WO2006093126A1

WO2006093126A1 - ウエブに糊を塗布するための装置

Info

Publication number: WO2006093126A1
Application number: PCT/JP2006/303705
Authority: WO
Inventors: Ryuichi Kashimura; Toru Kano; Takeshi Matsumura
Original assignee: Japan Tobacco Inc.
Priority date: 2005-03-01
Filing date: 2006-02-28
Publication date: 2006-09-08
Also published as: JP2008132395A

Description

ウェブに糊を塗布するための装置

技術分野

[0001] 本発明は、例えばウェブとして、フィルタシガレットの製造に使用されるチップべ一パのためのぺーパウェブに所定のパターンに従って、糊を塗布するための装置に関する。

背景技術

[0002] この種の塗布装置は、例えば特表 2001-511422号公報及び米国特許第 4252527号明細書にそれぞれ開示されている。これら公報の塗布装置は、糊を蓄えた糊ポッドと、この糊ポッド内の糊中に外周の一部が浸力つた取り出しローラと、この取り出しローラに転接された転写ローラと、転写ローラの近傍に配置され、転写ローラと協働してぺーパウェブを挟むプレスローラとを含む。糊ポッド内の糊は取り出しローラを経て転写ローラに供給され、そして、ぺーパウェブが転写ローラとプレスローラとの間を通過する際、転写ローラ力ぺーパウェブに糊が塗布される。

[0003] 具体的には、特表 2001-511422号公報（図 1)に開示された塗布装置の場合、取り出しローラはその外周面に形成された複数の溝を有し、これら溝は取り出しローラの外周面に溝パターンを形成する。このような溝パターンはぺーパウェブに形成すべき糊塗布域に対応した形状を有する。従って、取り出しローラは糊ポッド内の糊を溝パターンに従って取り出し、そして、取り出した糊を転写ローラの外周面に供給する。この後、転写ローラ上の糊はぺーパウェブに転写され、転写された糊は溝パターンに一致した形状を有する。

[0004] 一方、米国特許の塗布装置（図 2)に開示された転写ローラはその外周面に形成された複数の平坦面を有し、これら平坦面はぺーパウェブに塗布すべき領域に対応した平坦パターンを形成する。即ち、転写ローラは取り出しローラから平坦パターン上に糊を受取り、そして、受取った糊をぺーパウェブに平坦パターンに従って転写する

[0005] ぺーパウェブからフィルタシガレットのためのチップぺーパが形成される場合、糊の塗布域、即ち、上述した溝パターン及び平坦パターンは、チップぺーパが有する穿孔領域やチップぺーパの中央帯、即ち、チップぺーパの切断予定帯への糊の塗布を避けるべく形成されて、る。

[0006] 特表 2001-511422号公報の糊塗布装置の場合、取り出しローラ力転写ローラの外周面に糊が供給されるとき、取り出しローラにおける溝パターン内の糊は転写ローラの外周面に完全に乗り移るのではなぐその一部が溝パターン力転写ローラに向けて引き裂かれるようにして転写ローラの外周面に乗り移る。このため、転写ローラの外周面に形成された糊の転写域は斑模様になり易い。この後、転写ローラからぺーパウェブに糊が塗布されたとき、転写域における糊の斑模様は糊の塗布域にそのまま反映される。それ故、塗布域にて糊の厚みが一様にならず、糊の塗布斑を発生させてしまう。ぺーパウェブ力チップぺーパが形成される場合、上述した糊の塗布斑はチップぺーパの接着力を低下させ、不良のフィルタシガレットが製造されてしまう大きな要因となる。

[0007] また、プレスローラによる押圧は、ぺーパウェブに形成すべき糊塗布域からの糊の食出しを招き、食出した糊が前述した穿孔域や切断帯に不所望にオーバラップしてしまう。

[0008] 一方、米国特許の塗布装置の場合にも、取り出しローラ力も転写ローラの平坦バターン上に糊が供給されるとき、平坦パターン上の糊に斑模様が発生することは避けられない。しカゝしながら、米国特許の押圧ローラは、その外周面に分布された瘤 (Knurls )を有し、このような瘤は、転写ローラ力もぺーパウェブに糊が塗布されるとき、糊の斑模様をある程度減少させるものと考えられるが、それでも、ぺーパウェブに対し、糊が一様に塗布された塗布域を確実に形成することはできない。

[0009] また、平坦パターンを形成する平坦面は転写ローラの外周面に凹所を形成するが、転写ローラの回転方向でみて、凹所の前縁及び後縁は開放されているため、平坦パターン、即ち、糊塗布域からの糊の食出しを避けることはできない。

発明の開示

[0010] 本発明の目的は、ウェブの所定領域に糊を一様に塗布でき、し力も、塗布域からの糊の食出しを確実に防止することができる糊の塗布装置を提供することにある。 [0011] 上記の目的を達成するため、走行経路に沿って走行するウェブに糊を塗布する塗布装置は、

回転可能な転写ローラであって、走行経路上のウェブに接点にて接触する外周面と、この外周面に形成され、ウェブに形成すべき糊の塗布域に対応した溝パターンを有する、転写ローラと、

