WO2005040930A1 - 現像装置、現像方法、及び現像液循環方法 - Google Patents

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WO2005040930A1
WO2005040930A1 PCT/JP2004/015920 JP2004015920W WO2005040930A1 WO 2005040930 A1 WO2005040930 A1 WO 2005040930A1 JP 2004015920 W JP2004015920 W JP 2004015920W WO 2005040930 A1 WO2005040930 A1 WO 2005040930A1
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developing
filtrate
ultrafiltration
tank
developer
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PCT/JP2004/015920
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Kazuma Taniwaki
Takeshi Ikeda
Tomoyuki Shukunami
Yasuaki Matsumoto
Masahiro Tada
Naoki Furutani
Shinya Kusunoki
Takahisa Matsunae
Yutaka Tenmaya
Noritaka Mihashi
Hiroyuki Chinone
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Toppan Printing Co., Ltd.
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    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/3042Imagewise removal using liquid means from printing plates transported horizontally through the processing stations
    • G03F7/3071Process control means, e.g. for replenishing

Definitions

  • the present invention relates to a developing device, a developing method, and a developer circulating method, and more particularly, to development when forming a colored pixel in manufacturing a color filter.
  • a color filter used for a liquid crystal display or the like is an optical element having a pattern of fine red, green, blue, and the like.
  • the manufacturing process includes steps of applying a photosensitive resist on a transparent substrate such as glass and developing the same, and the same process is repeated for each color.
  • a conventional developing process in the production of a color filter will be described.
  • the developing step is an important step that affects the shape of the pattern in the photolithographic process, with the aim of dissolving and removing the uncured resist after exposure.
  • Items managed in the development process include the development time, the temperature of the developer, and the like. The items are all based on the developing power of the developer used, although they vary depending on the configuration and method of the developing tank.
  • a normal developing device is composed of a developing tank and a developing solution tank, regardless of a batch type or a single wafer type, and involves simple circulation of the developing solution.
  • the number of sheets to be processed is controlled, and after processing a predetermined number of sheets, the developer in the developer tank is drained all at once, or replenishment and development of new developer
  • An object of the present invention is to reduce the quality of a developing solution by treating the developing solution subjected to development with an ultrafiltration filter, reusing the filtrate, and circulating a concentrated solution.
  • An object of the present invention is to provide a developing apparatus, a developing method, and a developing solution circulating method, which make it possible to keep running costs low and to easily control a process.
  • Another object of the present invention is to prevent clogging of the ultrafiltration filter when used for a long time.
  • An imaging device that prevents a decrease in filtrate volume, facilitates maintenance, eliminates the need for fine adjustment of development parameters even in continuous operation, and does not impair workability even when the product is enlarged.
  • An object of the present invention is to provide a developing method and a developer circulating method.
  • a developing tank in which a developing process is performed, a developing solution circulating tank containing a developing solution, and a developing solution in the developing solution circulating tank are sent to the developing tank.
  • the developing device according to the first aspect of the present invention configured as described above can employ various configurations as described below.
  • the ultrafiltration filter is configured to have a filtration accuracy of a molecular weight cut off of 1,000 to a particle size of 10 ⁇ m.
  • a structure further comprising a means for periodically supplying a constant amount of the developing solution to the circulation tank.
  • An adjusting valve for adjusting the flow rate of the filtrate having the ultrafiltration filter power, a flow meter for measuring the flow rate of the filtrate from the ultrafiltration filter, and the flow rate of the concentrated solution from the ultrafiltration filter.
  • a configuration further comprising a flow meter for measuring the flow rate, and a constant liquid permeability mode mechanism for automatically adjusting the ratio of the filtrate flow rate and the concentrate flow rate to an optimum value.
  • An adjustment valve for adjusting the flow rate of the filtrate having the ultrafiltration filter power, a pressure gauge for measuring the pressure of the filtrate from the ultrafiltration filter, and the ultrafiltration filter.
  • a configuration further comprising a constant filtrate pressure mode mechanism for automatically adjusting the pressure of the filtrate to an optimum value.
  • the developing device can further include a backwashing liquid supply system that sends a backwashing liquid to the ultrafiltration filter.
  • a backwashing liquid supply system that sends a backwashing liquid to the ultrafiltration filter.
  • the backwashing liquid supply system includes a flow meter that measures a flow rate of the backwashing liquid and a pressure gauge that measures a pressure of the backwashing liquid.
  • the backwashing liquid supply system is connected to the ultrafiltration filter!
  • a backwash tank for storing the separated filtrate as a backwash solution for the filtration filter shall be provided.
  • the backwashing liquid supply system controls the flow rate or the pressure of the backwashing liquid to be maintained at a set value based on a measurement value fed back from either the flow meter or the pressure gauge. Provide a backwash control system.
  • the reverse cleaning control system can set a reverse cleaning time.
  • the backwash control system is provided with an automatic valve in a concentrated liquid circulation path upstream of the ultrafiltration filter, and can select a valve closed state or a valve open state during backwash.
  • the backwash control system includes a backwash pump having an inverter, and controls the pump frequency to maintain a set value by controlling a pump frequency.
  • a plurality of the ultrafiltration filters are provided, a filtrate having a first ultrafiltration filter power is stored in the backwash tank, and the stored filtrate is stored in the first ultrafiltration filter.
  • a mechanism is provided for backwashing the second and subsequent ultrafiltration filters in the same manner, and a plurality of ultrafiltration filters are periodically backwashed during continuous operation. Be done.
  • the developing device includes a plurality of the ultrafiltration filters, and the flow of the concentrated liquid in the first ultrafiltration filter is opposite to the direction in which the concentrated liquid flows in the normal state.
  • the ultrafiltration filter is washed by changing the flow of the concentrate by flowing back in the direction of
  • the second and subsequent ultrafiltration filters are equipped with a mechanism to reverse the flow of the concentrate sequentially in the same manner.
  • the flow of the concentrate is sequentially reversed through a plurality of ultrafiltration filters. It can be configured.
  • the developing solution is supplied to the developing tank by using the developing solution sent from the developing solution circulating tank.
  • a developing method for performing a developing process is provided.
  • the ultrafiltration concentrated solution tank power is periodically discarded, and an amount corresponding to the discarded developer is removed.
  • a developing solution circulating method is provided in which a developing solution circulating tank is periodically supplied with a new developing solution to maintain a liquid amount balance.
  • FIG. 1 is a diagram showing a correlation between a developer contamination degree and time in a conventional system and a system of the present invention.
  • FIG. 2 is a flowchart of a developing device according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 3 is a flowchart of a developing device according to another embodiment of the present invention, which does not require a backwashing pipeline.
  • FIG. 4 is an explanatory diagram of a time chart of a reverse cleaning mechanism.
  • FIG. 5 is an explanatory diagram of a time chart of a backwash / backflow mechanism.
  • the developing device includes a developing solution circulating system that circulates a developing solution to be subjected to a developing process and a developing solution that has been subjected to the developing process.
  • An ultrafiltration filter that separates a part of the developing solution into a filtrate and a concentrated solution, and the filtrate separated by the ultrafiltration filter is returned to the developer circulation system, and the filtrate is circulated to concentrate. It is composed of a liquid circulation system.
  • the developer circulating system includes a developing tank in which a developing process is performed, a developer circulating tank that stores the developing solution, a unit that sends the developing solution in the developing solution circulating tank to the developing tank, Means for returning the developing solution used in the developing process in the developing tank to the developing solution circulating tank, wherein the filtrate / concentrated solution circulating system controls the developing solution sent from the developing solution circulating tank.
  • An ultrafiltration concentrate tank to be accommodated, means for sending the developer in the ultrafiltration concentrate tank to the ultrafiltration filter, and a concentrate separated by the ultrafiltration filter.
  • the developer is separated into a filtrate and a concentrated solution, and the filtrate is separated from the developer.
  • the concentrate is sent to the circulation tank and the concentrate is sent to the ultrafiltration concentrate tank, so the developer after the development process is separated into a low-contamination developer circulation tank and a high-contamination ultrafiltration concentrate tank.
  • the developing solution used for developing the substrate to be developed in the developing tank is sent from the developing solution circulating tank, product defects due to the low-contamination level of the developing solution are reduced.
  • the developing tank uses a developer that is less contaminated than in the past, troubles caused by the apparatus are reduced and maintainability is improved.
  • the developing device When the developing device is continuously operated, a fixed amount of the developing solution in the ultrafiltration concentrated solution tank is periodically discarded, and a fixed amount of the developing solution is periodically supplied to the developing solution circulating tank.
  • the new developing solution is periodically supplied to the developing solution circulating tank, and the supplied amount is periodically discarded from the highly-contaminated ultrafiltration concentrated solution tank. It takes less time to secure the required amount of filtrate, enabling efficient supply and waste liquid flow, leading to a reduction in the amount of developer used.
  • the developing solution in the initial state which starts with a new developing solution, has a strong developing power and then gradually decreases in developing activity. Therefore, fine adjustment of the developing time in the process is necessary. This is because active species in the developer are reduced. Therefore, replenishment of the developing solution is indispensable for replenishment of active species.
