WO2006106988A1 - 薬液供給装置 - Google Patents
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- E03—WATER SUPPLY; SEWERAGE
- E03D—WATER-CLOSETS OR URINALS WITH FLUSHING DEVICES; FLUSHING VALVES THEREFOR
- E03D9/00—Sanitary or other accessories for lavatories ; Devices for cleaning or disinfecting the toilet room or the toilet bowl; Devices for eliminating smells
- E03D9/02—Devices adding a disinfecting, deodorising, or cleaning agent to the water while flushing
- E03D9/03—Devices adding a disinfecting, deodorising, or cleaning agent to the water while flushing consisting of a separate container with an outlet through which the agent is introduced into the flushing water, e.g. by suction ; Devices for agents in direct contact with flushing water
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- E—FIXED CONSTRUCTIONS
- E03—WATER SUPPLY; SEWERAGE
- E03C—DOMESTIC PLUMBING INSTALLATIONS FOR FRESH WATER OR WASTE WATER; SINKS
- E03C1/00—Domestic plumbing installations for fresh water or waste water; Sinks
- E03C1/12—Plumbing installations for waste water; Basins or fountains connected thereto; Sinks
- E03C1/126—Installations for disinfecting or deodorising waste-water plumbing installations
Definitions
- the present invention relates to a chemical solution supply apparatus that discharges a chemical solution using a liquid that flows intermittently, and relates to, for example, a chemical solution supply apparatus for a cleaning device installed in a hand-washing portion on the upper surface of a water storage tank in a flush toilet.
- this type of chemical solution supply device for example, a device that is disposed in a hand wash tray or section above a water storage tank in a flush toilet and supplies chemical liquid into the water storage tank together with water supplied to the hand wash tray or section. It has been proposed (Patent Document 1). As shown in FIGS. 11 to 15, this chemical solution supply apparatus includes a support 2 that supports the chemical solution container 1, and a chemical solution guide member 5 attached to the support contacts the water flowing into the water storage tank. As in the hand wash section A. The chemical liquid is supplied to the guide member 5 from the outlet hole 420 at the lower end of the supply section through the supply section 4 extending in the vertical direction.
- the support 2 is further provided with an adjusting mechanism.
- This adjustment mechanism prevents excessive outflow of the chemical solution from the chemical solution container 1 to the guide member 5 and reverse flow thereof when the temperature of the chemical solution container fluctuates due to contact with running water or the like.
- a shock-absorbing chamber 6 supported on the buffer chamber, an air flow hole 343 provided in the upper portion of the buffer chamber, and a buffer hole 42 provided in the lower portion of the supply section 4 so as to communicate with the buffer chamber 6. Yes.
- This chemical solution supply apparatus operates as follows. That is, when the temperature rises and the pressure in the chemical solution container 1 rises, the aromatic cleaning agent in the chemical solution container flows out of the buffer hole 42 and flows into the buffer chamber 6. On the other hand, when the temperature decreases and the pressure in the chemical liquid container 1 decreases, the aromatic cleaning agent in the buffer chamber 6 is pulled back into the chemical liquid container 1 through the buffer holes 42. With such a configuration, it is possible to prevent the fragrance cleaning agent from flowing out wastefully even if the temperature change is repeated. In particular, since the temperature change of the drug container occurs both due to the change in room temperature and the contact of running water with the hand-washing section, preventing the wasteful discharge of the chemical liquid due to this enables long-term use of the chemical liquid. Is important above.
- Patent Document 1 Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2004-300861 Disclosure of the Invention Problems to be Solved by the Invention
- the buffer chamber 6 is provided to prevent excessive outflow of the chemical solution, and as a result, the chemical solution can be led out from the chemical solution container to the guide member in an accurate amount. Thus, long-term use is realized.
- the buffer chamber 6 has the following structure, which may cause a problem of inflow of running water. That is, the buffer chamber 6 includes a lower member 20 having a bottom wall 21 and a side wall 23 ′ supported by the support 2, and an upper member 31 having a side wall 33 ′ and an upper wall 34 and fitting upward force to the lower member.
- a structure for fixing the upper member 31 to the support 2 a structure in which the hooks 36 ′ and 38 ′ provided on both members are mutually locked outside the buffer chamber was adopted. . For this reason, the upper member 31 is fitted so that the side wall 33 ′ is located outside the side wall 23 ′ of the lower member 20 so that the hook 36 ′ of the upper member is located outside the buffer chamber. .
- FIG. 15 which is a cross-section (viewed in the direction of the arrow) along the plane including the center lines L and L of the two air circulation holes 343 in FIG. 12, in the fitting structure, The lower end of the side wall 33 ′ is located below the outer wall 23 ′ of the lower member 20. Therefore, the opening located outside the buffer chamber in the gap formed between the two side walls is positioned at the lower part of the buffer chamber. As a result, the flowing water that has entered the support 2 easily reaches the opening of the gap along the bottom surface of the support 2.
- the flowing water enters the buffer chamber by capillary action or the like through the gap of the fitting structure.
- the chemical solution in the buffer chamber 6 is diluted by the flowing water, and the diluted chemical solution is absorbed into the chemical solution container 1 due to the temperature change and diluted to the chemical solution in the chemical solution container. This not only hinders the effectiveness of the drug due to the appropriate amount of the chemical solution, but also reduces the original viscosity of some chemical solutions and may cause excessive discharge of the chemical container and impair long-term use.
- An object of the present invention is to solve such a problem of the prior art and to provide a chemical solution supply device capable of maintaining an appropriate concentration of the chemical solution supplied from the chemical solution container. Means for solving the problem
- the present invention provides a chemical solution supply device for supplying a chemical solution in a chemical solution container to an intermittently flowing liquid
- a guide member which is supported by the support below the chemical solution container and guides the chemical solution from the chemical solution container to a position where the chemical solution comes into contact with the intermittently flowing liquid;
- a supply unit for supplying a chemical solution from a chemical solution container to the guide member
- the adjustment mechanism includes a buffer chamber supported by the support, an air circulation hole provided in an upper portion of the buffer chamber, a buffer hole provided in a lower portion of the supply unit so as to communicate with the buffer chamber;
- the buffer chamber includes a lower member provided on the support, and an upper member fitted into the lower member from above.
- the lower member includes a bottom wall and an outer wall extending upward from the bottom wall;
- the upper member includes an upper wall that covers an upper portion of the buffer chamber, and an inner wall that hangs down from the upper wall and fits inside the outer wall,
- the supply section provides a chemical supply apparatus that extends in the vertical direction, has an upper portion that can be coupled to a discharge portion of a chemical container, and a lower end that is in contact with or close to the guide member. is there.
- the chemical solution supply device is supported by the support member that supports the chemical solution container and below the chemical solution container, and guides the chemical solution from the chemical solution container to a position where it contacts the intermittently flowing liquid.
- the adjustment mechanism includes a buffer chamber supported by the support, an air circulation hole provided in an upper portion of the buffer chamber, and a lower portion of the supply unit so as to communicate with the buffer chamber.
- the supply part extends in the vertical direction, the upper part can be connected to the discharge part of the chemical solution container, and the lower end is in contact with or close to the guide member.
- the chemical solution in the chemical solution container flows into the buffer chamber or returns to the chemical solution container through the buffer hole according to the fluctuation of the ambient temperature, separately from the flow to the guide member.
- the chemical solution in the chemical solution container flows into the buffer chamber or returns to the chemical solution container through the buffer hole according to the fluctuation of the ambient temperature, separately from the flow to the guide member.
- the buffer chamber includes a lower member provided on the support and an upper member fitted to the lower member from above, and the lower member is formed by a bottom wall of the support.
- a bottom wall formed on the bottom wall and an outer wall extending upward from the bottom wall, and the upper member is disposed on the upper wall of the buffer chamber and on the inner side of the outer wall depending on the upper wall. And an inner wall to be joined.
- FIG. 1 is a front view (a) and a side view (b) of a chemical liquid supply apparatus according to an embodiment of the present invention.
- FIG. 2 is an exploded front view showing the chemical solution supply apparatus shown in FIG.