転写ローラの溝パターン内に糊を供給する糊フィーダであって、転写ローラに転接する外周面を有した接触ローラと、この接触ローラの外周面及び転写ローラの外周面の少なくとも一方を部分的に糊内に浸けさせる糊リザーバとを含む、糊フィーダと、走行経路の近傍に回転自在に配置され、走行経路上のウェブを転写ローラの外周面に押し付けるためのプレスローラであって、このプレスローラはその外周面を形成し且つ弾性変形可能なァウタシェルを有し、プレスローラがウェブを介して転写ローラに押し付けられたとき、ァウタシェル及びウェブは転写ローラの溝パターン内に填り込む。

[0012] 上述の塗布装置によれば、接触ローラ及び転写ローラの少なくとも一方の外周面に供給された糊は、互いに転接する接触ローラ及び転写ローラが協働することにより、転写ローラの溝パターン内に受け取られる。この後、転写ローラの溝パターンがプレスローラを通過する際、プレスローラのァウタシェルは自身の弾性変形により、ウェブとともに溝パターン内に填り込み、ウェブの一部を溝パターン内の糊に押付ける。このような押付けにより、溝パターン内の糊はウェブに一様に塗布され、この結果、ゥェブに対して溝パターンに対応した糊の塗布域が正確に形成される。

[0013] 好ましくは、溝パターンは、転写ローラの幅方向に関し、閉じた形状を有する。このような溝パターンによれば、溝パターン内の糊がウェブにより押し付けられても、糊が溝パターン力も食出ることはない。

[0014] 具体的には、プレスローラがウェブを介して転写ローラに押し付けられたとき、ァゥタシェルは、プレスローラの外周面に沿って円弧状に凹んだ凹みを有し、ウェブの走行方向でみて、凹みはプレスローラの接点によりも上流に位置付けられる。好ましくは、ウェブの走行方向でみて、凹みの上流端は接点に一致する。

[0015] プレスローラの凹みが上述したように位置付けられていれば、ウェブに糊が塗布された後、ウェブは転写ローラの外周面力円滑に分離され、ウェブが転写ローラの外周面に巻き付くことはなぐ装置の安定した作動が保証される。

[0016] 更に、装置は、転写ローラに対してプレスローラを押し付ける方向及び転写ローラ力前記プレスローラを離す方向に移動させる移動手段や、転写ローラからウェブを離すための分離手段を更に含ことができる。

[0017] なお、本発明の具体的な構造や利点は、添付図面を参照しながら説明される発明の最良の形態から明らかになる。

図面の簡単な説明

[0018] [図 1]フィルタシガレットの製造機を示した概略図である。

[図 2]図 1の製造機内にて実施されるフィルタシガレットの製造プロセスを示した概略図である。

[図 3]図 1の製造機に含まれる第 1実施例の塗布装置を一部破断して示した正面図である。

[図 4]図 3の塗布装置の断面図である。

[図 5]図 3及び図 4の転写ローラの外周面を一部展開して示した図である。

[図 6]糊ローラ力も転写ローラへの糊の転写を説明するための図である。

[図 7]転写ローラに転接する押圧ローラ及びその周辺を示した断面図である。

[図 8]転写ローラに対する押圧ローラの転接位置を説明するための図である。

[図 9]転写ローラと押圧ローラとの転接領域を拡大して示した断面図である。

[図 10]転写ローラ力もぺーパウェブに塗布された糊の塗布域を示した図である。

[図 11]フィルタシガレットの縦断面図である。

[図 12]第 2実施例の塗布装置を示した正面図である。

[図 13]第 3実施例の塗布装置を示した正面図である。

発明を実施するための最良の形態

[0019] 図 1のフィルタシガレットの製造機は水平ドラム列 10を備え、この水平ドラム列 10はシガレットロッド CR及びフィルタロッド FDのための移送経路を形成する。ドラム列 10 は複数の溝付きドラムを含み、これら溝付きドラムは移送経路に沿い一列に配置されている。各ドラムはその外周面に多数の溝を有し、これら溝は対応するドラムの周方向に等間隔を存して配置されている。隣接する溝付きドラムは、これら溝付きドラムの溝同士がドラム間の-ップ位置にて順次合致するように互いに逆向きに回転され、シガレットロッド CR又はフィルタロッド FDの移送に使用される。即ち、水平ドラム列 10に供給されたシガレットロッド CR及び Z又はフィルタロッド FDは、上流側の溝付きドラム力下流の溝付きドラムに順次乗り移りながら移送経路に沿って移送され、この移送過程にて、図 2に示されるようにシガレットロッド CR及びフィルタロッド FDからフィルタシガレットが製造される。

[0020] より詳しくは、図 1に示されている水平ドラム列 10中の溝付きドラムは、ドラム列 10の右端側からセパレータドラム 12、トランスファドラム 14、ホッパドラム 16、ローリングドラム 18及びインスペクションドラム 20と称される。セパレータドラム 12は、シガレットロッド CRを 1本ずつ受け取ることができる、シガレットロッド CRはセパレータドラム 12の上流に隣接する溝付きドラム（図示しな、)カもセパレータドラム 12に供給される。シガレットロッド CRはシガレット 2本分の長さを有し、セパレータドラム 12に受け取られたときには既に等分に切断され、 2本のシガレット Cとして分離した状態にある。なお、シガレットロッド CRの切断は、セパレータドラム 12に隣接した上流の溝付きドラム上にて実施され、この溝付きドラムは切断ドラムとして称されて、る。

