WO2006129581A1

WO2006129581A1 - 描画処理装置及び方法

Info

Publication number: WO2006129581A1
Application number: PCT/JP2006/310630
Authority: WO
Inventors: Naoto Kinjo; Mitsuru Mushano
Original assignee: Fujifilm Corp; Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp; Fujifilm Corp
Priority date: 2005-05-31
Filing date: 2006-05-29
Publication date: 2006-12-07
Anticipated expiration: 2007-11-30
Also published as: JP2007007862A

Abstract

　画像処理部（７０）を構成するＣＰＵ（７４）は、メモリ（８４）に記憶された描画データをバス（８８）及びＩ／Ｆ（８６）を介して露光部（７２）に送信し、ＤＭＤ（３６）を駆動して基板に二次元画像を描画記録する。一方、ＲＩＰ（８）は、システム管理サーバ（１１）の制御に基づき、露光記録装置（１０）に対する基板のロード、基板に対するアラインメント計測処理、露光記録装置（１０）からの基板のアンロードを行う間、次の描画データをＩ／Ｆ（７６）及びバス（８８）を介して画像処理部（７０）のＨＤ（８２）に記憶させる。

Description

明細書

描画処理装置及び方法

技術分野

[0001] 本発明は、描画データに基づき、記録媒体に対して二次元画像を描画する描画処理装置及び方法に関する。

背景技術

[0002] 従来から、描画データに基づき、所望の二次元画像を描画面上に形成する描画処理装置が種々知られている。

[0003] このような描画処理装置として、例えば、デジタル 'マイクロミラ一'デバイス (DMD) 等の空間光変調素子を利用し、描画データに応じて光ビームを変調して露光を行う装置力 S提案されてヽる（特開 2003— 50469号、特開 2003— 57834号参照）。ここで、 DMDは、シリコン等の半導体基板上のメモリセル（SRAMアレイ）に微小なマイクロミラーを二次元状に多数配置して構成したものであり、メモリセルに蓄積される電荷による静電気力を描画データに従って制御することにより、マイクロミラーを傾斜させて反射面の角度を変化させ、この反射面の角度変化により所望の位置に描画点を形成して画像を形成することができる。

発明の開示

[0004] このような描画処理装置では、描画データをラスタデータに変換して画像処理部に送信した後、画像処理部においてラスタデータに所望の画像処理を施し、次いで、そのラスタデータを多数のマイクロミラー力なる空間光変調素子を備えた描画部に送信して描画処理が行われる。

[0005] この場合、描画面積が大き、か、あるいは、描画密度が高、と、描画データの量も多くなるため、画像処理部に対してラスタデータを送信する処理に長時間を要してしまう。また、画像処理部は、ラスタデータを受信している間、受信処理に専念しており、画像処理されたラスタデータを描画部に送信することができないため、描画部が描画処理を行うことができず、描画効率も低下してしまう。

[0006] 本発明の一般的な目的は、描画データを効率的に送受信して所望の二次元画像を迅速に描画することができる描画処理装置及び方法を提供することにある。

[0007] 本発明の他の目的は、描画データの受信処理と、描画データに基づく描画処理とを並行して行うことのできる描画処理装置及び方法を提供することにある。

図面の簡単な説明

[0008] [図 1]本実施形態の露光記録システムのブロック図である。

[図 2]本実施形態の露光記録装置の構成図である。

[図 3]本実施形態の露光記録装置における露光ヘッドの概略構成図である。

[図 4]本実施形態の露光ヘッドを構成する DMDの説明図である。

[図 5]本実施形態の露光記録装置における露光ヘッドと、露光ステージに位置決めされた基板との関係説明図である。

[図 6]本実施形態の露光記録装置における露光ヘッドと、基板上の露光エリアとの関係説明図である。

[図 7]本実施形態の露光記録システムを構成する CAD装置、 RIP及び画像処理部間での処理のフローチャートである。

[図 8]本実施形態の露光記録システムを構成する画像処理部及び露光部間での処理のフローチャートである。

[図 9]本実施形態の露光記録システムを構成する RIP及び露光記録装置における処理の説明図である。

[図 10]本実施形態の露光記録システムを構成する RIP及び露光記録装置における処理の説明図である。

発明を実施するための最良の形態

[0009] 図 1は、本発明の描画処理装置及び方法が適用される実施形態である露光記録システム 4を示す。

[0010] 露光記録システム 4は、描画データを作成し、ベクトルデータとして出力する CAD 装置 6と、 CAD装置 6から送信されたベクトルデータをラスタイメージデータであるビットマップデータに変換した後、このビットマップデータをランレングス符号ィ匕処理し、圧縮されたランレングスデータとして出力するラスタイメージプロセッサ (RIP) 8 (描画データ供給部）と、 RIP8から送信されたランレングスデータに対してアラインメント処理を含む画像処理を施した後、ランレングスデータをビットマップデータに展開し、このビットマップデータに基づき、記録媒体に二次元画像を露光記録する露光記録装置 10と、 CAD装置 6、 RIP8及び露光記録装置 10の管理制御を行うシステム管理サーバ 11 (送信制御部）とから基本的に構成される。