- FIG. 3 is a longitudinal front view of a chemical solution storage part of the chemical solution supply apparatus shown in FIG.
- FIG. 4 is a plan view (a) and a longitudinal front view (b) of a cover member of the chemical liquid supply apparatus shown in FIG. 1.
- FIG. 5 is a plan view (a) and a longitudinal front view (b) of a support of the chemical liquid supply apparatus shown in FIG. 1.
- FIG. 6 is an exploded perspective view (a) showing a cover member and a support of the chemical liquid supply apparatus shown in FIG. 1, and a longitudinal front view (b) in a combined state.
- 7 is an explanatory view of the fitting of the narrow tube portion of the cover member and the fitting protrusion of the support shown in FIG. 6, and
- FIG. 7 (a) is a perspective view showing the state before fitting.
- 7 (b) is a longitudinal sectional view showing a state after fitting.
- FIG. 8 shows the main part of another embodiment of the present invention, in which (a) is a front view and (b) is a side view of the left half.
- FIG. 9 is a graph showing the relationship between the number of flushes and the amount of remaining chemical for the example apparatus.
- FIG. 10 is a graph showing the relationship between the number of flushes and the amount of remaining chemical for the comparative device.
- FIG. 11 is a front view showing an example of a conventional chemical solution supply apparatus.
- FIG. 12 is a side view of the conventional apparatus shown in FIG.
- FIG. 13 is an exploded perspective view showing a cover member and a support of the conventional apparatus shown in FIG.
- FIG. 14 is a longitudinal front view showing a combined state of the cover member and the support of the conventional apparatus shown in FIG.
- FIG. 15 is a cross-sectional view (seen in the direction of the arrow) along a plane including the center lines L and L of the two air circulation holes shown in FIG.
- FIG. 1 is a front view (a) and a side view (b) of a chemical liquid supply device arranged in a hand-washing section in the upper part of a water storage tank in a flush toilet
- FIG. 2 is an exploded view of the chemical liquid supply device.
- this chemical solution supply apparatus includes a chemical solution container 1 that stores a chemical solution such as an aromatic cleaning agent, a cup-shaped support 2 that supports the chemical solution container 1, and a support.
- 2 Cover member 3 installed in the chemical liquid container 1 and connected to the chemical liquid container 1 and supported by the support 2 below the chemical liquid container to guide the chemical liquid from the chemical liquid container to a position where it contacts the intermittently flowing liquid.
- a guide member 5 installed in the chemical liquid container 1 and connected to the chemical liquid container 1 and supported by the support 2 below the chemical liquid container to guide the chemical liquid from the chemical liquid container to a position where it contacts the intermittently flowing liquid.
- This chemical solution supply device is installed in the hand-washing part A above the water storage tank so that the legs of the support 2 are inserted into the discharge port B of the hand-washing part.
- FIG. 3 is a longitudinal front view of the chemical solution container 1.
- the chemical solution container 1 includes a pair of chemical solution storage portions 11 in contact with P, and a mouth portion 12 for discharging the chemical solution is formed at the lower end of each chemical solution storage portion 11.
- the chemical solution storage unit 11 is partially or entirely made of a transparent or translucent material so that the remaining amount of the chemical solution such as an aromatic cleaning agent can be confirmed from the outside.
- the mouth portion 12 is closed with a cap (not shown) during distribution and storage after manufacture, and is opened when in use.
- FIG. 4 is a plan view (a) and a front sectional view (b) of the cover member 3.
- the force bar member 3 has a pair of cylindrical portions 31 joined together by a plate-like joining portion 32 to form a rectangular shape in plan view.
- Each of the cylindrical portions 31 includes an inner wall 33 and an upper wall 34, the supply unit 4 penetrates the upper wall 34, and the lower end is opened.
- the upper wall 34 of the cylindrical portion 31 It consists of a surrounding lower step wall 341 and an upper step wall 342 that is higher than the lower step wall 341 outside the pair of cylindrical portions 31 and has a crescent shape in plan view. (4 in this example) are provided.
- the cylindrical portion 31 constitutes an upper member to be described later (hereinafter, the upper member is also indicated by 31).
- the supply unit 4 is integrally formed as a part of the cover member 3 and has a tubular portion 41 extending through the lower wall 341.
- the supply unit 4 is formed integrally with the support 2 and extends upward from the bottom wall of the support. It has a fitting protrusion 42 (described later) that extends, and forms a chemical solution passage through which the chemical solution passes from the chemical solution container 1 to the guide member 5.
- the tubular portion 41 includes a connection portion 411 extending through the lower wall 341 and having an upper end connected to the mouth portion 11 of the chemical liquid container 1 and a small-diameter thin tube portion 412 continuous to the lower end of the connection portion 411. ing.
- a partition wall 413 surrounding the upper end of the thin tube portion 412 is provided at the lower end of the connection portion 411, and a plurality of buffer holes 414 (three in this example) are formed in the partition wall 413.
- FIG. 5 is a plan view (a) and a front sectional view (b) of the support 2
- FIG. 6 is an exploded perspective view showing the support and the cover member 3, and these It is front sectional drawing (b) shown in the state which united.
- the support 2 includes a bottom wall 21 and a side wall 22 as shown in FIG. On the bottom wall 21, a bowl-shaped outer wall 23 that fits on the outer surface of the inner wall 33 of the cover member 3 is formed. By fitting the cover member 3 into the outer side wall 23, the buffer chamber 6 is formed between the pair of cylindrical portions 31 and the bottom wall 21 of the support 2 (see FIG. 6 (b)).
- the outer wall 23 and the portion of the bottom wall 21 surrounded by the outer wall constitute a lower member 20 that forms the buffer chamber 6.
- the lower member may be provided integrally with the support 2 as described above, or may be formed separately and connected to the support 2 by bonding, screwing, or the like.
- an opening 24 for discharging the water to the outside is located at a position outside the standing wall 23.
- a plurality are formed.
- the openings 24 have the size and number (one or more) necessary for discharge.
- FIG. 7 is a diagram showing in detail the fitting of the thin tube portion 412 of the cover member 3 and the fitting protrusion 42 of the support 2 shown in FIG. 6, and the right thin tube portion 412 and the fitting in FIG.
- the joint 42 is shown in the center.
- Fig. 7 (a) is a perspective view showing the state before mating
- Fig. 7 (b) is the state after mating. It is a longitudinal cross-sectional view which shows a state.
- the fitting protrusion 42 extending upward from the bottom wall 21 of the support has a diameter that fits to the inner surface of the lower end of the thin tube portion 4 12.
- a longitudinal groove 421 extending from the upper end to the lower end is formed on the outer surface of the fitting protrusion 42, and the longitudinal groove 421 forms a lead-out path 421 a between the inner wall surface of the narrow tube portion 412.
- the cross-sectional shape of the longitudinal groove 421 may be various cross-sectional shapes such as a semicircular shape in this example, and a square shape such as a triangle and a quadrangle. It is desirable that the cross-sectional dimensions be such that the chemical solution can be led out along the lead-out path 421a by capillary action.
- an annular portion 43 fitted to the outer surface of the lower end of the thin tube portion 412 extends upward from the bottom surface of the support body 2 in order to securely hold the fitting state with the thin tube portion 412.
- a guide member 5 for guiding the lead-out chemical solution is provided below the lead-out path 421a.
- the guide member 5 is formed in a plate shape having a width straddling the pair of lead-out paths 421a, and the upper end abuts against the opening edge of the lower end of each lead-out path 421a and extends downward.
- a number of narrow grooves 51 extending in the vertical direction are formed in the planar portions of the front and back surfaces of the guide member 5 in order to spread the chemical solution led out from the outlet passage 421a to the upper portion of the surface (FIG. 1 (a )reference).
- the support 2 there are two long legs 25 that are spaced from the front and back surfaces of the guide member 5, and four short legs 26 that are arranged around the long legs 25. Is installed to extend downward. Of these legs 25, 26, the long legs 25 can be inserted into the drain B of the hand-washing section.Each short leg 26 has the long legs 25 inserted into the drain B and the support 2 is Support the hand-washing part A almost horizontally. Further, the support 2 bottom force shielding member 27 extends downward between the guide member 5 and the long leg. The guide member 5 and the shielding member 27 are shortened in this order with respect to the long leg 25.
