WO2006006677A1 - 荷重センサ及びその製造方法 - Google Patents

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WO2006006677A1
WO2006006677A1 PCT/JP2005/013072 JP2005013072W WO2006006677A1 WO 2006006677 A1 WO2006006677 A1 WO 2006006677A1 JP 2005013072 W JP2005013072 W JP 2005013072W WO 2006006677 A1 WO2006006677 A1 WO 2006006677A1
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WO
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sensor
sensor plate
strain
plate
load
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PCT/JP2005/013072
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English (en)
French (fr)
Inventor
Daiji Uehara
Yasushi Yamamoto
Toshio Honma
Original Assignee
Nagano Keiki Co., Ltd.
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Publication date
Application filed by Nagano Keiki Co., Ltd. filed Critical Nagano Keiki Co., Ltd.
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Priority to EP05760115A priority patent/EP1788371A1/en
Priority to JP2006529156A priority patent/JPWO2006006677A1/ja
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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01LMEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
    • G01L1/00Measuring force or stress, in general
    • G01L1/04Measuring force or stress, in general by measuring elastic deformation of gauges, e.g. of springs
    • G01L1/044Measuring force or stress, in general by measuring elastic deformation of gauges, e.g. of springs of leaf springs
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01LMEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
    • G01L1/00Measuring force or stress, in general
    • G01L1/20Measuring force or stress, in general by measuring variations in ohmic resistance of solid materials or of electrically-conductive fluids; by making use of electrokinetic cells, i.e. liquid-containing cells wherein an electrical potential is produced or varied upon the application of stress
    • G01L1/22Measuring force or stress, in general by measuring variations in ohmic resistance of solid materials or of electrically-conductive fluids; by making use of electrokinetic cells, i.e. liquid-containing cells wherein an electrical potential is produced or varied upon the application of stress using resistance strain gauges
    • G01L1/2206Special supports with preselected places to mount the resistance strain gauges; Mounting of supports
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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    • Y10T29/49Method of mechanical manufacture
    • Y10T29/49002Electrical device making
    • Y10T29/49082Resistor making
    • Y10T29/49103Strain gauge making

Definitions

  • the present invention relates to a load sensor for detecting a strain applied to a measurement object by detecting the distortion of a member that is distorted in accordance with the deformation of the measurement object, converting it into an electric signal, and the load sensor. It relates to a manufacturing method.
  • a load sensor including a strain body attached to a measurement object and a strain gauge attached to the strain body and converting the strain into an electric signal.
  • the strain of the strain generating body generated according to the amount of displacement of the measurement object is directly detected by a strain gauge.
  • parallel beams whose upper and lower surfaces are parallel to each other are used as a strain generating body.
  • the parallel beam has through-holes on the inside, and two thin and stress-concentrated portions are formed on the upper and lower sides of the parallel beam.
  • strain gauges used for such a load sensor are formed by providing a metal resistance to a resin film such as polyimide epoxy. These strain gauges are adhered and fixed to the stress concentration portion of the strain generating body with an adhesive.
  • multiple strain gauges are placed at opposite positions in order to correct the offset load error caused by a load applied from a direction other than the axial direction to be measured. It was arranged.
  • Patent Document 1 JP 54-116983 A
  • Patent Document 1 has the following problems.
  • the grease-based adhesive used for pasting has low moisture resistance, so that a phenomenon such as lifting of the strain gauge occurs over time, and there is a difficulty in reliability. It was.
  • the adhesive strain gauge has a low gauge factor (the gauge factor is about 2).
  • the gauge factor is about 2.
  • a parallel beam as a strain generating body was formed long or thin. For this reason, it was difficult to form a load sensor in a compact manner, and the force and manufacturing cost were high.
  • the present invention has been made in view of such problems, and provides a load sensor that is compact and secures high reliability and quality, and has a low cost, and a method for manufacturing the same. Objective.
  • the sensor plate in order to solve the above-mentioned problem, in a load sensor including a thin plate-shaped sensor plate and a plurality of strain gauges attached to the sensor plate, the sensor plate has a uniaxial direction. Both ends serve as fixed parts for fixing the sensor plate to an arbitrary object, while the center point serves as a transmission part for transmitting displacement or load to the sensor plate, and the strain gauge is used as the center point. They are arranged at point-symmetrical positions, strain gauges arranged at point-symmetrical positions are electrically connected in parallel or in series to form a gauge pair, and each gauge pair is electrically connected A load sensor connected in series and configured with a bridge circuit with these strain gauges was adopted.
  • the load sensor includes a strain generating body having a recess that is attached to a measurement object and is displaced according to a deformation amount of the measurement object.
  • the sensor plate is arranged so that the direction crosses the recess, and the fixing portion is fixed to the strain body, and a transmission portion that protrudes toward the center point of the sensor plate is formed in the recess. The displacement of the strain generating body is transmitted to the sensor plate via the transmission portion.
  • a plurality of recesses are formed on one side of the sensor plate with respect to the center line of the sensor plate.
  • the center line force is formed at every predetermined distance so as to be symmetric, and the other side of the sensor plate is distorted in the recess provided in the symmetrical position at the same distance of the center line force.
  • a gauge was placed.
  • a mark indicating a center line that forms the center of the sensor plate in the uniaxial direction is formed on the sensor plate, and the center line is formed on one surface side of the sensor plate.
  • a stress concentrating part with a thin plate thickness is provided by forming a concave part at a symmetrical position.
  • the stress concentration is determined by determining the distance to the mark and the direction with respect to the mark on the surface opposite to the surface where the concave portion is formed. Make sure to place it at the position of the part.
  • the above strain sensor is characterized in that the strain gauge is composed of a semiconductor silicon thin film.
  • the present invention includes a thin sensor plate and a plurality of strain gauges attached to the sensor plate, and the sensor bullet is in the uniaxial direction. Both ends of the sensor are fixed parts that fix the sensor plate to an arbitrary object, while the center point of the sensor is a transmission part that transmits displacement or load to the sensor plate.
  • a plurality of sensor plates arranged vertically and horizontally on a single substrate, and thin and connecting pieces for connecting the sensor plates to each other are obtained by performing etching once on a single substrate.
  • a sensor plate group is formed, and a mark indicating a center line located at the center of each sensor plate in the uniaxial direction is formed by the etching.
  • a concave portion is formed on one surface side of the sensor plate at a position symmetric with respect to the center line to provide a stress concentration portion having a thin plate thickness, and then the distance and direction to the mark are determined to determine the center.
  • a semiconductor silicon thin film is formed on each of the sensor plates forming the sensor plate group so that the strain gauges are arranged at positions of the stress concentration portions with respect to the points, and then the sensor plates The load sensor manufacturing method that separates the two is adopted.
  • the load sensor as the object is attached to the measurement object, and is displaced according to the amount of deformation of the measurement object.
  • body The load sensor is provided separately from the sensor plate, and in the present invention, the sensor plate separated from each other is arranged such that the uniaxial direction of the sensor plate crosses the recess.
  • a load sensor is manufactured by fixing both ends of the uniaxial direction of the sensor plate to the strain body.
  • the strain gauges are arranged on the sensor plate and connected to each other as described above, so that measurement errors can be reduced. Further, since a thin plate is used as a sensor plate provided with a strain gauge, it can be made compact. Further, since the sensor plate is formed of a member different from the strain body, it can be manufactured separately, and the manufacturing cost can be reduced. Furthermore, a high output can be obtained while being compact.
  • strain gauges are arranged in a specific position direction with respect to the reference, variation in characteristics can be reduced and the yield can be improved. As a result, cost can be reduced. If a plurality of strain gauges are arranged in the same recess, the fluctuation of the strain gauge characteristics can be reduced, and the error due to temperature can also be reduced.
  • the load is measured by a load sensor that is applied to the present invention, the load can be measured with high accuracy.
  • FIG. 1 is a diagram schematically showing a load sensor that is applied to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a plan view of the sensor plate.
  • FIG. 3 is a side view of the sensor plate shown in FIG.
  • FIG. 4 is a plan view of a sensor plate in which strain gauges are arranged in another manner on the sensor plate shown in FIGS. 2 and 3.
  • FIG. 5 is a side view of the sensor plate shown in FIG.
  • FIG. 6 is a plan view of a sensor plate in which strain gauges are arranged in another manner.
  • FIG. 7 is a plan view of a sensor plate provided with a strain gauge in another mode.
  • FIG. 8 is a plan view of a sensor plate that is used in another embodiment.
  • FIG. 9 is a circuit diagram of a bridge circuit formed by a strain gauge.
  • FIG. 10 is a circuit diagram of a bridge circuit that works in another embodiment.
  • FIG. 11 is a diagram schematically showing a load sensor that is applied to an embodiment different from the load sensor shown in FIG. 1.
  • FIG. 12 is a plan view of a sensor plate used in the load sensor shown in FIG.
  • FIG. 13 is a plan view of a sensor plate that is applied to another embodiment different from the sensor plate shown in FIG.
  • FIG. 14 is a top view of the sensor plate group.
  • FIG. 15 is a bottom view of the sensor plate group.
  • FIG. 16 is a perspective view of a sensor plate provided with a strain gauge by a film forming process.
  • FIG. 17 is a side view of a sensor plate whose center is distorted upward in the Z-axis direction.
  • FIG. 18 A plan view of the sensor plate with the center portion in the Y-axis direction.
  • FIG. 19 is an explanatory diagram of the direction of each axis.
  • FIG. 1 is a longitudinal sectional view schematically showing the internal structure of a load sensor that is applied to an embodiment of the present invention.