  • the developing power since the supply of the new developing solution and the waste amount of the ultrafiltration concentrated solution tank are kept constant, the developing power reaches a steady state with a predetermined number of processed sheets, and the maintenance Since the degree is low, it is not necessary to finely adjust the development parameters while keeping the conditions in the steady state, and stable development can be performed for a long time.
  • the steady state of the developing power of such a developing solution is determined by the supply amount of the developing new solution and the periodic disposal amount of the developing solution from the ultrafiltration concentrated solution tank. Neglecting the amount of developer taken out by the substrate to be developed, the amount of supply is equal to the amount of waste, and developing power in a steady state can be adjusted by increasing or decreasing both. If long-term development is required depending on the type of photosensitizer, the amount of both can be increased, and conversely, if the photosensitizer can be developed in a short period of time, it can be optimized by taking measures to reduce it. .
  • the ultrafiltration filter used degrades with little force corresponding to the use time, which leads to a decrease in the filtrate volume. However, this deterioration can be suppressed by performing a backwashing process on each ultrafiltration filter at regular intervals.
  • the ultrafiltration filter used traps contaminants in the developing solution, so that the filter becomes clogged with time and the amount of the filtrate decreases.
  • backflow treatment at regular intervals on each ultrafiltration filter, clogging of contaminants can be eliminated, and contaminants inside the ultrafiltration filter can be removed. Can be suppressed.
  • FIG. 1 shows a comparison between the conventional system and the system of the present invention.
  • A shows the correlation between time and the degree of developer contamination using the method of the present invention.
  • B develops a predetermined number of substrates to be developed, drains all the developing solution, and supplies new developing solution. Is the time when the developer is changed after the new developing solution is supplied and the developing solution in the developing solution tank is continuously drained, and after a predetermined number of substrates are developed, the developing solution is replaced. Shows the correlation of
  • a developing apparatus As described above, according to the present invention, there are provided a developing apparatus, a developing method, and a developer circulating method in which workability does not deteriorate even when a product is enlarged and process management is extremely easy.
  • the inventors of the present invention used a conventional method corresponding to C in Fig. 1 for the amount of developer used per substrate to be developed in the case of performing a development process for producing a color filter.
  • An experiment was performed in which the method of the present invention, which corresponds to A of FIG. 1, was compared. The results are shown in the table below.
  • the amount of developer used in the conventional method is 13 per color filter in total, but in the method of the present invention, it is reduced to 5 or less, which is less than half. You can see that. From this result, a very large cost reduction effect can be obtained by the method of the present invention. You can see that.
  • the amount of developer used is substantially the same for all members. In particular, the use of B and PS is decreasing.
  • FIG. 2 is a flowchart of the developing device according to one embodiment of the present invention.
  • Reference numeral 4 indicates a developing solution circulating tank.
  • the developing solution is supplied to the developing solution circulating tank 4 through a developing solution supply line 3 .
  • the developing solution in the developing solution circulating tank 4 is sent to the developing solution use point 1 via the developing solution circulating pump 17, and the developing substrate 2 is subjected to development processing in the developing tank 2.
  • the force with use point 1 as the showering process is not limited to this method.
  • the developer used for the development is returned to the developer circulation tank 4 through the pipe 24, and this circulation is continuously repeated during operation of the apparatus.
  • a part of the developing solution stored in the developing solution circulating tank 4 is sent to the ultrafiltration concentrated solution tank 5 via the developing circulating solution sending pump 15.
  • the supply of the new developing solution can be supplied not only from the new developing solution supply line 3 but also to the ultrafiltration concentrated solution tank 5. Therefore, when the developer circulation tank 4 and the ultrafiltration concentrate tank 5 are operated from an empty state, for example, at the time of renewing the developer, first, the developer circulation tank 4 and the ultrafiltration concentrate tank 5 are both operated. Fill the developing solution. It is desirable to provide a liquid level sensor in the developer circulation tank 4 and the ultrafiltration concentrate tank 5 to control the amount of the developer.
  • the developer in the ultrafiltration concentrate tank 5 is sent to five ultrafiltration filters 7-11 via the concentrate feed pump 16.
  • the ultrafiltration filter the developer is separated into a filtrate that passes through the filter and a concentrate that does not pass through.
  • the former is sent to the three-way valve 14 and the latter is sent to the ultrafiltration filter concentrate circulation line 21.
  • the ultrafiltration filter concentrated liquid circulation line 21 is a circulation line in which the concentrated liquid is returned to the ultrafiltration concentrated liquid tank 5.
  • the filtrate is usually stored in the filtrate tank 12 through the ultrafiltration filter filtrate line 22 via the three-way valve 14. Further, the filtrate is continuously sent from the filtrate tank 12 to the developer circulation tank 4 via a filtrate sending pump 18.
  • the constant filtrate mode, the constant filtrate flow mode, or the constant filtrate pressure mode is selected. Or one of the modes is selected, and the liquid permeability (the ratio of the filtrate flow rate to the concentrate flow rate) is selected.
  • the developing device operates in a state where the flow rate of the filtrate or the pressure of the filtrate is controlled to be constant.
  • the concentrated liquid feed pump 16 does not perform control linked to the three modes described above, which is capable of changing the feed pressure and flow rate of the concentrated liquid by frequency control by an inverter.
  • the pump 16 is independently inverter-controlled so that the initial set pressure set in the condition setting is always maintained. That is, during operation of the developing device, the pressure gauge 43 is controlled to be always at the set value.
  • the air operation is performed so that the ratio (liquid permeability) between the value of the flow meter 39 (filtrate flow rate) and the value of the flow meter 38 (concentrate flow rate) becomes the set value.
  • Valve (adjustment valve) 32 is feedback controlled.
  • the appropriate liquid permeability largely depends on the type of the filter, and particularly depends on the inner diameter of the hollow fiber constituting the filter and the molecular weight cut off. If the liquid permeability is high, the flow rate of the filtrate with respect to the flow rate of the concentrated solution will be high, and the retention of contaminants on the inner surface of the hollow fiber membrane will be promoted, and the backwashing effect will be reduced.
  • the optimal value of the liquid permeability should be 80% or less of the value when the air operation valve (adjustment valve) 32 is fully opened. This is the same when operating with the valve 35 being throttled.
  • the air operation valve (adjustment valve) 32 is feedback-controlled so that the value of the flow meter 39 becomes an optimum value according to the type of the ultrafiltration filter. Since the optimal flow rate of the ultrafiltration filter varies depending on the type, if the flow rate is not optimal, the filter may become clogged in a short time, and the required amount of filtrate may not be secured.
  • the optimum flow value should be 80% or less of the value when the air operation valve (adjustment valve) 32 is fully opened.
  • the air operation valve (adjustment knob) 32 is controlled so that the value of the pressure gauge 42 becomes constant.
  • the set value of the pressure gauge 42 is OkPa when the air operation valve is fully opened, so it is preferable that the set value be 10 kPa or more.
  • the molecular weight cut off is 10 00—For ultrafiltration filters with a particle size range of 10 m.
  • the permeation of dissolved ions is also blocked, so that the properties of the developer itself may be lost.
  • contaminants cannot be trapped, and the cleanliness of the filtrate is reduced.
  • the filtration accuracy of an ultrafiltration filter is classified by a value called a molecular weight cutoff.
  • the ultrafiltration filters usable in the present invention include those commonly used under the names of microfiltration filters, microfilters and the like.
  • the filtrate of the ultrafiltration filter is also used as a liquid for back washing.
  • one ultrafiltration filter is always selected as the ultrafiltration filter to be backwashed.
  • the ultrafiltration filter 7 is selected as an example.
  • the force sent from the ultrafiltration concentrate tank 5 to the entire ultrafiltration filter via the concentrate supply pump 16 and selected as the backwash mode, the filtrate obtained from the ultrafiltration filter 7 is a three-way valve. It is stored in the backwash tank 13 through the ultrafiltration filter backwash filtrate line 23 via 14.
  • the backwash tank 13 is provided with a liquid level sensor, and when the sensor detects a predetermined liquid level, the backwash liquid feed pump 19 starts operating, and the backwash filtrate line 23 and It is sent to the filtrate side of the ultrafiltration filter 7 via the three-way valve 14, and the ultrafiltration filter 7 is backwashed.
  • the liquid used for the backwash may be discarded, here, an example in which the liquid is returned to the ultrafiltration concentrate tank 5 through the valve 34 and the backwash liquid return line 20 is shown.
  • the backwashing operation is time-controlled, and after the backwashing operation for a predetermined time, the next ultrafiltration filter 8 is selected in the backwashing mode, and the same operation is repeated.
  • a flow meter 45 and a pressure gauge 46 are attached to the reverse cleaning path 23, and either! / Or a difference between the reverse cleaning flow fixed mode and the reverse cleaning pressure fixed mode is selected.
  • the backwash pump 16 is inverter-controlled so that the value of the flow meter 45 becomes the set value.