- the long leg 25 positions the support 2 at the drain outlet, and the guide member 5 is used for water flowing down to the drain outlet. In contact with each other, the length of each of the shielding members 27 is determined so that the flowing water does not reach the outlet passage 421a.
- the chemical solution supply apparatus is configured such that the buffer wall 6 is formed by fitting the outer wall 23 of the support 2 on the outer side of the inner wall 33 of the cover member 3. Assembling is performed by fitting the mouth portion 12 of the chemical solution container 1 into the connecting portion 411 extending upward from the cover member 3.
- the chemical solution supply apparatus configured as described above operates as follows. That is, the chemical solution in the chemical solution container 1 flows into the connecting portion 411 and flows out from the outlet passage 421a, and then the guide member 5 It is guided to the planar part. Then, the chemical solution on the guide member 5 is washed and washed in the water supplied at the time of flushing and flows into the water storage tank.
- the buffer chamber 6, the air circulation hole 343 of the cover member 3, and the buffer hole 414 of the supply unit 4 constitute an adjustment mechanism, and buffer the temperature change as follows.
- the air in the container 1 expands and the inside of the container 1 becomes positive pressure.
- the chemical solution in the chemical solution container 1 is pushed out and discharged, but since this chemical solution flows into the buffer chamber 6 through the buffer hole 414 in addition to the lead-out path 421a, the chemical liquid flows out excessively into the lead-out path 421a. Is prevented.
- the buffer chamber 6 has a flow of the chemical solution between the chemical solution container 1 and the buffer chamber 6 even when a pressure change occurs in the chemical solution container 1 due to a temperature change. It is possible to prevent the chemical solution from flowing out excessively or being restricted from flowing out.
- the buffer chamber 6 has a structure in which the outer wall 23 of the lower member formed integrally with the support 2 is fitted to the outer side of the inner wall 33 of the upper member. Therefore, even if a gap occurs in the fitting between the upper member and the lower member of the buffer chamber 6, the opening outside the buffer chamber in the gap is between the inner wall 33 (upper member) and the outer wall 23 (lower member). It will be located at the top. As a result, even if the intermittent flow that has flowed into the support 2 travels along the support bottom wall 21 and enters the buffer chamber 6 from below, the intrusion that hardly reaches the opening of the gap is prevented. Therefore, dilution of the chemical solution in the buffer chamber 6 and dilution of the chemical solution in the chemical solution container due to the return of the chemical solution are prevented, and the concentration of the chemical solution supplied from the chemical solution container can be maintained appropriately.
- the guide member 5 extends downward from a position where it abuts on the lower end of the fitting protrusion 42 of the supply unit 4, the chemical solution guided to the guide member 5 from the outlet path 421 a is guided by the guide member 5. Will be guided down along the road. Therefore, the water that flows during flushing contacts the guide member 5. However, it is possible to suppress this water from reaching the outlet path 421a through the guide member 5, and it is possible to prevent the chemical liquid from being diluted by the water mixing into the chemical liquid container 1.
- the chemical solution is normally supplied by a narrow vertical groove 421 provided in the fitting projection 42 of the supply unit 4 and an inner surface of the thin tube unit 412 of the tubular unit 41. Derived route 421a. Even if the lead-out path 421a has a smooth curve with a semicircular opening edge force at the lower end of the longitudinal groove 421 itself, the portion where the opening edge contacts the inner wall surface of the supply section is a corner. In this way, a portion of the smooth curved shape at the lower end opening edge is blocked, so that the surface tension of the chemical solution becomes discontinuous at the blocking portion and the uniform dispersion is broken. As a result, the chemical solution is smoothly led out from the supply unit. As a result, the chemical solution is smoothly led out from the supply unit.
- the buffer hole 414 has a flow resistance smaller than that of the guide path 421a.
- the following principles are considered to work for the derivation of chemicals during normal operation and the buffering action during temperature changes.
- the chemical solution in the chemical solution container 1 is guided to the guide member 5 through the outlet path 421a of the tubular portion 41.
- the negative pressure in the chemical liquid container 1 due to the chemical liquid outflow is compensated by air flowing in from the air circulation hole 343 of the cover member 3. At this time, the chemical solution almost flows out from the outlet passage 421a rather than the buffer hole 414.
- a plurality of longitudinal grooves 421 for forming the lead-out path 421a may be provided.
- the total opening area of the exit path (the sum of the opening areas of all the outlet paths) is adjusted so that the discharge amount of the chemical solution is appropriate and excessive discharge or insufficient discharge amount is prevented.
- the flow resistance of the buffer hole is preferably smaller than the flow resistance of the outlet path.
- the lead-out path is, for example, a fan shape (center) with a radius of 0.2 mm to 0.3 mm, compared to the normal chemical viscosity (120 to 800 mPa's). (The angle is about 45 degrees), and the buffer holes should have a radius of about 0.6 mm to 0.9 mm (1-5 degrees).
- the lead-out path 421a is formed by the vertical groove provided on the outer surface of the fitting protrusion 42 and the inner surface of the narrow tube portion 412. Therefore, a mold for manufacturing is provided with a concave portion corresponding to the fitting protrusion and a vertical protrusion corresponding to the vertical groove 421 on one die such as an upper and lower die, and a narrow tube on the other die. An annular recess corresponding to the portion 412 may be provided. Therefore, there is no need to provide a long and narrow needle-like portion corresponding to the narrow lead-out path in the manufacturing mold, and stable manufacturing with a mold that is difficult to cause damage is possible.
- the chemical solution supply apparatus can be used in various toilets without depending on the position of the water discharge tap and the form of the hand-washing section. Further, since the chemical solution on the guide member 5 flows directly into the drain port by being washed away with running water, even if the chemical solution contains a component such as a pigment, the hand washing part is soiled by this pigment. Can be prevented.
- FIG. 8 shows an example in which the present invention is applied to the chemical solution supply apparatus shown in FIGS.
- the apparatus shown in FIGS. 11 to 15 is different from the apparatus shown in FIGS. 11 to 15 in that each side wall of the lower member 20 and the upper member 31 is centered. That is, the lower member 20 has an inner wall 33 positioned on the inner side, and the upper member 31 has an outer wall 23 positioned on the outer side.
- the upper member 31 further includes a surrounding wall 35 that extends from the upper end of the inner wall 33 beyond the upper end of the outer wall 23 of the lower member 20.
- the surrounding wall 35 includes an upper wall portion 351 extending outwardly from the upper wall 34 of the upper member 31 and a side wall portion 352 depending from the end of the upper wall portion.
- the side wall portion 352 is separated from the outer surface of the outer wall 23 as shown in FIG. This is a force S for blocking the flowing water from above in a wider range, and it can be brought close to or in contact with the outer wall 23 as necessary, leaving the upper wall portion 351 and the side wall portion. It is also acceptable to omit 352.
- the outer wall 23 of the lower member of the buffer chamber 6 is structured to fit outside the inner wall 33 of the upper member. Therefore, even if a gap occurs in the fitting between the upper member and the lower member, the opening outside the buffer chamber in the gap is located above the inner wall 33 (upper member) and the outer wall 23 (lower member). Thus, the intermittent flow is prevented from entering the buffer chamber 6 from the lower side along the support bottom wall 21.
- the upper member 31 further includes a surrounding wall 35 extending from the upper end of the inner side wall 33 beyond the upper end of the outer wall 23 of the lower member 20. Therefore, even if an intermittent flow enters the support 2 from above, the enclosure wall 35 prevents the intrusion into the buffer chamber 6. This intrusion prevention effect is reinforced by the fact that the surrounding wall 35 can be obtained only by the upper wall portion 351. In this example, the side wall portion 352 is provided.
- the guide member 5 may be disposed at another position that comes into contact with running water, such as a position facing the drain outlet, which is not necessarily located at the insertion position into the drain outlet.