[0011] ここで、露光記録装置 10は、ビットマップデータに基づいて積層プリント配線基板等の露光処理を行う装置であり、図 2に示すように構成される。

[0012] すなわち、露光記録装置 10は、複数の脚部 12によって支持された変形の極めて小さい定盤 14を備え、この定盤 14上には、 2本のガイドレール 16を介して露光ステージ 18 (描画ステージ）が矢印 Y方向に往復移動可能に設置される。露光ステージ 1 8には、感光材料が塗布された矩形状の基板 Fが吸着保持される。

[0013] 定盤 14の中央部には、ガイドレール 16を跨ぐようにして門型のコラム 20が設置される。このコラム 20の一方の側部には、基板 Fの所定位置に形成されたアラインメントマーク 60a〜60dを含む画像を撮像する CCDカメラ 22a、 22bが固定され、コラム 20の他方の側部には、基板 Fに対して画像を露光記録する複数の露光ヘッド 24a〜24j が位置決め保持されたスキャナ 26が固定される。 CCDカメラ 22a、 22bには、ロッドレンズ 62a、 62bを介してストロボ 64a、 64b力装着される。ストロボ 64a、 64bは、基板 F を感光することのない赤外光力もなる照明光を CCDカメラ 22a、 22bの撮像域に照射する。

[0014] アラインメントマーク 60a〜60dは、露光ステージ 18に対する基板 Fの装着位置のずれ、基板 Fの変形等を検出するためのもので、画像が描画される基板 Fと明確に区別することのできるスルーホール、あるいは、基板 Fに露光記録されたマーク力なり、露光ステージ 18によって搬送される基板 Fの隅角部近傍に形成されている。なお、アラインメントマーク 60a〜60dは、露光記録される画像に影響を与えることのな！/、部位であれば、基板 Fの隅角部近傍以外の部位に形成されていてもよい。また、基板 F の変形等に対する補正精度に応じた所望の数力なるマークを形成することもできる

[0015] 露光ヘッド 24a〜24jは、基板 Fの移動方向（矢印 Y方向）と直交する方向に 2列で千鳥状に配列される。図 3は、各露光ヘッド 24a〜24jの構成を示す。露光ヘッド 24a 〜24jには、例えば、光源ユニット 28を構成する複数の半導体レーザから出力されたレーザビーム Lが合波され光ファイバ 30を介して導入される。レーザビーム Lが導入された光ファイバ 30の出射端には、ロッドレンズ 32、反射ミラー 34及びデジタルマイクロミラーデバイス (DMD) 36が順に配列される。

[0016] ここで、 DMD36は、図 4に示すように、 SRAMセル (メモリセル） 38の上に格子状に配列された多数のマイクロミラー 40 (描画素子)を揺動可能な状態で配置したものであり、各マイクロミラー 40の表面には、アルミニウム等の反射率の高い材料が蒸着されている。 SRAMセル 38に DMDコントローラ 42から描画データに従ったデジタル信号が書き込まれると、その信号に応じて各マイクロミラー 40が所定方向に傾斜し、その傾斜状態に従ってレーザビーム Lのオンオフ状態が実現される。

[0017] オンオフ状態が制御された DMD36によって反射されたレーザビーム Lの射出方向には、拡大光学系である第 1結像光学レンズ 44、 46、 DMD36の各マイクロミラー 40に対応して多数のレンズを配設したマイクロレンズアレー 48、ズーム光学系である第 2結像光学レンズ 50、 52が順に配列される。なお、マイクロレンズアレー 48の前後には、迷光を除去するとともに、レーザビーム Lを所定の径に調整するためのマイクロアパーチャアレー 54、 56が配設される。