  • the backwash pump 16 is inverter-controlled so that the value of the pressure gauge 46 becomes a set value.
  • a set value can be set for each filter.
  • the reverse cleaning time is managed by the control system of the apparatus. The ability to set the backwash time for each filter Basically, it is desirable that all ultrafiltration filters 7-11 be backwashed with the same backwash time.
  • the auto valve 30 at the time of back washing can be selected from an open state and a closed state, and is normally operated in an open state, that is, in a state in which the concentrated liquid is circulated.
  • an open state that is, in a state in which the concentrated liquid is circulated.
  • the concentrated liquid can flow in one ultrafiltration filter in a direction opposite to the flow direction in the normal state.
  • the concentrated liquid is caused to flow back to the ultrafiltration filter 7.
  • the effect of washing the inside of the ultrafiltration filter can be obtained by changing the flow of the concentrated solution by flowing the concentrated solution back into the ultrafiltration filter.
  • the concentrated liquid sent from the concentrated liquid sending pump 16 passes through the reverse flow pipe 44 via the valve 30 and the three-way valve 28, and flows into the ultrafiltration filter via the three-way valve 29.
  • the concentrate after washing with the ultrafiltration filter is returned to the ultrafiltration concentrate tank 5 through the knob 31.
  • the backflow time is time-controlled and flows backward for a predetermined time. At this time, the filtrate side valve 32 is closed.
  • FIG. 3 is a flowchart of the developing device that does not require a conduit for the backflow of the concentrated liquid.
  • the ultra-filter 7 is selected as an example.
  • the valve 30 is closed and the valve 31 is opened at the same time as the reverse flow mode, the concentrate from the ultrafiltration filter 8-11 flows into the ultrafiltration filter 7 through the flow meter 38, and the backflow to the ultrafiltration filter 7 Be started.
  • the knob 32 is closed to prevent the filtrate from flowing out of the ultrafiltration filter 7.
  • the valve 35 is adjusted so that an appropriate amount of the concentrated liquid flows from the ultrafiltration filter 8-11 to the ultrafiltration filter 7.
  • the developer circulation tank 4, ultrafiltration concentrate tank 5, filtrate tank 12, and backwash tank 13 in Fig. 2 All were equipped with liquid level management sensors, and were fed back to each pump so that the liquid level was always constant.
  • the developing circulating liquid feed pump 15, the concentrated liquid feed pump 16, and the filtrate feed pump 18 are closely related, and all the criteria are the filtrate flow rate fed by the filtrate feed pump 18.
  • This filtrate flow rate means the filtrate flow rate obtained by the ultrafiltration filter power, and the pump frequency is controlled by the flow meter 36 attached to the ultrafiltration filter filtrate line 22. This constantly controls the flow rate in addition to the information of the liquid level management sensor of the filtrate tank 12.
  • the developing circulating liquid feed pump 15 basically feeds back the flow rate of the filtrate sending pump 18 as it is, but the periodic supply of the new developing solution in the developing solution circulating tank 4 and the periodic supply of the ultrafiltration concentrated solution tank 5 Due to the influence of the drain, feedback is also received from the liquid level management sensors owned by each.
  • the flow rate of the filtrate sent to the developing solution circulation tank 4 by the filtrate sending pump 18 is 10 liters Z
  • the developing solution sent to the ultrafiltration concentrate tank 5 by the developing circulating solution sending pump 15 The flow rate of the developer was 10 liters Z corresponding to the filtrate flow rate, and the flow rate of the developer sent to the use point 1 by the developer circulation pump 17 was 247 liters / minute.
  • the number of ultrafiltration filters to be used is 5, and the molecular weight cut off is 30,000-50,000, for example. 50,000 were selected.
  • Power of developing solution containing pigment Power required to reduce the molecular weight of the fraction to 10,000 or less in order to remove the pigment If the molecular weight of the fraction is too low, the composition of the developing solution itself will be affected.
  • the molecular weight was determined to be 30,000-50,000. This is to ensure a sufficient amount of filtrate, and to reduce the degree of contamination in the steady state of A shown in Fig. 1.
  • the pump 16 for feeding the concentrated solution sent a total of about 700 liters of the developing solution to the five ultrafiltration filters, and was designed with a filtrate recovery of about 3 to 10%, for example, 5%.
  • the sending pressure to the ultrafiltration filter is set at 50% of the upper limit of the quality standard of the filter as a guide, and the operating system is a device that can select two types: fixed sending pressure mode and fixed filtrate flow rate mode.
  • the liquid supply pressure fixing mode is a mode in which the operation is performed while fixing the pressure on the input side of the ultrafiltration filter, and is not involved in the flow rate control of the filtrate. That is, the liquid side valve 32 may be a manual valve.
  • the filtrate flow rate fixing mode is a mode in which the flow rate of the filtrate path 22 is fixed. In both cases, feedback is applied to the pump 16 from the pressure gauge 43 and the flow meter 38, and the frequency is controlled by the inverter.
  • the amount of the filtrate fluctuates due to the type of the concentrated solution and the clogging of the ultrafiltration filter over time, so that the filtrate flow rate is fixed in order to maintain a stable composition of the developer.
  • Constant mode is desirable. For that purpose, it is necessary to select an ultrafiltration filter that can be operated in a state where the fluctuation of the filtrate flow rate is small and the average pressure of the concentrated liquid is low.
  • the average pressure of the concentrated solution is a value obtained by adding the pressures on the input side and the output side of the ultrafiltration filter and dividing the result by two.
  • the guideline is preferably 100 kPa or less.
  • the concentrated liquid circulation valve at the time of back washing is preferably in an open state. This is because, since the quality standard pressure of a general ultrafiltration filter is 300 kPa, by applying a backwash pressure of 300 kPa, a backwash effect at a differential pressure of 200 kPa can be obtained. If the backwash pressure can be set to be at least twice the average pressure of the concentrate, it may be more effective to perform the backwash with the concentrate circulating. The above is the description of the backwash pressure fixing mode. Even if the force backwash pressure is the same, the backwash flow rate may fluctuate greatly. This is often related to the degree of clogging of the ultrafiltration filter.
  • the minimum is 20 seconds per one ultrafiltration filter, and it is desirable that it be longer.
  • the backwashing interval here is called the backwashing interval, and the balance with the backwashing time is adjusted so that it is within 30 minutes.
  • Figure 4 shows the relationship between backwashing time and backwashing interval.
  • Tl, ⁇ 3, ⁇ 5, ⁇ 7, and ⁇ 9 are storage times of the backwash tank in each ultrafiltration filter 7-11, and T2, T4, T6, T8, and T10 are This is the backwash time of the filtration filter 7-11.
  • T11 in the figure is the reverse cleaning interval. Assuming a storage time of 3 minutes and a backwash time of 1 minute, the backwash interval is a simple calculation of 20 minutes. It is possible to incorporate all five ultrafiltration filters 7-11 after backwashing, but as shown in Fig. 4 due to the increase in backwashing interval and fluctuations in filtrate flow rate and concentrate circulation pressure due to load on the control system. In the example, operation of four ultrafiltration filters was assumed.
  • the storage time is greatly related to the amount of the backwash solution used. This is because if the amount of backwash used is large, the used filtrate must be stored in the backwash tank when the backwash mode shifts to the next ultrafiltration outside filter. Therefore, if a large amount of the backwashing liquid is used, the storage time becomes longer, and as a result, the backwashing interval becomes longer.
  • FIG. 5 shows a time chart of a mechanism for performing both back washing with the filtrate and washing with the back flow of the concentrated solution.
  • a indicates a time interval in which all five ultrafiltration filters shown in FIG. 1 are operating.
  • g indicates the time interval during which the concentrate in the ultrafiltration filter 7 is back-flowed, thereby washing the ultrafiltration filter.
  • the valve on the filtrate side of the ultrafiltration filter 7 is closed, the amount of filtrate obtained is smaller than in the case of the time interval a.
  • b indicates the time required for the set time of the backflow of the concentrated solution to end, the valve on the filtrate side to be opened, and the filtrate obtained from the ultrafiltration filter 7 to reach the predetermined liquid level in the backwash tank.
  • c indicates the time required for the liquid level sensor of the backwash tank to detect the set liquid level and perform the backwash of the ultrafiltration filter 7.
  • f is the sum of time intervals a, g, b, and c, and one cycle of the ultrafiltration filter 7 selected for washing (backwash and backflow) is determined at this time.
  • the backwashing / backflow mode shifts to the next ultrafiltration filter 8, and at time interval h, the concentrated solution in the ultrafiltration filter 8 flows back again. Start filtrate storage. Similarly, this backwashing / backflow cycle is sequentially performed with each ultrafiltration filter.
  • b is a time determined by the liquid supply pressure of the filter and the type of filter. Therefore, one cycle can be determined arbitrarily by determining f as a parameter. The determination of these parameters determines the filtrate volume and backwashing efficiency, so it is necessary to operate at appropriate values. The backwash was performed at a fixed pressure and the upper limit of the pressure was used as it was in order to allow as much liquid permeation as possible in a short time.

