WO2005088654A1 - 静電気対策部品 - Google Patents

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WO2005088654A1
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Tatsuya Inoue
Hidenori Katsumura
Hiroshi Kagata
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Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.
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Abstract

 セラミック絶縁基板と、セラミック絶縁基板上に焼結一体化して設けたバリスタ層と内部電極とからなるバリスタ部と、バリスタ部に設けた少なくとも一対の外部電極とを有し、バリスタ部にバリスタを形成した構成からなり、高周波機器に適した静電容量の極めて小さな静電気対策部品を実現できる。

Description

明 細 書
静電気対策部品
技術分野
[0001] 本発明は電子機器を静電気から保護する静電気対策部品に関する。
背景技術
[0002] 近年、携帯電話などの電子機器の小型化、高性能化が急速に進み、それに伴!、 電子機器の電気回路が高密度化し、その耐電圧が低下している。そのため、人体と 電子機器の端子が接触したときに発生する静電気パルスによる機器内部の電気回 路の破壊が増えてきている。
[0003] 従来、このような静電気パルスによる破壊を防止するための対策としては、静電気 が入るラインとグランド間に積層チップバリスタ等を設けて静電気をバイパスさせ、機 器の電気回路に印加される電圧を抑制する方法が行われている。
[0004] このような静電気パルスの対策に用いられる従来の積層チップバリスタに関連する 先行技術文献情報としては、例えば日本特開平 8 - 31616号公報が知られている。
[0005] 最近では、電子機器の高性能化に伴 、、電子機器を動作させるクロック周波数もま すます高周波化している。この結果、静電気対策部品のような電子部品においても、 クロック周波数に影響を与えな ヽように静電容量の小さなものが求められるようになつ てきている。また、携帯電話などの送受信の周波数は 800MHz— 2GHzといった高 い周波数であり、これに対応する静電気対策部品も同様に静電容量の小さなものが 求められている。
[0006] しカゝしながら、従来の積層チップバリスタは、それを構成する酸化亜鉛系材料の比 誘電率が数百力 千数百程度あるため、浮遊容量によって lpF以下の静電容量を 実現することは困難であった。例えば、従来の長さ 1. Omm,幅 0. 5mmサイズの積 層バリスタの場合、静電容量の最も小さなもので 3pF程度であり、そのカットオフ周波 数は約 1GHz程度、共振周波数は約 1. 8GHzである。したがって、 1GHzを越える 高い周波数で使用することはできな力つた。
[0007] 本発明は、力かる問題点に鑑みてなされたもので、静電容量が非常に小さい静電 気対策部品を提供することを目的とする。
発明の開示
[0008] 上記目的を達成するため、本発明の静電気対策部品は、セラミック絶縁基板と、こ のセラミック絶縁基板上に焼結一体ィ匕して設けたバリスタ層と内部電極とからなるバリ スタ部と、ノ リスタ部に設けた少なくとも一対の外部電極とを有し、上記バリスタ部に ノ リスタを形成した構成力らなる。
[0009] これにより、セラミック絶縁基板としてバリスタ層の材料よりも比誘電率の低い材料を 任意に設定できる。したがって、静電気対策部品としての浮遊容量を小さくすること ができ、静電容量が非常に小さい静電気対策部品を実現できる。
[0010] また、上記構成において、外部電極はバリスタ部の同一面に焼結一体ィ匕して設け た構成としてもよい。これにより、外部電極の面積を小さくすることができ、さらに浮遊 容量を小さくすることができる。この結果、さらに静電容量を小さくすることができる静 電気対策部品が得られる。
[0011] また、上記構成において、セラミック絶縁基板の厚みはバリスタ部の厚みの 2倍以上 とすることが望ましい。これにより、ノ リスタ部とセラミック絶縁基板とを焼結して一体ィ匕 した場合に、実用的に問題な 、程度の反りとすることができる。
[0012] また、上記構成において、ノ リスタ層は酸ィ匕亜鉛を主成分とする材料であり、かつ セラミック絶縁基板は酸化銅の含有量が重量比で 0. 1%以下のアルミナ基板である 構成としてもよい。これにより、セラミック絶縁基板において、酸化亜鉛バリスタの特性 発現の阻害物質である酸化銅の含有量を少なくしているので、焼成時にアルミナ基 板からバリスタ層への酸化銅の拡散を防ぐことができる。したがって、ノ リスタ特性の 発現をより確実に、かつ再現性よく行なうことができ、より安定した特性の静電気対策 部品を得ることができる。
[0013] また、上記構成において、ノ リスタ部の上面は外部電極の形成領域を除き保護膜 が形成されていることが望ましい。これにより、外部電極へのめっき皮膜の形成を容 易に行なうことができ、より実装性の優れた静電気対策部品が得られる。
[0014] また、上記構成にぉ 、て、セラミック絶縁基板はインダクタを内蔵し、このインダクタ はノ リスタ部のバリスタに電気的に接続された構成としてもよい。これにより、バリスタ 機能に加えてインダクタ機能を付加して ヽるので、フィルタ機能を付加することができ る。この結果、静電気抑制効果をさらに高めることができ、優れた静電気対策部品を 実現できる。
[0015] さらに、上記構成において、ノリスタは 2個からなり、これらのノリスタとインダクタと により π型フィルタ構成としてもよい。あるいは、ノリスタとインダクタとを複数設けて多 段構成のローパスフィルタとしてもよ 、。