  • the load sensor includes a strain body 1 attached to a measurement object, and a flat sensor plate 5 connected to the strain body 1.
  • the strain body 1 is formed of a thick plate material, and the periphery thereof is formed in a rectangular shape.
  • a recess 2 is formed which is recessed toward the lower surface side at a position entering the inner side from the periphery.
  • a transmission rod 4 extending upward from the bottom surface of the recess 2 is formed integrally with the strain body 1 at the central portion C of the strain body 1.
  • a mounting portion 3 is formed on the lower surface of the strain body 1 so as to protrude downward at the center C of the strain body 1. This attachment part 3 is a part used when attaching the load sensor to the measurement object.
  • the sensor plate 5 is a member in which a thin plate material is formed in a rectangular shape.
  • the sensor plate 5 is arranged on the upper surface of the strain body 1 so as to cross the recess 2 of the strain body 1, and both ends 5 a and 5 a in the major axis direction (X-axis direction) are edges of the recess 2. It is fixed to the part 2a by welding and joined to the strain body 1.
  • a through hole 6 penetrating the thickness of the sensor plate 5 is formed in the center portion C of the sensor plate 5. The leading end of the transmission rod 4 extending from the bottom of the recess 2 is inserted into the through hole 6.
  • concave grooves 7, 8, 9, and 10 are formed at four locations in the major axis direction (X-axis direction) as recesses extending in the minor axis direction (Y-axis direction). ing. These concave grooves 7, 8, 9, and 10 are arranged at positions that are line-symmetrical with respect to the center line CL that passes through the center portion C and extends in the minor axis direction (Y-axis direction). It is formed by etching simultaneously with the formation. By forming these concave grooves 7, 8, 9, 10 to reduce the plate thickness, stress concentration occurs, and these four locations function as stress concentration portions 11, 12, 13, 14.
  • the strain gauges 21a to 21d and 22a to 22d are respectively formed on the upper surface opposite to the lower surface on which the concave grooves 7, 8, 9, and 10 are formed. Two are provided.
  • the strain gauges 21a to 21d and 22a to 22d are elements that convert strain generated in the sensor plate 5 into electric signals.
  • each of the strain gauges 21a to 21d, 22a to 22d has its axial direction aligned with the long axis direction (X-axis direction) of the sensor plate 5, and each stress concentrating portion 11, 12, 13, 14 Are provided respectively.
  • each of the strain gauges 21a to 21d and 22a to 22d has a stress concentrating portion 11, which is line symmetric with respect to the center line CL passing through the center portion C of the sensor plate 5. 12, 13, 1 and 4, respectively.
  • the strain gauge 21a and the strain gauge 21d provided on the two stress concentration portions 11 and 14 located outside the center line CL are respectively arranged at positions that are point-symmetric with respect to the center portion C.
  • the strain gauges 22b and 22c provided in the two stress concentration parts 12 and 13 located inside the center line CL are arranged so as to be point-symmetric with respect to the center part C. Has been.
  • the strain gauges 21a to 21d, 22a to 22d are point-symmetrical with respect to the central portion C and are accurately disposed at the positions of the stress concentration portions 11, 12, 13, and 14.
  • the through-hole 6 provided in the central portion C is used as a mark. That is, the strain gauges 21a to 21d and 22a to 22d are positioned by determining the distance to the through hole 6 and the direction with respect to the through hole 6 using the through hole 6 as a mark.
  • the stress concentration portion and the strain gauges 21a to 21d and 22a to 22d are arranged in a manner that is symmetrical with respect to the central portion, as shown in FIGS. Not limited.
  • FIGS. 4 to 7 show another embodiment of the strain gauges 21a to 21d and 22a to 22d on the sensor plate 5. Each one is shown.
  • the structure of the sensor plate 5 shown in FIGS. 4 to 7 is the same as that of the sensor plate 5 shown in FIGS. 2 and 3, and is a concave groove 7 as a concave portion extending in the minor axis direction (Y-axis direction). 8, 9, and 10 are formed at four locations in the long axis direction (X-axis direction).
  • These concave grooves 7, 8, 9, and 10 are arranged at positions that are line-symmetric with respect to the center line CL that passes through the center portion C and extends in the minor axis direction (Y-axis direction).
  • two concave grooves 7, 8, 9, 10 are formed on each side of the major axis direction (X-axis direction) with the center line CL as a boundary. Further, a through hole 6 that penetrates the thickness direction of the sensor plate 5 is formed in the center portion C. These concave grooves 7, 8, 9, 10 are also formed by etching simultaneously with the formation of the through holes 6. In this way, stress concentration occurs in the sensor plate 5 by forming the concave grooves 7, 8, 9, 10 to reduce the plate thickness, and these four locations are the stress concentration portions 11, 12, 13. , 14 functions.
  • strain gauges 21a to 21b are formed on the upper surface of the concave grooves 7, 8, 9, 10 corresponding to the concave grooves 8, 9 on the side close to the central portion C.
  • 21d, 22a to 22d forces S are arranged 4 each.
  • the sensor plate 5 shown in FIGS. 4 and 5 has a stress concentration portion corresponding to the position of the groove 8 so as to be point-symmetric with respect to the strain gauge 21a to 21d, 22a to 22d force center portion C. 12 is provided with strain gauges 21a, 21b, 22a, 22b, and the stress concentration portion 13 corresponding to the concave groove 9 is provided with strain gauges 21c, 21d, 22c, 22d.
  • the two strain gauges 21a, 21b, 22a, 22b provided in the stress concentrating portion 12 the two strain gauges 21a, 21b arranged on the outer side in the short axis direction (Y-axis direction) Is aligned with the minor axis direction (Y-axis direction) of sensor plate 5.
  • the two strain gauges 22a and 22b arranged on the inner side in the short axis direction (Y-axis direction) have the same axial direction as the major axis direction (X-axis direction).
  • the two strain gauges 21c, 21d, 22c, 22d provided in the stress concentration portion 13 are aligned in the short axis direction (Y-axis direction), and the two strain gauges 22c and 22d arranged on the inner side are aligned in the long axis direction.
  • strain gauge 21a to 21d and 22a to 22d By arranging the strain gauges 21a to 21d and 22a to 22d in this way, four pairs of strain gauges arranged at point-symmetrical positions with respect to the central portion C are formed. That is, strain gauge 21a And the strain gauge 21d, the strain gauge 21b and the strain gauge 21c, the strain gauge 22a and the strain gauge 22d, and the strain gauge 22b and the strain gauge 22c are point-symmetric with respect to the center C.
  • FIG. 6 shows a sensor plate 5 in which strain gauges are arranged in another manner.
  • two strain gauges have their axial directions in the short axis direction (Y axis direction) on the center side in the short axis direction (Y axis direction).
  • Two other strain gauges are arranged in the major axis direction (X-axis direction) on the outside of these strain gauges with respect to the minor axis direction (Y-axis direction). It is arranged towards.
  • strain gauges 21a, 21b, 22a, and 22b are provided in the stress concentration portion 12 corresponding to the position of the concave groove 8, and the strain gauge 13 is provided in the stress concentration portion 13 corresponding to the concave groove 9.
  • 21c, 21d, 22c, 22d are provided.
  • the two strain gauges 21a and 21b arranged inside the minor axis direction are arranged in the minor axis direction (Y axis direction) of the sensor plate 5. Matched.
  • the two strain gauges 22a and 22b arranged outside the minor axis direction have the same axial direction as the major axis direction (X-axis direction).
  • the two strain gauges 21c and 21d arranged on the inner side in the short axis direction are aligned with the short-axis direction (Y-axis direction).
  • the two strain gauges 22c and 22d arranged in the axis are aligned in the major axis direction.
  • strain gauges 21a to 21d and 22a to 22d By arranging the strain gauges 21a to 21d and 22a to 22d in this way, four pairs of strain gauges arranged at point-symmetrical positions with respect to the central portion C are formed. That is, the strain gauge 21a and the strain gauge 21d, the strain gauge 21b and the strain gauge 21c, the strain gauge 22a and the strain gauge 22d, and the strain gauge 22b and the strain gauge 22c are point-symmetric with respect to the center C.
  • a strain gauge is arranged in another manner on the sensor plate 5 shown in FIG.
  • the four strain gauges draw a square in the stress concentration portion 12 and the stress concentration portion 13 corresponding to the positions of the concave groove 8 and the concave groove 9, respectively. Are each arranged! RU
  • strain gauges 21a, 21b, 22a, 22b arranged in the stress concentration portion 12 two strains Gage 21a, 21b force The axes are oriented in the minor axis direction (Y-axis direction) and are arranged parallel to each other. In addition, by connecting both ends of these strain gauges 21a and 21b, the two strain gauges 22a and 22b are oriented in the major axis direction (X-axis direction) and parallel to each other. Arranged.
  • the strain gauge 21a and the strain gauge 21d, the strain gauge 21b and the strain gauge 21c, the strain gauge 22a and the strain gauge 22d, and the strain gauge 22b and the strain gauge 22c Each point is symmetrical with respect to the force center C.
  • the two concave grooves 7, 8, and the concave grooves 9, 10 are formed on one side in the long axis direction (X-axis direction).
  • the stress concentrated portion may be provided by forming three or more concave grooves on one side, which is not limited to this. Absent.
  • the strain gauges 21a to 21d and 22a to 22d in the examples shown in FIGS.
  • the strain gauges 21a to 21d, 22a to 22d are provided, but if provided so as to be symmetric with respect to the center line CL, strain gauges 11 and 14 separated from the center line CL force may be provided. If three or more stress concentration portions are provided on one side, the center line CL force is counted, and strain gauges 21a to 21d and 22a to 22d may be provided on the stress concentration portion outside the third.