- the upper end portion of the guide member 5 is in contact with the lower end of the fitting projection 42, that is, the opening edge of the lower end of the outlet path 421a, but the chemical liquid discharged from the outlet path 421a is guided by the guide member. 5
- the guide member 5 and the fitting protrusion 42 can be brought close to each other to such an extent that they can move up.
- the guide member 5 can enter the support body 2, and in this case, the guide member 5 and the fitting protrusion 42 are in contact with or close to each other in the support body 2. If you do this Therefore, it is possible to more reliably prevent the flowing water from flowing into the outlet passage 421a.
- the shape of the guide member 5 is not limited to a plate shape as described above, but a liquid that intermittently flows a chemical solution that may be formed in a rod shape or a cylindrical shape. It can be in various shapes that can be guided to a position where it comes into contact.
- the mode of the narrow groove 51 is not limited to the one extending in the vertical direction, and can be formed, for example, so as to extend obliquely downward, or in a lattice shape or a dot shape. Alternatively, when the chemical solution is sufficiently spread on the guide member, the narrow groove can be omitted.
- the guide member 5 is configured such that a portion (chemical solution receiving portion) in contact with or close to the opening edge at the lower end of the outlet path 421a is made of a non-permeable material, and the other portion is filled with a chemical solution such as a porous material. It is also possible to make the material easy to hold, and to optimize the amount of the chemical solution derived and held.
- the chemical solution receiving portion of the guide member 5 can be made of a permeable material as long as the desired amount of chemical solution can be derived and retained.
- the lead-out path is not formed by the vertical groove 421 and the narrow tube portion 412 of the fitting protrusion 42 as in the above-described example, but by a through hole provided in a closing portion that closes the lower end portion of the chemical liquid passage. It can also be formed. It can also be formed by a through-hole 420a provided in a closing part 420 that closes the lower end part of the chemical liquid passage.
- the lower end opening edge of the through hole can also be formed in various shapes such as a semi-circle, a triangle, and a quadrangle, and preferably has a shape having a corner at at least one place.
- the chemical solution supply device is used in a hand-washing portion of a water storage tank of a flush toilet, as well as an in-tank (a type that is suspended in a tank), a rim type (at the edge of a toilet bowl). It can be used for various purposes such as supplying chemicals in chemical containers to liquids that flow intermittently, such as drains in kitchens and bathrooms.
- the lower member 20 is the outer side (outer side wall 23), and the upper member 31 is the inner side (inner side wall 33).
- the lower member 20 is the inner side (side wall 23 ') and the upper member 31 is the outer side (wall 33').
- the graph of Fig. 9 (a) of the example device is 360 flashes in environment S, and the graph of Fig. 9 (b) is 350 flashes in environment W, indicating that the chemical solution in the chemical solution container has almost disappeared.
- the graph in Fig. 10 (a) of the comparative device shows that the chemical solution in the chemical solution container almost disappeared after 500 flashes in environment S, but the graph in Fig. 10 (b) In Environment W, it decreased rapidly after 300 times and almost disappeared after 410 times. Until the 300th flush, the remaining amount of the chemical slowly decreases, but this is the side wall of the upper and lower members. As a result, the flowing water that entered the buffer chamber through the gap was absorbed into the chemical solution container and discharged along with the chemical solution, so that the substantial decrease in the chemical solution was suppressed.