[0016] このように複数個設けることで種々のフィルタ回路を実現できることから、さらに静電 気抑制効果に優れた静電気対策部品を実現することができる。
[0017] 以上のように本発明の静電気対策部品は、静電容量を非常に小さくすることができ るので、高周波のクロック周波数で作動する電子機器でもその動作に影響を与えるこ とがなぐ静電気ノルスによる破壊力も高周波の電子機器を保護することができる。 図面の簡単な説明
[0018] [図 1]図 1は、本発明の第 1の実施の形態にカゝかる静電気対策部品の模式的分解斜 視図である。
[図 2]図 2は、同実施の形態にカゝかる静電気対策部品の外観斜視図である。
[図 3]図 3は、同実施の形態に力かる静電気対策部品の等価回路図である。
[図 4]図 4は、同実施の形態に力かる静電気対策部品の静電気試験に用いる試験回 路図である。
[図 5]図 5は、本発明の第 2の実施の形態にカゝかる静電気対策部品の模式的分解斜 視図である。
[図 6]図 6は、同実施の形態にカゝかる静電気対策部品の外観斜視図である。
[図 7]図 7は、本発明の第 3の実施の形態にカゝかる静電気対策部品の模式的分解斜 視図である。
[図 8]図 8は、同実施の形態にカゝかる静電気対策部品の外観斜視図である。
[図 9]図 9は、同実施の形態に力かる静電気対策部品の等価回路図である。
[図 10]図 10は、本発明の第 1の実施の形態および第 2の実施の形態にカゝかる静電気 対策部品の周波数特性の評価結果を示す図である。
符号の説明 10, 50, 70 ノ リスタ部
10A, 10B, IOC, 10D, 10E, 10F, 10G, 10H ノ リスタ層
11A, 11B, 11C, 11D, HE, 11F 内部電極
12 セラミック絶縁基板
13A, 13B, 14A, 14B 外部電極
15A グランド用外部電極
15B 入力用外部電極
15C 出力用外部電極
17 ビア導体
18 保護膜
19 インダクタ導体
20 ガラスセラミック基板 (セラミック絶縁基板)
20A, 20B, 20C ガラスセラミック層
101 直流電源
102, 106 抵抗
103, 105 スィッチ
104 容量ボックス
107 グランドライン
108 信号ライン
109 評価試料
110 被保護機器
201 ノ リスタ
202 入出力用外部電極
203 グランド用外部電極
204 入力用外部電極
205 出力用外部電極
206 インダクタ
発明を実施するための最良の形態 [0020] 以下、本発明の実施の形態に力かる静電気対策部品について、図面を参照して詳 細に説明する。なお、同じ要素については同じ符号を付しており、説明を省略する場 合がある。
[0021] (第 1の実施の形態)
図 1は、本発明の第 1の実施の形態にカゝかる静電気対策部品の模式的分解斜視図 である。また、図 2は、この静電気対策部品の外観斜視図である。さらに、図 3は、この 静電気対策部品の等価回路図である。
[0022] 図 1および図 2に示すように、本実施の形態に力かる静電気対策部品は、セラミック 絶縁基板 12の上に、ノ リスタ層 10A、 10B、 IOCと内部電極 11A、 1 IBとを交互に 積層し、これらを一体ィ匕したセラミック焼結体に一対の外部電極 13A、 13Bを設けた 構成力もなる。すなわち、ノリスタ層 10Aを形成後、内部電極 11Aをバリスタ層 10A の図示する位置に形成する。この後、さらにバリスタ層 10Bを積層し、このノリスタ層 1 OBの所定の位置に内部電極 11Bを形成し、その上にバリスタ層 10Cを積層し、これ らをセラミック絶縁基板 12に貼り付けて焼結することで、セラミック焼結体としたもので ある。
[0023] なお、内部電極 11 Aはセラミック焼結体の一方の端部に引き出し、外部電極 13Aと 電気的に接続している。また、内部電極 11Bはセラミック焼結体の他方の端部に引き 出し、外部電極 13Bと電気的に接続している。
[0024] 図 3は、このような構成力もなる本実施の形態の静電気対策部品の等価回路図で ある。この等価回路は、本実施の形態の静電気対策部品であるバリスタ 201と、その 入出力用外部電極 202と、グランド用外部電極 203とにより構成されている。なお、 本実施の形態の静電気対策部品では、上記したように外部電極 13A、 13Bは等価 回路的に同じ構成である。したがって、実際に回路に接続して使用する際には、これ らの外部電極 13A、 13Bのどちらか一方が入出力用外部電極 202となり、他方がグ ランド用外部電極 203となる。
[0025] 本実施の形態に力かる静電気対策部品は、ノ リスタ層 10A、 10B、 IOCと、内部電 極 11A、 11Bと、外部電極 13A、 13Bとを備えたバリスタ部 10をセラミック絶縁基板 1 2上に貼り付け、焼結して一体ィ匕したセラミック焼結体としたものである。したがって、 セラミック絶縁基板 12の材料として、ノ リスタ層 10A、 10B、 IOCの材料よりも比誘電 率の低いものを選択すれば、静電気対策部品としての浮遊容量を小さくすることがで きる。これにより、静電容量を非常に小さくできるため、非常に高速のクロック周波数 を有する電気回路に適用できる静電気対策部品を実現できる。
[0026] 次に、本実施の形態に力かる静電気対策部品の製造方法について、図 1および図 2を用いて説明する。
[0027] まず、酸化亜鉛を主成分とするセラミック粉末と有機バインダとを含む酸化亜鉛生 シートを作製し、準備する。この時、この酸ィ匕亜鉛生シートの厚みは約 30 mとした。
[0028] 最初に、酸ィ匕亜鉛生シートの上に銀を主成分とする導体ペーストを用いて、スクリ ーン印刷法で内部電極 11Aとなる導体層を形成する。さらに、この上に酸ィ匕亜鉛生 シートを積層する。次に、この酸ィ匕亜鉛生シート上に、上記と同じ導体ペーストを用い て、同様にスクリーン印刷法で内部電極 11Bとなる導体層を形成する。さらに、この 上に酸ィ匕亜鉛生シートを積層して、積層体を形成する。