Abstract

 1)現像処理が行われる現像槽と、現像液を収容する現像液循環タンクと、前記現像液循環タンク内の現像液を前記現像槽に送る手段と、前記現像槽において現像処理に使用された後の現像液を前記現像液循環タンクに戻す手段とを備える現像液循環系、2)前記現像液を濾液と濃縮液とに分離する限外濾過フィルタ、及び3)前記現像液循環タンクから一部を取り出された現像液を収容する限外濾過濃縮液タンクと、前記限外濾過濃縮液タンク内の現像液を前記限外濾過フィルタに送る手段と、前記限外濾過フィルタにおいて分離された濃縮液を前記限外濾過濃縮液タンクに戻す手段と、前記限外濾過フィルタにおいて分離された濾液を前記現像液循環系に戻す手段とを備える濾液・濃縮液循環系を具備する現像装置。

Description

明 細 書
現像装置、現像方法、及び現像液循環方法
技術分野
[0001] 本発明は、現像装置、現像方法、及び現像液循環方法に係り、特に、カラーフィル タ製造にぉ 、て着色画素を形成する際の現像に関する。
背景技術
[0002] 液晶ディスプレイ等に用いられるカラーフィルタは、微細な赤、緑、青等のパターン からなる光学素子である。その製造プロセスは、ガラス等の透明基板上に感光性のレ ジストを塗布し、現像する等の工程を備え、各色について同様のプロセスが繰り返さ れる。以下、カラーフィルタ製造における従来の現像工程について説明する。
[0003] 現像工程は、露光後の未硬化レジストの溶解、剥離除去を目的とし、フォトリソダラ フイエ程の中でもパターンの形状を左右する重要な工程である。現像工程で管理さ れる項目としては、現像時間、現像液の温度等があり、現像槽の構成や方式によつ ても異なるが、全ては使用する現像液の現像力が基準となる。
[0004] 通常の現像装置は、バッチ式、枚葉式を問わず、現像槽と現像液タンクとにより構 成され、現像液の単純な循環を伴う。現像液の現像力を維持するためには、処理枚 数を管理して、所定の枚数を処理した後に現像液タンク内の現像液を一斉にドレイン する方法か、または現像新液の補充と現像液タンク内の現像液のドレインを一定間 隔で連続的に実施する方法がある。
[0005] 現像液タンク内の現像液を一斉にドレインする方法の場合、稼動の停止を余儀なく される。従って、この方法は、メンテナンスに近い方法である。また、管理する処理枚 数にもよるが、初期の現像液の現像力とドレイン時の現像液の現像力は大きく異なつ ている。したがって、連続稼動中の細かな現像パラメーターの調整が必要となり、ェ 場におけるプロセス管理としては、あまり適して ヽな 、。
[0006] 現像新液の補充と現像液タンク内の現像液のドレインを一定間隔で連続的に実施 する方法の場合、ドレイン量を少量にすると現像力は極度に低下し、現像液タンク内 の現像液の汚染度が非常に高くなる。現像液タンク内の現像液の汚染度、目づまり 現像に供される現像液の汚染度は、装置、及び製品に不具合を発生させる要因とな る。逆に、ドレイン量を増加すると、現像液タンク内の現像液の汚染度は低く抑えられ るが、現像新液の補充量が膨大となり、ランニングコストが増加し、採算が合わなくな る。
[0007] いずれの方法をとつても、メンテナンス直後の現像液の現像力の変動は回避し難い 。また、現像新液の供給量と現像液タンク内の現像液の汚染度は相反するパラメ一 ターである。つまり、ランニングコストを低く保ちながら現像液タンク内の現像液の汚 染度も低い状態で維持することは出来ない。したがって、製品品質への不具合発生 の抑制を優先し、現像新液の供給量とドレイン量をともに多くして稼動しているのが 現状である。
[0008] 年々、フォトリソグラフィの製造ラインは大型化の一途をたどって 、る。この背景には 、とりわけ市場の需要に伴うディスプレイの大型化が関係している。製造ラインの大型 化はユーティリティー使用量を増大させ、装置のメンテナンス性も悪ィ匕させる。更に、 製品の大型化は作業性の悪ィ匕に繋がり、プロセス管理を困難にさせる。現像工程を 含むウエットプロセスは、これらの製造ラインの大型化及び製品の大型化の問題によ り大きく影響される。
[0009] これらの問題を解決するために、現像液の再生に関する提案は過去にもなされて おり、実際に限外濾過フィルタを使用した現像液への再生方法が考案されている (特 開平 11-212275号公報参照)。しかし、この方法は、濾過された液のみを薬液調合 処理して再利用するものであり、必要な濾液量の確保に時間が力かるため、連続稼 動には不向きである。また薬液調合処理による現像新液への再生手段も、断続稼動 では可能だが、連続稼動では液組成の連続モニタリング等の必要性が出てくるため 適していない。
[0010] 本発明の目的は、現像に供された現像液を限外濾過フィルタにより処理して、濾液 を再利用するとともに、濃縮液を循環させることにより、現像液の品質を低下させるこ となぐランニングコストを低く抑えることを可能とし、し力もプロセス管理がきわめて容 易な現像装置、現像方法及び現像液循環方法を提供することにある。
[0011] 本発明の他の目的は、長時間使用時において限外濾過フィルタの目づまりによる 濾液量の低下を防止し、メンテナンス性を容易にし、連続稼動でも現像パラメーター の細力な調整を不要とし、また、製品が大型化しても作業性は悪ィ匕することのない現 像装置、現像方法、及び現像液循環方法を提供することにある。
発明の開示
[0012] 本発明の第 1の態様によると、 1)現像処理が行われる現像槽と、現像液を収容する 現像液循環タンクと、前記現像液循環タンク内の現像液を前記現像槽に送る手段と 、前記現像槽にお!ヽて現像処理に使用された後の現像液を前記現像液循環タンク に戻す手段とを備える現像液循環系、 2)前記現像液を濾液と濃縮液とに分離する 限外濾過フィルタ、及び 3)前記現像液循環タンクから一部を取り出された現像液を 収容する限外濾過濃縮液タンクと、前記限外濾過濃縮液タンク内の現像液を前記限 外濾過フィルタに送る手段と、前記限外濾過フィルタにお ヽて分離された濃縮液を前 記限外濾過濃縮液タンクに戻す手段と、前記限外濾過フィルタにお 、て分離された 濾液を前記現像液循環系に戻す手段とを備える濾液 '濃縮液循環系を具備する現 像装置が提供される。
[0013] 以上のように構成される本発明の第 1の態様に係る現像装置は、以下のような様々 な構成を採り得る。
[0014] (1)前記限外濾過フィルタは、分画分子量 1000—粒径 10 μ mの濾過精度を有す る構成。
[0015] (2)現像装置の連続稼動時にぉ ヽて前記限外濾過濃縮液タンク内の現像液の一 定量を定期的に廃棄する手段、及び現像装置の連続稼動時にぉ ヽて前記現像液 循環タンクに定期的に現像新液の一定量を供給する手段を更に具備する構成。
[0016] (3)前記限外濾過フィルタ力 の濾液の流量を調節するための調整バルブ、前記 限外濾過フィルタからの濾液の流量を測定する流量計、前記限外濾過フィルタから の濃縮液の流量を測定する流量計、前記濾液流量と濃縮液流量の比を最適値に一 定に保つように自動調節する定透液率モード機構を更に具備する構成。
[0017] (4)前記限外濾過フィルタ力 の濾液の流量を調節するための調整バルブ、前記 限外濾過フィルタからの濾液の流量を測定するための流量計、及び前記濾液流量を 最適値に一定に保つように自動調節する定濾液流量モード機構を更に具備する構 成。
[0018] (5)前記限外濾過フィルタ力 の濾液の流量を調節するための調整バルブ、前記 限外濾過フィルタからの濾液の圧力を測定するための圧力計、及び前記限外濾過フ ィルタからの濾液の圧力を最適値に一定に保つように自動調節する定濾液圧力モー ド機構を更に具備する構成。
[0019] 本発明の第 1の態様に係る現像装置は、前記限外濾過フィルタに逆洗浄液を送液 する逆洗浄液供給系を更に具備することが出来る。その具体的構成を以下に示す。
[0020] (1)前記逆洗浄液供給系は、前記逆洗浄液の流量を測定する流量計及び前記逆 洗浄液の圧力を測定する圧力計を備えること。
[0021] (2)前記逆洗浄液供給系は、前記限外濾過フィルタにお!ヽて分離された濾液を濾 過フィルタの逆洗浄液として貯蔵する逆洗浄タンクを備えること。
[0022] (3)前記逆洗浄液供給系は、前記流量計又は圧力計のいずれかからフィードバッ クされた測定値に基づき、前記逆洗浄液の流量または圧力を設定値に維持するよう に制御する逆洗浄制御システムを備えること。