- the graph of the comparative example in Fig. 10 (b) means the following.
- the viscosity of the chemical solution decreased after 300 flashes, and it became easier to pass through the narrow outlet, and the amount of effluent from the chemical solution container increased. This is due to the following action.
- the side wall structure of the buffer chamber 6 is such that the lower member 20 is on the inner side (side wall 23 ′) and the upper member 31 is on the outer side (wall 33 ′).
- the flowing water reaches the opening of the gap along the bottom surface of the support and enters the buffer chamber through the gap.
- the chemical solution in the buffer chamber is diluted by the flowing water, and the diluted chemical solution is absorbed into the chemical solution container and diluted to the chemical solution in the chemical solution container.
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Abstract
【課題】 薬液容器から供給される薬液濃度を適正に保つことができる薬液供給装置を提供する。 【解決手段】 断続的に流れる液体への薬液供給装置であって、薬液容器1を支持する支持体2と、薬液を前記液体と接触する位置へ案内する案内部材5と、案内部材5に薬液を供給する供給部4と、温度変動に応じて薬液を緩衝室6で保持及び放出する調整機構とを備え、緩衝室6は、支持体に設けられた下部部材20と、該下部部材に上方から嵌合する上部部材31とを備え、下部部材20は、底壁と、該底壁から上方へ延びた外側壁23とを備え、上部部材31は、緩衝室6の上部を覆う上壁34と、該上壁から垂下し外側壁23の内側に嵌合する内側壁33とを備えている薬液供給装置。
Description
明 細 書
薬液供給装置
技術分野
[0001] 本発明は、断続的に流下する液体により薬液を排出させる薬液供給装置に関し、 例えば、水洗トイレにおける貯水タンク上面の手洗い部に設置される洗浄装置のた めの薬液供給装置に関する。
背景技術
[0002] この種の薬液供給装置としては、例えば、水洗トイレにおける貯水タンク上部の手 洗レ、部に配置され、手洗レ、部に供給される水とともに貯水タンク内に薬液を供給する ものが提案されている(特許文献 1)。この薬液供給装置は、図 11〜図 15に示すよう に、薬液容器 1を支持する支持体 2を備え、該支持体に装着された薬液の案内部材 5が貯水タンクに流入する水と接触するように、手洗い部 Aに置かれる。薬液は、上下 方向に延びた供給部 4を通じて、該供給部下端の導出孔 420から案内部材 5に供給 される。支持体 2には、さらに調整機構が設けられている。この調整機構は、流水へ の接触等により薬液容器の温度が変動したときに、薬液容器 1から案内部材 5の薬液 の余分な流出やその逆流が生じるのを防止するものであり、支持体 2に支持された緩 衝室 6と、該緩衝室の上部に設けられた空気流通孔 343と、該緩衝室 6に連通するよ うに供給部 4の下部に設けられた緩衝孔 42とを備えている。
[0003] この薬液供給装置は、次のように動作する。すなわち、温度が上昇し、薬液容器 1 内の圧力が上昇した場合には、薬液容器内の芳香洗浄剤は、緩衝孔 42から流れ出 し緩衝室 6内に流入する。一方、温度が低下し、薬液容器 1内の圧力が低下すると、 緩衝室 6内の芳香洗浄剤が緩衝孔 42を介して薬液容器 1内へ引き戻される。このよ うな構成により、温度変化の繰り返しがあっても芳香洗浄剤が無駄に流出するのを防 止すること力 Sできる。特に、薬剤容器の温度変化は、室温の変化と手洗い部への流 水の接触との双方で生じるので、これによる薬液の無駄な流出を防止することは、薬 液の長期使用を可能にする上で重要である。
特許文献 1 :特開 2004— 300861公報
発明の開示 発明が解決しょうとする課題
[0004] このように、上記薬液供給装置は、緩衝室 6の設置により、薬液の余分な流出が防 止され、その結果、薬液容器から案内部材へ薬液を正確な量で導出することが可能 となり、長期使用が実現される。
[0005] し力しながら、従来の薬液供給装置では、緩衝室 6は、以下の構造となっていたた め流水の浸入の問題を生じることがあった。すなわち、緩衝室 6は、支持体 2に支持 された底部壁 21及び側壁 23'を有する下部部材 20と、側壁 33'及び上壁 34を有し 該下部部材に上方力も嵌合する上部部材 31とを備えていたが、上部部材 31を支持 体 2に固定する構造として、両部材に設けられたフック 36 '、 38 'を緩衝室の外側で 相互に係止するという構造が採用されていた。このため上部部材のフック 36 'が緩衝 室の外側に位置するよう、上部部材 31は、側壁 33 'が下部部材 20の側壁 23 '外側 に位置するように嵌合する構造となってレ、た。
[0006] ところ力 通常のプラスチック成形による嵌合構造では、嵌合部を完全な液密にす るのは困難であり、不可避的に生じた隙間から流水が浸入することがある。図 12の 2 つの空気流通孔 343の中心線 L、 Lを含む平面に沿う断面(矢印の方向に見る)であ る図 15によく示されるように、前記嵌合構造において、上部部材 31の側壁 33 'の下 端は、下部部材 20の外壁 23'の下部に位置している。したがって、 2つの側壁間に 生じた隙間における緩衝室外側に位置する開口は、該緩衝室の下部に位置すること になる。その結果、支持体 2内へ進入した流水は、支持体 2の底面に沿って、隙間の 開口に到達し易くなつている。こうして嵌合構造の隙間を経て毛管作用等により流水 が緩衝室に浸入することとなる。その流水によって緩衝室 6内の薬液が薄められ、薄 められた薬液は温度変化により薬液容器 1内に吸収され、薬液容器内の薬液まで希 釈されることとなる。これでは、適正な薬液量による薬効が妨げられるばかりか、薬液 によっては本来の粘度が低下し、薬液容器の排出ロカ 過剰に流出して長期使用を 損ねることちある。
[0007] 本発明は、このような従来技術の問題を解決し、薬液容器から供給される薬液濃度 を適正に保つことができる薬液供給装置を提供することを目的とする。
課題を解決するための手段
[0008] 本発明は、前記目的を達成するため、断続的に流れる液体に薬液容器内の薬液を 供給するための薬液供給装置であって、
薬液容器を支持する支持体と、
薬液容器より下方で該支持体に支持され、薬液容器からの薬液を、断続的に流れ る液体と接触する位置へ案内する案内部材と、
薬液容器から前記案内部材に薬液を供給するための供給部と、
薬液容器の温度変動により薬液容器から前記案内部材へ薬液が流出するのを防 止する調整機構とを備え、
前記調整機構は、前記支持体に支持された緩衝室と、該緩衝室の上部に設けられ た空気流通孔と、該緩衝室に連通するように前記供給部の下部に設けられた緩衝孔 とを備え、
前記緩衝室は、前記支持体に設けられた下部部材と、該下部部材に上方から嵌合 する上部部材とを備え、
前記下部部材は、底壁と、該底壁から上方へ延びた外側壁とを備え、
前記上部部材は、前記緩衝室の上部を覆う上壁と、該上壁から垂下し前記外側壁 の内側に嵌合する内側壁とを備え、
前記供給部は、上下方向へ延び、上部が薬液容器の排出部に結合可能とされ、下 端が前記案内部材に当接または近接していることを特徴とする薬液供給装置を提供 するものである。
発明の効果
[0009] 本発明によれば、以下の効果を奏する薬液供給装置を提供することができる。すな わち、この薬液供給装置は、薬液容器を支持する支持体と、薬液容器より下方で該 支持体に支持され、薬液容器からの薬液を、断続的に流れる液体と接触する位置へ 案内する案内部材と、薬液容器力 前記案内部材に薬液を供給するための供給部 と、薬液容器の温度変動により薬液容器から前記案内部材へ薬液が流出するのを防 止する調整機構とを備え、該調整機構は、前記支持体に支持された緩衝室と、該緩 衝室の上部に設けられた空気流通孔と、該緩衝室に連通するように前記供給部の下
部に設けられた緩衝孔とを備え、前記供給部は、上下方向へ延び、上部が薬液容器 の排出部に結合可能とされ、下端が前記案内部材に当接または近接している。
[0010] したがって、薬液容器内の薬液は、案内部材への流れとは別に、周囲温度の変動 に応じて、緩衝孔を経て緩衝室への流入または薬液容器への戻りを生じる。その結 果、温度変動による薬液の無駄な流出を防止することができる。