[0029] 次に、セラミック絶縁基板 12としてアルミナ基板を用い、このアルミナ基板上に上記 の積層体を貼り付け、積層体ブロックとする。なお、セラミック絶縁基板 12であるアル ミナ基板の厚みは約 250 mであり、内部電極 11A、 1 IBとなる導体層の厚みは約 2. 5 πιとした。
[0030] また、本実施の形態では、アルミナ基板上に複数個の静電気対策部品を作製して いる。このために、印刷した導体層のパターンは、図 1および図 2に示す形状を多数 、酸ィ匕亜鉛生シート上に形成している。これにより、切断した後には、図 2に示す形状 の静電気対策部品を一度に多数作製することができる。
[0031] 次に、上記の積層体ブロックを大気中で加熱して脱バインダ処理する。この処理後 、大気中でさらに 930°Cまで加熱して焼成することで、一体化した焼結体が得られる
[0032] 次に、焼結体を所定の寸法で切断して個片に分離する。これにより、図 1および図 2 に示す本実施の形態にカゝかる静電気対策部品となる前、すなわち外部電極 13A、 1 3Bが形成される前の状態のセラミック焼結体が得られる。
[0033] 続 、て、これらのセラミック焼結体の長辺側の両端部に、銀を主成分とする導体べ 一ストを塗布した後、 800°Cで焼付けを行い、外部電極 13A、 13Bを形成する。以上 の方法により、図 1および図 2に示す本実施の形態に力かる静電気対策部品が得ら れる。
[0034] 作製した静電気対策部品は、長手方向寸法が約 1. Omm,幅方向寸法が約 0. 5 mm、厚み方向寸法が約 0. 3mmである。そして、外部電極 13A、 13B間の静電容 量は lpFであり、バリスタ電圧を V (1mAの電流が流れる時の電圧)としたとき、 V
1mA 1
= 27Vが得られた。
ιηΑ
[0035] また、比較のために、内部電極寸法、外形寸法、および酸化亜鉛生シートを本実施 の形態に力かる静電気対策部品と同じとし、さらにバリスタ電圧が V = 27Vとなる
1mA
積層バリスタを作製した。この積層バリスタの静電容量は約 3pFであった。
[0036] そして、本実施の形態に力かる静電気対策部品(以下、実施例 1とよぶ)および比 較のために作製した積層バリスタ (以下、比較例とよぶ)について、周波数特性を評 価した。図 10は、周波数特性の評価結果を示す図である。縦軸は挿入損失を示し、 横軸は周波数である。図 10に示すように、静電容量が 3pFである比較例の共振周波 数に比べ、実施例 1の共振周波数は高い値が得られた。すなわち、実施例 1の共振 周波数は 2. 8GHzが得られた。この結果、 1GHzを越える周波数でも使うことができ ることが見出された。したがって、より高周波での使用に適している静電気対策部品 が得られた。
[0037] 次に、実施例 1および比較例にっ 、て、静電気試験を行 、評価した。
[0038] 図 4は、この静電気対策部品の静電気試験に用いる試験回路図である。この試験 回路は、スィッチ 103を接続して直流電源 101より抵抗 102を介し所定の電圧を印加 して、容量ボックス 104 (静電容量: 150pF)に電荷をチャージする。次に、スィッチを 切り替える。すなわち、スィッチ 103を開放し、スィッチ 105を接続する。これにより、 容量ボックス 104にチャージした電荷を静電気パルスとして、抵抗 106を介して信号 ライン 108を通して被保護機器 110に印加する構成力もなる。
[0039] 実施例 1の評価に対しては、図 4に示す評価試料 109の位置に実施例 1を配置し、 入出力用外部電極 202を信号ライン 108側に接続し、グランド用外部電極 203をダラ ンドライン 107に接続した。 [0040] そして、静電気パルスを印加した時の、被保護機器 110の直前の信号ライン 108と グランドライン 107間の電圧波形を測定した。この測定により、静電気ノ ルスをバイパ スさせることにより、被保護機器 110に印加される電圧の抑制効果、つまり、評価試料 109である実施例 1の静電気パルスに対する吸収抑制効果を評価することができる。
[0041] また、比較のために、前述した静電容量が 3pF、 ノ リスタ電圧 V = 27Vである比
1mA
較例を同様に評価試料 109の位置に配置し、信号ライン 108とグランドライン 107間 に接続した場合の静電気パルスに対する吸収抑制効果も評価した。なお、吸収抑制 効果は、図 4に示す静電気試験回路により 8kVを印加した静電気パルスのピーク電 圧値の比較によって確認した。
[0042] 比較例を信号ライン 108とグランドライン 107間に接続した場合に、被保護機器 11 0に印加されるピーク電圧値は約 220Vであった。これに対して、実施例 1を接続した 場合には、被保護機器 110に印加されるピーク電圧値は約 230Vであった。したがつ て、それぞれの構成が全く異なるにもかかわらず、静電気パルスに対する吸収抑制 効果は従来の積層バリスタとほとんど変わらないことが見出された。さらに、実施例 1 は、比誘電率が 10程度のアルミナが部品の体積の大部分を占めるため、その静電 容量は従来の積層バリスタの 1Z3にすることができる。
[0043] なお、本実施の形態に力かる静電気対策部品において、バリスタ部 10の積層数を 多くし、焼成後のノ リスタ部 10の厚みをセラミック絶縁基板 12であるアルミナ基板の 厚み 250 mの 1Z2よりも大きい値、すなわち約 130 m以上にした試料の作製も 検討した。しかし、この試料は、焼成後に大きな反りを生じ、静電気対策部品として実 用できるものは得られな力つた。一方、本実施の形態と同様にアルミナ基板の厚みに 対して 1Z2以下の厚みとした場合には、実用的に問題のないレベルの反りに抑えら れることが見出された。したがって、セラミック絶縁基板 12の厚みは、バリスタ部 10の 厚みの 2倍以上とすることが好ま 、。