[0018] 各露光ヘッド 24a〜24jに組み込まれる DMD36は、図 5及び図 6に示すように、高い解像度を実現すベぐ基板 Fの移動方向（矢印 Y方向）に対して所定角度傾斜した状態に設定される。すなわち、 DMD36を基板 Fの移動方向に対して傾斜させることにより、 DMD36を構成するマイクロミラー 40の矢印 Y方向と直交する方向（矢印 X方向）に対する間隔を狭くし、これによつて、矢印 X方向に記録される画像の解像度を高くすることができる。矢印 Y方向の解像度は、基板 Fの移動速度によって調整することができる。なお、各露光ヘッド 24a〜24jにより一度に露光される範囲である露光エリア 58a〜58jは、露光ヘッド 24a〜24j間の継ぎ目が生じることのないよう、矢印 X 方向に重畳するように設定される。

[0019] 露光記録装置 10の制御回路は、 CCDカメラ 22a、 22bを用いて取得したァラインメントマーク 60a〜60dの位置データに基づき、ランレングスデータに対して所望の画像処理を行う画像処理部 70と、画像処理されたランレングスデータを解凍してビットマップデータに展開し、 DMD36を駆動して基板 Fに二次元画像を露光記録する露光部 72 (描画部）とを備える。

[0020] 画像処理部 70は、画像処理を行う CPU74を有する。 CPU74には、 RIP8から送信された描画データであるランレングスデータを受信するインタフェース (IZF) 76と、 CCDカメラ 22a、 22bによって撮像したアラインメントマーク 60a〜60dを含む画像データを受信するインタフェース (IZF) 78と、受信したランレングスデータをノヽードディスクドライブ (HDD) 80を介して記憶するハードディスク（HD) 82と、ランレングスデータ及びアラインメント情報を HD82から読み出して記憶するとともに、 CPU74によって画像処理されたランレングスデータを記憶するメモリ 84と、画像処理されたランレングスデータを露光部 72に送信するインタフェース（IZF) 86とがバス 88を介して接続される。

[0021] なお、 HD82は、基板 Fに記録される現在の二次元画像に係る第 1ランレングスデータ（第 1描画データ）と、第 1ランレングスデータに続いて基板 Fに記録される次の二次元画像に係る第 2ランレングスデータ (第 2描画データ）とを記憶するのに必要な容量を有しているものとする。

[0022] 露光部 72は、画像処理部 70の IZF86から送信されたランレングスデータをー且記憶するバッファ 90と、ノッファ 90に記憶されたランレングスデータを解凍してビットマップデータに展開した後、 DMD36を構成する複数のマイクロミラー 40の配列に従つたフレームデータに変換する解凍変換処理部 92と、フレームデータを一時記憶するバッファ 94と、バッファ 94に記憶されたフレームデータに基づき、 DMD36を構成するマイクロミラー 40を制御し、基板 Fに二次元画像を露光記録する DMDコントローラ 42とを備える。

[0023] 本実施形態の露光記録システム 4は、基本的には以上のように構成されるものであり、次に、その動作及び作用効果について、図 7及び図 8に示すフローチャートに基づいて説明する。なお、図 7は、 CAD装置 6、 RIP8及び画像処理部 70間での処理に係るフローチャートであり、図 8は、画像処理部 70及び露光部 72間での処理に係るフローチャートである。

[0024] 先ず、 CAD装置 6を用いて、基板 Fに露光記録する二次元画像の全描画データを作成する (ステップ Sl)。なお、露光記録システム 4では、同一の描画データを用いて複数の基板 Fに同一の二次元画像であるプリント配線パターンを記録するとともに、異なる描画データを用いて各基板 Fに異なるプリント配線パターンを積層記録する処理が行われるものとする。従って、全描画データとは、異なる複数のプリント配線パターンを基板 Fに記録するための全ての描画データである。なお、全描画データには、異なる基板 Fに描画すべき描画データを含めることもできる。

[0025] CAD装置 6で作成された全描画データは、ベクトルデータ形式で RIP8に送信される。 RIP8は、ベクトルデータをラスタイメージデータ形式の描画データに変換する（ステツプ S2)。次いで、 RIP8は、ラスタイメージデータをランレングス符号ィ匕処理し、圧縮されたランレングスデータ形式の描画データに変換する (ステップ S3)。この場合、ランレングスデータは、例えば、描画データを構成する 0の画素が二次元画像のライン方向に連続する数と、描画データを構成する 1の画素がライン方向に連続する数とを用いて表すことができる。