[0021] セパレータドラム 12が回転されたとき、セパレータドラム 12は受取ったシガレットロッド CR、つまり、 2本のシガレット Cを移送し、この移送過程にて、これらシガレットま（図 1及び図 2中の P位置にて、互いに離れる方向に分離される。この後、 2本のシガレット Cはセパレータドラム 12からトランスファドラム 14を経てホッパドラム 16の 1つの溝に受け取られ、このホッパドラム 16上を移送される。

[0022] 一方、ホッパドラム 16には別のアツパドラム列が接続されており、このアツパドラム列とホッパドラム 16との接続位置は、ホッパドラム 16の回転方向でみて、ホッパドラム 16 とトランスファドラム 14との間の-ップ位置よりも上流に位置付けられている。アツパドラム列はその終端に溝付きドラム 22を有し、この溝付きドラム 24は、 P位置にてフィ

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ルタプラグ FPを受取り、受取ったフィルタプラグ FPをホッパドラム 16に向けて移送し、そして、ホッパドラム 16の前記溝に供給する。それ故、ホッパドラム 16の溝は先ず、フィルタプラグ FPを受け取った後、トランスファドラム 14から 2本のシガレット Cを受け取り、この際、これらシガレット Cはフィルタプラグ FPの両側にそれぞれ配置される。

[0023] この後、 2本のシガレット C及びフィルタプラグ FPがホッパドラム 16上を移送されるとき、 2本のシガレット Cはフィルタプラグ FPの両端に向けて移動される。シガレット C及びフィルタプラグ FPが P位置に到達したとき、これらシガレット及びプラグは各シガレ

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ット Cがフィルタプラグ FPの対応する端にそれぞれ密着したダブルフィルタシガレットの中間品 Iを形成する。

[0024] 一方、ホッパドラム 16の近傍にはサクシヨンドラム 24が配置されている。このサクションドラム 24及び溝付きドラム 22はホッパドラム 16の直径方向に互いに離れ、ホッパドラム 16とは逆向きに回転される。

[0025] サクシヨンドラム 24からはぺーパウェブ PWのための走行経路が延びており、この走行経路はウェブロールに接続されている。走行経路の途中にはフィードローラュ-ット 26が配置されており、フィードローラユニット 26は、ウェブロールからぺーパウェブ PWを繰り出し、そして、繰り出したぺーパウェブ PWを走行経路に沿いサクシヨンドラム 24にまで供給する。

[0026] 更に、走行経路には第 1実施例の塗布装置 28が配置され、この塗布装置 28はフィードローラユニット 26とサクシヨンドラム 24との間に位置付けられている。塗布装置 28 はぺーパウェブ PWの片面 (裏面）に糊を塗布し、所望のパターンの塗布域を形成する。塗布装置 28の詳細は後述する。

[0027] サクシヨンドラム 24の回転中、サクシヨンドラム 24に到達したぺーパウェブ PWはその表面がサクシヨンドラム 24に吸着され、そして、ホッパドラム 16に向けて供給される。サクシヨンドラム 24の近傍にはナイフドラム 30が配置され、ナイフドラム 30はサクシヨンドラム 24とは逆向きに回転される。ナイフドラム 30はその外周面に複数のナイフ（図示しない）を有し、これらナイフはドラム 30の周方向に等間隔を存して配置されている。ぺーパウェブ PWがサクシヨンドラム 24とナイフドラム 30との間を通過するとき、ナイフドラム 30のナイフは、サクシヨンドラム 24上のぺーパウェブ PWを間欠的に切断し、これにより、サクシヨンドラム 24上に個々のチップぺーパ TPが形成される。

[0028] この後、チップぺーパ TPはサクシヨンドラム 24からホッパドラム 16に向けて供給され、ホッパドラム 16上の P位置にて、前述した中間品 Iに接着される。詳しくは、チップぺーパ TPの供給方向でみて、チップぺーパ TPの前端が中間品 Iの中央部に貼付けられる。この時点での中間品 Iはフラッグ付き中間品と称され、フラッグ付き中間品 I は、ローリングドラム 18に向けて更に移送される。

[0029] 図 1に示されているように、ローリングドラム 18とホッパドラム 16との間には板状の口一リングハンド 32が配置されており、ローリングハンド 32及びローリングドラム 18は互いに協働して、フラッグ付き中間品 Iのためのローリング通路を形成する。

[0030] フラッグ付き中間品 Iがホッパドラム 16からローリングドラム 18の溝に受け取られ、そして、ローリングドラム 18上を移送されるとき、フラッグ付き中間品 Iはローリング通路内に直ちに進入する。この後、フラッグ付き中間品 Iがローリング通路内を通過する過程にて、中間品 Iはローリングノヽンド 32との摩擦接触により、ローリングドラム 18の溝内にて、自身の軸線回り回転する。このようなフラッグ付き中間品 Iの回転は、フラッグ、即ち、チップぺーパ TPを中間品 Iに卷付けさせる。それ故、中間品 Iがローリング通路カも抜け出た P位置にあるとき、中間品 Iはダブルフィルタシガレット DFCとして形