[0044] なお、本実施の形態に力かる静電気対策部品のセラミック絶縁基板 12として、酸ィ匕 銅が 0. 1重量%を超える含有量のアルミナ基板を用いた試料も作製し、特性を評価 した。このアルミナ基板を用いて作製した試料の場合には、図 4に示す静電気試験 回路により 8kVを印加した静電気パルスのピーク電圧値が約 400Vとなることが見出 された。一方、本実施の形態で説明したように酸化銅の含有量を 0. 1重量%以下と した種々のアルミナ基板を用いた試料も作製し、特性を評価した。これらの試料にお いては、すべて実施例 1と同様な結果が得られた。したがって、酸化銅の含有量が 0 . 1重量%を超えるアルミナ基板を用いると、静電気パルスに対する吸収抑制効果が 悪くなることが確認された。以上の結果から、セラミック絶縁基板 12は、酸化銅の含 有量が重量比で 0. 1%以下のアルミナ基板であることが望ましいことが見出された。
[0045] (第 2の実施の形態)
図 5は、本発明の第 2の実施の形態にカゝかる静電気対策部品の模式的分解斜視 図である。図 6は、この静電気対策部品の外観斜視図である。なお、本実施の形態に 力かる静電気対策部品の等価回路図は、第 1の実施の形態の静電気対策部品で説 明した図 3に示す等価回路図と同様である。
[0046] 図 5および図 6に示すように、本実施の形態に力かる静電気対策部品は、セラミック 絶縁基板 12上にバリスタ部 50を形成し、外部電極 14A、 14Bと保護膜 18とを設けた 構成からなる。すなわち、バリスタ層 10D、 10Eと、内部電極 11Cと、外部電極 14A、 14Bとを積層してバリスタ部 50とし、このノリスタ部 50をセラミック絶縁基板 12の上に 貼り付けて焼結し、一体化したセラミック焼結体とする。そのセラミック焼結体のパリス タ部 50の表面に外部電極 14A、 14Bを設けている。また、内部電極 11Cはビア導体 17によって外部電極 14Bと電気的に接続した構成としている。そして、ノリスタ部 50 の上面は、外部電極 14A、 14Bが形成されている領域を除いて保護膜 18により覆わ れた構成としている。
[0047] このような構成力 なる本実施の形態に力かる静電気対策部品は、図 3に示す等価 回路と同じである。すなわち、本実施の形態においてもその等価回路は、本実施の 形態の静電気対策部品であるバリスタ 201と、その入出力用外部電極 202と、グラン ド用外部電極 203とにより構成されている。なお、上記したように、外部電極 14A、 14 Bは、等価回路的には同じ構成である。したがって、実際に回路に接続して使用する 際には、どちらか一方が入出力用外部電極 202、他方がグランド用外部電極 203と なる。
[0048] 上記したように、本実施の形態に力かる静電気対策部品は、ノリスタ層 10D、 10E と内部電極 11Cと外部電極 14A、 14Bとを備えたバリスタ部 50をセラミック絶縁基板 12上に貼り付けて焼結して一体ィ匕したセラミック焼結体とした構成である。この場合 に、セラミック絶縁基板 12として、ノ リスタ層 10D、 10Eの材料よりも比誘電率の小さ い材料を選ぶことで、静電気対策部品としての浮遊容量を小さくすることができ、静 電容量を非常に小さくできる。これにより、非常に高速のクロック周波数を有する電気 回路に適用できる静電気対策部品を実現できる。
[0049] さらに、本実施の形態に力かる静電気対策部品は、特に、外部電極 14A、 14Bを 同一面上に設けているため、第 1の実施の形態に力かる静電気対策部品と比較して 、外部電極 14A、 14Bの面積をより小さくできる。さらに、内部電極 11Cの面積も小さ くできる。これらにより、さらに静電容量を小さくすることができる。したがって、本実施 の形態に力かる静電気対策部品は、クロック周波数のより高速な電気回路にも適用 することが可能となる。また、回路基板に接続するための外部電極 14A、 14Bを同一 面上に設けているので、回路基板に実装して回路を構成した際に、回路の小型高密 度化と薄型化を図ることができる。さらに、実装のコストを削減することもできる。
[0050] さらに、本実施の形態に力かる静電気対策部品は、内部電極 11Cがビア導体 17に より外部電極 14Bと電気的に接続されている。これにより、第 1の実施の形態のような 外部電極を形成するための工程を不要にできるので、製造工程をさらに簡略化する ことができる。
[0051] そして、バリスタ部 50の上面は、外部電極 14A、 14Bが形成されて!、る領域を除!ヽ て保護膜 18により覆われている。これにより、外部電極 14A、 14Bへのめつき皮膜の 形成を容易に行うことができ、より実装の確実性と信頼性に優れた静電気対策部品 を得ることができる。なお、めっき皮膜としては、ニッケル (Ni)とはんだを形成する。た だし、金 (Au)、銅 (Cu)、銀 (Ag)等を用いてもょ 、。
[0052] 以下、本実施の形態に力かる静電気対策部品の製造方法について、図 5および図 6を用いて説明する。
[0053] まず、酸化亜鉛を主成分とするセラミック粉末と有機バインダからなる酸化亜鉛生シ ートを作製し準備する。この時、生シートの厚みは約 30 mとした。
[0054] 上記の酸ィ匕亜鉛生シートの上に銀を主成分とする導体ペーストを用いて、例えばス クリーン印刷法で内部電極 11Cとなる導体層を形成する。この導体層の上部で、力 つ外部電極 142に電気的に接続するような位置に、ビア導体 17となる導体ペースト が充填された酸ィ匕亜鉛生シートを積層する。なお、この酸ィ匕亜鉛生シートは焼成後 にはバリスタ層 10Eとなる。
[0055] つぎに、そのノリスタ層 10Eとなる酸ィ匕亜鉛生シートの上部に導体ペーストを用い て、例えばスクリーン印刷法で外部電極 14A、 14Bとなる導体層を形成する。これに より、ノ リスタ部 50となる積層体が得られる。