[0026] RIP8で生成されたランレングスデータ形式の描画データ R(N)は、当該描画データ R (N)が最初のプリント配線パターンの描画データ R (N)である場合、 N = 1とし (ステツプ S4)、画像処理部 70及び露光部 72間でデータ送信中でなければ、画像処理部 70に送信され、画像処理部 70及び露光部 72間でデータ送信中であれば、画像処理部 70への送信を待機状態とする (ステップ S5、 S6) ₀この場合、 RIP8、画像処理部 70及び露光部 72間でデータの送受信は、システム管理サーバ 11によって管理制御される。

[0027] RIP8から露光記録装置 10の画像処理部 70に送信された描画データ R(l)は、 C PU74の制御に基づき、 IZF76及びバス 88を介して HDD80により HD82に記憶される (ステップ S7)。描画データ R (l)が大量のデータ力もなる場合、描画データ R(l )を露光記録システム 4を構成するハードウェアにより決まる所定のブロックデータに分割し、各ブロックデータを単位としてステップ S5〜S8の処理を繰り返す。

[0028] 描画データ R(l)の画像処理部 70に対する全ての送信処理が終了し (ステップ S8 )、次の描画データ R (N)がある場合 (ステップ S9)、 N = N+ 1とし (ステップ S10)、ステップ S5〜S9の処理を繰り返す。なお、 HD82には、描画データ R (N)と、描画データ R(N)に次いで基板 Fに記録される描画データ R(N+ 1)とが記憶される。

[0029] 画像処理部 70では、露光部 72において最初の基板 F (M)に最初のプリント配線パターンの描画データ R (N)を記録する場合、 N= l、 M= lとする（ステップ SI 1、 S 12)。次いで、 CPU74は、 HD82から描画データ R(l)を読み出し、バス 88を介してメモリ 84に描画データ R ( 1 )を記憶させる (ステップ S 13)。

[0030] 一方、露光記録装置 10は、露光ステージ 18に基板 F (l)を吸着保持させた後 (ステツプ S 14)、露光ステージ 18をスキャナ 26側に移動させ、基板 F (l)に形成されたアラインメントマーク 60a〜60dを含む画像を CCDカメラ 22a、 22bにより撮像する（ステツプ S 15)。撮像されたアラインメントマーク 60a〜60dを含む画像データは、 I/F7 8及びバス 88を介してメモリ 84に記憶される。

[0031] CPU74は、アラインメントマーク 60a〜60dの画像データから、露光ステージ 18に対する各アラインメントマーク 60a〜60dの位置データを算出し、その位置データに基づき、露光ステージ 18に対する基板 F (l)の装着位置ずれ、基板 F (l)の変形等を調整するためのアラインメントデータを算出し、このアラインメントデータを用いて、メモリ 84に記憶されている描画データ R(l)に対するアラインメント処理を行う（ステップ S16)。

[0032] アラインメント処理された描画データ R (l)は、バス 88及び IZF86を介して露光部 72に送信され (ステップ S 17)、ー且バッファ 90に格納される。

[0033] 露光部 72の解凍変換処理部 92は、バッファ 90に格納されたランレングスデータ形式の描画データ R(l)を解凍してビットマップデータに展開する。次いで、解凍変換処理部 92は、このビットマップデータを DMD36を構成する複数のマイクロミラー 40 に設定したアドレス連続方向の配列力もなるフレームデータに変換し、ノッファ 94に格納する。

[0034] そして、露光記録装置 10は、露光ステージ 18をスキャナ 26側から CCDカメラ 22a 、 22b側に移動させ、 DMDコントローラ 42は、バッファ 94に記憶された描画データ R (1)に係るフレームデータを DMD36に供給し、基板 F (l)に所望の画像を露光記録する（ステップ S 18)。

[0035] すなわち、光源ユニット 28から出力されたレーザビーム Lは、光ファイバ 30を介して各露光ヘッド 24a〜24jに導入される。導入されたレーザビーム Lは、ロッドレンズ 32 力も反射ミラー 34を介して DMD36に入射する。

[0036] DMDコントローラ 42は、バッファ 94からフレームデータを読み出し、 DMD36を構成する各マイクロミラー 40をオンオフ制御する。 DMD36を構成する各マイクロミラー 40により所望の方向に選択的に反射されたレーザビーム Lは、第 1結像光学レンズ 4 4、 46によって拡大された後、マイクロアパーチャアレー 54、マイクロレンズアレー 48 及びマイクロアパーチャアレー 56を介して所定の径に調整され、次いで、第 2結像光学レンズ 50、 52により所定の倍率に調整されて基板 F (l)に導かれる。露光ステージ 18は、定盤 14に沿って移動し、基板 F (l)には、露光ステージ 18の移動方向と直交する方向に配列される複数の露光ヘッド 24a〜24jにより所望の二次元画像が露光記録される。この場合、アラインメントマーク 60a〜60dを基準とする目標位置に所望の二次元画像が露光記録される。