[0011] 特に、前記緩衝室は、前記支持体に設けられた下部部材と、該下部部材に上方か ら嵌合する上部部材とを備え、前記下部部材は、前記支持体の底部壁により形成さ れた底壁と、該底壁から上方へ延びた外側壁とを備え、前記上部部材は、前記緩衝 室の上部を覆う上壁と、該上壁から垂下し前記外側壁の内側に嵌合する内側壁とを 備えている。
[0012] したがって、緩衝室の上部部材と下部部材との嵌合に隙間が生じたとしても、その 隙間の緩衝室外側の開口は、前記内側壁 (上部部材)と外側壁(下部部材)との上部 に位置することとなる。その結果、支持体内へ流入した断続流が支持体底壁を伝つ て下側力 緩衝室内へ侵入しょうとしても、該隙間の開口に到達し難ぐ侵入が防止 される。こうして緩衝室への断続流の侵入が防止される結果、緩衝室内の薬液の希 釈化及び該薬液の戻りによる薬液容器内の薬液の希釈化が防止され、したがって、 薬液容器力 供給される薬液濃度を適正に保つことができ、長期使用を確実にする こと力 Sできる。
図面の簡単な説明
[0013] [図 1]本発明の一実施形態に係る薬液供給装置の正面図(a)及び側面図(b)である
[図 2]図 1に示す薬液供給装置を分解して示す正面図である。
[図 3]図 1に示す薬液供給装置の薬液収納部の縦断正面図である。
[図 4]図 1に示す薬液供給装置のカバー部材の平面図(a)及び縦断正面図 (b)であ る。
[図 5]図 1に示す薬液供給装置の支持体の平面図(a)及び縦断正面図 (b)である。
[図 6]図 1に示す薬液供給装置のカバー部材及び支持体を、分解して示す斜視図(a )及び組み合わせ状態の縦断正面図(b)である。
[図 7]図 6に示したカバー部材の細管部及び支持体の嵌合突部の嵌合についての説 明図であり、図 7 (a)は嵌合前の状態を示す斜視図、図 7 (b)は嵌合後の状態を示す 縦断面図である。
[図 8]本発明の他の実施形態についての要部を示し、(a)は正面図、(b)は左半分の 側面図である。
[図 9]実施例装置についてのフラッシュ回数と薬液残存量との関係を表すグラフであ る。
[図 10]比較例装置についてのフラッシュ回数と薬液残存量との関係を表すグラフで ある。
[図 11]従来の薬液供給装置の一例を示す正面図である。
[図 12]図 11に示す従来装置の側面図である。
[図 13]図 11に示す従来装置のカバー部材及び支持体を分解して示す斜視図である
[図 14]図 11に示す従来装置のカバー部材及び支持体の組み合わせ状態を示す縦 断正面図である。
[図 15]図 13に示す 2つの空気流通孔の中心線 L、 Lを含む平面に沿う断面図(矢印 の方向に見る)である。
符号の説明
1 :薬液容器
2 :支持体
3 :カバー部材
4 :供給部
5 :案内部材
6 :緩衝室 (調整機構)
20:下部部材
31 :円筒状部分 (上部部材)
23 :外側壁
33 :内側壁
35 :囲繞壁
41 :管状部
42 :嵌合突部
343 :空気流通孔 (調整機構)
421a :導出路
発明を実施するための最良の形態
[0015] 以下、本発明に係る薬液供給装置の実施形態について添付図面を参照しつつ説 明する。図面に示す実施形態中、同一又は同種の部材には同一の番号を付して説 明を省略することがある。
[0016] 図 1は、水洗トイレにおける貯水タンク上部の手洗い部に配置される薬液供給装置 の正面図(a)及び側面図(b)であり、図 2は薬液供給装置の分解図である。
[0017] 図 1及び図 2に示すように、この薬液供給装置は、芳香洗浄剤等の薬液を収容する 薬液容器 1と、この薬液容器 1を支持するカップ状の支持体 2と、支持体 2内に取り付 けられ薬液容器 1に接続されるカバー部材 3と、薬液容器より下方で支持体 2に支持 され、薬液容器からの薬液を、断続的に流れる液体と接触する位置へ案内する案内 部材 5とを備えている。
[0018] この薬液供給装置は、支持体 2の脚部が手洗い部の排出口 Bに揷入されるようにし て、貯水タンク上部の手洗い部 Aに設置される。
[0019] 図 3は薬液容器 1の縦断正面図である。薬液容器 1は、図示のように、 P 接する 1対 の薬液収納部 11を備え、各薬液収納部 1 1の下端には、薬液排出のための口部 12 が形成されている。薬液収納部 11は、一部又は全体が透明又は半透明の材料で構 成され、外部から芳香洗浄剤などの薬液の残量が確認できるようになつている。 口部 12は、製造後の流通及び保管時には図外のキャップで閉じられ、使用時に開封され る。
[0020] 図 4はカバー部材 3の平面図(a)及び正面断面図(b)である。図 4に示すように、力 バー部材 3は、 1対の円筒状部分 31が板状の結合部 32で結合されて平面視瓢箪形 をなしている。円筒状部分 31の各々は、内側壁 33と上壁 34を備えており、上壁 34を 供給部 4が貫き、下端は開放されている。該円筒状部分 31の上壁 34は、供給部 4を
囲む下段壁 341と、 1対の円筒状部分 31の外側において下段壁 341より高い位置 にあり、平面視三日月状をなす上段壁 342とからなり、上段壁 342には空気流通孔 3 43が複数個(この例では 4個)設けられている。この円筒状部分 31が、後述する上部 部材を構成している(以下、上部部材も 31で示す)。
[0021] 供給部 4は、カバー部材 3の一部として一体的に形成され下段壁 341を貫いて延 びる管状部 41と、支持体 2と一体的に形成され支持体の底壁から上方へ延びる嵌合 突部 42 (後述)とを備え、薬液を薬液容器 1から案内部材 5に通す薬液通路を形成し ている。
[0022] 管状部 41は、下段壁 341を貫いて延び上端が薬液容器 1の口部 11に接続される 接続部 411と、該接続部 411の下端に連続する小径の細管部 412とを備えている。 接続部 411の下端には、細管部 412の上端を囲む仕切壁 413が設けられ、該仕切 壁 413には、緩衝孔 414が複数(この例では 3個)形成されている。
[0023] 図 5は、支持体 2の平面図(a)及び正面断面図(b)であり、図 6は、支持体とカバー 部材 3とを分解して示す斜視図(a)、及びこれらを合体した状態で示す正面断面図( b)である。支持体 2は、図 5に示すように、底部壁 21と、側壁 22とを備えている。底部 壁 21上には、カバー部材 3の内側壁 33外面に嵌合する瓢箪形の外側壁 23が形成 されている。外側壁 23にカバー部材 3を嵌め込むことにより、 1対の円筒状部分 31と 支持体 2の底部壁 21との間に緩衝室 6が形成される(図 6 (b)参照)。このように、外 側壁 23と該外側壁に囲まれた底部壁 21の部分とは、緩衝室 6を形成する下部部材 20を構成している。なお、下部部材は上記のように支持体 2と一体的に設けてもよい し、別個に形成して支持体 2に接着、ねじ止め等により結合して設けるようにしてもよ レ、。
[0024] 底壁 21と側壁 22には、貯水タンク放水タップからの水が支持体 2内部へ流入したと きにその水を外部へ排出するための開口 24が起立壁 23の外側の位置に複数形成 されている。この開口 24は、排出に必要な大きさと個数(1個または複数個)とされる。
[0025] 図 7は、図 6に示したカバー部材 3の細管部 412及び支持体 2の嵌合突部 42の嵌 合について詳細に示す図であり、図 6における右側の細管部 412及び嵌合突部 42 を中心に示している。図 7 (a)は嵌合前の状態を示す斜視図、図 7 (b)は嵌合後の状
態を示す縦断面図である。
[0026] 図 7に示すように、支持体の底部壁 21から上方へ延びる嵌合突部 42は、細管部 4 12下端の内側面に嵌合する径とされている。また、嵌合突部 42の外側面には、上端 から下端まで延びる縦溝 421が形成されており、該縦溝 421は、細管部 412の内壁 面との間に導出路 421aを形成する。縦溝 421の断面形状は、この例の半円形の他 、三角形、四角形などの角形など、種々の断面形状とすることができる。その断面寸 法は、毛管作用により薬液を導出路 421aに沿って導出し得る程度とするのが望まし レ、。さらに、この例では、細管部 412との嵌合状態を確実に保持するために、細管部 412下端の外側面に嵌合する環状部 43が支持体 2底面から上方へ延びている。
[0027] この導出路 421aの下方には、導出された薬液を案内する案内部材 5が設けられて いる。案内部材 5は、 1対の導出路 421aに跨る幅を有した板状に形成されており、上 端部が各導出路 421a下端の開口縁部に当接し、下方へ延びている。案内部材 5の 表裏面の面状部分には、導出路 421aから導出される薬液を該面上部分に広げるた めに上下方向に延びる多数の細溝 51が形成されている(図 1 (a)参照)。
[0028] また、支持体 2の底面には、案内部材 5表裏面から間隔をおいて位置する 2本の長 脚 25と、これら長脚 25の周囲に配置された 4本の短脚 26とが下方へ延びるように設 けられている。これらの脚 25, 26のうち、長脚 25は手洗い部の排水口 Bに挿入可能 となっており、各短脚 26は長脚 25が排水口 Bに挿入された状態で、支持体 2を手洗 い部 A上にほぼ水平に支持する。また、案内部材 5と長脚との間には、支持体 2底面 力 遮蔽部材 27が下方へ延びている。長脚 25に対し案内部材 5、遮蔽部材 27は、 これらの順に長さが短くなつており、長脚 25は支持体 2を排水口に位置決めし、案内 部材 5は排水口に流下する水に接し、遮蔽部材 27は流下する水が導出路 421aに 達しないように、各々の長さが決められている。