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成される。ダブルフィルタシガレット DFCは、 2本のシガレット Cと、これらシガレット間に挟まれたフィルタプラグ FPと、シガレット及びフィルタプラグを互いに連結するチップぺーパ TPとを含む。

[0031] この後、ダブルフィルタシガレット DFCは、ローリングドラム 18力もインスペクションドラム 20に乗り移り、そして、インスペクションドラム 20上を移送される。インスペクションドラム 20はロータリナイフ 34を有する。インスペクションドラム 20上のダブルフィルタシガレット DFCがロータリナイフ 34を通過するとき、ロータリナイフ 34はダブルフィルタシガレット DFCを等分に切断し、ダブルフィルタシガレット DFCから 2本、即ち、左右のフィルタシガレット FCが形成される。

[0032] インスペクションドラム 20は、ダブルフィルタシガレット DFC及びフィルタシガレット F Cの外観や、フィルタシガレット FCのベンチレーシヨンの割合等を検査し、この後、左右のフィルタシガレット FCを次の反転ドラム（図示しない）に供給する。反転ドラムは、左右のフィルタシガレット FCのうちの一方の姿勢を反転させて、左右のフィルタシガレット FCの向きを揃え、この後、これらフィルタシガレット FCをベルトコンベア（図示しない）に送出する。 [0033] 図 3は前述した第 1実施例の塗布装置 28を具体的に示す。

塗布装置 28は糊ポッド 40を含む。糊ポッド 40は箱形状をなし、開口した上面を有する。糊ポッド 40は取り出しローラ 42を備え、この取り出しローラ 42はローラ軸 44を有する。ローラ軸 44の両端は糊ポッド 40の両側壁に軸受 45を介して回転自在に支持されている。取り出しローラ 42は糊ポッド 40の両側壁間に亘つて延び、図 3から明らかなように、取り出しローラ 42は糊ポッド 40内に位置付けられた下半分と、糊ポッド 40から上方に突出した上半分とを有する。

[0034] 更に、糊ポッド 40はその底壁に仕切壁 46を有する。この仕切壁 46は取り出しローラ 42の直下に位置付けられ、取り出しローラ 42と同様に糊ポッド 40の両側壁間に亘つて延びている。仕切壁 46及び取り出しローラ 42の下半分は互いに協働して、糊ポッド 40の内部を 2つの室に区画する。図 3でみて左側の室は糊を蓄えた糊リザーバ 4 8として形成され、右側の室は取り出し室 49として形成されて、る。

[0035] 取り出しローラ 42は円滑な外周面を有し、この外周面と仕切壁 46との間には所定のギャップが確保されている。それ故、取り出しローラ 42が図 3でみて反時計方向に回転されているとき、取り出しローラ 42の外周面は糊リザーバ 48内の糊内にー且没入した後、糊リザーバ 48から取り出し室 49内に出たとき、取り出しローラ 42の外周面上に糊層 GLが形成される。このようにして糊リザーノ 8から糊が取り出され、糊層 G Lは前述したギャップに相当する厚みを有する。

[0036] 図 3から明らかなように、取り出しローラ 42の直上には転写ローラ 50が配置されて V、る。転写ローラ 50は前述した走行経路上のぺーパウェブ PWと取り出しローラ 42との間に位置付けられ、取り出しローラ 42の外周面に転接している。転写ローラ 50は取り出しローラ 42の周速と同一の周速にて回転し、転写ローラ 50の回転方向は取り出しローラ 42の回転方向とは逆向きである。このため、図 4に示されるように、転写口ーラ 50及び取り出しローラ 42のローラ軸 52, 44にはギヤ 54, 56がそれぞれ取り付けられており、これらギヤ 54, 56は互いに嚙み合っている。取り出しローラ 42のローラ軸 44は回転力を受け取り、一方向、即ち、図 3でみて反時計方向に回転される。

[0037] 図 4から明らかなように、転写ローラ 50はローラ軸 52の軸線方向に沿う幅を有し、転写ローラ 50の幅は取り出しローラ 42の幅と同一である。転写ローラ 50の外周面には一対の溝パターン GP及び細!、センタリブ 58が形成され、センタリブ 58は転写ローラ 50の外周面力も僅かに突出する。センタリブ 58は転写ローラ 50の中心、即ち、一対の溝パターン GP間に位置付けられ、転写ローラ 50の全周に亘つて延びて、る。それ故、一対の溝パター GPは転写ローラ 50の幅方向、即ち、転写ローラ 50の左右にセンタリブ 58により隔てられている。

[0038] 図 5から明らかなように各溝パターン GPは、転写ローラ 50の周方向に連続する無端状の左右のサイド溝 60と、これらサイド溝 60間を互いに接続する複数のクロス溝 6 2とを含み、これらクロス溝 62は転写ローラ 50の周方向に等間隔を存して配置されている。換言すれば、各溝パターン GPは、転写ローラ 50の全周に亘つて延びる周溝と、この周溝の幅方向でみて、周溝の中央に位置付けられた複数のランド 64とを含み、これらランド 64は転写ローラ 50の周方向に等間隔を存して配置されている。左右の溝パターン GPのクロス溝 62は転写ローラ 50の周方向に同一の回転位相で分布され、サイド溝 60と同一の深さを有する。具体的には、サイド溝 60及びクロス溝 62の深さは 15〜30 πιである。