[0037] 基板 F (l)に対する描画データ R (l)による露光記録が終了すると (ステップ SI 9)、基板 F (l)を露光ステージ 18から取り外し (ステップ S20)、次の基板 F (M)がある場合 (ステップ S21)、 M = M+ 1とし (ステップ S22)、ステップ S14〜S21の処理を繰り返す。なお、二次元画像が露光記録された基板 F (l)には、現像処理、エッチング処理を経て、所望のプリント配線パターンが形成される。

[0038] 全ての基板 F (M)に対して描画データ R (l)に基づく二次元画像が露光記録された後（ステップ S21)、次の描画データ R (N)がある場合 (ステップ S23)、 N=N+ 1とし (ステップ S24)、ステップ S12〜S23の処理を繰り返す。この場合、描画データ R ( N)によるプリント配線パターンが記録された基板 F (M)に対して描画データ R(N+ 1 )が重ねて露光記録される。

[0039] なお、描画データ R (N)が大量のデータ力もなる場合、描画データ R (N)を露光記録システム 4を構成するハードウェアにより決まる所定のブロックデータに分割し、各ブロックデータを単位としてステップ S 17〜S 19の処理を繰り返すようにしてもよ!、。

[0040] ここで、 RIP8から画像処理部 70への描画データ R (N)の送信処理 (ステップ S6)と、画像処理部 70から露光部 72への描画データ R(N)の送信処理 (ステップ SI 7)とにっき、図 9及び図 10を用いて説明する。なお、図 9及び図 10において、送信処理が中断されてヽるブロック間の状態を点線で示し、送信処理が継続されてヽるブロック間の状態を実線で示して、る。

[0041] 先ず、図 9に示すように、画像処理部 70から露光部 72へ描画データ R(N)を送信して露光記録を行う場合、画像処理部 70の CPU74は、メモリ 84に記憶された描画データ R(N)に対するアラインメント処理を行い、処理された描画データ R (N)をバス 88及び IZF86を介して露光部 72に送信する。このとき、 CPU74は、バス 88を占有してメモリ 84及びバス 88に対する処理に専念し、 HD82に対する制御を中断する。従って、システム管理サーバ 11は、 RIP8から画像処理部 70への描画データ R(N) の送信処理を行わない (ステップ S 5)。露光部 72に送信された描画データ R(N)は、解凍変換処理部 92によって処理され、 DMDコントローラ 42を介して DMD36を駆動することで、基板 F (M)に対する露光記録が行われる。この間、システム管理サーバ 11は、露光記録に並行して、描画データ R(N)を画像処理部 70から露光部 72に順次送信する。

[0042] 一方、露光記録装置 10では、基板 F (M)を露光ステージ 18にロードしている間 (ステツプ S14)、 CCDカメラ 22a、 22bを用いて基板 F (M)のアラインメント測定処理を行って、る間（ステップ S 15)、基板 F (M)を露光ステージ 18からアンロードして!/、る間 (ステップ S20)は、画像処理部 70から露光部 72に描画データ R(N)を送信して露光処理を行うことができないため、画像処理部 70のノス 88が空いた状態となっている。

[0043] そこで、システム管理サーバ 11は、 RIP8及び画像処理部 70を制御し、図 10に示すように、次の露光処理に必要な描画データ R(N+ 1)を RIP8から画像処理部 70の IZF76及びバス 88を介して送信し、 HD82に記憶させる。また、 HD82に記憶された描画データ R(N+ 1)は、バス 88を介してメモリ 84に記憶させ、次の露光記録のための準備をさせることができる。

[0044] この場合、露光記録システム 4では、複数の基板 F (M)のロード、アンロードを繰り返して描画データ R(N)を露光記録した後、複数の基板 F (M)のロード、アンロードを再度繰り返して次の描画データ R(N+ 1)を露光記録している。従って、描画データ R(N)による露光記録を行う際の基板 F (M)のロード、アラインメント計測処理、アンロードの各時間を利用して、次の描画データ R (N+ 1)を画像処理部 70に送信しておくことができる。この結果、基板 F (M)に対する描画データ R(N)の露光記録が終了した後、次の描画データ R(N+ 1)による露光記録を速やかに開始することができる。