  • one groove is formed on each side in the major axis direction (X-axis direction) of the sensor plate so as to be symmetric with respect to the center line CL. You may provide them one by one.
  • FIG. 8 shows that the stress concentration portions 34 and 35 are provided at only two locations in the major axis direction (X-axis direction) of the sensor plate 30, and four strain gauges 21a to 21d and 22a to A mode in which 22d is provided is shown.
  • the stress concentration portions 34 and 35 provided on the sensor plate 30 are provided at two locations that are symmetrical with respect to the center line CL with respect to the long axis direction (X-axis direction).
  • These stress concentration portions 34 and 35 are also provided by forming concave grooves 32 and 33 extending in the short axis direction (Y-axis direction) on the lower surface of the sensor plate 30 and reducing the thickness of the sensor plate 30 respectively. Yes.
  • the short The two strain gauges 21a and 21b arranged on the outer side in the axial direction (Y-axis direction) are aligned with the short-axis direction (Y-axis direction) of the sensor plate 30.
  • the two strain gauges 22a and 22b arranged on the inner side in the short axis direction (Y-axis direction) have the same axial direction as the major axis direction (X-axis direction).
  • the two strain gauges 21c, 2 Id, 22c, and 22d provided in the stress concentration portion 35, the two strain gauges 21c and 21d disposed outside the minor axis direction (Y-axis direction) The direction is aligned with the short axis direction (Y-axis direction), and the two strain gauges 22c and 22d arranged inside are aligned with the long-axis direction (X-axis direction).
  • the strain gauges 21a to 21d and 22a to 22d are also arranged so as to be point-symmetric with respect to the central portion C. ing.
  • the strain gauge 21a of the stress concentration portion 34 and the strain gauge 21d of the stress concentration portion 35 are point-symmetric with respect to the center portion C.
  • the strain gauge 22b of the stress concentration portion 34 and the strain gauge 22c of the stress concentration portion 35 are point-symmetric with respect to the center portion C.
  • the sensor plate 30 can also be used when the strain gauges 21a to 21d and 22a to 22d are arranged in the above-described manner shown in FIGS.
  • strain gauges 21a to 21d and 22a to 22d are all formed of a semiconductor silicon thin film using a CVD method or a sputtering method.
  • strain gauges 21a to 21d and 22a to 22d are connected to each other as shown in FIG. 9 to form a bridge circuit.
  • bridge circuit shown in FIG. 9 two strain gauges arranged at point-symmetrical positions with respect to the central portion C are electrically connected in parallel to form four gauge pairs.
  • the strain gauge 21a and the strain gauge 21d arranged on the outside, and the set of the strain gauge 21b and the strain gauge 21c are each configured as a gauge pair, and the strain gauge arranged on the inner side.
  • a pair of 22a and strain gauge 22d, and a pair of strain gauge 22b and strain gauge 22c are each configured as a gauge pair.
  • the gauge bays are connected to each other in series to form a closed circuit.
  • the set of strain gauges 21a, 21d and the set of strain gauges 21b, 21c arranged on the outside are arranged at positions facing each other, and the yarns of the strain gauges 22a, 22d arranged on the inside
  • the strain gauges 22b and 22c are arranged at positions facing each other.
  • a gauge pair consisting of gauges 22a and 22d is connected to a power source Vin, and a voltage is applied to the bridge circuit.
  • the gauge pair that also includes the strain gauges 21a and 21d and the gauge pair that includes the strain gauges 22a and 22d and the gauge pair that includes the strain gauges 21b and 21c, and the pair of strain gauges 22b and 22c.
  • the space between the gauge pair is used as an output terminal.
  • strain gauges arranged at point-symmetric positions are connected in parallel, but they may be connected in series as shown in FIG.
  • the strain gauge 21a and the strain gauge 2 Id arranged on the outside are connected in series, and the strain gauge 21b and the strain gauge 21c are connected in series.
  • the strain gauge 22a and the strain gauge 22d arranged on the inner side are connected in series, and the strain gauge 22b and the strain gauge 22c are connected in series.
  • the force between strain gauges connected in series is configured as a gauge pair.
  • the position where the voltage is applied and the position where the signal output terminal is provided are the same as those in the bridge circuit shown in FIG.
  • FIG. 11 and FIG. It may be configured as shown.
  • the strain body 1 and the sensor plate 5 are not joined at the center, but are separated from each other.
  • a recess 6A is formed in the central portion C, and at the same time, concave grooves 7, 8, 9, 10 are formed on the back surface by etching.
  • a transmission rod 4 A that protrudes from the bottom surface of the recess 2 toward the sensor plate 5 is formed at the center C position. The upper end of the transmission rod 4A is not joined to the sensor plate 5, but is only in contact with the lower surface of the sensor plate 5.
  • the recess 6A formed on the upper surface of the sensor plate 5 serves as a mark when the strain gauge is arranged. That is, the strain gauge is accurately positioned with respect to the concave grooves 7, 8, 9, 10 on the back surface by forming the recess 6 A as a mark.
  • the mark for positioning the strain gauge is not limited to one provided at one location in the center C.
  • small triangular recesses 6B and 6B are provided at both ends of the sensor plate 5 on the center line CL passing through the center portion C and extending in the short axis direction.
  • the recesses 6B and 6B function as marks that serve as a reference for positioning the strain gauge.
  • the load sensor having the above-described configuration is manufactured as follows.
  • FIG. 14 and 15 show the process of manufacturing the sensor plate 5, FIG. 14 shows the front surface of the substrate 40, and FIG. 15 shows the back surface of the substrate 40.
  • the sensor plate 5 is divided by a frame portion 40a at the peripheral edge of the substrate 40 and central ribs 43 and 43 extending in the vertical and horizontal directions, respectively, by etching force from both sides of the single substrate 40. Formed in four areas.
  • a stainless plate having a high elastic modulus is used as the substrate 40. Further, the substrate 40 is polished in advance prior to the etching force, and the surface of the substrate 40 (surface on which strain gauges are formed) is mirror-finished.
  • a plurality of sensor plates 5 are formed in each region so as to be arranged vertically and horizontally. Further, in this etching cache, thin connecting pieces 42 extending in the short axis direction (Y-axis direction) of these sensor plates 5 are simultaneously formed, and each sensor blade 5 is connected in the short-axis direction (Y-axis direction).
  • the sensor plates 5 are connected to each other by connecting pieces 42 as shown in FIG.
  • the connecting direction is not limited to the short-axis direction (Y-axis direction), but may be connected to the long-axis direction (X-axis direction). Moreover, you may connect in both directions.
  • the through hole 6 penetrating the plate thickness direction is formed at the center of each sensor plate 5 by performing etching from both sides.
  • concave grooves 7, 8, 9 and 10 extending in the short axis direction (Y-axis direction) are formed on the back side of each sensor plate 5 at the same time as the through-holes 6 at four locations.
  • the concave grooves 7, 8, 9, and 10 formed at each position of each sensor plate 5 are the same extending in the minor axis direction (Y-axis direction) at that position. Each is formed on a straight line.
  • the etching force is formed from a single substrate 40 to form a sensor plate group 41 having a plurality of sensor plates 5.
  • each sensor plate 5 is etched from both sides of a single substrate 40, thereby forming its outer shape, forming the through hole 6 in the central portion C, and stress concentration portions 11, 12, 13, The concave grooves 7, 8, 9, 10 forming 14 are formed in one process.
  • the recess 6A or the recess 6B is formed by this etching process.
  • the outer shape of the sensor plate 5, the through hole 6 formed in the central portion C, and the concave grooves 7, 8, 9, 10 formed on one surface side of the sensor plate 5 are formed by etching. However, it is not limited to this, and it may be formed by laser processing. When laser processing is performed, it is sufficient to form the outer shape, the through-hole 6 and the concave grooves 7, 8, 9, 10 on the one surface side of the sensor plate 5 where the concave grooves 7, 8, 9, 10 are formed.
  • a silicon oxide thin film 50 is formed on each sensor plate 5 constituting the sensor plate group 41 by the CVD method.
  • the formed silicon oxide thin film 50 electrically insulates the sensor plate 5 from the strain gauges 21a to 21d and 22a to 22d.
  • a semiconductor silicon thin film is formed on the entire surface of each sensor plate 5 by the CVD method.
  • the strain gauge pattern 51 is formed by etching, and the positioning is performed with reference to the through-hole 6 already formed with the above-described etching force. That is, the distance and direction with respect to the formed through hole 6 are determined in advance so as to overlap the concave grooves 7, 8, 9, and 10 forming the stress concentration portion. It is done exactly at the position of the part.
  • a gold thin film 52 for wiring and electrode extraction is deposited.
  • a silicon nitride thin film 53 for protecting the strain gauge is formed by the CVD method.
  • a sensor plate group 4 composed of a plurality of sensor plates 5 is provided.
  • Batch processing is performed on 1 to form a film on a plurality of sensor plates 5 at a time.
  • the connecting piece 42 that connects the sensor plates 5 to each other is cut.
  • individual sensor plates 5 are formed.
  • a cut saw or the like may be used for the cutting.
  • the sensor plate 5 provided with the strain gauges 21a to 21d, 22a to 22d is joined to the strain generating body 1 thereafter, and formed as a load sensor having the structure shown in FIG.