[0056] つぎに、セラミック絶縁基板 12としてアルミナ基板を用い、このアルミナ基板上に上 記の積層体を貼り付け、積層体ブロックとする。
[0057] なお、本実施の形態では、上記のアルミナ基板の厚みは約 250 μ m、導体層の厚 みは約 2. 5 mとした。また、本実施の形態では、アルミナ基板上に複数個の静電 気対策部品を作製している。このために、印刷した導体層のパターンは、図 5および 図 6に示す形状を多数、酸ィ匕亜鉛生シート上に形成している。これにより、切断した 後には、図 6に示す形状の静電気対策部品を一度に多数作製することができる。
[0058] つぎに、上記の積層体ブロックを大気中で加熱して脱バインダ処理する。その後、 大気中で 930°Cまで加熱して焼成し、一体化した焼結体を作製する。その後、外部 電極 14A、 14Bの形成された領域を除くバリスタ部 50の表面に保護膜 18を形成す る。この保護膜 18は、熱硬化性榭脂ペーストを用いてスクリーン印刷法で形成し、所 定の温度で熱硬化性榭脂を硬化させて形成する。
[0059] 続いて、保護膜 18を形成した焼結体の外部電極 14A、 14Bの表面にニッケル (Ni )とはんだとからなる二層めつきを形成する。その後、所定の寸法に切断分離する。こ れにより、図 5および図 6に示した本実施の形態に力かる静電気対策部品を得ること ができる。
[0060] 作製した本実施の形態に力かる静電気対策部品は、長手方向寸法が約 1. Omm, 幅方向寸法が約 0. 5mm、厚み方向寸法が約 0. 3mmである。そして、外部電極 14 A、 14B間の静電容量は 0. 4pF、バリスタ電圧 V = 27Vであった。以下、このよう
1mA
にして作製した静電気対策部品を実施例 2とよぶ。
[0061] そして、本実施の形態に力かる静電気対策部品である実施例 2について、周波数 特性を評価した。周波数特性の評価結果を図 10に示す。図 10に示すように、比較 例および実施例 1に比べ、実施例 2の共振周波数は 4GHzと高い値が得られた。した がって、実施例 2は、 2GHzを越える周波数でも使用可能であり、より高周波での使 用が可能な静電気対策部品とすることができた。
[0062] つぎに、実施例 2につ ヽて、静電気試験を行!ヽ評価した。
[0063] 静電気試験の評価は、第 1の実施の形態で説明した静電気試験と同様に、実施例 2を図 4に示す評価試料 109として用い、実施例 2であるバリスタ 201の入出力用外 部電極 202を信号ライン 108側に接続し、グランド用外部電極 203をグランドライン 1 07に接続した。このように接続した状態で、図 4に示す回路により印加される静電気 パルスの電圧 8kVを印加し、被保護機器 110に印加される静電気パルスのピーク電 圧値を測定して、その抑制効果を評価した。
[0064] 実施例 2を設けた場合に、被保護機器 110に印加されるピーク電圧値は約 230V であった。この結果、実施例 2は静電気パルスに対する吸収抑制効果を充分有する ことがわ力つた。さらに、実施例 2は、内部電極 113の面積および外部電極 14A、 14 Bの面積を小さくすることで、浮遊容量を減らすことができる。このため、実施例 1と比 ベても、静電容量を 1Z2以下にすることが可能である。
[0065] また、本実施の形態の静電気対策部品では保護膜 18を形成して ヽるが、この保護 膜 18を形成せずに、ニッケルおよびはんだの二層構成のめっきをすると、外部電極 14A、 14B以外の領域において部分的にめっき流れが起こり、歩留まりが非常に悪 くなることが見出された。
[0066] なお、本実施の形態の静電気対策部品は、保護膜を形成するために榭脂ペースト を用いたが、ガラスペーストを用いて焼き付けた保護膜としてもよい。あるいは、ガラス ペーストをバリスタ部 50と一体的に焼成して形成してもよい。
[0067] (第 3の実施の形態)
図 7は、本発明の第 3の実施の形態にカゝかる静電気対策部品の模式的分解斜視 図である。また、図 8は、この静電気対策部品の外観斜視図である。さらに、図 9は、 この静電気対策部品の等価回路図である。
[0068] 図 7および図 8に示すように、本実施の形態に力かる静電気対策部品は、バリスタ 部 70と、インダクタを内蔵したガラスセラミック基板 20と、グランド用外部電極 15A、 入力用外部電極 15Bおよび出力用外部電極 15Cを備えた構成力もなる。なお、本 実施の形態では、ガラスセラミック基板が本発明でいうセラミック絶縁基板である。こ れ以降の説明では、必要に応じてセラミック絶縁基板 20またはガラスセラミック基板 2 0と表記する。
[0069] ノ リスタ部 70は、ノ リスタ層 10F、 10G、 10Hと、内部電極 11D、 11E、 1 IFとを積 層した構成力もなる。また、ガラスセラミック基板 20は、ガラスセラミック層 20A、 20B、 20Cと、ガラスセラミック層 20B上に形成されたインダクタ導体 19を有しており、これら のガラスセラミック層 20A、 20B、 20Cが積層された構成力もなる。
[0070] ノ リスタ部 70は、インダクタを内蔵したガラスセラミック基板 20の上に設けられてい る。なお、内部電極 11Dとインダクタ導体 19および内部電極 11Eとインダクタ導体 19 は、それぞれのビア導体 17によって電気的に接続されている。これらを積層した後に 焼結して一体ィ匕したセラミック焼結体とし、さらにこのセラミック焼結体にグランド用外 部電極 15A、入力用外部電極 15Bおよび出力用外部電極 15Cを設けた構成からな る。
[0071] 内部電極 11Fはセラミック焼結体の短辺側の両端部に延在されており、グランド用 外部電極 15Aと電気的に接続されている。また、内部電極 11Dは長辺側の一方の 端部に延在されており、入力用外部電極 15Bと電気的に接続されている。さらに、内 部電極 11Eは長辺側の他方の端部まで延在されており、出力用外部電極 15Cと電 気的に接続されている。