[0029] この薬液供給装置は、図 6 (b)に示すように、カバー部材 3の内側壁 33の外側に、 支持体 2の外側壁 23を嵌合して緩衝室 6を形成した後、カバー部材 3から上方へ延 びる接続部 411に薬液容器 1の口部 12を嵌入することにより組み立てられる。
[0030] 上記のように構成された薬液供給装置は、次のように作用する。すなわち、薬液容 器 1内の薬液は、接続部 411内に流入して導出路 421aから流出した後、案内部材 5
の面状部分へと案内される。そして、案内部材 5上の薬液は、フラッシュ時に供給さ れる水に洗レ、流されて貯水タンクの中に流れ込む。
[0031] 上述の緩衝室 6、カバー部材 3の空気流通孔 343、供給部 4の緩衝孔 414は、調整 機構を構成しており、温度変化に対して次のように緩衝作用をする。例えば温度が上 昇して薬液容器 1が暖められた場合には、容器 1内の空気が膨張し容器 1内は正圧 になる。この場合、薬液容器 1内の薬液は押し出されて排出されるが、この薬液は導 出路 421aの他、緩衝孔 414を経て緩衝室 6にも流れ込むため、薬液が導出路 421a へ過剰に流出するのが防止される。
[0032] 一方、流水で冷やされる等して薬液容器 1の温度が低下し、薬液容器 1内の空気が 収縮して負圧になると、空気流通孔 343により大気圧または室内圧が作用している 緩衝室 6内の薬液は、緩衝孔 414を経て薬液容器 1内へ吸い込まれる。したがって、 案内部材 5上の水または薄められた薬液が細管部 412を経て容器 1側へ戻されるの を抑制することができる。また、薬液容器 1内の負圧によって薬液の排出が制限され るのを、防止することができる。このように、緩衝室 6は、温度変化によって薬液容器 1 内に圧力変化が生じた場合でも、薬液容器 1と緩衝室 6との間での薬液の流通が生 じるため、容器 1内の薬液が過剰に流出したり、或いは流出が制限されたりするのを 防止することができる。
[0033] また、緩衝室 6は、支持体 2に一体的に形成された下部部材の外側壁 23は、上部 部材の内側壁 33の外側に嵌合する構造となっている。したがって、緩衝室 6の上部 部材と下部部材との嵌合に隙間が生じたとしても、その隙間における緩衝室外側の 開口は、内側壁 33 (上部部材)と外側壁 23 (下部部材)との上部に位置することとな る。その結果、支持体 2内へ流入した断続流が支持体底部壁 21を伝って下側から緩 衝室 6内へ侵入しょうとしても、該隙間の開口に到達し難ぐ侵入が防止される。した カ^て、緩衝室 6内の薬液の希釈化及び該薬液の戻りによる薬液容器内の薬液の希 釈化が防止され、薬液容器から供給される薬液濃度を適正に保つことができる。
[0034] しかも、案内部材 5は、供給部 4の嵌合突部 42の下端に当接する位置から下方へ 延びているので、導出路 421aから案内部材 5へ導出された薬液は、案内部材 5に沿 つて下方へと案内される。したがって、フラッシュ時に流れる水が案内部材 5に接触し
ても、この水が案内部材 5を伝って導出路 421aまで到達するのを抑制することができ 、薬液容器 1内に水が混入して薬液が薄められるのを防止することができる。
[0035] この薬液供給装置においては、通常時に薬液を供給するのは、供給部 4の嵌合突 部 42に設けられた細い縦溝 421と、管状部 41の細管部 412内側面とにより形成され る導出路 421aである。この導出路 421aは、縦溝 421自身の下端開口縁力 半円形 の滑らかな曲線となっていても、該開口縁が供給部内壁面と接する部分は角部とな る。こうして下端開口縁の滑らかな曲線形状が一部が遮断されることにより、薬液の表 面張力は該遮断部分で不連続となり均一状の分散が破られる等で、排出抵抗の低 下が生じ、その結果、薬液は供給部から円滑に導出される。その結果、薬液は供給 部から円滑に導出される。
[0036] 該開口縁の他の部分が滑らかな曲線形状となっていても、該角部で滑らかな形状 が断たれる。
[0037] 温度変化に対する薬液流出入の緩衝作用を円滑にするために、緩衝孔 414は、導 出路 421aより、流動抵抗が小さくされているのが望ましい。通常時の薬液の導出と、 温度変化時の緩衝作用とについては、次のような原理が働くものと考えられる。通常 時は、薬液容器 1内の薬液は管状部 41の導出路 421aを経て案内部材 5に導かれる 。薬液流出による薬液容器 1内の負圧は、カバー部材 3の空気流通孔 343から空気 が流入することにより補われる。このとき、薬液は、緩衝孔 414よりも導出路 421aから ほとんど流出する。これは、導出路 421aには毛管作用が働き、さらに案内部材 5が 当接または近接して薬液を該案内部材 5へと導くのに対し、緩衝孔 414にはこのよう に隣接する部材がなレ、ので薬液導出作用が働かず、薬液の粘性ゃメニスカス形成、 薬液容器内圧力と緩衝室内圧力とのバランス等の保持作用により緩衝室 6を経る薬 液流が抑制されるからであると考えられる。薬液容器 1の温度が上昇し容器内の圧力 が上昇したときには、その正圧が緩衝孔 414での保持作用を破り、緩衝孔 414薬液 が通過して緩衝室 6に流入し、また、薬液容器 1の温度が低下して容器内の圧力が 低下したときには、その負圧により緩衝室 6に一時的に貯えられた薬液が緩衝孔 414 を通って薬液容器に戻されるという原理が働くものと考えられる。
[0038] 導出路 421aを形成するための縦溝 421は、複数設けることもできる。この場合、導
出路の総開口面積 (すべての導出路の開口面積の和)は、薬液の排出量を適切にし 、過剰な排出または排出量不足を防止するように調整される。また、温度変化に対す る緩衝作用を円滑にするために、緩衝孔の流動抵抗は、導出路の流動抵抗より小さ レ、ことが好ましい。
[0039] このようにして、緩衝作用のための緩衝孔からの流出入と、導出路からの通常時の 流出とを安定的に且つ適正な量に保つことができ、薬液の正確な排出を確実に行な うことが可能となる。このためには、薬液として芳香消臭剤を使用する場合は、通常の 薬液粘度(120〜800mPa' s)に対して、導出路は 例えば、半径 0. 2mm〜0. 3m mの扇形(中心角 45度程度)、緩衝孔は半径 0. 6mm〜0. 9mmの円形(1〜5個程 度)の大きさとするのが望ましレ、。
[0040] 前述のように、この導出路 421aは、嵌合突部 42の外側面に設けられた縦溝と、細 管部 412の内側面とにより形成される。したがって、製造のためのモールド成形型は 、上下型などの一方の型に、嵌合突部に対応した凹部と、縦溝 421に対応する縦状 の突起とを設け、他方の型に、細管部 412に対応する環状凹所を設ければよい。し たがって、細い導出路に対応した細長い針状部分などを製造型に設ける必要がなく 、損傷を生じ難い型による安定した製造が可能となる。
[0041] 案内部材 5は、下端部が手洗い部の排水口に挿入されるので、排出された薬液は 、案内部材 5に沿って排水口内に案内される。手洗い部の排水口には、手洗い部の 形態に関わらず、放水タップからの流水が流れ込むため、案内部材 5上の薬液は流 水によって確実に洗い流される。したがって、本実施形態に係る薬液供給装置は、 例えば放水タップの位置、手洗い部の形態に依存することなぐ種々のトイレで使用 すること力 Sできる。また、案内部材 5上の薬液は、流水に洗い流されることにより、直接 排水口に流入するため、例えば薬液に色素などの成分が含まれている場合であって も、この色素によって手洗い部が汚されるのを防止することができる。
[0042] 図 8は、本発明を図 11〜図 15に示した薬液供給装置に適用した例を示している。
図 11〜図 15に示した装置と異なるのは、下部部材 20及び上部部材 31の各側壁を 中心とする構造である。すなわち、下部部材 20は内側に位置する内側壁 33、上部 部材 31は外側に位置する外側壁 23を備える構造となっている。この例ではさらに、
上部部材 31は、内側壁 33の上端から下部部材 20の外側壁 23上端を越えて延びる 囲繞壁 35をさらに備えている。この囲繞壁 35は、上部部材 31の上壁 34を外向きに 延長した上壁部 351と該上壁部の端部から垂下する側壁部 352とを備えている。側 壁部 352は、図 8に示すように、外側壁 23の外面から離反している。これは、上方か らの流水をより広い範囲で遮るためである力 S、必要性に応じて外側壁 23に近付ける こと、或いは接触させることが可能であり、上壁部 351を残して側壁部 352を省略す ることも可肯である。
[0043] この例においても、緩衝室 6の下部部材の外側壁 23は、上部部材の内側壁 33の 外側に嵌合する構造となっている。したがって、上部部材と下部部材との嵌合に隙間 が生じたとしても、その隙間における緩衝室外側の開口は、内側壁 33 (上部部材)と 外側壁 23 (下部部材)との上部に位置することとなり、断続流が支持体底部壁 21を 伝って下側から緩衝室 6内へ侵入するのが防止される。