  • the load sensor When a load acts on a measurement object (not shown) and the measurement object is deformed, the load sensor has a displacement in the direction of the arrow in FIG. 1 from the mounting portion 3 provided on the lower surface of the strain body 1. Is transmitted from. This displacement coincides with the axial direction in which the transmission rod 4 extends. When this displacement is transmitted to the strain body 1 via the mounting portion 3, the center portion C of the strain body 1 is displaced up and down relatively with respect to the periphery. Further, the displacement of the strain body 1 is transmitted to the central portion C of the sensor plate 5 via the transmission rod 4.
  • Both ends of the sensor plate 5 in the major axis direction are joined to the strain body 1 at the edge 2a of the recess 2 of the strain body 1, while the center portion C is Since it is joined to the transmission rod 4, the sensor plate 5 functions as a fixed beam at both ends. For this reason, it is displaced up and down relatively with respect to the center portion C force both ends 5a to which the displacement is transmitted by the transmission rod 4. For example, when the central portion C of the strain body 1 is displaced upward, this displacement is transmitted to the central portion C of the sensor plate 5 through the transmission rod 4, and as shown in FIG. The central part C of the center is displaced upward relative to both end parts 5a (Z-axis direction in Fig. 17).
  • the strain generated by this displacement is generated intensively in the stress concentration portions 11, 12, 13, and 14.
  • compressive strain is generated on the upper surfaces of the outer stress concentration portions 11 and 14, and tensile strain is generated on the upper surfaces of the inner stress concentration portions 12 and 13.
  • the strain gauges 21a to 21d and 22a to 22d arranged as shown in FIG. 2 and FIG. 3 have a negative resistance value change.
  • the strain gauges 22a to 22d arranged on the inner side have a positive resistance value change.
  • a potential difference is generated in the pledge circuit shown in FIG. 9, and by measuring this as an output voltage (Vout), the displacement of the measurement object can be measured.
  • the deformation model will be described in a simplified manner.
  • the X axis coincides with the major axis direction of the sensor plate 5
  • the Y axis coincides with the minor axis direction.
  • the clockwise direction of the sensor plate 5 is set to 0 plus (see Fig. 19).
  • the sensor plate 5 when a load is applied to the sensor plate 5 in the Y-axis direction, the sensor plate 5 stagnate in the direction of the central force load and bends as a whole.
  • the resistance values of the strain gauges 21a to 21d and 22a to 22d change as follows.
  • strain gauges 21a-21d, 22a-22d which are point-symmetric, are connected in parallel to form a gauge pair, strain gauges 21a, 21d, strain gauges 22a, 22d, strain gauges 22c, 22b
  • the change in resistance value cancels each other and becomes “0”. Therefore, no output voltage is generated, and Vout is “0”.
  • strain gauges 21a to 21d and 22a to 22d provided on the sensor plate 5 are arranged so as to be point-symmetric with respect to the central portion C. This is because when a load is applied in a direction other than the target direction (Z-axis direction) to be measured, resistance values having different polarities are generated in the strain gauges 2 la to 21d and 22a to 22d. And since each strain gauge 21a-21d, 22a-22d is connected in parallel, it is because the change of both resistance value mutually cancels.

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Abstract

 コンパクトで高い信頼性及び品質を確保しつつ、しかも低コストな荷重センサ及びその製造方法を提供する。このために、薄板状のセンサプレート5、このセンサプレート5に取り付けられた複数の歪みゲージ21a~22dとを具備する荷重センサに関し、前記センサプレート5の一軸方向の両端を任意の対象物に固定させる固定部とする一方で、その中心点Cが変位乃至荷重をこのセンサプレート5に伝達せしめる伝達部とする。そして、前記歪みゲージ21a~22dを前記中心点Cに対して点対称となる位置に配置すると共に、点対称となる位置に配された歪みゲージ21a~22d同士を電気的に並列又は直列に接続してゲージペアを構成し、さらに、各ゲージペア同士を電気的に直列に接続して、これら歪みゲージ21a~22dでブリッジ回路を構成する。

Description

明 細 書
荷重センサ及びその製造方法
技術分野
[0001] 本発明は、測定対象物の変形に応じて歪む部材の歪みを歪みゲージで検知し、こ れを電気信号に変換して測定対象物に付加された荷重を測定する荷重センサ及び その製造方法に関する。
背景技術
[0002] 従来から、測定対象物に取り付けられる起歪体と、この起歪体に取り付けられ、その 歪みを電気信号に変換する歪みゲージとを具備する荷重センサが知られて 、る。こ の従来の荷重センサは、例えば、特許文献 1に示すように、測定対象物の変位量に 応じて発生する起歪体の歪みを、直接歪みゲージで検知していた。この特許文献 1 に開示の荷重センサでは、起歪体として上下面が相互に平行をなす平行梁が使用さ れている。平行梁にはその内側に貫通孔が形成され、平行梁の上側と下側とに肉厚 の薄 、応力集中部がそれぞれ 2ケ所ずつ形成されて 、る。
[0003] 一方、このような荷重センサに使用される歪みゲージは、ポリイミドゃエポキシ等の 榭脂フィルムに金属抵抗を設けて構成されたものが多く使用されている。そして、こ れら歪みゲージは接着剤により起歪体の応力集中部へ貼り付けて固定されている。 また、これら従来力も使用されている荷重センサでは、測定したい軸方向以外の方 向から作用付加された荷重により発生する偏荷重誤差を補正するために、複数の歪 みゲージを、相対する位置に配置していた。