[0072] 図 9は、本実施の形態に力かる静電気対策部品の等価回路を示す図である。図 9 に示すように、本実施の形態の静電気対策部品は、 2つのバリスタ 201がインダクタ 2 06に対して並列に接続されている。 2つのバリスタ 201はグランド用外部電極 203、 入力用外部電極 204および出力用外部電極 205にそれぞれ図示するように接続さ れている。また、インダクタ 206は入力用外部電極 204と出力用外部電極 205との間 に設けられている。
[0073] なお、上記したように、本実施の形態の静電気対策部品の入力用外部電極 15Bと 出力用外部電極 15Cとは、等価回路的には同じ構成である。したがって、実際に回 路に接続して使用する際には、どちらか一方が入力用外部電極 204、他方が出力用 外部電極 205となる。また、本実施の形態の静電気対策部品に 2つのノ リスタ 201は 、図 7に示す内部電極 11D、 1 IFおよびこれらにより挟まれたノ リスタ層 10Gと、内部 電極 11E、 1 IFおよびこれらにより挟まれたバリスタ層 10Gとによりそれぞれ構成され ている。また、インダクタ 206はインダクタ導体 19を主として構成されている。
[0074] 上記したように、本実施の形態における静電気対策部品は、第 1の実施の形態およ び第 2の実施の形態における静電気対策部品と同様に、バリスタ層の材料よりも比誘 電率の低いガラスセラミック基板を用いている。したがって、静電気対策部品の浮遊 容量を小さくすることができる。この結果、静電容量の非常に小さい静電気対策部品 を得ることができる。
[0075] また、本実施の形態における静電気対策部品は、セラミック絶縁基板 20としてイン ダクタを内蔵したガラスセラミック基板を用いている。さらに、内部電極 11D、 11Eとィ ンダクタ導体 19とをそれぞれビア導体 17によって接続している。この接続構成とする ことで、 2つのノ リスタとインダクタを π字型に繋いだ構成となる。これにより、さらに優 れたフィルタ機能を有する静電気対策部品が得られる。
[0076] つぎに、本実施の形態に力かる静電気対策部品の製造方法について、図 7および 図 8を用いて説明する。
[0077] まず、ホウ珪酸ガラスとアルミナを主成分とするガラスセラミック粉末および有機バイ ンダとを含むガラスセラミック生シートを作製し準備する。この時、このガラスセラミック 生シートの厚みは約 30 μ mとした。
[0078] つぎに、このガラスセラミック生シートを複数枚積層する(図 7では、 4枚)。この積層 した生シートの一番上で焼成後にガラスセラミック層 20Bとなる生シート上に、銀を主 成分とする導体ペーストを用いて、例えばスクリーン印刷法でインダクタ導体 19となる 導体層を形成する。
[0079] その上に、インダクタ導体 19となる導体層の両端、内部電極 11D、 1 IEとなる導体 層にそれぞれ電気的に接続する位置にビア導体 17となる導体ペーストが充填された ガラスセラミック生シートを複数枚積層する(図 7では、 3枚)。なお、これらのガラスセ ラミック生シートは焼成後にはガラスセラミック層 20Cとなる。 [0080] このような構成力もなる積層体を大気中で加熱して脱バインダ処理する。その後、 大気中で 940°Cまで加熱して焼成する。これにより、インダクタを内蔵したガラスセラミ ック基板 20が得られる。なお、このガラスセラミック基板 20の厚みは約 250 μ mとした
[0081] つぎに、酸化亜鉛を主成分とするセラミック粉末と有機バインダとを含む酸化亜鉛 生シートを作製し準備する。この時、生シートの厚みは約 30 mとした。
[0082] つぎに、インダクタ導体 19の両端および内部電極 11D、 11Eに、それぞれ電気的 に接続する位置に導体ペーストが充填された酸化亜鉛生シートを作製する。なお、こ の酸ィ匕亜鉛生シートは焼成後にバリスタ層 10Fとなり、導体ペーストは焼成後にビア 導体 17となる。
[0083] この酸ィ匕亜鉛生シートの上に銀を主成分とする導体ペーストを用いて、例えばスク リーン印刷法で内部電極 11Fとなる導体層を形成する。その上に、上記と同様にイン ダクタ導体 19の両端および内部電極 11D、 1 IEに電気的に接続する位置に導体べ 一ストが充填された酸ィ匕亜鉛生シートを積層する。なお、この酸ィ匕亜鉛生シートは焼 成後にノ リスタ層 10Gとなり、導体ペーストはビア導体 17となる。
[0084] さらに、この酸化亜鉛生シートの上に、導体ペーストを用いて、例えばスクリーン印 刷法で、内部電極 11D、 1 IEとなる導体層を形成する。その上に、さらに酸化亜鉛生 シートを積層した。この酸ィ匕亜鉛生シートは焼成後にはバリスタ層 10Hとなる。これに より、ノ リスタ部 70となる積層体が得られる。
[0085] つぎに、この積層体を上記のガラスセラミック基板 20上に貼り付けて積層体ブロック とする。このとき、ビア導体 17がインダクタ導体 19の両端部とそれぞれ電気的に接続 するように貼り付ける。なお、導体層の厚みは約 2. 5 mとした。
[0086] なお、本実施の形態では、ガラスセラミック基板 20上に複数個の静電気対策部品 を作製する。このために、印刷した導体層のパターンは、図 7に示す形状を多数、ガ ラスセラミック生シートおよび酸ィ匕亜鉛生シート上にそれぞれ形成する。これにより、 切断した後には、図 8に示す形状の静電気対策部品を一度に多数作製することがで きる。
[0087] つぎに、上記の積層体ブロックを大気中で加熱して脱バインダ処理する。その後、 大気中で 930°Cまで加熱して焼成し、一体化した焼結体を形成する。この後、所定 の寸法に切断分離する。これにより、図 7および図 8に示す形状の静電気対策部品を 形成する前段階である、外部電極 15A、 15B、 15Cの形成されていない状態のセラ ミック焼結体が得られる。
