気の雰囲気内で処理した方が、従来 の飽和水蒸気圧以上の亜臨界水中で処理した場合よりも、高い分解率で処理できる ことが分力つた。
例えば、 CODMnの分解率は、この実施形態の方法を用いた実験 1の場合、 99. 7 00 (%)であり、従来方法の実験 2の場合、 99. 333 (%)であった。どちらも 99 (%) 以上の高い分解率のように見える力 未分解率を考えると、実験 1では 300ppmであ るのに対し、実験 2では 667ppmである。つまり、実験 1は、未分解物の量が、実験 2 よりも倍以上少ない。このように未分解率で実験 1と実験 2とを比較すれば、実験 1の 方力 酸化処理効率が極めて高いことが分かる。
[0057] このように、分解率に大きな差が出た理由は、次のように考えられる。
従来方法では、酸素が、気体中と水中との両方に存在するが、水中で酸化反応を 行っていたため、水中の溶存酸素のみが酸ィ匕反応に寄与していた。ところが、水中 の溶存酸素量には限界があるため、水中の有機物粒子の表面に酸素力 ^、きわたり にくかった。
また、実際にも、酸化反応によって水中の酸素が消費されなければ、気体中の酸 素はそれ以上水中に溶け込まない。言い換えると、水中の酸素が消費された分量だ け、気体中の酸素が水中にとけ込むことになる。しかし、水中の酸素が、上記のように 消費されたとしても、気体中の酸素が、瞬時に水中にとけ込むわけではない。つまり、 気体中の酸素が水中にとけ込むのに時間を必要とする。
[0058] 上記のように酸素が水中にとけ込むのに時間が力かると、水中への酸素の供給タイ ミングが遅れてしまう。酸素の供給タイミングが遅れると、その遅れ分だけ、水中の有 機物粒子が酸素と接触する時間も遅れてしまう。このようなことから、酸化処理がスム ーズにおこなわれな 、。
[0059] これに対し、この実施形態の方法では、飽和水蒸気圧未満で反応を行なうようにし たので、水は液体状態を維持せず、過熱水蒸気の状態を保つ。したがって、過熱水 蒸気の雰囲気中で反応が行われるので、ほとんどの酸素と有機物とは、水蒸気を含 んだ気体中に存在するため、気体中の酸素が、有機物の表面に接触して酸化反応 に寄与する。このように、有機物の周囲における酸素量が多いので、有機物表面と酸 素との接触確率は高くなる。
上記のことから明らかなように、この実施形態の方が、従来の方法と比べて、有機物 粒子の周囲に存在する酸素量が多ぐその分、反応に寄与する酸素量も多くなる。そ のため、この実施形態の方が、有機物粒子表面への酸素の接触確率が高くなり、そ れだけ、酸化反応が速やかに進んで、分解率も高くなると考えられる。
[0060] 以上のように、この実施形態の処理方法および処理装置では、反応セクション内の 圧力を飽和水蒸気圧以上に保つ必要がなぐ従来のように圧力と温度との相対関係 を複合的に制御する必要がないので、その制御系を単純ィ匕でき、しかも、従来よりも 高い分解率を達成できる。
[0061] また、飽和水蒸気以上を維持しなければならな 、従来よりも低 、圧力で装置を使用 できるので、例えば、内部圧力を 5 (MPa)以下に設定することもできる。このように内 部圧力を 5 (MPa)以下に設定すれば、高圧ガス保安法の適用外となるため保安員 も不要になる。また、装置の圧力を低くできれば、それだけ安全性が高まるとともに、 装置の耐圧強度も下げることができる。さらに、耐圧強度を下げることによって、装置 の製造コス卜ち下げることができる。
[0062] 一方、従来の処理方法では、図 6の斜線で示すエリア E1内の条件を維持する必要 があるが、このエリア E1であって、圧力が 5 (MPa)以下の領域 E1 'は非常に狭い範 囲になる。そのため、高圧ガス保安法の適用外となるエリア E1 'で温度および圧力を 制御しょうとすると、狭いエリア内で制御する分、さらに細かぐ複雑な制御が必要に なる。しかし、上記のように狭いエリア内で、温度と圧力とを複合的に制御することが、 ほとんどできないのが実状である。そのために、従来の処理方法では、上記 5 (MPa) の範囲を超えたところで制御しなければならず、結局は、高圧ガス保安法の適用を受 けざるを得な力つた。したがって、この装置の運転に際しては、高圧ガス保安法で定 めた保安員を配置しなければならず、その分、コストが上昇するという問題があった。
[0063] これに対して、上記した実施形態においては、図 6の斜線で示すエリア E2内であつ て、圧力が 5 (MPa)以下のエリア E2'は、上記エリア E1 'に比べて十分に広いので、 その広いエリア E1 'における温度および圧力の制御は、従来の装置に比べて簡単に なる。したがって、上記高圧ガス保安法で定めた「高圧」の基準以下で当該装置を運 転することが容易になり、結果的に、上記した保安員の配置も不要になる。