特許文献 1:特開昭 54— 116983号公報
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0004] しかし、上記特許文献 1に代表される従来の荷重センサには、つぎのような問題点 かあつた。
[0005] 第 1に、平行梁の応力集中部へ歪みゲージを貼り付ける際に、設計した位置からず れた位置に貼り付けられてしまうことが多々あった。ずれた位置に貼り付けられると、 歪みゲージ力も出力される信号特性がばらつき、正確な偏荷重誤差補正ができなく なる。
[0006] 第 2に、貼り付けに使用する榭脂系等の接着剤は耐湿性が低ぐこのため、時間の 経過と共に歪みゲージの浮き上がり等の現象が発生し、信頼性にも難点があった。
[0007] 第 3に、貼り付けタイプの歪みゲージはゲージ率が低!、(ゲージ率は 2程度)。大き な出力を得るために、起歪体としての平行梁を長く形成するか、肉厚を薄く形成して いた。このため、荷重センサをコンパクトに形成することが困難で、し力も、製造コスト もかかっていた。
[0008] 本発明は、このような問題点に鑑みてなされたものであり、コンパクトで高い信頼性 及び品質を確保しつつ、し力も低コストな荷重センサ及びその製造方法を提供するこ とを目的とする。
課題を解決するための手段
[0009] 本発明では、上記課題を解決するために、薄板状のセンサプレートと、このセンサ プレートに取り付けられた複数の歪みゲージとを具備する荷重センサにおいて、前記 センサプレートは、その一軸方向の両端が、このセンサプレートを任意の対象物に固 定させる固定部となされる一方で、その中心点が変位乃至荷重をこのセンサプレート に伝達せしめる伝達部となされ、前記歪みゲージを前記中心点に対して点対称とな る位置に配置すると共に、点対称となる位置に配された歪みゲージ同士を電気的に 並列又は直列に接続してゲージペアを構成し、さらに、各ゲージペア同士を電気的 に直列に接続して、これら歪みゲージでブリッジ回路を構成した荷重センサを採用し た。
[0010] また、本発明では上記荷重センサにおいて、測定対象物に取り付けられて、該測 定対象物の変形量に応じて変位する、凹所の形成された起歪体を具備し、前記一軸 方向が前記凹所を横断するよう前記センサプレートが配されて前記固定部がこの起 歪体に固定され、前記凹所には、前記センサプレートの中心点に向けて突出する伝 達部が形成され、前記起歪体の変位がこの伝達部を介して前記センサプレートに伝 達されるように構成した。
[0011] 前記センサプレートの一面側に、複数の凹部をこのセンサプレートの中心線に対し て対称となるよう、前記中心線力 所定の距離毎に形成し、このセンサプレートの他 面側に、これら凹部のうち前記中心線力 等距離にある対称となる位置に設けられた 凹部に歪みゲージを配した。
[0012] また、本発明では上記の荷重センサにおいて、前記センサプレートに、前記一軸方 向に関する前記センサプレートの中心をなす中心線を示す目印を形成し、このセン サプレートの一面側に前記中心線に対して対称となる位置に凹部を形成して板厚の 薄く形成した応力集中部を設けている。
[0013] この場合にお 、て、本発明では前記歪ゲージを、前記凹部の形成された面と逆側 の面にて、前記目印までの距離と目印に対する方向を決定することにより前記応力 集中部の位置に配置させるようにして 、る。
[0014] そして、本発明では以上の荷重センサについて、前記歪みゲージを半導体珪素薄 膜で構成したことを特徴として!/、る。
[0015] その一方で、本発明では上記課題を解決するために、薄板状のセンサプレートと、 このセンサプレートに取り付けられた複数の歪みゲージとを具備し、前記センサブレ ートは、その一軸方向の両端が、このセンサプレートを任意の対象物に固定させる固 定部となされる一方で、その中心点が変位乃至荷重をこのセンサプレートに伝達せし める伝達部となされる荷重センサの製造方法であって、一枚の基板に対して一度の エッチングを行うことで、前記基板に、縦横に配列された複数の前記センサプレートと 、これらセンサプレートを相互に連結する細 、連結片とを具備するセンサプレート群 を形成し、し力も、前記エッチングで各センサプレートの前記一軸方向の中心に位置 する中心線を示す目印をそれぞれ形成すると共に、各センサプレートの一面側に前 記中心線に対して対称となる位置に凹部を形成して板厚の薄い応力集中部を設け、 次いで、前記目印までの距離及び方向を決定することで、前記中心点に対して点対 称であって前記応力集中部の位置に前記歪ゲージが配置されるように、前記センサ プレート群をなす前記センサプレートに半導体珪素薄膜をそれぞれ形成し、その後、 これらセンサプレートを相互に分離する荷重センサの製造方法を採用した。
[0016] そして、上記製造方法に関し、その対象となる前記荷重センサは、測定対象物に取 り付けられて、該測定対象物の変形量に応じて変位する、凹所の形成された起歪体 を前記センサプレートとは別体として設けられた荷重センサであって、本発明では、さ らに、相互に分離された前記センサプレートの前記一軸方向が前記凹所を横断する ようにして、前記センサプレートの前記一軸方向の両端を前記起歪体に固定すること で荷重センサを製造することを特徴とする。
発明の効果
[0017] 本発明によれば、センサプレートに上記のように歪みゲージを配置すると共に相互 に接続するので、測定誤差の低減を図れる。また、歪みゲージの設けられるセンサプ レートとして薄板を採用するので、コンパクトに形成できる。また、センサプレートを起 歪体とは別部材で形成するので、それぞれ別個に製作でき、製造コストを低減できる 。さらに、コンパクトでありながら、高い出力を得ることが可能となる。
[0018] また、歪みゲージを基準に対して特定の位置 '方向に配置することから、特性のば らっきを低減できしカゝも歩留まりを向上させる。その結果、コストダウンも併せて図るこ とができる。なお、複数の歪みゲージを同一の凹部に配置すれば、それぞれの歪み ゲージ特性のノ ラツキを小さくでき、よって、温度による誤差をも小さくできる。
[0019] そして、本発明に力かる荷重センサで荷重を測定すれば、高 、精度で荷重を測定 できる。
[0020] 一方、本発明の製造方法では、製造コストのダウンと効率ィ匕を同時に図ることがで きる。
図面の簡単な説明
[0021] [図 1]本発明の一実施形態に力かる荷重センサを模式的に示した図。
[図 2]センサプレートの平面図。
[図 3]図 2に示すセンサプレートの側面図。
[図 4]図 2及び図 3に示すセンサプレートに、別の態様で歪みゲージを配したセンサ プレートの平面図。
[図 5]図 4に示すセンサプレートの側面図。
[図 6]別の態様で歪みゲージを配したセンサプレートの平面図。
[図 7]さらに、別の態様で歪みゲージを配したセンサプレートの平面図。
[図 8]別の実施形態に力かるセンサプレートの平面図。 [図 9]歪みゲージにより形成されたブリッジ回路の回路図。
[図 10]別の実施形態に力かるブリッジ回路の回路図。
[図 11]図 1に示す荷重センサとは別の実施形態に力かる荷重センサを模式的に示し た図。
[図 12]図 7に示す荷重センサに使用されるセンサプレートの平面図。
[図 13]図 8に示すセンサプレートとは別の実施形態に力かるセンサプレートの平面図
[図 14]センサプレート群の上面図。
[図 15]センサプレート群の下面図。
[図 16]成膜工程により歪みゲージが設けられたセンサプレートの斜視図。
[図 17]中心部が Z軸方向の上方に歪んだセンサプレートの側面図。
[図 18]中央部が Y軸方向に橈んだセンサプレートの平面図。
[図 19]各軸の方向の説明図。
符号の説明
1 起歪体
2 凹所
3 取付部
4. 4A 伝達ロッド (伝達部材)
5 センサプレート
6 貫通孔(目印)
6A, 6B 窪み(目印)
7. 8, 9, 10 · ·凹溝
11, 12 応力集中部
13, 14 応力集中部
21a〜21d','歪みゲージ
22a〜22d','歪みゲージ
30 センサプレート
31 貫通孔 32, 33 凹溝
34, 35 応力集中部
40 基板
41 センサプレート群
42 連結片
50 酸化珪素薄膜
51 歪みゲージパターン
52 金薄膜
53 窒化珪素薄膜
発明を実施するための最良の形態
[0023] 以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。
[0024] 図 1は、本発明の一実施形態に力かる荷重センサの内部構造を模式的に示した縦 断面図である。荷重センサは、測定対象物に取り付けられる起歪体 1と、この起歪体 1に接続される平板状のセンサプレート 5とを備えて 、る。
[0025] 起歪体 1は、厚肉の板材により構成され、その周縁が矩形状に形成されている。こ の起歪体 1の上面には、周縁から内側に入り込んだ位置に下面側に向けて窪ませた 凹所 2が形成されている。そして、起歪体 1の中心部 Cには、この凹所 2の底面から上 方に向けて延びる伝達ロッド 4が起歪体 1と一体に形成されている。一方、起歪体 1の 下面には、起歪体 1の中心部 Cにて、下方に向けて突出する取付部 3が形成されて いる。この取付部 3は、測定対象物に当該荷重センサを取り付ける際に使用される部 位である。
[0026] センサプレート 5は、薄板材が長方形に形成された部材である。センサプレート 5は 、起歪体 1の凹所 2を横断するようにして起歪体 1の上面に配置され、その長軸方向( X軸方向)の両端部 5a, 5aが凹所 2の縁部 2aに溶接により固定され、起歪体 1に接 合される。一方、センサプレート 5の中心部 Cにはセンサプレート 5の板厚を貫く貫通 孔 6が形成されている。この貫通孔 6には、凹所 2の底部から延びる伝達ロッド 4の先 端が挿入される。そして、挿入された伝達ロッド 4の先端がセンサプレート 5に溶接さ れて、この中心部 Cでも起歪体 1とセンサプレート 5とが接合される。 [0027] かかるセンサプレート 5の下面には、短軸方向(Y軸方向)に延びる凹部としての凹 溝 7, 8, 9, 10がその長軸方向(X軸方向)の 4ケ所に形成されている。これら凹溝 7, 8, 9, 10は、中心部 Cを通り、短軸方向(Y軸方向)に延びる中心線 CLに対して線対 称となる位置にそれぞれ配置されており、貫通孔 6形成と同時にエッチングにより形 成される。この凹溝 7, 8, 9, 10を形成して板厚を薄くすることで、応力の集中が生じ 、この 4ケ所が応力集中部 11, 12, 13, 14として機能する。