[0088] 続いて、このセラミック焼結体の短辺側の両端部で、内部電極 11Fが延在されて露 出した部分に銀を主成分とする導体ペーストを塗布する。さらに、長辺側の両端部で 、内部電極 11D、 1 IEがそれぞれ露出した部分に同様に銀を主成分とする導体べ 一ストを塗布する。これらの塗布後、 800°Cで焼付けを行って、外部電極 15A、 15B 、 15Cを形成する。これ〖こより、図 7および図 8に示した本実施の形態に力かる静電 気対策部品が得られる。
[0089] 作製した本実施の形態に力かる静電気対策部品は、長手方向寸法が約 1. Omm, 幅方向寸法が約 0. 5mm、厚み方向寸法が約 0. 3mmである。そして、外部電極 15 Aと 15Bとの間の静電容量は 1. OpF、バリスタ電圧 V = 27Vであった。また、同様
1mA
に、外部電極 15Aと 15Cとの間の静電容量は 1. OpF、バリスタ電圧 V = 27Vであ
1mA つた。さらに、外部電極 15Bと 15Cとの間のインダクタンスは約 3nHであった。
[0090] また、本実施の形態に力かる静電気対策部品は、 π型フィルタの構成とし、容量値 とインダクタンスもフィルタ計算に合わせた数値としている。これにより、 3GHz付近に 共振を持つ 3段の急峻なフィルタ特性を持っており、より優れたノイズフィルタとしての 特性を有していることが確認できた。以下、このようにして作製した本実施の形態の 静電気対策部品を実施例 3とよぶ。
[0091] つぎに、本実施の形態の静電気対策部品である実施例 3について、静電気試験を 行 、評価した結果につ!、て説明する。
[0092] 評価方法は、第 1の実施の形態で説明した静電気試験と同様に行った。本実施の 形態では、実施例 3を図 4に示す評価試料 109として、入力用外部電極 204を信号 ライン 108の入力側、つまり抵抗 106側に接続し、出力用外部電極 205を信号ライン 108の出力側、つまり被保護機器 110側に接続し、グランド用外部電極 203をグラン ドライン 107に接続した。そして、図 4に示す回路により印加される静電気パルスの電 圧 8kVを印加し、被保護機器 110に印加される静電気ノ ルスのピーク電圧値を測定 して、その抑制効果を評価した。
[0093] この結果、実施例 3を設けた場合、被保護機器 110に印加されるピーク電圧値は約 200Vであった。この結果から、実施例 1および実施例 2よりも静電気パルスに対する 吸収抑制効果が高 、ことがわ力つた。
[0094] なお、本実施の静電気対策部品は、 1つのインダクタと 2つのノ リスタとで π型フィ ルタとした構成を示した力 本発明はこれに限定されない。この他に、例えばインダク タ部のインダクタ導体 19とノ リスタ部の内部電極 11D、 11E、 1 IFの構成およびその 接続方法を変えて T型の多段構成とし、さらにそのインダクタンスと静電容量を適当 な値に調整することで、 3段以上の多段構成力もなるローパスフィルタとしてもよい。こ のような構成とすることにより、ローパスフィルタとしての機能をさらに高めることもでき る。
[0095] なお、第 1の実施の形態力 第 3の実施の形態までにおいては、静電対策部品とし ての开状を 1. Omm X O. 5mm X O. 3mmとした場合について説明したが、この大き さには特に限定されない。製造工法や強度が許容される限り、さらに大きくしてもある いは小さくしてもよい。
[0096] また、本発明の静電気対策部品は、アルミナなどの強度の高い基板を使うため、薄 型の静電気対策部品を作製しても充分な強度を有する。このため、その全体の厚み は上記の実施の形態で説明した厚みに限定されるものではない。
[0097] また、第 1の実施の形態から第 3の実施の形態までは、バリスタ部のバリスタ機能を 有する有効層の層数は 1層としたが、このような有効層は何層あっても構わない。また 、セラミック絶縁基板はアルミナ基板とガラスセラミック基板を用いたが、フェライトや 高誘電率誘電体などを用いても良い。また、導体ペーストは銀ペーストを用いた例に ついて説明したが、銀 パラジウムペースト、白金ペーストなど他の導体ペーストを用 いても良い。また、内部電極はバリスタ部とセラミック絶縁基板との界面に形成しても よい。
[0098] また、第 2の実施の形態の場合についてのみ保護膜を形成した例について説明し たが、第 1の実施の形態および第 3の実施の形態においても、保護膜を形成してめつ きを施してもよい。このような構成にすれば、第 2の実施の形態の静電気対策部品と 同様に、より実装性の優れた静電気対策部品を得ることができる。
[0099] さらに、保護膜の形成およびめつきは、焼結体を所望の寸法に切断分離する前で あっても、切断分離後でもよい。
産業上の利用可能性
[0100] 本発明に係る静電気対策部品は、極めて低容量の静電気対策部品であり、高周 波のクロック周波数で作動する電子機器でも、その動作に影響を与えることがないの で、静電気パルスによる破壊力ゝら高周波の電子機器を保護する部品分野において 有用である。

Claims

請求の範囲
[1] セラミック絶縁基板と、
前記セラミック絶縁基板上に焼結一体ィ匕して設けたバリスタ層と内部電極とからなる ノ リスタ部と、
前記バリスタ部に設けた少なくとも一対の外部電極とを有し、
前記バリスタ部にバリスタを形成した静電気対策部品。
[2] 前記外部電極は前記バリスタ部の同一面に焼結一体化して設けた構成からなる請求 項 1に記載の静電気対策部品。
[3] 前記セラミック絶縁基板の厚みは、前記バリスタ部の厚みの 2倍以上とした請求項 1 に記載の静電気対策部品。
[4] 前記バリスタ層は酸ィ匕亜鉛を主成分とする材料であり、かつセラミック絶縁基板は酸 ィ匕銅の含有量が重量比で 0. 1%以下のアルミナ基板である請求項 1に記載の静電 気対策部品。
[5] 前記バリスタ部の上面は、前記外部電極の形成領域を除き保護膜が形成されて ヽる 請求項 1に記載の静電気対策部品。