[0039] 更に詳しくは、転写ローラ 50の幅方向に関して、各溝パターン GPの両側縁は外側のサイド溝 60の側壁、並びに内側のサイド壁 60の側壁及びセンタリブ 58により閉じられている。図 5に示されるように、センタリブ 58を含む一対の溝パターン GPの幅 W はぺーパウェブ PWの幅よりも若干狭いか、又は、ぺーパウェブ PWの幅に一致する

[0040] 上述した一対の溝パターン GPを備えた転写ローラ 50が取り出しローラ 42に転接するとき、取り出しローラ 42上の糊層 GLは、転写ローラ 50と取り出しローラ 42との間に挟まれる。それ故、糊層 GLの一部の糊が転写ローラ 50の各溝パターン GP内にそれぞれ受け取られ、図 5に示されるように転写ローラ 50の外周面に一対の溝パターン G Ρに一致した一対の糊の転写パターン GTが形成される。

[0041] より詳しくは、図 6に示されるように転写ローラ 50が取り出しローラ 42との間に糊層 G Lを挟み込みながれら取り出しローラ 42に転接するとき、溝パターン GPの領域内に含まれる糊層 GLの糊は転写ローラ 50の溝パターン GPの底面側と取り出しローラ 42 の外周面側とにそれぞれ引き裂かれ、そして、溝パターン GP内に残った糊が転写口ーラ 50の外周面に転写パターン GTとして形成される。なお、図 6中、参照符号 OG は、糊層 GLの糊のうち、転写ローラ 50を通過できない糊の溜まりを示し、参照符号 G Rは取り出しローラ 42の外周面に残った糊を示す。

[0042] 再度、図 3を参照すれば、転写ローラ 50の上方にはプレスローラ 66が配置されており、前述した走行経路上のぺーパウェブ PWはプレスローラ 66及び転写ローラ 50 間に挟まれている。図 3中、参照符号 68は走行経路を形成するためのガイドローラを示し、ガイドローラ 68は、転写ローラ 50よりも上流に位置付けられ、回転自在に配置されている。

[0043] プレスローラ 66はローラ軸 70を有し、このローラ軸 70の両端はローラホルダ 72に軸受を介して回転自在に支持されている。ローラホルダ 72はブラケット 74に複数のねじ 76により取付けられている。ブラケット 74は支持軸 78に回動自在に支持され、この支持軸 78は塗布装置 28のフレーム（図示しない）に取り付けられている。従って、ブラケット 74は支持軸 78の回りに回動することができ、このようなブラケット 74の回動はプレスローラ 66を揺動運動させ、この結果、プレスローラ 66は転写ローラ 50に対して接触する方向及び転写ローラ 50から離れる方向に移動することができる。

[0044] 図 7を参照すればより明らかなように、支持軸 78にはリンク 80の基端が取り付けられており、このリンク 80はブラケット 74に重ね合わされた状態で、ブラケット 74に連結ねじ 82により結合されている。それ故、ブラケット 74はリンク 80と一体にして回動する

[0045] 図 3に示されているように、リンク 80にはエアシリンダ 94が連結されている。つまり、エアシリンダ 94はピストンロッド 96を有し、このピストンロッド 96の先端がリンク 80の先端に回動自在に連結されている。更に、エアシリンダ 94は取り付けブラケット 98に回動自在に支持され、取り付けブラケット 98は塗布装置 29のフレームに取り付けられている。このフレームは図 7中 1点鎖線で示され、この一点鎖線には参照符号 92が付されている。

[0046] 図 3に示されたエアシリンダ 94は作動位置にある。この作動位置からエアシリンダ 9 4が伸長されたとき、エアシリンダ 94はリンク 80、即ち、ブラケット 74をプレスローラ 66 とともに支持軸 78の回りに回動させ、これにより、プレスローラ 66は図 3でみて反時計方向に揺動し、 2点鎖線で示す待避位置まで移動する。それ故、プレスローラ 66は転写ローラ 50から離れる。

[0047] 更に、図 3に示されているようにブラケット 74には、ぺーパウェブ PWのためのリフトガイド 100が取付けられており、このリフトガイド 100はプレスローラ 66と一緒に揺動する。リフトガイド 100は一対のガイドローラ 102, 104を有し、これらガイドローラ 102 , 104はぺーパウェブ PWの走行方向でみて転写ローラ 50の上流にて位置付けられ、前記走行方向に互いに離間している。ぺーパウェブ PWはガイドローラ 102, 104 に案内されながら、転写ローラ 50に向けて導かれている。

[0048] プレスローラ 66が作動位置にあるとき、ガイドローラ 102, 104を通過したぺーパゥエブ PWは、図 8中 2点鎖線で示されるように転写ローラ 50の外周面に正接するような走行経路を有し、接点 CPにて転写ローラ 50の外周面に接触する。