[0028] そして、この応力集中部 11, 12, 13, 14では、凹溝 7, 8, 9, 10の形成された下面 とは逆側の上面に歪みゲージ 21a〜21d, 22a〜22dがそれぞれ 2つずつ設けられ ている。この歪みゲージ 21a〜21d, 22a〜22dは、センサプレート 5に生ずる歪みを 電気信号に変換する素子である。この実施形態では、各歪みゲージ 21a〜21d, 22 a〜22dは、その軸方向がセンサプレート 5の長軸方向(X軸方向)に一致されて各応 力集中部 11, 12, 13, 14にそれぞれ設けられている。
[0029] また、各歪みゲージ 21a〜21d, 22a〜22dは、図 2に示すように、センサプレート 5 の中心部 Cを通る中心線 CLに対して線対称となるように応力集中部 11, 12, 13, 1 4にそれぞれ設けられている。例えば、中心線 CLに対して外側に位置する 2つの応 力集中部 11, 14にそれぞれ設けられた歪みゲージ 21aと歪みゲージ 21dとは、中心 部 Cに対して点対称となる位置にそれぞれ配置されている。同様に、中心線 CLに対 して内側に位置する 2つの応力集中部 12, 13にそれぞれ設けられた歪みゲージ 22 bと歪みゲージ 22cとは中心部 Cに対して点対称となるように配置されている。
[0030] このように、歪ゲージ 21a〜21d, 22a〜22dを、中心部 Cに対して点対称、かつ、 応力集中部 11, 12, 13, 14の位置に正確に配置するために、この荷重センサでは 、中心部 Cに設けられた貫通孔 6を目印としている。即ち、貫通孔 6を目印として、貫 通孔 6までの距離、及び貫通孔 6に対する方向を決定して歪ゲージ 21a〜21d, 22a 〜22dを位置決めしている。
[0031] なお、応力集中部及び歪みゲージ 21a〜21d, 22a〜22dの配置は、中心部じに 対して点対称となるように設ける態様であれば、図 2及び図 3に示す態様には限定さ れない。
[0032] 図 4〜図 7は、センサプレート 5に別の態様で歪みゲージ 21a〜21d, 22a〜22dを 配したものをそれぞれ示している。なお、これら図 4〜図 7に示すセンサプレート 5の 構造は、図 2及び図 3に示すセンサプレート 5と同様であって、短軸方向(Y軸方向) に延びる凹部としての凹溝 7, 8, 9, 10がその長軸方向(X軸方向)の 4ケ所に形成さ れている。これら凹溝 7, 8, 9, 10は、中心部 Cを通り、短軸方向(Y軸方向)に延び る中心線 CLに対して線対称となる位置にそれぞれ配置されている。即ち、凹溝 7, 8 , 9, 10は、中心線 CLを境に、長軸方向(X軸方向)の片側にそれぞれ 2つずつ形成 されている。また、中心部 Cには、センサプレート 5の厚み方向を貫通する貫通孔 6が 形成されている。これら凹溝 7, 8, 9, 10も、貫通孔 6の形成と同時にエッチングによ り形成される。このように、当該センサプレート 5についても、凹溝 7, 8, 9, 10を形成 して板厚を薄くすることで、応力の集中が生じ、この 4ケ所が応力集中部 11, 12, 13 , 14として機能する。
[0033] そして、図 4〜図 7に示すものは、凹溝 7, 8, 9, 10のうち中心部 Cに近い側の凹溝 8, 9に対応する位置の上面に、歪みゲージ 21a〜21d, 22a〜22d力 Sそれぞれ 4つ ずつ配置される。
[0034] 図 4及び図 5に示すセンサプレート 5には、歪みゲージ 21a〜21d, 22a〜22d力 中心部 Cに対して点対称となるように、凹溝 8の位置に対応する応力集中部 12には、 歪みゲージ 21a, 21b, 22a, 22b力設けられ、凹溝 9に対応する応力集中部 13には 、歪みゲージ 21c, 21d, 22c, 22d力設けられている。
[0035] 応力集中部 12に設けられた歪みゲージ 21a, 21b, 22a, 22bについては、短軸方 向(Y軸方向)の外側に配された 2つの歪みゲージ 21a, 21bは、その軸方向がセン サプレート 5の短軸方向(Y軸方向)に一致されている。一方、短軸方向(Y軸方向) の内側に配された 2つの歪みゲージ 22a, 22bは、その軸方向が長軸方向(X軸方向 )に一致されている。同様に、応力集中部 13に設けられた歪みゲージ 21c, 21d, 22 c, 22dについても、短軸方向(Y軸方向)の外側に配された 2つの歪みゲージ 21c, 21dは、その軸方向が短軸方向(Y軸方向)に一致され、内側に配された 2つの歪み ゲージ 22c, 22dはその軸方向が長軸方向に一致されて 、る。
[0036] このように歪みゲージ 21a〜21d, 22a〜22dが配されることで、中心部 Cに対して 、点対称の位置に配された歪みゲージの対が 4対形成される。即ち、歪みゲージ 21a と歪みゲージ 21d、歪みゲージ 21bと歪みゲージ 21c、歪みゲージ 22aと歪みゲージ 22d、並びに歪みゲージ 22bと歪みゲージ 22cとは、中心部 Cに対してそれぞれ点 対称となる。
[0037] 図 6は、センサプレート 5に別の態様で歪みゲージを配置したものを示している。
[0038] この図 6に示す態様のものでは、各応力集中部 12, 13に関し、短軸方向(Y軸方 向)の中心側に、二つの歪みゲージがその軸方向を当該短軸方向(Y軸方向)に向 けて配され、さらに、短軸方向(Y軸方向)に関してこれら歪みゲージの外側に、二つ の別の歪みゲージが、その軸方向を長軸方向(X軸方向)に向けて配されている。
[0039] 具体的には、凹溝 8の位置に対応する応力集中部 12に、歪みゲージ 21a, 21b, 2 2a, 22bが設けられ、凹溝 9に対応する応力集中部 13に、歪みゲージ 21c, 21d, 2 2c, 22dが設けられている。
[0040] 応力集中部 12において、短軸方向(Y軸方向)の内側に配された 2つの歪みゲー ジ 21a, 21bは、その軸方向がセンサプレート 5の短軸方向(Y軸方向)に一致されて いる。一方、短軸方向(Y軸方向)の外に配された 2つの歪みゲージ 22a, 22bは、そ の軸方向が長軸方向(X軸方向)に一致されている。同様に、応力集中部 13におい て、短軸方向(Y軸方向)の内側に配された 2つの歪みゲージ 21c, 21dは、その軸 方向が短軸方向(Y軸方向)に一致され、外側に配された 2つの歪みゲージ 22c, 22 dはその軸方向が長軸方向に一致されて 、る。
[0041] このように歪みゲージ 21a〜21d, 22a〜22dが配されることで、中心部 Cに対して 、点対称の位置に配された歪みゲージの対が 4対形成される。即ち、歪みゲージ 21a と歪みゲージ 21d、歪みゲージ 21bと歪みゲージ 21c、歪みゲージ 22aと歪みゲージ 22d、並びに歪みゲージ 22bと歪みゲージ 22cとは、中心部 Cに対してそれぞれ点 対称となる。
[0042] さらに、図 7に示すセンサプレート 5には、別の態様で歪みゲージが配置されている 。この図 7に示すセンサプレート 5にあっては、凹溝 8及び凹溝 9の位置にそれぞれ対 応する応力集中部 12及び応力集中部 13には、 4つの歪みゲージが正方形を描くよ うにしてそれぞれ配されて!、る。
[0043] 応力集中部 12に配された歪みゲージ 21a, 21b, 22a, 22bにおいては、 2つの歪 みゲージ 21a, 21b力 その軸方向を短軸方向(Y軸方向)に向けられ、かつ相互に 平行をなして配置されている。また、これら歪みゲージ 21a, 21bの両端を結ぶように して、 2つの歪みゲージ 22a, 22bがその軸方向を長軸方向(X軸方向)に向けられ、 かつ相互に平行をなすようにして配されて 、る。
[0044] この図 7に示す態様のものにおいても、歪みゲージ 21aと歪みゲージ 21d、歪みゲ ージ 21bと歪みゲージ 21c、歪みゲージ 22aと歪みゲージ 22d、並びに歪みゲージ 2 2bと歪みゲージ 22cと力 中心部 Cに対してそれぞれ点対称となる。
[0045] 以上、中心部 Cを通る中心線 CLを境に、長軸方向(X軸方向)の片側に 2つずつの 凹溝 7, 8,と凹溝 9, 10を形成して、応力集中部 11, 12, 13, 14を設けたセンサプ レート 5を例に説明したが、これに限定されるものではなぐ片側に 3つ以上の凹溝を 形成して応力集中部を設けても構わない。また、歪みゲージ 21a〜21d, 22a〜22d の取付位置についても、図 4〜図 7に示した例では中心部 Cに近い側に位置する応 力集中部 12, 13に歪みゲージ 21a〜21d, 22a〜22dを設けているが、中心線 CL に対して対称となるように設けるのであれば、中心線 CL力 離れた応力集中部 11, 14に歪みゲージを設けても良 、。片側に 3ケ所以上の応力集中部を設けるのであれ ば、中心線 CL力も数え 3つめより外側の応力集中部に歪みゲージ 21a〜21d, 22a 〜22dを設けても良い。
[0046] さらには、中心線 CLに対して対称となるように、センサプレートの長軸方向(X軸方 向)に関し、片側に凹溝をそれぞれ 1つ形成し、対応する応力集中部を 1つずつ設け てもよい。
[0047] 図 8は、センサプレート 30の長軸方向(X軸方向)に関して 2ケ所のみに応力集中部 34, 35を設け、各応力集中咅 35にそれぞれ 4つの歪みゲージ 21a〜21d, 22a 〜22dを設けた態様を示すものである。このセンサプレート 30に設けられた応力集中 部 34, 35は、長軸方向(X軸方向)に関し、中心線 CLに対して対称となる 2ケ所に設 けられている。これら応力集中部 34, 35も、センサプレート 30の下面に、短軸方向( Y軸方向)に延びる凹溝 32, 33を形成し、センサプレート 30の板厚を薄くすることで それぞれ設けられている。