[6] 前記セラミック絶縁基板はインダクタを内蔵し、前記インダクタは前記バリスタ部の前 記バリスタに電気的に接続された請求項 1に記載の静電気対策部品。
[7] 前記バリスタは 2個からなり、前記バリスタと前記インダクタとにより π型フィルタ構成と した請求項 6に記載の静電気対策部品。
[8] 前期バリスタと前記インダクタとを複数設けて多段構成のローパスフィルタとした請求 項 6に記載の静電気対策部品。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009252930A (ja) * 2008-04-04 2009-10-29 Panasonic Corp 静電気対策部品およびこの静電気対策部品を備えた発光ダイオードモジュール
JP2013520059A (ja) * 2010-02-10 2013-05-30 エプコス アーゲー 積層セラミック部品

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006269876A (ja) 2005-03-25 2006-10-05 Matsushita Electric Ind Co Ltd 静電気対策部品
US7502213B2 (en) * 2005-07-04 2009-03-10 Tdk Corporation Surge absorber
US7400485B2 (en) * 2005-09-28 2008-07-15 Tdk Corporation Surge absorber
US7639470B2 (en) 2005-12-14 2009-12-29 Tdk Corporation Varistor element
JP2008289111A (ja) * 2007-04-19 2008-11-27 Tdk Corp 積層型フィルタ
US7728695B2 (en) 2007-04-19 2010-06-01 Tdk Corporation Multilayer filter having an inductor portion and a varistor portion stacked with an intermediate portion
JP5262451B2 (ja) * 2008-08-29 2013-08-14 Tdk株式会社 積層型チップバリスタ
CN101668381B (zh) * 2008-09-03 2012-07-25 深圳富泰宏精密工业有限公司 电子装置
US8053898B2 (en) * 2009-10-05 2011-11-08 Samsung Electronics Co., Ltd. Connection for off-chip electrostatic discharge protection
JP5551480B2 (ja) * 2010-03-24 2014-07-16 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置および半導体装置の製造方法
WO2012153655A1 (ja) * 2011-05-10 2012-11-15 株式会社村田製作所 Esd保護デバイス
JP5459291B2 (ja) * 2011-10-28 2014-04-02 Tdk株式会社 複合電子部品

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5885502A (ja) * 1981-11-17 1983-05-21 松下電器産業株式会社 厚膜バリスタの製造法
JPH0733514A (ja) * 1993-07-19 1995-02-03 Nippondenso Co Ltd アルミナ基板及びこれを用いた多層基板
JPH11251152A (ja) * 1998-03-03 1999-09-17 Matsushita Electric Ind Co Ltd 複合部品およびその製造方法

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02137212A (ja) * 1988-11-17 1990-05-25 Murata Mfg Co Ltd 複合電子部品
JP3453857B2 (ja) 1994-07-20 2003-10-06 松下電器産業株式会社 積層型バリスタの製造方法
JP2005203479A (ja) * 2004-01-14 2005-07-28 Matsushita Electric Ind Co Ltd 静電気対策部品

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5885502A (ja) * 1981-11-17 1983-05-21 松下電器産業株式会社 厚膜バリスタの製造法
JPH0733514A (ja) * 1993-07-19 1995-02-03 Nippondenso Co Ltd アルミナ基板及びこれを用いた多層基板
JPH11251152A (ja) * 1998-03-03 1999-09-17 Matsushita Electric Ind Co Ltd 複合部品およびその製造方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009252930A (ja) * 2008-04-04 2009-10-29 Panasonic Corp 静電気対策部品およびこの静電気対策部品を備えた発光ダイオードモジュール
JP2013520059A (ja) * 2010-02-10 2013-05-30 エプコス アーゲー 積層セラミック部品
US9236844B2 (en) 2010-02-10 2016-01-12 Epcos Ag Ceramic multilayer component

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