[0049] 一方、エアシリンダ 94が収縮されたとき、前述したようにプレスローラ 66は転写ローラ 60から離れた待避位置に移動し、また同時に、リフトガイド 100もまた図 3中、 2点鎖線で示す休止位置まで上昇される。休止位置にあるリフトガイド 100は、ぺーパゥエブ PWの走行経路を 2点鎖線で示すように転写ローラ 50の上方に移動させ、これにより、ぺーパウェブ PWはプレスローラ 66と同様に、転写ローラ 50の外周面から離れる。

[0050] 図 7は、プレスローラ 66の構造をより具体的に示す。プレスローラ 66は 2重構造を有し、ローラ軸 70に回転自在に取り付けられたローラコア 105と、このローラコア 105 の外周面を覆うチューブ状のァウタシェル 106とを含む。ァウタシェル 106は弾性変形可能な材料から形成され、ァウタシェル 106の厚さは前述した転写ローラ 50における溝パターン GPの深さよりも十分に大き、。

[0051] プレスローラ 66が図 3の作動位置にあるとき、プレスローラ 66は、このプレスローラ 6 6と転写ローラ 50との間にぺーパウェブ PWを挟み込んで転写ローラ 50の外周面に対し、所定の力で押し付けられる。それ故、図 8に示されるように、プレスローラ 66のァウタシヱル 106は弾性変形し、ァウタシヱル 106の外周面に凹み 108が形成される。この凹み 108は転写ローラ 50の外周面に沿う円弧状の内面を有する。それ故、図 8 中の実線で示されるようにぺーパウェブ PWはァウタシェル 106の凹み 108と転写口ーラ 50の外周面との間に挟み込まれる。

[0052] 図 8から明らかなように、凹み 108はぺーパウェブ PWの走行方向でみて、前述した接点 CPよりも上流側に位置付けられており、この第 1実施例の場合、凹み 108の下流端は接点 CPに合致している。凹み 108の位置付けは、図 3から明らかなようにブラケット 74の支持軸 78、即ち、回動中心がぺーパウェブ PWの走行経路よりも転写口ーラ 50側、即ち、下方に配置されていることにより達成される。

[0053] ァウタシェル 106に上述した凹み 108が形成されたとき、図 9に示されるように凹み 108の内面の一部はぺーパウェブ PWとともに転写ローラ 50の一対の溝パターン GP 内に填り込み、ぺーパウェブ PWはこれら溝パターン GP内の糊に押し付けられた状態で接触する。それ故、溝パターン GP内の糊に着目すれば、糊が斑模様になっていても、即ち、糊の厚みが不均一であっても、糊に対してぺーパウェブ PWが押付けられることで、糊の斑模様は解消され、糊は一様に均される。この結果、一対の溝パターン GP内の糊がぺーパウェブ PWに塗布されたとき、塗布された糊の厚みもまた均一となる。

[0054] 更に、各溝パターン GPは、転写ローラ 50の周方向に開ヽて、るものの、転写ローラ 50の幅方向に関しては閉じた形状を有するので、ぺーパウェブ PWが糊に押し付けられたとき、糊が溝パターン GPから転写ローラ 60の幅方向に食出ることはない。この結果、図 10に示されるようにぺーパウェブ PWには溝パターン GP (転写パターン G T)に従って糊が正確且つ確実に塗布され、各溝パターン GPに対応した糊の塗布域 GAがそれぞれ形成される。

[0055] 前述したように溝パターン GPが 15〜30 μ mの深さを有している場合、ァウタシェル 106は 45〜55Hs(JIS A)程度の硬度を有し、そして、転写ローラ 50に対するプレス口ーラ 66のプレス力は約 30N以上であるのが望ましぐこれにより、溝パターン GP内にぺーパウェブ PWとともにァウタシェル 106を確実に填め込ませることができる。

[0056] 図 10から明らかなように、ぺーパウェブ PWに一対の塗布域 GAが形成された後、ぺーパウェブ PWの非塗布域は、ぺーパウェブ PWの中央、即ち、一対の糊塗布域 GA間をぺーパウェブ PWの長手方向に延びるドライゾーン Dc (糊の非塗布域）と、各塗布域 GA内に位置付けられたドライゾーン Dvとを含み、これらドライゾーン Dvはぺーパウェブ PWの長手方向に等間隔を存して配置されている。更に、この第 1実施例の場合、非塗布域は、ぺーパウェブ PWの両側縁にもドライゾーン Dsをそれぞれ有する。これらドライゾーン Dsは、図 9から明らかなようにセンタリブ 58を含む一対の溝パターン GPの幅 Wがぺーパウェブ PWの幅よりも若干狭いときに形成されるが、必要不可欠なものではな、。

[0057] 前述の説明力既に明らかなように、ドライゾーン Dc, Dvは転写ローラ 50のセンタリブ 58及びランド 64によりそれぞれ形成される。

[0058] より詳しくは、前述したようにダブルフィルタシガレット DFCがロータリナイフ 34 (図 1 参照）により切断されるとき、この切断位置はぺーパウェブ PWのドライゾーン Dcに位置付けられる。それ故、ぺーパウェブ PWの切断時、ロータリナイフ 34への糊の付着が確実に避けられる。