なお、上述した露光記録装置 10は、例えば、多層プリント配線基板 (PWB： Printe d Wiring Board)の製造工程におけるドライ 'フィルム'レジスト（DFR: Dry Film Resist)の露光、液晶表示装置 (LCD)の製造工程におけるカラーフィルタの形成、 TFTの製造工程における DFRの露光、プラズマ.ディスプレイ 'パネル（PDP)の製造工程における DFRの露光等の用途に好適に用いることができる。また、本発明は、インクジェット記録ヘッドを備えた描画装置にも同様して適用することが可能である

Claims

請求の範囲

[1] 描画データに基づき、記録媒体 (F)に対して二次元画像を描画する描画処理装置

(10)において、

前記描画データを供給する描画データ供給部 (8)と、

前記描画データ供給部（8)から送信された前記描画データを記憶するメモリ (82) を有し、前記描画データに対して所定の画像処理を行う画像処理部（70)と、前記画像処理部（70)から送信された画像処理済みの前記描画データに基づ!/、て、前記記録媒体 (F)に前記二次元画像を描画する描画部（72)と、

前記描画データ供給部（8)から前記画像処理部（70)を介して前記描画部（72)に送信される前記描画データの送信処理を制御する送信制御部（11)と、

を備え、前記送信制御部（11)は、前記描画データ供給部（8)から前記画像処理部（70)の前記メモリ (82)に対する前記描画データの送信処理を、前記画像処理部 (70)から前記描画部（72)に対して画像処理済みの前記描画データを送信する期間以外の期間に行うことを特徴とする描画処理装置。

[2] 請求項 1記載の装置において、

前記メモリ (82)は、前記描画部（72)に送信する第 1描画データと、前記第 1描画データに対して時系列的に連続する第 2描画データとを記憶可能に構成されることを特徴とする描画処理装置。

[3] 請求項 1記載の装置において、

前記送信制御部（ 11)は、前記描画部（72)が前記記録媒体 (F)に前記二次元画像を描画する処理と並行して、前記画像処理部（70)から前記描画部（72)に画像処理済みの前記描画データを送信する処理を行うことを特徴とする描画処理装置。

[4] 請求項 1記載の装置において、

前記送信制御部（11)は、前記記録媒体 (F)を描画ステージ（18)に対して着脱する処理と並行して、前記描画データ供給部（8)から前記画像処理部（70)の前記メモリ（82)に前記描画データを送信することを特徴とする描画処理装置。

[5] 請求項 1記載の装置において、

前記送信制御部（ 11)は、前記描画部（72)に対する前記記録媒体 (F)のァラインメント測定処理と並行して、前記描画データ供給部（8)から前記画像処理部（70)の前記メモリ (82)に前記描画データを送信することを特徴とする描画処理装置。

[6] 請求項 1記載の装置において、

前記描画部（72)は、複数の前記描画データに従って駆動され、前記記録媒体 (F )に複数の描画点を形成する複数の描画素子 (40)を有することを特徴とする描画処理装置。

[7] 描画データに基づき、記録媒体 (F)に対して二次元画像を描画する描画処理方法において、

前記描画データを描画データ供給部（8)から画像処理部（70)に送信するステップと、

前記画像処理部（70)に送信された前記描画データに対して所定の画像処理を行うステップと、

画像処理された前記描画データを前記画像処理部（70)から描画部（72)に送信するステップと、

前記描画部（72)に送信された前記描画データに基づき、前記記録媒体 (F)に前記二次元画像を描画するステップと、

からなり、前記描画データ供給部（8)から前記画像処理部（70)に対する前記描画データの送信処理を、前記画像処理部（70)から前記描画部（72)に対して前記描画データを送信する期間以外の期間に行うことを特徴とする描画処理方法。

[8] 請求項 7記載の方法において、

前記画像処理部（70)から前記描画部（72)に対する前記描画データの送信処理は、前記描画部（72)が前記記録媒体 (F)に前記二次元画像を描画する処理と並行して行われることを特徴とする描画処理方法。

[9] 請求項 7記載の方法において、

前記描画データ供給部（8)から前記画像処理部（70)に対する前記描画データの送信処理は、前記記録媒体 (F)を描画ステージ（18)に対して着脱する処理と並行して行われることを特徴とする描画処理方法。

[10] 請求項 7記載の方法において、前記描画データ供給部（8)から前記画像処理部（70)に対する前記描画データの送信処理は、前記描画部（72)に対する前記記録媒体 (F)のアラインメント測定処理と並行して行われることを特徴とする描画処理方法。