[0023] (4)前記逆洗浄制御システムは、逆洗浄時間を設定することが可能であること。
[0024] (5)前記逆洗浄制御システムは、前記限外濾過フィルターの上流の濃縮液循環経 路にオートバルブを備え、逆洗浄時にバルブ閉状態またはバルブ開状態を選択可 能であること。
[0025] (6)前記逆洗浄制御システムは、インバータを有する逆洗浄ポンプを備え、ポンプ 周波数を制御することによって設定値を維持するように制御すること。
[0026] (7)前記限外濾過フィルタを複数個備え、第 1個目の限外濾過フィルタ力 の濾液 を前記逆洗浄タンクに貯蔵し、貯蔵した濾液を第 1個目の限外濾過フィルタの逆洗 浄液として用い、第 2個目以降の限外濾過フィルタを同様にして順次逆洗浄する機 構を具備し、連続稼動時には複数個の限外濾過フィルタが定期的に順次逆洗浄さ れること。
[0027] 本発明の第 1の態様に係る現像装置は、前記限外濾過フィルタを複数個備え、第 1 個目の限外濾過フィルタ内の濃縮液の流れを通常状態で流れる方向とは反対の方 向へ逆流させて濃縮液の流れに変化をつけることで限外濾過フィルタ内を洗浄し、 第 2個目以降の限外濾過フィルタについて順次同様にして濃縮液の流れを逆流させ る機構を具備し、連続稼動時には複数個の限外濾過フィルタにつ ヽて順次濃縮液 の流れを逆流させる構成とすることが出来る。
[0028] 本発明の第 2の態様によると、以上のいずれかの現像装置を用い、前記現像槽に おいて、前記現像液循環タンクカゝら送られた現像液を用いて、被現像体の現像処理 を行う現像方法が提供される。
[0029] 本発明の第 3の態様によると、以上のいずれかの現像装置を用い、前記限外濾過 濃縮液タンク力 現像液を定期的に廃棄し、この廃棄した現像液に相当する量の現 像新液を前記現像液循環タンクに定期的に供給することによって液量バランスを維 持する現像液循環方法が提供される。
図面の簡単な説明
[0030] [図 1]従来の方式と本発明の方式の現像液汚染度と時間の相関を示す図である。
[図 2]本発明の一実施形態に係る現像装置のフロー図である。
[図 3]本発明の他の実施形態に係る、逆洗浄用管路を必要としない現像装置のフロ 一図である。
[図 4]逆洗浄機構のタイムチャートの説明図である。
[図 5]逆洗浄 ·逆流機構のタイムチャートの説明図である。
発明を実施するための最良の形態
[0031] 以下、発明を実施するための最良の形態について説明する。
[0032] 本発明の一実施形態に係る現像装置は、現像処理に供される現像液と現像処理に 供された後の現像液を循環する現像液循環系と、現像処理に供された後の現像液 の一部を濾液と濃縮液とに分離する限外濾過フィルタと、限外濾過フィルタにお 、て 分離された濾液を現像液循環系に戻すとともに、濃縮液を循環させる濾液 '濃縮液 循環系とから構成される。
[0033] 即ち、現像液循環系は、現像処理が行われる現像槽と、現像液を収容する現像液 循環タンクと、前記現像液循環タンク内の現像液を前記現像槽に送る手段と、前記 現像槽において現像処理に使用された後の現像液を前記現像液循環タンクに戻す 手段とを備え、濾液 ·濃縮液循環系は、前記現像液循環タンクから送られた現像液を 収容する限外濾過濃縮液タンクと、前記限外濾過濃縮液タンク内の現像液を前記限 外濾過フィルタに送る手段と、前記限外濾過フィルタにお ヽて分離された濃縮液を前 記限外濾過濃縮液タンクに戻す手段と、前記限外濾過フィルタにお 、て分離された 濾液を前記現像液循環系に戻す手段とを備える。
[0034] 以上のように構成される本発明の一実施形態に係る現像装置によると、限外濾過フ ィルタを具備することによって、現像液は濾液と濃縮液とに分離され、濾液は現像液 循環タンクに送られ、濃縮液は限外濾過濃縮液タンクへ送られるので、現像処理後 の現像液は汚染度の低 ヽ現像液循環タンクと汚染度の高 ヽ限外濾過濃縮液タンク に別々に貯蔵される。
[0035] 現像槽で被現像基板の現像処理に使用される現像液は現像液循環タンクから送ら れるため、汚染度が低ぐ現像液の汚染に起因する製品不良は低減する。また、現 像槽も従来と比べて汚染の低い現像液が使用されるため、装置起因のトラブルは減 り、メンテナンス性も上がる。
[0036] また、分画分子量 1000—粒径 10 μ mの濾過精度を有する限外濾過フィルタを用 いること〖こより、現像液中の溶解イオンはトラップされないので、現像液そのものの特 性が失なわれることは無ぐまた、汚染物質をトラップすることができ、濾液の汚染度 を低 、レベルで維持することができる。
[0037] また、現像装置の連続稼動時において、限外濾過濃縮液タンク内の現像液の一定 量を定期的に廃棄し、現像液循環タンクに定期的に現像新液の一定量を供給するこ とにより、連続稼動時において、現像新液は現像液循環タンクに定期供給され、また 、汚染度の高い限外濾過濃縮液タンクからは供給量分の定期廃棄を実施すること〖こ よって、必要な濾液量の確保に時間が力からず、効率の良い供給、廃液フローが可 能となり、現像液使用量の削減に繋がる。
[0038] 現像新液で開始する初期状態の現像液は現像力が強ぐその後、次第に現像活 性が下がるため、その過程での現像時間の微調整は必要となる。これは現像液中の 活性種が低減するためである。したがって活性種の補充のためには現像新液の補充 が不可欠となる。しかし、現像新液の供給、限外濾過濃縮液タンク力もの廃棄量を一 定に保っているために所定の処理枚数で現像力は定常に達し、なおメンテナンス頻 度が低いために、その定常状態の条件固定のままで現像パラメーターの細かな調整 を不要なものとし、長時間の安定な現像が可能となる。
[0039] このような現像液の現像力の定常状態は、現像新液の供給量、限外濾過濃縮液タ ンクカゝらの現像液の定期的廃棄量で決まる。被現像基板による現像液持ち出し量を 無視すると、供給量 =廃棄量となり、両者を増減させることにより定常状態での現像 力を調整することができる。感光剤の種類により長時間の現像が必要な場合には両 者を増量し、逆に短時間現像が可能な感光剤の場合には減少させる措置をとつて適 正化することも可能である。
[0040] 使用する限外濾過フィルタは、使用時間に対応して少な力 ず劣化を生じ、これは 濾液量の低下に繋がる。しかし、各限外濾過フィルタに一定間隔で逆洗浄処理を実 施することによって、この劣化を抑制することができる。
[0041] また、濾液流量と濃縮液流量の比である透液率を一定に固定することにより、濃縮 液流量が変動した場合にも常に適正な濾液量が得られ、フィルタへかかる負荷が常 に一定となり、負荷変動によるフィルタ内壁面への汚染物固着を抑制することが出来 る。このことは逆洗浄効果の向上につながる。
[0042] また、最適な液流量を一定に保つことにより、短時間での限外濾過フィルタの目づ まりをなくすことが出来る。
[0043] また、限外濾過フィルターの濾過側の圧力を最適値に一定に保つことにより、フィ ルタリング方向へ加わる力のベクトルを下げ、濃縮液側のフィルター壁面への汚染物 付着を抑制し、結果的にフィルターの寿命を延ばすことができる。
[0044] また、使用する限外濾過フィルタは、現像液の汚染物質をトラップすることにより、時 間経過とともにフィルタに目づまりが生じ、濾液量が低下する。しかし、各限外濾過フ ィルタに一定間隔で逆流処理を実施することによって、汚染物質の目づまりを解消で き、限外濾過フィルタ内部の汚染物質を除去することができ、目づまりによる流量低 下を抑制することができる。
[0045] 図 1に従来の方式と本発明の方式の比較を示す。 Aは、本発明における方式を採 用した時間-現像液汚染度の相関を示す。これに対し、 Bは、所定枚数の被現像基 板を現像処理した後に、すべての現像液をドレインし、現像新液を供給した場合、 C は、現像新液の供給と現像液タンク内の現像液のドレインを連続的に実施し、所定 枚数の被現像基板を現像処理した後に現像液の交換を行った場合の時間-現像液 汚染度の相関を示す。
[0046] Bの方式では、現像液タンク内の現像液の定期的ドレイン及び現像新液の定期的 供給を行っていないため、汚染度はほぼ直線的に悪化する。逆に、 Cはこれを行って いるために、ある現像処理枚数で汚染度は定常に達するが、ランニングコストを考慮 したドレイン量ではやはり現像液の汚染度は高ぐ製品品質に支障をきたす場合が 多い。 Aは、 Cと同程度の現像新液の供給量でも、現像液の汚染度をかなり低く抑え ることができ、図 1に示すように、現像液タンク内の現像液をすベてドレインするまで のインターバルを十分に長く設定することが出来る。