[0048] 片側の応力集中部 34に設けられている歪みゲージ 21a, 21b, 22a, 22bのうち短 軸方向(Y軸方向)の外側に配された 2つの歪みゲージ 21a, 21bは、その軸方向が センサプレート 30の短軸方向(Y軸方向)に一致されている。一方、短軸方向(Y軸 方向)の内側に配された 2つの歪みゲージ 22a, 22bは、その軸方向が長軸方向(X 軸方向)に一致されている。同様に、応力集中部 35に設けられた歪みゲージ 21c, 2 Id, 22c, 22dについても、短軸方向(Y軸方向)の外側に配された 2つの歪みゲー ジ 21c, 21dは、その軸方向が短軸方向(Y軸方向)に一致され、内側に配された 2つ の歪みゲージ 22c, 22dはその軸方向が長軸方向(X軸方向)に一致されている。
[0049] このように歪みゲージ 21a〜21d, 22a〜22dを配することで、これら歪みゲージ 21 a〜21d, 22a〜22dについても、中心部 Cに対して点対称となるようにそれぞれ配置 されている。例えば、応力集中部 34の歪みゲージ 21aと、応力集中部 35の歪みゲー ジは 21dとは、中心部 Cに対して点対称となる。同様に、応力集中部 34の歪みゲー ジ 22bと、応力集中部 35の歪みゲージ 22cとは中心部 Cに対して点対称となる。
[0050] なお、上述した、図 6及び図 7に示した態様で歪みゲージ 21a〜21d, 22a〜22dを 配置する場合にも、このセンサプレート 30を使用することができる。
[0051] これら歪みゲージ 21a〜21d, 22a〜22dは、いずれも CVD法ゃスパッタ法などを 用い、半導体珪素薄膜により形成されている。
[0052] 以上の歪みゲージ 21a〜21d, 22a〜22dは、図 9に示すように相互に接続され、 ブリッジ回路が形成される。この図 9に示すブリッジ回路では、中心部 Cに対して点対 称となる位置に配された二つの歪みゲージが電気的に並列にそれぞれ接続され、 4 組のゲージペアが形成されて 、る。
[0053] 例えば、図 2において、外側に配された歪みゲージ 21aと歪みゲージ 21dの組、及 び歪みゲージ 21bと歪みゲージ 21cの組がそれぞれゲージペアとして構成され、内 側に配された歪みゲージ 22aと歪みゲージ 22dの組、及び歪みゲージ 22bと歪みゲ ージ 22cの組がそれぞれゲージペアとしてそれぞれ構成される。そして、各ゲージべ ァ同士は相互に直列に接続され、閉じた回路が形成される。この際、外側に配された 歪みゲージ 21a, 21dの組と歪みゲージ 21b, 21cの組とが相互に対向する位置に 配されると共に、内側に配された歪みゲージ 22a, 22dの糸且と、歪みゲージ 22b, 22c の組とが相互に対向する位置に配置される。 [0054] そして、当該ブリッジ回路では、歪みゲージ 21a, 21dの組からなるゲージペアと、 歪みゲージ 22b, 22cの組とからゲージペアとの間、及び歪みゲージ 21b, 21cの組 力もなるゲージペアと、歪みゲージ 22a, 22dの組からなるゲージペアとの間を電源 V inに接続し、電圧をブリッジ回路に印加している。他方、歪みゲージ 21a, 21dの組 力もなるゲージペアと、歪みゲージ 22a, 22dの組からなるゲージペアとの間、及び 歪みゲージ 21b, 21cの組からなるゲージペアと、歪みゲージ 22b, 22cの組とからゲ ージペアとの間との間を出力用の端子として利用している。
[0055] なお、図 9のブリッジ回路では点対称となる位置に配されている歪みゲージ同士を 並列に接続して 、るが、図 10のように直列に接続してもよ!/、。
[0056] この図 10に示すブリッジ回路では、外側に配された歪みゲージ 21aと歪みゲージ 2 Idとが直列に接続されると共に、歪みゲージ 21bと歪みゲージ 21cとが直列に接続さ れる。また、内側に配された歪みゲージ 22aと歪みゲージ 22dとが直列に接続される と共に、歪みゲージ 22bと歪みゲージ 22cとが直列に接続される。そして、直列に接 続された歪みゲージ同士力 それぞれゲージペアとしてそれぞれ構成される。なお、 このブリッジ回路についても、電圧を印加する位置、及び信号の出力端子を設ける位 置は、図 9に示すブリッジ回路と同様である。
[0057] 以上、センサプレート 5の中心部 Cに形成された貫通孔 6に、起歪体 1の伝達ロッド 4の先端を挿入し、この部分を接合した場合について説明した力 図 11及び図 12〖こ 示すように構成してもよい。
[0058] この実施形態に力かる荷重センサでは、起歪体 1とセンサプレート 5とが中心部じで 接合されずに、両者が分離されている。センサプレート 5の上面には、中心部 Cに、 窪み 6Aが形成されており、同時に裏面に凹溝 7, 8, 9, 10がエッチングにより形成さ れている。一方、起歪体 1の凹所 2には、中心部 Cの位置に、凹所 2の底面からセン サプレート 5に向けて突出する伝達ロッド 4Aが形成されている。この伝達ロッド 4Aは 、その上端がセンサプレート 5とは接合されず、センサプレート 5の下面に接触してい るだけである。この荷重センサにあっても、伝達ロッド 4Aの先端力 センサプレート 5 の中心部 Cを下力 上に押し付けられる方向の荷重についての測定を行うことができ る。 [0059] ここで、センサプレート 5の上面に形成された窪み 6Aは、歪ゲージを配置する際の 目印となる。即ち、歪ゲージは、この窪み 6Aを目印として形成されることにより、裏面 の凹溝 7, 8, 9, 10に対して正確に位置決めされる。なお、歪ゲージを位置決めする 際の目印は、中心部 Cの一ヶ所に設けるものには限定されない。図 13に示すセンサ プレート 5では、中心部 Cを通り、短軸方向に延びる中心線 CL上において、センサプ レート 5の両端部に三角形状の小さな窪み 6B, 6Bが設けられている。このセンサプ レート 5では、窪み 6B, 6Bが、歪ゲージの位置決めの基準となる目印として機能する
[0060] 以上の構成を備えた、荷重センサは次のように製造される。
[0061] 図 14及び図 15はセンサプレート 5を製造する工程を示すもので、図 14は基板 40の 表面を、図 15は基板 40の裏面をそれぞれ示している。センサプレート 5は、一枚の 基板 40の両面からエッチング力卩ェを行うことにより、基板 40の周縁の枠部分 40aと、 縦方向及び横方向にそれぞれ延びる中心リブ 43, 43とで区切られた 4ケ所の領域に 形成される。なお、基板 40としては、高弾性率を有するステンレス板が使用される。ま た、基板 40はエッチング力卩ェに先立って予め研磨されており、基板 40の表面 (歪ゲ ージの形成される面)が鏡面仕上げされて 、る。
[0062] 基板 40にエッチング力卩ェを行うことで、各領域には、複数のセンサプレート 5が縦 横に配列されるように形成される。また、このエッチングカ卩ェでは、これらセンサプレ ート 5の短軸方向(Y軸方向)に延びる細い連結片 42を同時に形成し、各センサブレ ート 5が短軸方向(Y軸方向)に連ねられるように、センサプレート 5を連結片 42で相 互に連結する。なお、連結する方向は、短軸方向(Y軸方向)に限定するものではな ぐ長軸方向(X軸方向)に連結しても構わない。また、双方の方向に連結しても構わ ない。
[0063] また、この製法では、両面からのエッチング加工を行うことで、各センサプレート 5の 中心に、その板厚方向を貫く貫通孔 6を形成する。さら〖こは、裏面からのエッチング 加工により、各センサプレート 5の裏面に短軸方向(Y軸方向)に延びる凹溝 7, 8, 9 , 10がそれぞれ 4ケ所に貫通孔 6と同時に形成される。各センサプレート 5の各位置 に形成された凹溝 7, 8, 9, 10は、その位置で短軸方向(Y軸方向)に延びる同一の 直線上にそれぞれ形成される。
[0064] このように、当該エッチング力卩ェは一枚の基板 40から複数のセンサプレート 5を有 するセンサプレート群 41を形成する。また、各センサプレート 5は、一枚の基板 40〖こ 両面からのエッチング加工を施すことにより、その外形の形成、中心部 Cの貫通孔 6 の形成、及び応力集中部 11, 12, 13, 14を形成する凹溝 7, 8, 9, 10の形成を一 工程で行っている。なお、図 12又は図 13に示したセンサプレート 5の場合には、貫 通孔 6に代えて、このエッチング工程で窪み 6A又は窪み 6Bが形成される。
[0065] なお、センサプレート 5の外形、中心部 Cに形成される貫通孔 6、及びセンサプレー ト 5の一面側に形成される凹溝 7, 8, 9, 10は、エッチング加工で形成することには限 定されず、レーザー加工で形成しても構わない。レーザー加工を行う場合には、凹溝 7, 8, 9, 10の形成されるセンサプレート 5の一面側力もその外形、貫通孔 6及び凹 溝 7, 8, 9, 10を形成すればよい。
[0066] そして、基板 40からセンサプレート群 41を形成した後は、図 16に示すように成膜ェ 程が実施される。
[0067] この成膜工程では、先ず、 CVD法によりセンサプレート群 41を構成する各センサ プレート 5に酸化珪素薄膜 50を形成する。形成された酸化珪素薄膜 50により、セン サプレート 5と歪みゲージ 21a〜21d, 22a〜22dとが電気的に絶縁される。次いで、 半導体珪素薄膜を同じく CVD法で、各センサプレート 5の全面に形成する。この際、 歪みゲージパターン 51の形成はエッチングによりなされ、その位置決めは、上記の エッチング力卩ェで既に形成されている貫通孔 6を基準に行われる。即ち、中心部 こ 形成された貫通孔 6に対する距離及び方向が、応力集中部を形成する凹溝 7, 8, 9 , 10と重なるように予め決定されており、パターンの形成は、当該応力集中部の位置 に正確に行われる。
[0068] 次いで、配線及び電極取出しのための金薄膜 52を蒸着させる。その後、歪みゲー ジ保護のための窒化珪素薄膜 53を CVD法により形成する。
[0069] このように、当該成膜工程では、複数のセンサプレート 5からなるセンサプレート群 4
1に対しバッチ処理を行って、一度に複数のセンサプレート 5について成膜する。
[0070] この成膜工程終了後、センサプレート 5を相互に連結している連結片 42が切断され て、個々のセンサプレート 5が形成される。切断は、例えば、カットソー等を使用すれ ばよい。
[0071] このようにして、歪みゲージ 21a〜21d, 22a〜22dの設けられたセンサプレート 5は 、その後に起歪体 1と接合され、図 1に示す構造を有する荷重センサとして形成され る。