[0059] 一方、図 11に示されるようにフィルタシガレット FCがそのチップぺーパ TPに穿孔域 PLを有する場合、ぺーパウェブ PWには 2列の穿孔域 PLが予め形成され、これら穿孔域 PLはぺーパウェブ PWの長手方向に等間隔を存して配置されている（図 10参照）。ぺーパウェブ PWからチップぺーパ TPが形成されたとき、各チップぺーパ TPには穿孔域 PLが 1個ずつ割り当てられる。

[0060] 上述したドライゾーン Dcは各穿孔域 PLのそれぞれオーバラップし、ドライゾーン Dv 内に穿孔域 PLを位置付けるべく形成されて、る。前述したようにぺーパウェブ PWには溝パターン GPに従、糊が正確に塗布されるので、塗布域 GAからドライゾーン Dv 内に糊が食出すことはなぐそれ故、穿孔域 PLの一部が糊で塞がれることはないので、フィルタシガレット FCの喫煙時、チップぺーパ TPの穿孔域 PLを通じてフィルタチップ FT内に空気が確実に導入され、フィルタシガレット FCのベンチレーシヨンの割合を所望の値に正確に維持可能となる。なお、図 10及び図 11に示された穿孔域 PL は 1つの穿孔列で示されて、るが、複数の穿孔列を含んで!/、てもよ!/、。

[0061] 前述したように一対の塗布域 GAは均一な厚さの糊層を有しているので、ぺーパゥエブ PWから形成されたチップぺーノは前述した中間品 Iに確実に接着される。つまり、チップぺーパ TPは中間品 Iに対する初期接着力を十分に有し、これにより、フラグ付き中間品 Iが安定して形成される。 [0062] この後、チップぺーパ TPは中間品 Iに卷付けられながら、中間品 Iの外周面に確実に接着されるので、中間品 Iへのチップぺーパ TPの卷付けが安定する。この結果、チップぺーパ TPの卷付け不良に起因したフィルタシガレット FCの不良品の発生は大きく低減される。

[0063] フィルタシガレット FCの製造機の運転が一時停止状態にあるとき、塗布装置 28はそのエアシリンダ 94が伸長された準備状態、即ち、プレスローラ 66が転写ローラ 50 力も離れた待避位置に位置付けられ、且つ、リフトガイド 100もまた前述した休止位置に位置付けられた状態にある。

[0064] 一方、製造機の運転が停止されて!、ても、塗布装置 28の取り出しローラ 42及び転写ローラ 50は共に回転され、走行経路上のぺーパウェブ PWは図 3中の 2点鎖線で示されるように転写ローラ 50から上方に離れ、この状態で、ぺーパウェブ PWの走行は停止されている。

[0065] 上述の状態力製造機の運転が再開され、ぺーパウェブ PWの走行が開始されたとき、塗布装置 28のエアシリンダ 94は収縮される。それ故、リフトガイド 100は転写口ーラ 50側の作動位置に下降し、ぺーパウェブ PWを転写ローラ 50の接点 CPにて接触させる。同時に、プレスローラ 66はぺーパウェブ PWを介して転写ローラ 50に転接し、プレスローラ 66のァウタシェル 106はその弾性変形により、ぺーパウェブ PWとともに転写ローラ 50の溝パターン GP内に填め込まれ、ぺーパウェブ PWに糊が塗布される。このとき、ァウタシェル 106の凹み 108 (図 8参照）は転写ローラ 50上の接点 CP よりも上流側に位置付けられるので、糊が塗布されたぺーパウェブ PWは接点 CPを通過すると直ちに、溝パターン GPへの填め込みが速やかに解除され、転写ローラ 5 0の外周面から円滑に離れ、前述したサクシヨンドラム 24に向力うことができる。この結果、塗布装置 28の作動開始後、転写ローラ 50へのぺーパウェブ PWの卷付けが確実に防止され、塗布装置 28の作動は安定して開始される。

[0066] 本発明は上述した第 1実施例に制約されるものではなく種々の変形が可能である。

例えば、図 12は第 2実施例の塗布装置 28を示す。

[0067] 図 12の塗布装置 28は、取り出しローラ 42を兼用する転写ローラ 50を含み、転写口ーラ 50の下半分は糊ポッド 40の糊リザーバ 48内に浸けられている。それ故、転写口ーラ 50の外周面は糊リザーバ 48内の糊を直接に受け取り、転写ローラ 50の外周面が糊リザーバ 48から抜け出たとき、転写ローラ 50の外周面には一対の溝パターン G P内に糊が満たされた状態で糊層が形成される。

[0068] 第 2実施例の場合、塗布装置 28はスクレーバローラ 110を更に含み、このスクレーパローラ 110は糊ポッド 40の取り出し室 49に配置され、転写ローラ 50の外周面に転接されている。転写ローラ 50の外周面に付着した糊層がスクレーバローラ 110を通過したとき、転写ローラ 50の外周面上の糊層は転写ローラ 50から除去され、一対の溝パターン GP内の糊はその一部が溝パターン GP内に残され、糊の残部はスクレーパローラ 110の外周面に乗り移る（図 8参照）。

[0069] この後、ぺーパウェブ PWが転写ローラ 50とプレスローラ 66との間を通過するとき、一対の溝パターン GP力ぺーパウェブ PWに糊が同様にして塗布され、ぺーパゥェブ PWに一対の塗布域 GAが同様にして形成される。