[0047] 上記のように、本発明によれば、製品が大型化しても作業性は悪化せず、プロセス 管理が極めて容易な現像装置、現像方法、及び現像液循環方法が提供される。
[0048] 本発明者らは、カラーフィルター製造のための現像処理を行った場合の現像液の 被現像基板 1枚当たりの現像液の使用量について、図 1の Cに相当する従来の方式 と、図 1の Aに相当する本発明の方式とを比較した実験を行った。その結果を下記表 に示す。
[表 1]
ΒΜ R G Β P S トータル
¾έ¾の方式に) 2 2 2. 5 3 3. 5 1 3 本発明の方式 (Α) 1 1 1 1 1 5 現纖麵量従来 50% 50% 40% 33% 28% 38.5% 比
[0049] 上記表 1にお!/、て、 ΒΜはブラックマトリクス、 Rは赤色パターン、 Gは緑色パターン 、 Βは青色パターン、 PSはポストスぺーサ一の現像液の使用量をそれぞれ示す。
[0050] 上記表 1から、現像液の使用量は、従来の方式では、トータルでカラーフィルター 1 枚あたり 13であるのに対し、本発明の方式では、 5と、半分以下に減少していることが わかる。この結果から、本発明の方式により、非常に大きなコスト削減効果が得られる ことがわかる。なお、本発明の方式 (A)では、どの部材も現像液の使用量はほぼ同 一である。特に、 Bや PSの使用量が減少している。
[0051] 以下、本発明の一実施形態に係る現像装置、現像方法、及び現像液循環方法に ついて、図面を参照して具体的に説明する。
[0052] 図 2は、本発明の一実施形態に係る現像装置のフロー図である。参照数字 4は、現 像液循環タンクを示し、現像新液は現像新液供給管路 3を通してこの現像液循環タ ンク 4に供給される。現像液循環タンク 4内の現像液は、現像液循環ポンプ 17を介し て現像液ユースポイント 1へ送られ、現像槽 2にお ヽて被現像基板が現像処理される 。図 2中、ユースポイント 1をシャワーリング工程としている力 この方法に限定されるも のではない。現像に使用された現像液は、管路 24を通って現像液循環タンク 4に戻 され、この循環は装置稼動時、連続的に繰り返される。
[0053] 現像液循環タンク 4に貯留されている現像液の一部は、現像循環液送液ポンプ 15 を介して限外濾過濃縮液タンク 5へ送られる。図 2中には記載していないが、現像新 液の供給は現像新液供給管路 3からのみではなぐ限外濾過濃縮液タンク 5にも供 給可能である。したがって、現像液の更新時等において、現像液循環タンク 4及び限 外濾過濃縮液タンク 5が空の状態から運転する場合は、まず現像液循環タンク 4及び 限外濾過濃縮液タンク 5の双方に現像新液を充填する。現像液循環タンク 4及び限 外濾過濃縮液タンク 5には、現像液量を管理するために液面センサーを設けることが 望ましい。
[0054] 限外濾過濃縮液タンク 5内の現像液は、濃縮液送液ポンプ 16を介して、 5つの限 外濾過フィルタ 7— 11へ送られる。現像液は、限外濾過フィルタにおいて、フィルタを 透過する濾液と、透過しない濃縮液に分離され、前者は三方弁 14の方向に、後者は 限外濾過フィルタ濃縮液循環管路 21へ送られる。限外濾過フィルタ濃縮液循環管 路 21は、濃縮液が限外濾過濃縮液タンク 5へ戻される循環管路である。濾液は、通 常、三方弁 14を介して限外濾過フィルタ濾液管路 22を通り、濾液タンク 12へ貯蔵さ れる。更に、濾液タンク 12からは、濾液送液ポンプ 18を介して現像液循環タンク 4へ 連続送られる。
[0055] 稼動時には、定透液率モード、定濾液流量モード、または定濾液圧力モードのうち の!、ずれか 1つのモードが選択され、それぞれ透液率 (濾液流量と濃縮液流量の比)
、濾液の流量、または濾液の圧力を一定に保つように制御された状態で、現像装置 が稼動する。ここで、濃縮液送液ポンプ 16はインバータによる周波数制御により、濃 縮液の送液圧、流量を変動させることが出来る力 上記 3モードにリンクした制御は行 われない。ポンプ 16は、条件出しに設定した初期設定圧力が常に維持されるよう〖こ 独立でインバータ制御される。即ち、現像装置の稼動中は、圧力計 43が常に設定値 になるように制御されている。
[0056] 定透液率モードの場合、流量計 39の値 (濾液流量)と流量計 38の値 (濃縮液流量 )の比 (透液率)が設定した値となるようにエアーオペレイシヨンバルブ (調整バルブ) 32をフィードバック制御する。適正な透液率は、フィルタの種類に依存するところが 大きぐとりわけフィルタを構成する中空糸の内径、および分画分子量により左右され る。透液率が高いと、濃縮液流量に対する濾過液流量が高くなり、中空糸膜内壁表 面での汚染物の滞留を促進し、逆洗浄効果を下げる。透液率の最適値は、エアーォ ペレーシヨンバルブ (調整バルブ) 32を全開にしたときの値の 80%以下とするのがよ い。これは、バルブ 35を絞って稼動する場合も同様である。
[0057] 定濾液流量モードの場合、流量計 39の値が限外濾過フィルタの種類に応じ最適な 値になるようにエアーオペレイシヨンバルブ(調整バルブ) 32をフィードバック制御す る。限外濾過フィルタの最適な流量は種類によって異なるため、流量が最適ではな い場合、短時間でフィルタの目づまりが生じ、必要な量の濾液を確保できなくなる恐 れがある。最適流量値は、エアーオペレーションバルブ (調整バルブ) 32を全開にし たときの値の 80%以下とすることがょ 、。
[0058] 定濾液圧力モードの場合、圧力計 42の値が一定になるようにエアーオペレイシヨン バルブ (調整ノ レブ) 32が制御される。圧力計 42の設定値は、限外濾過フィルタの 定格圧力よりも小さい値にすることで余計な目づまりを防ぎ、限外濾過フィルタのメン テナンス期間を長くすることができる。圧力計 42の設定値は、エアーオペレーション バルブを全開にしたときは OkPaとなるため、 lOkPa以上とすることがよい。
[0059] 限外濾過フィルタ 7— 11は、現像液の汚染度や溶解して ヽる感光剤の種類によつ て、最適な濾過精度のものを選定する必要がある。本実施形態では、分画分子量 10 00—粒径 10 mの範囲の限外濾過フィルタを対象とする。濾過精度が分画分子量 1000より小さい限外濾過フィルタの場合、溶解イオンの透過も阻止してしまうため、 現像液そのものの特性すら失う恐れがあり、逆に濾過精度が 10 mを越える限外濾 過フィルタの場合は、汚染物質をトラップすることが出来ず、濾液のクリーン度が落ち るため、一般フィルタと区別する意義が無くなる。一般に、限外濾過フィルタの濾過精 度は、分画分子量と呼ばれる値で区分されている。
[0060] 尚、本発明に使用可能な限外濾過フィルタは、精密濾過フィルタ、マイクロフィルタ などの名称で汎用されるものも含む。
[0061] 限外濾過フィルタの濾液は、逆洗浄用の液としても使用される。連続稼動時、逆洗 浄される限外濾過フィルタとして常に 1つの限外濾過フィルタが選択されている。ここ では 1例として限外濾過フィルタ 7が選択されて ヽるものとする。限外濾過濃縮液タン ク 5から濃縮液送液ポンプ 16を介して全限外濾過フィルタへ送られる力 逆洗浄モー ドとして選択されて 、る限外濾過フィルタ 7から得られる濾液は、三方弁 14を介して 限外濾過フィルタ逆洗浄用濾液管路 23を通り、逆洗浄タンク 13へ貯蔵される。
[0062] 逆洗浄タンク 13は液面レベルセンサーを備えており、センサーが所定の液面レベル を検出した時点で、逆洗浄液送液ポンプ 19が稼動を開始し、逆洗浄用濾液管路 23 及び三方弁 14を介して限外濾過フィルタ 7の濾液側へ送られ、限外濾過フィルタ 7の 逆洗浄を行う。逆洗浄に用いられた液は廃棄してもよいが、ここではバルブ 34及び 逆洗浄液リターン管路 20を通って限外濾過濃縮液タンク 5に戻される例を示す。逆 洗浄操作は、時間管理とされ、所定時間の逆洗浄操作の後、次の限外濾過フィルタ 8が逆洗浄モードに選択され、同様の操作が繰り返される。