[0044] 特にこの例では、上部部材 31は、内側壁 33の上端から下部部材 20の外側壁 23 上端を越えて延びる囲繞壁 35をさらに備えている。したがって、上方から支持体 2内 へ断続流が侵入しても、囲繞壁 35に阻まれ、緩衝室 6内への侵入が防止される。こ の侵入防止効果は、囲繞壁 35が上壁部 351のみによって得ることもできる力 この例 では側壁部 352を備えることにより強化されている。
[0045] 以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明はこれに限定されるもの ではなぐその趣旨を逸脱しない限りにおいて種々の変更が可能である。例えば、前 述の例では、薬液容器の薬液収納部を 2つとし、これに対応して緩衝室などを 2っ設 けたが、これらを各々 1つまたは 3つ以上とすることもできる。
[0046] また、上記案内部材 5は、必ずしも排水口への揷入位置にある必要はなぐ排水口 に臨む位置など、流水に接触する他の位置に配置されていてもよい。また、上記説 明では案内部材 5の上端部が、嵌合突部 42の下端、すなわち導出路 421a下端の 開口縁部に当接しているが、導出路 421 aから排出される薬液が案内部材 5上へ乗り 移れる程度に、案内部材 5と嵌合突部 42とを隙間をあけて近接させるようにすること もできる。さらに、案内部材 5が支持体 2内に入り込むようにすることもでき、この場合 、案内部材 5と嵌合突部 42とは支持体 2内で当接或いは近接する。このようにすると
、流水が導出路 421a内に流入するのをより確実に防止することができる。
[0047] また、案内部材 5の形状は上記のように板状に限定されるものではなぐ棒状、或い は筒状に形成されたものであってもよぐ薬液を、断続的に流れる液体と接触する位 置へ案内し得る種々の形状とすることができる。
[0048] また、細溝 51の態様も、垂直方向に延びるものに限定されず、例えば斜め下方に 延びるように形成したり、或いは格子状やドット状に形成することもできる。或いは、薬 液が案内部材に十分に広がる場合には、細溝を省略することもできる。
[0049] さらに、案内部材 5は、導出路 421a下端の開口縁部に当接または近接する部分( 薬液受け部)を非浸透性の材料で構成し、他の部分を多孔質材料など薬液を保持し 易い材料とし、薬液の導出量と保持量とを適切化することもできる。また、所望の薬液 導出量及び保持量を得られるのであれば、案内部材 5の薬液受け部を浸透性の材 料で構成することもできる。
[0050] 導出路は、前述の例のように嵌合突部 42の縦溝 421と細管部 412とで形成するの に代えて、薬液通路下端部を閉じる閉鎖部に設けられた貫通孔によって形成するこ ともできる。薬液通路下端部を閉じる閉鎖部 420に設けられた貫通孔 420aによって 形成することもできる。この貫通孔の下端開口縁も、半円形、三角形、四角形など、 種々の形状とすることがで、少なくとも 1箇所に角部を有する形状とするのが望ましい
[0051] さらに、本発明に係る薬液供給装置は、水洗トイレの貯水タンクの手洗い部に設置 する用途の他、インタンク(タンク内に吊り下げて使用するタイプ)、リム式 (便器の縁 に取り付けるタイプ)、台所や浴室の排水口などのように、断続的に流れる液体に薬 液容器内の薬液を供給する種々の用途に用レ、ることができる。
実施例
[0052] 以下のようにして、本発明の実施例と他の仕様による比較例とを用いて実験を行な つに。
(1)共通事項
実施例については、図 1〜図 7に示した実施形態に係る装置を用い、比較例には、 下部部材 20及び上部部材 31の側壁の嵌合構造のみを異にする装置を用いた。
•薬液容器に収納した薬液の粘度: 220mPa' S (各試験環境下での粘度) •温度環境:
環境 S (夏場に近い温度): 室温 25°C、薬液供給装置に接触する水の水温 25°C 環境 W (冬場に近い温度): 室温 15°C、薬液供給装置に接触する水の水温 5°C •装置の設置:薬液供給装置を TOT〇社製貯水タンク S731Bの手洗い部上に設置 した。
•測定: 90分毎に貯水タンクのレバー操作をしてタンク内の水を流し(フラッシュし)、 フラッシュを所定回数(16回)する毎に薬液容器内の薬液残存量 (重さ)を測定した。
[0053] (2)実施例の仕様
緩衝室 6側壁の構造は、下部部材 20が外側(外側壁 23)、上部部材 31が内側(内 側壁 33)となる。
(3)比較例の仕様
緩衝室 6側壁の構造は、下部部材 20が内側 (側壁 23 ' )、上部部材 31が外側 (壁 3 3' )となっている。
[0054] (4)結果
実験結果を、図 9及び図 10のグラフに示した。各グラフの(a)は環境 S、(b)は環境 Wでの結果であり、縦軸に薬液容器内の薬液の残量、横軸にフラッシュの回数をとつ ている。
•図 9:実施例の装置を用レ、た場合
•図 10:比較例の装置を用いた場合
•結果の評価:
上記グラフから、次のことが明らかである。実施例装置の図 9 (a)のグラフは環境 S において 360回のフラッシュ、図 9 (b)のグラフは環境 Wにおいて 350回のフラッシュ で、各々薬液容器内の薬液がほぼなくなつたことを示している。これに対し、比較例 装置の図 10 (a)のグラフは、環境 Sでは 500回のフラッシュ回数で薬液容器内の薬 液がほぼなくなつたことを示すものの、図 10 (b)のグラフは、環境 Wでは 300回の後 に急激に減少し、 410回でほぼなくなつたことを示している。 300回のフラッシュまで の間は薬液残量はゆっくりと減少してレ、るが、これは上部部材及び下部部材の側壁
間の隙間を経て緩衝室内に侵入した流水が、薬液容器内へ吸収され、薬液と共に 導出路力 排出されたため、薬液の実質的な減少量が抑えられた結果である。
[0055] 図 10 (b)の比較例のグラフは、以下のことを意味している。すなわち、環境 W (冬場 に近い温度)では、 300回のフラッシュで薬液の粘度が低下し、細い導出路を通過し やすくなり、薬液容器からの流出量が多くなつた。これは、次の作用による。環境 Wで は、貯水タンクタップからの流水の温度が低く外気温との差が大きいので、フラッシュ 毎に緩衝室と薬液容器との間の薬液の移動量が大きくなる。比較例の装置は、緩衝 室 6の側壁構造は、下部部材 20が内側 (側壁 23 ' )、上部部材 31が外側 (壁 33 ' )と なっているので、両側壁間の隙間は緩衝室の外側の下部で開口している。その結果 、流水は支持体底面に沿って、隙間の開口に到達しその隙間を経て緩衝室に浸入 することとなる。そして、その流水によって緩衝室内の薬液が薄められ、薄められた薬 液は薬液容器内に吸収され、薬液容器内の薬液まで希釈されたものである。
[0056] このように、比較例装置では、特に冬場等の低温期に適正な薬液濃度が保たれな いばかりか、長期使用が損なわれることになる。これに対し、実施例装置では、温度 環境に拘わらず、適正な薬液濃度が保たれ、長期使用が確実に可能となる。
Claims
[1] 断続的に流れる液体に薬液容器内の薬液を供給するための薬液供給装置であって 薬液容器を支持する支持体と、
薬液容器より下方で該支持体に支持され、薬液容器からの薬液を、断続的に流れ る液体と接触する位置へ案内する案内部材と、
薬液容器から前記案内部材に薬液を供給するための供給部と、
薬液容器の温度変動により薬液容器から前記案内部材へ薬液が流出するのを防 止する調整機構とを備え、
前記調整機構は、前記支持体に支持された緩衝室と、該緩衝室の上部に設けられ た空気流通孔と、該緩衝室に連通するように前記供給部の下部に設けられた緩衝孔 とを備え、
前記緩衝室は、前記支持体に設けられた下部部材と、該下部部材に上方から嵌合 する上部部材とを備え、
前記下部部材は、底壁と、該底壁から上方へ延びた外側壁とを備え、
前記上部部材は、前記緩衝室の上部を覆う上壁と、該上壁から垂下し前記外側壁 の内側に嵌合する内側壁とを備え、
前記供給部は、上下方向へ延び、上部が薬液容器の排出部に結合可能とされ、下 端が前記案内部材に当接または近接していることを特徴とする薬液供給装置。
[2] 前記支持体に結合されたカバー部材をさらに備え、
前記供給部が、前記緩衝室の上壁を貫通して薬液容器の排出部に結合可能とさ れた上部管と、前記支持体に結合され上端が前記上部管に接続され下端が前記案 内部材に当接または近接する下部管とを備え、
前記カバー部材は、前記緩衝室の上部部材と、前記供給部の上部管とを一体的に 備えて構成されていることを特徴とする請求項 1に記載の薬液供給装置。
[3] 前記支持体内へ侵入した断続流を外部へ排出する開口が、前記支持体の下部に 設けられていることを特徴とする請求項 2に記載の薬液供給装置。
[4] 前記上部部材は、前記内側壁の上端から前記下部部材の外側壁上端を越えて延
びる囲繞壁をさらに備えていることを特徴とする請求項 1または 2に記載の薬液供給 装置。
前記上部部材への断続流の接触を防止するように、該上部部材の上方を覆うよう に前記薬液容器が位置している請求項 1〜4のいずれかに記載の薬液供給装置。
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