[0070] 図 13は第 3実施例の塗布装置 28を示す。

第 3実施例の塗布装置 28は、転写ローラ 50に転接するスクレーバローラ 110と、これらローラ 50, 110間の-ップの上方に配置された供給ノズル 112とを含む。供給ノズル 112は前記-ップに向けて糊を吐出し、吐出された糊は転写ローラ 50とスクレーパローラ 110との間に糊リザーノ 8としての糊溜まり Xを形成する。転写ローラ 50及びスクレーバローラ 110は互いに協働して、転写ローラ 50の一対の溝パターン GP内に糊を供給し、この結果、これら溝パターン GPからぺーパウェブ PWに糊が塗布され、ぺーパウェブ PWに一対の塗布域 GAが同様にして形成される。

[0071] 図 12及び図 13の塗布装置の場合にも、プレスローラ 66の凹所 108が転写ローラ 5 0上の接点 CPよりも上流側に位置付けられることは言うまでもない。

[0072] プレスローラ 66及びリフトガイド 100は、転写ローラ 50に向力う方向及び転写ローラ 50から離れる方向に互いに独立して移動することもできる。この場合、この場合、塗布装置 28の作動が開始されるとき、先ず、リフトガイド 100が転写ローラ 50の外周面上の接点 CPにてぺーパウェブ PWを接触させるベく移動し、この後、プレスローラ 66 がぺーパウェブ PWを介して転写ローラ 50に押し付けられるべく移動するのが好ましい。逆に、塗布装置 28の作動が停止されるときには、先ずプレスローラ 50が転写口ーラ 50から離れるべく移動し、この後、リフトガイド 100が転写ローラ 50からぺーパゥエブ PWを離すべく移動するのが好まし!/、。

本発明の塗布装置は、チップぺーパを形成するぺーパウェブに糊を塗布するものに限らず、種々の用途のウェブに対して糊を塗布するために使用でき、転写ローラの溝パターンもまた図示のパターンに制約されるものではない。

Claims

請求の範囲

[1] 走行経路に沿って走行するウェブに糊を塗布するための装置は、

回転可能な転写ローラであって、前記走行経路上の前記ウェブに接点にて接触する外周面と、この外周面に形成され、前記ウェブに形成すべき糊の塗布域に対応した溝パターンを有する、転写ローラと、

前記転写ローラの溝パターン内に糊を供給する糊フィーダであって、前記転写ローラに転接する外周面を有した接触ローラと、この接触ローラの外周面及び前記転写口ーラの前記外周面の少なくとも一方を部分的に糊内に浸けさせる糊リザーバとを含む、糊フィーダと、

前記走行経路の近傍に回転自在に配置され、前記走行経路上の前記ウェブを前記転写ローラの外周面に押し付けるためのプレスローラであって、このプレスローラはその外周面を形成し且つ弾性変形可能なァウタシェルを有し、前記プレスローラが前記ウェブを介して前記転写ローラに押し付けられたとき、前記ァウタシェル及び前記ウェブは前記転写ローラの前記溝パターン内に填り込む。

[2] 請求項 1の装置において、

前記溝パターンは、前記転写ローラの幅方向に関し、閉じた形状を有する。

[3] 請求項 1の装置において、

前記プレスローラが前記ウェブを介して前記転写ローラに押し付けられたとき、前記ァウタシェルは、前記プレスローラの外周面に沿って円弧状に凹んだ凹みを有し、前記ウェブの走行方向でみて、前記凹みは前記プレスローラの前記接点によりも上流に位置付けられる。

[4] 請求項 3の装置において、

前記ウェブの走行方向でみて、前記凹みの上流端は前記接点に一致する。

[5] 請求項 3の装置において、

前記装置は、前記転写ローラに対して前記プレスローラを押し付ける方向及び前記転写ローラ力前記プレスローラを離す方向に移動させる移動手段を更に含む。

[6] 請求項 5の装置において、

前記移動手段は、支持軸と、この支持軸に回動可能に支持された基端及び前記プレスローラを備えた先端とを有するブラケットと、このブラケットを回動させるァクチユエ一タとを含む。

[7] 請求項 6の装置において、

前記装置は、前記転写ローラ力前記ウェブを離すための分離手段を更に含み、前記分離手段は、前記ブラケットに取り付けられ、前記ウェブの走行を案内するガイドを有する。

[8] 請求項 3の装置において、

前記糊フィーダは、前記糊リザーバを有する糊ポッドを更に含み、

前記接触ローラは取り出しローラとして、前記糊リザーバ内の糊中に部分的に浸けられ、前記取り出しローラはその外周面に糊を層状に付着させた状態で、前記糊リザーバから糊を取り出す。

[9] 請求項 3の装置において、

前記転写ローラは、前記糊リザーバ内の糊中に部分的に浸けられ、その外周面に糊を層状に付着させた状態で、前記糊リザーバから糊を取り出し、

前記接触ローラは、前記転写ローラにスクレーバローラとして転接する。

[10] 請求項 3の装置において、

前記糊フィーダは、前記転接ローラと前記接触ローラとの間の二ップに向けて糊を吐出し、これらローラ間に前記糊リザーバとしての糊溜まりを形成するノズルを更に含む。