[0063] 逆洗浄経路 23には、流量計 45及び圧力計 46が取り付けられており、逆洗浄流量 固定モードと逆洗浄圧力固定モードの!/、ずれかが選択される。逆洗浄流量固定モー ドを選択している場合には、流量計 45の値が設定値になるように逆洗浄ポンプ 16が インバータ制御される。また、逆洗浄圧力固定モードを選択している場合は、圧力計 46の値が設定値になるように逆洗浄ポンプ 16がインバータ制御される。逆洗浄流量 固定モード、逆洗浄圧力固定モード双方とも、各フィルタ毎に設定値を設けることも 可能である。 [0064] 逆洗浄時間は、装置の制御系により管理される。各フィルタ毎に逆洗浄時間を設定 することも可能である力 基本的に限外濾過フィルタ 7— 11は全て同一の逆洗浄時 間で逆洗浄されることが望ま U、。
[0065] 逆洗浄時のオートバルブ 30は開状態または閉状態の 、ずれかを選択できるものと し、通常は開状態で、即ち濃縮液を循環させている状態で運転する。しかし、濃縮液 循環圧力が高い場合、または逆洗浄の効果が低いフィルタを使用する場合は、閉状 態で運転することが望まし ヽ。
[0066] 連続稼動時に、 1つの限外濾過フィルタ内に、通常状態における流れ方向と逆方向 に濃縮液を流すことが出来る。ここでは 1例として、限外濾過フィルタ 7に濃縮液を逆 流させることとする。このように、限外濾過フィルタ内に濃縮液を逆流させて、濃縮液 の流れに変化をつけることで、限外濾過フィルタ内を洗浄する効果を得ることが出来 る。
[0067] 濃縮液送液ポンプ 16より送られた濃縮液は、バルブ 30及び三方弁 28を介して逆流 用管路 44を通過し、三方弁 29を介して限外濾過フィルタに流入する。限外濾過フィ ルタ洗浄後の濃縮液はノ レブ 31を通して、限外濾過濃縮液タンク 5へ戻される。逆 流時間は時間管理とし、所定時間逆流する。このとき、濾液側のバルブ 32は閉じて いる。
[0068] 図 3は、濃縮液の逆流用の管路を必要としない現像装置のフロー図である。濃縮液 を逆流される限外濾過フィルタは、常に 1つあるものとする。ここでは 1例として限外濾 過フィルタ 7が選択されているものとする。逆流モードになると同時にバルブ 30を閉、 バルブ 31を開とすると、限外濾過フィルタ 8— 11からの濃縮液が流量計 38を通して 限外濾過フィルタ 7に流れ込み、限外濾過フィルタ 7への逆流が開始される。このとき 、ノ レブ 32は閉じ、濾液が限外濾過フィルタ 7から流出しないようにする。また、バル ブ 35は、限外濾過フィルタ 8— 11から限外濾過フィルタ 7に適切な量の濃縮液が流 れ込むように調節する。
[0069] 実施例
以下、以上説明した実施形態に沿った具体的な実施例について説明する。図 2中 の現像液循環タンク 4、限外濾過濃縮液タンク 5、濾液タンク 12、逆洗浄タンク 13は 全て液面管理センサーを具備し、常に液面を一定にするように各ポンプにフィードバ ックされるものとした。とりわけ、現像循環液送液ポンプ 15、濃縮液送液ポンプ 16、濾 液送液ポンプ 18は密接に関わっており、全ての基準となるものは濾液送液ポンプ 18 力 送られる濾液流量である。
[0070] この濾液流量は、即ち、限外濾過フィルタ力 得られる濾液流量を意味しており、限 外濾過フィルタ濾液管路 22に取りつけられた流量計 36からポンプ周波数を制御して いる。これは濾液タンク 12の液面管理センサー力もの情報も加えて常に流量を精密 管理している。現像循環液送液ポンプ 15は基本的には濾液送液ポンプ 18の流量が そのままフィードバックされて ヽるが、現像液循環タンク 4の現像新液の定期供給や 限外濾過濃縮液タンク 5の定期ドレインの影響もあるため、それぞれが所有する液面 管理センサーからのフィードバックも受けて 、る。
[0071] 本実施例では、濾液送液ポンプ 18により現像液循環タンク 4に送られる濾液流量は 10リットル Z分、現像循環液送液ポンプ 15により限外濾過濃縮液タンク 5に送られる 現像液の流量は、濾液流量に見合った量であって、 10リットル Z分であり、現像液循 環ポンプ 17によりユースポイント 1に送られる現像液の流量は、 247リットル/分とし た。
[0072] 定濾液流量モードでは、エアオペレーションバルブ (調整バルブ) 32を全開にした ときの最大流量の 80%を流量計 39の設定値とする。こうすること〖こより、連続稼動時 に、限外濾過フィルタの内部壁面に生ずる余計な目づまりを常に防止し、常に一定 量の濾液を得ることができる。流量計 39により測定された流量値がそのままエアオペ レーシヨンバルブ (調整バルブ) 32にフィードバックされており、濾液流量を設定値に 制御することが出来る。
[0073] 定濾液圧力モードでは、圧力計 42の圧力値を一定にすることにより限外濾過フィ ルタの目づまりを抑制し、限外濾過フィルタのメンテナンス期間を長くすることができ る。圧力計の圧力はエアーオペレーションバルブ(調整バルブ) 32にフィードバックし ており濾液圧力を一定に保つ。圧力計 42の設定値は、 OkPa以上でなくてはならな い。効率よく濾液を確保するためには lOkPa以上にする必要がある。
[0074] 使用する限外濾過フィルタは 5つとし、分画分子量が 30, 000— 50, 000、例えば 50, 000のものを選定した。顔料を含む現像液力 顔料を除去するためには、分画 分子量 10, 000以下にする必要がある力 分画分子量を下げ過ぎると現像液そのも のの組成にも影響を与えるため、分画分子量は 30, 000— 50, 000が適正と判断し た。これは濾液量を十分に確保するためであり、図 1で示す Aの定常状態での汚染 度を下げるためである。
[0075] 濃縮液を送るポンプ 16は、 5つの限外濾過フィルタへ合計約 700リットルの現像液 を送液し、約 3— 10%、例えば 5%の濾液回収率で設計した。限外濾過フィルタへの 送液圧力は、フィルタの品質規格上限の 50%を目安とし、稼動システムとしては送液 圧固定モード、濾液流量固定モードの 2種選択可能な装置とした。
[0076] 送液圧固定モードとは、限外濾過フィルタの入力側の圧力を固定して稼動するモ ードであり、濾液の流量制御には関わらない。つまり、液側バルブ 32は、手動バルブ でよい。濾液流量固定モードとは、濾液経路 22の流量を固定するモードである。双 方とも圧力計 43及び流量計 38からポンプ 16にフィードバックがかかり、インバータに より周波数制御される。
[0077] 送液圧固定モードは、濃縮液の種類や限外濾過フィルタの経時的な詰まりによつ て濾液量が変動するため、現像液の安定した組成を維持するためには濾液流量固 定モードが望ましい。そのためには、濾液流量の変動が少なぐ濃縮液平均圧力も 低い状態で稼動できる限外濾過フィルタを選定する必要がある。なお、濃縮液平均 圧力とは、限外濾過フィルタの入力側と出力側の圧力を加算して 2で除した値のこと であり、目安としては lOOkPa以下であるのが望ましい。
[0078] 以下に、逆洗浄の実施例について示す力 濃縮液圧力は lOOkPa程度であるもの とする。
[0079] 濃縮液平均圧力が lOOkPa程度の場合、逆洗浄時の濃縮液循環バルブは開状態 であるのが好ましい。これは、一般的な限外濾過フィルタの品質規格圧力が 300kPa であることから、 300kPaの逆洗浄圧力を印加することによって、差圧 200kPaでの逆 洗浄効果が得られるためである。逆洗浄圧力が濃縮液平均圧力の 2倍以上で設定 可能な場合、濃縮液を循環させた状態で逆洗浄を実施した方が効果が高 ヽと考えら れる。 [0080] 以上は逆洗浄圧力固定モードについての説明である力 逆洗浄圧力が同一でも、 逆洗浄流量が大きく変動する場合がある。これは限外濾過フィルタの目づまり具合と 関係する場合が多い。つまり、フィルタが目づまりしてくると、次第に逆洗浄流量も少 なくなり、逆洗浄効果が低くなるため、限外濾過フィルタの目づまりを加速させてしま う。このような現象が起こる場合では、逆洗浄流量固定モードを選択することが望まし い。ただし、この場合は、逆洗浄圧力の上限を設ける必要がある。
[0081] 逆洗浄時間は、長ければ長いほど洗浄効果は高いが、本発明においては 1つの限 外濾過フィルタにっき 20秒を最低限とし、それ以上であるのが望ましい。前述した通 り、逆洗浄は限外濾過フィルタ 1つづつ自己洗浄されるため、逆洗浄時間を長く取り すぎると、 1つの限外濾過フィルタフィルタに着目した場合の逆洗浄間隔が長くなつ てしまう。ここで言う逆洗浄間隔は逆洗浄インターバルと呼び、 30分以内になるように 逆洗浄時間とのバランスを調整して 、る。図 4に逆洗浄時間と逆洗浄インターバルの 関係を図示した。