[0072] 以上の荷重センサは、次のように作用する。
[0073] 図 1を再び参照する。図示しない測定対象物に負荷が作用して測定対象物が変形 すると、荷重センサには、起歪体 1の下面に設けられている取付部 3から図 1の矢印 の方向に関する変位が測定対象物から伝達される。この変位は、伝達ロッド 4の延び る軸方向と一致している。この変位が取付部 3を介して起歪体 1に伝達されると、起歪 体 1は、その中心部 Cが周縁に対して相対的に上下に変位する。さらに、起歪体 1の 変位は、伝達ロッド 4を介してセンサプレート 5の中心部 Cに伝達される。
[0074] センサプレート 5は、その長軸方向(X軸方向)の両端が起歪体 1の凹所 2の縁部 2a において、起歪体 1に接合されている一方で、中心部 Cが伝達ロッド 4に接合されて いるため、センサプレート 5は両端固定梁として機能する。このため、伝達ロッド 4によ り変位の伝達された中心部 C力 両端部 5aに対して相対的に上下に変位する。例え ば、起歪体 1の中心部 Cが上方に向けて変位した場合、伝達ロッド 4を介してこの変 位がセンサプレート 5の中心部 Cに伝達され、図 17示すように、センサプレート 5の中 心部 Cが両端部 5aに対して相対的に上方に変位する(図 17の Z軸方向)。
[0075] そして、この変位により発生する歪みは、応力集中部 11, 12, 13, 14に集中的に 発生することになる。この場合、外側の応力集中部 11, 14の上面には圧縮歪みが発 生し、内側の応力集中部 12, 13の上面には引張り歪みが発生する。これらを図 2及 び図 3に示すように歪みゲージ 21a〜21d, 22a〜22dを配置して測定すると、外側 に配された歪みゲージ 21a〜21dは、マイナスの抵抗値変化となる。一方、内側に配 された歪みゲージ 22a〜22dは、プラスの抵抗値変化となる。すると、図 9に示すプリ ッジ回路には電位差が発生し、これを出力電圧 (Vout)として測定することで、測定 対象物の変位を測定することができる。
[0076] 次に、図 17に示す Z軸方向以外の方向の荷重が作用した場合について説明する。 [0077] なお、ここでは、変形のモデルを簡略ィ匕して説明する。なお、各軸の方向は、 X軸 はセンサプレート 5の長軸方向と一致しており、 Y軸は、短軸方向と一致している。ま た、センサプレート 5に向力つて時計回りを 0のプラスとしている(図 19参照)。
[0078] 図 18に示すようにセンサプレート 5に、 Y軸方向に荷重が負荷されると、センサプレ ート 5は中央部力 荷重の方向に橈み、全体が湾曲する。この場合、歪みゲージ 21a 〜21d, 22a〜22dの抵抗値は次のように変化する。
[0079] Y軸方向に関し、センサプレート 5の中心部 Cより湾曲の外側の部位には、引張り歪 みが発生する。このため、歪みゲージ 21a, 22a, 22c, 21cの抵抗値はプラス側に変 化する。一方、 Y軸方向に関し、センサプレート 5の中心部 Cより湾曲の内側の部位 には、圧縮歪みが発生する。このため、歪みゲージ 21b, 22b, 22d, 21dの抵抗値 は、マイナス側に変化する。図 9に示すように、点対称となる歪みゲージ 21a〜21d, 22a〜22dを並列に接続してゲージペアを構成した場合、歪みゲージ 21a, 21d、歪 みゲージ 22a, 22d、歪みゲージ 22c, 22b及び歪みゲージ 21c, 21bの各ゲージべ ァでは、抵抗値の変化が相互に相殺されて「0」となる。このため、出力電圧は発生せ ず、 Voutは、「0」である。
[0080] 同様に X軸方向及び XYZ軸に対する回転方向の荷重が作用した場合の各歪みゲ ージ 21a〜21d, 22a〜22dの抵抗値の変化と出力電圧の測定値との関係をまとめ ると表 1に示すようになる。なお、この表 1において、「 + 1」はプラス側への変化を、「 —1」はマイナス側への変化をそれぞれ示している。この表 1から明らかなように、 Z軸 方向に荷重が作用した場合を除き、歪みゲージ 21a〜21d, 22a〜22dの抵抗値の 変化は相互に相殺され、その結果、出力電圧は「0」となる。
[表 1] 荷重方向 各ゲージの変化量
(モ一ト') (各モー卜'内で i 値は罔じ/符号は変化の方向を示す) 各辺の変化量 王
22a 21a 22b 21b 22d 21d 22c 21c 22a//22d 21a//21d 22b//22c 21b//21c 変化量
+Z +1 —1 +1 —1 +1 -1 + 1 —1 1 1 1 1 4
— Z —1 +1 -1 +1 -1 +1 —1 +1 —1 —1 —1 —1 -4
+ X +1 +1 +1 + I —1 — Ί -1 -1 0 0 0 0 0
-X —1 —1 —1 —1 +1 +1 +1 +1 0 0 0 0 0
+Y +1 +1 —1 —1 -1 —1 + 1 + I 0 0 0 0 0
— Y 一 1 —1 +1 +1 +1 +1 -1 —1 0 0 0 0 0
Z+ Θ +1 + 1 —1 —1 +1 +1 -1 -1 1 —1 —1 1 0
Z— Θ —1 -1 +1 +1 —1 -1 + 1 + | -1 1 1 -1 0
X+ Θ —1 +1 + Ί —1 +1 一 1 —1 +1 0 0 0 0 0
X- Θ +1 —1 —1 "Ή 1 —1 + 1 " ^ I —1 0 0 0 0 0
Y+ Θ +1 —1 +1 -1 4-1 -1 +1 0 0 0 0 0
Ύ-Θ -1 +1 -1 4~ 1 +1 —1 +1 —1 0 0 0 0 0
[0081] このような測定結果が得られるのは、センサプレート 5に設けられた歪みゲージ 21a 〜21d、 22a〜22dが、中心部 Cに対して点対称となるように配置されているため、測 定の対象となる目的方向(Z軸方向)以外の方向に荷重が作用すると、歪みゲージ 2 la〜21d, 22a〜22dに極性の異なる抵抗値の変化が発生するためである。そして、 各歪みゲージ 21a〜21d, 22a〜22dは、並列に接続されているために、両者の抵 抗値の変化が互いに相殺し合うことによるものである。
[0082] なお、点対称の位置にある歪みゲージ 21a〜21d, 22a〜22dの抵抗値の変化が 相互に相殺するのであるから、ゲージペアを形成する際に、図 10に示すように歪み ゲージ 21a〜21d, 22a〜22dを直列に接続した場合にも、同様の効果を得ることが できる。

Claims

請求の範囲
[1] 薄板状のセンサプレートと、このセンサプレートに取り付けられた複数の歪みゲージ とを具備する荷重センサにおいて、
前記センサプレートは、その一軸方向の両端が、このセンサプレートを任意の対象 物に固定させる固定部となされる一方で、その中心点が変位乃至荷重をこのセンサ プレートに伝達せしめる伝達部となされ、
前記歪みゲージを前記中心点に対して点対称となる位置に配置すると共に、 点対称となる位置に配された歪みゲージ同士を電気的に並列又は直列に接続して ゲージペアを構成し、さらに、各ゲージペア同士を電気的に直列に接続して、これら 歪みゲージでブリッジ回路を構成したことを特徴とする荷重センサ。
[2] 測定対象物に取り付けられて、該測定対象物の変形量に応じて変位する、凹所の 形成された起歪体を具備し、前記一軸方向が前記凹所を横断するよう前記センサプ レートが配されて前記固定部がこの起歪体に固定され、
前記凹所には、前記センサプレートの中心点に向けて突出する伝達部が形成され
、前記起歪体の変位がこの伝達部を介して前記センサプレートに伝達されることを特 徴とする請求項 1に記載の荷重センサ。
[3] 前記センサプレートの一面側には、複数の凹部がこのセンサプレートの中心線に対 して対称となるよう、前記中心線力 所定の距離毎に形成され、
このセンサプレートの他面側には、これら凹部のうち前記中心線力 等距離にある 対称となる位置に設けられた凹部に歪みゲージが配されていることを特徴とする請求 項 1又は請求項 2に記載の荷重センサ。
[4] 前記センサプレートには、前記一軸方向に関する前記センサプレートの中心をなす 中心線を示す目印が形成され、このセンサプレートの一面側には前記中心線に対し て対称となる位置に凹部を形成して板厚の薄く形成された応力集中部が形成されて いることを特徴とする請求項 1〜請求項 3いずれかに記載の荷重センサ。
[5] 前記歪ゲージは、前記凹部の形成された面と逆側の面にて、前記目印までの距離 と目印に対する方向が決定されて前記応力集中部の位置に配置されたことを特徴と する請求項 3又は請求項 4に記載の荷重センサ。
[6] 前記歪みゲージを半導体珪素薄膜で構成したことを特徴とする請求項 1〜5 、ず れかに記載の荷重センサ。
[7] 薄板状のセンサプレートと、このセンサプレートに取り付けられた複数の歪みゲージ とを具備し、前記センサプレートは、その一軸方向の両端が、このセンサプレートを任 意の対象物に固定させる固定部となされる一方で、その中心点が変位乃至荷重をこ のセンサプレートに伝達せしめる伝達部となされる荷重センサの製造方法であって、 一枚の基板に対して一度のエッチングを行うことで、前記基板に、縦横に配列され た複数の前記センサプレートと、これらセンサプレートを相互に連結する細 、連結片 とを具備するセンサプレート群を形成し、
し力も、前記エッチングで各センサプレートの前記一軸方向の中心に位置する中心 線を示す目印をそれぞれ形成すると共に、各センサプレートの一面側に前記中心線 に対して対称となる位置に凹部を形成して板厚の薄い応力集中部を設け、 次いで、前記目印までの距離及び方向を決定することで、前記中心点に対して点 対称であって前記応力集中部の位置に前記歪ゲージが配置されるように、前記セン サプレート群をなす前記センサプレートに半導体珪素薄膜をそれぞれ形成し、 その後、これらセンサプレートを相互に分離することを特徴とする荷重センサの製造 方法。
[8] 前記荷重センサは、測定対象物に取り付けられて、該測定対象物の変形量に応じ て変位する、凹所の形成された起歪体を前記センサプレートとは別体として設けられ ており、
相互に分離された前記センサプレートの前記一軸方向が前記凹所を横断するよう にして、前記センサプレートの前記一軸方向の両端を前記起歪体に固定することを 特徴とする請求項 7に記載の荷重センサの製造方法。
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