[0064] また、従来の方法では、装置内の圧力を、常時、飽和水蒸気圧以上に保たなけれ ばならないが、飽和水蒸気圧そのもの力 力なり高い圧力になる。したがって、その 高い圧力を保っためには、スラリー状の有機廃棄物の供給圧を高くしたり、酸素の供 給圧力を高くしたりしなければならな 、。このように圧力を高くしなければならな 、の で、その分、大きなエネルギーを必要とする。
[0065] さらに、酸化熱によって温度が上昇したとき、その温度が上昇すればするほど、そ の温度に対応した飽和水蒸気圧も上昇する。しかし、飽和水蒸気圧以上の高い圧力 を維持するためには、大きなエネルギーを必要とする。
そこで、従来は、エネルギー消費を極力抑えるために、有機廃棄物の供給量を減ら して酸化反応の酸化熱の発生を抑制し、温度に対応した飽和水蒸気圧の上昇を抑 えることが行われていた。しかし、上記有機廃棄物の供給量を減らすということは、有 機廃棄物の処理量を減らすことであり、効率的な処理に反することになる。
[0066] これに対して、この実施形態では、上記したように高温下での酸ィ匕処理であっても、 その圧力を、高い飽和水蒸気圧以上に保つ必要がないので、温度が上昇しても装 置内の圧力を上げる必要がない。したがって、エネルギー消費量も、従来と比べて少 なくできる。また、装置内の温度が上昇しても、それにともなって圧力を飽和水蒸気圧 以上にしなくてもよいので、わざわざ装置内の温度を下げる必要がない。このように 温度を下げる必要がな 、ので有機廃棄物の処理量を減らしたりする必要もなぐ従 来のように処理効率を犠牲にしなくてもよ 、。
[0067] なお、この実施形態の処理方法および装置において、装置内の圧力が飽和水蒸 気圧未満を保っている限り、その圧力の下限は特に定めていない。しかし、反応セク シヨン内の圧力を低くするということは、酸素供給手段 5, 6からの空気の押し込み圧 を低くしなければならないということであり、必要な酸素量の体積が大きくなつてしまう 。そのため、圧力を低く設定すれば、安全性は増すが、装置が大型化してしまう。結 局、使用時の圧力は、必要な処理量や、装置の設置スペースなどに応じて決められ ることになる。 図面の簡単な説明
[0068] [図 1]実施形態の酸化処理装置の構成図である。
[図 2]図 1の処理装置におけるバルブ機構の構成図である。
[図 3]図 2のバノレブ機構のオリフィスの構成図である。
[図 4]この発明の処理方法を用いた処理実験 1の実験結果を示した表である。
[図 5]従来の処理方法を用いた処理実験 2の実験結果を示した表である。
[図 6]酸ィ匕処理の際の温度および圧力条件を示したグラフである。
符号の説明
[0069] P 供給ポンプ
2〜4 第 1〜第 3反応タンク
TC1 加熱手段
5 第 1酸素供給手段
6 第 2酸素供給手段
9 気液混合手段
Ts 温度センサー

Claims

請求の範囲
[1] スラリー状の有機廃棄物に、酸素または空気を混合し、この酸素または空気を混合 したスラリー状の有機廃棄物を、飽和水蒸気圧未満のもとで、 200°C以上の水蒸気 の雰囲気中で酸化反応させることを特徴とする有機廃棄物の酸化処理方法。
[2] スラリー状の有機廃棄物を圧送する供給ポンプと、この供給ポンプで搬送されるス ラリー状の有機廃棄物の搬送経路中に設け、有機廃棄物を酸化反応させる反応セク シヨンと、上記反応セクション内に設けた加熱手段と、上記スラリーの有機廃棄物の 搬送方向を基準として、上記加熱手段より上流に設け、酸素または空気を供給する 酸素供給手段と、この酸素供給手段と上記加熱手段との間に設け、スラリー状の有 機廃棄物に酸素または空気を混合するための気液混合手段とを備え、上記反応セク シヨン内を飽和水蒸気圧未満で、 200°C以上に維持する構成にしたことを特徴とする 有機廃棄物の酸化処理装置。
[3] 上記加熱手段を制御するコントローラと、上記反応セクション内の温度を検出して、 その温度検出値を上記コントローラへ入力する温度センサーとを備え、上記コント口 ーラは、入力された温度検出値に基づき、反応セクション内の温度を 200°C以上に 保っために、上記加熱手段を制御することを特徴とする請求項 2に記載の有機廃棄 物の酸化処理装置。
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