[0082] 図 4中の Tl、 Τ3、 Τ5、 Τ7、及び Τ9は、各限外濾過フィルタ 7— 11における逆洗 浄タンクの貯蔵時間、 T2、 T4、 T6、 T8、 T10は、各限外濾過フィルタ 7— 11の逆洗 浄時間である。そして、図中の T11が逆洗浄インターバルとなる。貯蔵時間を 3分、 逆洗浄時間を 1分と想定した場合、逆洗浄インターバルは単純計算で 20分となる。 逆洗浄後に 5つの限外濾過フィルタ 7— 11すべての稼動を組み込むこともできるが、 逆洗浄インターバルの増加、制御系への負荷による濾液流量や濃縮液循環圧力が 変動するため、図 4に示す例では、 4つの限外濾過フィルタの稼動を想定した。
[0083] 貯蔵時間は、逆洗浄液の使用量に大きく関連する。逆洗浄液の使用量が多い場合 は、次の限外濾外フィルタへ逆洗浄モードが移行した時に、使用した分の濾液を逆 洗浄タンクに貯蔵する必要があるためである。したがって、逆洗浄液の使用量が多い と貯蔵時間が長くなり、結果的に逆洗浄インターバルが長くなる。
[0084] 逆洗浄の効果は、逆洗浄流量または逆洗浄圧力が大きいほど高い。したがって、 逆洗浄圧力を膜品質規格値の最大まで上げて定圧稼動すれば最適であるような誤 解を招く。しかし、実際は逆洗浄インターノ レとのバランスを考慮する必要がある。本 発明にお 、て逆洗浄流量固定モードと逆洗浄圧力固定モードのどちらかを選択可 能にすることにより、逆洗浄条件と逆洗浄インターバルのバランスを、限外濾過フィル タと現像液との相性も踏まえて、細力べ条件設定することが可能になる。
[0085] 次に、濾液による逆洗浄と濃縮液の逆流による洗浄の双方を行う機構のタイムチヤ 一トを図 5に示す。図 5において、 aは、図 1で示す 5つの限外濾過フィルタをすベて 稼動しているタイムインターバルを示す。 gは、限外濾過フィルタ 7内の濃縮液を逆流 させ、それにより限外濾過フィルターを洗浄しているタイムインターバルを示す。この とき、限外濾過フィルタ 7の濾液側のバルブは閉じられるため、得られる濾液量はタイ ムインターバル aの場合よりも減少する。 bは、濃縮液の逆流の設定時間が終了し、濾 液側のバルブが開かれ、限外濾過フィルタ 7から得られる濾液が逆洗浄タンクの所定 の液面レベルに達するまでの時間を示す。 cは、逆洗浄タンクの液面センサーが設定 された液面レベルを検出し、限外濾過フィルタ 7の逆洗浄を実施するために要する時 間を示す。
[0086] タイムインターバル cが完了した時点で、 5つの限外濾過フィルタは、再度、稼動へ 移行する。 dは、限外濾過フィルタ 8の逆洗浄モード前の全フィルター稼動時のタイム インターバルを示す。
[0087] fは、タイムインターバル a、 g、 b、及び cの合計であり、洗浄 (逆洗浄及び逆流)のた めに選択された限外濾過フィルタ 7の 1サイクルは、この時間で決定される。
[0088] その後、逆洗浄'逆流モードは、次の限外濾過フィルタ 8へとシフトし、タイムインタ 一バル hで再度限外濾過フィルタ 8内の濃縮液が逆流し、終了後、逆洗浄タンクへ濾 液貯蔵を開始する。同様にして、この逆洗浄 ·逆流サイクルを各限外濾過フィルタで 順次実施する。
[0089] 1サイクル中にお!、て、 bはフィルター送液圧やフィルターの種類によって決定され る時間である。したがって fをパラメータ一として決定することによって、 1サイクルは 任意に決められる。このパラメーターの決定によって、濾液量、逆洗浄効率が決まる ため、適正な値で稼動する必要がある。逆洗浄は圧力固定とし、短時間で出来るだ け多く透液するために圧力上限値そのままの値で実施した。

Claims

請求の範囲
[1] 1)現像処理が行われる現像槽と、現像液を収容する現像液循環タンクと、前記現 像液循環タンク内の現像液を前記現像槽に送る手段と、前記現像槽にお!ヽて現像 処理に使用された後の現像液を前記現像液循環タンクに戻す手段とを備える現像 液循環系、
2)前記現像液を濾液と濃縮液とに分離する限外濾過フィルタ、及び
3)前記現像液循環タンクから一部を取り出された現像液を収容する限外濾過濃縮 液タンクと、前記限外濾過濃縮液タンク内の現像液を前記限外濾過フィルタに送る 手段と、前記限外濾過フィルタにおいて分離された濃縮液を前記限外濾過濃縮液タ ンクに戻す手段と、前記限外濾過フィルタにお ヽて分離された濾液を前記現像液循 環系に戻す手段とを備える濾液 '濃縮液循環系
を具備する現像装置。
[2] 前記限外濾過フィルタは、分画分子量 1000—粒径 10 μ mの濾過精度を有する請 求項 1に記載の現像装置。
[3] 現像装置の連続稼動時にお!、て前記限外濾過濃縮液タンク内の現像液の一定量 を定期的に廃棄する手段、及び現像装置の連続稼動時にぉ ヽて前記現像液循環タ ンクに定期的に現像新液の一定量を供給する手段を更に具備する請求項 1に記載
[4] 前記限外濾過フィルタ力 の濾液の流量を調節するための調整バルブ、前記限外 濾過フィルタからの濾液の流量を測定する流量計、前記限外濾過フィルタからの濃 縮液の流量を測定する流量計、前記濾液流量と濃縮液流量の比を最適値に一定に 保つように自動調節する定透液率モード機構を更に具備する請求項 1に記載の現像
[5] 前記限外濾過フィルタ力 の濾液の流量を調節するための調整バルブ、前記限 外濾過フィルタからの濾液の流量を測定するための流量計、及び前記濾液流量を最 適値に一定に保つように自動調節する定濾液流量モード機構を更に具備する請求 項 1に記載の現像装置。
[6] 前記限外濾過フィルタ力 の濾液の流量を調節するための調整バルブ、前記限外 濾過フィルタからの濾液の圧力を測定するための圧力計、及び前記限外濾過フィル タカ の濾液の圧力を最適値に一定に保つように自動調節する定濾液圧力モード機 構を更に具備する請求項 1に記載の現像装置。
[7] 前記限外濾過フィルタに逆洗浄液を送液する逆洗浄液供給系を更に具備する請 求項 1記載の現像装置。
[8] 前記逆洗浄液供給系は、前記逆洗浄液の流量を測定する流量計及び前記逆洗浄 液の圧力を測定する圧力計を備える請求項 7に記載の現像装置。
[9] 前記逆洗浄液供給系は、前記限外濾過フィルタにお ヽて分離された濾液を濾過フ ィルタの逆洗浄液として貯蔵する逆洗浄タンクを備える請求項 7に記載の現像装置。
[10] 前記逆洗浄液供給系は、前記流量計又は圧力計のいずれかからフィードバックさ れた測定値に基づき、前記逆洗浄液の流量または圧力を設定値に維持するように制 御する逆洗浄制御システムを備える請求項 7に記載の現像装置。
[11] 前記逆洗浄制御システムは、逆洗浄時間を設定することが可能である請求項 7に 記載の現像装置。
[12] 前記逆洗浄制御システムは、前記限外濾過フィルターの上流の濃縮液循環経路に オートバルブを備え、逆洗浄時にバルブ閉状態またはノ レブ開状態を選択可能で ある請求項 7に記載の現像装置。
[13] 前記逆洗浄制御システムは、インバータを有する逆洗浄ポンプを備え、ポンプ周波 数を制御することによって設定値を維持するように制御する請求項 7に記載の現像装
[14] 前記限外濾過フィルタを複数個備え、第 1個目の限外濾過フィルタ力 の濾液を前 記逆洗浄タンクに貯蔵し、貯蔵した濾液を第 1個目の限外濾過フィルタの逆洗浄液と して用い、第 2個目以降の限外濾過フィルタを同様にして順次逆洗浄する機構を具 備し、連続稼動時には複数個の限外濾過フィルタが定期的に順次逆洗浄される請 求項 7に記載の現像装置。
[15] 前記限外濾過フィルタを複数個備え、第 1個目の限外濾過フィルタ内の濃縮液の 流れを通常状態で流れる方向とは反対の方向へ逆流させて濃縮液の流れを変化さ せることで限外濾過フィルタ内を洗浄し、第 2個目以降の限外濾過フィルタについて 順次同様にして濃縮液の流れを逆流させる機構を具備し、連続稼動時には複数個 の限外濾過フィルタにつ 、て順次濃縮液の流れを逆流させる請求項 1に記載の現像
[16] 請求項 1一 15のいずれかに記載の現像装置を用い、前記現像槽において、前記現 像液循環タンクから送られた現像液を用いて、被現像体の現像処理を行う現像方法
[17] 請求項 1一 15のいずれかに記載の現像装置を用い、前記限外濾過濃縮液タンク から現像液を定期的に廃棄し、この廃棄した現像液に相当する量の現像新液を前記 現像液循環タンクに定期的に供給することによって液量バランスを維持する現像液 循環方法。
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